JPH08247512A - クリーンルーム - Google Patents
クリーンルームInfo
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- JPH08247512A JPH08247512A JP5399395A JP5399395A JPH08247512A JP H08247512 A JPH08247512 A JP H08247512A JP 5399395 A JP5399395 A JP 5399395A JP 5399395 A JP5399395 A JP 5399395A JP H08247512 A JPH08247512 A JP H08247512A
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Landscapes
- Ventilation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 生産装置又は機器の上部側で発生する熱気流
や上方吹出気流に起因する気流の乱れを抑制すること、
汚染物質を捕捉すること、周辺への温度影響を防止する
ことができるクリーンルームを提供することにある。 【構成】 室と、この室の上部側に配設されたフィルタ
ユニットと、室の下部側を仕切ると共に上面に生産装置
又は機器を配置する空気流通穴を備えた床と、フィルタ
ユニットを介して清浄空気を室内に供給すると共に空気
流通孔を介して室内の空気を吸引する空調装置とを有す
るクリーンルームにおいて、生産装置又は機器の上部側
のフィルタユニットには、生産装置又は機器の上部側の
空気を吸引する吸気手段が配設され、生産装置又は機器
の周囲の上部側のフィルタユニットには、生産装置又は
機器の周囲に空気を圧送する送気手段が配設されている
ことを特徴とする。
や上方吹出気流に起因する気流の乱れを抑制すること、
汚染物質を捕捉すること、周辺への温度影響を防止する
ことができるクリーンルームを提供することにある。 【構成】 室と、この室の上部側に配設されたフィルタ
ユニットと、室の下部側を仕切ると共に上面に生産装置
又は機器を配置する空気流通穴を備えた床と、フィルタ
ユニットを介して清浄空気を室内に供給すると共に空気
流通孔を介して室内の空気を吸引する空調装置とを有す
るクリーンルームにおいて、生産装置又は機器の上部側
のフィルタユニットには、生産装置又は機器の上部側の
空気を吸引する吸気手段が配設され、生産装置又は機器
の周囲の上部側のフィルタユニットには、生産装置又は
機器の周囲に空気を圧送する送気手段が配設されている
ことを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造工場、LC
D製造工場、精密機械工場、薬品製造工場等の無塵室或
いは無菌室に適用されるクリーンルームに関するもので
ある。
D製造工場、精密機械工場、薬品製造工場等の無塵室或
いは無菌室に適用されるクリーンルームに関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来、この種のクリーンルームとして
は、例えば、実公平5ー38821号公報の第3図に示
されている全面ラミナーフロー方式や型式は異なるが同
じく第4図に示されているコンベンショナル方式が知ら
れている。特に、半導体製造工場、LCD製造工場で
は、高清浄度を必要とする部分では、垂直層流型クリー
ンルームを採用するのが一般的である。
は、例えば、実公平5ー38821号公報の第3図に示
されている全面ラミナーフロー方式や型式は異なるが同
じく第4図に示されているコンベンショナル方式が知ら
れている。特に、半導体製造工場、LCD製造工場で
は、高清浄度を必要とする部分では、垂直層流型クリー
ンルームを採用するのが一般的である。
【0003】図3は、従来のクリーンルームを示す。こ
のクリーンルームでは、室1の天井にフィルタ2が敷設
され天井空間3が形成され、又、室1の床4には、空気
流通穴5が形成され、床4の下方に床下空間6が形成さ
れている。床5上には、生産装置又は機器10が配置さ
れている。そして、床下空間6内の空気を、冷温水コイ
ル8及びファン9を備えた空調機7に導いた後、空調さ
れた空気を天井空間3に供給し、フィルタ2から室1内
に吹き出させることにより室1内の空気の空調及び浄化
が行われている。
のクリーンルームでは、室1の天井にフィルタ2が敷設
され天井空間3が形成され、又、室1の床4には、空気
流通穴5が形成され、床4の下方に床下空間6が形成さ
れている。床5上には、生産装置又は機器10が配置さ
れている。そして、床下空間6内の空気を、冷温水コイ
ル8及びファン9を備えた空調機7に導いた後、空調さ
れた空気を天井空間3に供給し、フィルタ2から室1内
に吹き出させることにより室1内の空気の空調及び浄化
が行われている。
【0004】従って、生産装置又は機器10での作業領
域においては、清浄な空気が例えば0.25〜0.5m
/s程度の流速で天井側から床下空間6側への一方向性
の清浄空気流により送られ、汚染物質、塵埃等11がワ
ークに付着しないようにされている。これによって、清
浄空間の確保と汚染拡散防止効果が期待できる。
域においては、清浄な空気が例えば0.25〜0.5m
/s程度の流速で天井側から床下空間6側への一方向性
の清浄空気流により送られ、汚染物質、塵埃等11がワ
ークに付着しないようにされている。これによって、清
浄空間の確保と汚染拡散防止効果が期待できる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】然し乍ら、このような
従来のクリーンルームでは、室1に対してフィルタ2か
ら床下空間6に向かう均一な流速で清浄空気を供給する
ため、図4に示すように、生産装置又は機器10からの
発熱や上方吹出気流12によって、生産装置又は機器1
0の上部側で清浄空気流が矢印aで示すように乱され、
生産装置又は機器10或いはその周辺で発生した塵埃や
化学物質等の汚染物質が点線13で示すように広範囲に
拡散し、周辺の装置や清浄環境に悪影響を及ぼす虞があ
った。
従来のクリーンルームでは、室1に対してフィルタ2か
ら床下空間6に向かう均一な流速で清浄空気を供給する
ため、図4に示すように、生産装置又は機器10からの
発熱や上方吹出気流12によって、生産装置又は機器1
0の上部側で清浄空気流が矢印aで示すように乱され、
生産装置又は機器10或いはその周辺で発生した塵埃や
化学物質等の汚染物質が点線13で示すように広範囲に
拡散し、周辺の装置や清浄環境に悪影響を及ぼす虞があ
った。
【0006】そこで、生産装置又は機器10からの発熱
に対しては、生産装置又は機器10の上部側のフィルタ
2にファンを設け、生産装置又は機器10が配置された
領域のフィルタ2からの流速を、生産装置又は機器10
が配置されていない領域のフィルタ2からの流速よりも
早くすることによって、強制的に清浄空気を生産装置又
は機器10に送ることが考えられるが、生産装置又は機
器10の上部側で発生する熱気流による対流現象を確実
に防止することはできなかった。
に対しては、生産装置又は機器10の上部側のフィルタ
2にファンを設け、生産装置又は機器10が配置された
領域のフィルタ2からの流速を、生産装置又は機器10
が配置されていない領域のフィルタ2からの流速よりも
早くすることによって、強制的に清浄空気を生産装置又
は機器10に送ることが考えられるが、生産装置又は機
器10の上部側で発生する熱気流による対流現象を確実
に防止することはできなかった。
【0007】又、生産装置又は機器10からの上方吹出
気流に対しては、生産装置又は機器10の上部側のフィ
ルタ2にファンを設け、生産装置又は機器10が配置さ
れた領域のフィルタ2からの流速を、生産装置又は機器
10が配置されていない領域のフィルタ2からの流速よ
りも早くすることによって、強制的に清浄空気を生産装
置又は機器10に送る方法では、生産装置又は機器10
或いはその周辺で発生した塵埃や化学物質等の汚染物質
がさらに広範囲に拡散し、周辺の装置や清浄環境に悪影
響を及ぼすこととなり好ましくない。
気流に対しては、生産装置又は機器10の上部側のフィ
ルタ2にファンを設け、生産装置又は機器10が配置さ
れた領域のフィルタ2からの流速を、生産装置又は機器
10が配置されていない領域のフィルタ2からの流速よ
りも早くすることによって、強制的に清浄空気を生産装
置又は機器10に送る方法では、生産装置又は機器10
或いはその周辺で発生した塵埃や化学物質等の汚染物質
がさらに広範囲に拡散し、周辺の装置や清浄環境に悪影
響を及ぼすこととなり好ましくない。
【0008】本発明は斯かる従来の問題点を解決するた
めに為されたもので、その目的は、生産装置又は機器の
上部側で発生する熱気流や上方吹出気流に起因する気流
の乱れを抑制することができるクリーンルームを提供す
ることにある。本発明の別の目的は、汚染物質を捕捉す
ることができるクリーンルームを提供することにある。
めに為されたもので、その目的は、生産装置又は機器の
上部側で発生する熱気流や上方吹出気流に起因する気流
の乱れを抑制することができるクリーンルームを提供す
ることにある。本発明の別の目的は、汚染物質を捕捉す
ることができるクリーンルームを提供することにある。
【0009】本発明の更に別の目的は、周辺への温度影
響を防止することができるクリーンルームを提供するこ
とにある。
響を防止することができるクリーンルームを提供するこ
とにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、室
と、この室の上部側に配設されたフィルタユニットと、
室の下部側を仕切ると共に上面に生産装置又は機器を配
置する空気流通穴を備えた床と、フィルタユニットを介
して清浄空気を室内に供給すると共に空気流通孔を介し
て室内の空気を吸引する空調装置とを有するクリーンル
ームにおいて、生産装置又は機器の上部側のフィルタユ
ニットには、生産装置又は機器の上部側の空気を吸引す
る吸気手段が配設され、生産装置又は機器の周囲の上部
側のフィルタユニットには、生産装置又は機器の周囲に
空気を圧送する送気手段が配設されていることを特徴と
するものである。
と、この室の上部側に配設されたフィルタユニットと、
室の下部側を仕切ると共に上面に生産装置又は機器を配
置する空気流通穴を備えた床と、フィルタユニットを介
して清浄空気を室内に供給すると共に空気流通孔を介し
て室内の空気を吸引する空調装置とを有するクリーンル
ームにおいて、生産装置又は機器の上部側のフィルタユ
ニットには、生産装置又は機器の上部側の空気を吸引す
る吸気手段が配設され、生産装置又は機器の周囲の上部
側のフィルタユニットには、生産装置又は機器の周囲に
空気を圧送する送気手段が配設されていることを特徴と
するものである。
【0011】請求項2の発明は、室と、この室の上部側
に配設されたフィルタユニットと、室の下部側を仕切る
と共に上面に生産装置又は機器を配置する空気流通穴を
備えた床と、フィルタユニットを介して清浄空気を室内
に供給すると共に空気流通孔を介して室内の空気を吸引
する空調装置とを有するクリーンルームにおいて、生産
装置又は機器の上部側のフィルタユニットには、生産装
置又は機器の上部側の空気を吸引する吸気手段が配設さ
れ、吸気手段には、吸い込まれた室内空気を冷却する冷
却手段が連絡し、冷却手段には、冷却された室内空気を
生産装置又は機器の周囲に圧送する送気手段が配設され
ていることを特徴とするものである。
に配設されたフィルタユニットと、室の下部側を仕切る
と共に上面に生産装置又は機器を配置する空気流通穴を
備えた床と、フィルタユニットを介して清浄空気を室内
に供給すると共に空気流通孔を介して室内の空気を吸引
する空調装置とを有するクリーンルームにおいて、生産
装置又は機器の上部側のフィルタユニットには、生産装
置又は機器の上部側の空気を吸引する吸気手段が配設さ
れ、吸気手段には、吸い込まれた室内空気を冷却する冷
却手段が連絡し、冷却手段には、冷却された室内空気を
生産装置又は機器の周囲に圧送する送気手段が配設され
ていることを特徴とするものである。
【0012】請求項3の発明は、生産装置又は機器が配
置された上部側のフィルタユニットは、汚染物質除去フ
ィルタで構成されていることを特徴とするものである。
請求項4の発明は、エアガイドを設けたフィルタユニッ
トからの流速は、生産装置又は機器が配置されていない
領域のフィルタユニットからの流速よりも早く設定され
ていることを特徴とするものである。
置された上部側のフィルタユニットは、汚染物質除去フ
ィルタで構成されていることを特徴とするものである。
請求項4の発明は、エアガイドを設けたフィルタユニッ
トからの流速は、生産装置又は機器が配置されていない
領域のフィルタユニットからの流速よりも早く設定され
ていることを特徴とするものである。
【0013】
【作用】請求項1乃至請求項4の発明においては、空調
装置から送られてくる清浄空気は、フィルタユニットを
介して室内へ供給され、床の空気流通穴を介して再び空
調装置へ戻される循環経路を流れる。
装置から送られてくる清浄空気は、フィルタユニットを
介して室内へ供給され、床の空気流通穴を介して再び空
調装置へ戻される循環経路を流れる。
【0014】そして、吸気手段によって、生産装置又は
機器が配置された上部側のフィルタユニットから生産装
置又は機器の上部側の空気を吸引すると共に、生産装置
又は機器の周囲のフィルタユニットから空気を圧送する
ので、上方への定常的な気流を確保し、周辺の気流の乱
れを防止できる。請求項2の発明においては、吸気手段
によって吸い込まれた気流の温度が周辺温度に比し高温
の場合、冷却手段によって冷却されてから、送気手段を
介して、生産装置又は機器の周辺に吹き出し、生産装置
又は機器の周辺への温度影響を防止できる。
機器が配置された上部側のフィルタユニットから生産装
置又は機器の上部側の空気を吸引すると共に、生産装置
又は機器の周囲のフィルタユニットから空気を圧送する
ので、上方への定常的な気流を確保し、周辺の気流の乱
れを防止できる。請求項2の発明においては、吸気手段
によって吸い込まれた気流の温度が周辺温度に比し高温
の場合、冷却手段によって冷却されてから、送気手段を
介して、生産装置又は機器の周辺に吹き出し、生産装置
又は機器の周辺への温度影響を防止できる。
【0015】請求項3の発明においては、上昇気流に汚
染物資が含まれる場合、汚染物質除去フィルタによって
これを捕捉し、生産装置又は機器の周辺への汚染物資の
拡散を防止することができる。請求項4の発明において
は、生産装置又は機器の周辺にエアカーテンを形成する
ことができる。
染物資が含まれる場合、汚染物質除去フィルタによって
これを捕捉し、生産装置又は機器の周辺への汚染物資の
拡散を防止することができる。請求項4の発明において
は、生産装置又は機器の周辺にエアカーテンを形成する
ことができる。
【0016】
【実施例】以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて
説明する。図1は、請求項1に係るクリーンルームの一
実施例を示しており、20は室を表す。30はこの室2
0の上部側に配設されたフィルタユニットを表す。フィ
ルタユニット30は、ULPAフィルタ,HEPAフィ
ルタ等の高性能フィルタ31を天井側に敷設することに
よって構成されている。このフィルタユニット30は、
公知の全面ラミナーフロー方式に用いられているものと
同様である。
説明する。図1は、請求項1に係るクリーンルームの一
実施例を示しており、20は室を表す。30はこの室2
0の上部側に配設されたフィルタユニットを表す。フィ
ルタユニット30は、ULPAフィルタ,HEPAフィ
ルタ等の高性能フィルタ31を天井側に敷設することに
よって構成されている。このフィルタユニット30は、
公知の全面ラミナーフロー方式に用いられているものと
同様である。
【0017】このフィルタユニット30は、生産装置又
は機器40の上部側の高性能フィルタ31Aにおいて、
エアガイド33を介して軸流型ファン、多翼型ファン等
の吸気ファン(吸気手段)32が取り付けられている。
吸気ファン32には、配管34を介してエアガイド(送
気手段)36が連絡している。
は機器40の上部側の高性能フィルタ31Aにおいて、
エアガイド33を介して軸流型ファン、多翼型ファン等
の吸気ファン(吸気手段)32が取り付けられている。
吸気ファン32には、配管34を介してエアガイド(送
気手段)36が連絡している。
【0018】このエアガイド36は、生産装置又は機器
40が配置された上部側の高性能フィルタ31Aと隣接
するフィルタユニット30を構成する高性能フィルタ3
1B上に位置している。そして、このエアガイド36か
らは、高性能フィルタ31Bと隣接するフィルタユニッ
ト30を構成する高性能フィルタ31Cの流速(例え
ば、0.25m/s)よりも早い流速(例えば、0.4
5m/s)で、吹き出されている(請求項4)。
40が配置された上部側の高性能フィルタ31Aと隣接
するフィルタユニット30を構成する高性能フィルタ3
1B上に位置している。そして、このエアガイド36か
らは、高性能フィルタ31Bと隣接するフィルタユニッ
ト30を構成する高性能フィルタ31Cの流速(例え
ば、0.25m/s)よりも早い流速(例えば、0.4
5m/s)で、吹き出されている(請求項4)。
【0019】この高性能フィルタ31Bからの吹出によ
ってエアカーテンが形成され、汚染の拡散範囲を小さく
することができる。生産装置又は機器40は、空気流通
穴51を備えた床50上に配置されている。床50は、
公知のクリーンルームと同様に室20の下部側を仕切
り、床下空間55を形成するものである。
ってエアカーテンが形成され、汚染の拡散範囲を小さく
することができる。生産装置又は機器40は、空気流通
穴51を備えた床50上に配置されている。床50は、
公知のクリーンルームと同様に室20の下部側を仕切
り、床下空間55を形成するものである。
【0020】そして、天井空間35と床下空間55と
は、ダクト61,62を介して空調装置60と連絡して
いる。この空調装置60は、公知のクリーンルームに用
いられているものと同様に、ファン63及び冷温水コイ
ル64を備えている。次に、本実施例の作用を説明す
る。先ず、空調装置60から送られてくる清浄空気は、
天井空間35内に導かれ、例えば0.25〜0.5m/
sの流速でフィルタユニット30を介して室20内へ供
給され、床50の空気流通穴51を介して再び空調装置
60へ戻される循環経路を流れる。
は、ダクト61,62を介して空調装置60と連絡して
いる。この空調装置60は、公知のクリーンルームに用
いられているものと同様に、ファン63及び冷温水コイ
ル64を備えている。次に、本実施例の作用を説明す
る。先ず、空調装置60から送られてくる清浄空気は、
天井空間35内に導かれ、例えば0.25〜0.5m/
sの流速でフィルタユニット30を介して室20内へ供
給され、床50の空気流通穴51を介して再び空調装置
60へ戻される循環経路を流れる。
【0021】一方、生産装置又は機器40の上部側に配
置された吸気ファン32を備えた高性能フィルタ31A
からは、0.3〜0.6m/sの流速で生産装置又は機
器40の上部側の空気を吸い込んで、上方への定常的な
気流43を確保する。吸引された空気は、配管34を介
してエアガイド36へ送られ、エアガイド36上に設置
された高性能フィルタ31Bから室2内へ圧送される。
置された吸気ファン32を備えた高性能フィルタ31A
からは、0.3〜0.6m/sの流速で生産装置又は機
器40の上部側の空気を吸い込んで、上方への定常的な
気流43を確保する。吸引された空気は、配管34を介
してエアガイド36へ送られ、エアガイド36上に設置
された高性能フィルタ31Bから室2内へ圧送される。
【0022】従って、生産装置又は機器40の上部で
は、上方への定常的な気流43が確保されると共に、生
産装置又は機器40の周囲には高性能フィルタ31Cか
らの吹出速度よりも早い速度で清浄空気が吹き出されて
いるので、周辺からの汚染物の巻き込みが防止される。
生産装置又は機器40では、その性質上、例えば、発熱
や吹出気流41を伴うものがある。その場合、生産装置
又は機器40の上部側で空気流に乱れが起ころうとする
が、生産装置又は機器40が配置された上部側の高性能
フィルタ31Aには、生産装置又は機器40の上部側の
空気を吸引する吸気ファン32が配設されているから、
その強制的な気流によって、気流の乱れを防止すること
ができる。
は、上方への定常的な気流43が確保されると共に、生
産装置又は機器40の周囲には高性能フィルタ31Cか
らの吹出速度よりも早い速度で清浄空気が吹き出されて
いるので、周辺からの汚染物の巻き込みが防止される。
生産装置又は機器40では、その性質上、例えば、発熱
や吹出気流41を伴うものがある。その場合、生産装置
又は機器40の上部側で空気流に乱れが起ころうとする
が、生産装置又は機器40が配置された上部側の高性能
フィルタ31Aには、生産装置又は機器40の上部側の
空気を吸引する吸気ファン32が配設されているから、
その強制的な気流によって、気流の乱れを防止すること
ができる。
【0023】以上のように、本実施例では、生産装置又
は機器40が配置された上部側の高性能フィルタ31A
には、生産装置又は機器40の上部側の空気を吸引する
吸気ファン32が配設されているから、生産装置又は機
器40からの発熱、或いは生産装置又は機器40からの
上方吹出気流があっても、これらに起因する気流の乱れ
を抑制し、生産装置又は機器40の周辺の気流の乱れを
防止することができる。
は機器40が配置された上部側の高性能フィルタ31A
には、生産装置又は機器40の上部側の空気を吸引する
吸気ファン32が配設されているから、生産装置又は機
器40からの発熱、或いは生産装置又は機器40からの
上方吹出気流があっても、これらに起因する気流の乱れ
を抑制し、生産装置又は機器40の周辺の気流の乱れを
防止することができる。
【0024】尚、この実施例において、生産装置又は機
器40からの上昇気流に汚染物質が含まれる場合には、
高性能フィルタ31Aを公知の汚染物質除去フィルタと
する(請求項3)。 汚染物質除去フィルタとしては、例えば、化学吸着、物
理吸着作用を利用したケミカルフィルタと通称されるも
ので、有機溶剤を吸着する活性炭からなるフィルタ、N
OXやSOXを還元するフィルタ、SiO2を吸着するS
iO2フィルタ、或いは塩化物を吸着するフィルタ等が
ある。
器40からの上昇気流に汚染物質が含まれる場合には、
高性能フィルタ31Aを公知の汚染物質除去フィルタと
する(請求項3)。 汚染物質除去フィルタとしては、例えば、化学吸着、物
理吸着作用を利用したケミカルフィルタと通称されるも
ので、有機溶剤を吸着する活性炭からなるフィルタ、N
OXやSOXを還元するフィルタ、SiO2を吸着するS
iO2フィルタ、或いは塩化物を吸着するフィルタ等が
ある。
【0025】この汚染物質除去フィルタによって、汚染
物質を捕捉し、周辺への汚染を防止することができる。
図2は、請求項2に係るクリーンルームの一実施例を示
すものである。
物質を捕捉し、周辺への汚染を防止することができる。
図2は、請求項2に係るクリーンルームの一実施例を示
すものである。
【0026】この実施例では、図1に示すクリーンルー
ムの吸気ファン32に、冷却コイル70を設けたもので
ある。この実施例は、生産装置又は機器40からの発熱
が大きい場合に適用される。生産装置又は機器40で
は、その性質上、例えば、表面温度が40℃のような熱
を伴うものがある。その場合、生産装置又は機器40か
ら発生する熱によって、生産装置又は機器40の上部側
で熱気流41′による対流現象が起ころうとしても、生
産装置又は機器40が配置された上部側の高性能フィル
タ31Aには、生産装置又は機器40の上部側の空気を
吸引する吸気ファン32が配設されているから、その強
制的な気流によって、対流現象を破壊することができ
る。
ムの吸気ファン32に、冷却コイル70を設けたもので
ある。この実施例は、生産装置又は機器40からの発熱
が大きい場合に適用される。生産装置又は機器40で
は、その性質上、例えば、表面温度が40℃のような熱
を伴うものがある。その場合、生産装置又は機器40か
ら発生する熱によって、生産装置又は機器40の上部側
で熱気流41′による対流現象が起ころうとしても、生
産装置又は機器40が配置された上部側の高性能フィル
タ31Aには、生産装置又は機器40の上部側の空気を
吸引する吸気ファン32が配設されているから、その強
制的な気流によって、対流現象を破壊することができ
る。
【0027】例えば、生産装置又は機器40の表面温度
が40℃、生産装置又は機器40の周辺の温度が23℃
の場合、周囲の温度雰囲気を壊さないように23℃程度
の温度に冷却して高性能フィルタ31Bから吹き出され
る。この実施例によれば、周辺への温度影響を防止する
ことができる。この実施例においても、上記図1に示す
実施例と同様の効果を奏することができる。
が40℃、生産装置又は機器40の周辺の温度が23℃
の場合、周囲の温度雰囲気を壊さないように23℃程度
の温度に冷却して高性能フィルタ31Bから吹き出され
る。この実施例によれば、周辺への温度影響を防止する
ことができる。この実施例においても、上記図1に示す
実施例と同様の効果を奏することができる。
【0028】又、この実施例において、生産装置又は機
器40からの上昇気流に汚染物質が含まれる場合には、
高性能フィルタ31Aを公知の汚染物質除去フィルタと
する(請求項3)。 尚、上記実施例では、生産装置又は機器40の上部側の
フィルタユニット30に軸流型ファン等の吸気ファン3
2を取り付けた場合について説明したが、その箇所を吸
気ファンと一体になった公知のファンフィルタユニット
に置き換えても良い。
器40からの上昇気流に汚染物質が含まれる場合には、
高性能フィルタ31Aを公知の汚染物質除去フィルタと
する(請求項3)。 尚、上記実施例では、生産装置又は機器40の上部側の
フィルタユニット30に軸流型ファン等の吸気ファン3
2を取り付けた場合について説明したが、その箇所を吸
気ファンと一体になった公知のファンフィルタユニット
に置き換えても良い。
【0029】又、吸気ファン32によって吸引された空
気を、強制循環させる場合について説明したが、吸気フ
ァン32によって吸引された空気を室2外へ放出し、エ
アガイド36から圧送される空気を専用の送気ファンを
設けても良い。
気を、強制循環させる場合について説明したが、吸気フ
ァン32によって吸引された空気を室2外へ放出し、エ
アガイド36から圧送される空気を専用の送気ファンを
設けても良い。
【0030】更に、一台の生産装置又は機器40を例に
とって説明したが、生産装置又は機器40の台数は任意
である。
とって説明したが、生産装置又は機器40の台数は任意
である。
【0031】
【発明の効果】以上述べたように、請求項1乃至4のク
リーンルームでは、生産装置又は機器からの発熱、生産
装置又は機器の吹出気流に起因する気流の乱れを抑制
し、汚染の拡散範囲を小さくできる。
リーンルームでは、生産装置又は機器からの発熱、生産
装置又は機器の吹出気流に起因する気流の乱れを抑制
し、汚染の拡散範囲を小さくできる。
【0032】請求項2のクリーンルームでは、生産装置
又は機器の周辺への温度影響を防止することができる。
請求項3のクリーンルームでは、汚染物質の捕捉を行う
ことができる。
又は機器の周辺への温度影響を防止することができる。
請求項3のクリーンルームでは、汚染物質の捕捉を行う
ことができる。
【図1】請求項1に係るクリーンルームの一実施例を示
す説明図である。
す説明図である。
【図2】請求項2に係るクリーンルームの一実施例を示
す説明図である。
す説明図である。
【図3】従来のクリーンルームを示す説明図である。
【図4】従来のクリーンルームを示す説明図である。
20 室 30 フィルタユニット 31,31A,31B,31C 高性能フィルタ 32 吸気ファン 35 天井空間 36 エアガイド 40 生産装置又は機器 50 床 51 空気流通穴 55 床下空間 60 空調装置 70 冷却コイル
Claims (4)
- 【請求項1】 室と、この室の上部側に配設されたフィ
ルタユニットと、室の下部側を仕切ると共に上面に生産
装置又は機器を配置する空気流通穴を備えた床と、フィ
ルタユニットを介して清浄空気を室内に供給すると共に
空気流通孔を介して室内の空気を吸引する空調装置とを
有するクリーンルームにおいて、 生産装置又は機器の上部側のフィルタユニットには、生
産装置又は機器の上部側の空気を吸引する吸気手段が配
設され、 生産装置又は機器の周囲の上部側のフィルタユニットに
は、生産装置又は機器の周囲に空気を圧送する送気手段
が配設されていることを特徴とするクリーンルーム。 - 【請求項2】 室と、この室の上部側に配設されたフィ
ルタユニットと、室の下部側を仕切ると共に上面に生産
装置又は機器を配置する空気流通穴を備えた床と、フィ
ルタユニットを介して清浄空気を室内に供給すると共に
空気流通孔を介して室内の空気を吸引する空調装置とを
有するクリーンルームにおいて、 生産装置又は機器の上部側のフィルタユニットには、生
産装置又は機器の上部側の空気を吸引する吸気手段が配
設され、 吸気手段には、吸い込まれた室内空気を冷却する冷却手
段が連絡し、 冷却手段には、冷却された室内空気を生産装置又は機器
の周囲に圧送する送気手段が配設されていることを特徴
とするクリーンルーム。 - 【請求項3】 生産装置又は機器が配置された上部側の
フィルタユニットは、汚染物質除去フィルタで構成され
ていることを特徴とする請求項1又は2に記載のクリー
ンルーム。 - 【請求項4】 エアガイドを設けたフィルタユニットか
らの流速は、生産装置又は機器が配置されていない領域
のフィルタユニットからの流速よりも早く設定されてい
ることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載のク
リーンルーム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5399395A JPH08247512A (ja) | 1995-03-14 | 1995-03-14 | クリーンルーム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5399395A JPH08247512A (ja) | 1995-03-14 | 1995-03-14 | クリーンルーム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08247512A true JPH08247512A (ja) | 1996-09-27 |
Family
ID=12958145
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5399395A Pending JPH08247512A (ja) | 1995-03-14 | 1995-03-14 | クリーンルーム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08247512A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000018663A (ja) * | 1998-07-03 | 2000-01-18 | Fuji Denki Sosetsu Co Ltd | クリーンルームの局所空調システム |
| JP2004324939A (ja) * | 2003-04-22 | 2004-11-18 | Toyo Netsu Kogyo Kk | クリーンルーム |
| US8061830B2 (en) | 2006-03-15 | 2011-11-22 | Fujifilm Corporation | Ink-jet recording ink set and ink-jet recording method |
| JP2013050272A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-03-14 | Taisei Corp | クリーンルーム |
| US8545296B2 (en) | 2007-10-26 | 2013-10-01 | Panasonic Corporation | Clean room |
-
1995
- 1995-03-14 JP JP5399395A patent/JPH08247512A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000018663A (ja) * | 1998-07-03 | 2000-01-18 | Fuji Denki Sosetsu Co Ltd | クリーンルームの局所空調システム |
| JP2004324939A (ja) * | 2003-04-22 | 2004-11-18 | Toyo Netsu Kogyo Kk | クリーンルーム |
| US8061830B2 (en) | 2006-03-15 | 2011-11-22 | Fujifilm Corporation | Ink-jet recording ink set and ink-jet recording method |
| US8545296B2 (en) | 2007-10-26 | 2013-10-01 | Panasonic Corporation | Clean room |
| JP2013050272A (ja) * | 2011-08-31 | 2013-03-14 | Taisei Corp | クリーンルーム |
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