JPH08249727A - 光ディスクおよびその製造方法 - Google Patents

光ディスクおよびその製造方法

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JPH08249727A
JPH08249727A JP7056018A JP5601895A JPH08249727A JP H08249727 A JPH08249727 A JP H08249727A JP 7056018 A JP7056018 A JP 7056018A JP 5601895 A JP5601895 A JP 5601895A JP H08249727 A JPH08249727 A JP H08249727A
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JP
Japan
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substrate
optical disc
center
substrates
hole
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JP7056018A
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Shoichi Nanba
祥一 難波
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板の貼り合わせ時に2枚の基板の中心部の
穴の位置を合わせ偏芯を小さくし、貼り合わせ時の基板
の接着力ならびに印刷膜の接着力を上げた光ディスクな
らびにその製造方法を提供する。 【構成】 貼り合わす2枚の基板63、64の中心部の
穴径を変え、貼り合わせ時に円錐台状のピン67で2枚
の基板63、64の穴の芯の位置を合わすようにする。
また、貼り合わせ面を粗目状にし、接着力を上げる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、2枚の光ディスク基板
を貼り合わせた光ディスクおよびその製造方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】光ディスクの高密度化には再生レーザの
波長を短くし、かつ対物レンズの開口数(NA)を高く
する必要がある。
【0003】しかし、高NA対物レンズでは許容できる
ディスク傾き(チルト)が非常に小さい。例えば、CD
と同じ1.2mmの厚さの基板を用いれば、NA0.6
の対物レンズに許容できるチルトは約0.25度であ
り、これは光ヘッドをプレヤーに取り付ける誤差に匹敵
し、ディスクの形状変化によるチルトは許容できなくな
り実用性がない。
【0004】基板の厚みを薄くする事で、ディスクのチ
ルトに対する許容範囲が拡がり、高NA対物レンズを用
いた実用的な光ディスクの高密度化が達成できる。
【0005】例えば、基板の厚さをCDの半分の0.6
mmにすれば、NA0.6の対物レンズに許容できるチ
ルトは約0.55度に拡大し、光ヘッドの取付誤差を
0.25度としても実際のディスク形状変化によるチル
トは0.3度まで余裕がある。
【0006】また、薄型基板の光ディスクでは、単板で
は自重で垂れてしまうので2枚の基板を貼り合わせる。
機械強度を高めるだけでなく両面を用いる事で容量が倍
増する。
【0007】以下、図面を参照しながら貼り合わせ光デ
ィスクならびにその製造方法について説明する。
【0008】図8および図9に、従来の貼り合わせによ
る光ディスクの製造方法を示す。また、図10は片面の
み情報信号がある場合の光ディスクの構造を示す断面図
を、図11は両面とも情報信号がある場合の光ディスク
の構造を示す断面図を、図12は貼り合わせ時の芯出し
方法を示す断面図、図13は貼り合わせ後の2枚の基板
の中心穴の芯ズレを示す光ディスクの断面図を示す。
【0009】図8において、1はガラス基板、2はレジ
スト膜、3は記録用レーザ光、4は記録された信号部、
5は導電薄膜、6は電鋳メッキ膜、はスタンパーと呼
ばれる光ディスク原盤、8はディスク基板、9は反射あ
るいは記録等の薄膜、10は薄膜を保護するための保護
膜、11は接着剤層、12は印刷膜である。
【0010】また、図8および図9において(a)はレ
ジスト膜形成工程、(b)は露光記録工程、(c)は現
像工程、(d)は導電薄膜形成工程、(e)は電鋳メッ
キ工程、(f)光ディスク原盤の裏面研磨工程および内
外周加工工程、(g)は成形工程、(h)は薄膜形成工
程、(i)は保護膜形成工程、(j)は貼り合わせ工
程、(k)は印刷工程である。
【0011】また、片面のみ情報信号が記録された光デ
ィスク図10において、13は第1の基板、14は第1
情報信号、15は反射膜ならびに保護膜、16は第2の
基板、17は接着層、18は印刷膜であり、両面情報信
号面が記録された光ディスク図11において、19は第
1の基板、20は第1の情報信号、21と24は反射膜
と保護膜、22は第2の基板、23は第2情報信号、2
5は接着層である。
【0012】また、図12と図13において、26は第
1の基板、27は第2の基板、28は接着層、29は貼
り合わせ用テーブル、30は芯出し用ピン、31は中心
穴のズレである。
【0013】貼り合わせ光ディスクを作製するには、図
8および図9に示すようにまずレジスト膜形成工程
(a)においてガラス基板1の上にスピン法等によりレ
ジスト膜2を形成し、次に露光記録工程(b)で記録用
のレーザ光3で信号を露光記録し、現像工程(c)で現
像することにより信号部4を形成する。
【0014】次に導電膜形成工程(d)でスパッタ法等
によりニッケルあるいは銀等の導電薄膜5を50〜10
0nmの厚みで形成し、電鋳メッキ工程(e)でその上か
ら電鋳メッキすることによりニッケルメッキ皮膜6を
0.2〜0.4mmの厚みで形成し、これをガラス基板か
ら剥離し洗浄等でレジスト膜を取り除いた後、この光デ
ィスク原盤が成形時の成形機金型に合うように、裏面研
磨工程(f)で裏面を0.1μm以下の面粗度に仕上げ
るように研磨し、さらに内外周を金型に合わせて切断加
工することによりスタンパーと呼ばれる光ディスク原盤
が出来上がる。
【0015】この光ディスク原盤から光ディスクを作
製するには、さらにこの光ディスク原盤を成形型とし
て用い、成形工程(g)でポリカーボネートあるいはア
クリル等の樹脂材料で成形することにより信号を転写し
たディスク基板8を作製し、薄膜形成工程(h)でディ
スク基板8の信号面状に反射あるいは記録用薄膜9を形
成し、その上に保護膜形成工程(i)で保護膜10を形
成し、貼り合わせ工程(j)で光ディスク基板8を放射
線硬化樹脂あるいは接着剤11で貼り合わす。
【0016】また、印刷を行う場合には印刷工程(k)
で光ディスクの平坦な樹脂表面に印刷膜12を形成して
光ディスクが出来上がる。
【0017】このようにして作製した貼り合わせ光ディ
スクは、情報信号面が片面の場合と両面の場合の2種類
ある。情報信号面が片面の場合は、図10に示すように
第1情報信号14上に反射膜ならびに保護膜15を形成
した第1の基板13に、両面平坦な第2の基板16を接
着層17で貼り合わせて作製する。
【0018】この貼り合わせ光ディスクに印刷する場合
は、図10に示すように補強用の第2の基板16の表面
に、印刷膜18を紫外線硬化樹脂等で形成する。
【0019】次に、情報信号面が両面の場合には、図1
1に示すように第1情報信号20ならびに第2情報信号
23上に反射膜21、22を形成した第1の基板19と
第2の基板22を、接着層25で貼り合わせて作製す
る。
【0020】また、第1の基板と第2の基板を貼り合わ
すには、両方の基板の中心部の穴径を同じにしておき、
図12に示すような中心に円柱状をした芯出し用のピン
30を設けた貼り合わせ用テーブル29を用いて、2枚
のディスクの中心部の穴を芯出し用ピン30で位置を合
わせて貼り合わせる。
【0021】すなわち、まず予め接着層を設けた第1の
基板26を貼り合わせ用テーブル29に置き、次に第2
の基板27を第1の基板26の上に載せて貼り合わすも
のである。
【0022】ここで、基板は成形で作製するため成形時
の樹脂の収縮の度合いのばらつきや中心穴の打ち抜きの
ばらつき等により、同一条件で作製した基板においても
中心部の穴径は20μm以上ばらつく。
【0023】また、基板を芯出し用ピンに抜き差しする
ため、基板の穴径は芯出し用ピン30の径に比べ必ず3
0μm以上大きくしてある。
【0024】このため、貼り合わせ後には図13に示す
ように、50μm以上200μm程度まで第1の基板2
6と第2の基板27の中心部の穴のズレ31が発生す
る。
【0025】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな構成では、貼り合わせた2枚の基板の中心穴は40
μm以上ずれるため、貼り合わせ後の光ディスクはズレ
た量だけ内径が小さくなり、再生時にトラックとびを起
こしたり、小さな欠陥でもフォーカスがとび、エラーを
発生し易くなる。
【0026】また、光ディスクの再生において両面同時
再生が出来なくなる。また、情報信号面が片面の場合、
補強用の基板は平坦な樹脂基板に直接接着層を設け貼り
合わすため、接着力が非常に弱くなる。また、貼り合わ
せ光ディスクの印刷においても、印刷は光ディスクの樹
脂基板表面の平坦な面に行うため、印刷膜の密着力も非
常に弱くなってしまう。
【0027】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の光ディスクは、貼り合わせる2枚の基板の中
心の穴径の大きさを変え、2枚の中心穴の中心位置を合
わせ偏芯量を小さくすることが出来るようにしたもので
ある。
【0028】また、情報信号が片面の場合には、補強用
の基板の貼り合わせ面を粗目にすることにより接着力を
上げるようにし、印刷においても予め印刷面を粗目にし
ておくことにより印刷膜の密着力を上げるようにしたも
のである。
【0029】請求項ごとに分けて記載すると、次の通り
である。請求項1、請求項2、請求項3に係わる光ディ
スクは、片方の基板の中心部の穴径をもう一方の基板の
中心部の穴径より大きくしておくことを特徴とするもの
である。
【0030】請求項4、請求項5に係わる光ディスクの
製造方法は、中心部に大きさの違った円形の穴を有した
2枚の基板を貼り合わせる時に、円錐状あるいは円錐台
状のピンを用いて2枚の基板の中心部の穴の芯の位置を
合わせ貼り合わせるようにしたことを特徴とするもので
ある。
【0031】請求項6に係わる光ディスクの製造方法
は、2枚の基板を貼り合わせる時に、円錐状あるいは円
錐台状で中心に凸を設けたピンと円錐状あるいは円錐台
状で中心に凹を設けたピンに各々の基板を通し、各々の
基板の中心部の穴位置の芯出しを行っておき、2つのピ
ンの凸と凹の勘合でピンの位置を合わせ、2枚の基板の
中心穴の位置を合わせるようにしたことを特徴とするも
のである。
【0032】請求項7に係わる光ディスクは、情報信号
面が片面の場合の貼り合わせ光ディスクであり、補強用
の基板の貼り合わせ面を0.1μm以上の凹凸を設け粗
目状にしたことを特徴とするものである。
【0033】請求項8に係わる光ディスクは、印刷面を
0.1μm以上の凹凸を設け粗目状にしたことを特徴と
するものである。
【0034】
【作用】本発明は上記した構成により、貼り合わせ時の
2枚の基板の中心穴位置を合わせ偏芯量を著しく少なく
でき、また貼り合わせ時の接着力ならびに印刷膜の接着
力を向上出来る。
【0035】請求項1から請求項6に係わる光ディスク
ならびに光ディスクの製造方法は、貼り合わせ後に2枚
の基板の中心部の穴位置を合わせ、偏芯量を少なくする
ことが出来る。
【0036】請求項7に係わる光ディスクは、貼り合わ
せ時の2枚の基板の接着力を強くすることが出来る。
【0037】請求項8に係わる光ディスクは、印刷時の
印刷膜の密着力を強くすることが出来る。
【0038】
【実施例】以下、本発明の光ディスクならびにその製造
方法の一実施例について、図面を参照しながら詳細に説
明する。
【0039】図1に本発明の片面のみ情報信号面の場合
で補強用基板の中心部の穴径を情報信号面側の基板の中
心部の穴径より大きくした光ディスクの断面図を、図2
に本発明の両面とも信号面の場合で片方の基板の中心部
の穴径をもう一方の基板の中心部の内径より大きくした
光ディスクの断面図を示す。
【0040】図3に一般に用いられる光ディスク用成形
金型の構造を示す断面図を示す。図4に円錐台状で芯出
し用のピンを備えた貼り合わせ用テーブルでの貼り合わ
せの状況を示す断面図を、図5に中心に凹凸を設けた芯
出し用のピンを用いての貼り合わせの状態を示す断面図
を示す。
【0041】また、図6に片面のみ情報信号面の場合の
補強用の基板の貼り合わせ面を粗目状にした光ディスク
の断面図を、図7に光ディスク基板の表面の印刷面を粗
目状にした光ディスクの断面図を示す。
【0042】請求項1から請求項3に係わる光ディスク
は、図1ならびに図2に示すように、片側の基板の中心
部の穴径をもう一方の基板の中心部の穴径より大きくし
たものである。
【0043】すなわち、情報信号面が片面の場合には図
1に示すように、補強用の第2の基板45の中心部の穴
径46を、情報信号42上に反射膜43を形成した第1
の基板41の中心部の穴径44より20μm以上大きく
しておき、接着層47で貼り合わせたものである。
【0044】また、情報信号面が両面の場合には図2に
示すように、第2情報信号53上に反射膜54を形成し
た第2の基板52の中心部の穴径55を、第1情報信号
49上に反射膜50を形成した第1の基板48の中心部
の穴径51より、20μm以上大きくしておき、接着層
56で貼り合わせたものである。
【0045】ここで、基板の中心部の穴径を変えるに
は、図3に示すような基板の成形金型において、キャビ
ティ59内に樹脂を注入し、冷却後打ち抜いて中心部の
穴を形成するが、この打ち抜くためのカットパンチ62
の径を基板の中心部の穴径に応じて変えておくことによ
り出来る。
【0046】この様に中心部の穴径の大きさが違う2枚
の基板を貼り合わす、請求項4または請求項5に係わる
光ディスクの製造方法は、図4に示すように2枚の基板
の内径の大きさに比例した太さの円錐台状の芯出し用の
ピンで2枚の基板の中心部の穴の芯の位置を合わせて貼
り合わす。
【0047】すなわち円錐台状の芯出し用ピン67を設
けた貼り合わせ用テーブル66に、中心部の穴径の大き
い第2の基板64を、貼り合わせ面に接着剤層65を設
けた状態で置き、その上に第1の基板63をのせて貼り
合わす。
【0048】ここで、芯出し用ピン67を図4に示すよ
うに2枚の基板の中心部の穴径に応じた太さで傾斜をつ
けておき、第1の基板63と第2の基板64の両方とも
芯出し用ピン67で内周部の穴の芯の位置が合うように
する。
【0049】この様にして貼り合わせすることにより、
2枚の基板の偏芯量を10μm以下と非常に小さく出来
る。
【0050】次に請求項6に係わる光ディスクの製造方
法は、予め2つのピンの中心位置を各々のピンの凹凸の
勘合で合うようにしておき、各々の基板の中心部の穴の
芯の位置を円錐台状のピンで芯出しておき、この状態で
ピンの凹と凸を勘合することにより2枚の基板の中心部
の穴の芯の位置を合わすようにして貼り合わせるように
したものである。
【0051】すなわち、まず図5に示すように貼り合わ
せ用テーブル68、70の円錐台状の芯出し用ピン6
9、71に、勘合により2つの芯出し用ピンの芯が合う
ような凹と凸を設けておく。
【0052】この状態で、接着層65を設けた第2の基
板64を貼り合わせ用テーブル68にのせ、芯出し用ピ
ン69で中心部の穴位置合わせを行い、同様に第1の基
板を貼り合わせ用テーブル70にのせ、芯出し用ピン7
1で中心部の穴の芯の位置合わせを行った状態で、凹と
凸を勘合して2枚の基板を貼り合わすことにより、2枚
の基板の中心部の穴の芯の位置を合わせ、偏芯量を少な
くするものである。
【0053】次に、請求項7に係わる光ディスクは、情
報信号が片面の場合の光ディスクで、補強用の基板の貼
り合わせ面を0.1μm以上の凹凸を設け粗目状にして
おき、この状態で貼り合わせを行うことにより接着力を
上げたものである。
【0054】すなわち、図6に示すように補強用の第2
の基板73の貼り合わせ面を粗目状75にし、貼り合わ
せたものである。粗目状にするには、図3の成形用金型
においてスタンパー60を粗目状にしておき、成形で基
板に転写すればよい。
【0055】請求項8に係わる光ディスクは、光ディス
ク表面の印刷面を0.1μm以上の凹凸を設け粗目状に
し、印刷膜の密着力を強くするようにしたものである。
すなわち、図7に示すよう補強用の第2の基板77の表
面の印刷面に0.1μm以上の凹凸を設け、粗目状の面
79にした上で印刷を行い、印刷膜の接着強度を強くし
たものである。
【0056】表面を粗目状にするためには、図3に示す
ような成形金型において、固定側金型58の鏡面部に予
め0.1μm以上の凹凸を設けておき、成形によりその
粗目を基板に転写すればよい。
【0057】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、貼り合わ
せ光ディスクにおいて、2枚の基板の中心部の穴位置を
合わすことが出来、従って光りディスクの偏芯量を極端
に小さくすることが出来る。また、貼り合わせ強度なら
びに印刷膜の接着強度を上げることができた。従って、
高品質で高精度の光ディスクを簡単に提供出来るように
なった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光ディスクの一実施例の構成を示す断
面図
【図2】本発明の光ディスクの他の実施例の構成を示す
断面図
【図3】一般的な光ディスク基板の成形用金型の断面図
【図4】本発明の光ディスクの製造方法の一実施例にお
ける貼り合わせ工程図
【図5】本発明の光ディスクの製造方法の他の一実施例
における貼り合わせ工程図
【図6】本発明の光ディスクの更に他の実施例の構成を
示す断面図
【図7】本発明の光ディスクの更に他の実施例の構成を
示す断面図
【図8】光ディスクの一般的な製造方法を示す断面図
【図9】光ディスクの一般的な製造方法を示す工程のブ
ロック図
【図10】従来の、情報信号面が片面の場合の光ディス
クを示す断面図
【図11】従来の、両面が情報信号面の場合の光ディス
クを示す断面図
【図12】従来の貼り合わせの構造を示す断面図
【図13】従来の光ディスクの課題の説明図
【符号の説明】
41 第1の基板 42 第1情報信号 43 反射膜 44 第1の基板の中心穴径 45 第2の基板 46 第2の基板の中心穴径 47 接着層 48 第1の基板 49 第1情報信号 50 反射膜 51 第1の基板の中心穴径 52 第2の基板 53 第2情報信号 54 反射膜 55 第2の基板の中心穴径 56 接着層 57 可動側金型 58 固定側金型 59 キャビティ 60 スタンパ 61 スタンパ取り付け治具 62 カットパンチ 63 第1の基板 64 第2の基板 65 接着層 66 貼り合わせ用テーブル 67 芯出し用ピン 68 貼り合わせ用テーブル 69 芯出し用ピン 70 貼り合わせ用テーブル 71 芯出し用ピン 72 第1の基板 73 第2の基板 74 接着剤 75 粗目状の面 76 第1の基板 77 第2の基板 78 接着層 79 粗目状の面

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】中心部に円形の穴を有する第1の基板と第
    2の基板の間に、接着層を形成して第1と第2の基板を
    一体とした光ディスクであって、第1の基板の中心部の
    穴の大きさを第2の中心部の穴の大きさより大きくした
    ことを特徴とする光ディスク。
  2. 【請求項2】中心部に円形の穴を有する第1の基板と第
    2の基板の間に、接着層を形成して第1と第2の基板を
    一体とした光ディスクの内、情報信号面が片側の場合の
    光ディスクであって、補強用の基板の中心部の穴の大き
    さを、情報信号面側の基板の中心部の穴の大きさより2
    0μm以上大きくしたことを特徴とする請求項1記載の
    光ディスク。
  3. 【請求項3】中心部に円形の穴を有する第1の基板と第
    2の基板の間に、接着層を形成して第1と第2の基板を
    一体とした光ディスクの内、両面とも情報信号面の場合
    の光ディスクであって、片方の基板の中心部の穴の大き
    さをもう一方の基板の中心部の穴の大きさより、20μ
    m以上大きくしたことを特徴とする請求項1記載の光デ
    ィスク。
  4. 【請求項4】中心部に互いに大きさの違った円形の穴を
    有した第1の基板と第2の基板を貼り合わせた光ディス
    クの製造方法であって、前記第1および第2の基板の穴
    にピンを挿入し、前記2枚の基板の位置合わせを行う際
    に、外周面が円錐面のピンを前記穴に挿入して前記第1
    及び第2の基板の位置合わせを行うことを特徴とする光
    ディスクの製造方法。
  5. 【請求項5】ピンの円錐面の傾斜が、第1及び第2の基
    板を相互の位置精度よく貼り合わせた時の、第1及び第
    2の基板の穴の径で定まる傾斜に一致させたことを特徴
    とする請求項4記載の光ディスクの製造方法。
  6. 【請求項6】中心部に円形の穴を有した第1の基板と第
    2の基板において、片方の基板あるいは両方の基板に接
    着層を設けた後、円錐状もしくは円錐台状で中心に凸を
    設けたピンと円錐状あるいは円錐台状で中心に凹を設け
    たピンで各々の基板の中心部の穴の芯出しを行い、2つ
    のピンの凸と凹の勘合でピンの位置を合わすことにより
    2枚の基板の中心部の穴の芯を合わせて貼り合わすよう
    にしたことを特徴とする光ディスクの製造方法。
  7. 【請求項7】中心部に円形の穴を有し情報信号を有した
    第1の基板と、中心部に円形の穴を有し補強板として用
    いる第2の基板の間に、接着層を形成して第1と第2の
    基板を一体とした光ディスクであって、第2の基板の少
    なくとも貼り合わせ面側の貼り合わせ領域において、
    0.1μm以上の凹凸を設け粗目状にしたことを特徴と
    する光ディスク。
  8. 【請求項8】中心部に円形の穴を有する第1の基板と第
    2の基板の間に、接着層を形成して第1と第2の基板を
    一体とした光ディスクであって、光ディスクの表面の印
    刷領域において、0.1μm以上の凹凸を設けたことを
    特徴とする光ディスク。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11688653B2 (en) 2020-03-06 2023-06-27 Kioxia Corporation Semiconductor manufacturing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

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US11688653B2 (en) 2020-03-06 2023-06-27 Kioxia Corporation Semiconductor manufacturing apparatus and method of manufacturing semiconductor device

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