JPH0825539A - 複合半透膜の製造方法 - Google Patents
複合半透膜の製造方法Info
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- JPH0825539A JPH0825539A JP6316414A JP31641494A JPH0825539A JP H0825539 A JPH0825539 A JP H0825539A JP 6316414 A JP6316414 A JP 6316414A JP 31641494 A JP31641494 A JP 31641494A JP H0825539 A JPH0825539 A JP H0825539A
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- membrane
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/10—Supported membranes; Membrane supports
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- B01D—SEPARATION
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- B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 支持層と補強物質との結合力を向上させ、機
械的強度を向上させて、最終的に選択性及び透過性が優
秀である複合半透膜の製造方法を提供することである。 【構成】 不織布又は織布を放電出力１０〜１５ワッ
ト、処理時間２０〜４０秒の条件でコロナ放電処理した
後、水を振り撒いてから５〜１０秒後に多孔性支持体物
質をキャスティングし、その表面に多官能性アミン溶液
と多官能性ハロゲン溶液を界面縮重合して得た架線ポリ
アミド系超薄膜を活性層として積層させる複合半透膜の
製造方法である。
械的強度を向上させて、最終的に選択性及び透過性が優
秀である複合半透膜の製造方法を提供することである。 【構成】 不織布又は織布を放電出力１０〜１５ワッ
ト、処理時間２０〜４０秒の条件でコロナ放電処理した
後、水を振り撒いてから５〜１０秒後に多孔性支持体物
質をキャスティングし、その表面に多官能性アミン溶液
と多官能性ハロゲン溶液を界面縮重合して得た架線ポリ
アミド系超薄膜を活性層として積層させる複合半透膜の
製造方法である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は選択性及び透過性が優秀
である複合半透膜の製造方法に関するもので、詳しくは
不織布又は織布を放電出力１０〜１５ワット、処理時間
２０〜４０秒の条件でコロナ放電処理した後、水を振り
撒いてから５〜１０秒後に多孔性支持体物質をキャステ
ィングし、その表面に多官能性アミン溶液と多官能性ハ
ロゲン溶液を界面縮重合して得た架線ポリアミド系超薄
膜を活性層として積層させることを特徴とする複合半透
膜の製造方法に関するものである。
である複合半透膜の製造方法に関するもので、詳しくは
不織布又は織布を放電出力１０〜１５ワット、処理時間
２０〜４０秒の条件でコロナ放電処理した後、水を振り
撒いてから５〜１０秒後に多孔性支持体物質をキャステ
ィングし、その表面に多官能性アミン溶液と多官能性ハ
ロゲン溶液を界面縮重合して得た架線ポリアミド系超薄
膜を活性層として積層させることを特徴とする複合半透
膜の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液体内に存在する種々の成分は限外濾過
又は逆滲透等の効果的な多くの工程又は技術により分離
できる。特に、逆滲透膜は液体−液体システムにおい
て、水に対する透過度は高く、微生物、コロイド粒子、
水に溶けている塩及び有機物を透過させなくこれを除去
でき、１０Å以内の溶質分離に適用されるもので、飲料
用又はその他の目的に使用される水が海水、汚染水又は
塩水から得られる場合の脱塩工程に逆滲透分離が効果的
であり、水の脱塩は大量の飲料水、工業用水及び家庭用
水を提供するために必ず必要な工程である。即ち、逆滲
透膜により水を通過させると、精製水は膜を通じて通過
回収される反面、汚染物又は塩は膜を通過し得なく膜に
より拒否され残留物として回収されるので水の脱塩が可
能になる。しかしながら、逆滲透膜は大変高い塩排除率
（Salt rejection coefficient）を有し、耐塩素性が強
く、高い透過水量（flux）特性を有しなければならな
い。即ち、逆滲透膜は比較的低い圧力下で多量の水を透
過させ得なければならない。逆滲透膜が前記望ましい特
性を有すると、脱塩工程の適用を商業的に遂行すること
が可能になろう。
又は逆滲透等の効果的な多くの工程又は技術により分離
できる。特に、逆滲透膜は液体−液体システムにおい
て、水に対する透過度は高く、微生物、コロイド粒子、
水に溶けている塩及び有機物を透過させなくこれを除去
でき、１０Å以内の溶質分離に適用されるもので、飲料
用又はその他の目的に使用される水が海水、汚染水又は
塩水から得られる場合の脱塩工程に逆滲透分離が効果的
であり、水の脱塩は大量の飲料水、工業用水及び家庭用
水を提供するために必ず必要な工程である。即ち、逆滲
透膜により水を通過させると、精製水は膜を通じて通過
回収される反面、汚染物又は塩は膜を通過し得なく膜に
より拒否され残留物として回収されるので水の脱塩が可
能になる。しかしながら、逆滲透膜は大変高い塩排除率
（Salt rejection coefficient）を有し、耐塩素性が強
く、高い透過水量（flux）特性を有しなければならな
い。即ち、逆滲透膜は比較的低い圧力下で多量の水を透
過させ得なければならない。逆滲透膜が前記望ましい特
性を有すると、脱塩工程の適用を商業的に遂行すること
が可能になろう。
【０００３】分離膜による分離は精密濾過又は限外濾過
のような圧力によるものと気体分離及び透過蒸発のよう
な濃度差によるものとに大別され、逆滲透は圧力差及び
濃度差によるものであり、逆滲透膜は精密濾過膜又は限
外濾過膜では除去し得ない１価イオン又は塩を除去し得
る分離膜で、海水の淡水化、苦汁の処理、産業排水処
理、半導体洗浄用超純水製造等の応用分野が多様であ
る。
のような圧力によるものと気体分離及び透過蒸発のよう
な濃度差によるものとに大別され、逆滲透は圧力差及び
濃度差によるものであり、逆滲透膜は精密濾過膜又は限
外濾過膜では除去し得ない１価イオン又は塩を除去し得
る分離膜で、海水の淡水化、苦汁の処理、産業排水処
理、半導体洗浄用超純水製造等の応用分野が多様であ
る。
【０００４】脱塩工程で使用される半透膜は望ましい透
過収率を提供するために性質上比較的薄くなければなら
ないため、多くの場合において、逆滲透膜が多孔性支持
層補強物質上に合成されるか又は積層されることが必要
である。そのような多孔性支持層補強物質は全体合成物
の透過収率に影響を及ぼすか透過収率の減少なしに、透
過された水が支持層を通じて通過するのに充分な細孔大
きさ（ pore size）を有するべきである。
過収率を提供するために性質上比較的薄くなければなら
ないため、多くの場合において、逆滲透膜が多孔性支持
層補強物質上に合成されるか又は積層されることが必要
である。そのような多孔性支持層補強物質は全体合成物
の透過収率に影響を及ぼすか透過収率の減少なしに、透
過された水が支持層を通じて通過するのに充分な細孔大
きさ（ pore size）を有するべきである。
【０００５】しかしながら、多孔性支持層補強物質上の
細孔は薄い合成半透膜により埋められるか、合成半透膜
が細孔内に深く入って、高圧下作動時、潜在的な膜破壊
可能性を有し、薄い膜の形状が変形され、それにより逆
滲透工程でその効能が喪失される傾向があるので、必ず
しも大きいものが望ましいものではない。
細孔は薄い合成半透膜により埋められるか、合成半透膜
が細孔内に深く入って、高圧下作動時、潜在的な膜破壊
可能性を有し、薄い膜の形状が変形され、それにより逆
滲透工程でその効能が喪失される傾向があるので、必ず
しも大きいものが望ましいものではない。
【０００６】逆滲透膜は多様な公知重合体物質から製
造、使用されてきた。この重合体物質のうち多数は塩排
除能が９８％以上程度に溶質の濃度を減少させる能力を
所有するが、一部は膜単位面積当たり膜により得られる
水の量、つまり透過収率が満足でなかつた。米国特許第
４，２７７，３４４号には、ポリアシルハライド単位体
及びアリレンポリアミン単位体から製造した交差結合さ
れた界面重合芳香族ポリアミンから製造された半透膜が
記載されており、米国特許第４，４１５，４４５号に
は、メタクリル酸とヒドロキシエチルメタクリレートの
ような水酸基含有単量体及び１，２，４，５−ベンゼン
テトラカルボン酸又はシトル酸のような任意の付加的な
多作用基カルボン酸の共重合体で構成されて、水の脱塩
に使用できる膜が開示されている。又、米国特許第４，
１６８，３５２号には、単量体混合物に存在するヒドロ
キシエチルメタクリレートのような単量体及びポリアク
リル酸のような重合体を重合して得た物質を用いて逆滲
透工程に使用し得る膜の製造方法が記載されている。
造、使用されてきた。この重合体物質のうち多数は塩排
除能が９８％以上程度に溶質の濃度を減少させる能力を
所有するが、一部は膜単位面積当たり膜により得られる
水の量、つまり透過収率が満足でなかつた。米国特許第
４，２７７，３４４号には、ポリアシルハライド単位体
及びアリレンポリアミン単位体から製造した交差結合さ
れた界面重合芳香族ポリアミンから製造された半透膜が
記載されており、米国特許第４，４１５，４４５号に
は、メタクリル酸とヒドロキシエチルメタクリレートの
ような水酸基含有単量体及び１，２，４，５−ベンゼン
テトラカルボン酸又はシトル酸のような任意の付加的な
多作用基カルボン酸の共重合体で構成されて、水の脱塩
に使用できる膜が開示されている。又、米国特許第４，
１６８，３５２号には、単量体混合物に存在するヒドロ
キシエチルメタクリレートのような単量体及びポリアク
リル酸のような重合体を重合して得た物質を用いて逆滲
透工程に使用し得る膜の製造方法が記載されている。
【０００７】前記特許において、化合物の重合は光化学
的方法により開始され、その結果の膜は他の重合体と混
合されたヒドロキシエチルメタクリレートの単重合体を
含んだものであり、重合されたヒドロキシエチルメタク
リレートとポリカルボン酸間には化学的結合が存在しな
い。
的方法により開始され、その結果の膜は他の重合体と混
合されたヒドロキシエチルメタクリレートの単重合体を
含んだものであり、重合されたヒドロキシエチルメタク
リレートとポリカルボン酸間には化学的結合が存在しな
い。
【０００８】その他にも、米国特許第４，２６７，２９
５号には、グリセリルメタクリレート、メチルメタクリ
レート、ヒドロキシエチルアクリレートのようなアクリ
レート及びエチルグリコールジメタクリレートのような
ジアクリレートの混合物の交差結合により製造されるヒ
ドロゲルが記載されている。前記特許において、重合の
開始はアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）のよう
な自由ラジカル開始剤の使用により遂行され、その結果
の膜は膜の形成中に反応しない自由水酸基を有し、最終
的な膜の組成は種々の単量体が交差結合された不規則共
重合体となる。その以後にも、多くの物質を使用して複
合半透膜を製造した先行技術特許が度々発見される。例
えば前記特許だけでなく、米国特許第３，７４４，６４
２号、第４，００５，０１２号、第４，３６６，０６２
号、第４，６０６，９４３号、第４，６１８，５３４
号、第４，６３４，５３１号、第４，６６１，２５４
号、第４，７６１，２３４号、第４，７８３，３４６号
等には複合半透膜が記載されているが、現在開発された
複合膜は米国特許第４，２７７，３４４号に開示されて
いる界面重合法による半透膜が膜性能の総合的面で主流
をなしている。
５号には、グリセリルメタクリレート、メチルメタクリ
レート、ヒドロキシエチルアクリレートのようなアクリ
レート及びエチルグリコールジメタクリレートのような
ジアクリレートの混合物の交差結合により製造されるヒ
ドロゲルが記載されている。前記特許において、重合の
開始はアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）のよう
な自由ラジカル開始剤の使用により遂行され、その結果
の膜は膜の形成中に反応しない自由水酸基を有し、最終
的な膜の組成は種々の単量体が交差結合された不規則共
重合体となる。その以後にも、多くの物質を使用して複
合半透膜を製造した先行技術特許が度々発見される。例
えば前記特許だけでなく、米国特許第３，７４４，６４
２号、第４，００５，０１２号、第４，３６６，０６２
号、第４，６０６，９４３号、第４，６１８，５３４
号、第４，６３４，５３１号、第４，６６１，２５４
号、第４，７６１，２３４号、第４，７８３，３４６号
等には複合半透膜が記載されているが、現在開発された
複合膜は米国特許第４，２７７，３４４号に開示されて
いる界面重合法による半透膜が膜性能の総合的面で主流
をなしている。
【０００９】前述した問題点を解決するために、米国特
許第３，９１２，８３４号には、選択的透過性複合膜を
製造することにおいて、支持層補強物質である多孔性織
物の後面を支持層物質と非相溶性の溶剤に含浸した後、
その反対面に支持層物質をキャスティングして支持層補
強物内に浸透する支持層物質の厚さを調節することによ
り機械的強度及び水透過率が優秀である分離膜を製造す
る方法が記載されている。
許第３，９１２，８３４号には、選択的透過性複合膜を
製造することにおいて、支持層補強物質である多孔性織
物の後面を支持層物質と非相溶性の溶剤に含浸した後、
その反対面に支持層物質をキャスティングして支持層補
強物内に浸透する支持層物質の厚さを調節することによ
り機械的強度及び水透過率が優秀である分離膜を製造す
る方法が記載されている。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記米
国特許第３，９１２，８３４号によると、工程を連続的
に遂行し得ないだけでなく満足な水透過率を得ることが
できなかった。
国特許第３，９１２，８３４号によると、工程を連続的
に遂行し得ないだけでなく満足な水透過率を得ることが
できなかった。
【００１１】従って、本発明の目的は支持層と補強物質
との結合力を向上させ、機械的強度を向上させて、最終
的に選択性及び透過性が優秀である複合半透膜の製造方
法を提供することにある。
との結合力を向上させ、機械的強度を向上させて、最終
的に選択性及び透過性が優秀である複合半透膜の製造方
法を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】前記目的だけでなく自明
である他の目的を達成するために、本発明では、支持層
補強物をコロナ放電処理することにより補強物表面に極
性の官能基を導入して化学的性質の変化を誘導した後、
支持層物質に対して非相溶性である溶剤を一定深さに浸
透させて支持層物質の補強物質内の浸透深さを調節する
ことにより選択性及び透過性が優秀である複合半透膜を
得ることができた。
である他の目的を達成するために、本発明では、支持層
補強物をコロナ放電処理することにより補強物表面に極
性の官能基を導入して化学的性質の変化を誘導した後、
支持層物質に対して非相溶性である溶剤を一定深さに浸
透させて支持層物質の補強物質内の浸透深さを調節する
ことにより選択性及び透過性が優秀である複合半透膜を
得ることができた。
【００１３】
【実施例】本発明をより具体的に説明すると次のようで
ある。
ある。
【００１４】コロナ放電により高分子物質を処理する
と、コロナの化学的、熱的作用により高分子表面の弱い
層が除去され表面構造が変化されるので物理的構造の改
質ができ、高分子表面に極性の官能基が導入されて化学
的性質が変化できる。このようなコロナ放電処理を複合
半透膜の製造時に支持層の製膜工程に用いると水透過率
を向上させ得ることを発見して本発明を完成した。
と、コロナの化学的、熱的作用により高分子表面の弱い
層が除去され表面構造が変化されるので物理的構造の改
質ができ、高分子表面に極性の官能基が導入されて化学
的性質が変化できる。このようなコロナ放電処理を複合
半透膜の製造時に支持層の製膜工程に用いると水透過率
を向上させ得ることを発見して本発明を完成した。
【００１５】先ず、不織布又は織布を放電出力１０〜１
５ワット、処理時間２０〜４０秒の条件でコロナ放電処
理した後、水を振り撒き、５〜１０秒後に多孔性支持体
物質をキャスティングし、その表面に多官能性アミン溶
液と多官能性ハロゲン溶液を界面縮重合して得た架線ポ
リアミド系の超薄膜を積層させることにより本発明の複
合半透膜を製造する。
５ワット、処理時間２０〜４０秒の条件でコロナ放電処
理した後、水を振り撒き、５〜１０秒後に多孔性支持体
物質をキャスティングし、その表面に多官能性アミン溶
液と多官能性ハロゲン溶液を界面縮重合して得た架線ポ
リアミド系の超薄膜を積層させることにより本発明の複
合半透膜を製造する。
【００１６】図１は本発明に使用するコロナ放電システ
ムの概略的模式図で、二つの電極２と二つの誘電体ロー
ラー３との間を試料４が通過しながらコロナ放電処理を
受けて、試料（不織布又は織布）表面に極性の官能基が
導入される。本発明に使用されるコロナ放電システムは
真空管方式で、誘電体ローラー３は耐熱性と発熱量が優
秀であるシリコンゴムでコーティングしたものを使用し
た。コロナ放電処理時の放電出力は１０〜１５ワットと
し、処理時間は２０〜４０秒とすることが、透過収率、
膜の機械的強度、塩排除率等の面で望ましかった。
ムの概略的模式図で、二つの電極２と二つの誘電体ロー
ラー３との間を試料４が通過しながらコロナ放電処理を
受けて、試料（不織布又は織布）表面に極性の官能基が
導入される。本発明に使用されるコロナ放電システムは
真空管方式で、誘電体ローラー３は耐熱性と発熱量が優
秀であるシリコンゴムでコーティングしたものを使用し
た。コロナ放電処理時の放電出力は１０〜１５ワットと
し、処理時間は２０〜４０秒とすることが、透過収率、
膜の機械的強度、塩排除率等の面で望ましかった。
【００１７】図２は本発明による不織布補強多孔性支持
体の概略的製造工程図で、コロナ処理装置５によりコロ
ナ放電処理された試料面は水スプレー装置６により水含
浸され、一定時間の経過後、望ましくは５〜１０秒経過
後、支持体製膜装置７を用いて製膜溶液をキャスティン
グし、水浴槽８に浸漬して不織布補強多孔性基質を得
る。得た不織布補強多孔性基質の上にポリアミド系超薄
膜を積層せる。
体の概略的製造工程図で、コロナ処理装置５によりコロ
ナ放電処理された試料面は水スプレー装置６により水含
浸され、一定時間の経過後、望ましくは５〜１０秒経過
後、支持体製膜装置７を用いて製膜溶液をキャスティン
グし、水浴槽８に浸漬して不織布補強多孔性基質を得
る。得た不織布補強多孔性基質の上にポリアミド系超薄
膜を積層せる。
【００１８】本発明において、支持層補強物としては、
厚さが１００〜２００μｍ、単位ｍ3当たり重量が５０〜
３００ｇであるポリエステル不織布を用いた。
厚さが１００〜２００μｍ、単位ｍ3当たり重量が５０〜
３００ｇであるポリエステル不織布を用いた。
【００１９】本発明のコロナ放電処理時、放電出力と処
理時間及び水含浸後の経過時間が重要であり、前記範囲
を外れる場合は透過収率、膜の機械的強度、塩排除率等
の複合半透膜の諸物性を満たさなかった。
理時間及び水含浸後の経過時間が重要であり、前記範囲
を外れる場合は透過収率、膜の機械的強度、塩排除率等
の複合半透膜の諸物性を満たさなかった。
【００２０】製造された複合半透膜の性能は、５００ｐ
ｐｍの食塩（ＮａＣｌ）水溶液を２５℃、８kg／cm2 の
圧力条件下で供給して食塩排除率を測定し、水透過率を
測定して評価した。そして、製膜溶液の浸透程度を確認
するために膜断面を顕微鏡で観察した。
ｐｍの食塩（ＮａＣｌ）水溶液を２５℃、８kg／cm2 の
圧力条件下で供給して食塩排除率を測定し、水透過率を
測定して評価した。そして、製膜溶液の浸透程度を確認
するために膜断面を顕微鏡で観察した。
【００２１】
【式１】 ここで、Ｃは原液のＮａＣｌの濃度であり、Ｃ′は透過
液のＮａＣｌの濃度である。
液のＮａＣｌの濃度である。
【００２２】下記の実施例及び比較例は本発明をより具
体的に説明するもので、本発明の範囲を限定するもので
はない。
体的に説明するもので、本発明の範囲を限定するもので
はない。
【００２３】実施例１ 図２に示すように、厚さが１５０μｍ、幅が８cmである
ポリエステル不織布を放電出力１３ワットで３０秒間コ
ロナ処理した後、処理されたポリエステル不織布面に水
を均等に振り撒いてから５秒後、水により含浸された不
織布の反対面にジメチルホルムアミドとポリスルホン１
５重量％溶液を約１００μｍの厚さにキャスティング
し、即時これを３０℃の水浴中に浸漬して固形化するこ
とにより不織布補強多孔性基質を得た。製造された不織
布補強ポリスルホン多孔性基質を常温の水に２４時間浸
漬して多孔質内の溶媒と水を完全に置換した後、不織布
補強ポリスルホン多孔性基質を４．０重量％のｍ−フェ
ニレンジアミン水溶液中に２０時間浸漬し、１．０重量
％のトリメゾイルクロライド溶液（溶媒：ｎ−ヘキサ
ン）を５分間塗布し、常温で乾燥した。製造された複合
膜の塩排除率及び水透過率を測定して表１に表した。
又、製造された複合膜の断面を顕微鏡で観察した結果、
製膜溶液が支持層補強物であるポリエステル不織布を浸
透して反対面に出なかったことが分かり、支持層とポリ
エステル不織布間の接着力が優れていることが分かっ
た。
ポリエステル不織布を放電出力１３ワットで３０秒間コ
ロナ処理した後、処理されたポリエステル不織布面に水
を均等に振り撒いてから５秒後、水により含浸された不
織布の反対面にジメチルホルムアミドとポリスルホン１
５重量％溶液を約１００μｍの厚さにキャスティング
し、即時これを３０℃の水浴中に浸漬して固形化するこ
とにより不織布補強多孔性基質を得た。製造された不織
布補強ポリスルホン多孔性基質を常温の水に２４時間浸
漬して多孔質内の溶媒と水を完全に置換した後、不織布
補強ポリスルホン多孔性基質を４．０重量％のｍ−フェ
ニレンジアミン水溶液中に２０時間浸漬し、１．０重量
％のトリメゾイルクロライド溶液（溶媒：ｎ−ヘキサ
ン）を５分間塗布し、常温で乾燥した。製造された複合
膜の塩排除率及び水透過率を測定して表１に表した。
又、製造された複合膜の断面を顕微鏡で観察した結果、
製膜溶液が支持層補強物であるポリエステル不織布を浸
透して反対面に出なかったことが分かり、支持層とポリ
エステル不織布間の接着力が優れていることが分かっ
た。
【００２４】比較例１ ポリエステル不織布を１０秒間コロナ放電処理したこと
を除き、実施例１と同一方法によりポリエステル不織布
補強複合膜を製造し、膜特性を評価して表１に表し、製
造された複合膜の断面を顕微鏡で観察した結果、製膜溶
液が支持層補強物であるポリエステル不織布を通過して
反対面に滲みて出たことが分かった。
を除き、実施例１と同一方法によりポリエステル不織布
補強複合膜を製造し、膜特性を評価して表１に表し、製
造された複合膜の断面を顕微鏡で観察した結果、製膜溶
液が支持層補強物であるポリエステル不織布を通過して
反対面に滲みて出たことが分かった。
【００２５】比較例２ コロナ放電処理されたポリエステル不織布上に水を振り
撒いてから２０秒経過後、支持層物質をキャスティング
したことを除き、実施例１と同一方法によりポリエステ
ル不織布補強複合膜を製造し、膜特性を評価して表１に
表し、製造された複合膜断面を顕微鏡で観察した結果、
製膜溶液が支持層補強物であるポリエステル不織布を透
過して反対面に滲み出たことが分かった。
撒いてから２０秒経過後、支持層物質をキャスティング
したことを除き、実施例１と同一方法によりポリエステ
ル不織布補強複合膜を製造し、膜特性を評価して表１に
表し、製造された複合膜断面を顕微鏡で観察した結果、
製膜溶液が支持層補強物であるポリエステル不織布を透
過して反対面に滲み出たことが分かった。
【００２６】実施例３ ポリエステル不織布をコロナ放電処理しなかったことを
除き、実施例１と同一方法によりポリエステル不織布補
強複合膜を製造し膜特性を評価して表１に表した。
除き、実施例１と同一方法によりポリエステル不織布補
強複合膜を製造し膜特性を評価して表１に表した。
【００２７】比較例４ コロナ放電処理しなく水に含浸しなかったポリエステル
不織布上にジメチルホルムアミドと２０重量％のポリス
ルホン溶液をキャスティングしたことを除き、実施例１
と同一方法によりポリエステル不織布補強複合膜を製造
し膜特性を評価して表１に表した。製造された複合膜の
断面に対する顕微鏡観察結果、多孔性支持層物質が不織
布内にほとんど浸透しないため結合力が低く表れた。
不織布上にジメチルホルムアミドと２０重量％のポリス
ルホン溶液をキャスティングしたことを除き、実施例１
と同一方法によりポリエステル不織布補強複合膜を製造
し膜特性を評価して表１に表した。製造された複合膜の
断面に対する顕微鏡観察結果、多孔性支持層物質が不織
布内にほとんど浸透しないため結合力が低く表れた。
【００２８】
【表１】
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明により製造
された複合半透膜は従来の方法により製造された複合半
透膜に比べて塩排除率の低下なしに水透過率及び機械的
強度がかなり向上した結果を表した。
された複合半透膜は従来の方法により製造された複合半
透膜に比べて塩排除率の低下なしに水透過率及び機械的
強度がかなり向上した結果を表した。
【図１】本発明に使用したコロナ放電システムの概略模
式図である。
式図である。
【図２】本発明による不織布補強多孔性支持体の概略製
造工程図である。
造工程図である。
１：高周波電源発生装置 ２：電 極 ３：誘電体ローラー ４：試料（不織布又は織布） ５：コロナ処理装置 ６：水スプレー装置 ７：支持体製膜装置 ８：水浴槽
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 キム・クウォン・イル 大韓民国インチョン，ナムドン−ク，ガン セオ−ドン，バムヤン・アパートメント 109−305 (72)発明者 キム・ビェン・ホー 大韓民国キョンギ−ドー，アンヤン，ナナ ン−ク，パクダル−ドン 64−１，シニ ル・イェンリブ ビー−202
Claims (4)
- 【請求項１】 ポリエステル不織布上に積層させた多孔
性支持体の表面に、多官能性アミン溶液と多官能性ハロ
ゲン溶液を界面縮重合させて得たポリアミド系超薄膜を
活性層として積層させるポリエステル補強複合半透膜の
製造方法において、 ポリエステル不織布にコロナ放電処理をした後、水を振
り撒いてから多孔性支持層物質をキャスティングするこ
とを特徴とする複合半透膜の製造方法。 - 【請求項２】 コロナ放電処理されたポリエステル不織
布上に水を振り撒いてから支持層物質をキャスティング
するまでの時間が５〜１０秒であることを特徴とする請
求項１記載の複合半透膜の製造方法。 - 【請求項３】 コロナ放電処理時の放電出力は１０〜１
５ワットであることを特徴とする請求項１記載の複合半
透膜の製造方法。 - 【請求項４】 コロナ放電処理は２０〜４０秒間行うこ
とを特徴とする請求項１記載の複合半透膜の製造方法。
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|---|---|---|---|
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| KR93-28546 | 1993-12-20 |
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|---|---|
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|---|---|---|---|
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| JP (1) | JPH0825539A (ja) |
| KR (1) | KR960014337B1 (ja) |
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| GB (1) | GB2285933B (ja) |
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- 1993-12-20 KR KR1019930028546A patent/KR960014337B1/ko not_active Expired - Fee Related
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1994
- 1994-12-19 US US08/359,301 patent/US5593738A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-12-20 DE DE4445539A patent/DE4445539C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-12-20 GB GB9425671A patent/GB2285933B/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-12-20 JP JP6316414A patent/JPH0825539A/ja active Pending
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