JPH08247971A - 蛍光ｘ線分析装置 - Google Patents
蛍光ｘ線分析装置Info
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- JPH08247971A JPH08247971A JP5165495A JP5165495A JPH08247971A JP H08247971 A JPH08247971 A JP H08247971A JP 5165495 A JP5165495 A JP 5165495A JP 5165495 A JP5165495 A JP 5165495A JP H08247971 A JPH08247971 A JP H08247971A
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- rays
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 より簡単な構成で試料の１次元または２次元
分析をなしうる蛍光Ｘ線分析装置を提供する。 【構成】 Ｘ線管１から発生したＸ線は、スリット板２
ａのスリット２ｂを介してスポット状のＸ線となって試
料ＴＰに照射され、試料ＴＰから発生した蛍光Ｘ線は、
Ｘ線検出器４で検出され、その検出信号は計測アンプ５
で増幅され、データ処理部６で定性・定量分析が行われ
る。一方、スリット板２ａは支持台２ｄに配設されたス
テッピングモータ２ｃよって２次元平面上で駆動され、
これに合わせて前記スポット状のＸ線も試料ＴＰ上を２
次元的に走査される。ステッピングモータ２ｃは、モー
タドライバを介してＸＹ制御部７によって動作制御さ
れ、その位置情報はデータ処理部６に出力される。デー
タ処理部６は、得られた分析結果と、ＸＹ制御部７から
入力した位置情報に基づいて試料ＴＰに含有される元素
の２次元分布をディスプレイ９に表示させる。
分析をなしうる蛍光Ｘ線分析装置を提供する。 【構成】 Ｘ線管１から発生したＸ線は、スリット板２
ａのスリット２ｂを介してスポット状のＸ線となって試
料ＴＰに照射され、試料ＴＰから発生した蛍光Ｘ線は、
Ｘ線検出器４で検出され、その検出信号は計測アンプ５
で増幅され、データ処理部６で定性・定量分析が行われ
る。一方、スリット板２ａは支持台２ｄに配設されたス
テッピングモータ２ｃよって２次元平面上で駆動され、
これに合わせて前記スポット状のＸ線も試料ＴＰ上を２
次元的に走査される。ステッピングモータ２ｃは、モー
タドライバを介してＸＹ制御部７によって動作制御さ
れ、その位置情報はデータ処理部６に出力される。デー
タ処理部６は、得られた分析結果と、ＸＹ制御部７から
入力した位置情報に基づいて試料ＴＰに含有される元素
の２次元分布をディスプレイ９に表示させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、試料にＸ線を照射する
ことで発生する蛍光Ｘ線から、試料に含まれる元素の定
性・定量分析を行うための蛍光Ｘ線分析装置に関する。
ことで発生する蛍光Ｘ線から、試料に含まれる元素の定
性・定量分析を行うための蛍光Ｘ線分析装置に関する。
【０００２】
【従来技術】Ｘ線を物質に照射すると、一部のＸ線は吸
収され他の一部のＸ線は透過するが、物質に吸収された
Ｘ線エネルギーは２次効果のＸ線やβ線、あるいは熱な
どに変換される。ここで、二次Ｘ線の一種である蛍光Ｘ
線は、入射一次Ｘ線の照射によって物質内の原子がその
深い電子軌道から光電効果により電子を放出して高エネ
ルギー準位に励起され、再び安定準位に戻るときに発生
するものであるが、発生した蛍光Ｘ線の波長と元素が特
有の関係にあることから、これらの関係を利用すれば検
出した蛍光Ｘ線から波長元素の定性・定量分析が可能と
なる。
収され他の一部のＸ線は透過するが、物質に吸収された
Ｘ線エネルギーは２次効果のＸ線やβ線、あるいは熱な
どに変換される。ここで、二次Ｘ線の一種である蛍光Ｘ
線は、入射一次Ｘ線の照射によって物質内の原子がその
深い電子軌道から光電効果により電子を放出して高エネ
ルギー準位に励起され、再び安定準位に戻るときに発生
するものであるが、発生した蛍光Ｘ線の波長と元素が特
有の関係にあることから、これらの関係を利用すれば検
出した蛍光Ｘ線から波長元素の定性・定量分析が可能と
なる。
【０００３】図５は、かかる原理を利用した従来の蛍光
Ｘ線分析装置において、マッピング機能を有する蛍光Ｘ
線分析装置を示した概略図である。Ｘ線管１１は高電圧
源１５により高電圧を印加されており、このＸ線管１１
から発生したＸ線は、Ｘ線導波管１２でスポット状のＸ
線に絞られ、試料ＴＰに照射される。試料ＴＰのＸ線が
照射された部分から発生した蛍光Ｘ線は、検出器１４で
検出され、その検出信号は波形処理・エネルギー解析装
置１６において波形成形やパルスカウントがされた後、
インターフェース１７を介してパーソナルコンピュータ
１８でＢＧ処理、ピーク分離等種々の処理がなされるこ
とにより解析され、試料ＴＰに含まれる元素の定性・定
量分析が行われる。
Ｘ線分析装置において、マッピング機能を有する蛍光Ｘ
線分析装置を示した概略図である。Ｘ線管１１は高電圧
源１５により高電圧を印加されており、このＸ線管１１
から発生したＸ線は、Ｘ線導波管１２でスポット状のＸ
線に絞られ、試料ＴＰに照射される。試料ＴＰのＸ線が
照射された部分から発生した蛍光Ｘ線は、検出器１４で
検出され、その検出信号は波形処理・エネルギー解析装
置１６において波形成形やパルスカウントがされた後、
インターフェース１７を介してパーソナルコンピュータ
１８でＢＧ処理、ピーク分離等種々の処理がなされるこ
とにより解析され、試料ＴＰに含まれる元素の定性・定
量分析が行われる。
【０００４】一方、試料ＴＰの２次元分析を行うため、
試料ＴＰは試料ステージ１３を介してステージドライバ
１３ａによって２次元的に走査されるよう構成されい
る。
試料ＴＰは試料ステージ１３を介してステージドライバ
１３ａによって２次元的に走査されるよう構成されい
る。
【０００５】試料ステージ１３は、例えば図６に示され
るように、試料ＴＰが載置される試料台１３ａがガイド
１３ｅ，ネジ棒１３ｂ’を介してモータ１３ｂによりＹ
方向に移動可能に構成され、さらに、これらの試料台１
３ａ，ガイド１３ｅ，及びモータ１３ｂを載置した移動
ステージ１３ａ’がガイド１３ｄ，ネジ棒１３ｃ’を介
してモータ１３ｃによってＸ方向に移動可能に構成さ
れ、これらは基台１３ｆに配設されている。そして、モ
ータ１３ｂ及び１３ｃを適宜制御することにより試料Ｔ
Ｐの２次元走査が可能となる。
るように、試料ＴＰが載置される試料台１３ａがガイド
１３ｅ，ネジ棒１３ｂ’を介してモータ１３ｂによりＹ
方向に移動可能に構成され、さらに、これらの試料台１
３ａ，ガイド１３ｅ，及びモータ１３ｂを載置した移動
ステージ１３ａ’がガイド１３ｄ，ネジ棒１３ｃ’を介
してモータ１３ｃによってＸ方向に移動可能に構成さ
れ、これらは基台１３ｆに配設されている。そして、モ
ータ１３ｂ及び１３ｃを適宜制御することにより試料Ｔ
Ｐの２次元走査が可能となる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、一般に
蛍光Ｘ線分析装置では、大きな岩石や金属塊等比較的重
い試料を分析する場合が多いため、従来装置では、試料
台１３ａを駆動するのに、駆動系すべてを大型化する必
要が生じ、装置全体が大型化し、コストアップを引き起
こすという問題があった。
蛍光Ｘ線分析装置では、大きな岩石や金属塊等比較的重
い試料を分析する場合が多いため、従来装置では、試料
台１３ａを駆動するのに、駆動系すべてを大型化する必
要が生じ、装置全体が大型化し、コストアップを引き起
こすという問題があった。
【０００７】そこで、本発明は、これらの問題点を解消
するために創案されたものであって、より簡単な構成で
試料の１次元または２次元分析をなしうる蛍光Ｘ線分析
装置の提供を目的とする。
するために創案されたものであって、より簡単な構成で
試料の１次元または２次元分析をなしうる蛍光Ｘ線分析
装置の提供を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、Ｘ線を試料に
照射するＸ線管と、Ｘ線照射により試料から発生した蛍
光Ｘ線を検出するＸ線検出器と、Ｘ線検出器の検出信号
を解析して試料の定性・定量分析を行う処理部とを備え
た蛍光Ｘ線分析装置であって、前記試料に照射されるＸ
線をスポット状に制限するＸ線制手段と、前記Ｘ線制手
段を移動させることにより前記スポット状に制限された
Ｘ線を試料上で走査する走査手段と、を備えたことを特
徴とする。
照射するＸ線管と、Ｘ線照射により試料から発生した蛍
光Ｘ線を検出するＸ線検出器と、Ｘ線検出器の検出信号
を解析して試料の定性・定量分析を行う処理部とを備え
た蛍光Ｘ線分析装置であって、前記試料に照射されるＸ
線をスポット状に制限するＸ線制手段と、前記Ｘ線制手
段を移動させることにより前記スポット状に制限された
Ｘ線を試料上で走査する走査手段と、を備えたことを特
徴とする。
【０００９】
【作用】本発明の作用を図１及び図２に基づいて説明す
る。Ｘ線管１から発生したＸ線は、スリット板２ａ（Ｘ
線制限手段）のスリット２ｂを介してスポット状のＸ線
となって試料ＴＰに照射され、試料ＴＰのＸ線が照射さ
れた部分から発生した蛍光Ｘ線は、Ｘ線検出器４で検出
され、その検出信号は計測アンプ５で増幅され、データ
処理部６で定性・定量分析が行われる。
る。Ｘ線管１から発生したＸ線は、スリット板２ａ（Ｘ
線制限手段）のスリット２ｂを介してスポット状のＸ線
となって試料ＴＰに照射され、試料ＴＰのＸ線が照射さ
れた部分から発生した蛍光Ｘ線は、Ｘ線検出器４で検出
され、その検出信号は計測アンプ５で増幅され、データ
処理部６で定性・定量分析が行われる。
【００１０】所定の処理を受けた後、ディスプレイ９に
結果が表示される。
結果が表示される。
【００１１】一方、スリット板２ａは支持台２ｄに配設
されたステッピングモータ２ｃ（走査手段）よって２次
元平面上で駆動され、これに合わせて前記スポット状の
Ｘ線も試料ＴＰ上を２次元的に走査される。ステッピン
グモータ２ｃは、モータドライバを介してＸＹ制御部７
によって動作制御され、その位置情報はデータ処理部６
に出力される。
されたステッピングモータ２ｃ（走査手段）よって２次
元平面上で駆動され、これに合わせて前記スポット状の
Ｘ線も試料ＴＰ上を２次元的に走査される。ステッピン
グモータ２ｃは、モータドライバを介してＸＹ制御部７
によって動作制御され、その位置情報はデータ処理部６
に出力される。
【００１２】データ処理部６は、得られた分析結果と、
ＸＹ制御部７から入力した位置情報に基づいて試料ＴＰ
に含有される元素の２次元分布をディスプレイ９に表示
させる。
ＸＹ制御部７から入力した位置情報に基づいて試料ＴＰ
に含有される元素の２次元分布をディスプレイ９に表示
させる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１〜図４に基づ
いて説明する。
いて説明する。
【００１４】図１は本発明にかかる蛍光Ｘ線分析装置の
全体構成図で、Ｘ線管１は、その内部に配設されたフィ
ラメント１ａから発生した電子をターゲット１ｂに衝突
させることによりＢｅ窓を介してＸ線を発生する。
全体構成図で、Ｘ線管１は、その内部に配設されたフィ
ラメント１ａから発生した電子をターゲット１ｂに衝突
させることによりＢｅ窓を介してＸ線を発生する。
【００１５】Ｘ線走査器２は、支持台２ｄ，ステッピン
グモータ２ｃ，及びスリット板２ａから構成される。ス
リット板２ａはＸ線を透過しない材料、例えば鉛等によ
って構成され、さらに試料ＴＰに面する位置にスポット
状のスリット２ｂが穿設されており、Ｘ線管１から照射
されたＸ線はこのスリット２ｂを介してスポット状に制
限される。また、スリット板２ａは、ステッピングモー
タ２ｃによって支持台２ｄ上を２次元的に移動可能に構
成されており、このスリット板２ａの移動に合わせて、
スリット２ｂによりスポット状に制限されたＸ線は、試
料台３に載置された試料ＴＰ上を２次元的に走査される
こととなる。
グモータ２ｃ，及びスリット板２ａから構成される。ス
リット板２ａはＸ線を透過しない材料、例えば鉛等によ
って構成され、さらに試料ＴＰに面する位置にスポット
状のスリット２ｂが穿設されており、Ｘ線管１から照射
されたＸ線はこのスリット２ｂを介してスポット状に制
限される。また、スリット板２ａは、ステッピングモー
タ２ｃによって支持台２ｄ上を２次元的に移動可能に構
成されており、このスリット板２ａの移動に合わせて、
スリット２ｂによりスポット状に制限されたＸ線は、試
料台３に載置された試料ＴＰ上を２次元的に走査される
こととなる。
【００１６】なお、図２に示されるように、試料ＴＰに
照射されるＸ線のスポット径Ｄは、Ｘ線源のスポット径
をｄ1 ，スリット２ｂの径をｄ2 ，Ｘ線源とスリット２
ｂとの距離をＬ1,スリット２ｂと試料ＴＰとの距離をＬ
2 とすると Ｄ＝（Ｌ1 ・ｄ2 ＋Ｌ2 ・（ｄ1 ＋ｄ2 ））／Ｌ1 となるため、空間分解能を向上させるにはｄ1,ｄ2 を小
さくすると共に、Ｌ2 を小さくすればよい。例えば、ｄ
1 ＝ｄ2 ＝０．１ｍｍ、Ｌ1 ＝Ｌ2 ＝２０ｍｍとすると
Ｄ＝０．３ｍｍ程度の分解能が得られる。このため、図
１に示される実施例では、下に凸の形に形成したスリッ
ト板２ａの下部にスリット２ｂを穿設することで、スリ
ット２ｂと試料ＴＰとの距離をＬ2 を小さくしている。
照射されるＸ線のスポット径Ｄは、Ｘ線源のスポット径
をｄ1 ，スリット２ｂの径をｄ2 ，Ｘ線源とスリット２
ｂとの距離をＬ1,スリット２ｂと試料ＴＰとの距離をＬ
2 とすると Ｄ＝（Ｌ1 ・ｄ2 ＋Ｌ2 ・（ｄ1 ＋ｄ2 ））／Ｌ1 となるため、空間分解能を向上させるにはｄ1,ｄ2 を小
さくすると共に、Ｌ2 を小さくすればよい。例えば、ｄ
1 ＝ｄ2 ＝０．１ｍｍ、Ｌ1 ＝Ｌ2 ＝２０ｍｍとすると
Ｄ＝０．３ｍｍ程度の分解能が得られる。このため、図
１に示される実施例では、下に凸の形に形成したスリッ
ト板２ａの下部にスリット２ｂを穿設することで、スリ
ット２ｂと試料ＴＰとの距離をＬ2 を小さくしている。
【００１７】Ｘ線検出器４は、試料ＴＰから発生した蛍
光Ｘ線を検出し、その波長及び強度に応じた検出信号と
して出力する。ここで、Ｘ線検出器４は、波長分散型と
エネルギー分散型のものがあり、前者は、分光結晶等に
よって特定波長のＸ線を選別して出力し、後者は特定エ
ネルギのＸ線を選別して出力するものである。
光Ｘ線を検出し、その波長及び強度に応じた検出信号と
して出力する。ここで、Ｘ線検出器４は、波長分散型と
エネルギー分散型のものがあり、前者は、分光結晶等に
よって特定波長のＸ線を選別して出力し、後者は特定エ
ネルギのＸ線を選別して出力するものである。
【００１８】計測アンプ５は、Ｘ線検出器４の出力を計
測波形成形或いは増幅してデータ処理部６に出力する。
測波形成形或いは増幅してデータ処理部６に出力する。
【００１９】一方、ＸＹ制御部７はモータドライバ８を
介してステッピングモータ２ｃを駆動制御し、スリット
板２ａの２次元的に移動を介してスポット状に制限され
たＸ線を試料ＴＰ上で２次元走査すると共に、その位置
情報を逐一データ処理部６に出力する。
介してステッピングモータ２ｃを駆動制御し、スリット
板２ａの２次元的に移動を介してスポット状に制限され
たＸ線を試料ＴＰ上で２次元走査すると共に、その位置
情報を逐一データ処理部６に出力する。
【００２０】データ処理部６は、計測アンプ５の出力信
号から試料ＴＰに含まれる元素の定量・定性分析を行う
と共に、ＸＹ制御部７から出力されたＸ線照射位置に関
する信号に基づいて、ディスプレイ９に対して、分析結
果を所定画面上に表示するよう指示を与える。
号から試料ＴＰに含まれる元素の定量・定性分析を行う
と共に、ＸＹ制御部７から出力されたＸ線照射位置に関
する信号に基づいて、ディスプレイ９に対して、分析結
果を所定画面上に表示するよう指示を与える。
【００２１】ディスプレイ９はデータ処理部６からの指
示を受けて、試料ＴＰに含有される元素の２次元分布等
を表示する。
示を受けて、試料ＴＰに含有される元素の２次元分布等
を表示する。
【００２２】次に、本発明の動作を図１に基づいて説明
する。Ｘ線管１から発生したＸ線は、スリット板２ａに
穿設されたスリット２ｂを介してスポット状のＸ線とな
って試料ＴＰに照射され、試料ＴＰのＸ線が照射された
部分から発生した蛍光Ｘ線は、Ｘ線検出器４で検出さ
れ、その検出信号は計測アンプ５で計測，増幅され、デ
ータ処理部６で所定の処理を受ける。
する。Ｘ線管１から発生したＸ線は、スリット板２ａに
穿設されたスリット２ｂを介してスポット状のＸ線とな
って試料ＴＰに照射され、試料ＴＰのＸ線が照射された
部分から発生した蛍光Ｘ線は、Ｘ線検出器４で検出さ
れ、その検出信号は計測アンプ５で計測，増幅され、デ
ータ処理部６で所定の処理を受ける。
【００２３】一方、スリット板２ａは支持台２ｄに配設
されたステッピングモータ２ｃによって２次元平面上で
駆動され、これに合わせて前記スポット状のＸ線も試料
ＴＰ上を２次元状に走査される。ステッピングモータ２
ｃは、モータドライバ８を介してＸＹ制御部７によって
動作制御されており、また、その位置情報はＸＹ制御部
７からデータ処理部６に出力されている。
されたステッピングモータ２ｃによって２次元平面上で
駆動され、これに合わせて前記スポット状のＸ線も試料
ＴＰ上を２次元状に走査される。ステッピングモータ２
ｃは、モータドライバ８を介してＸＹ制御部７によって
動作制御されており、また、その位置情報はＸＹ制御部
７からデータ処理部６に出力されている。
【００２４】データ処理部６は、Ｘ線照射位置に関する
信号に基づいて、ディスプレイ９に対して、分析結果を
所定画面上に表示するよう指示を与え、ディスプレイ９
は試料ＴＰに含有される元素の２次元分布を表示する。
信号に基づいて、ディスプレイ９に対して、分析結果を
所定画面上に表示するよう指示を与え、ディスプレイ９
は試料ＴＰに含有される元素の２次元分布を表示する。
【００２５】ここで、本発明によれば、試料ＴＰに含有
される元素の２次元分析を行うのに、試料ＴＰを動かす
のではなく、スリット２ｂが穿設されただけの構造が簡
単で軽量なスリット板２ａを走査すればよいため、走査
機構をより簡略化できると共に、試料ＴＰに照射するＸ
線の走査を高速に行うことが可能となり、試料ＴＰに含
有される元素の２次元分布をより高速に得ることができ
る。
される元素の２次元分析を行うのに、試料ＴＰを動かす
のではなく、スリット２ｂが穿設されただけの構造が簡
単で軽量なスリット板２ａを走査すればよいため、走査
機構をより簡略化できると共に、試料ＴＰに照射するＸ
線の走査を高速に行うことが可能となり、試料ＴＰに含
有される元素の２次元分布をより高速に得ることができ
る。
【００２６】なお、本発明は上述した実施例に限定され
るものではなく、以下のように変形することも可能であ
る。すなわち、Ｘ線を試料に照射するＸ線管と、Ｘ線照
射により試料から発生した蛍光Ｘ線を検出するＸ線検出
器と、Ｘ線検出器の検出信号を解析して試料の定性・定
量分析を行う処理部とを備えた蛍光Ｘ線分析装置におい
て、前記Ｘ線管と試料との間に配設され、線状のスリッ
トが形成された第１のスリット板と、このスリットと平
行でない方向、例えば直交する方向に前記第１のスリッ
ト板を移動させる第１の駆動手段と、前記第１のスリッ
ト板と試料との間に配設され、前記スリットと平行でな
い方向に線状のスリットが形成された第２のスリット板
と、この第２のスリット板に形成したスリットと平行で
ない方向にこの第２のスリット板を移動させる第２の駆
動手段と、を備え、かかる第１，第２の駆動手段により
２つのスリット板を適宜移動させることでスポット状に
制限されたＸ線を試料上で走査するよう構成したことを
特徴とする蛍光Ｘ線分析装置。
るものではなく、以下のように変形することも可能であ
る。すなわち、Ｘ線を試料に照射するＸ線管と、Ｘ線照
射により試料から発生した蛍光Ｘ線を検出するＸ線検出
器と、Ｘ線検出器の検出信号を解析して試料の定性・定
量分析を行う処理部とを備えた蛍光Ｘ線分析装置におい
て、前記Ｘ線管と試料との間に配設され、線状のスリッ
トが形成された第１のスリット板と、このスリットと平
行でない方向、例えば直交する方向に前記第１のスリッ
ト板を移動させる第１の駆動手段と、前記第１のスリッ
ト板と試料との間に配設され、前記スリットと平行でな
い方向に線状のスリットが形成された第２のスリット板
と、この第２のスリット板に形成したスリットと平行で
ない方向にこの第２のスリット板を移動させる第２の駆
動手段と、を備え、かかる第１，第２の駆動手段により
２つのスリット板を適宜移動させることでスポット状に
制限されたＸ線を試料上で走査するよう構成したことを
特徴とする蛍光Ｘ線分析装置。
【００２７】図３は、かかる構成の蛍光Ｘ線分析装置に
おいて図１のＸ線走査器２に相当する構成を示す一実施
例であり、Ｘ線管１の下部には、凹状に形成され支持台
２ｄが配設されており、この支持台２ｄの上段部を跨い
で取り付けられたガイド２ｅ’上にスリット板２ａ’が
移動可能に配設されている。スリット板２ａには、この
ガイド２ｅ’と直交する方向に線状のスリット２ｂ’が
形成されており、このスリット２ｂ’は、モータ２ｃ’
によりこのガイド２ｅ’上を駆動される。
おいて図１のＸ線走査器２に相当する構成を示す一実施
例であり、Ｘ線管１の下部には、凹状に形成され支持台
２ｄが配設されており、この支持台２ｄの上段部を跨い
で取り付けられたガイド２ｅ’上にスリット板２ａ’が
移動可能に配設されている。スリット板２ａには、この
ガイド２ｅ’と直交する方向に線状のスリット２ｂ’が
形成されており、このスリット２ｂ’は、モータ２ｃ’
によりこのガイド２ｅ’上を駆動される。
【００２８】また、支持台２ｄの下段部には上述したガ
イド２ｅ’と直交する方向に２つのガイド２ｅ”が取り
付けられている。このガイド２ｅ”上には、前記線状の
スリット２ｂ’と直交する方向に線状のスリット２ｂ”
が形成されたスリット板２ａ”が移動可能に配設されて
おり、このスリット板２ａはモータ２ｃ”によりこのガ
イド２ｅ”上を駆動される。
イド２ｅ’と直交する方向に２つのガイド２ｅ”が取り
付けられている。このガイド２ｅ”上には、前記線状の
スリット２ｂ’と直交する方向に線状のスリット２ｂ”
が形成されたスリット板２ａ”が移動可能に配設されて
おり、このスリット板２ａはモータ２ｃ”によりこのガ
イド２ｅ”上を駆動される。
【００２９】ここで、支持台２ｄは中央にＸ線透過用穴
２ｆが穿設されており、スリット板２ｂ’，２ｂ”は、
鉛等のＸ線が透過しない材料によって構成されている。
２ｆが穿設されており、スリット板２ｂ’，２ｂ”は、
鉛等のＸ線が透過しない材料によって構成されている。
【００３０】以上の構成によれば、スリット板２ａ’に
形成したスリット２ｂ’によって、Ｘ線管１から発生し
たＸ線は線状になり、さらにスリット板２ａ”に形成し
たスリット２ｂ”によってスポット状のＸ線となる。こ
のため、モータ２ｃ’，２ｃ”を適宜制御することによ
り、スポット状に制限したＸ線を試料ＴＰ上で２次元的
に走査することが可能となる。
形成したスリット２ｂ’によって、Ｘ線管１から発生し
たＸ線は線状になり、さらにスリット板２ａ”に形成し
たスリット２ｂ”によってスポット状のＸ線となる。こ
のため、モータ２ｃ’，２ｃ”を適宜制御することによ
り、スポット状に制限したＸ線を試料ＴＰ上で２次元的
に走査することが可能となる。
【００３１】そして、かかる構成を採用すれば、軽量で
小型のスリット板とこれを駆動するモータを２組用いる
だけでスポット状に制限したＸ線を走査することができ
るため、従来例の図６で示したように移動ステージ１３
ａ’と試料台１３ａの２つを移動させると共に、試料台
１３ａの駆動系を移動ステージ１３ａ’に載置しなけれ
ばならないといった複雑な機構が不要となり、全体構成
を非常に簡略化できると共に、試料ＴＰ上でＸ線を非常
に高速に走査することが可能となる。
小型のスリット板とこれを駆動するモータを２組用いる
だけでスポット状に制限したＸ線を走査することができ
るため、従来例の図６で示したように移動ステージ１３
ａ’と試料台１３ａの２つを移動させると共に、試料台
１３ａの駆動系を移動ステージ１３ａ’に載置しなけれ
ばならないといった複雑な機構が不要となり、全体構成
を非常に簡略化できると共に、試料ＴＰ上でＸ線を非常
に高速に走査することが可能となる。
【００３２】また、本発明は上述した実施例の他に、以
下のように変形することも可能である。すなわち、Ｘ線
を試料に照射するＸ線管と、Ｘ線照射により試料から発
生した蛍光Ｘ線を検出するＸ線検出器と、Ｘ線検出器の
検出信号を解析して試料の定性・定量分析を行う処理部
とを備えた蛍光Ｘ線分析装置において、前記Ｘ線管から
のＸ線をスポット状に制限して試料ＴＰ上に照射するＸ
線導波管と、このＸ線管のＸ線発生部付近を中心として
Ｘ線出射部を円上或いは球面状に移動させる駆動手段
と、を備え、このＸ線導波管を適宜移動させることでス
ポット状に制限されたＸ線を試料上で走査するよう構成
したことを特徴とする蛍光Ｘ線分析装置。
下のように変形することも可能である。すなわち、Ｘ線
を試料に照射するＸ線管と、Ｘ線照射により試料から発
生した蛍光Ｘ線を検出するＸ線検出器と、Ｘ線検出器の
検出信号を解析して試料の定性・定量分析を行う処理部
とを備えた蛍光Ｘ線分析装置において、前記Ｘ線管から
のＸ線をスポット状に制限して試料ＴＰ上に照射するＸ
線導波管と、このＸ線管のＸ線発生部付近を中心として
Ｘ線出射部を円上或いは球面状に移動させる駆動手段
と、を備え、このＸ線導波管を適宜移動させることでス
ポット状に制限されたＸ線を試料上で走査するよう構成
したことを特徴とする蛍光Ｘ線分析装置。
【００３３】図４は、かかる構成の蛍光Ｘ線分析装置に
おいて、図１のＸ線走査器２に相当する構成を示す一実
施例であり、Ｘ線管１の下部には、球面状の球面支持台
２２ｂが配設されており、ガラスキャピラリ等からなる
Ｘ線導波管２１を保持する導波管支持板２２ａが不図示
の駆動手段によって球面支持台２２ｂ上を２次元的に移
動するよう構成されている。これによって、Ｘ線管１の
ターゲット１ｂから発生したＸ線は、Ｘ線導波管２１に
よってスポット状に制限された後、試料ＴＰに照射され
るとともに、導波管支持板２２ａの移動により照射され
たＸ線は試料ＴＰ上を２次元的に走査されることとな
る。
おいて、図１のＸ線走査器２に相当する構成を示す一実
施例であり、Ｘ線管１の下部には、球面状の球面支持台
２２ｂが配設されており、ガラスキャピラリ等からなる
Ｘ線導波管２１を保持する導波管支持板２２ａが不図示
の駆動手段によって球面支持台２２ｂ上を２次元的に移
動するよう構成されている。これによって、Ｘ線管１の
ターゲット１ｂから発生したＸ線は、Ｘ線導波管２１に
よってスポット状に制限された後、試料ＴＰに照射され
るとともに、導波管支持板２２ａの移動により照射され
たＸ線は試料ＴＰ上を２次元的に走査されることとな
る。
【００３４】なお、上述した実施例では、Ｘ線を１次元
或いは２次元的に走査した場合、試料上のＸ線照射位置
とＸ線検出器との距離が変化するが、Ｘ線検出器による
Ｘ線の検出量は、試料と検出器間の距離に反比例するた
め、試料上のＸ線照射位置によって検出強度が若干変動
することとなる。
或いは２次元的に走査した場合、試料上のＸ線照射位置
とＸ線検出器との距離が変化するが、Ｘ線検出器による
Ｘ線の検出量は、試料と検出器間の距離に反比例するた
め、試料上のＸ線照射位置によって検出強度が若干変動
することとなる。
【００３５】このため、図１のデータ処理装置６におい
て、Ｘ線照射位置とＸ線検出器４間の距離ＬをＸＹ制御
器７からのデータに基づいて計算し、検出データｎに対
して、 ｎ／Ｌ2 のデータ処理を施せば、より正確な分析結果が得られ
る。
て、Ｘ線照射位置とＸ線検出器４間の距離ＬをＸＹ制御
器７からのデータに基づいて計算し、検出データｎに対
して、 ｎ／Ｌ2 のデータ処理を施せば、より正確な分析結果が得られ
る。
【００３６】また、予め、試料上のＸ線照射位置（ｘ，
ｙ）に対して、例えば元素成分が均一のキャリブレーシ
ョン用の試料を用いて得られた強度関数ｆ（ｘ，ｙ）を
データ処理部６に記憶しておき、検出データｎに対し
て、 ｎ／ｆ（ｘ，ｙ） なるデータ処理を施すようにしても良い。
ｙ）に対して、例えば元素成分が均一のキャリブレーシ
ョン用の試料を用いて得られた強度関数ｆ（ｘ，ｙ）を
データ処理部６に記憶しておき、検出データｎに対し
て、 ｎ／ｆ（ｘ，ｙ） なるデータ処理を施すようにしても良い。
【００３７】以上の処理機能を例えば図１に示されるデ
ータ処理部６に行わせれば、蛍光Ｘ線の強度変化が補正
されたデータに基づいて分析動作が行われるため、より
高精度な分析結果が得られる。
ータ処理部６に行わせれば、蛍光Ｘ線の強度変化が補正
されたデータに基づいて分析動作が行われるため、より
高精度な分析結果が得られる。
【００３８】
【発明の効果】本発明によれば、試料に照射されるＸ線
をスポット状に制限するＸ線制手段を設け、これを移動
させることによりスポット状のＸ線を試料上で走査する
よう構成したため、蛍光Ｘ線分析装置において、より簡
単な構成で試料の２次元分析がなし得ると共に、Ｘ線制
限手段は単にＸ線を制限するもので比較的軽量であるこ
とから、Ｘ線の高速走査が可能となる。
をスポット状に制限するＸ線制手段を設け、これを移動
させることによりスポット状のＸ線を試料上で走査する
よう構成したため、蛍光Ｘ線分析装置において、より簡
単な構成で試料の２次元分析がなし得ると共に、Ｘ線制
限手段は単にＸ線を制限するもので比較的軽量であるこ
とから、Ｘ線の高速走査が可能となる。
【図１】本発明にかかる蛍光Ｘ線分析装置の一例を示す
図である。
図である。
【図２】Ｘ線源と試料間の距離に対する試料への照射ス
ポット径の関係を示す図である。
ポット径の関係を示す図である。
【図３】本発明にかかるＸ線制限手段及び走査手段の変
形例である。
形例である。
【図４】本発明にかかるＸ線制限手段及び走査手段の変
形例である。
形例である。
【図５】従来の蛍光Ｘ線分析装置の一例を示す図であ
る。
る。
【図６】蛍光Ｘ線分析装置の試料ステージを示す図であ
る。
る。
ＴＰ・・・試料 １・・・・Ｘ線管 ２・・・・Ｘ線走査器 ３・・・・試料台 ４・・・・Ｘ線検出器 ５・・・・計測アンプ ６・・・・データ処理手段 ７・・・・ＸＹ制御部 ８・・・・モータドライバ ９・・・・ディスプレイ
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｘ線を試料に照射するＸ線管と、Ｘ線照
射により試料から発生した蛍光Ｘ線を検出するＸ線検出
器と、このＸ線検出器の検出信号を解析して試料の定性
・定量分析を行う処理部とを備えた蛍光Ｘ線分析装置に
おいて、 試料に照射されるＸ線をスポット状に制限するＸ線制限
手段と、前記Ｘ線制限手段を移動させることにより前記
スポット状に制限されたＸ線を試料上で走査する走査手
段と、を備えたことを特徴とする蛍光Ｘ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5165495A JPH08247971A (ja) | 1995-03-13 | 1995-03-13 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5165495A JPH08247971A (ja) | 1995-03-13 | 1995-03-13 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08247971A true JPH08247971A (ja) | 1996-09-27 |
Family
ID=12892870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5165495A Pending JPH08247971A (ja) | 1995-03-13 | 1995-03-13 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08247971A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10200237A1 (de) * | 2002-01-05 | 2003-07-24 | Apc Analytische Produktions St | Verfahren und Vorrichtung zur Röntgenfloureszenzanalyse von mineralischen Schüttgütern |
| WO2020084890A1 (ja) * | 2018-10-25 | 2020-04-30 | 株式会社堀場製作所 | Ｘ線分析装置及びｘ線発生ユニット |
| US12167923B2 (en) | 2021-07-13 | 2024-12-17 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Backscattered X-ray imaging device based on multi-sources |
-
1995
- 1995-03-13 JP JP5165495A patent/JPH08247971A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10200237A1 (de) * | 2002-01-05 | 2003-07-24 | Apc Analytische Produktions St | Verfahren und Vorrichtung zur Röntgenfloureszenzanalyse von mineralischen Schüttgütern |
| DE10200237B4 (de) * | 2002-01-05 | 2006-11-30 | APC Analytische Produktions-Steuerungs- und Controllgeräte GmbH | Vorrichtung zur Röntgenfloureszenzanalyse von mineralischen Schüttgütern |
| WO2020084890A1 (ja) * | 2018-10-25 | 2020-04-30 | 株式会社堀場製作所 | Ｘ線分析装置及びｘ線発生ユニット |
| JPWO2020084890A1 (ja) * | 2018-10-25 | 2021-09-16 | 株式会社堀場製作所 | Ｘ線分析装置及びｘ線発生ユニット |
| US11467107B2 (en) | 2018-10-25 | 2022-10-11 | Horiba, Ltd. | X-ray analysis apparatus and x-ray generation unit |
| US12167923B2 (en) | 2021-07-13 | 2024-12-17 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Backscattered X-ray imaging device based on multi-sources |
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