JPH08255377A

JPH08255377A - 光記録ディスク

Info

Publication number: JPH08255377A
Application number: JP7291400A
Authority: JP
Inventors: Judith M Invie; マーレーンインビージュディス
Original assignee: Minnesota Mining and Manufacturing Co
Current assignee: 3M Co
Priority date: 1994-11-14
Filing date: 1995-11-09
Publication date: 1996-10-01
Also published as: DE19542022A1; US5518788A

Abstract

(57)【要約】【課題】光記録ディスクに関し、帯電防止ハードコー
ト層における欠陥に由来する性能の欠陥を軽減するかも
しくは除去することを目的とする。【解決手段】ディスクの少なくとも１つの表面上に設
けられた帯電防止ハードコート層を有している光記録デ
ィスクであって、前記ハードコート層が、ａ）フッ素化イオン性塩、ｂ）複数個のフッ素化側基を含むビニルコポリマー、及
びｃ）非フッ素化ポリマー、を含んでいるように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、一般的に、例えば
光媒体上で使用するためのもののような帯電防止性のハ
ードコート組成物の使用に関し、さらに詳しく述べる
と、フッ素化イオン性塩ならびにフッ素化モノマー及び
コポリマーを含む帯電防止性ハードコート組成物に関す
る。特に、本発明は、そのような帯電防止性ハードコー
ト組成物を含む光記録媒体に関する。ここで、“光”と
は、光学的であることを意味し、したがって、例えば、
光媒体は光学的媒体と換言することができ、また、光記
録媒体は光学的記録媒体と換言することができる。

【０００２】

【従来の技術】光記録媒体は、通常、基板上に設けられ
た光記録層（光学的記録層ともいう）を含んでいる。例
えば光磁気記録媒体及びＷＯＲＭ（ｗｒｉｔｅ−ｏｎｃ
ｅ−ｒｅａｄ−ｍａｎｙ）光記録媒体のような媒体で
は、それらの光記録層は、一般的に、薄膜状の希土類遷
移金属合金、例えばガドリウム−コバルト（Ｇｄ−Ｃ
ｏ）、ガドリウム−鉄（Ｇｄ−Ｆｅ）、テルビウム−鉄
（Ｔｂ−Ｆｅ）、ジスプロシウム−鉄（Ｄｙ−Ｆｅ）、
Ｇｄ−Ｔｂ−Ｆｅ、Ｔｂ−Ｄｙ−Ｆｅ、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃ
ｏ、テルビウム−鉄−クロム（Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｒ）、ガ
ドリウム−鉄−ビスマス（Ｇｄ−Ｆｅ−Ｂｉ）、Ｇｄ−
Ｃｏ−Ｂｉ、ガドリウム−鉄−錫（Ｇｄ−Ｆｅ−Ｓ
ｎ）、Ｇｄ−Ｆｅ−Ｃｏ、Ｇｄ−Ｃｏ−Ｂｉ及びＧｄ−
Ｄｙ−Ｆｅを含有している。このような合金は、例え
ば、米国特許第４，８２２，６７５号において記載され
ている。例えばコンパクトディスクのような媒体では、
光記録層は、反射性材料、例えばアルミニウム又はアル
ミニウム合金の層であって、パターン化された情報担持
面を有しているものであることができる。

【０００３】光ディスクの光記録層のために適当である
材料の多くは、光記録媒体が用いられる環境中に存在し
得る酸素及びその他の元素と強く反応可能である。さら
に、基板そのものは、光記録層と反応する不純物を含有
することが可能である。したがって、光記録層を保護す
るため、その光記録層の片側もしくは両側に透明な誘電
体フィルムを付着させてもよい。このような誘電体フィ
ルムは、例えば、米国特許第４，８３３，０４３号及び
同第４，９１７，９７０号において記載されている。

【０００４】任意であるけれども、光記録層を通過する
入射光が最初に反射され、そして次にその光記録層を通
って元に戻るように、光記録媒体中に反射層を組み込ん
でもよい。このような反射があると、いわゆるカー（Ｋ
ｅｒｒ）効果に対していわゆるファラデー（Ｆａｒａｄ
ａｙ）効果が付加されるので、入射光の光磁気回転を増
大させることができる。

【０００５】反射層は、光記録層が基板と反射層の中間
に挟まれるようにして、磁気記録媒体中に組み込んでも
よい。このような媒体の場合には、入射光が最初に基板
を通過し、次いで光記録層を通過し、そしてさらに反射
層によって反射されて光記録層を通って戻るように、透
明な基板が用いられる。こうような媒体は、基板入射媒
体として知られている。別法に従えば、光反射層を基板
と光記録層の中間に配置する場合に、読み取り及び書き
込みのためのビームは基板を通って照射されないであろ
う。このような媒体は、一般的には光記録層と空気の中
間に少なくとも１つの層が配置されるけれども、空気入
射媒体として知られている。

【０００６】基板入射媒体の場合に、基板は、通常、ポ
タカーボネートから形成される。ポリカーボネート基板
は、優れた剛性、寸法安定性、透明性及び衝撃強さを有
しており、しかし、残念なことに、耐摩耗性に乏しい。
結果として、ポリカーボネート基板は、スクラッチ（引
っ掻き傷）、擦過傷、その他に原因する物理的な損傷を
被り易い。

【０００７】基板を物理的な損傷から保護するために、
基板と空気の中間に保護用のバリヤーを形成するための
“ハードコート”層が基板上に塗布せしめられている。
例えば、特開平２−２６０１４５号公報は、光カードの
基板上に塗布せしめられたハードコート層を記載してい
る。特開平２−２６０１４５号公報に記載のハードコー
ト層は、また、表面滑動剤、すなわち、潤滑剤も含んで
いる。

【０００８】静電荷が発生せしめられると、光記録媒体
のハードコート層に埃が引きつけられ、読み取り及び書
き込みの途中に読み取り及び書き込みビームが光記録層
に到達するのを阻止することが可能である。したがっ
て、一般的には、この静電荷の発生を低減せしめるため
の帯電防止剤を使用することが望ましい。帯電防止組成
物は、光記録媒体中での使用に適当なものとなすため
に、過酷な要求を満たさなければならない。帯電防止組
成物は、静電荷の発生に対する保護を与えることの他
に、透明で、耐摩耗性があり、そして、それらの組成物
が長期間にわたって透明のままであるため、組成的に安
定でなければならない。もしもこれらの組成物が濁って
くると、光記録層に到達する入射光の量が低減せしめら
れ、よって、ビット誤り率の増加、スペアセクターの増
加あるいはデータのロスが引き起こされ得る。もう１つ
の要求は、帯電防止組成物の粘度に係わる。均一な膜厚
を有する帯電防止コーティングを得るために、帯電防止
組成物は、好ましくは、低い粘度、例えば、２５℃で１
００センチポイズもしくはそれ以下の粘度を有していな
ければならない。また、より高い温度、例えば約１００
℃よりも高い温度は、光記録媒体を損傷させること及び
（又は）媒体の性能に悪い影響を及ぼすことが可能であ
るので、熱硬化性であるかもしくは熱い熱可塑性組成物
の使用を回避しなければならない。

【０００９】一般的に、ハードコート層とともに帯電防
止剤を使用することに関して２つのアプローチが存在し
ている。１つのアプローチは、ハードコート層上に帯電
防止剤を直接的に塗布することを包含している。しかし
ながら、このアプローチは、一般的に、長期間にわたっ
て継続する帯電防止の保護をもたらすものではない。な
ぜならば、ハードコート上に直接に塗布されたコーティ
ングは、十分な付着力を有することがなく、また、容易
に拭い去られる傾向にあるからである。もう１つのアプ
ローチは、ハードコート層を媒体上に塗布するのに先が
けて、ハードコート組成物中に帯電防止剤を予備混合
（プレミックス）することを包含している。このアプロ
ーチの場合には、しかしながら、常用の帯電防止剤が比
較的に高濃度で使用されている。許容し得る帯電防止の
保護を達成するためには高濃度が必要であり、しかし、
得られるハードコート層は、規定の時間を過ぎると濁り
を生じる傾向にあり、乏しい耐摩耗性を示し、そして媒
体から剥離する。

【００１０】米国特許第５，１７６，９４３号（Ｗｏ
ｏ）は、非イオン性のペルフルオロ表面活性剤、イオン
性のペルフルオロ表面活性剤、そして非フッ素化の共重
合性放射線硬化性プレポリマーを含む帯電防止ハードコ
ート組成物ならびにこの帯電防止ハードコートを含む光
記録ディスクを記載している。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】光ディスクにおける性
能への期待やデータ貯蔵容量が増大し続けているので、
光ディスクの構成に関して、高められた性能基準の必要
性が発生している。ディスク容量の増大は、より多量の
情報を同一量のスペース中に圧縮することを必要として
いる。そのような多量の情報をディスク上に圧縮した場
合に、ディスクは、その構造のあらゆる面（ハードコー
ト層を含む）における性能妨害の欠陥に対して極めて敏
感なものに変化する。一般的に、ハードコートにおける
欠陥は、そのコーティングの何らかの不均一性であり得
る。本発明者が観察したところによると、常用の帯電防
止ハードコートを被覆した一部のディスクの表面上には
僅かな外観上の欠陥が存在した。これらの欠陥は、一般
的に中心部から延在する半径方向の流れすじあるいは
“太陽光線”の形をとり、そして帯電防止ハードコート
を含むディスクの外側の部分に存在している。これらの
欠陥は、外観の面から好ましくないばかりでなく、使用
中に、性能の問題、例えば集束信号のエラーの増加、を
引き起こすことが可能である。

【００１２】もう１つの形のハードコートの欠陥は、コ
ーティングの領域における膜厚の不均一性である。性能
の面での効果を得るため、コーティングにおける膜厚の
差は、非常に小さいことのみが必要であり、例えば、
０．５〜１．０μm のように小さいことが必要である。
外観面では問題とならないけれども、このような僅かな
不一致であっても、新世代の高密度ディスク製品では性
能上の問題を引き起こすことが可能である。不均一性
は、コーティングの全体を通じて現れる“ユズ肌”表面
であることができ、あるいは膜厚における単純で無秩序
な変動であることができる。コーティングの膜厚が不均
一であると、もしもそれらの差がディスクの中心部から
半径方向に、同心円的とは対照的に存在するならば、よ
り多くの問題を引き起こすであろう。なぜなら、データ
は、ディスク上に同心円状のリングの形で記録され、そ
してそのような形で読み取られるからである。本発明
は、帯電防止ハードコート層における欠陥に由来する性
能の欠陥を軽減するかもしくは除去するものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明は、その１つの面
において、ディスクの少なくとも１つの表面上に設けら
れた帯電防止ハードコート層を有している光記録ディス
クであって、前記ハードコート層が、フッ素化イオン性
塩、及び複数個のフッ素化側基を含むポリマーを含んで
いるような光記録ディスクにある。好ましい１態様にお
いて、フッ素化側基（ペンダント基としてのフッ素化
基）を含むポリマーは、非フッ素化ビニルモノマー、及
びフッ素化基を含むビニルモノマーから誘導されたコポ
リマーである本願明細書において使用した場合に、
“（メタ）アクリル−”とは、メタクリル−及びアクリ
ル−を集約的に指している。

【００１４】本願明細書において使用した場合に、“フ
ッ素化”とは、分子中で、水素原子によって通常占めら
れている部位の１個もしくはそれ以上がフッ素原子によ
って占められていることを指している。“ペルフルオロ
基”とは、フルオロカーボン基（過フッ化炭化水素基）
であって、その基中で、水素原子によって通常占められ
ている部位の全部がフッ素原子によって占められている
ものである。

【００１５】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の、典型的な基板
入射型の光磁気（“ＭＯ”）記録ディスク１０の一部を
大幅に拡大した断面を示したものである。しかしなが
ら、本発明の帯電防止組成物は、ＭＯ媒体上での使用に
専ら限定されるものではなく、むしろ、多種多様の材料
上での使用に適当であるということが理解されなければ
ならない。例えば、本発明の帯電防止組成物は、ＭＯデ
ィスクとともに使用することに加えて、その他の種類の
光記録媒体、例えば、コンパクトディスク、ＣＤ−ＲＯ
Ｍ、ＣＤ−Ｒ、ＷＯＲＭ（すなわち、ｗｒｉｔｅ−ｏｎ
ｃｅ−ｒｅａｄ−ｍａｎｙ）媒体、その他とともに使用
するのにとりわけ適当である。

【００１６】さて、図１を参照すると、光記録層１２が
透明な基板１４上に設けられている。光磁気層１２を透
過してきたような入射光４０を最初に反射し、第２に、
その光を光記録層１２を通して戻すため、反射面１８を
有する薄膜１６が配置されている。薄膜１６の上方に
は、光記録層１２を環境から保護するための保護用のシ
ールコート２０が配置されている。任意であるけれど
も、光記録層１２の片側もしくは両側の上方に透明な誘
電体層１５及び１７を配置してもよい。このような誘電
体層は、この技術分野においてよく知られているよう
に、光記録層１２からの光学的信号を増強しかつ、ま
た、熱、湿度又は不純物との化学反応に原因する酸化あ
るいは腐食から光記録層１２を保護する。本発明のハー
ドコート層２２は、基板１４を物理的な損傷から保護す
るため、その基板１４の上方に設けられている。

【００１７】基板１４、光記録層１２、薄膜１６、保護
用のシールコート２０、そして誘電体層１５及び１７
は、この技術分野において公知なタイプのものであるこ
とができる。しかしながら、基板１４は、好ましくは、
ポリカーボネートから構成することができる。なぜなら
ば、本発明の帯電防止組成物は、ポリカーボネート基板
に対して優れた付着力を示すからである。

【００１８】硬化後のハードコート層２２は、フッ素化
イオン性塩、そして複数個のフッ素化側基、さらに好ま
しくはペルフルオロ化基を含むポリマーを含んでいる。
フッ素化側基は、ポリマーの主鎖に直接的に結合してい
てもよく、さもなければ、適当な結合基を介してポリマ
ーの主鎖に側鎖として結合していてもよい。静電荷の発
生を軽減しかつ硬化後の帯電防止ハードコートの導電性
を改良するフッ素化イオン性塩、例えば米国特許第５，
１７６，９４３号（Ｗｏｏ）に記載されているもの、が
有利である。適当なフッ素化イオン性塩の例は、次のよ
うなものを包含している。

【００１９】

【化２】

【００２０】上式において、ｎは、約１〜１６であり、
Ｍは、Na⁺、Li⁺、Ｋ⁺、Ｈ⁺又はＮH₄ ⁺、好ましくは
Li⁺であり、ｍは、約１〜約１０、好ましくは約８〜１
０であり、そしてＲは、水素又は１〜１２個の炭素原子
を有している低級アルキル基、例えばＨ、ＣH₃、ＣH₃Ｃ
H₂などである。好ましいフッ素化イオン性塩の１つの部
類は、一般的に、次式（Ｉ）によって記載することがで
きる。

【００２１】

【化３】

【００２２】上式において、ｎは、好ましくは、約８〜
１０であり、そしてＭは、Na⁺、Li ⁺、Ｋ⁺、Ｈ⁺又は
ＮH₄ ⁺、好ましくはLi⁺である。複数個のフッ素化側基
を含むポリマーは、非フッ素化のビニルモノマーと、フ
ッ素化基を含むビニルモノマーとから誘導されたコポリ
マーであることができる。ビニルモノマーに関して使用
した場合に、“ビニル”なる語は、そのモノマーが架橋
可能なビニル不飽和部分を有していて、適当な放射線
（例えば、紫外線又は電子ビーム）に露光することによ
りかかる部分が重合せしめられることを意味している。
好ましくは、非フッ素化のビニルモノマー及びフッ素化
基を含むビニルモノマーは、以下にさらに詳細に記載す
るように、スピンコートするのに十分に低い粘度を有し
ている未硬化の帯電防止性ハードコート混合物を提供す
るため、本発明のその他の成分とともに使用してもよ
い。

【００２３】適当なビニル不飽和部分の例は、（メタ）
アクリル部分、アルケニル二重結合、例えばアリル部
分、α−メチルスチレン部分、ビニルエーテル部分、そ
の混合物、その他を包含している。非フッ素化のビニル
モノマー及びフッ素化基を含むビニルモノマーは、単一
のビニル不飽和部分のみを含んでいてもよく、さもなけ
れば、任意であるけれども、多官能性、すなわち、２官
能性、３官能性、４官能性、その他であってもよい。

【００２４】本願の目的に関して、“モノマー”は、本
発明のその他のモノマーと１個もしくはそれ以上のビニ
ル不飽和部分を介して共重合してポリマー又はコポリマ
ーを形成することが可能である分子を意味している。ま
た、比較的に高分子量のモノマー又はオリゴマーを使用
することも本発明の範囲内に含まれるものであるという
ことを理解されたい。しかし、より高分子量の材料は、
このような材料を含む混合物の粘度や表面エネルギーを
増大させる傾向を有している。例えば、フッ素化イオン
性塩、非フッ素化ビニルモノマー、そしてペルフルオロ
基を含むモノマー又はフッ素化側基を含むコポリマーの
少なくとも１種を含む未硬化の混合物の粘度は、２５℃
の温度の時、好ましくは約１００センチポイズよりも高
粘度ではない。もしもこの混合物の粘度があまりにも高
粘度であるとすると、その混合物は、硬化に先がけて未
硬化の組成物をディスクに適用するのに最も望ましく用
いられるスピンコート法で使用するのに不適当なものと
なり得る。より低い分子量のモノマー材料は、より低い
粘度を特徴とする傾向を有するばかりでなく、一般的に
は、より低い表面張力を有し、コーティング及び基板に
対する改良された付着を促進することができる。

【００２５】本発明の実施において適当な好ましい放射
線硬化性の非フッ素化ビニルモノマーの１つの部類は、
次のような一般式の（メタ）アクリレート官能性モノマ
ーを包含している。

【００２６】

【化４】

【００２７】上式において、Ｒ’は、水素又はＣH₃であ
り、そしてｙは、好ましくは、約１〜６である。Ｒの正
確な性状は臨界的ではなく、しかし、Ｒは原子価ｙを有
している。典型的なＲ基は、例えば、オキシアルキレン
基、ウレタン、エポキシ、アルキル基、アリール含有
基、アリル含有基、その他を含む基を包含し、また、こ
れらの基のいずれも、直鎖、分岐鎖、環状又は不飽和で
あることができる。

【００２８】さらに詳しく説明すると、上式（II）によ
り表される非フッ素化ビニルモノマーは、以下に列挙す
るものに限定されるものではないけれども、以下に示す
ようなもののいずれかを包含している：ネオペンチルグ
リコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ
メチロールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプ
ロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリトリトー
ルトリ（メタ）アクリレート、ジメチロールプロパンテ
トラ（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル
（メタ）アクリレート、多官能性（メタ）アクリレート
化ポリエステル、多官能性（メタ）アクリレート化エポ
キシノボラック、６官能性脂肪族ウレタン（メタ）アク
リレート、脂肪族ウレタンジ（メタ）アクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、イ
ソボルニル（メタ）アクリレート、２−エトキシエトキ
シエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールペ
ンタ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリトリトールヒド
ロキシペンタ（メタ）アクリレート、脂肪酸変性６官能
性ポリエステル（メタ）アクリレート、多官能性芳香族
ウレタン（メタ）アクリレート、多官能性脂肪族ウレタ
ン（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ
（メタ）アクリレート、エトキシル化ビスフェノールＡ
ジ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチ
ル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、Ｎ−
ビニルホルムアミド、そしてその混合物。このタイプの
もので最も好ましい非フッ素化ビニルモノマーは、次の
ようなものを包含している：ペンタエリトリトールトリ
アクリレートトリアクリレート及びＮ−ビニルピロリド
ンの混合物、そして商業的に入手可能な非フッ素化ビニ
ルモノマー、例えば、ＴＢ３０７０Ｎ（米国、カリフォ
ルニア州Ｔｏｒｒａｎｃｅ在のＴｈｒｅｅＢｏｎｄ
ＣｈｅｍｉｃａｌＣｏｍｐａｎｙｏｆＡｍｅｒｉ
ｃａ，Ｉｎｃ．より販売されている）。

【００２９】別の部類に属する好ましい非フッ素化ビニ
ルモノマーは、米国特許第３，３４１，４９７号、同第
３，７８７，３５１号及び同第５，０９８，４４６号に
おいて一般的に記載されているもの、例えば、直鎖又は
分岐鎖のオキシアルキレン基を含むビニルモノマーを包
含している。本願明細書において記載の材料に関して、
非フッ素化ビニルモノマーに対するフッ素化ビニルモノ
マーの比率は、本発明の目的のために、１：９９〜９
９：１、好ましくは１：５〜５：１、最も好ましくは約
３：７の範囲であることができる。

【００３０】フッ素化基を含む適当なビニルモノマーの
例は、好ましくは次式（III ）によって表されるモノマ
ーを包含している：

【００３１】

【化５】

【００３２】上式において、Ｘは、２価の結合基、例え
ばアルキル基、好ましくは−ＣH₂−又は−ＣH₂ＣH₂−、
又はポリエーテル基、好ましくは−（ＣH₂ＣH₂Ｏ）_n−
であり、式中のｎは好ましくは１〜５の範囲であり、
Ｒ’は、好ましくは、水素であるかもしくは１〜１２個
の炭素原子を有している低級アルキル基、例えばＣH₃、
ＣH₃ＣH₂等であり、最も好ましくはＨ又はＣＨ₃であ
り、そしてＲ_fは、フッ素化基、例えば、ペルフルオロ
エーテル又はペルフルオロポリエーテル、フルオロケミ
カルスルホンアミド、式Ｃ_nＦ_2n+1の直鎖又は分岐鎖の
ペルフルオロ基あるいは式Ｃ_nＦ_2n-1の環状ペルフルオ
ロ基である。

【００３３】上式中のＲ_fが式Ｃ_nＦ_2n+1又はＣ_nＦ
_2n-1の直鎖又は環状のペルフルオロアルキル基である場
合、その式が直鎖状もしくは分岐鎖状である時、式中の
ｎは約４〜１６の範囲、好ましくは７であり、また、そ
の式が環状である時、式中のｎは好ましくは約６であ
る。前式（III ）によって表され、式中のＲ_fがペルフ
ルオロアルキル基によって表される特定のモノマーは、
次のようなものを包含している：

【００３４】

【化６】

【００３５】前式（III ）によって表され、式中のＲ_f
がフルオロケミカルスルホンアミドであるモノマーは、
次式（IV）によって表すことができる：

【００３６】

【化７】

【００３７】上式において、ｎは、好ましくは約４〜１
６、最も好ましくは８であり、Ｒは、好ましくは水素で
あるかもしくは１〜１２個の炭素原子を有している低級
アルキル基、例えばＣH₃、ＣH₃ＣH₂等であり、最も好ま
しくはＣH₃ＣH₂−又はＣH₃ＣH₂ＣH₂ＣH₂−であり、X
₁は、２価の結合基、例えばアルキル基、好ましくは−
ＣH₂−又は−ＣH₂ＣH₂−、又はポリエーテル基、好まし
くは−（ＣH₂ＣH₂Ｏ）_n−であり、式中のｎは好ましく
は１〜５の範囲であり、そしてＲ’は前記定義に同じで
ある。上式（IV）によって表すことができる特定のモノ
マーは、例えば、次のようなものを包含している：

【００３８】

【化８】

【００３９】上式中のＲ_fがペルフルオロエーテル又は
ペルフルオロポリエーテルである場合、前式（III ）に
よって表されるモノマーは、次のような一般式により表
されるものを包含している：

【００４０】

【化９】

【００４１】上式において、ｎは好ましくは４であり、
ｍは０〜４、好ましくは１であり、ｐは１〜４、好まし
くは１であり、ｙは１〜５、好ましくは２であり、そし
てＸ及びＲ’は前記定義に同じである。式中のｙが１よ
りも大である化合物では、ｐ及びｍは、ペルフルオロエ
ーテルセグメントのそれぞれに関して同一もしくは異な
っていてもよい。例えば、ｙが２である場合、前式
（Ｖ）によって表される化合物は、−ＯＣＦ（ＣF₃）Ｃ
F₂−及び−ＯＣＦ（ＣF₃）セグメントの両方を包含する
ことができる。前式（Ｖ）によって表される特定のモノ
マーは、次のようなものを包含している。

【００４２】

【化１０】

【００４３】過フッ素化した側基を含む特に好ましいコ
ポリマーは、約７０重量部の次の一般式の非フッ素化ビ
ニルモノマー：

【００４４】

【化１１】

【００４５】（上式において、ｘ、ｙ及びｚは、好まし
くは、約５００〜１００００の範囲、好ましくは約２２
００の平均分子量を提供する方向で選ばれ、ｘ、ｙ及び
ｚは、好ましくは、それぞれ、約７〜１７、１６〜２６
及び７〜１７の範囲であり、（ｘ＋ｚ）：ｙの比は約
４：６〜６：４の範囲である）を約３０重量部の次式の
フッ素化基を含むビニルモノマー：

【００４６】

【化１２】

【００４７】と共重合させることによって得られる。複
数個のフッ素化側基を含む上記のコポリマーは、複数個
のオキシアルキレン側基をさらに有するであろう。過フ
ッ素化側基を含むもう１種類の特に好ましいコポリマー
は、オキシアルキレン側基をさらに含んでいる。このコ
ポリマーは、約７０重量部の次式の非フッ素化ビニルモ
ノマー：

【００４８】

【化１３】

【００４９】（上式において、ｘは、好ましくは、約１
２〜１８の範囲であり、そして約５００〜５０００、好
ましくは約５００〜１０００の範囲の平均分子量を提供
する方向で選ばれる）を約３０重量部の次式のフッ素化
ビニルモノマー：

【００５０】

【化１４】

【００５１】と共重合させることによって得ることがで
きる。フッ素化側基を含むコポリマーは、この技術分野
において公知のフリーラジカル重合法によって調製して
もよい。これらの方法は、以下に列挙するものに限定さ
れるわけではないけれども、塊状重合、溶液重合、乳化
重合及び懸濁重合の各方法、例えば、米国特許第３，３
４１，４９７号に記載されている方法を包含している。

【００５２】本発明のハードコート組成物は、イオン性
塩及びフッ素化側基を含むコポリマーに加えて、その他
のモノマー、オリゴマーあるいはポリマーの材料を含ん
でいてもよい。このような材料は、１種類もしくはそれ
以上の上記したような追加の非フッ素化ビニルモノマ
ー、あるいはこれらの非フッ素化ビニルモノマーの１種
類もしくはそれ以上から誘導された非フッ素化ポリマー
又はコポリマーを包含している。帯電防止ハードコート
組成物は、追加のオプションとして、その他の部類のフ
ッ素化モノマーあるいは表面活性剤、例えば、米国特許
第５，１７６，９４３号（Ｗｏｏ）の５〜６欄において
記載されている非イオン系のフッ素化表面活性剤のいず
れかを含んでいてもよい。好ましい非イオン系のフッ素
化表面活性剤は、次のような一般式を有するようなもの
である。

【００５３】

【化１５】

【００５４】上式において、ｎは約４〜１６であり、
Ｒ’はＨ又は１〜１２個の炭素原子を有している低級ア
ルキル基であり、そしてｘは約１〜１３である。上式
（VI）のモノマーの最も好ましい態様は、次式（VI.1）
によって示される。

【００５５】

【化１６】

【００５６】上式において、ｘは、好ましくは、約６〜
８であり、最も好ましくは７．２である。本発明の帯電
防止ハードコート層は、フッ素化イオン性塩、複数個の
フッ素化側基を含むポリマー、非イオン化ポリマー（も
しもあれば）、そして非イオン化ペルフルオロ表面活性
剤（もしもあれば）をいろいろな量で含有してもよい。
例えば、フッ素化側基を含むポリマーもしくは非フッ素
化ポリマーあるいはそれらの混合物のいずれかの有用な
量は、ハードコート組成物のその他の成分と混合した時
に、基板を光学的データ記録及び再生装置として使用す
るのを可能にするのに十分な品質の外観を具えた帯電防
止ハードコート層を提供するようなものである。フッ素
化イオン性塩の有用な量は、静電荷の発生に対しては有
効に保護作用を奏するけれども、単独であるいは帯電防
止ハードコートのその他の成分と組み合わさって、硬化
後の帯電防止ハードコート層の外観、あるいは硬化後の
帯電防止ハードコート層の耐摩耗性又は接着特性に対し
て悪い影響を及ぼさないような量である。フッ素化基を
含むモノマー、フッ素化側基を含むコポリマー及び非イ
オン系のフッ素化表面活性剤は、未硬化の帯電防止ハー
ドコート組成物の混合物の表面張力を低下させ、よっ
て、その組成物の基板上への塗布を促進するような量で
存在せしめられた時、しかし、その量が、単独であるい
はフッ素化イオン性塩と組み合わさって、硬化後の帯電
防止ハードコートの外観、あるいはそのハードコートの
耐摩耗性、あるいはそのハードコートの基板に対する付
着能力に対して著しく悪い影響を及ぼさないような量で
ある時、有用であることができる。

【００５７】さらに具体的に説明すると、非フッ素化ポ
リマーを含有しない本発明の態様では、約０．５〜８、
好ましくは約１〜４．５重量部（ｐｂｗ）のフッ素化イ
オン性塩、約８７〜９９．５ｐｂｗのフッ素化側基を含
むコポリマー、そして任意に約０．１〜５ｐｂｗの非イ
オン系ペルフルオロ表面活性剤を使用するのが適当であ
るということが見出された。

【００５８】非フッ素化ポリマーを包含する本発明の態
様では、０．５〜８ｐｂｗ、好ましくは１〜４．５ｐｂ
ｗのイオン性塩、約８３〜９９．４ｐｂｗの非フッ素化
ポリマー、約０．１〜４ｐｂｗ、最も好ましくは約０．
１〜１．７ｐｂｗのフッ素化側基を含むコポリマー、そ
して任意に約０．１〜５ｐｂｗの非イオン系ペルフルオ
ロ表面活性剤を使用するのが適当であるということが見
出された。好ましくは、このような態様において、複数
個のフッ素化側基を含むコポリマーのフッ素化イオン性
塩に対する比率は、約１：１〜１：２５、好ましくは約
１：１〜１：１０、最も好ましくは約１：１〜１：３の
範囲内である。

【００５９】ハードコート層を調製するために用いられ
る混合物は、所望とするその混合物成分をいろいろな量
で含有することかできる。一例を示すと、硬化後のハー
ドコート層が非フッ素化ポリマーを含有していないよう
な本発明の態様では、この混合物は、好ましくは、０．
５〜８ｐｂｗ、好ましくは１〜４．５ｐｂｗのイオン性
塩、約８３〜９９．４ｐｂｗの上記したような非フッ素
化ビニルモノマー、０．１〜４ｐｂｗ、好ましくは０．
１〜１．７ｐｂｗのフッ素化基を含むビニルモノマー、
任意に約０．１〜５ｐｂｗの非イオン系ペルフルオロ表
面活性剤、そして任意に、必要に応じて、粘度を低下さ
せるのに有効な量の溶剤を含んでいる。フッ素化基を含
むビニルモノマーのフッ素化イオン性塩に対する重量比
は、約１：１〜１：２５、好ましくは約１：１〜１：１
０、最も好ましくは約１：１〜１：３の範囲内である。
しかしながら、非フッ素化ビニルモノマー及びフッ素化
基を含むビニルモノマーの全量は、約８８〜９９．４ｐ
ｂｗの範囲内であることが望ましい。硬化後のハードコ
ート層が非フッ素化ポリマーを含有しないような本発明
の態様では、フッ素化及び非フッ素化のビニルモノマー
は、適当な放射線源に露光せしめられた後、共重合せし
められて本発明の複数個のフッ素化側基を含むコポリマ
ーを提供する傾向を有するであろう。

【００６０】ハードコート層が非フッ素化のポリマーを
含有するような本発明の態様では、上記の混合物は、好
ましくは、約０．５〜８ｐｂｗ、好ましくは１〜４．５
ｐｂｗのイオン性塩、０．１〜４ｐｂｗ、好ましくは
０．１〜１．７ｐｂｗのフッ素化側基を含むコポリマ
ー、８４〜９９．４ｐｂｗの、上記したように非フッ素
化ポリマーを調製するために使用される非フッ素化ビニ
ルモノマー、そして任意に、必要に応じて、粘度を低下
させるのに有効な量の溶剤を含んでいる。フッ素化側基
を含むコポリマー及び非フッ素化ポリマーを製造するた
めに用いられる非フッ素化ビニルモノマーの全量は、約
８４〜９９．４ｐｂｗの範囲内であることが望ましい。
非フッ素化ビニルモノマーは、適当な放射線源に露光せ
しめられた後、共重合せしめられて非フッ素化ポリマー
を提供する傾向を有するであろう。

【００６１】好ましくは、本発明の帯電防止ハードコー
ト組成物は、適当な成分からなる未硬化の混合物から調
製され、次いで、帯電防止ハードコート層を形成するた
め、光記録媒体、例えば図１の光磁気記録ディスク１０
に対してスピンコート法を使用して適用される。スピン
コートに適当な本発明の混合物は、一般的に、イオン性
塩、複数個のフッ素化側基を含むコポリマーあるいは複
数個のフッ素化側基を含むコポリマーを製造するのに用
いられるビニルモノマーの１種類もしくはそれ以上、任
意に非イオン系のペルフルオロ表面活性剤、そして、任
意に、非フッ素化ポリマーを製造するために用いられる
ビニルモノマーを含むいろいろな成分を含有している。

【００６２】本発明の混合物は、任意であるけれども、
スピンコートを促進するために粘度調節剤として添加さ
れる溶剤をさらに含有していてもよい。溶剤の使用は、
要求されるものではない。しかしながら、混合物の未硬
化の成分が混和性を有していない場合、すなわち、混合
した時にその混合物が２つの液相を形成する場合、ある
いは混合物が室温で約１００センチポイズよりも大きな
粘度を有している場合のいずれかにおいては溶剤の使用
が望ましい。適当な溶剤の例は、メチルアルコール、イ
ソプロピルアルコール、Ｎ−ビニル−２−ピロニドン、
酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、ブチルアルコー
ル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、
これらの溶剤の混合物、その他を包含している。好まし
くは、得られる混合物は、十分な量の溶剤を包含すべき
であり、例えば、溶液は、約２５℃の温度の時、約１０
０センチポイズもしくはそれ以下、さらに好ましくは約
３〜５センチポイズの粘度を有している。

【００６３】スピンコートを使用すると、ほんの０．５
〜２０μm 、好ましくは０．８〜１０μm 、さらに好ま
しくは１〜５μm 、最も好ましくは１〜２μm の膜厚を
有している極めて均一な塗布層を容易かつ迅速に形成す
ることが可能になる。屈折によって引き起こされるエラ
ーを回避するために、ハードコート層２２の光学的屈折
率を透明な基板１４の光学的屈折率にほぼ等しくするこ
とが望ましい。しかし、薄い帯電防止コーティングを提
供することによってもたらされる利点のため、上記のよ
うに屈折率をマッチさせることの重要性は薄れてくる。
なぜならば、薄いコーティングを通過する光は、より僅
かな屈折しか経験しないであろうからである。

【００６４】スピンコート法に従うと、ハードコート層
の形成のための未硬化の成分の混合物を調製する。この
混合物を、常用のスピンコート装置を使用して、光磁気
ディスク１０の基板１４上に供給する。このような装置
は、一般的に、分配用のニードル、シリンジ、そしてポ
ンプを含んでいる。ハードコート混合物をディスク上に
分配することは、シリンジ及びニードルを用いることに
よって流体をマニュアルあるいは自動操作のいずれかに
よって分配することを包含することができる。被塗布デ
ィスクは、スピンコートを行う前、イオン化したN₂で予
め清浄にするのが好ましい。５センチポイズもしくはそ
れ以下の粘度を有する混合物の場合には、ディスクを３
０〜５０ｒｐｍで回転させる時に、５〜２０ｐｓｉ（２
５〜１０３cmHg）のニードル圧力で、そのディスクの中
央部上に適当な量の混合物を約２秒間で供給することが
できる。好ましくは、混合物を分配ニードル内を通過さ
せる前に、その混合物から粒子分を除去するためにイン
ラインフィルター（０．１〜２μm ）を使用する。供給
の完了後、３〜５秒間に１８００〜３５００ｒｐｍの高
速スピニング速度で溶液を分配して薄くて均一なコーテ
ィングとなすことができる。溶剤の大半は、高速度のス
ピニングの途中に蒸発せしめられる。

【００６５】次いで、湿潤状態にあるコーティングを適
当な形の放射線でもって硬化させる。好ましくは、排気
用の送風機を装備してチャンバ内において硬化を行わせ
る。典型的には、低沸点の揮発性成分をオーブンから除
去するために、硬化の間、排気用の送風機を運転する。
本発明の未硬化の帯電防止ハードコート組成物は、任意
の適当な形の放射線、例えば電子ビーム又は紫外線を使
用して硬化させてもよい。この組成物は、光硬化可能で
あること、すなわち、紫外線で硬化可能であることが有
利である。種々のＵＶ線源が適当であって、給電式のア
ーク灯、例えば中圧あるいは高圧の水銀灯、そして無電
極式のランプ、例えばＨ型、Ｄ型又はＶ型の金属ハライ
ドランプを包含している。特定の放射線源は、任意の光
開始剤の吸収スペクトルに相当するようにして選択され
るべきである。一例として、本発明の実施に当たって
は、２４０〜４５０nmの波長及び２００〜４５０mj／cm
²のエネルギーで４〜６秒間にわたって運転されるＵＶ
線源が好ましい。

【００６６】スピンコート及び（又は）硬化は、好まし
くは、不活性な雰囲気中において行われる。例えば、９
０％もしくはそれ以上の窒素を含む雰囲気を使用しても
よい。

【００６７】

【実施例】次いで、本発明を下記のような非限定的な実
施例を参照して説明する。例１硬化せしめられたハードコート組成物を、下記の第１表
に記載のように複数の成分を含むハードコート混合物を
硬化させることによって調製した。

【００６８】

【表１】

【００６９】

【表２】

【００７０】

【表３】

【００７１】混合物はすべて、非フッ素化のビニルモノ
マーＴＢ３０７Ｎ、ＴｈｒｅｅＢｏｎｄＣｈｅｍｉ
ｃａｌＣｏｍｐａｎｙｏｆＡｍｅｒｉｃａ，Ｉｎ
ｃ．から商業的に入手可能な固形分３０％の溶液、を含
んでいた。ＴＢ３０７Ｎは、非フッ素化のビニルモノマ
ーに加えて、次式により表される１−ヒドロキシシクロ
ヘキシルフェニルケトン光開始剤を含んでいた。

【００７２】

【化１７】

【００７３】サンプル３〜１１、そしてサンプル１３〜
２５の混合物には、フッ素化イオン性塩Ｃ₈Ｆ₁₇ＳO₃ ^-
Li⁺（イオン性塩Ａと呼ぶ）を含ませた。サンプル２８
〜３２の混合物には、フッ素化イオン性塩Ｃ₁₀Ｆ₂₁ＳO₃
^-Li⁺（イオン性塩Ｂと呼ぶ）を含ませた。これらのフ
ッ素化イオン性塩は、括弧でくくって特に断った場合を
除いて、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）中で固形分
２４．７％の濃度で使用した。フッ素化イオン性塩の溶
液のpHは、特に断りのある場合を除いて、約７．３であ
った。

【００７４】サンプル２〜５、２８、２９及び３１の混
合物には非イオン系フッ素化表面活性剤を含ませ、サン
プル１５〜２３にはフッ素化基を含むモノマーを含ま
せ、サンプル１、６〜１１、３０及び３２にはフッ素化
側基を含むコポリマーを含ませ、そしてサンプル１２〜
１４には非イオン系フッ素化表面活性剤及びフッ素化側
基を含むコポリマーの両者を含ませた。フッ素化基を含
むモノマーと非イオン系フッ素化表面活性剤とは溶剤を
用いないで使用し、そしてフッ素化側基を含むコポリマ
ーは下記に示したように溶剤とともに使用した。

【００７５】サンプル１、２、１２及び２４〜２７は、
コントロール（対照）のサンプルであった。これらのサ
ンプルの混合物には、フッ素化基を含むモノマー、フッ
素化側基を含むコポリマー、非イオン系フッ素化表面活
性剤あるいはフッ素化イオン性塩の１種類もしくはそれ
以上を含ませなかった。それぞれの混合物中に含ませ
た、フッ素化基を含む特定のモノマー、非イオン系フッ
素化表面活性剤、そしてフッ素化側基を含むコポリマー
は、下記のようなものであった。

【００７６】フッ素化側基を含むコポリマー（Ｃと呼
ぶ）は、酢酸エチル中で反応せしめられた、約３０重量
％のフッ素化モノマー：

【００７７】

【化１８】

【００７８】及び約７０重量％の、約７５０の平均分子
量を有していて、ＵｎｉｏｎＣａｒｂｉｄｅ社から入
手可能なＣａｒｂｏｗａｘ７５０アクリレート：

【００７９】

【化１９】

【００８０】から誘導されたコポリマーである。このコ
ポリマーは、７ｇのＣａｒｂｏｗａｘ７５０、５ｇの酢
酸エチル、０．１５ｇのｎ−オクチルメルカプタン及び
０．１ｇのＶＡＺＯ^TM６４（ＤｕＰｏｎｔ社から商業的
に入手可能な２，２’−アゾビスイソブチロニトリル）
に対して３ｇのフッ素化モノマーを添加することによっ
て調製することができた。混合物を窒素でパージして酸
素を除去し、そして７５℃で８〜１０時間にわたって反
応させた。このコポリマーは、この出願において、酢酸
エチル溶剤中で固形分５０％で使用した。

【００８１】フッ素化側基を含むコポリマー（Ｅと呼
ぶ）は、約３０重量％のフッ素化モノマー：

【００８２】

【化２０】

【００８３】及び約７０重量％のプルロニック（ｐｌｕ
ｒｏｎｉｃ）Ｌ４４アクリレート：

【００８４】

【化２１】

【００８５】（式中、ｘは１２であり、ｙは２１であ
り、そしてｚは１２である）を反応させることによって
誘導されたコポリマーである。プルロニックＬ４４アク
リレートは、約２２００の平均分子量を有しておりかつ
ＢＡＳＦ社から商業的に入手可能なプルロニック（ｐｌ
ｕｒｏｎｉｃ）Ｌ４４ジオールを１当量のアクリル酸と
反応させることによって調製せしめられる。このコポリ
マーは、７ｇのプルロニックＬ４４アクリレート、５ｇ
のトルエン、０．５ｇのｎ−オクチルメルカプタン及び
０．１ｇのＶＡＺＯ^TM６４に対して３ｇの上記フッ素化
モノマーを添加することによって調製することができ
る。混合物を窒素でパージして酸素を除去し、そして６
５℃で８〜１０時間にわたって反応させる。このコポリ
マーは、この出願において、トルエン中で固形分９８％
で使用した。

【００８６】非イオン系フッ素化表面活性剤（Ｄと呼
ぶ）は、次式のものであった：

【００８７】

【化２２】

【００８８】（式中、ｘは６〜８である）。フッ素化基
を含むモノマー（Ｆと呼ぶ）は、次式のものであった：

【００８９】

【化２３】

【００９０】フッ素化基を含むモノマー（Ｇと呼ぶ）
は、次式のものであった：

【００９１】

【化２４】

【００９２】フッ素化基を含むモノマー（Ｈと呼ぶ）
は、次式のものであった：

【００９３】

【化２５】

【００９４】フッ素化基を含むモノマー（Ｉと呼ぶ）
は、次式のものであった：

【００９５】

【化２６】

【００９６】未硬化のハードコート混合物を調製するた
めの手順は、一般的に、次の通りであった：フッ素化イ
オン性塩の溶液をフッ素化基を含むモノマー、フッ素化
側基を含むコポリマーあるいは非イオン系フッ素化表面
活性剤のいずれかと、処方において示したようにして混
合した。この第１の混合物を非フッ素化ビニルモノマー
に添加した。得られた混合物を振盪テーブルによって１
０〜２０分間にわたって攪拌した。振盪テーブルは、例
えば、米国ミシガン州ＡｎｎＡｒｂｏｒ在のＥｂｅｒ
ｂａｃｈＣｏｒｐ．から商業的に入手可能である。こ
れらのサンプルを、泡や閉じ込められた空気を放散させ
るために、光ディスクに対して適用する前に少なくとも
３０分間にわたって静置した。

【００９７】サンプル３〜１１、１５〜２３及び２８〜
３２を上記のような手順によって調製した。サンプル２
４及び２５におけるようにフッ素化イオン性塩及び非フ
ッ素化ビニルモノマーだけを混合物中に含ませた場合に
は、イオン性塩の溶液を非フッ素化ビニルモノマーに直
接に添加し、次いで混合物を攪拌した。

【００９８】例えばサンプル１及び２におけるようにフ
ッ素化側基を含むコポリマーあるいは非イオン系フッ素
化表面活性剤及び非フッ素化ビニルモノマーだけを混合
物中に含ませた場合には、フッ素化側基を含むコポリマ
ーあるいは非イオン系フッ素化表面活性剤を非フッ素化
ビニルモノマーに直接に添加し、次いで混合物を攪拌し
た。

【００９９】サンプル１２を調製するに当たって、最初
に材料Ｃ及びＤを均一になるまで混合し、次いでこれを
非フッ素化ビニルモノマーに添加し、混合した。サンプ
ル１３及び１４を次のようにして調製した。非イオン系
フッ素化表面活性剤（Ｄ）を最初にイオン性塩の溶液
（Ａ）に添加した。この混合物を、均質な材料が得られ
るまでの間、攪拌した。次いで、フッ素化側基を含むコ
ポリマー（Ｃ）を上記の混合物に添加し、そして得られ
た混合物を均一になるまで攪拌した。その後、Ａ、Ｄ及
びＣを含有する混合物を非フッ素化ビニルモノマーに添
加し、引き続いて振盪テーブルによって１０〜２０分間
にわたって攪拌した。

【０１００】サンプル２６はコントロールのサンプルで
あり、ポリカーボネートディスクに１００％の非フッ素
化ビニルモノマーを塗布したものである。サンプル２７
もまたコントロールのサンプルである。サンプル２７の
ディスクはコーティング不含、すなわち、図１の透明な
ポリカーボネート層１４である。帯電防止ハードコート
組成物を光ディスク形のポリカーボネート基板にスピン
コート法によって適用した。サンプルについて課される
べき試験に依存して、一部の基板には光磁気（ＭＯ）層
を含ませ、一部のものには含ませなかった。ＭＯ層を含
まないディスクについて、残留電荷、電荷の減衰、そし
て埃の付着の試験を行った。ＭＯ層を含むディスクにつ
いては、その他の試験をすべて行った。

【０１０１】それぞれの未硬化のハードコート混合物
を、０．２μm のＴｅｆｌｏｎ^TMＡｃｒｏｄｉｓｃフィ
ルター及びニードルを装備した使い捨てのシリンジを使
用して、ポリカーボネートの表面上に手作業で分配し
た。ディスクを３０〜５０ＲＰＭ（１分間当たりの回転
数）のターンテーブル上で２〜３秒間にわたって回転さ
せ、引き続いて２２００ＲＰＭで６〜７秒間のより早い
スピニングサイクルに供した。

【０１０２】引き続いて、適用後のコーティングを、紫
外線源によって、“不粘着性”となるまで硬化させた。
この硬化を窒素雰囲気下において実施した。帯電防止ハ
ードコート層を塗布し、硬化させた後、ハードコート層
の表面を外観の欠陥、例えば表面上の流れすじ、濁り
（ヘイズ）、ユズ肌、油状残渣に関して肉眼及び顕微鏡
による観察によって検査した。硬化後のハードコート層
の帯電防止特性を評価するために、それらの表面抵抗を
相対湿度（ＲＨ）４４〜４７％又は５５〜５６％及び７
６〜７７°Ｆ（２５℃）で測定した。残留電荷、５００
０ボルトの１０％電荷減衰及びコーティングの撥埃能力
をすべて７６〜７７°Ｆ（２５℃）及び４４〜４７％相
対湿度で測定した。すべての結果が第１表に示されてい
る。

【０１０３】表面抵抗をＥｌｅｃｔｒｏｄｅＭｏｄｅ
ｌ８０３Ｂで測定し、そして米国ペンシルバニア州Ｇ
ｌｅｎｓｉｄｅ在のＥｌｅｃｔｒｏＴｅｃｈＳｙｓ
ｔｅｍｓ，Ｉｎｃ．社製のＧａｌｖｏｎｏｍｅｔｅｒ
Ｍｏｄｅｌ８７２で記録した。残留電荷及び１０電荷
減衰を、同じくＥｌｅｃｔｒｏＴｅｃｈＳｙｓｔｅ
ｍｓ，Ｉｎｃ．社製のＭｏｄｅｌ４０６ＤＳｔａｔ
ｉｃＤｅｃａｙＭｅｔｅｒを使用して測定した。

【０１０４】埃の付着を次のようにして測定した。それ
ぞれのサンプルのディスクの表面を乾いたポリエステル
布片ではげしく摩擦することによってそのディスク上に
静電荷を誘導した。次いで、そのディスクをスタイロフ
ォームのビーズと接触させ、そのスタイロフォームがデ
ィスク表面に付着するか否かを観察した。“集束（フォ
ーカス）エラー”は、光ディスク試験システムのフォー
カスサーボ機構によって観察した時の、光ビームのビー
ムウエスト（焦点）の位置と光記録ディスクの光磁気層
までの正しい焦点距離との間の差（ミリボルトで測定）
を意味している。集束エラーは、例えば、静岡県浜松市
在のプルステック社（ＰｕｌｓｔｅｃＬｔｄ．）より
商業的に入手可能な装置によッて測定することができ
る。本例の試験に使用した装置は、開口数０．５５の対
物レンズで集束せしめられる６５０nmのレーザダイオー
ドを使用したものであった。

【０１０５】対物レンズからの正しい距離及び光ビーム
のビームウエストは、化学的ハードコート層を有してい
るかもしくは有していないディスクごとに異なるものと
なるであろう。なぜならば、ハードコートの材料は、空
気と同じ屈折率を有していないからである。ハードコー
ト層が実質的に均一な膜厚を有している場合には、その
ハードコート層の存在に合わせてディスクプレーヤーの
集束システムを容易に調整することができる。しかしな
がら、もしもコーティングが一様な膜厚を有していない
ならば、さもなければ、もしもそのコーティングが例え
ばユズ肌、“太陽光線”のような表面欠陥を有している
ならば、焦点を移動させることによって集束システムを
連続して補正することを試みることになるであろう。集
束システムは、コーティングの膜厚における非常に段階
的な変動に関しての補正を唯一可能にするであろう。も
しも表面の欠陥があまりにも多いようであるならば、そ
のハードコート層は光ディスクの使用を不可能とするで
あろう。

【０１０６】サンプル９及び１０では、その表面があま
りにも油っぽくかつ曇っていたので、集束エラーのデー
タが得られていない（Ｎ／Ａ）。第１表は、フッ素化イ
オン性塩を含むサンプルが良好な帯電防止特性、すなわ
ち、非常に低い残留電荷及び良好な導電性（低い抵
抗）、そして非常に短い減衰時間を有していることを示
している。これらのサンプルはまた、埃の付着試験にお
いてスタイロフォーム粒子を反撥したことも示してい
る。用いられたハードコート組成物がフッ素化イオン性
塩を含有していないサンプル１、２、１２、２６及び２
７の場合、スタイロフォーム粒子の付着が認められた。
サンプル１、２、１２、２６及び２７は、装置の限界で
ある５分間を上回る減衰時間を意味する“無限”の減衰
時間、そして１×１０¹³オーム／平方単位よりも大きな
表面抵抗を有していた。

【０１０７】優れた帯電防止特性を呈示したハードコー
ト組成物がいずれも外観的に許容し得るというわけでは
なかった。外観的に許容し得ないものの場合、観察され
る欠陥の例として、濁り、油っぽい表面、ユズ肌、そし
て流れすじがあった。記載のデータは、さらに、このよ
うな外観上の欠陥は集束エラーの増大を導くことが可能
であるということを示している。

【０１０８】帯電防止ハードコート組成物の多く（サン
プル６〜８、１１、１３〜２３、３０及び３２）は、帯
電防止特性と良好な外観特性の両方を示した。これらの
サンプルは、さらに、集束エラーの低下を示し、それら
を光記録デバイスとして機能可能にした。サンプル１３
及び１４は、フッ素化側基を含むコポリマーＣは、優れ
た帯電防止性及び外観特性のハードコート層を達成する
ため、非イオン系フッ素化表面活性剤Ｄと一緒に使用で
きるということを示している。

【０１０９】サンプル６〜８及び１１は、フッ素化側基
を含むコポリマーを全固形分１００部を基準にして４ｐ
ｂｗよりも少ない量で存在せしめた場合、外観上の特性
は良好であり、そして集束エラーは最低（６０未満）で
あることを示し、一方、フッ素化側基を含むコポリマー
を４ｐｂｗよりも多量に有するサンプル９及び１０は、
不適当な外観特性を示した。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の帯電防止被膜を含む光磁気記録媒体の
略示断面図である。

【符号の説明】

１０…光磁気記録ディスク１２…光記録層１４…基板１５…誘電体層１６…薄膜１７…誘電体層１８…反射面２０…シールコート２２…ハードコート層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ディスクの少なくとも１つの表面上に設
けられた帯電防止ハードコート層を有している光記録デ
ィスクであって、前記ハードコート層が、ａ）フッ素化イオン性塩、ｂ）複数個のフッ素化側基を含むビニルコポリマー、及
びｃ）非フッ素化ポリマー、を含んでいることを特徴とする光記録ディスク。
【請求項２】前記の複数個のフッ素化側基を含むビニ
ルコポリマーが、ａ）非フッ素化ビニルモノマー、及びｂ）フッ素化基を含むビニルモノマー、を含むモノマーから誘導されたコポリマーであることを
特徴とする、請求項１に記載の光記録ディスク。
【請求項３】前記の非フッ素化ビニルモノマーがオキ
シアルキレンを含むことを特徴とする、請求項２に記載
の光記録ディスク。
【請求項４】前記のフッ素化基を含むビニルモノマー
が、次式により表される（メタ）アクリレート：【化１】（上式において、Ｘは２価の結合基であり、Ｒ’はＨ又
はＣＨ₃であり、そしてＲ_fはフッ素化基である）であ
ることを特徴とする、請求項２に記載の光記録ディス
ク。
【請求項５】前記ハードコート層がさらに非イオン系
のフッ素化表面活性剤を含むことを特徴とする、請求項
１に記載の光記録ディスク。