JPH08248645A - レジスト硬化膜の剥離液 - Google Patents
レジスト硬化膜の剥離液Info
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- JPH08248645A JPH08248645A JP5137995A JP5137995A JPH08248645A JP H08248645 A JPH08248645 A JP H08248645A JP 5137995 A JP5137995 A JP 5137995A JP 5137995 A JP5137995 A JP 5137995A JP H08248645 A JPH08248645 A JP H08248645A
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- 239000000243 solution Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 14
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 4
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 abstract 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- -1 amine compound Chemical class 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropoxy)propane Chemical compound CC(C)COCC(C)C SZNYYWIUQFZLLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHAPGMVKBLELOE-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylpropoxy)ethanol Chemical compound CC(C)COCCO HHAPGMVKBLELOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJCYDDALXPHSHR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-propoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCOCCOCCO DJCYDDALXPHSHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDLXTDLGTWNUFM-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]ethanol Chemical compound CC(C)(C)OCCO BDLXTDLGTWNUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COBPKKZHLDDMTB-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-butoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCOCCO COBPKKZHLDDMTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCOCCOCCOCCO WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJTIFIMHZHDNQZ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylpropoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CC(C)COCCOCCO YJTIFIMHZHDNQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FETMDPWILVCFLL-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-propan-2-yloxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CC(C)OCCOCCOCCO FETMDPWILVCFLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCBPVRDDYVJQHA-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-propoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCCOCCOCCOCCO KCBPVRDDYVJQHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GICQWELXXKHZIN-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]ethoxy]ethanol Chemical compound CC(C)(C)OCCOCCO GICQWELXXKHZIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSQCKFRRGUFBEE-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]ethoxy]ethoxy]ethanol Chemical compound CC(C)(C)OCCOCCOCCO JSQCKFRRGUFBEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001111 Fine metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229920005684 linear copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 剥離時間が短くて、硬化膜の厚みが薄い場合
においても剥離片の細分化が可能であって、金属網等の
目詰まりが少ない剥離液を提供する。 【構成】 アルカリ水溶液現像型の光重合性組成物を基
体上に保持し、活性光線によってこの組成物を硬化させ
て得られる硬化膜を基体上から剥離するための剥離液で
あって、水、アルカリ金属水酸化物及び水混和性有機溶
剤を含有する剥離液。
においても剥離片の細分化が可能であって、金属網等の
目詰まりが少ない剥離液を提供する。 【構成】 アルカリ水溶液現像型の光重合性組成物を基
体上に保持し、活性光線によってこの組成物を硬化させ
て得られる硬化膜を基体上から剥離するための剥離液で
あって、水、アルカリ金属水酸化物及び水混和性有機溶
剤を含有する剥離液。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はレジスト硬化膜の剥離液
に関する。
に関する。
【0002】
【従来の技術】プリント配線板の製造方法として銅張積
層板などの基体上にアルカリ水溶液現像タイプのフォト
レジスト組成物を保持し、その一部を光硬化させてパタ
−ン形成し、未露光部を除去する方法が採用されてい
る。このフォトレジスト組成物としては例えば、水性ア
ルカリに可溶なアクリル系線状共重合体、末端エチレン
性不飽和単量体及び光開始剤を含有する光重合性組成物
が使用される。フォトレジスト組成物は基体上に塗布あ
るいはラミネートされ、活性光線により画像的に露光を
行って硬化膜とされる。その際未硬化部分は炭酸ソーダ
水溶液などにより除去され、基体に対しては必要に応じ
塩化第二鉄水溶液等でエッチング処理等が行われた後
に、剥離液を用いて基体から硬化膜を除去する工程がと
られている。
層板などの基体上にアルカリ水溶液現像タイプのフォト
レジスト組成物を保持し、その一部を光硬化させてパタ
−ン形成し、未露光部を除去する方法が採用されてい
る。このフォトレジスト組成物としては例えば、水性ア
ルカリに可溶なアクリル系線状共重合体、末端エチレン
性不飽和単量体及び光開始剤を含有する光重合性組成物
が使用される。フォトレジスト組成物は基体上に塗布あ
るいはラミネートされ、活性光線により画像的に露光を
行って硬化膜とされる。その際未硬化部分は炭酸ソーダ
水溶液などにより除去され、基体に対しては必要に応じ
塩化第二鉄水溶液等でエッチング処理等が行われた後
に、剥離液を用いて基体から硬化膜を除去する工程がと
られている。
【0003】また近年では、同様の工程を用いてフォト
エッチング法により金属微細加工をすることも試みられ
ている。
エッチング法により金属微細加工をすることも試みられ
ている。
【0004】このような硬化膜の剥離液としては、従来
から苛性ソーダ、苛性カリなどのアルカリ金属水酸化物
の水溶液が使用されている。また水、水混和性有機溶剤
及びアミン化合物を組み合わせた剥離液が提案されてい
る(特開昭64ー5695号公報)。
から苛性ソーダ、苛性カリなどのアルカリ金属水酸化物
の水溶液が使用されている。また水、水混和性有機溶剤
及びアミン化合物を組み合わせた剥離液が提案されてい
る(特開昭64ー5695号公報)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】剥離液は剥離能力が低
下するまで何度でも使用されるが、作業性を低下させな
いためには剥離液中の剥離片を除去することが必要であ
り、通常は金網等を用いて剥離片が除去される。ところ
で剥離液としてアルカリ金属水酸化物の水溶液を用いる
場合は、生成した剥離片がほぼ元の硬化膜の形状を保っ
ているために金網を目詰まりさせ、濾過作業性を低下さ
せる点が問題である。また剥離片が剥離装置の配管パイ
プに詰まりやすいという点も問題である。
下するまで何度でも使用されるが、作業性を低下させな
いためには剥離液中の剥離片を除去することが必要であ
り、通常は金網等を用いて剥離片が除去される。ところ
で剥離液としてアルカリ金属水酸化物の水溶液を用いる
場合は、生成した剥離片がほぼ元の硬化膜の形状を保っ
ているために金網を目詰まりさせ、濾過作業性を低下さ
せる点が問題である。また剥離片が剥離装置の配管パイ
プに詰まりやすいという点も問題である。
【0006】一方、水、水混和性有機溶剤及びアミン化
合物を組み合わせた剥離液を用いる場合は剥離片は小さ
くなるもののアミン化合物を使用しているため臭気があ
り作業上の問題がある。
合物を組み合わせた剥離液を用いる場合は剥離片は小さ
くなるもののアミン化合物を使用しているため臭気があ
り作業上の問題がある。
【0007】更に光重合性組成物の硬化膜厚が薄い場合
は、剥離時間は短くなるものの剥離片は元の硬化膜の形
状を保ちがちなために金網の目詰まりの問題が避けがた
い。本発明の目的は、剥離時間が短くて、硬化膜の厚み
が薄い場合においても剥離片の細分化が可能であって、
金属網等の目詰まりが少ない剥離液を提供することにあ
る。
は、剥離時間は短くなるものの剥離片は元の硬化膜の形
状を保ちがちなために金網の目詰まりの問題が避けがた
い。本発明の目的は、剥離時間が短くて、硬化膜の厚み
が薄い場合においても剥離片の細分化が可能であって、
金属網等の目詰まりが少ない剥離液を提供することにあ
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、アルカ
リ水溶液現像型の光重合性組成物を基体上に保持し、活
性光線によってこの組成物を硬化させて得られる硬化膜
を基体上から剥離するための剥離液であって、水、アル
カリ金属水酸化物及び水混和性有機溶剤を含有する剥離
液にある。
リ水溶液現像型の光重合性組成物を基体上に保持し、活
性光線によってこの組成物を硬化させて得られる硬化膜
を基体上から剥離するための剥離液であって、水、アル
カリ金属水酸化物及び水混和性有機溶剤を含有する剥離
液にある。
【0009】本発明の剥離液において水の種類は特に限
定されず、水道水、蒸留水、イオン交換水、工業用水等
を単独でもしくは混合して使用することができる。アル
カリ金属水酸化物としては、苛性ソーダ、苛性カリ等が
使用される。
定されず、水道水、蒸留水、イオン交換水、工業用水等
を単独でもしくは混合して使用することができる。アル
カリ金属水酸化物としては、苛性ソーダ、苛性カリ等が
使用される。
【0010】剥離液中のアルカリ金属水酸化物/水の重
量比率は0.5/99.5〜5/95程度の範囲である
ことが好ましい。剥離片を小さくするため及び剥離液コ
ストを低く抑えるためにはアルカリ金属水酸化物の含有
量は少ない方が好ましい。また、剥離時間を短くするた
めにはアルカリ金属水酸化物の含有量は多い方が好まし
い。
量比率は0.5/99.5〜5/95程度の範囲である
ことが好ましい。剥離片を小さくするため及び剥離液コ
ストを低く抑えるためにはアルカリ金属水酸化物の含有
量は少ない方が好ましい。また、剥離時間を短くするた
めにはアルカリ金属水酸化物の含有量は多い方が好まし
い。
【0011】水混和性有機溶剤としてはエチレングリコ
ールモノエーテル、ジエチレングリコールモノエーテル
およびトリエチレングリコールモノエーテル等が単独で
もしくは混合して使用される。
ールモノエーテル、ジエチレングリコールモノエーテル
およびトリエチレングリコールモノエーテル等が単独で
もしくは混合して使用される。
【0012】エチレングリコールモノエーテルとして
は、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノ−n−ブチルエーテル、エチレングリコールモノ−n
−プロピルエーテル、エチレングリコールイソプロピル
エーテル、エチレングリコールイソブチルエーテル、エ
チレングリコールモノターシャリブチルエーテル等が用
いられる。
は、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノ−n−ブチルエーテル、エチレングリコールモノ−n
−プロピルエーテル、エチレングリコールイソプロピル
エーテル、エチレングリコールイソブチルエーテル、エ
チレングリコールモノターシャリブチルエーテル等が用
いられる。
【0013】ジエチレングリコールモノエーテルとして
は、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ール−n−プロピルエーテル、ジエチレングリコール−
n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールイソブチル
エーテル、ジエチレングリコールターシャリブチルエー
テル等が用いられる。
は、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ール−n−プロピルエーテル、ジエチレングリコール−
n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールイソブチル
エーテル、ジエチレングリコールターシャリブチルエー
テル等が用いられる。
【0014】トリエチレングリコールモノエーテルとし
ては、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ト
リエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレ
ングリコール−n−プロピルエーテル、トリエチレング
リコールイソプロピルエーテル、トリエチレングリコー
ル−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールイソ
ブチルエーテル、トリエチレングリコールターシャリブ
チルエーテル等が用いられる。
ては、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ト
リエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレ
ングリコール−n−プロピルエーテル、トリエチレング
リコールイソプロピルエーテル、トリエチレングリコー
ル−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールイソ
ブチルエーテル、トリエチレングリコールターシャリブ
チルエーテル等が用いられる。
【0015】これらの中でも剥離時間が短く剥離片が小
片化し易い点を考慮するとエチレングリコールモノブチ
ルエーテルが特に好ましい。
片化し易い点を考慮するとエチレングリコールモノブチ
ルエーテルが特に好ましい。
【0016】剥離液中の水混和性有機溶剤の量は水とア
ルカリ金属水酸化物の合計100重量部に対して2〜1
0重量部程度の範囲であることが好ましく、より好まし
くは3〜7重量部の範囲であり、さらに好ましくは5〜
6重量部の範囲である。剥離液のコストを考慮すると水
混和性有機溶剤の量は少ない方が好ましく、剥離時間を
短くしかつ剥離片を小さくするためには水混和性有機溶
剤の量は多い方が好ましい。
ルカリ金属水酸化物の合計100重量部に対して2〜1
0重量部程度の範囲であることが好ましく、より好まし
くは3〜7重量部の範囲であり、さらに好ましくは5〜
6重量部の範囲である。剥離液のコストを考慮すると水
混和性有機溶剤の量は少ない方が好ましく、剥離時間を
短くしかつ剥離片を小さくするためには水混和性有機溶
剤の量は多い方が好ましい。
【0017】本発明の剥離液には必要に応じて上記の成
分以外に消泡剤や界面活性剤等を含有させることができ
る。
分以外に消泡剤や界面活性剤等を含有させることができ
る。
【0018】本発明の剥離液を用いて基体表面上に保持
された硬化膜を剥離する方法としては、剥離液に前記基
体を浸漬する方法、前記基体を剥離液に浸漬し、エアー
バブリング、攪拌羽根、超音波振動等の攪拌によって、
剥離液を揺動する方法、前記基体表面上に剥離液を流下
させる方法、前記基体表面上に剥離液をスプレーする方
法等が挙げられる。
された硬化膜を剥離する方法としては、剥離液に前記基
体を浸漬する方法、前記基体を剥離液に浸漬し、エアー
バブリング、攪拌羽根、超音波振動等の攪拌によって、
剥離液を揺動する方法、前記基体表面上に剥離液を流下
させる方法、前記基体表面上に剥離液をスプレーする方
法等が挙げられる。
【0019】剥離液の温度は30〜70℃程度の範囲で
あることが好ましく、40〜60℃であることが特に好
ましい。剥離時間を短くするためには剥離液の温度は高
い方が好ましい。また、水混和性有機溶剤の揮発を防ぐ
ためには剥離液の温度は低い方が好ましい。
あることが好ましく、40〜60℃であることが特に好
ましい。剥離時間を短くするためには剥離液の温度は高
い方が好ましい。また、水混和性有機溶剤の揮発を防ぐ
ためには剥離液の温度は低い方が好ましい。
【0020】以下、実施例により本発明を説明する。
【0021】
実施例1並びに比較例1及び2 銅面を研磨し、清浄化した縦100mm、横100m
m、厚み1.6mmの銅張り積層板の銅面に、保護フィ
ルムを剥離して支持フィルムを上側にして感性フィルム
を温度120℃で積層した。感光性フィルムとしては、
縦80mm、横80mm、厚み10μmのアルカリ水溶
液現像タイプの感光性フィルムである三菱レイヨン株式
会社製のダイヤロン(DIALON)−FRA063を
用いた。
m、厚み1.6mmの銅張り積層板の銅面に、保護フィ
ルムを剥離して支持フィルムを上側にして感性フィルム
を温度120℃で積層した。感光性フィルムとしては、
縦80mm、横80mm、厚み10μmのアルカリ水溶
液現像タイプの感光性フィルムである三菱レイヨン株式
会社製のダイヤロン(DIALON)−FRA063を
用いた。
【0022】積層板の全面を水銀ランプを用いて露光
(ダイヤロン25段ステップタブレット17段残り相
当)して試験板を製造した。一方、表1に示す組成の剥
離液を調製し、それらをスプレー式剥離機に移液し、液
温を45℃にした後、スプレー圧力1.3kg/cm2
にて、支持フィルムを除去した前記試験板に対してスプ
レーし、基体からの剥離時間および大きさを観察した。
得られた結果を表1に示した。
(ダイヤロン25段ステップタブレット17段残り相
当)して試験板を製造した。一方、表1に示す組成の剥
離液を調製し、それらをスプレー式剥離機に移液し、液
温を45℃にした後、スプレー圧力1.3kg/cm2
にて、支持フィルムを除去した前記試験板に対してスプ
レーし、基体からの剥離時間および大きさを観察した。
得られた結果を表1に示した。
【0023】実施例1では剥離時間が短く、剥離片の大
きさは2mm角以下と小さく、また金網の目詰まりはな
く良好な結果を示した。
きさは2mm角以下と小さく、また金網の目詰まりはな
く良好な結果を示した。
【0024】
【表1】
【0025】
【発明の効果】本発明の剥離液は、硬化膜の厚みが薄い
場合においても剥離片の細分化が可能であって、金属網
等の目詰まりが少なく、剥離時間の短縮化を図ることが
できる。本発明の剥離液を使用すれば、プリント配線板
の製造、印刷用製版、金属微細加工等において歩留まり
の向上、工程時間の短縮等が達成できる。
場合においても剥離片の細分化が可能であって、金属網
等の目詰まりが少なく、剥離時間の短縮化を図ることが
できる。本発明の剥離液を使用すれば、プリント配線板
の製造、印刷用製版、金属微細加工等において歩留まり
の向上、工程時間の短縮等が達成できる。
Claims (1)
- 【請求項1】 アルカリ水溶液現像型の光重合性組成物
を基体上に保持し、活性光線によってこの組成物を硬化
させて得られる硬化膜を基体上から剥離するための剥離
液であって、水、アルカリ金属水酸化物及び水混和性有
機溶剤を含有する剥離液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5137995A JPH08248645A (ja) | 1995-03-10 | 1995-03-10 | レジスト硬化膜の剥離液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5137995A JPH08248645A (ja) | 1995-03-10 | 1995-03-10 | レジスト硬化膜の剥離液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08248645A true JPH08248645A (ja) | 1996-09-27 |
Family
ID=12885320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5137995A Pending JPH08248645A (ja) | 1995-03-10 | 1995-03-10 | レジスト硬化膜の剥離液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08248645A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008542830A (ja) * | 2005-06-03 | 2008-11-27 | アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー | ファインラインレジストの剥離方法 |
-
1995
- 1995-03-10 JP JP5137995A patent/JPH08248645A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008542830A (ja) * | 2005-06-03 | 2008-11-27 | アトテック・ドイチュラント・ゲーエムベーハー | ファインラインレジストの剥離方法 |
| KR101409496B1 (ko) * | 2005-06-03 | 2014-07-02 | 아토테크더치랜드게엠베하 | 미세 라인 레지스트 스트리핑 방법 |
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