JPH08246190A - 陽極酸化皮膜及びそれを形成させる方法 - Google Patents
陽極酸化皮膜及びそれを形成させる方法Info
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- JPH08246190A JPH08246190A JP7820795A JP7820795A JPH08246190A JP H08246190 A JPH08246190 A JP H08246190A JP 7820795 A JP7820795 A JP 7820795A JP 7820795 A JP7820795 A JP 7820795A JP H08246190 A JPH08246190 A JP H08246190A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ２５Å〜２５０Åの間で所望の細孔径分布を
有する陽極酸化皮膜およびその形成方法を提供するこ
と。 【構成】 ２５Å〜２５０Åの間に細孔半径分布のピー
クを少なくとも一つ有することを特徴とする陽極酸化皮
膜。
有する陽極酸化皮膜およびその形成方法を提供するこ
と。 【構成】 ２５Å〜２５０Åの間に細孔半径分布のピー
クを少なくとも一つ有することを特徴とする陽極酸化皮
膜。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は陽極酸化皮膜及びそれを
形成させる方法に関し、特に２５Å〜２５０Åの間に細
孔半径分布のピークを少なくとも一つ有する陽極酸化皮
膜及びそれを形成させる方法に関する。
形成させる方法に関し、特に２５Å〜２５０Åの間に細
孔半径分布のピークを少なくとも一つ有する陽極酸化皮
膜及びそれを形成させる方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】アルミニウムの陽極酸化技術によって得
られた多孔質アルミナ皮膜は公知であり、電解コンデン
サの絶縁皮膜、アルミサッシや装飾品の表面処理、車体
や機体などの表面の防蝕処理、カーテンウォールの発色
等、様々な用途に利用されている。一方、陽極酸化によ
って得られる多孔質酸化皮膜の細孔半径は３００Å程度
と大きいため、ＢＥＴ表面積が小さく、触媒の担体とし
ては不十分であった。
られた多孔質アルミナ皮膜は公知であり、電解コンデン
サの絶縁皮膜、アルミサッシや装飾品の表面処理、車体
や機体などの表面の防蝕処理、カーテンウォールの発色
等、様々な用途に利用されている。一方、陽極酸化によ
って得られる多孔質酸化皮膜の細孔半径は３００Å程度
と大きいため、ＢＥＴ表面積が小さく、触媒の担体とし
ては不十分であった。
【０００３】これに対し、近年、陽極酸化皮膜を５０℃
以上の水又は蒸気で熱水処理した場合には、細孔半径が
２０Å程度となり、その結果ＢＥＴ表面積が著しく増大
し、触媒担体表面として十分に使用することのできるこ
とが判明した（特開平２−１４４１５４及び同４０−２
００７４５号公報）。しかしながら、これらの熱水処理
によっては２０Å以上の細孔半径分布を持たせることは
できなかった（アルトピア、１０巻、９〜１２頁（１９
９３））。
以上の水又は蒸気で熱水処理した場合には、細孔半径が
２０Å程度となり、その結果ＢＥＴ表面積が著しく増大
し、触媒担体表面として十分に使用することのできるこ
とが判明した（特開平２−１４４１５４及び同４０−２
００７４５号公報）。しかしながら、これらの熱水処理
によっては２０Å以上の細孔半径分布を持たせることは
できなかった（アルトピア、１０巻、９〜１２頁（１９
９３））。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記の熱水処理は、技
術的にはアルミナ細孔の水和封孔処理であるが、本発明
者らは、１０℃以下の低温でも、時間さえかければ水和
封孔処理が可能であること、及び、処理温度が４５℃以
下である場合にはアルミナの細孔半径を広く制御するこ
とができることを見出し、本発明に到達した。
術的にはアルミナ細孔の水和封孔処理であるが、本発明
者らは、１０℃以下の低温でも、時間さえかければ水和
封孔処理が可能であること、及び、処理温度が４５℃以
下である場合にはアルミナの細孔半径を広く制御するこ
とができることを見出し、本発明に到達した。
【０００５】従って、本発明の第１の目的は、２５Å〜
２５０Åの間に細孔半径分布のピークを少なくとも１つ
有する陽極酸化皮膜を提供することにある。本発明の第
２の目的は、２５Å〜２５０Åの間に細孔半径分布のピ
ークが少なくとも１つある陽極酸化皮膜を表面に有する
金属基体を提供することにある。本発明の第３の目的
は、２５Å〜２５０Åの間に細孔半径分布のピークを少
なくとも１つ有する陽極酸化皮膜を形成させる方法を提
供することにある。
２５０Åの間に細孔半径分布のピークを少なくとも１つ
有する陽極酸化皮膜を提供することにある。本発明の第
２の目的は、２５Å〜２５０Åの間に細孔半径分布のピ
ークが少なくとも１つある陽極酸化皮膜を表面に有する
金属基体を提供することにある。本発明の第３の目的
は、２５Å〜２５０Åの間に細孔半径分布のピークを少
なくとも１つ有する陽極酸化皮膜を形成させる方法を提
供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の上記の諸目的は
２５Å〜２５０Åの間に細孔半径分布のピークを少なく
とも１つ有する陽極酸化皮膜及びそれを形成させる方法
によって達成された。本発明においては、陽極酸化皮膜
を形成し得る限り、対象とする金属に特に制限はない
が、一般的には、アルミニウム単体、アルミニウム層を
設けた金属、または６０重量％以上のアルミニウム含む
ジュラルミン等の合金である。
２５Å〜２５０Åの間に細孔半径分布のピークを少なく
とも１つ有する陽極酸化皮膜及びそれを形成させる方法
によって達成された。本発明においては、陽極酸化皮膜
を形成し得る限り、対象とする金属に特に制限はない
が、一般的には、アルミニウム単体、アルミニウム層を
設けた金属、または６０重量％以上のアルミニウム含む
ジュラルミン等の合金である。
【０００７】陽極酸化皮膜を設けた基体はいかなる形状
でも良く、用途や使用方法に応じて、板状、シート状、
リボン状、管状、ハニカム状などの形状とすることがで
きる。この場合、陽極酸化皮膜を設けた基体は、前記金
属表面を陽極酸化したままのものであってもよいが、後
述する如く、一度、陽極酸化皮膜のみを製造し、これを
例えば、プラスチックシートや紙或いは多孔質ゼオライ
ト表面に粘着したものであっても良い。
でも良く、用途や使用方法に応じて、板状、シート状、
リボン状、管状、ハニカム状などの形状とすることがで
きる。この場合、陽極酸化皮膜を設けた基体は、前記金
属表面を陽極酸化したままのものであってもよいが、後
述する如く、一度、陽極酸化皮膜のみを製造し、これを
例えば、プラスチックシートや紙或いは多孔質ゼオライ
ト表面に粘着したものであっても良い。
【０００８】本発明における陽極酸化は公知の方法によ
って行えば良く、処理液としては、例えばクロム酸水溶
液、シュウ酸水溶液、硫酸水溶液等を使用することがで
きる。それらの処理液のｐＨや溶液の温度、あるいは酸
の種類によって、３００Åから最大数百μｍの多孔アル
ミナ皮膜が形成される。
って行えば良く、処理液としては、例えばクロム酸水溶
液、シュウ酸水溶液、硫酸水溶液等を使用することがで
きる。それらの処理液のｐＨや溶液の温度、あるいは酸
の種類によって、３００Åから最大数百μｍの多孔アル
ミナ皮膜が形成される。
【０００９】本発明では陽極酸化後、比抵抗が２×１０
5 Ωｃｍ以上であって脱気処理された５℃〜４５℃の水
を用い、水和封孔処理することによって、２５Å〜２５
０Åの間に細孔半径分布のピークを少なくとも１つ有す
る陽極酸化皮膜を形成させた後、３００℃〜５００℃で
焼成することによって、この細孔半径分布を有する陽極
酸化皮膜を固定する。
5 Ωｃｍ以上であって脱気処理された５℃〜４５℃の水
を用い、水和封孔処理することによって、２５Å〜２５
０Åの間に細孔半径分布のピークを少なくとも１つ有す
る陽極酸化皮膜を形成させた後、３００℃〜５００℃で
焼成することによって、この細孔半径分布を有する陽極
酸化皮膜を固定する。
【００１０】水和封孔処理温度が５℃以下では必要な処
理時間が長くなり過ぎ、又、４５℃を越えると水和封孔
反応が速すぎて細孔半径が略２０Åとなるので、その分
布を制御することが困難となる。また、比抵抗が２×１
０5 Ωｃｍ以上の水は、蒸留やイオン交換法によって容
易に得ることができるが、特に、製造容易性の観点から
イオン交換水を使用することが好ましい。
理時間が長くなり過ぎ、又、４５℃を越えると水和封孔
反応が速すぎて細孔半径が略２０Åとなるので、その分
布を制御することが困難となる。また、比抵抗が２×１
０5 Ωｃｍ以上の水は、蒸留やイオン交換法によって容
易に得ることができるが、特に、製造容易性の観点から
イオン交換水を使用することが好ましい。
【００１１】低温で長時間水和封孔処理する程、２５Å
〜２５０Åの細孔半径分布が平坦に近くなる一方、温度
を上げる程、前記細孔半径範囲内に極大値を有する様に
なり、極大値を２０Å〜３００のÅの間に２箇所持たせ
ることも容易である。処理時間は、水和封孔処理する温
度、及び、所望する細孔半径分布によって、数分〜数時
間の範囲で適宜調整すれば良い。
〜２５０Åの細孔半径分布が平坦に近くなる一方、温度
を上げる程、前記細孔半径範囲内に極大値を有する様に
なり、極大値を２０Å〜３００のÅの間に２箇所持たせ
ることも容易である。処理時間は、水和封孔処理する温
度、及び、所望する細孔半径分布によって、数分〜数時
間の範囲で適宜調整すれば良い。
【００１２】処理条件によって、２つのピークが２５Å
〜２５０Åの間に入るようにすることも、１つのピーク
のみが２５Å〜２５０Åの間に入るようにすることもで
きる。尚、本発明における細孔半径は、窒素脱離法又は
水銀圧入法によって測定される。また、陽極酸化皮膜を
単独に得る場合には、例えば、公知の塩酸／塩化銅溶液
法（市村ら、化学工学第５９年会、Ｊ１２３、１９９４
年）に従えば良い。
〜２５０Åの間に入るようにすることも、１つのピーク
のみが２５Å〜２５０Åの間に入るようにすることもで
きる。尚、本発明における細孔半径は、窒素脱離法又は
水銀圧入法によって測定される。また、陽極酸化皮膜を
単独に得る場合には、例えば、公知の塩酸／塩化銅溶液
法（市村ら、化学工学第５９年会、Ｊ１２３、１９９４
年）に従えば良い。
【００１３】本発明の陽極酸化皮膜は、それが有する細
孔半径分布によって、例えば、分子篩いとして機能する
分離膜として応用することができる。本発明の陽極酸化
皮膜を有する基体は、高伝熱触媒担体として、細孔中に
金属を析出させて高密度磁気膜として、細孔中に蛍光体
をドーピングさせてＥＬ素子として、或いは従来にはな
い色調を有する装飾品等として応用することができる。
孔半径分布によって、例えば、分子篩いとして機能する
分離膜として応用することができる。本発明の陽極酸化
皮膜を有する基体は、高伝熱触媒担体として、細孔中に
金属を析出させて高密度磁気膜として、細孔中に蛍光体
をドーピングさせてＥＬ素子として、或いは従来にはな
い色調を有する装飾品等として応用することができる。
【００１４】
【発明の効果】本発明の細孔構造を有する陽極酸化皮膜
は、その細孔半径分布に従って、種々の用途に応用する
ことができる。又、本発明の陽極酸化皮膜表面を有する
基体は、複数の反応に対応する触媒担体として用いた
り、従来と異なった色調の装飾品を実現することもでき
る。また、本発明の陽極酸化皮膜の細孔半径分布制御方
法は、５℃〜４５℃のイオン交換水等で処理するという
簡単なものであるので、工業化も極めて容易である。
は、その細孔半径分布に従って、種々の用途に応用する
ことができる。又、本発明の陽極酸化皮膜表面を有する
基体は、複数の反応に対応する触媒担体として用いた
り、従来と異なった色調の装飾品を実現することもでき
る。また、本発明の陽極酸化皮膜の細孔半径分布制御方
法は、５℃〜４５℃のイオン交換水等で処理するという
簡単なものであるので、工業化も極めて容易である。
【００１５】
【実施例】以下、本発明を実施例によって更に詳述する
が、本発明はこれによって限定されるものではない。
が、本発明はこれによって限定されるものではない。
【００１６】実施例１〜３と比較例１．ＪＩＳ−Ａ１０
５０規格の、厚さ０．３ｍｍのアルミニウムを２０重量
％水酸化ナトリウム水溶液中で３分間洗浄した後、３０
重量％の硝酸水溶液中で１分間中和処理する前処理を行
った。次いで２０℃、４重量％のシュウ酸水溶液中に
て、電流密度を５０Ａ／ｍ2とし、１６時間掛けて陽極
酸化処理をした。
５０規格の、厚さ０．３ｍｍのアルミニウムを２０重量
％水酸化ナトリウム水溶液中で３分間洗浄した後、３０
重量％の硝酸水溶液中で１分間中和処理する前処理を行
った。次いで２０℃、４重量％のシュウ酸水溶液中に
て、電流密度を５０Ａ／ｍ2とし、１６時間掛けて陽極
酸化処理をした。
【００１７】次いで陽極酸化されたアルミニウム表面
を、比抵抗が約１０6 Ωｃｍであって脱気処理された４
０℃のイオン交換水を用いて、それぞれを０時間（陽極
酸化のみ、比較例１）、１時間（実施例１）、 １．５
時間（実施例２）及び ２時間（実施例３）水和封孔処
理した後、４５０℃で３時間空気焼成して、多孔質陽極
酸化皮膜を形成した。得られた陽極酸化皮膜の細孔半径
分布を、窒素脱離法によって測定した結果は図１に示し
た通りである。
を、比抵抗が約１０6 Ωｃｍであって脱気処理された４
０℃のイオン交換水を用いて、それぞれを０時間（陽極
酸化のみ、比較例１）、１時間（実施例１）、 １．５
時間（実施例２）及び ２時間（実施例３）水和封孔処
理した後、４５０℃で３時間空気焼成して、多孔質陽極
酸化皮膜を形成した。得られた陽極酸化皮膜の細孔半径
分布を、窒素脱離法によって測定した結果は図１に示し
た通りである。
【００１８】比較例２．水和封孔処理を、５０℃で１５
分間行った他は実施例１と全く同様にしたところ、陽極
酸化皮膜の細孔半径は２０Åであり、水和封孔反応が極
めて速いため、２０Åの細孔半径しか形成されないこと
が確認された。得られた陽極酸化皮膜の細孔半径分布
は、図２に示した通りである。
分間行った他は実施例１と全く同様にしたところ、陽極
酸化皮膜の細孔半径は２０Åであり、水和封孔反応が極
めて速いため、２０Åの細孔半径しか形成されないこと
が確認された。得られた陽極酸化皮膜の細孔半径分布
は、図２に示した通りである。
【００１９】比較例３．水和封孔処理を、４℃で３時間
行った他は実施例１と全く同様にしたところ、陽極酸化
皮膜の細孔半径は２８０Åであり、水和封孔処理の進行
が極めて遅く、実用的でないことが確認された。得られ
た陽極酸化皮膜の細孔半径分布は図３に示した通りであ
る。
行った他は実施例１と全く同様にしたところ、陽極酸化
皮膜の細孔半径は２８０Åであり、水和封孔処理の進行
が極めて遅く、実用的でないことが確認された。得られ
た陽極酸化皮膜の細孔半径分布は図３に示した通りであ
る。
【００２０】これらの結果から、本発明の陽極酸化皮膜
は２５Å〜２５０Åの間に細孔半径分布のピークを少な
くとも１つ有すること、及び、水和封孔処理の適当な温
度が５℃〜４５℃の範囲であることが実証された。尚、
これらのデータは陽極酸化後のＳＥＭ写真による観察デ
ータとも一致した。
は２５Å〜２５０Åの間に細孔半径分布のピークを少な
くとも１つ有すること、及び、水和封孔処理の適当な温
度が５℃〜４５℃の範囲であることが実証された。尚、
これらのデータは陽極酸化後のＳＥＭ写真による観察デ
ータとも一致した。
【図１】４０℃で水和封孔処理を行った場合の細孔半径
分布曲線
分布曲線
【図２】５０℃で水和封孔処理を行った場合の細孔半径
分布曲線
分布曲線
【図３】４℃で水和封孔処理を行った場合の細孔半径分
布曲線
布曲線
Claims (4)
- 【請求項１】 ２５Å〜２５０Åの間に細孔半径分布の
ピークを少なくとも一つ有することを特徴とする陽極酸
化皮膜。 - 【請求項２】 ２０Å〜３００Åの間に細孔半径分布の
ピークを２つ有する請求項１に記載された陽極酸化皮
膜。 - 【請求項３】 請求項１又は２の何れかに記載された陽
極酸化皮膜を表面に有する金属基体。 - 【請求項４】 陽極酸化された金属表面を、比抵抗が２
×１０5 Ωｃｍ以上であって脱気処理された５℃〜４５
℃の水を用い、数分〜数時間水和封孔処理した後、３０
０℃〜５００℃で焼成することを特徴とする、２５Å〜
２５０Åの間に細孔半径分布のピークを少なくとも一つ
有する陽極酸化皮膜を形成させる方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07820795A JP3154638B2 (ja) | 1995-03-08 | 1995-03-08 | 陽極酸化皮膜及びそれを形成させる方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07820795A JP3154638B2 (ja) | 1995-03-08 | 1995-03-08 | 陽極酸化皮膜及びそれを形成させる方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08246190A true JPH08246190A (ja) | 1996-09-24 |
| JP3154638B2 JP3154638B2 (ja) | 2001-04-09 |
Family
ID=13655597
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07820795A Expired - Fee Related JP3154638B2 (ja) | 1995-03-08 | 1995-03-08 | 陽極酸化皮膜及びそれを形成させる方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3154638B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001009800A (ja) * | 1999-04-27 | 2001-01-16 | Canon Inc | ナノ構造体及びその製造方法 |
| JP2008127673A (ja) * | 2006-11-24 | 2008-06-05 | Fujifilm Corp | 微細構造体の製造方法および微細構造体 |
| JP2015088572A (ja) * | 2013-10-30 | 2015-05-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 真空処理装置 |
| WO2021049038A1 (ja) * | 2019-09-13 | 2021-03-18 | 日立化成株式会社 | 処理部材、処理方法及び処理器具 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007224364A (ja) | 2006-02-23 | 2007-09-06 | Fujifilm Corp | 微細構造体およびその製造方法 |
-
1995
- 1995-03-08 JP JP07820795A patent/JP3154638B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001009800A (ja) * | 1999-04-27 | 2001-01-16 | Canon Inc | ナノ構造体及びその製造方法 |
| US6476409B2 (en) | 1999-04-27 | 2002-11-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Nano-structures, process for preparing nano-structures and devices |
| US6784007B2 (en) | 1999-04-27 | 2004-08-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Nano-structures, process for preparing nano-structures and devices |
| JP2008127673A (ja) * | 2006-11-24 | 2008-06-05 | Fujifilm Corp | 微細構造体の製造方法および微細構造体 |
| JP2015088572A (ja) * | 2013-10-30 | 2015-05-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 真空処理装置 |
| WO2021049038A1 (ja) * | 2019-09-13 | 2021-03-18 | 日立化成株式会社 | 処理部材、処理方法及び処理器具 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3154638B2 (ja) | 2001-04-09 |
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