JPH08250577A - 自公転型基板保持装置 - Google Patents

自公転型基板保持装置

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JPH08250577A
JPH08250577A JP7981395A JP7981395A JPH08250577A JP H08250577 A JPH08250577 A JP H08250577A JP 7981395 A JP7981395 A JP 7981395A JP 7981395 A JP7981395 A JP 7981395A JP H08250577 A JPH08250577 A JP H08250577A
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JP
Japan
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cooling water
revolution
rotation
substrate
vacuum container
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Pending
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JP7981395A
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English (en)
Inventor
Takeshi Yamazaki
猛 山崎
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ANERUBA KK
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ANERUBA KK
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 成膜装置に適用される自公転型基板保持装置
において、基板保持具を直接的に冷却して基板温度を適
切に保持し、薄膜の特性を向上する。 【構成】 成膜装置に含まれる真空容器1内に配設さ
れ、成膜対象である基板8を保持する基板保持具17c
と、真空容器1の外部から駆動力を与えられて基板保持
具17cに公転および自転の動作をさせる動力伝達機構
13,17,26を有するものであり、動力伝達機構の
公転部材13と、基板保持具17cを含む自転部材17
のそれぞれの内部に、互いに連通された冷却水通路を形
成し、公転部材の冷却水通路の出入り口に接続される冷
却水供給装置29を真空容器1の外部に備え、冷却水供
給装置29から公転部材13および自転部材17に対し
循環的に冷却水を供給し、基板保持具17cを冷却す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は自公転型基板保持装置に
係り、特に、内部を真空状態にして基板の表面に薄膜を
作製する成膜装置に好適な自公転型基板保持装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来の自公転型基板保持装置の例を図2
に示す。1は真空容器であり、図示例では真空容器1の
一部を示す。真空容器1内は所要の減圧状態に保持され
る。自公転型基板保持装置2は、真空容器1の内部に配
設される。3は公転部材であり、その軸部3aが、真空
容器1の壁部内側に取り付けられた固定歯車4aの筒体
部4bに、ベアリング5で回転自在に支持されている。
軸部3aは、真空容器1の壁部に形成された孔1aから
外部に引き出され、回転駆動装置(図示せず)の回転軸
に連結される。回転駆動装置によって公転部材3に公転
動作が付与される。またベアリング5は、真空容器1の
内部を気密に保持するシール機能を有している。
【0003】6は自転部材である。自転部材6は、固定
歯車4aと噛み合う遊星歯車6aと、軸部6bと、基板
保持具6cとから構成される。自転部材6の軸部6b
は、公転部材3の径方向延設部3bの周辺部にてベアリ
ング7によって回転自在に支持されている。図示例で
は、基板保持具6cの下面に、基板8が、固定具9とね
じ9aによって固定されている。図2では1つの自転部
材6が示されるが、径方向延設部3bには通常複数の自
転部材6が設けられる。
【0004】上記自公転型基板保持装置によれば、自転
部材6の基板保持具6cに基板8をセットした状態で、
軸部3aに回転を与えると、固定歯車4aおよび遊星歯
車6aの噛み合い関係と、径方向延設部3bの回転動作
とに基づいて、基板保持具6cは公転しながら自転す
る。図2中、aは公転軸を表す線、bは自転軸を表す線
である。真空容器1内の減圧環境で基板8上に薄膜を形
成する例えば蒸着装置等に、前述の自公転型基板保持装
置を適用すると、基板の位置が真空容器1内で最もよく
変化し、そのため基板静止型や自転型や公転型に比較す
ると、薄膜の膜厚分布の均一性をより高いものとするこ
とができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来の自公転型基板保
持装置では、その機構上の制約から、基板保持具6cに
冷却水を供給することは不可能であると考えられてい
た。しかし、蒸着装置等では、基板に発生する温度を抑
制し、基板温度を最適な温度に制御することが、必要と
される特性を有する薄膜を作製する上で重要である。こ
の意味で、従来の自公転型基板保持装置は、基板の温度
が最適になるように冷却できず、作製される薄膜の特性
が十分に良くないという不具合を有していた。
【0006】本発明の目的は、上記問題に鑑み、基板保
持具に冷却水を供給して基板を冷却できる自公転型基板
保持装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明に係る自公転型基
板保持装置は、成膜装置に含まれる真空容器内に配設さ
れ、成膜対象である基板を保持する基板保持具と、真空
容器の外部から駆動力を与えられて基板保持具に公転お
よび自転の動作をさせる動力伝達機構を有するものであ
り、動力伝達機構の公転部材と、基板保持具を含む自転
部材のそれぞれの内部に、互いに連通された冷却水通路
を形成し、公転部材の冷却水通路の出入り口に接続され
る冷却水供給装置を真空容器の外部に備え、冷却水供給
装置から公転部材および自転部材に対し循環的に冷却水
を供給し、基板保持具を冷却するようにした。
【0008】また好ましくは、公転部材を、ベローズを
介して真空容器に取付け、当該ベローズの伸縮作用で上
下動し、もって基板保持具の位置を変えるように構成す
ることもできる。
【0009】
【作用】本発明による自公転型基板保持装置では、真空
容器内に配置され、かつ自公転動力伝達機構で公転およ
び自転の動作を行う基板保持具に対し、直接的に冷却水
を供給できる構成を実現し、基板保持具に保持された基
板に対し蒸着等を用いて成膜を行うにあたり、基板の温
度を冷却して適切な基板温度に保持することが可能とな
る。
【0010】
【実施例】以下に、本発明の実施例を添付図面に基づい
て説明する。図1において、図2で説明した要素と同一
の要素には同一の符号を付している。1は例えば蒸着装
置を構成する真空容器の壁部の一部を示し、1aは真空
容器1の壁部に形成された孔である。8は基板、9は基
板保持具である。
【0011】孔1aの外側の周囲部分には、支持板11
が取り付けられたベローズ12が固定される。ベローズ
12は、図1中上下方向に伸縮自在である。支持板11
とベローズ12で形成される内部空間は、真空容器1の
内部空間に通じており、気密に形成される。すなわちベ
ローズ12および支持板11の周辺部分から外気が内部
に侵入することがない。
【0012】13は公転部材、13aは公転軸部、公転
軸部13aの下端に設けられた13bは径方向延設部で
ある。公転軸部13aの上部は、支持板11を挿通して
外側に延設される。支持板11における公転軸部13a
の挿通部分にはシール性を有するベアリング(図示せ
ず)が設けられる。公転軸部13aは、公転のための回
転力15を与える回転駆動装置16の回転軸に接続され
る。公転軸部13aは、管体で形成され、さらに内部に
内管14を有する。従って、公転軸部13aの内部に
は、内管14内の空間と、内管14と公転軸部13aの
間の空間によって内外2重の内部空間が形成される。ま
た径方向延設部13bも内部空間を有し、かつ上下で内
部空間を分割する仕切り板13cを備える。公転軸部1
3a内の外側の内部空間は、径方向延設部13bの上側
の内部空間に通じており、公転軸部13aの内側の内部
空間(内管14内の空間)は、径方向延設部13bの下
側の内部空間に通じている。径方向延設部13bの平面
形状は、任意の形状とすることができる。
【0013】径方向延設部13bの周辺部の適当な位置
に自転部材17が回転自在に取り付けられる。自転部材
17は、上部に設けられた遊星歯車17aと、基板8を
下面に取り付ける基板保持具17cと、遊星歯車17a
と基板保持具17cをつなぐ軸部17bとから構成され
る。自転部材17は、その軸部17bが径方向延設部1
3bを上下方向に貫通するように取り付けられ、かつシ
ール部材18,19でシール性を保持しつつ、ベアリン
グ20,21で回転自在に取り付けられる。
【0014】自転部材17の内部には、管体部および平
板部を有する仕切り部材22が設けられ、内部空間は二
重構造に形成される。ただし、自転部材17の内外の内
部空間は、仕切り部材22の下側位置でつながってい
る。さらに、自転部材17の内側の内部空間は、軸部1
7bに形成された孔17dを通して、径方向延設部材1
3bの上側の内部空間に通じている。自転部材17の外
側の内部空間は、軸部17bに形成された孔17eを通
して、径方向延設部材13bの下側の内部空間に通じて
いる。
【0015】自転部材17の遊星歯車17aは、公転部
材13の公転軸部13aに周囲にベアリング23,24
で回転自在に支持された中間歯車25の下側歯車25a
に噛み合っている。
【0016】26は初段歯車である。初段歯車26は、
その軸部26aが支持板11に回転自在に取り付けられ
る。初段歯車26は、中間歯車25の上側歯車25bに
噛み合っている。また軸部26aは外側に延設され、他
の回転駆動装置27の回転軸に接続されている。初段歯
車26は、回転駆動装置27から与えられる回転力28
を、中間歯車25を介して遊星歯車17aに伝達する。
【0017】29は給水装置であり、本装置は、基板8
を冷却するための冷却水を、自公転型基板保持装置に対
して循環的に供給する。給水装置29の給水口は公転軸
部13aの外側の内部空間に接続されている。また給水
装置29の冷却水の取入れ口は公転軸部13aの内側の
内部空間に接続されている。図1において、矢印30
は、給水装置29から自公転型基板保持装置に供給され
た冷却水の流れを示している。
【0018】上記構成を有する自公転型基板保持装置で
は、回転駆動装置16により公転軸部13aが公転しか
つ回転駆動装置27により初段歯車26が回転すること
に基づき、自転部材17は、公転しながら、かつ初段歯
車26と中間歯車25を介して回転力を伝達されること
により自転する。自転部材17の設置個数は、任意であ
る。
【0019】自公転型基板保持装置が自公転の動作を行
い、基板8の表面に薄膜を作製している間、給水装置2
9からは冷却水が供給される。自公転型基板保持装置に
供給された冷却水は、矢印30によって示されるルート
で流れ、基板保持具17cの箇所まで供給されて、基板
8を冷却する。その後、冷却水は矢印30に従って流
れ、排水として給水装置29に戻る。
【0020】上記実施例の構成では、真空容器1に設け
た伸縮可能なベローズ12を介して設けられた支持板1
1に公転軸部13aと自転用の軸部26aを回転自在に
かつ気密に取付け、かつ公転軸部13aの内部を利用し
て冷却水を流入または流出させている。また公転軸部1
3aの位置を、上下方向にて調整することにより、初段
歯車26と中間歯車25の上側歯車25bが常に噛み合
うように構成されている。従って、中間歯車25の上側
歯車25bは、軸方向に関して所定の幅を有するように
構成されている。この構成によれば、中間歯車25と自
転部材17を上下動させることができ、基板保持具17
cの位置を上下に変化させることが可能となる。
【0021】また公転部材13の公転軸部13aと自転
部材17に自転用の回転力を伝達する軸部26aは、そ
れぞれ、独立に回転するように構成されているため、自
転部材17の自転および公転の各回転の回転数を自由に
設定することができる。このことは基板8上に形成され
る薄膜の均一性を高める点で有利となる。
【0022】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、真空容器の中で薄膜を形成する装置に適用され
る自公転型基板保持装置において、公転しながら自転す
る基板保持具に直接的に冷却水を供給するように構成し
たため、基板の温度を適切な温度に保持することがで
き、基板上に形成される薄膜の特性を向上することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の自公転型基板保持装置の一実施例を示
す縦断面図である。
【図2】従来の自公転型基板保持装置の構成を示す縦断
面図である。
【符号の説明】
1 真空容器 8 基板 11 支持板 12 ベローズ 13 公転部材 13a 公転軸部 13b 径方向延設部 13c 仕切り板 14 内管 16 回転駆動装置 17 自転部材 17c 基板保持具 25 中間歯車 26 初段歯車 27 回転駆動装置 29 給水装置

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 成膜装置に含まれる真空容器内に配設さ
    れ、成膜対象である基板を保持する基板保持具と、前記
    真空容器の外部から駆動力を与えられて前記基板保持具
    を公転および自転させる動力伝達機構を有する自公転型
    基板保持装置において、 前記動力伝達機構の公転部材と、前記基板保持具を含む
    自転部材のそれぞれの内部に、互いに連通された冷却水
    通路を形成し、前記公転部材の冷却水通路の出入り口に
    接続される冷却水供給装置を前記真空容器の外部に備
    え、前記冷却水供給装置から前記公転部材および前記自
    転部材に対し循環的に冷却水を供給し、前記基板保持具
    を冷却したことを特徴とする自公転型基板保持装置。
JP7981395A 1995-03-10 1995-03-10 自公転型基板保持装置 Pending JPH08250577A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8858716B2 (en) 2009-12-25 2014-10-14 Canon Anelva Corporation Vacuum processing apparatus
CN107818814A (zh) * 2017-10-20 2018-03-20 北京雪迪龙科技股份有限公司 一种真空位移调节装置

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Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040622