JPH08253492A - スルホン化ジホスフィンおよびその製造方法 - Google Patents
スルホン化ジホスフィンおよびその製造方法Info
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- JPH08253492A JPH08253492A JP8033542A JP3354296A JPH08253492A JP H08253492 A JPH08253492 A JP H08253492A JP 8033542 A JP8033542 A JP 8033542A JP 3354296 A JP3354296 A JP 3354296A JP H08253492 A JPH08253492 A JP H08253492A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
- C07F9/5027—Polyphosphines
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- General Health & Medical Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 新規のスルホン化ジホスフィンの提供。
【解決手段】 式(I)
【化1】
〔式中、Mは水素原子、アンモニウム、一価の金属また
は当量の多価金属であり、a+b+c+dが1〜4の整
数であるという条件のもとでa、b、cおよびdはそれ
ぞれ0または1であり、Arはm−(MSO3 )−C6
H4 残基(ただしMは上に規定した通り)であり、nは
0、1または2であり、Phはフェニル残基であり、R
1 およびR2 は互いに同じでも異なっていてもよく、1
〜10の炭素原子を持つアルキル残基であるかまたは環
中炭素原子数5〜10の脂環式残基である。〕で表され
るスルホン化ジホスフィン。
は当量の多価金属であり、a+b+c+dが1〜4の整
数であるという条件のもとでa、b、cおよびdはそれ
ぞれ0または1であり、Arはm−(MSO3 )−C6
H4 残基(ただしMは上に規定した通り)であり、nは
0、1または2であり、Phはフェニル残基であり、R
1 およびR2 は互いに同じでも異なっていてもよく、1
〜10の炭素原子を持つアルキル残基であるかまたは環
中炭素原子数5〜10の脂環式残基である。〕で表され
るスルホン化ジホスフィン。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はスルホン化ジホスフィン
の分類の新規の化合物およびそれの製法に関する。
の分類の新規の化合物およびそれの製法に関する。
【0002】
【従来技術】ホスフィン類は一般に多方面で工業的に使
用されている。これらは例えば酸化防止剤、金属抽出剤
(metal extracts)、防炎剤、オレフィ
ンの安定剤〔US−6−400,168(NTIS);
Chem.Abstr.100;122286b〕、ト
リオキサンの安定剤(米国特許第4,125,540号
明細書)、ウイッテヒ(Wittig)試薬の原料化合
物または金属錯塩触媒のためのリガンドとして適してい
る。その化学構造が多岐にわたるために、場合によって
はリンを含有する別の有機化合物を製造するための前駆
体としても用いられる。
用されている。これらは例えば酸化防止剤、金属抽出剤
(metal extracts)、防炎剤、オレフィ
ンの安定剤〔US−6−400,168(NTIS);
Chem.Abstr.100;122286b〕、ト
リオキサンの安定剤(米国特許第4,125,540号
明細書)、ウイッテヒ(Wittig)試薬の原料化合
物または金属錯塩触媒のためのリガンドとして適してい
る。その化学構造が多岐にわたるために、場合によって
はリンを含有する別の有機化合物を製造するための前駆
体としても用いられる。
【0003】ホスフィンの群の内ではスルホン化ジホス
フィン類はその物性のために極めて優れた働きをする。
その分子は二つの三価のリン原子を含有しているので、
多くの金属および金属イオンに対して、特に遷移金属よ
り成る群の内のそれらに対して錯塩形成性を有してい
る。この錯塩形成性は比較的に安定したキレートを形成
することに起因しておりそして工業的方法で使用される
相応する金属錯塩触媒を製造するのに利用できる。
フィン類はその物性のために極めて優れた働きをする。
その分子は二つの三価のリン原子を含有しているので、
多くの金属および金属イオンに対して、特に遷移金属よ
り成る群の内のそれらに対して錯塩形成性を有してい
る。この錯塩形成性は比較的に安定したキレートを形成
することに起因しておりそして工業的方法で使用される
相応する金属錯塩触媒を製造するのに利用できる。
【0004】ヨーロッパ特許出願公開第0,571,8
19号明細書は、式(A)
19号明細書は、式(A)
【0005】
【化3】
【0006】〔式中、Arはm−C6 H4 SO3 Mであ
り、Mは水素原子、アンモニウム、一価の金属または当
量の多価金属であり、Phはフェニル残基であり、mは
1または2でありそしてnは0、1または2である。〕
で表される2,2’−ビス(ジフェニル−ホスフィノメ
チル)−1,1’−ビナフタレンに関する。これらのス
ルホン化ジホスフィンはロジウムと組合せてヒドロホル
ミル化触媒として使用される。スルホン酸またはスルホ
ナート基の導入に起因するその水溶性のために、これら
のジホスフィンは不均一相でのヒドロホルミル化を実施
することを可能としている。この変法は、水に溶解した
触媒を水不溶性反応生成物から簡単に且つ穏やかに除く
方法を可能とするので、特に有利である。
り、Mは水素原子、アンモニウム、一価の金属または当
量の多価金属であり、Phはフェニル残基であり、mは
1または2でありそしてnは0、1または2である。〕
で表される2,2’−ビス(ジフェニル−ホスフィノメ
チル)−1,1’−ビナフタレンに関する。これらのス
ルホン化ジホスフィンはロジウムと組合せてヒドロホル
ミル化触媒として使用される。スルホン酸またはスルホ
ナート基の導入に起因するその水溶性のために、これら
のジホスフィンは不均一相でのヒドロホルミル化を実施
することを可能としている。この変法は、水に溶解した
触媒を水不溶性反応生成物から簡単に且つ穏やかに除く
方法を可能とするので、特に有利である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】スルホン化ジホスフィ
ンより成る群の内の化合物に伴う上記の特別な重要性を
考慮して、可能な用途の範囲を補充するだけでなく物性
を巧妙に変えることでおよび構造的特徴を変更すること
によって該範囲を拡充拡大するように、この群から新規
の化合物を提供することが有益な課題である。スルホン
化ジホスフィンの化学的性質および構造的構成がこれら
のスルホン化ジホスフィンを触媒成分として使用する方
法に影響を及ぼすと考えることができる。特に、対称的
に置換されたスルホン化ジホスフィンの特別な性質を、
非対称な置換、それ故の立体的および/または電子的効
果または追加的に生じるキラリティーに起因する有利な
影響と組合せること、そのようにして対称的に置換され
たスルホン化ジホスフィンよりも広いかまたは異なる用
途分野を持つ非対称的にスルホン化された新規のジホス
フィンを提供することは興味のある課題である。
ンより成る群の内の化合物に伴う上記の特別な重要性を
考慮して、可能な用途の範囲を補充するだけでなく物性
を巧妙に変えることでおよび構造的特徴を変更すること
によって該範囲を拡充拡大するように、この群から新規
の化合物を提供することが有益な課題である。スルホン
化ジホスフィンの化学的性質および構造的構成がこれら
のスルホン化ジホスフィンを触媒成分として使用する方
法に影響を及ぼすと考えることができる。特に、対称的
に置換されたスルホン化ジホスフィンの特別な性質を、
非対称な置換、それ故の立体的および/または電子的効
果または追加的に生じるキラリティーに起因する有利な
影響と組合せること、そのようにして対称的に置換され
たスルホン化ジホスフィンよりも広いかまたは異なる用
途分野を持つ非対称的にスルホン化された新規のジホス
フィンを提供することは興味のある課題である。
【0008】
【課題を解決するための手段】この課題は、式(I)
【0009】
【化4】
【0010】〔式中、Mは水素原子、アンモニウム、一
価の金属または当量の多価金属であり、a+b+c+d
が1〜4の整数であるという条件のもとでa、b、cお
よびdはそれぞれ0または1であり、Arはm−(MS
O3 )−C6 H4 残基(ただしMは上に規定した通り)
であり、nは0、1または2であり、Phはフェニル残
基であり、R1 およびR2 は互いに同じでも異なってい
てもよく、1〜10の炭素原子を持つアルキル残基であ
るかまたは環中炭素原子数5〜10の脂環式残基であ
る。〕で表されるスルホン化ジホスフィンによって解決
される。
価の金属または当量の多価金属であり、a+b+c+d
が1〜4の整数であるという条件のもとでa、b、cお
よびdはそれぞれ0または1であり、Arはm−(MS
O3 )−C6 H4 残基(ただしMは上に規定した通り)
であり、nは0、1または2であり、Phはフェニル残
基であり、R1 およびR2 は互いに同じでも異なってい
てもよく、1〜10の炭素原子を持つアルキル残基であ
るかまたは環中炭素原子数5〜10の脂環式残基であ
る。〕で表されるスルホン化ジホスフィンによって解決
される。
【0011】式(I)のスルホン化ジホスフィンは分子
中に二つの三価の燐原子が組入れられていることに起因
するその化学的性質のためにおよびその特別な構造のた
めに興味のあ化合物である。ジホスフィンの特別な構造
は、一方は2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチル
残基でありそしてもう一方は異なって置換された二つの
燐原子にある。異なって置換された二つの燐原子が、非
対称に置換された化合物である式(I)のジホスフィン
をもたらしているのである。
中に二つの三価の燐原子が組入れられていることに起因
するその化学的性質のためにおよびその特別な構造のた
めに興味のあ化合物である。ジホスフィンの特別な構造
は、一方は2,2’−ジメチル−1,1’−ビナフチル
残基でありそしてもう一方は異なって置換された二つの
燐原子にある。異なって置換された二つの燐原子が、非
対称に置換された化合物である式(I)のジホスフィン
をもたらしているのである。
【0012】式(I)のスルホン化ジホスフィンにはス
ルホン化2−(ジフェニルホスフィノメチル)−2’−
(ジアルキルホスフィノメチル)−1,1’−ビナフタ
レン類またはスルホン化2−(ジフェニルホスフィノメ
チル)−2’−(ジシクロアルキルホスフィノメチル)
−1,1’−ビナフタレン類またはスルホン化2−(ジ
フェニルホスフィノメチル)−2’−(アルキル−シク
ロアルキルホスフィノ)−1,1’−ビナフタレン類が
ある。
ルホン化2−(ジフェニルホスフィノメチル)−2’−
(ジアルキルホスフィノメチル)−1,1’−ビナフタ
レン類またはスルホン化2−(ジフェニルホスフィノメ
チル)−2’−(ジシクロアルキルホスフィノメチル)
−1,1’−ビナフタレン類またはスルホン化2−(ジ
フェニルホスフィノメチル)−2’−(アルキル−シク
ロアルキルホスフィノ)−1,1’−ビナフタレン類が
ある。
【0013】そのスルホン酸基またはスルホナート基の
ために、スルホン化ジスルフィンは水溶性の化合物であ
りそしてそれ故に均一相での反応を実施するのに適して
いる。この変法は、水不溶反応生成物から水に溶解した
触媒を簡単に且つ穏やかな方法で分離する方法を可能と
するので特に有利である。スルホン化ジホスフィンはス
ルホン化度次第で6つまでのスルホン酸基またはスルホ
ナート基を有している。水中での安定性はこのスルホン
化度に比例して向上する。
ために、スルホン化ジスルフィンは水溶性の化合物であ
りそしてそれ故に均一相での反応を実施するのに適して
いる。この変法は、水不溶反応生成物から水に溶解した
触媒を簡単に且つ穏やかな方法で分離する方法を可能と
するので特に有利である。スルホン化ジホスフィンはス
ルホン化度次第で6つまでのスルホン酸基またはスルホ
ナート基を有している。水中での安定性はこのスルホン
化度に比例して向上する。
【0014】本発明は、Mが水素原子またはアルカリ金
属イオン、殊に水素原子、Na+ またはK+ 、特にNa
+ である式(I)のスルホン化ジホスフィンに関する。
スルホン化度に依存してa+b+c+dは特に2〜4の
整数である。nは0または1であるか、また2でもよ
い。残基R1 およびR2 は互いに同じでも異なっていて
もよく、それぞれ炭素原子数1〜6、特に1〜4のアル
キル残基または環中炭素原子数5または6、特に6の脂
環式残基である。
属イオン、殊に水素原子、Na+ またはK+ 、特にNa
+ である式(I)のスルホン化ジホスフィンに関する。
スルホン化度に依存してa+b+c+dは特に2〜4の
整数である。nは0または1であるか、また2でもよ
い。残基R1 およびR2 は互いに同じでも異なっていて
もよく、それぞれ炭素原子数1〜6、特に1〜4のアル
キル残基または環中炭素原子数5または6、特に6の脂
環式残基である。
【0015】R1 およびR2 が同じであるスルホン化ジ
ホスフィンは、R1 とR2 とが互いに異なるスルホン化
ジホスフィンよりも一般に遙かに容易に得ることができ
るので、特に有利である。これらには、R1 とR2 とが
それぞれシクロヘキシル残基であるスルホン化ジホスフ
ィンが含まれ、これが特に有利である。本発明は更に、
式(I)のスルホン化ジホスフィンを製造する方法にも
関する。この方法は、式(II)
ホスフィンは、R1 とR2 とが互いに異なるスルホン化
ジホスフィンよりも一般に遙かに容易に得ることができ
るので、特に有利である。これらには、R1 とR2 とが
それぞれシクロヘキシル残基であるスルホン化ジホスフ
ィンが含まれ、これが特に有利である。本発明は更に、
式(I)のスルホン化ジホスフィンを製造する方法にも
関する。この方法は、式(II)
【0016】
【化5】
【0017】〔式中、Ar、n、Ph、R1 およびR2
は式(I)について前に規定した通りである。〕で表さ
れるジホスフィンを0〜25℃の温度で発煙硫酸でスル
ホン化し、そのスルホン化混合物を加水分解しそして加
水分解されたスルホン化混合物から式(I)のスルホン
化ジホスフィンを分離することを特徴としている。
は式(I)について前に規定した通りである。〕で表さ
れるジホスフィンを0〜25℃の温度で発煙硫酸でスル
ホン化し、そのスルホン化混合物を加水分解しそして加
水分解されたスルホン化混合物から式(I)のスルホン
化ジホスフィンを分離することを特徴としている。
【0018】特に重要なのは、n=2である式(II)の
ジホスフィン類である。これらのジホスフィン類は基本
分子としての2−(ジフェニルホスフィノメチル)−
2’−(ジアルキルホスフィノメチル)−1,1’−ビ
ナフタレンから出発するかまたは2−(ジフェニルホス
フィノメチル)−2’−(ジシクロアルキルホスフィノ
メチル)−1,1’−ビナフタレンから出発して製造さ
れる。これらの化合物は1−ブロモ−2−メチルナフタ
レンを還元的に二量体化し、それから生じるビナフタレ
ンをN−ブロモスクシニミドと反応させ、その際に2,
2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフタレン
を生じさせることによって多段階合成によって得られ
る。この二臭素化化合物と例えばジアルキルホスフィン
またはシクロヘキシルホスフィンとの反応で相応するホ
スフェピニウム−ブロマイド(phosphepini
um bromides)をもたらす。かゝるホスフェ
ピニウム−ブロマイドおよびそれの製法は、ドイツ特許
出願P4419990.2(本出願時未公開)の対象で
ある。
ジホスフィン類である。これらのジホスフィン類は基本
分子としての2−(ジフェニルホスフィノメチル)−
2’−(ジアルキルホスフィノメチル)−1,1’−ビ
ナフタレンから出発するかまたは2−(ジフェニルホス
フィノメチル)−2’−(ジシクロアルキルホスフィノ
メチル)−1,1’−ビナフタレンから出発して製造さ
れる。これらの化合物は1−ブロモ−2−メチルナフタ
レンを還元的に二量体化し、それから生じるビナフタレ
ンをN−ブロモスクシニミドと反応させ、その際に2,
2’−ビス(ブロモメチル)−1,1’−ビナフタレン
を生じさせることによって多段階合成によって得られ
る。この二臭素化化合物と例えばジアルキルホスフィン
またはシクロヘキシルホスフィンとの反応で相応するホ
スフェピニウム−ブロマイド(phosphepini
um bromides)をもたらす。かゝるホスフェ
ピニウム−ブロマイドおよびそれの製法は、ドイツ特許
出願P4419990.2(本出願時未公開)の対象で
ある。
【0019】ホスフェピニウム−ブロマイドはジフェニ
ル−リン化カリウムとの反応で求核的に開環して、相応
する2−(ジフェニルホスフィノメチル)−2’−(ジ
アルキルホスフィノメチル)−1,1’−ビナフタレン
類または2−(ジフェニルホスフィノメチル)−2’−
(ジシクロアルキルホスフィノメチル)−1,1’−ビ
ナフタレン類をもたらす。式(II)のかゝるジホスフィ
ン類およびその製法は、ドイツ特許出願P443484
4.4(本出願時未公開)の対象である。
ル−リン化カリウムとの反応で求核的に開環して、相応
する2−(ジフェニルホスフィノメチル)−2’−(ジ
アルキルホスフィノメチル)−1,1’−ビナフタレン
類または2−(ジフェニルホスフィノメチル)−2’−
(ジシクロアルキルホスフィノメチル)−1,1’−ビ
ナフタレン類をもたらす。式(II)のかゝるジホスフィ
ン類およびその製法は、ドイツ特許出願P443484
4.4(本出願時未公開)の対象である。
【0020】スルホン酸基をビナフチル残基におよびフ
ェニル残基に導入するために、式(II)のジホスフィン
をスルホン化剤としての発煙硫酸の状態の過剰の三酸化
硫黄で処理する。濃硫酸はスルホン化すべきジホスフィ
ンのための溶剤として使用できることが判っている。ジ
ホスフィンと硫酸とより成る溶液を発煙硫酸中に分けて
導入してもよいしまたは発煙硫酸の一部と混合してもよ
い。反応混合物を激しく攪拌し、それを十分に冷しそし
て反応成分同志をゆっくりと且つ少量ずつ一緒にするの
が有利である。何故ならば、反応熱を容易に放散させる
ことができるからである。こうすることによって、スル
ホン化が無制御状態で進むのを防げるが、SO3 H基が
ビナフチル残基およびフェニル残基中に旨く導入され
る。さらにリンの酸化が効果的に抑制される。全部のス
ルホン化剤またはジホスフィンを添加した後に、後反応
を室温、即ち約20〜25℃で、実質的に外部冷却せず
に実施することができる。しかしながら、まだ発生する
反応熱を一様に分配しそして遅滞なく放散させることが
できるように、この段階でも反応混合物を攪拌するのが
有利である。
ェニル残基に導入するために、式(II)のジホスフィン
をスルホン化剤としての発煙硫酸の状態の過剰の三酸化
硫黄で処理する。濃硫酸はスルホン化すべきジホスフィ
ンのための溶剤として使用できることが判っている。ジ
ホスフィンと硫酸とより成る溶液を発煙硫酸中に分けて
導入してもよいしまたは発煙硫酸の一部と混合してもよ
い。反応混合物を激しく攪拌し、それを十分に冷しそし
て反応成分同志をゆっくりと且つ少量ずつ一緒にするの
が有利である。何故ならば、反応熱を容易に放散させる
ことができるからである。こうすることによって、スル
ホン化が無制御状態で進むのを防げるが、SO3 H基が
ビナフチル残基およびフェニル残基中に旨く導入され
る。さらにリンの酸化が効果的に抑制される。全部のス
ルホン化剤またはジホスフィンを添加した後に、後反応
を室温、即ち約20〜25℃で、実質的に外部冷却せず
に実施することができる。しかしながら、まだ発生する
反応熱を一様に分配しそして遅滞なく放散させることが
できるように、この段階でも反応混合物を攪拌するのが
有利である。
【0021】達成可能なスルホン化度のための重要なフ
ァクターは、特に発煙硫酸中のSO 3 の濃度、反応温度
および反応時間である。これらのパラメーターは互いに
影響し合う。10〜65重量% 、特に40〜65重量%
の遊離の三酸化硫黄を含有する発煙硫酸を使用するのが
有効であることが判っている。
ァクターは、特に発煙硫酸中のSO 3 の濃度、反応温度
および反応時間である。これらのパラメーターは互いに
影響し合う。10〜65重量% 、特に40〜65重量%
の遊離の三酸化硫黄を含有する発煙硫酸を使用するのが
有効であることが判っている。
【0022】反応温度は既に上述した通り、0〜25
℃、殊に0〜20℃、特に0〜10℃である。スルホン
化剤は式(I)のジホスフィンを基準として過剰に使用
することができる。式(II)のジホスフィン1モル当た
り25〜80モル、好ましくは40〜70モルの三酸化
硫黄を使用するのが有利である。遊離SO3 を高濃度で
含有する発煙硫酸、即ち三酸化硫黄を約40〜65重量
% およびそれ以上の割合で含有する発煙硫酸は、少なく
とも4つのSO3 H基を持ちかつ結果として非常に容易
に水に溶解する生成物をもたらす。約40重量% より少
ない発煙硫酸中遊離SO 3 濃度ではスルホン化度の低い
生成物、即ち低い水溶性のジホスフィンが生じる。
℃、殊に0〜20℃、特に0〜10℃である。スルホン
化剤は式(I)のジホスフィンを基準として過剰に使用
することができる。式(II)のジホスフィン1モル当た
り25〜80モル、好ましくは40〜70モルの三酸化
硫黄を使用するのが有利である。遊離SO3 を高濃度で
含有する発煙硫酸、即ち三酸化硫黄を約40〜65重量
% およびそれ以上の割合で含有する発煙硫酸は、少なく
とも4つのSO3 H基を持ちかつ結果として非常に容易
に水に溶解する生成物をもたらす。約40重量% より少
ない発煙硫酸中遊離SO 3 濃度ではスルホン化度の低い
生成物、即ち低い水溶性のジホスフィンが生じる。
【0023】原則として更に高いSO3 濃度を使用する
ことが可能であるが、スルホン化よりも非常に強くホス
フィン酸化物を生ずるジホスフィンの酸化を一般に促進
させ、全体としてスルホン化ジホスフィンの収率が低下
してしまう。同じ理由で、遊離SO3 の低い濃度を温度
を高めることによって補うことは有利でない。反対にジ
ホスフィンのスルホン化度は反応時間によって旨く影響
させ得る。長い反応時間は短い反応時間よりもよりスル
ホン化度の高い化合物をもたらす。上述の温度範囲内で
の反応は一般に10〜60時間、特に15〜48時間を
必要とする。この反応時間は約40重量% 以上の遊離の
三酸化硫黄を含有する発煙硫酸を使用する場合に当ては
まる。更に低い濃度の発煙硫酸は、長い反応時間を掛け
ても、部分的にしかスルホン化されていない化合物をも
たらし、酸化生成物の形成が増えるのを完全に避けるこ
とができない。
ことが可能であるが、スルホン化よりも非常に強くホス
フィン酸化物を生ずるジホスフィンの酸化を一般に促進
させ、全体としてスルホン化ジホスフィンの収率が低下
してしまう。同じ理由で、遊離SO3 の低い濃度を温度
を高めることによって補うことは有利でない。反対にジ
ホスフィンのスルホン化度は反応時間によって旨く影響
させ得る。長い反応時間は短い反応時間よりもよりスル
ホン化度の高い化合物をもたらす。上述の温度範囲内で
の反応は一般に10〜60時間、特に15〜48時間を
必要とする。この反応時間は約40重量% 以上の遊離の
三酸化硫黄を含有する発煙硫酸を使用する場合に当ては
まる。更に低い濃度の発煙硫酸は、長い反応時間を掛け
ても、部分的にしかスルホン化されていない化合物をも
たらし、酸化生成物の形成が増えるのを完全に避けるこ
とができない。
【0024】それ故にスルホン化は比較的に高濃度の発
煙硫酸を用いて実施するのが有利であり且つスルホン化
度は反応時間によって制御する。スルホン化に続いて反
応混合物を加水分解する。この方法段階では、約30℃
の温度を超えないように注意する必要がある。加水分解
は0〜25℃、特に15〜25℃の温度で実施するのが
有利である。それ故に反応混合物を氷に注意深く注ぎ掛
けるかまたは氷水を用いて加水分解を実施しそして強力
に外部冷却を行うのが有利である。
煙硫酸を用いて実施するのが有利であり且つスルホン化
度は反応時間によって制御する。スルホン化に続いて反
応混合物を加水分解する。この方法段階では、約30℃
の温度を超えないように注意する必要がある。加水分解
は0〜25℃、特に15〜25℃の温度で実施するのが
有利である。それ故に反応混合物を氷に注意深く注ぎ掛
けるかまたは氷水を用いて加水分解を実施しそして強力
に外部冷却を行うのが有利である。
【0025】異なるスルホン化段階の式(I)のジホス
フィンと硫酸とを主成分として含有する薄い溶液は他の
方法段階で後処理する。この目的のためにこの硫酸溶液
を中和する。即ち、加水分解したスルホン化混合物をア
ルカリ剤、例えばアルカリ金属炭酸塩またはアルカリ金
属水酸化物と反応させ、アルカリ金属硫酸塩を分離除去
し、溶液を蒸発処理しそして式(I)のスルホン化ジホ
スフィンを炭素原子数5までのアルコールと水との混合
物を用いて抽出して、残留物から分離する。
フィンと硫酸とを主成分として含有する薄い溶液は他の
方法段階で後処理する。この目的のためにこの硫酸溶液
を中和する。即ち、加水分解したスルホン化混合物をア
ルカリ剤、例えばアルカリ金属炭酸塩またはアルカリ金
属水酸化物と反応させ、アルカリ金属硫酸塩を分離除去
し、溶液を蒸発処理しそして式(I)のスルホン化ジホ
スフィンを炭素原子数5までのアルコールと水との混合
物を用いて抽出して、残留物から分離する。
【0026】反応混合物の体積を不必要に増大させず且
つ生じるアルカリ金属硫酸塩を沈澱させるために、中和
剤は高濃度溶液としてまたは未溶解の固体の状態で、例
えば水酸化ナトリウムのフレーク状物、水酸化ナトリウ
ムのペレット状物を使用する。低温では溶解性が低いの
で、アルカリ金属硫酸塩の大部分は冷却することによっ
て溶液から除くことができる。この目的に適する温度は
溶液中の硫酸塩の濃度およびそれの溶解性の温度依存度
に左右される。それ故に最も有利な条件はそれぞれの場
合に実験的に確かめるべきである。硫酸塩の除去は一段
階または多段階で実施することができる。二つの段階で
結晶化を行うのが有利であることが判っている。
つ生じるアルカリ金属硫酸塩を沈澱させるために、中和
剤は高濃度溶液としてまたは未溶解の固体の状態で、例
えば水酸化ナトリウムのフレーク状物、水酸化ナトリウ
ムのペレット状物を使用する。低温では溶解性が低いの
で、アルカリ金属硫酸塩の大部分は冷却することによっ
て溶液から除くことができる。この目的に適する温度は
溶液中の硫酸塩の濃度およびそれの溶解性の温度依存度
に左右される。それ故に最も有利な条件はそれぞれの場
合に実験的に確かめるべきである。硫酸塩の除去は一段
階または多段階で実施することができる。二つの段階で
結晶化を行うのが有利であることが判っている。
【0027】アルカリ金属硫酸塩の沈澱後に、溶液を乾
燥するまで好ましくは減圧下に蒸発処理し、そして異な
るスルホン化度のジホスフィンを結晶スラリーからアル
カリ金属塩の状態で抽出する。適する抽出剤は例えば低
級アルコール、即ち分子中炭素原子数5までのアルコー
ル、例えばメタノール、エタノールまたはプロパノー
ル、と水との混合物である。抽出は一段階または多段
階、特に2〜4段階で慣用の方法にて実施する。抽出物
を一緒にしそして乾燥するまで蒸発処理する。
燥するまで好ましくは減圧下に蒸発処理し、そして異な
るスルホン化度のジホスフィンを結晶スラリーからアル
カリ金属塩の状態で抽出する。適する抽出剤は例えば低
級アルコール、即ち分子中炭素原子数5までのアルコー
ル、例えばメタノール、エタノールまたはプロパノー
ル、と水との混合物である。抽出は一段階または多段
階、特に2〜4段階で慣用の方法にて実施する。抽出物
を一緒にしそして乾燥するまで蒸発処理する。
【0028】硫酸溶液(即ち加水分解したスルホン化混
合物)を水不溶性アミンと有機溶剤との混合物と反応さ
せそしてスルホン化物をアミン塩として抽出するのが有
効であることが判っている。適するアミンは炭素原子数
10〜60、特に13〜36のもの、例えばメチルジオ
クチルアミン、トリ−n−オクチルアミン、トリイソオ
クチルアミン、トリ−2−エチルヘキシルアミン、トリ
ドデシルアミン、特にトリオクチルアミンである。有利
に使用される有機溶剤は脂肪族−および芳香族炭化水素
または炭化水素混合物、例えばトルエンまたは灯油の様
な混合物、特にトルエンである。
合物)を水不溶性アミンと有機溶剤との混合物と反応さ
せそしてスルホン化物をアミン塩として抽出するのが有
効であることが判っている。適するアミンは炭素原子数
10〜60、特に13〜36のもの、例えばメチルジオ
クチルアミン、トリ−n−オクチルアミン、トリイソオ
クチルアミン、トリ−2−エチルヘキシルアミン、トリ
ドデシルアミン、特にトリオクチルアミンである。有利
に使用される有機溶剤は脂肪族−および芳香族炭化水素
または炭化水素混合物、例えばトルエンまたは灯油の様
な混合物、特にトルエンである。
【0029】当量のスルホン酸当たり0.5〜1.5モ
ル、特に0.8〜1.2モルのアミンを使用する。スル
ホン酸溶液とアミンの溶液とを激しく混合した後に、水
性相および有機相を互いに分離する。スルホン化ジホス
フィンのアミン塩を含有する有機相を水に塩基を溶解し
た溶液と反応させる。特に適する塩基の例は水酸化ナト
リウムおよび水酸化カリウムである。この反応で、スル
ホン酸の相応するアルカリ金属塩を分離することのでき
る水溶液が得られる。有利な変法では、水に溶解した塩
基を有機媒体中のアミン塩の溶液に一度に添加せずに、
分けて添加する。
ル、特に0.8〜1.2モルのアミンを使用する。スル
ホン酸溶液とアミンの溶液とを激しく混合した後に、水
性相および有機相を互いに分離する。スルホン化ジホス
フィンのアミン塩を含有する有機相を水に塩基を溶解し
た溶液と反応させる。特に適する塩基の例は水酸化ナト
リウムおよび水酸化カリウムである。この反応で、スル
ホン酸の相応するアルカリ金属塩を分離することのでき
る水溶液が得られる。有利な変法では、水に溶解した塩
基を有機媒体中のアミン塩の溶液に一度に添加せずに、
分けて添加する。
【0030】例えば塩基による一定のpH値またはpH
域の調整によってアミン溶液をこの様に段階的処理する
ことが、スルホン化混合物からホスフィンオキシドを十
分に分離することを可能とし、同時にスルホン化混合物
を色々なスルホン化段階の生成物に部分的に分別するこ
とを可能とする。式(I)の新規のスルホン化ジホスフ
ィンは固体である。スルホン化条件次第でこのものは6
個までのスルホン酸基を有している。アルカリ金属塩は
水に溶解し、その溶解性はスルホン化度に比例して増加
する。
域の調整によってアミン溶液をこの様に段階的処理する
ことが、スルホン化混合物からホスフィンオキシドを十
分に分離することを可能とし、同時にスルホン化混合物
を色々なスルホン化段階の生成物に部分的に分別するこ
とを可能とする。式(I)の新規のスルホン化ジホスフ
ィンは固体である。スルホン化条件次第でこのものは6
個までのスルホン酸基を有している。アルカリ金属塩は
水に溶解し、その溶解性はスルホン化度に比例して増加
する。
【0031】H+ の形のカチオン交換体にてスルホン化
ジホスフィンのアルカリ金属塩溶液を処理することによ
って、遊離酸を製造することができる。新規のスルホン
化ジホスフィンの別の塩は塩基、例えば水酸化物、炭酸
塩、アンモニアまたはアミン類との反応によって酸から
得ることができる。式(I)の新規化合物は芳香族ニト
ロ基を還元するための触媒の成分として特に優れている
ことが判っている。この反応は、本願と同日出願のドイ
ツ特許出願P19506278.7の対象である。該出
願の例5a、5bおよび5cによって示した通り、式
(I)の化合物(例5c参照)は公知の水溶性ホスフィ
ン(例5aおよび5b)よりも著しく高い収率をもたら
す。
ジホスフィンのアルカリ金属塩溶液を処理することによ
って、遊離酸を製造することができる。新規のスルホン
化ジホスフィンの別の塩は塩基、例えば水酸化物、炭酸
塩、アンモニアまたはアミン類との反応によって酸から
得ることができる。式(I)の新規化合物は芳香族ニト
ロ基を還元するための触媒の成分として特に優れている
ことが判っている。この反応は、本願と同日出願のドイ
ツ特許出願P19506278.7の対象である。該出
願の例5a、5bおよび5cによって示した通り、式
(I)の化合物(例5c参照)は公知の水溶性ホスフィ
ン(例5aおよび5b)よりも著しく高い収率をもたら
す。
【0032】スルホン化ジホスフィンは一様な化合物と
して使用する必要がない。異なるスルホン化段階のジホ
スフィンおよび/または色々なカチオンを持つスルホナ
ートを用いることも可能である。以下の実施例によって
本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらに制限
されない。
して使用する必要がない。異なるスルホン化段階のジホ
スフィンおよび/または色々なカチオンを持つスルホナ
ートを用いることも可能である。以下の実施例によって
本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらに制限
されない。
【0033】
【実施例】実施例1 2.0g (3.02mmol)の2−(ジフェニルホス
フィノメチル)−2’−(ジシクロヘキシルホスフィノ
メチル)−1,1’−ビナフチル(公知文献でないドイ
ツ特許出願P4434844.4号の実施例2に記載さ
れたように製造されたもの)を、0〜10℃で7mlの
96% 濃度硫酸に溶解し、3〜7℃の温度に維持してい
る間に12.5mlの65% 濃度発煙硫酸と混合し、次
いで室温で22時間攪拌する。次に82mlの水を0〜
5℃で約30分にわたってスルホン化混合物に滴加す
る。
フィノメチル)−2’−(ジシクロヘキシルホスフィノ
メチル)−1,1’−ビナフチル(公知文献でないドイ
ツ特許出願P4434844.4号の実施例2に記載さ
れたように製造されたもの)を、0〜10℃で7mlの
96% 濃度硫酸に溶解し、3〜7℃の温度に維持してい
る間に12.5mlの65% 濃度発煙硫酸と混合し、次
いで室温で22時間攪拌する。次に82mlの水を0〜
5℃で約30分にわたってスルホン化混合物に滴加す
る。
【0034】スルホン化生成物を水性相から分離するた
めに、40mlのトルエンに10.5mlのトリイソオ
クチルアミンを溶解した溶液にて水性相を室温で2時間
抽出処理する。水性相を分離しそして捨てる。次に有機
相は3重量% 濃度水酸化ナトリウム溶液を三段階で添加
することによって室温で抽出処理する。1.1〜3.8
のpHにて30mlの水性相が生じる(再抽出物1、硫
酸塩含有)。3.8〜6のpH域では、30mlの水性
相が生じる(再抽出物2)。pH6〜12.5の範囲で
は、所望の生成物フラクションが分離され、その際に2
5mlの水溶液(再抽出物3)が得られる。
めに、40mlのトルエンに10.5mlのトリイソオ
クチルアミンを溶解した溶液にて水性相を室温で2時間
抽出処理する。水性相を分離しそして捨てる。次に有機
相は3重量% 濃度水酸化ナトリウム溶液を三段階で添加
することによって室温で抽出処理する。1.1〜3.8
のpHにて30mlの水性相が生じる(再抽出物1、硫
酸塩含有)。3.8〜6のpH域では、30mlの水性
相が生じる(再抽出物2)。pH6〜12.5の範囲で
は、所望の生成物フラクションが分離され、その際に2
5mlの水溶液(再抽出物3)が得られる。
【0035】再抽出物2および3の分析データ: 再抽出物2:31 P−NMRスペクトル(H2 O、pH3.6〜6) δ31P〔P(Ar)2 P〕(III) :−14.4;−1
0.1;−9.2ppm(48% ) δ31P〔P(O)(シクロヘキシル)2 〕P(V):+
23.1;+25.2(47% ) 再抽出物3:31 P−NMRスペクトル(H2 O、pH6〜12.5) δ31P〔P(Ar)2 P〕(III) :−11.3;−1
0.1;−9.4ppm(48% ) δ31P〔P(シクロヘキシル)2 〕P(III):+3.
6;+4.2;+4.5;+4.9ppm(51% )実施例2 2.0g (3.02mmol)の2−(ジフェニルホス
フィノメチル)−2’−(ジシクロヘキシルホスフィノ
メチル)−1,1’−ビナフチルを、実施例1と同様に
反応させ、その際に25mlの水溶液(再抽出物3)を
得る。この水溶液(再抽出物3)を6〜12.5のpH
域で分離し、所望の生成物フラクションを含有する水溶
液を10-2mmHg/80℃で10mlに濃縮する。8
0mlのアセトンを次いで添加し、褐色の油状物を得
る。上澄み溶液をデカンテーションで除き、残りを少量
のメタノール(約3ml)に溶解しそして30mlのエ
タノールの添加によって再沈澱させる。得られる固体を
濾別しそして過剰のエタノール、アセトンおよび石油エ
ーテル(40〜60℃の低沸点)で洗浄しそして乾燥す
る。褐色の粉末が得られる。 収量:780mg 融点:>230℃1 H−NMRスペクトル:(D2 O) δ=0.43〜1.87(m、脂環式基−H);2.2
5〜2.87〔m−CH2 −P(シクロヘキシ
ル)2 〕、3.43〜3.84〔m−CH2 −P(A
r)2 〕;7.0〜8.85(m、アリール−H)。31 P−NMRスペクトル:(D2 O) δ31P〔P(Ar)2 P〕(III) :−11.9;−1
1.2;−10.2;−9.6ppm(48% ) δ31P〔P(シクロヘキシル)2 〕P(III) :+3.
6;+3.9;+4.3;+4.6ppm(47% ) 質量スペクトル: M+ =947(20% )、969(20% )、1027
(60% )、1049(100% )、1071(50%
)、1142(20% )、1151(20%)、117
3(10% )。
0.1;−9.2ppm(48% ) δ31P〔P(O)(シクロヘキシル)2 〕P(V):+
23.1;+25.2(47% ) 再抽出物3:31 P−NMRスペクトル(H2 O、pH6〜12.5) δ31P〔P(Ar)2 P〕(III) :−11.3;−1
0.1;−9.4ppm(48% ) δ31P〔P(シクロヘキシル)2 〕P(III):+3.
6;+4.2;+4.5;+4.9ppm(51% )実施例2 2.0g (3.02mmol)の2−(ジフェニルホス
フィノメチル)−2’−(ジシクロヘキシルホスフィノ
メチル)−1,1’−ビナフチルを、実施例1と同様に
反応させ、その際に25mlの水溶液(再抽出物3)を
得る。この水溶液(再抽出物3)を6〜12.5のpH
域で分離し、所望の生成物フラクションを含有する水溶
液を10-2mmHg/80℃で10mlに濃縮する。8
0mlのアセトンを次いで添加し、褐色の油状物を得
る。上澄み溶液をデカンテーションで除き、残りを少量
のメタノール(約3ml)に溶解しそして30mlのエ
タノールの添加によって再沈澱させる。得られる固体を
濾別しそして過剰のエタノール、アセトンおよび石油エ
ーテル(40〜60℃の低沸点)で洗浄しそして乾燥す
る。褐色の粉末が得られる。 収量:780mg 融点:>230℃1 H−NMRスペクトル:(D2 O) δ=0.43〜1.87(m、脂環式基−H);2.2
5〜2.87〔m−CH2 −P(シクロヘキシ
ル)2 〕、3.43〜3.84〔m−CH2 −P(A
r)2 〕;7.0〜8.85(m、アリール−H)。31 P−NMRスペクトル:(D2 O) δ31P〔P(Ar)2 P〕(III) :−11.9;−1
1.2;−10.2;−9.6ppm(48% ) δ31P〔P(シクロヘキシル)2 〕P(III) :+3.
6;+3.9;+4.3;+4.6ppm(47% ) 質量スペクトル: M+ =947(20% )、969(20% )、1027
(60% )、1049(100% )、1071(50%
)、1142(20% )、1151(20%)、117
3(10% )。
【0036】実施例3 2.0g (3.02mmol)の2−(ジフェニルホス
フィノメチル)−2’−(ジシクロヘキシルホスフィノ
メチル)−1,1’−ビナフチルを、実施例1と同様に
反応させる。反応時間は22時間である。スルホン化生
成物を水性相から分離するために、100mlのトルエ
ンに26.3mlのトリイソオクチルアミンを溶解した
溶液でこの水性相を室温で1時間抽出処理する。水性相
を捨てる。次いで有機相を3重量% 濃度水酸化ナトリウ
ム溶液を添加して室温で三段階で抽出処理する。3のp
Hまでで、30mlの水性相が生じる(再抽出物1、硫
酸塩)。3〜6のpH域で55mlの水性相が生じる
(再抽出物2)。6〜13のpH域では所望の生成物が
分離され、その際に40mlの水溶液(再抽出物3)が
一緒に得られる。
フィノメチル)−2’−(ジシクロヘキシルホスフィノ
メチル)−1,1’−ビナフチルを、実施例1と同様に
反応させる。反応時間は22時間である。スルホン化生
成物を水性相から分離するために、100mlのトルエ
ンに26.3mlのトリイソオクチルアミンを溶解した
溶液でこの水性相を室温で1時間抽出処理する。水性相
を捨てる。次いで有機相を3重量% 濃度水酸化ナトリウ
ム溶液を添加して室温で三段階で抽出処理する。3のp
Hまでで、30mlの水性相が生じる(再抽出物1、硫
酸塩)。3〜6のpH域で55mlの水性相が生じる
(再抽出物2)。6〜13のpH域では所望の生成物が
分離され、その際に40mlの水溶液(再抽出物3)が
一緒に得られる。
【0037】再抽出物2および3の分析データ: 再抽出物2:31 P−NMRスペクトル(H2 O、pH3〜6) δ31P〔P(Ar)2 P〕(III) :−10.0ppm
(20% ) δ31P〔P(O)(Ar)2 P〕+〔P(O)(シクロ
ヘキシル)2 〕P(V):+25;+34、+57pp
m(80% ) 全含有量3.1g 融点:>230℃ 再抽出物3:(所望の生成物)31 P−NMRスペクトル(H2 O、pH6〜13) δ31P〔P(Ar)2 P〕(III) :−11.4;−9.
5;−9.0ppm(強度の48% ) δ31P〔P(シクロヘキシル)2 〕P(III):+3.
8;+4.3;+4.9ppm(強度の47% ) 全含有量4.8g 融点:>230℃ 質量スペクトル: M+ =969(25% )、1049(60% )、107
1(100% )、1093(80% )、1173(20
% )。 元素分析: 13.0重量% の硫黄;5.2重量% のリン;9.1重
量% のナトリウム。
(20% ) δ31P〔P(O)(Ar)2 P〕+〔P(O)(シクロ
ヘキシル)2 〕P(V):+25;+34、+57pp
m(80% ) 全含有量3.1g 融点:>230℃ 再抽出物3:(所望の生成物)31 P−NMRスペクトル(H2 O、pH6〜13) δ31P〔P(Ar)2 P〕(III) :−11.4;−9.
5;−9.0ppm(強度の48% ) δ31P〔P(シクロヘキシル)2 〕P(III):+3.
8;+4.3;+4.9ppm(強度の47% ) 全含有量4.8g 融点:>230℃ 質量スペクトル: M+ =969(25% )、1049(60% )、107
1(100% )、1093(80% )、1173(20
% )。 元素分析: 13.0重量% の硫黄;5.2重量% のリン;9.1重
量% のナトリウム。
【0038】これから次のモル比が得られる:P:S=
1:2.5、 P:Na=1:2.5、 S:Na=
1:1; これらの比は5つのSO3 H基が2−(ジフ
ェニルホスフィノメチル)−2’−(ジシクロヘキシル
ホスフィノメチル)−1,1’−ビナフタレン分子中に
導入されていることに相当する。
1:2.5、 P:Na=1:2.5、 S:Na=
1:1; これらの比は5つのSO3 H基が2−(ジフ
ェニルホスフィノメチル)−2’−(ジシクロヘキシル
ホスフィノメチル)−1,1’−ビナフタレン分子中に
導入されていることに相当する。
【0039】実施例4 15.0g (22.6mmol)の2−(ジフェニルホ
スフィノメチル)−2’−(ジシクロヘキシルホスフィ
ノメチル)−1,1’−ビナフチルを、0〜10℃で7
2.7g の96% 濃度スルホン酸に溶解し、3〜7℃の
温度に維持しながら145.9g の65% 濃度の発煙硫
酸と混合し、次いで室温で48時間攪拌する。加水分解
のために、スルホン化混合物を10℃以下の温度で40
0mlの水に滴加する。
スフィノメチル)−2’−(ジシクロヘキシルホスフィ
ノメチル)−1,1’−ビナフチルを、0〜10℃で7
2.7g の96% 濃度スルホン酸に溶解し、3〜7℃の
温度に維持しながら145.9g の65% 濃度の発煙硫
酸と混合し、次いで室温で48時間攪拌する。加水分解
のために、スルホン化混合物を10℃以下の温度で40
0mlの水に滴加する。
【0040】スルホン化生成物を水溶液から分離するた
めに、150mlのトルエンに57.6g のトリイソオ
クチルアミンを溶解した溶液でこの水性相を40℃で1
時間抽出処理する。次いで有機相を3重量% 濃度水酸化
ナトリウム溶液を添加して室温で三段階で抽出処理す
る。3のpHまでで、300mlの水性相が生じる(再
抽出物1)。この分別物は殆ど硫酸塩より成り、捨てて
もよい。3〜6のpH域で100mlの水性相が生じる
(再抽出物2)。6〜12のpH域では所望の生成物が
分離され、その際に70mlの水溶液(再抽出物3)が
一緒に得られる。
めに、150mlのトルエンに57.6g のトリイソオ
クチルアミンを溶解した溶液でこの水性相を40℃で1
時間抽出処理する。次いで有機相を3重量% 濃度水酸化
ナトリウム溶液を添加して室温で三段階で抽出処理す
る。3のpHまでで、300mlの水性相が生じる(再
抽出物1)。この分別物は殆ど硫酸塩より成り、捨てて
もよい。3〜6のpH域で100mlの水性相が生じる
(再抽出物2)。6〜12のpH域では所望の生成物が
分離され、その際に70mlの水溶液(再抽出物3)が
一緒に得られる。
【0041】再抽出物2および3の分析データ: 再抽出物2:31 P−NMRスペクトル(H2 O、pH3〜6) δ31P〔P(Ar)2 P〕(III) :−12.3;−1
1.8;−9.7;−8.9ppm(35% ) δ31P〔P(O)(Ar)2 P〕+〔P(O)(シクロ
ヘキシル)2 〕P(V):+20.2;+57.8pp
m(56% ) 全含有量6.9g 融点:>230℃ 再抽出物3:31 P−NMRスペクトル(H2 O、pH6〜12) δ31P〔P(Ar)2 P〕(III) :−11.8;−1
1.6;−11.0;−10.9;−10.4;−9.
1ppm(47% ) δ31P〔P(シクロヘキシル)2 〕P(III):+3.
7;+4.0;+4.2;+4.9;+5.7ppm
(48% ) 全含有量:11.2g 融点:>230℃1 H−NMRスペクトル:(D2 O) δ=0.43〜1.88(m、脂環式基);2.58〜
2.82〔m、−CH2 −P(シクロヘキシル)2 〕;
3.35〜3.70〔m、−CH2 −P(Ar)2 〕;
6.76〜8.94(m、アリール−H)。31 P−NMRスペクトル:(D2 O) δ31P〔P(Ar)2 P〕(III) :−11.7;−1
1.3;−10.7;−10.3;−9.3ppm(4
8% ) δ31P〔P(シクロヘキシル)2 〕P(III) :+3.
7;+4.3;+4.6ppm(48% ) 質量スペクトル: M+ =923(50% )、945(50% )、1003
(80% )、1025(100% )。 元素分析: 12.4重量% の硫黄;4.3重量% のリン;9.9重
量% のナトリウム。
1.8;−9.7;−8.9ppm(35% ) δ31P〔P(O)(Ar)2 P〕+〔P(O)(シクロ
ヘキシル)2 〕P(V):+20.2;+57.8pp
m(56% ) 全含有量6.9g 融点:>230℃ 再抽出物3:31 P−NMRスペクトル(H2 O、pH6〜12) δ31P〔P(Ar)2 P〕(III) :−11.8;−1
1.6;−11.0;−10.9;−10.4;−9.
1ppm(47% ) δ31P〔P(シクロヘキシル)2 〕P(III):+3.
7;+4.0;+4.2;+4.9;+5.7ppm
(48% ) 全含有量:11.2g 融点:>230℃1 H−NMRスペクトル:(D2 O) δ=0.43〜1.88(m、脂環式基);2.58〜
2.82〔m、−CH2 −P(シクロヘキシル)2 〕;
3.35〜3.70〔m、−CH2 −P(Ar)2 〕;
6.76〜8.94(m、アリール−H)。31 P−NMRスペクトル:(D2 O) δ31P〔P(Ar)2 P〕(III) :−11.7;−1
1.3;−10.7;−10.3;−9.3ppm(4
8% ) δ31P〔P(シクロヘキシル)2 〕P(III) :+3.
7;+4.3;+4.6ppm(48% ) 質量スペクトル: M+ =923(50% )、945(50% )、1003
(80% )、1025(100% )。 元素分析: 12.4重量% の硫黄;4.3重量% のリン;9.9重
量% のナトリウム。
【0042】これから次のモル比が得られる:P:S=
1:3、 P:Na=1:3、 S:Na=1:1;
これらの比は6つのSO3 H基が2−(ジフェニルホス
フィノメチル)−2’−(ジシクロヘキシルホスフィノ
メチル)−1,1’−ビナフタレン分子中に導入されて
いることに相当する。
1:3、 P:Na=1:3、 S:Na=1:1;
これらの比は6つのSO3 H基が2−(ジフェニルホス
フィノメチル)−2’−(ジシクロヘキシルホスフィノ
メチル)−1,1’−ビナフタレン分子中に導入されて
いることに相当する。
【0043】実施例5 2.28g (3.4mmol)の2−(ジフェニルホス
フィノメチル)−2’−(ジシクロヘキシルホスフィノ
メチル)−1,1’−ビナフチルを、8mlの96% 濃
度硫酸中に0〜10℃で溶解し、3〜7℃の温度を維持
しながら14.3mlの65% 濃度発煙硫酸と混合し、
次いで室温で2時間攪拌する。次にスルホン化混合物を
30分にわたって94mlの水(O2 不含)に10℃以
下で滴加する。スルホン化生成物を水性相から分離する
ために、47mlのトルエンに12mlのトリイソオク
チルアミン(TIOA)を溶解した溶液でこの水性相を
室温で1時間抽出処理する。水性相を捨てる。次いで有
機相を3重量% 濃度水酸化ナトリウム溶液を添加して室
温で三段階で抽出処理する。3のpHまでで、50ml
の水性相が生じる(再抽出物1、硫酸塩)。3〜7のp
H域で34mlの水性相が生じる(再抽出物2)。再抽
出3は省く。
フィノメチル)−2’−(ジシクロヘキシルホスフィノ
メチル)−1,1’−ビナフチルを、8mlの96% 濃
度硫酸中に0〜10℃で溶解し、3〜7℃の温度を維持
しながら14.3mlの65% 濃度発煙硫酸と混合し、
次いで室温で2時間攪拌する。次にスルホン化混合物を
30分にわたって94mlの水(O2 不含)に10℃以
下で滴加する。スルホン化生成物を水性相から分離する
ために、47mlのトルエンに12mlのトリイソオク
チルアミン(TIOA)を溶解した溶液でこの水性相を
室温で1時間抽出処理する。水性相を捨てる。次いで有
機相を3重量% 濃度水酸化ナトリウム溶液を添加して室
温で三段階で抽出処理する。3のpHまでで、50ml
の水性相が生じる(再抽出物1、硫酸塩)。3〜7のp
H域で34mlの水性相が生じる(再抽出物2)。再抽
出3は省く。
【0044】再抽出物2の分析データ: 全含有量:1.40g 融点:>230℃ 質量スペクトル: M+ =925(40% )、947(50% )、969
(40% )、1003(30% )、1027(60%
)、1049(80% )、1071(40% )。
(40% )、1003(30% )、1027(60%
)、1049(80% )、1071(40% )。
【0045】1H−NMRスペクトル:(D2 O) δ=0.35〜1.94(m、脂環式基);2.35〜
2.70〔m、−CH2 −P(シクロヘキシル)2 〕;
3.40〜3.58〔m、−CH2 −P(Ar)2 〕;
6.82〜8.88(m、アリール−H)。31 P−NMRスペクトル:(D2 O) δ31P〔P(Ar)2 P〕(III) :−11.5;−1
0.5;−9.50ppm(45% ) δ31P〔P(シクロヘキシル)2 〕P(III) :+2.
0;+6.5ppm(42% )実施例6 操作は実施例5に記載の通りであるが、反応時間は7時
間である。3のpHまでで、60mlの水性相が生じる
(再抽出物1、硫酸塩)。3〜7のpH域で35mlの
水性相が生じる(再抽出物2)。再抽出3は省く。
2.70〔m、−CH2 −P(シクロヘキシル)2 〕;
3.40〜3.58〔m、−CH2 −P(Ar)2 〕;
6.82〜8.88(m、アリール−H)。31 P−NMRスペクトル:(D2 O) δ31P〔P(Ar)2 P〕(III) :−11.5;−1
0.5;−9.50ppm(45% ) δ31P〔P(シクロヘキシル)2 〕P(III) :+2.
0;+6.5ppm(42% )実施例6 操作は実施例5に記載の通りであるが、反応時間は7時
間である。3のpHまでで、60mlの水性相が生じる
(再抽出物1、硫酸塩)。3〜7のpH域で35mlの
水性相が生じる(再抽出物2)。再抽出3は省く。
【0046】再抽出物2の分析データ: 31 P−NMRスペクトル:(H2 O、pH3〜7) δ31P〔P(Ar)2 P〕(III) :−11.5;−1
0.5;−9.50ppm(45% ) δ31P〔P(シクロヘキシル)2 〕P(III) :+2.
0;+6.5ppm(42% ) 全含有量:2.0g 融点:>230℃ 質量スペクトル: M+ =925(40% )、947(60% )、969
(65% )、991(20% )、1003(20% )、
1031(60% )、1049(100% )、1071
(80% ) 、1093(20% )。
0.5;−9.50ppm(45% ) δ31P〔P(シクロヘキシル)2 〕P(III) :+2.
0;+6.5ppm(42% ) 全含有量:2.0g 融点:>230℃ 質量スペクトル: M+ =925(40% )、947(60% )、969
(65% )、991(20% )、1003(20% )、
1031(60% )、1049(100% )、1071
(80% ) 、1093(20% )。
【0047】実施例7 操作は実施例5に記載の通りであるが、反応時間は72
時間である。3のpHまでに75mlの水性相が生じる
(再抽出物1、硫酸塩)。3〜5.5のpH域で17m
lの水性相が生じる(再抽出物2)。5.5〜12のp
H域では、所望の生成物が分離され、その際に33ml
の水溶液(再抽出物3)が得られる。
時間である。3のpHまでに75mlの水性相が生じる
(再抽出物1、硫酸塩)。3〜5.5のpH域で17m
lの水性相が生じる(再抽出物2)。5.5〜12のp
H域では、所望の生成物が分離され、その際に33ml
の水溶液(再抽出物3)が得られる。
【0048】再抽出物2および3の分析データ: 再抽出物2:31 P−NMRスペクトル:(H2 O、pH3〜5.5) δ31P P(III) :−12.0;−11.6;−9.6
ppm(35% ) δ31P P(V):+33.2;+57.2ppm(5
6% ) 全含有量:1.10g 融点:>230℃ 再抽出物3:1 H−NMRスペクトル:(D2 O) δ=0.41〜1.88(m、脂環式基);2.23〜
2.64〔m、−CH2 −P(シクロヘキシル)2 〕;
3.35〜3.76〔m、−CH2 −P(Ar)2 〕;
6.82〜8.88(m、アリール−H)。31 P−NMRスペクトル:(D2 O) δ31P〔P(Ar)2 P〕(III) :−11.6;−1
0.4;−9.2;−8.4ppm(40% ) δ31P〔P(シクロヘキシル)2 〕P(III) :+4.
0;+4.4;+5.2ppm(32% ) 全含有量:1.75g 融点:>230℃ 質量スペクトル: M+ =961(40% )、1003(60% )、102
5(100% )。
ppm(35% ) δ31P P(V):+33.2;+57.2ppm(5
6% ) 全含有量:1.10g 融点:>230℃ 再抽出物3:1 H−NMRスペクトル:(D2 O) δ=0.41〜1.88(m、脂環式基);2.23〜
2.64〔m、−CH2 −P(シクロヘキシル)2 〕;
3.35〜3.76〔m、−CH2 −P(Ar)2 〕;
6.82〜8.88(m、アリール−H)。31 P−NMRスペクトル:(D2 O) δ31P〔P(Ar)2 P〕(III) :−11.6;−1
0.4;−9.2;−8.4ppm(40% ) δ31P〔P(シクロヘキシル)2 〕P(III) :+4.
0;+4.4;+5.2ppm(32% ) 全含有量:1.75g 融点:>230℃ 質量スペクトル: M+ =961(40% )、1003(60% )、102
5(100% )。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 デイーター・レグナート ドイツ連邦共和国、65817 エップシユタ イン、ポムメルンリング、10・1 (72)発明者 ハンス− イエルク・クライナー ドイツ連邦共和国、61476 クロンベルク、 アルトケーニッヒストラーセ、11アー
Claims (17)
- 【請求項1】 式(I) 【化1】 〔式中、Mは水素原子、アンモニウム、一価の金属また
は当量の多価金属であり、a+b+c+dが1〜4の整
数であるという条件のもとでa、b、cおよびdはそれ
ぞれ0または1であり、Arはm−(MSO3 )−C6
H4 残基(ただしMは上に規定した通り)であり、nは
0、1または2であり、Phはフェニル残基であり、R
1 およびR2 は互いに同じでも異なっていてもよく、1
〜10の炭素原子を持つアルキル残基であるかまたは環
中炭素原子数5〜10の脂環式残基である。〕で表され
るスルホン化ジホスフィン。 - 【請求項2】 Mが水素原子またはアルカリ金属イオン
である請求項1に記載のスルホン化ジホスフィン。 - 【請求項3】 Mが水素原子、Na+ またはK+ である
請求項1または2に記載のスルホン化ジホスフィン。 - 【請求項4】 MがNa+ である請求項1〜3のいずれ
か一つに記載のスルホン化ジホスフィン。 - 【請求項5】 a+b+c+dが2〜4の整数である請
求項1〜4のいずれか一つに記載のスルホン化ジホスフ
ィン。 - 【請求項6】 nが0または1である請求項1〜5のい
ずれか一つに記載のスルホン化ジホスフィン。 - 【請求項7】 nが2である請求項1〜5のいずれか一
つに記載のスルホン化ジホスフィン。 - 【請求項8】 R1 およびR2 がそれぞれ炭素原子数1
〜6のアルキル残基である請求項1〜7のいずれか一つ
に記載のスルホン化ジホスフィン。 - 【請求項9】 R1 およびR2 がそれぞれ環中炭素原子
数5〜6の脂環式残基である請求項1〜8のいずれか一
つに記載のスルホン化ジホスフィン。 - 【請求項10】 請求項1〜9のいずれか一つに記載の
スルホン化ジホスフィンを製造する方法において、式
(II) 【化2】 〔式中、Ar、n、Ph、R1 およびR2 が上に規定し
た通りである。〕で表されるジホスフィンを0〜25℃
の温度で発煙硫酸でスルホン化し、そのスルホン化混合
物を加水分解しそして加水分解されたスルホン化混合物
から式(I)のスルホン化ジホスフィンを分離すること
を特徴とする上記方法。 - 【請求項11】 n=2である式(II)のジホスフィン
を使用する請求項10に記載の方法。 - 【請求項12】 スルホン化に使用する発煙硫酸が10
〜65重量% 、特に40〜65重量% の遊離の三酸化硫
黄を含有している請求項10または11に記載の方法。 - 【請求項13】 1モルの式(II)のジホスフィン当た
り25〜80モル、特に40〜70モルの三酸化硫黄を
使用する請求項10〜12のいずれか一つに記載の方
法。 - 【請求項14】 スルホン化を0〜20℃、特に0〜1
0℃の温度で実施する請求項10〜13のいずれか一つ
に記載の方法。 - 【請求項15】 スルホン化混合物の加水分解を約30
℃まで、好ましくは0〜25℃の温度で実施する請求項
10〜14のいずれか一つに記載の方法。 - 【請求項16】 加水分解されたスルホン化混合物をア
ルカリ金属炭酸塩またはアルカリ金属水酸化物で中和
し、アルカリ金属硫酸塩を分離除去し、水溶液を蒸発さ
せそして式(I)のスルホン化ジホスフンを分子中に5
個までの炭素原子を持つアルコールと水との混合物を用
いて残留物から抽出する、請求項10〜15のいずれか
一つに記載の方法。 - 【請求項17】 加水分解されたスルホン化混合物を、
水不溶性アミンと有機溶剤との混合物、特にトリイソオ
クチルアミンとトルエンとの混合物と反応させ、スルホ
ン化物をアミン塩として抽出しそしてアミン塩の溶液を
塩基、特に水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウムを水
に溶解した溶液と場合によっては数回に分けて混合す
る、請求項10〜16のいずれか一つに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19506279:5 | 1995-02-23 | ||
| DE19506279A DE19506279A1 (de) | 1995-02-23 | 1995-02-23 | Sulfonierte Diphosphane und ein Verfahren zu ihrer Herstellung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08253492A true JPH08253492A (ja) | 1996-10-01 |
Family
ID=7754819
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8033542A Withdrawn JPH08253492A (ja) | 1995-02-23 | 1996-02-21 | スルホン化ジホスフィンおよびその製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5684182A (ja) |
| EP (1) | EP0728762B1 (ja) |
| JP (1) | JPH08253492A (ja) |
| DE (2) | DE19506279A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19619528A1 (de) * | 1996-05-15 | 1997-11-20 | Hoechst Ag | Substituierte Diphosphine und ein Verfahren zu ihrer Herstellung |
| IT1286879B1 (it) * | 1996-11-21 | 1998-07-17 | Consiglio Nazionale Ricerche | Leganti 1,3-difosfinopropanici e complessi da essi formati con metalli di transizione,loro preparazione e uso |
| FR2787786B1 (fr) * | 1998-12-23 | 2001-02-02 | Rhone Poulenc Fibres | Procede de preparation de composes organophosphores sulfones hydrosolubles et la realisation de reactions organiques avec catalyse biphasique |
| DE19918284C1 (de) * | 1999-04-22 | 2000-12-14 | Celanese Chem Europe Gmbh | Verfahren zur Herstellung von sulfonierten Arylphosphinen |
Family Cites Families (4)
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|---|---|---|---|---|
| DE4040314A1 (de) * | 1990-12-17 | 1992-06-25 | Hoechst Ag | Verfahren zur herstellung wasserloeslicher diphosphane |
| US5274183A (en) * | 1990-12-17 | 1993-12-28 | Hoechst Aktiengesellschaft | Water-soluble sulfonated diphosphines |
| WO1993015089A1 (de) * | 1992-01-31 | 1993-08-05 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Diphosphinliganden |
| TW225485B (ja) * | 1992-05-29 | 1994-06-21 | Hoechst Ag |
-
1995
- 1995-02-23 DE DE19506279A patent/DE19506279A1/de not_active Withdrawn
-
1996
- 1996-02-17 DE DE59605276T patent/DE59605276D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-02-17 EP EP96102415A patent/EP0728762B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-02-21 US US08/604,573 patent/US5684182A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-02-21 JP JP8033542A patent/JPH08253492A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE59605276D1 (de) | 2000-06-29 |
| EP0728762B1 (de) | 2000-05-24 |
| US5684182A (en) | 1997-11-04 |
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| DE19506279A1 (de) | 1996-08-29 |
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