JPH08239689A - 洗浄剤組成物 - Google Patents
洗浄剤組成物Info
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- JPH08239689A JPH08239689A JP4522195A JP4522195A JPH08239689A JP H08239689 A JPH08239689 A JP H08239689A JP 4522195 A JP4522195 A JP 4522195A JP 4522195 A JP4522195 A JP 4522195A JP H08239689 A JPH08239689 A JP H08239689A
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- carbon atoms
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 (A)式(1)で表わされる非イオン性界面
活性剤、5〜50重量%、(B)ベタイン型界面活性剤
1〜10重量%及び(C)式(2)で表わされるアミド
エーテルカルボン酸又はその塩1〜10重量%を含有
し、その配合量が、(A)>(B)かつ(A)>(C)
である洗浄剤組成物。 【化1】 〔R1 =アルキル基等、m=10〜50、R2 =アルキ
ル基等、R3 =H等、M=金属原子等、n=1〜20〕 【効果】 皮膚に対する低刺激性、洗浄性及び起泡性の
すべてを高いレベルで実現した。
活性剤、5〜50重量%、(B)ベタイン型界面活性剤
1〜10重量%及び(C)式(2)で表わされるアミド
エーテルカルボン酸又はその塩1〜10重量%を含有
し、その配合量が、(A)>(B)かつ(A)>(C)
である洗浄剤組成物。 【化1】 〔R1 =アルキル基等、m=10〜50、R2 =アルキ
ル基等、R3 =H等、M=金属原子等、n=1〜20〕 【効果】 皮膚に対する低刺激性、洗浄性及び起泡性の
すべてを高いレベルで実現した。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、皮膚に対して低刺激で
あり、しかも洗浄性及び起泡性に優れた洗浄剤組成物に
関する。
あり、しかも洗浄性及び起泡性に優れた洗浄剤組成物に
関する。
【0002】
【従来の技術】非イオン性界面活性剤はアニオン性界面
活性剤に比べ、一般に皮膚に対して低刺激であるため、
これまで洗浄剤、特に身体用の洗浄剤に配合する試みが
数多くなされている。例えば、特公平6−23086号
公報には、アルキルサッカライド系ノニオン活性剤とシ
ョ糖脂肪酸エステル及びアニオン活性剤又は両性活性剤
とを組み合せた低刺激性洗浄剤組成物が開示されてお
り、また、特開昭55−25436号公報には、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル型ノニオン活性剤とアミ
ン型両性活性剤及びアルキロールアミド型活性剤とを組
み合せた洗浄剤組成物が開示されている。
活性剤に比べ、一般に皮膚に対して低刺激であるため、
これまで洗浄剤、特に身体用の洗浄剤に配合する試みが
数多くなされている。例えば、特公平6−23086号
公報には、アルキルサッカライド系ノニオン活性剤とシ
ョ糖脂肪酸エステル及びアニオン活性剤又は両性活性剤
とを組み合せた低刺激性洗浄剤組成物が開示されてお
り、また、特開昭55−25436号公報には、ポリオ
キシエチレンアルキルエーテル型ノニオン活性剤とアミ
ン型両性活性剤及びアルキロールアミド型活性剤とを組
み合せた洗浄剤組成物が開示されている。
【0003】しかしながら、これらの洗浄剤組成物は、
刺激性や洗浄性及び起泡性などの点で充分満足できるも
のではなかった。
刺激性や洗浄性及び起泡性などの点で充分満足できるも
のではなかった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、皮膚に対してより低刺激で、洗浄力及び起泡力をよ
り高いレベルで両立させた洗浄剤組成物を提供すること
にある。
は、皮膚に対してより低刺激で、洗浄力及び起泡力をよ
り高いレベルで両立させた洗浄剤組成物を提供すること
にある。
【0005】
【課題を解決するための手段】斯かる実状に鑑み、本発
明者らは鋭意研究を行った結果、特定の非イオン性界面
活性剤及びアミドエーテルカルボン酸と、ベタイン型界
面活性剤を組み合せて配合すれば、低刺激性、高い洗浄
力及び優れた起泡性を高いレベルで両立させた洗浄剤組
成物が得られることを見出し、本発明を完成した。
明者らは鋭意研究を行った結果、特定の非イオン性界面
活性剤及びアミドエーテルカルボン酸と、ベタイン型界
面活性剤を組み合せて配合すれば、低刺激性、高い洗浄
力及び優れた起泡性を高いレベルで両立させた洗浄剤組
成物が得られることを見出し、本発明を完成した。
【0006】すなわち本発明は、次の成分(A)、
(B)及び(C): (A)一般式(1)
(B)及び(C): (A)一般式(1)
【0007】
【化4】
【0008】〔式中、R1 は炭素数6〜22のアルキル
又はアルケニル基を示し、mは10〜50の数を示す〕
で表わされる非イオン性界面活性剤
5〜50重量%、 (B)ベタイン型界面活性剤
1〜10重量%、 (C)一般式(2)
又はアルケニル基を示し、mは10〜50の数を示す〕
で表わされる非イオン性界面活性剤
5〜50重量%、 (B)ベタイン型界面活性剤
1〜10重量%、 (C)一般式(2)
【0009】
【化5】
【0010】〔式中、R2 は炭素数5〜23の直鎖若し
くは分岐鎖のアルキル若しくはアルケニル基又は炭素数
5〜23の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基で置換され
たフェニル基を示し、R3 は水素原子、炭素数1〜3の
アルキル基、−(CH2CH2O)n−CH2COOM又は
−(CH2CH2O)nHを示し、Mは水素原子、アルカ
リ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、アルカノー
ルアミン又は塩基性アミノ酸残基を示し、nは1〜20
の数を示す〕で表わされるアミドエーテルカルボン酸又
はその塩 1〜10重量% を含有し、(A)、(B)及び(C)の配合量が(A)
>(B)で、かつ(A)>(C)である洗浄剤組成物を
提供するものである。
くは分岐鎖のアルキル若しくはアルケニル基又は炭素数
5〜23の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基で置換され
たフェニル基を示し、R3 は水素原子、炭素数1〜3の
アルキル基、−(CH2CH2O)n−CH2COOM又は
−(CH2CH2O)nHを示し、Mは水素原子、アルカ
リ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、アルカノー
ルアミン又は塩基性アミノ酸残基を示し、nは1〜20
の数を示す〕で表わされるアミドエーテルカルボン酸又
はその塩 1〜10重量% を含有し、(A)、(B)及び(C)の配合量が(A)
>(B)で、かつ(A)>(C)である洗浄剤組成物を
提供するものである。
【0011】本発明で用いられる(A)成分の非イオン
性界面活性剤は前記一般式(1)で表わされるものであ
る。式中、R1 で示される炭素数6〜22のアルキル基
としては、例えばヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、
トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキ
サデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデ
シル基、エイコシル基、ヘニコシル基、ドコシル基が挙
げられる。また、炭素数6〜22のアルケニル基として
は、例えばヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル
基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセ
ニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデ
セニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オク
タデセニル基、ノナデセニル基、エイコセニル基、ヘニ
コセニル基、ドコセニル基が挙げられる。これらアルキ
ル基又はアルケニル基は直鎖のものでも分岐鎖を有する
ものであってもよい。これらの基のうち、炭素数10〜
18のものが、起泡力により優れるので好ましい。ま
た、mは10〜50の数を示し、特に10〜30である
のが好ましい。
性界面活性剤は前記一般式(1)で表わされるものであ
る。式中、R1 で示される炭素数6〜22のアルキル基
としては、例えばヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、
トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキ
サデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデ
シル基、エイコシル基、ヘニコシル基、ドコシル基が挙
げられる。また、炭素数6〜22のアルケニル基として
は、例えばヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル
基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセ
ニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデ
セニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オク
タデセニル基、ノナデセニル基、エイコセニル基、ヘニ
コセニル基、ドコセニル基が挙げられる。これらアルキ
ル基又はアルケニル基は直鎖のものでも分岐鎖を有する
ものであってもよい。これらの基のうち、炭素数10〜
18のものが、起泡力により優れるので好ましい。ま
た、mは10〜50の数を示し、特に10〜30である
のが好ましい。
【0012】(A)成分の非イオン性界面活性剤として
は、R1 がドデシル基でmが15〜20のものが好まし
い。
は、R1 がドデシル基でmが15〜20のものが好まし
い。
【0013】(A)成分は主基剤として用いることが好
ましく、1種又は2種以上を組み合せて用いることがで
き、組成物中に5〜50重量%(以下、単に「%」で示
す)、好ましくは5〜30%、特に好ましくは5〜20
%配合される。この範囲内であれば、優れた安定性及び
洗浄性が得られ、好ましい。
ましく、1種又は2種以上を組み合せて用いることがで
き、組成物中に5〜50重量%(以下、単に「%」で示
す)、好ましくは5〜30%、特に好ましくは5〜20
%配合される。この範囲内であれば、優れた安定性及び
洗浄性が得られ、好ましい。
【0014】本発明で用いられる(B)成分のベタイン
型界面活性剤としては、カルボベタイン型、スルホベタ
イン型、イミダゾリニウムベタイン型等のいずれでもよ
く、これらのうち、一般式(3)又は(4)
型界面活性剤としては、カルボベタイン型、スルホベタ
イン型、イミダゾリニウムベタイン型等のいずれでもよ
く、これらのうち、一般式(3)又は(4)
【0015】
【化6】
【0016】〔式中、R4 は水酸基で置換されていても
よい炭素数8〜20の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル若
しくはアルケニル基又はR5CONH(CH2)z−(こ
こでR5 は、水酸基で置換されていてもよい炭素数8〜
20の直鎖又は分岐鎖のアルキル又はアルケニル基を示
し、zは1〜5の整数を示す)を示し、R6 は水酸基で
置換されていてもよい炭素数1〜5のアルキレン基を示
し、yは1〜5の整数を示し、Mは水素原子、アルカリ
金属又はトリエタノールアミンを示す〕で表わされるも
のが好ましい。更に、一般式(3)で表わされるカルボ
ベタイン型界面活性剤としては、脂肪酸アミドプロピル
ベタインが好ましく、一般式(4)で表わされるスルホ
ベタイン型界面活性剤としては、アルキルジメチルアミ
ノヒドロキシスルホベタインが好ましい。
よい炭素数8〜20の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル若
しくはアルケニル基又はR5CONH(CH2)z−(こ
こでR5 は、水酸基で置換されていてもよい炭素数8〜
20の直鎖又は分岐鎖のアルキル又はアルケニル基を示
し、zは1〜5の整数を示す)を示し、R6 は水酸基で
置換されていてもよい炭素数1〜5のアルキレン基を示
し、yは1〜5の整数を示し、Mは水素原子、アルカリ
金属又はトリエタノールアミンを示す〕で表わされるも
のが好ましい。更に、一般式(3)で表わされるカルボ
ベタイン型界面活性剤としては、脂肪酸アミドプロピル
ベタインが好ましく、一般式(4)で表わされるスルホ
ベタイン型界面活性剤としては、アルキルジメチルアミ
ノヒドロキシスルホベタインが好ましい。
【0017】(B)成分のベタイン型界面活性剤は、1
種又は2種以上を組み合せて用いることができ、全組成
物中に1〜10%、好ましくは1〜5%、特に好ましく
は1〜3%配合される。1%未満では充分な洗浄性及び
起泡性が得られず、10%を超えると刺激性等の点で好
ましくない。
種又は2種以上を組み合せて用いることができ、全組成
物中に1〜10%、好ましくは1〜5%、特に好ましく
は1〜3%配合される。1%未満では充分な洗浄性及び
起泡性が得られず、10%を超えると刺激性等の点で好
ましくない。
【0018】本発明で用いられる(C)成分のアミドエ
ーテルカルボン酸又はその塩は、前記一般式(2)で表
わされるものである。式(2)中、R2 で示される炭素
数5〜23のアルキル基としては、例えばペンチル基、
ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシ
ル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テト
ラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタ
デシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル
基、ヘニコシル基、ドコシル基、トリコシル基が挙げら
れる。また、炭素数5〜23のアルケニル基としては、
例えばペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オ
クテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル
基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル
基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセ
ニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、エイコセ
ニル基、ヘニコセニル基、ドコセニル基、トリコセニル
基が挙げられる。これらアルキル基又はアルケニル基は
直鎖のものでも分岐鎖を有するものであってもよい。こ
れらの基のうち、炭素数が7〜17のもの、特に10〜
15のものが、起泡性の点で好ましい。また、R3 とし
ては、水素原子が好ましく、nは1〜20の数を示す
が、1〜10、特に1〜7のものが、起泡性等の点で好
ましい。
ーテルカルボン酸又はその塩は、前記一般式(2)で表
わされるものである。式(2)中、R2 で示される炭素
数5〜23のアルキル基としては、例えばペンチル基、
ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシ
ル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テト
ラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタ
デシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル
基、ヘニコシル基、ドコシル基、トリコシル基が挙げら
れる。また、炭素数5〜23のアルケニル基としては、
例えばペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オ
クテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル
基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル
基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセ
ニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、エイコセ
ニル基、ヘニコセニル基、ドコセニル基、トリコセニル
基が挙げられる。これらアルキル基又はアルケニル基は
直鎖のものでも分岐鎖を有するものであってもよい。こ
れらの基のうち、炭素数が7〜17のもの、特に10〜
15のものが、起泡性の点で好ましい。また、R3 とし
ては、水素原子が好ましく、nは1〜20の数を示す
が、1〜10、特に1〜7のものが、起泡性等の点で好
ましい。
【0019】Mとしては、水素原子;ナトリウム、カリ
ウム等のアルカリ金属塩;カルシウム、マグネシウム等
のアルカリ土類金属塩;アンモニウム塩;トリエタノー
ルアミン等のアルカノールアミン塩;リジン、アルギニ
ン、グルタミン、アスパラギン等の塩基性アミノ酸塩な
どが挙げられ、特にナトリウム、マグネシウム、トリエ
タノールアミンが好ましい。
ウム等のアルカリ金属塩;カルシウム、マグネシウム等
のアルカリ土類金属塩;アンモニウム塩;トリエタノー
ルアミン等のアルカノールアミン塩;リジン、アルギニ
ン、グルタミン、アスパラギン等の塩基性アミノ酸塩な
どが挙げられ、特にナトリウム、マグネシウム、トリエ
タノールアミンが好ましい。
【0020】(C)成分のアミドエーテルカルボン酸又
はその塩としては、R2 がC11H23、R3 がH、nが2
〜3、MがNa又はMgであるものが好ましい。
はその塩としては、R2 がC11H23、R3 がH、nが2
〜3、MがNa又はMgであるものが好ましい。
【0021】(C)成分のアミドエーテルカルボン酸
は、全組成物中に1〜10%、好ましくは1〜5%、特
に好ましくは1〜3%配合される。1%未満では充分な
洗浄性、起泡性が得られず、10%を超えると濯ぎ時に
きしみを生じる等、感触上好ましくない。
は、全組成物中に1〜10%、好ましくは1〜5%、特
に好ましくは1〜3%配合される。1%未満では充分な
洗浄性、起泡性が得られず、10%を超えると濯ぎ時に
きしみを生じる等、感触上好ましくない。
【0022】本発明の洗浄剤組成物においては、低刺激
性、洗浄性及び起泡性を同時に満足させるため、成分
(A)、(B)及び(C)の配合量が、(A)>(B)
で、かつ(A)>(C)であることが必要である。更
に、これらの重量比が、(A)/〔(B)+(C)〕>
0.5、特に(A)/〔(B)+(C)〕≧1である
と、より洗浄力が高く、刺激性も低いので好ましい。
性、洗浄性及び起泡性を同時に満足させるため、成分
(A)、(B)及び(C)の配合量が、(A)>(B)
で、かつ(A)>(C)であることが必要である。更
に、これらの重量比が、(A)/〔(B)+(C)〕>
0.5、特に(A)/〔(B)+(C)〕≧1である
と、より洗浄力が高く、刺激性も低いので好ましい。
【0023】また、本発明の洗浄剤組成物には、通常洗
浄剤等に用いられるアニオン性界面活性剤を、本発明の
効果を損なわない範囲で配合することができる。かかる
アニオン性界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸
塩、アルキルエーテル硫酸塩、アルキルスルホン酸塩、
スルホコハク酸エステル、α−スルホ脂肪酸エステル
塩、α−オレフィンスルホン酸塩、飽和又は不飽和脂肪
酸塩、リン酸モノエステル型界面活性剤、アシル化アミ
ノ酸、アシル化コラーゲン、アシル化ケラチン等が挙げ
られる。
浄剤等に用いられるアニオン性界面活性剤を、本発明の
効果を損なわない範囲で配合することができる。かかる
アニオン性界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸
塩、アルキルエーテル硫酸塩、アルキルスルホン酸塩、
スルホコハク酸エステル、α−スルホ脂肪酸エステル
塩、α−オレフィンスルホン酸塩、飽和又は不飽和脂肪
酸塩、リン酸モノエステル型界面活性剤、アシル化アミ
ノ酸、アシル化コラーゲン、アシル化ケラチン等が挙げ
られる。
【0024】更に、本発明の洗浄剤組成物には、シリコ
ーン誘導体を、本発明の効果を損なわない範囲で配合す
ることができ、良好なすべり感やさらさら感を得ること
ができる。かかるシリコーン誘導体としては、通常洗浄
剤等に配合されるものであれば何ら制限されず、例えば
ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサ
ン、ポリエーテル変性シリコーン、エポキシ変性シリコ
ーン、アルコキシ変性シリコーン、アミノ変性シリコー
ン等が挙げられる。
ーン誘導体を、本発明の効果を損なわない範囲で配合す
ることができ、良好なすべり感やさらさら感を得ること
ができる。かかるシリコーン誘導体としては、通常洗浄
剤等に配合されるものであれば何ら制限されず、例えば
ジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサ
ン、ポリエーテル変性シリコーン、エポキシ変性シリコ
ーン、アルコキシ変性シリコーン、アミノ変性シリコー
ン等が挙げられる。
【0025】本発明の洗浄剤組成物には、前記成分の他
に、必要に応じて、通常化粧料、医薬品、食品等に配合
される成分、例えば抗フケ剤、殺菌剤、抗炎症剤、薬効
剤、防腐剤;プロピレングリコール、グリセリン、ジエ
チレングリコールモノエチルエーテル、ソルビトール、
パンテノール等の保湿剤;染料、顔料などの着色剤;パ
ーフルオロポリエーテルなどのコンディショニング剤;
パール化剤、ヒドロキシプロピルキトサン等のキトサン
誘導体;各種調合香料;その他エンサイクロペディア・
オブ・シャンプー・イングリーディエンツ〔ENCYC
LOPEDIAOF SHAMPOO INGREDI
ENTS(MICELLE PRESS 1985
年)〕に記載されている成分等を、本発明の効果を損な
わない範囲において適宜配合することができる。
に、必要に応じて、通常化粧料、医薬品、食品等に配合
される成分、例えば抗フケ剤、殺菌剤、抗炎症剤、薬効
剤、防腐剤;プロピレングリコール、グリセリン、ジエ
チレングリコールモノエチルエーテル、ソルビトール、
パンテノール等の保湿剤;染料、顔料などの着色剤;パ
ーフルオロポリエーテルなどのコンディショニング剤;
パール化剤、ヒドロキシプロピルキトサン等のキトサン
誘導体;各種調合香料;その他エンサイクロペディア・
オブ・シャンプー・イングリーディエンツ〔ENCYC
LOPEDIAOF SHAMPOO INGREDI
ENTS(MICELLE PRESS 1985
年)〕に記載されている成分等を、本発明の効果を損な
わない範囲において適宜配合することができる。
【0026】本発明の洗浄剤組成物は、通常の方法に従
って製造することができ、ペースト状、ゲル状、液状等
の剤型とすることができる。また、毛髪用、身体用洗浄
剤として適しており、特にシャンプー、ボディシャンプ
ー、洗顔料などとして好適なものである。
って製造することができ、ペースト状、ゲル状、液状等
の剤型とすることができる。また、毛髪用、身体用洗浄
剤として適しており、特にシャンプー、ボディシャンプ
ー、洗顔料などとして好適なものである。
【0027】
【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、洗浄性及び起
泡性に優れ、しかも低刺激性であり、毛髪用洗浄剤、身
体用洗浄剤などとして有用なものである。
泡性に優れ、しかも低刺激性であり、毛髪用洗浄剤、身
体用洗浄剤などとして有用なものである。
【0028】
【実施例】以下、実施例によって本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。
明するが、本発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。
【0029】実施例1 表2に示す組成からなる本発明品1〜3及び比較品1〜
4のシャンプーを常法により製造し、下記の評価基準に
よってその性能を評価した。
4のシャンプーを常法により製造し、下記の評価基準に
よってその性能を評価した。
【0030】(評価基準) 洗浄性:健康な日本人女性の毛髪20g(15cm)にシ
ャンプー液1gを塗布し、1分間洗浄して濯いだ後の感
触を専門パネラー20名により以下の基準で評価した。
ャンプー液1gを塗布し、1分間洗浄して濯いだ後の感
触を専門パネラー20名により以下の基準で評価した。
【0031】◎:極めて良好。(90%以上の人が良好
と感じた) ○:良好。(80〜90%未満の人が良好と感じた) △:若干不良。(70〜80%未満の人が良好と感じ
た) ×:不良。(70%未満の人が良好と感じた)
と感じた) ○:良好。(80〜90%未満の人が良好と感じた) △:若干不良。(70〜80%未満の人が良好と感じ
た) ×:不良。(70%未満の人が良好と感じた)
【0032】起泡性:シャンプー液の20倍希釈水溶液
800ml(液温20℃)をシリンダーに注入し、水溶液
中に攪拌羽根を設置して5分間回転させた後30秒間静
置し、泡立ちを以下の基準で評価した。尚、羽根の回転
数は1000rpm であり、5秒毎に反転させた。
800ml(液温20℃)をシリンダーに注入し、水溶液
中に攪拌羽根を設置して5分間回転させた後30秒間静
置し、泡立ちを以下の基準で評価した。尚、羽根の回転
数は1000rpm であり、5秒毎に反転させた。
【0033】◎:極めて良好な泡立ち。 ○:良好な泡立ち。 △:泡立つが、不足と感じる。 ×:殆ど泡立たない。
【0034】皮膚刺激性:専門パネラー20名により、
各シャンプー液に手を5分間浸した後乾燥するという操
作を10回繰り返し、以下の基準によって評価した。
各シャンプー液に手を5分間浸した後乾燥するという操
作を10回繰り返し、以下の基準によって評価した。
【0035】◎:90%以上の人が低刺激と感じた。 ○:80〜90%未満の人が低刺激と感じた。 △:70〜80%未満の人が低刺激と感じた。 ×:70%未満の人が低刺激と感じた。
【0036】
【表1】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C11D 1/92 C11D 1/92 3/32 3/32 //(C11D 1/72 1:90) (C11D 1/72 1:92)
Claims (3)
- 【請求項1】 次の成分(A)、(B)及び(C): (A)一般式(1) 【化1】 〔式中、R1 は炭素数6〜22のアルキル又はアルケニ
ル基を示し、mは10〜50の数を示す〕で表わされる
非イオン性界面活性剤 5〜50重量
%、 (B)ベタイン型界面活性剤
1〜10重量%、 (C)一般式(2) 【化2】 〔式中、R2 は炭素数5〜23の直鎖若しくは分岐鎖の
アルキル若しくはアルケニル基又は炭素数5〜23の直
鎖若しくは分岐鎖のアルキル基で置換されたフェニル基
を示し、R3 は水素原子、炭素数1〜3のアルキル基、
−(CH2CH2O)n−CH2COOM又は−(CH2C
H2O)nHを示し、Mは水素原子、アルカリ金属、アル
カリ土類金属、アンモニウム、アルカノールアミン又は
塩基性アミノ酸残基を示し、nは1〜20の数を示す〕
で表わされるアミドエーテルカルボン酸又はその塩
1〜10重量% を含有し、(A)、(B)及び(C)の配合量が(A)
>(B)で、かつ(A)>(C)である洗浄剤組成物。 - 【請求項2】 (B)ベタイン型界面活性剤が、一般式
(3)又は(4) 【化3】 〔式中、R4 は水酸基で置換されていてもよい炭素数8
〜20の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル若しくはアルケ
ニル基又はR5CONH(CH2)z−(ここでR5 は、水
酸基で置換されていてもよい炭素数8〜20の直鎖又は
分岐鎖のアルキル又はアルケニル基を示し、zは1〜5
の整数を示す)を示し、R6 は水酸基で置換されていて
もよい炭素数1〜5のアルキレン基を示し、yは1〜5
の整数を示し、Mは水素原子、アルカリ金属又はアルカ
ノールアミンを示す〕で表わされるものである請求項1
記載の洗浄剤組成物。 - 【請求項3】 成分(A)、(B)及び(C)を、重量
比が(A)/〔(b)+(c)〕>0.5となるように
含有する請求項1又は2記載の洗浄剤組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4522195A JPH08239689A (ja) | 1995-03-06 | 1995-03-06 | 洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4522195A JPH08239689A (ja) | 1995-03-06 | 1995-03-06 | 洗浄剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08239689A true JPH08239689A (ja) | 1996-09-17 |
Family
ID=12713222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4522195A Pending JPH08239689A (ja) | 1995-03-06 | 1995-03-06 | 洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08239689A (ja) |
-
1995
- 1995-03-06 JP JP4522195A patent/JPH08239689A/ja active Pending
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