JPH08259475A - シクロペンタジエニル化合物の製造法および得られた化合物 - Google Patents
シクロペンタジエニル化合物の製造法および得られた化合物Info
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Abstract
−シクロペンタジエニル化合物の製造を容易にかつ有利
に製造することを課題とする。 【解決手段】 塩基と、炭素/酸素の原子比が3より高
くない酸素含有溶媒の存在下で、シクロペンタジエニル
化合物とカルボニル化合物を反応させることによりシン
グル炭素原子により橋状ビス−シクロペンタジエニル化
合物の製造法。 【効果】 容易な1段法で高収率で得られる化合物は、
オレフィン重合の触媒成分として活性であるアンサ−メ
タロセンの製造に使用することができる。
Description
エニル化合物の製造法に関する。より詳しくは、この発
明は、アルキリデン橋状ビス−シクロペンタジエニル化
合物の製造法に関する。この発明はまた、その製造法で
得ることができる一群の化合物に関する。
のシクロペンタジエニル環が構造橋で結合した化合物が
知られ、主にオレフィン重合の触媒成分として活性であ
るアンサ−メタロセン用の有機金属化合物の合成に広く
用いられている。ヨーロッパ特許出願EP129,36
8号で、1〜4の炭素原子を有するアルキレン基で構成
された橋で互いに結合したシクロペンタジエニル環から
なるメタロセン化合物が知られている。しかし、その出
願では、かかる化合物の製造は開示されていない。
には、(A)アルモキサンと(B)同一または異なるシ
クロペンタジエニル環が式−R5 CR6 −(R5 とR6
は異なる意味を有してもよい)を有する橋で結合されて
いるメタロセン化合物とからなる触媒の存在下で行う塊
重合で作られた低分子量のプロピレンポリマーが開示さ
れている。そのメタロセン化合物のリガンドは、予め有
機リチウム化合物と処理したシクロペンタジエニル化合
物とフルベン化合物と反応されて作られる。フルベンが
シクロペンタジエニル化合物に対応すると対称リガンド
を得ることができる。しかしこの方法は満足しうる収率
ではなく、対称リガンドの製造に、フルベンを作り、分
離する前工程を必要とし、全体の反応収率の低下をまね
く。
ニル化合物が置換シクロペンタジエニル化合物と6,6
−ジメチルフルベンとをNaOH/THF系の存在下で
反応させて作られている(I.E. Nifant'ev et.al.,J. Ch
em. Research 1992, 162) 。この場合に、6,6−ジメ
チルフルベンが別に作られている。その上、シクロペン
タジエニル環上に置換基を有する6,6−ジメチルフル
ベンはこれらの条件で反応しないことから、シクロペン
タジエニル環上に置換基を有するイソプロピリデン橋状
ビス−シクロペンタジエニル化合物を得ることはできな
い。
10, 3739 によると、イソプロピリデン−ビス−(シク
ロペンタジエン)が、NaOH/THF系の存在下で、
シクロペンタジエンとアセトンを反応させる1工程のみ
で作られている。その収率は約60%である。しかし、
この条件下で置換シクロペンタジエンはアセトンと反応
しない。
メタンすなわち、各シクロペンタジエニル環の3位にイ
ソプロピルまたはt−ブチル置換分を有するものから得
られたTiとZrのメタロセンコンプレタスが提案され
ている〔I.F. Urazowski等:ギリシャ、クリエート ア
ギア ペラギアデ1993年9月5〜10日に行われた有機金
属化合物の第10回フェケム(Fechem)会議〕。しかし、
ここでは、これらのコンプレックの生成機構とX線分析
による構造特性が議論されているのみで対応するジシク
ロペンタジエン−ジメチルメタンの製造は記載されてい
ない。
一群のビス−シクロペンタジエニル化合物の製造を容易
にかつ有利に作る方法が非常に望まれているところであ
る。
タジエニル環上に置換分を有するアルキリデン橋状ビス
−シクロペンタジエニル化合物を特定の条件下で操作し
て、容易な1段法で作ることができることを意外にも見
いだした。従って、この発明の目的は、式(II)
ルボニル化合物と、式(III)
同一意味)のシクロペンタジエニル化合物との反応を、
塩基と炭素/酸素の原子比が3より高くない酸素含有溶
媒との存在下で行うことからなる式(I)
は異なって、水素原子、またはSiあるいはGe原子を
含有してもよいC1-20アルキル、C3-20シクロアルキ
ル、C2- 20アルケニル、C6-20アリール、C7-20アルキ
ルアリールあるいはC7-20アリールアルキル基、かつ同
一シクロペンタジエニル環上の2つの隣接するR1 、R
2、R3 、R4 は5〜8の炭素原子を有する環を形成で
きる;R5 は水素原子または−CHR7 R8 基、R6 は
C6-20アリール基または−CHR9 R10基(R7 、
R8 、R9 とR10は同一または異なって、水素原子、ま
たは窒素、燐、酸素あるいは硫黄のようなヘテロ原子を
含有していもよいC1-20アルケニル、C3-20シクロアル
キル、C2-20アルケニル、C6-20アリールアルキル基、
かつ2つのR7 、R8 、R9 とR10はヘテロ原子を含有
してもよい3〜8の炭素原子を有する環を形成でき
る。)〕を有する橋状ビス−シクロペンタジエニル化合
物の製造法を提供するものである。
るシクロペンタジエニル環の二重結合は許容される位置
の何れでもよい。溶媒の選択はこの発明で重要であり、
不適当な溶媒は所望の目的物を与えないか満足な収率で
目的物を与えないであろう。
媒は、例えば −ジメトキシエタン、ジエトキシエタンのようなジエー
テル、 −ジグリムのようなトリエーテル、 −クラウンエーテル、 −モノ、ジ、オリゴまたはポリ−エチレングリコール のようなポリエーテルである。
例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化カルシウム、水酸化バリウムのようなア
ルカリ金属またはアルカリ土類金属水酸化物である。こ
れらの中で、水酸化カリウムが特に好ましい。この発明
の方法は、特に好ましい具体例によれば、水酸化カリウ
ムとジメトキシエタンの存在下で行われる。
温度との間である。反応時間は、広い範囲で変化でき
る。一般に2分〜24時間の間で、より代表的には30
分〜4時間の間である。上記の反応で、シクロペンタジ
エニル化合物(III)のカルボニル化合物(II)に対する
モル比は、非常に広い範囲で変化でき、(III)/(II)
のモル比によって所望の目的物が得られる異なるタイプ
の具体例が実施できる。その具体例それぞれで異なるタ
イプの最終物が得れる。しかし、そのモル比は一般に2
に等しいかそれ以下である。
ば、シクロペンタジエニル化合物(III)とカルボニル化
合物(II)との反応は、モル比(III)/(II)が約2:
1で行われる。このようなモル比を用いると、式(II)
と(III)の化合物の置換基のタイプと数の選択によっ
て、異なるアルキリデン橋状ビス−シクロペンタジエニ
ル化合物を単一工程で作ることができる。
4 置換分の少なくとも1つがC1-10アルキル基であるシ
クロペンタジエニル化合物から1群のアルキリデン橋状
ビス(アルキル置換シクロペンタジエニル)化合物に属
する化合物が、公知方法により一般に高い収率で得るこ
とができる。特に(III)/(II)のモル比が約2:1で
操作してアセトンを式(II)のカルボニル化合物とし、
アルキル置換シクロペンタジエニル化合物を式(III)の
化合物として使用すると、式(IV) 2,2−ビス(CpR’n H4-n )プロパン(IV) (式中R1 はメチル、エチル、イソプロピルなどのよう
なC1-10アルキル基、nは1〜4の整数)の橋状ビス−
アルキル環シクロペンタジエンが、単一工程で75%以
上の収率で得ることができる。2,2−ビス(モノアル
キル−シクロペンタジエニル)プロパンの場合は、その
NMRスペクトルから、アルキル置換分はシクロペンタ
ジエニル環のβ−炭素原子に結合していることがわか
る。
が挙げられる。 2,2−ビス(3−メチル−シクロペンタジエニル)プ
ロパン 2,2−ビス(3−エチル−シクロペンタジエニル)プ
ロパン 2,2−ビス(3−イソプロピル−シクロペンタジエニ
ル)プロパン 2,2−ビス(3−tーブチル−シクロペンタジエニ
ル)プロパン 2,2−ビス(2,4−ジメチル−シクロペンタジエニ
ル)プロパン 2,2−ビス(2−メチル−4−イソプロピル−シクロ
ペンタジエニル)プロパン 2,2−ビス(2−メチル−4−tーブチル−シクロペ
ンタジエニル)プロパン 2,2−ビス(2,3,4,5−テトラメチル−シクロ
ペンタジエニル)プロパン 単一工程で(III)/(II)のモル比が約2:1で操作し
得ることができる他の群の化合物は、アルキリデン橋状
ビス−インデニル化合物である。これらの化合物は、式
(III)でR1 とR2 置換分またはR3 とR4 置換分がベ
ンゼン環を形成している化合物、すなわちインデニルま
たは置換インデニル化合物から得ることができる。
の群で、特に好ましいのは、KOH/DMEのような適
する塩基/溶媒系の存在下、インデニル化合物とアセト
ンとを反応させて得ることができる2,2−ビス(イン
デニル)プロパンである。このような化合物の例として
次のものが挙げられる。 2,2−ビス(インデニル)プロパン 2,2−ビス(3−メチル−インデニル)プロパン 2,2−ビス(3−エチル−インデニル)プロパン 2,2−ビス(3−イソプロピル−インデニル)プロパ
ン 2,2−ビス(3−tーブチル−インデニル)プロパン 2,2−ビス(4,7−ジメチル−インデニル)プロパ
ン。
は、上記の具体例によって得られた2,2−ビス(イン
デニル)プロパンを後処理で得ることもできる。例え
ば、2,2−ビス(3−トリメチルシリル−インデニ
ル)プロパンは、2,2−ビス(インデニル)プロペン
のジリチウム塩をトリメチルクロルシランと処理して得
ることができる。
ロピリデン以外の基で橋状結合したビス−シクロペンタ
ジエニル化合物の例は、次のものがある。 1,1−ビス(シクロペンタジエニル)シクロペンタン 1,1−ビス((1H)インデン−3−イル)シクロペンタ
ン 1,1−ビス(シクロペンタジエニル)シクロヘキサン 1,1−ビス((1H)インデン−3−イル)シクロヘキサ
ン 1,1−ビス(シクロペンタジエニル)シクロヘプタン 1,1−ビス((1H)インデン−3−イル)シクロヘプタ
ン 1,1−ビス(シクロペンタジエニル)シクロプロピル
エタン 1,1−ビス((1H)インデン−3−イル)シクロプロピ
ルエタン ビス(シクロペンタジエニル)フェニルメタン ビス(インデニル)フェニルメタン 4,4−ビス(シクロペンタジエニル)−1−メチルピ
ペラジン 4,4−ビス(インデニル)1−メチルピペラジン。
のカルボニル化合物は、化学量論モル比(III)/(II)
が2:1に対して過剰量用いることができる。特にモル
比(III)/(II)が約2:3でもよい。このような条件
で、シクロペンタジエニル環上のβ−位にアルキリデン
置換分を有する式(I)のシクロペンタジエニル化合物
を主生成物として得ることができる。
ると反応溶媒としても使用できる。従って、この発明の
他の目的は、式(II)
ルボニル化合物と、式(III)
一意味)のシクロペンタジエニル化合物とを、モル比
(II)/(III)か1.5に等しいかそれ以上で、塩基の
存在下で行うことからなる式(I)
記と同一意味、R2 は同一または異なって式(V)
キリデン基))の橋状シクロペンタジエニル化合物の製
造法を提供する。例えば、インデンとアセトンとの反応
を、モル比インデン:アセトンが約2:3で行うか、ア
セトンを反応溶媒として使用するアセトン過剰で行う
と、2,2−ビス(3−ベンゾ−6,6−ジメチルフル
ベン)プロパンが得られる。この化合物は、公知法によ
りインデニル基の3位に置換分を有する各種の2,2−
ビス(インデニル)プロパンに変換できる非常に広い用
途をもつ化合物である。
6−ジメチル−フルベン)プロパンを、適切な溶媒中、
LiHまたはLiAlH4 のような水素化物、またはL
iMeのようなメタロセンと反応させて、2,2−ビス
(3−イソプロピル−インデニル)プロパンまたは2,
2−ビス(3−t−ブチル−インデニル)プロパンのア
ニオン型を直接得ることができ、これは次いでメタロセ
ン化合物に変換される。
物と式(III)のシクロペンタジエニル化合物との反応か
ら得られる橋状シクロペンタジエニル化合物は、抽出、
晶出、蒸留、クロマトグラフィ等のような公知の技術に
より反応混合物から回収され、分離される。この発明の
方法により得られるアルキリデン−橋状ビス−シクロペ
ンタジエニル化合物は、チタン、ジルコニウムまたはハ
フニウムのような遷移金属を有する対応するメタロセン
化合物を製造するために使用でき、メタロセン化合物は
オレフィンの重合に触媒成分として使用される。
ン−橋状ビス−シクロペンタジエニル化合物のあるもの
は、本出願の日において知られていない。従って、本発
明の更なる目的は、一般式(I):
よびR6 は上記と同じであり、但しR 5 およびR6 置換
分がメチル基の場合、下記条件: −R1 、R2 、R3 およびR4 置換分の少なくとも1つ
が水素原子とは異なり、 −R1 、R2 およびR4 置換分が水素原子なら、R3 置
換分はイソプロピルまたはt−ブチル基以外であり、お
よび −2つの橋状リガンドが未置換インデニル以外である が適用される)からなる橋状シクロペンタジエニル化合
物を提供する。
(I)の新規ビス−シクロペンタジエニル化合物は、R
3 置換分が炭素数1〜10のアルキル、シクロアルキ
ル、アリール、アルキルアリールまたはアリールアルキ
ル基の3つで置換された炭素、珪素またはゲルマニウム
原子であり、R4 置換分が水素原子である化合物であ
る。そのような化合物の例として、2,2−ビス(3−
t−ブチル−シクロペンタジエニル)プロパン、2,2
−ビス(3−メチル−4−t−ブチル−シクロペンタジ
エニル)プロパン、2,2−ビス(3−t−ブチル−イ
ンデニル)プロパン、2,2−ビス(3−トリメチルシ
リル−インデニル)プロパンが挙げられる。
としてCDCl3 を使用し、バリアン(Varian)
300MHz装置で行った。全ての操作は、空気に鋭敏
な化合物を扱うための通常の技術を使用して、乾燥窒素
雰囲気中で行った。
インデン23.5ml(200ミリモル)を0.5時間
かけて添加した。混合物を加熱還流させた。次いで、ア
セトン7.5ml(100ミリモル)を0.5時間かけ
て添加し、混合物を更に2時間還流下で攪拌した。得ら
れた混合物を冷却し、中性になるまで希リン酸200m
l、次いでジエチルエーテル100mlで処理した。有
機相を分離し、水で洗浄し、Na2 SO4 で乾燥させ
た。次いで、溶媒を真空除去し、残留物を130〜16
0℃、0.01トル(torr)で蒸留した。広範囲留
分を回収し、1:1エーテル/ヘキサン混合物から再結
晶させることにより20.4g(収率72%)の生成物
を得た。 1H−NMR(アセトン−d8 ,30℃)δ:
7.37(d,2H);7.32(d,2H);6.9
8(m,4H);6.60(t,2H){=CH−}
3.38(d,4H,−CH2 −)1.74(s,6
H,−CH3 )
造 インデンの代わりに3−メチル−インデン200ミリモ
ルを使用し、アセトンを添加した後、混合物を3時間還
流下で攪拌すること以外は、実施例1に記載した工程に
より行った。蒸留の温度を135〜165℃とした。生
成物を二リチウム塩として分離した(収率65%)。 1
H−NMR(THF−d8 ,30℃)δ:7.42
(“d”,2H);7.10(“d”,2H);6.2
6(“t”,2H);6.18(“t”,2H){AB
CD,J=9Hz}6.47(s,2H);2.33
(s,6H,Ind−CH3 );1.90(s,6H,
>CMe 2 )
ンの製造 インデンの代わりに3−イソプロピル−インデン200
ミリモルを使用し、アセトンを添加した後、混合物を4
時間還流下で攪拌すること以外は、実施例1に記載した
工程により行った。蒸留の温度を140〜175℃とし
た。生成物を二リチウム塩として分離した(収率63
%)。 1H−NMR(THF−d8 ,30℃)δ:7.
45(“d”,2H);7.27(“d”,2H);
6.30(“t”,2H);6.23(“t”,2H)
{ABCD,J=8.0Hz}6.63(s,2H);
3.30(sept,J=7.0Hz,2H,−CH
(CH3)2 );1.98(s,6H,>CMe2 )
1.35(d,J=7.0Hz,12H,−CH(CH
3 )2 )
フルベン)プロパンの製造 アセトン300ミリモルを使用することを除いて、実施
例1に記載された工程により行った。26.1gの生成
物を得た(収率73%)。 (b)2,2−ビス(3−イソプロピル−インデニル)
プロパンの製造 THF100ml中に、2,2−ビス(3−ベンゾ−
6,6−ジメチル−フルベン)プロパン6.27g(1
7.8ミリモル)の溶液を、−20℃でLiAlH
4 (2倍過剰)0.68gで処理した。混合物を室温ま
で加温し、5時間還流した。得られた溶液をH2 O20
0ml中に注ぎ、中和し、Et2 O50mlで2回抽出
した。有機相を乾燥させ、溶媒を除去し、残留物を真空
乾燥させた。4.16gの生成物を分離し、更に生成す
ることなく次の工程に使用した(収率63.4%)。
ンの製造 インデンの代わりに3−テトラブチル−インデン200
ミリモルを使用し、アセトンを添加した後、混合物を4
時間還流下で攪拌すること以外は、実施例1に記載した
工程により行った。蒸留の温度を145〜185℃とし
た。生成物を二リチウム塩として分離した(収率48
%)。 1H−NMR(THF−d8 ,30℃)δ:8.
17(“t”,4H);6.95(mm,4H){AB
CD}7.36(s,2H)2.70(s,6H,>C
Me2 )2.19(s,18H,−CMe3 )
ル)プロパンの製造 DME100mlに、KOH10g、t−ブチル−シク
ロペンタジエン150ミリモルおよびアセトン4.35
gを懸濁させ、得られた混合物を加熱して還流させ、2
時間攪拌した。次いで、混合物を冷却し、水200m
l、ジエチルエーテル100mlで処理した。有機相を
分離し、水で洗浄し、CaCl2 で乾燥させた。次い
で、溶媒を真空蒸発させ、残留物を145〜165℃で
蒸留した。広範囲留分を回収し、再結晶させた(収率8
1%)。 1H−NMR(CDCl3 )δ:6.3−5.
7(m,4H);3.0−2.8(m,4H);1.5
−1.4(m,6H);1.3−1.2(m,18H)
ンタジエニル)プロパンの製造 DME100mlのKOH粉末10gの懸濁液に、激し
い攪拌下で、2−メチル−4−t−ブチル−シクロペン
タジエン17.8g(131ミリモル)を、0.5時間
かけて添加した。得られた混合物を加熱して還流させ
た。次いで、アセトン4.8ml(66ミリモル)を
0.5時間かけて滴下し、混合物を更に6時間還流下で
攪拌した。得られた混合物を冷却し、希リン酸200m
lで中性になるまで処理し、ジエチルエーテル100m
lで処理した。有機相を分離し、水で洗浄し、Na2 S
O4 で乾燥させた。次いで、溶媒を真空蒸発させ、残留
物を0.01トル下で蒸留した。130〜160℃の広
範囲留分を回収し、Et2 O30mlで希釈し、ヘキサ
ンのn−ブチルリチウムの2.0M溶液60mlで処理
した。生成物である白色の結晶沈殿物を二リチウム塩と
して分離し、Et2 O20mlで2回洗浄し、真空乾燥
させた(収率60%)。 1H−NMR(THF−d8 ,
30℃)δ:5.52(“d”,2H);5.22
(“d”,2H);3.58(s,6H);1.58
(s,6H);1.18(s,18H)
ンタンの製造 DME150mlに、粉砕されたKOH15g、インデ
ン23.5ml(200ミリモル)を懸濁させ、得られ
た混合物を還流するまで加熱した。次いで、シクロペン
タノン7.5ml(100ミリモル)を0.5時間かけ
て滴下し、混合物を還流下で更に2時間攪拌した。その
後、混合物を冷却し、水200ml、ジエチルエーテル
100mlで処理した。有機相を分離し、水で洗浄し、
CaCl 2 で乾燥させた。次いで、溶媒を真空蒸発さ
せ、残留物を蒸留した。180〜240℃/0.01〜
0.02トルの広範囲留分を回収した。得られた生成物
(18.5g)をヘプタンから再結晶させた(収率62
%)。
キサンの製造 DME150mlに、粉砕されたKOH15g、インデ
ン23.5ml(200ミリモル)を懸濁させ、混合物
を還流するまで加熱した。次いで、シクロヘキサノン
9.3ml(100ミリモル)を0.5時間かけて滴下
し、混合物を還流下で更に2時間攪拌した。その後、混
合物を冷却し、水200ml、ジエチルエーテル100
mlで処理した。有機相を分離し、水で洗浄し、CaC
l2 で乾燥させた。次いで、溶媒を真空蒸発させ、残留
物を蒸留した。190〜240℃/0.02トルの広範
囲留分を回収した。得られた生成物(23.7g)をヘ
プタンから再結晶させた(収率76%)。
プタンの製造 DME150mlに、粉砕されたKOH15g、インデ
ン23.5ml(200ミリモル)を懸濁させ、混合物
を還流するまで加熱した。次いで、シクロヘプタノン1
0.67ml(100ミリモル)を0.5時間かけて滴
下し、混合物を還流下で更に2時間攪拌した。その後、
混合物を冷却し、水200ml、ジエチルエーテル10
0mlで処理した。有機相を分離し、水で洗浄し、Ca
Cl2 で乾燥させた。次いで、溶媒を真空蒸発させ、残
留物を蒸留した。190〜240℃/0.02トルの広
範囲留分を回収した。得られた生成物(22.2g)を
ヘプタンから再結晶させた(収率68%)。
クロプロピルエタンの製造 DME150mlに、粉砕されたKOH15g、インデ
ン23.5ml(200ミリモル)を懸濁させ、混合物
を還流するまで加熱した。次いで、アセチルシクロプロ
パン8.6ml(100ミリモル)を0.5時間かけて
滴下し、混合物を還流下で更に3時間攪拌した。その
後、混合物を冷却し、水200ml、ジエチルエーテル
100mlで処理した。有機相を分離し、水で洗浄し、
CaCl2で乾燥させた。次いで、溶媒を真空蒸発さ
せ、残留物を蒸留した。180〜230℃/0.02ト
ルの広範囲留分を回収した。得られた生成物(21.8
g)をヘプタンから再結晶させた(収率73%)。
使用し、ベンズアルデヒドを添加した後、混合物を5時
間還流下で攪拌すること以外は、実施例1に記載した工
程により行った。蒸留の温度を140〜170℃とし
た。回収した留分をヘプタンから再結晶させた(収率6
0%)。 1H−NMR(アセトン−d6 ,30℃)δ:
7.52−7.18{mm,13H}6.05(q,2
H,=CH−)5.39(m,1H,>CH−)3.4
0(br.s,4H,−CH2 −) 13C−NMR(CD
2 Cl2 ,30℃)δ145.6;145.1;14
1.5(=C<)131.8;129.3;128.
7;127.0;126.2;124.1;120.2
(=CH−)44.5(>CH−)38.1(−CH2
−)
ン)プロパンの製造 インデン38.7g(0.330モル)、アセトン15
5ml(2.11モル)およびKOH2.71gを、窒
素雰囲気下で、250mlのフラスコに入れた。得られ
た溶液を、15日間、暗下で攪拌し、次いで溶液の色が
緑になり、フラスコの底に黄色固体生成物が晶出した。
固体を回収し、水で洗浄し、CH2 Cl 2 で希釈し、濾
過し、Na2 SO4 で乾燥させた。溶媒を除去した後、
黄色固体をペンタンから再結晶させた。純粋な2,2−
ビス(3−ベンゾ−6,6−ジメチル−フルベン)プロ
パンを5.53g得た。
ロパンの製造 実施例1の工程により製造した2,2−ビス(インデニ
ル)プロパン5.45g(20ミリモル)を、100m
lのエーテルに溶解した。それにより得られた溶液を−
20℃にし、ペンタンのn−ブチル−リチウムの2M溶
液22mlを添加し、それにより二リチウム−2,2−
ビス(インデニル)プロパンの懸濁液を得た。二リチウ
ム−2,2−ビス(インデニル)プロパン8.77g
(30.85ミリモル)を、エーテル100mlに溶解
し、Me3 SiCl(過剰量)10mlを−40℃で添
加した。得られた混合物を室温までもどした。有機相を
分離し、溶媒を除去し、生成物を真空乾燥させた。
製造 DME150mlのKOH粉末10gの懸濁液に、激し
い攪拌下で、インデン0.25モルを、0.5時間かけ
て添加した。混合物を加熱して還流させた。次いで、D
ME10mlに溶解した1−メチルピペリドン0.1モ
ルを0.5時間かけて滴下し、混合物を更に2時間還流
下で攪拌した。得られた混合物を冷却し、希リン酸20
0mlで中性になるまで処理し、Et2 O100mlで
処理した。有機相を分離し、20%過剰量の希酢酸で処
理した。水相を分離し、Et2 Oで2回洗浄し、希アル
カリ溶液で中和した。4,4−ビス−インデニル−1−
メチル−ピペリジンをCH2 Cl2 で抽出し、有機相を
分離し、溶媒を除去し、残留物をヘキサンで再結晶し
た。4,4−ビス−インデニル−1−メチル−ピペリジ
ンの収率は67%であった。 1H−NMR(C6 D6 ,
30℃)δ:7.57(d,2H);7.20(d,2
H);7.04(t,2H);6.97(t,2H);
6.28(s,2H);3.08(s,4H);2.5
8(m,4H);2.44(m,4H);2.17
(s,3H)
作することにより容易な1段法でシクロペンタジエニル
環上に置換基を有するアルキリデン橋状ビス−シクロペ
ンタジエニル化合物を作ることができる。
Claims (12)
- 【請求項1】 式(II) 【化1】 (式中R5 とR6 は下記と同一意味)のカルボニル化合
物と、式(III) 【化2】 (式中、R1 、R2 、R3 とR4 は下記と同一意味)の
シクロペンタジエニル化合物との反応を、塩基と炭素/
酸素の原子比が3より高くない酸素含有溶媒との存在下
で行うことからなる式(I) 【化3】 〔式中R1 、R2 、R3 とR4 は同一または異なって、
水素原子、またはSiあるいはGe原子を含有してもよ
いC1-20アルキル、C3-20シクロアルキル、C2- 20アル
ケニル、C6-20アリール、C7-20アルキルアリールある
いはC7-20アリールアルキル基、かつ同一シクロペンタ
ジエニル環上の2つの隣接するR1 、R2、R3 、R4
は5〜8の炭素原子を有する環を形成できる;R5 は水
素原子または−CHR7 R8 基;R6 はC6-20アリール
基または−CHR9 R10基(R7 、R8 、R9 とR10は
同一または異なって、水素原子、または窒素、燐、酸素
あるいは硫黄のようなヘテロ原子を含有していもよいC
1-20アルケニル、C3-20シクロアルキル、C2-20アルケ
ニル、C6-20アリールアルキル基、C7-20アルキルアリ
ールあるいはC7-20アリールアルキル基かつ2つの
R7 、R8 、R9 とR10はヘテロ原子を含有してもよい
3〜8の炭素原子を有する環を形成できる。)〕を有す
る橋状ビス−シクロペンタジエニル化合物の製造法。 - 【請求項2】 溶媒がポリエーテルである請求項1によ
る製造法。 - 【請求項3】 ポリエーテルが、ジメトキシエタン、ジ
エトキシエタン、ジグリム、クラウンエーテル、モノ
−,ジ−,オリゴ−またはポリエチレングリコールから
なる群から選択される請求項2による製造法。 - 【請求項4】 塩基が、アルカリ金属水酸化物およびア
ルカリ土類金属水酸化物からなる群から選択される請求
項1〜3いずれか1つによる製造法。 - 【請求項5】 塩基が、水酸化リチウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウムおよび水酸化
バリウムからなる群から選択される請求項4による製造
法。 - 【請求項6】 溶媒がジメトキシエタンであり、塩基が
水酸化カリウムである請求項1による製造法。 - 【請求項7】 式(III)のシクロペンタジエニル化合物
と式(II)のカルボニル化合物とのモル比が、約2:1
である請求項1〜6いずれか1つによる製造法。 - 【請求項8】 式(II)のカルボニル化合物がアセトン
である請求項1〜7いずれか1つによる製造法。 - 【請求項9】 式(II) 【化4】 (式中R5 とR6 は前記と同一意味)のカルボニル化合
物と、式(III) 【化5】 (式中R1 、R2 、R3 とR4 は前記と同一意味)のシ
クロペンタジエニル化合物とを、モル比(II)/(III)
が1.5に等しいかそれ以上で、塩基の存在下で行うこ
とからなる式(I) 【化6】 (式中R1 、R3 、R4 、R5 とR6 は前記と同一意
味、R2 は同一または異なって式(V) 【化7】 (式中R5 とR6 は前記と同一意味のアルキリデン
基))の橋状シクロペンタジエニル化合物の製造法。 - 【請求項10】 一般式(I): 【化8】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 およびR6 は上
記と同じであり、但しR 5 およびR6 置換分がメチル基
の場合、下記条件: −R1 、R2 、R3 およびR4 置換分の少なくとも1つ
が水素原子とは異なり、 −R1 、R2 およびR4 置換分が水素原子なら、R3 置
換分はイソプロピルまたはt−ブチル基以外であり、お
よび −2つの橋状リガンドが未置換インデニル以外である が適用される)からなる橋状シクロペンタジエニル化合
物。 - 【請求項11】 R3 置換分が炭素数1〜10のアルキ
ル、シクロアルキル、アリール、アルキルアリールまた
はアリールアルキル基の3つで置換された炭素、珪素ま
たはゲルマニウム原子であり、かつR4 置換分が水素原
子である化合物からなる請求項10による化合物。 - 【請求項12】 2,2−ビス(3−t−ブチル−シク
ロペンタジエニル)プロパン、2,2−ビス(3−メチ
ル−4−t−ブチル−シクロペンタジエニル)プロパ
ン、2,2−ビス(3−t−ブチル−インデニル)プロ
パン及び2,2−ビス(3−トリメチルシリル−インデ
ニル)プロパンから選択される請求項11による化合
物。
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