JPH08264686A - 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 - Google Patents

樹脂封止型半導体装置及びその製造方法

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JPH08264686A
JPH08264686A JP7062968A JP6296895A JPH08264686A JP H08264686 A JPH08264686 A JP H08264686A JP 7062968 A JP7062968 A JP 7062968A JP 6296895 A JP6296895 A JP 6296895A JP H08264686 A JPH08264686 A JP H08264686A
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resin
semiconductor device
metal body
heat
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JP7062968A
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Masako Sasaki
雅子 佐々木
Takayuki Okinaga
隆幸 沖永
Hiroshi Tate
宏 舘
Koji Emata
孝司 江俣
Teruo Kitamura
輝夫 北村
Hiroyuki Hozoji
裕之 宝蔵寺
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Hitachi Ltd
Hitachi Solutions Technology Ltd
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Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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    • H10W72/531Shapes of wire connectors
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 樹脂封止型半導体装置の熱に対する信頼性を
高める。また、前記目的を達成する樹脂封止型半導体装
置の製造方法を提供する。 【構成】 樹脂封止体1の樹脂1Aで表面が覆われた金
属体5(又は7若しくは9)を有する樹脂封止型半導体
装置において、前記樹脂封止体1の樹脂1Aとこの樹脂
封止体1の樹脂1Aで覆われた金属体5の表面との間に
シランカップリング層6を設ける。また、前記樹脂封止
型半導体装置の製造方法において、アルコキシシランカ
ップリング剤、有機溶剤及び0.5〜20[Vol%]の
水を含有する表面処理液に金属体5を浸漬する工程と、
前記表面処理液から金属体5を取り出す工程と、前記金
属体5に熱処理を施し、この金属体5の表面にシランカ
ップリング層6を形成する工程と、前記金属体5の表面
を覆う樹脂封止体1を形成する工程とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、樹脂封止型半導体装置
及びその製造方法に関し、特に、樹脂封止体の樹脂で表
面が覆われた金属体を有する樹脂封止型半導体装置及び
その製造方法に適用して有効な技術に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】製品コストの削減を主目的とする樹脂封
止型半導体装置として、例えばQFP(uad lat a
ckage)構造を採用する樹脂封止型半導体装置の開発が行
なわれている。このQFP構造を採用する樹脂封止型半
導体装置は、タブのペレット塔載面上に半導体ペレット
を塔載し、前記半導体ペレットの外部端子とインナーリ
ードとをボンディングワイヤで電気的に接続し、前記半
導体ペレット、インナーリード、タブ及びボンディング
ワイヤ等を樹脂封止体で封止した構造で構成される。
【0003】近年、QFP構造を採用する樹脂封止型半
導体装置は、半導体ペレットに塔載される回路システム
の高集積化や動作速度の高速化に伴い、半導体ペレット
から発生する動作熱が増加の傾向にある。そこで、半導
体ペレットから発生する動作熱を樹脂封止体の外部に放
出する目的として、例えば放熱板を有する樹脂封止型半
導体装置の開発が行なわれている。この樹脂封止型半導
体装置は、樹脂封止体の一表面から放熱板の一表面を露
出させ、前記放熱板の一表面と対向するその裏面にタブ
のペレット塔載面と対向するその裏面を接合させた構造
で構成される。放熱板は熱伝導率が高い例えばCu又は
Cu系合金等の金属材で形成される。
【0004】なお、放熱板を有する樹脂封止型半導体装
置については、例えば日経マイクロデバイス〔1991
年、5月号、第94頁乃至第106頁〕に記載されてい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前記樹脂封止型半導体
装置の樹脂封止体は、低応力化を図る目的として、例え
ばフェノール系硬化剤、シリコーンゴム及びフィラーが
添加されたエポキシ系の樹脂で形成される。このエポキ
シ系の樹脂は金属に対する接着性が低い。このため、製
品完成後の温度サイクル試験での熱処理時や実装基板に
実装する熱処理時において、樹脂封止体の樹脂と放熱板
との熱膨張係数の差に起因する熱ストレスによって、樹
脂封止体の樹脂とこの樹脂封止体の樹脂で覆われた放熱
板の表面との間に剥離が生じ、樹脂封止型半導体装置の
熱に対する信頼性が低下するという問題があった。
【0006】本発明の目的は、樹脂封止体の樹脂で表面
が覆われた金属体を有する樹脂封止型半導体装置の信頼
性を高めることが可能な技術を提供することにある。
【0007】また、本発明の他の目的は、前記目的を達
成する樹脂封止型半導体装置の製造方法を提供すること
にある。
【0008】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らか
になるであろう。
【0009】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。
【0010】(1)樹脂封止体の樹脂で表面が覆われた
金属体を有する樹脂封止型半導体装置において、前記樹
脂封止体の樹脂とこの樹脂封止体の樹脂で覆われた金属
体の表面との間にシランカップリング層を設ける。
【0011】(2)樹脂封止体の樹脂で表面が覆われた
金属体を有する樹脂封止型半導体装置の製造方法におい
て、アルコキシシランカップリング剤、有機溶剤及び
0.5〜20[Vol%]の水を含有する表面処理液に金
属体を浸漬する工程と、前記表面処理液から金属体を取
り出す工程と、前記金属体に熱処理を施し、この金属体
の表面にシランカップリング層を形成する工程と、前記
金属体の表面を覆う樹脂封止体を形成する工程とを備え
る。
【0012】
【作用】上述した手段(1)によれば、シランカップリ
ング層は、分子中に無機物に反応する官能基(例えばア
ルコキシ基)と有機物に反応する官能基(例えばアミノ
基)とが存在し、金属及び樹脂に対する接着性が高いの
で、製品完成後の温度サイクル試験での熱処理時や実装
基板に実装する熱処理時において、樹脂封止体の樹脂と
金属体との熱膨張係数の差に起因する熱ストレスによっ
て、樹脂封止体の樹脂とこの樹脂封止体の樹脂で覆われ
た金属体の表面との間に生じる剥離を防止することがで
きる。この結果、樹脂封止型半導体装置の熱に対する信
頼性を高めることができる。
【0013】上述した手段(2)によれば、樹脂封止体
の樹脂とこの樹脂封止体の樹脂で覆われた金属体の表面
との間にシランカップリング層を形成することができる
ので、樹脂封止体の樹脂と金属体との熱膨張係数の差に
起因する熱ストレスによって、樹脂封止体の樹脂とこの
樹脂封止体の樹脂で覆われた金属体の表面との間に生じ
る剥離を防止することができる。この結果、樹脂封止体
の樹脂で表面が覆われた金属体を有する樹脂封止型半導
体装置において、熱に対する信頼性の高い樹脂封止型半
導体装置を製造することができる。
【0014】また、有機溶剤は大気中の水分を除々に吸
収する作用があるため、表面処理液の含水率が1[%]
前後になる場合がある。水はアルコキシシランカップリ
ング剤のアルコキシ基と反応してこれを加水分解する作
用があるため、表面処理液の含水率が変動すると表面処
理液の特性も変動する。そこで、あらかじめ、表面処理
液の全量に対して0.5〜20[Vol%]の割合で水を
含有させておくことにより、有機溶剤が大気中の水分を
吸収しても、表面処理液中の含水率は無視できる程度し
か変動しないので、表面処理液の特性を一定に維持する
ことができ、この表面処理液で形成されるシランラカッ
プリング層の金属及び樹脂に対する接着特性を一定にす
ることができる。
【0015】
【実施例】以下、本発明の構成について、QFP構造を
採用する樹脂封止型半導体装置に本発明を適用した実施
例とともに説明する。なお、実施例を説明するための全
図において、同一機能を有するものは同一符号を付け、
その繰り返しの説明は省略する。
【0016】(実 施 例 1)本発明の実施例1である
QFP構造を採用する樹脂封止型半導体装置の概略構成
を図1(断面図)に示す。
【0017】図1に示すように、QFP構造を採用する
樹脂封止型半導体装置は、タブ3Cのペレット塔載面上
に半導体ペレット2を塔載する。半導体ペレット2は接
着層(図示せず)を介在してタブ3Cのペレット塔載面上
に固着される。接着層は、熱伝導率が高い例えばポリイ
ミド系又はエポキシ系のAgペースト材、或はPb−S
n系のろう材等で形成される。
【0018】前記半導体ペレットは、例えば平面形状が
方形状に形成された単結晶珪素基板を主体に構成され
る。単結晶珪素基板の主面には論理回路システム、記憶
回路システム、或はそれらの混合回路システムが塔載さ
れ、その主面上には複数個の外部端子(ボンディングパ
ッド)2Aが配置される。この複数個の外部端子2Aの
夫々は半導体ペレット2の外周囲の各辺に沿って配列さ
れる。
【0019】前記半導体ペレット2の外周囲の外側には
複数本のインナーリード3Aが配置される。この複数本
のインナーリード3Aの夫々は半導体ペレット2の外周
囲の各辺に沿って配列される。
【0020】前記複数本のインナーリード3Aの夫々は
ボンディングワイヤ4を介して半導体ペレット2の主面
に配置された複数個の外部端子2Aの夫々に電気的に接
続される。ボンディングワイヤ4は、例えばAl、Cu
又はAu等の金属材で形成される。ボンディングワイヤ
4は、例えば熱圧着に超音波振動を併用したボンディン
グ法で接続される。
【0021】前記半導体ペレット2、インナーリード3
A、タブ3Cの夫々は、平面が方形状に形成された樹脂
封止体1で封止される。樹脂封止体1は、トランスファ
モールド法に基づいて形成され、例えば低応力化を図る
目的としてフェノール系硬化剤、シリコーンゴム及びフ
ィラーが添加されたエポキシ系の樹脂1Aで形成され
る。
【0022】前記樹脂封止体1の外周囲の外側には複数
本のアウターリード3Bが配置される。この複数本のア
ウターリード3Bの夫々は、樹脂封止体1の各辺に沿っ
て配列され、樹脂封止体1で封止された複数本のインナ
ーリード3Aの夫々に一体化される。
【0023】前記複数本のアウターリード3Bの夫々
は、トランスファモールド法に基づいて樹脂封止体1を
形成した後、リードフレームの枠体から切断され、その
後、所定の形状(例えばガルウィング形状)に成形され
る。リードフレームは、例えばFe−Ni(例えばNi
含有率42又は50[%])合金又はCu系合金等の金
属材で形成される。
【0024】前記樹脂封止型半導体装置は、樹脂封止体
1の一表面(図中、下面)から一表面が露出される放熱板
5を備えている。この放熱板5の一表面と対向するその
裏面(図中、上面)は、タブ3Cのペレット塔載面と対向
するその裏面に接合される。
【0025】前記放熱板5の裏面は例えば接着層を介在
してタブ3Cの裏面に固着される。
【0026】接着層は、熱伝導率が高い例えばポリイミ
ド系のAgペースト材、Pb−Sn系のろう材等で形成
される。放熱板5は、例えば平面形状が方形状で形成さ
れ、熱伝導率が高い例えばCu、Cu系合金、Al、A
l系合金、Fe又はFe系合金等の金属材で形成され
る。つまり、放熱板5は、半導体ペレット2に塔載され
た回路システムの動作で発生する動作熱を樹脂封止体1
の外部に放出する金属体として構成される。
【0027】前記樹脂封止体1の樹脂1Aとこの樹脂封
止体1の樹脂1Aで覆われた放熱板5の表面との間には
シランカップリング層6が設けられる。このシランカッ
プリング層6は、分子中に無機物と反応する官能基(例
えばアルコキシ基)と有機物に反応する官能基(例えばア
ミノ基)とが存在するため、金属及び樹脂に対する接着
性が高い。つまり、シランカップリング層6は、樹脂封
止体1の樹脂1Aとこの樹脂封止体1の樹脂1Aで覆わ
れた放熱体5の表面とを強固に接着することができる。
なお、シランカップリング層6は絶縁体として構成され
る。
【0028】次に、前記樹脂封止型半導体装置の製造方
法について、図2乃至図7(説明図)用いて簡単に説明す
る。
【0029】まず、図2に示すように、表面処理液7の
液中に放熱板5を浸漬する。表面処理液7は、有機溶剤
と水とを混合させた混合溶媒にアルコキシシランカップ
リング剤を溶かしたものを使用する。アルコキシシラン
カップリング剤としては、例えばγ−(2−アミノエチ
ル)アミノプロピルトリメトキシシランを使用する。混
合溶媒の有機溶剤としては例えばイソプロピルアルコー
ルを使用する。アルコキシシランカップリング剤の割合
は表面処理液7の全量に対して0.05[Vol%]程度
に設定する。また、混合溶媒の水の割合は、表面処理液
7の全量に対して0.5〜20[Vol%]の範囲に設定
する。
【0030】水はアルコキシシランカップリング剤のア
ルコキシ基と反応してこれを加水分解する作用があるた
め、表面処理液7の含水率が変動すると表面処理液7の
特性も変動する。有機溶剤は大気中の水分を除々に吸収
する作用があるため、表面処理液7の含水率が1[%]
前後になる場合もある。そこで、本実施例のように、あ
らかじめ、表面処理液7の全量に対して0.5〜20
[Vol%]の割合で水を含有させておくことにより、有
機溶剤が大気中の水分を吸収しても、表面処理液7の含
水率は無視できる程度しか変動しないので、表面処理液
7の特性を一定に維持することができる。なお、有機溶
剤の水分吸収作用による表面処理液7の含水率の変動を
無視できる程度に抑えるためには、表面処理液7の全量
に対して0.5[Vol%]以上の割合で水を含有させて
おく必要があるが、水の含有率が高すぎると表面処理効
果が低下するため、表面処理液7の全量に対して含有さ
せる水の割合は、前述のように、20[Vol%]程度を
上限とする。
【0031】次に、前記表面処理液7の液中から放熱板
5を取り出し、この放熱板5の表面に残留した表面処理
液をエアーブローなどで除去した後、風乾により予備乾
燥を行う。
【0032】次に、前記放熱板5に熱処理を施し、図3
に示すように、放熱板5の表面にシランカップリング層
6を形成する。熱処理は、例えば280[℃]程度の温
度雰囲気中で約1時間程度行う。シランカップリング層
6の膜厚は、アルコキシシランカップリング剤1〜9分
子層程度とするのが好適である。
【0033】次に、図4に示すように、リードフレーム
3のタブ3Cのペレット塔載面と対向するその裏面に接
着層を介在して放熱板5を固着する。リードフレーム3
は、インナーリード3A、アウターリード3B及びタブ
3Cを有し、例えばFe−Ni合金又はCu系合金等の
金属材で形成される。
【0034】次に、図5に示すように、前記リードフレ
ーム3のタブ3Cのペレット塔載面上に接着層を介在し
て半導体ペレット2を固着する。
【0035】次に、図6に示すように、前記半導体ペレ
ット2の外部端子2Aとリードフレーム3のインナーリ
ード3Aとをボンディングワイヤ4で電気的に接続す
る。
【0036】次に、成形金型8の上型8Aと下型8Bと
の間に前記リードフレーム3を配置すると共に、前記成
形金型8の上型8Aと下型8Bとで形成されるキャビテ
ィ9内に半導体ペレット2、インナーリード3A、タブ
3C、ボンディングワイヤ4及び放熱板5を配置する。
この工程において、放熱板5の一表面は成形金型8のキ
ャビティ9の内壁面に接触される。
【0037】次に、前記成形金型8のキャビティ9内に
樹脂1Aを充填し、半導体ペレット2、インナーリード
3A、タブ3C及びボンディングワイヤ4を封止すると
共に、キャビティ9の内壁面に接触された一表面及びタ
ブ3Cが接合された領域を除く放熱板5の他の表面を覆
う樹脂封止体1を形成する。この工程において、樹脂封
止体1の樹脂1Aとこの樹脂封止体1の樹脂1Aで覆わ
れた放熱板5の表面との間にはシランカップリング層6
が形成される。
【0038】次に、前記リードフレーム3の枠体からア
ウターリード3Bを切断し、その後、アウターリード3
Bを所定の形状に成形する。この工程により、樹脂封止
型半導体装置はほぼ完成する。
【0039】次に、前記樹脂封止型半導体装置に温度サ
イクル試験を施し、良品、不良品の選別を行なう。その
後、樹脂封止型半導体装置は製品として出荷される。製
品として出荷された樹脂封止型半導体装置は実装基板の
実装面上に実装される。
【0040】なお、アルコキシシランカップリング剤と
しては、例えば下記の一般式〔I〕又は〔II〕で表わ
されるものを使用してもよい。
【0041】
【化1】
【0042】(式中、Rは炭素数1〜4のアルコキシ
基、Xはアミノ基、Yはエポキシ基、アミノ基、ビニル
基、メタクリロキシ基、メルカプト基、水酸基又はカル
ボキシル基、n,mは夫々1〜20の整数を表す)。
【0043】また、混合溶媒としては、アルコキシシラ
ンカップリング剤の種類に応じて、アルコール系、芳香
族炭化水素系、ケトン系、エステル系、エーテル系、セ
ロソルブ系、或はこれらの2種類以上の有機溶剤と水と
を混合させたものを使用してもよい。
【0044】このように、本実施例によれば、以下の作
用効果が得られる。
【0045】(1)樹脂封止体1の樹脂1Aで表面が覆
われた放熱板5(金属体)を有する樹脂封止型半導体装置
において、前記樹脂封止体1の樹脂1Aとこの樹脂封止
体1の樹脂1Aで覆われた金属体5の表面との間にシラ
ンカップリング層6を設ける。この構成により、シラン
カップリング層6は、分子中に無機物と反応する官能基
(例えばアルコキシ基)と有機物と反応する官能基(例え
ばアミノ基)とが存在し、金属及び樹脂に対する接着性
が高いので、製品完成後の温度サイクル試験での熱処理
時や実装基板に実装する熱処理時において、樹脂封止体
1の樹脂1Aと放熱板5との熱膨張係数の差に起因する
熱ストレスによって、樹脂封止体1の樹脂1Aとこの樹
脂封止体1の樹脂1Aで覆われた放熱板5の表面との間
に生じる剥離を防止することができる。
【0046】この結果、樹脂封止体1の樹脂1Aに含ま
れている水分が剥離領域に溜り、この溜った水分の熱に
よる膨張で樹脂封止体1に生じる亀裂を防止することが
できるので、樹脂封止型半導体装置の熱に対する信頼性
を高めることができる。
【0047】また、剥離による水分パス経路の発生を防
止することができるので、樹脂封止型半導体装置の耐湿
性を高めることができる。
【0048】(2)樹脂封止体の樹脂で表面が覆われた
放熱板(金属体)5を有する樹脂封止型半導体装置の製造
方法において、アルコキシシランカップリング剤、有機
溶剤及び0.5〜20[Vol%]の水を含有する表面処
理液7に放熱板(金属体)5を浸漬する工程と、前記表面
処理液7から放熱板5を取り出す工程と、前記放熱板5
に熱処理を施し、この放熱板5の表面にシランカップリ
ング層6を形成する工程と、前記放熱板5の表面を覆う
樹脂封止体1を形成する工程とを備える。これにより、
樹脂封止体1の樹脂1Aとこの樹脂封止体1の樹脂1A
で覆われた放熱板5の表面との間にシランカップリング
層6を形成することができるので、樹脂封止体1の樹脂
1Aと放熱板5との熱膨張係数の差に起因する熱ストレ
スによって、樹脂封止体1の樹脂1Aとこの樹脂封止体
1の樹脂1Aで覆われた放熱板5の表面との間に生じる
剥離を防止することができる。この結果、樹脂封止体1
の樹脂1Aで表面が覆われた放熱板5を有する樹脂封止
型半導体装置において、熱に対する信頼性の高い樹脂封
止型半導体装置を製造することができる。
【0049】また、有機溶剤は大気中の水分を除々に吸
収する作用があるため、表面処理液7の含水率が1
[%]前後になる場合がある。水はアルコキシシランカ
ップリング剤のアルコキシ基と反応してこれを加水分解
する作用があるため、表面処理液7の含水率が変動する
と表面処理液の特性も変動する。そこで、あらかじめ、
表面処理液7の全量に対して0.5〜20[Vol%]の
割合で水を含有させておくことにより、有機溶剤が大気
中の水分を吸収しても、表面処理液7の含水率は無視で
きる程度しか変動しないので、表面処理液7の特性を一
定に維持することができ、この表面処理液7で形成され
るシンラカップリング層6の金属及び樹脂に対する接着
特性を一定にすることができる。
【0050】なお、前記樹脂封止型半導体装置の製造方
法において、リードフレーム3のタブ3Cの裏面と放熱
板5は接着層で固着せず、成形金型8のキャビティ9の
内壁面に放熱板5を配置し、この放熱板5にリードフレ
ーム3のタブ3Cの裏面を載置した後、樹脂封止体1を
形成してもよい。この場合、放熱板5は樹脂封止体1の
樹脂1Aとの接着力だけで樹脂封止体1に保持されるこ
とになるので、放熱板5の剥離による脱落を防止するこ
とができる。
【0051】また、リードフレーム3のタブ3Cに固着
する前に放熱板5を表面処理液7に浸漬させているが、
タブ3Cに放熱板5を固着した後、図8に示すように、
リードフレーム3及び放熱板5を表面処理液7に浸漬さ
せてもよい。この場合、インナーリード3A、アウター
リード3B、タブ3Cの夫々の表面にもシランカップリ
ング層6が形成される。
【0052】また、半導体ペレット2の外部端子2Aと
リードフレーム3のインナーリード3Aとをボンディン
グワイヤ4で電気的に接続した後、図9に示すように、
半導体ペレット2、リードフレーム3、ボンディングワ
イヤ4及び放熱板5を表面処理液7に浸漬させてもよ
い。この場合、半導体ペレット2、インナーリード3
A、アウターリード3B、タブ3C、ボンディングワイ
ヤ4の夫々の表面にもシランカップリング層6が形成さ
れる。
【0053】また、前記樹脂封止型半導体装置におい
て、図10(断面図)に示すように、半導体ペレット2の
裏面に放熱板5を連結し、かつインナーリード3Aの裏
面に絶縁体11を介在して放熱板5を連結した構造で構
成してもよい。
【0054】(実 施 例 2)本発明の実施例2である
QFP構造を採用する樹脂封止型半導体装置の概略構成
を図11(断面図)に示す。
【0055】図11に示すように、QFP構造を採用す
る樹脂封止型半導体装置は、タブ3Cのペレット塔載面
上に半導体ペレット2を塔載し、前記半導体ペレット2
の外部端子2Aとインナーリード3Aとをボンディング
ワイヤ4で電気的に接続し、前記半導体ペレット2、イ
ンナーリード3A、タブ3C、ボンディングワイヤ4及
び熱拡散板10を樹脂封止体1で封止した構造で構成さ
れる。
【0056】前記熱拡散板10は、例えば平面形状が方
形状で形成され、熱伝導率が高い例えばCu、Cu系合
金、Al、Al系合金、Fe又はFe系合金等の金属材
で形成される。この熱拡散板10は、タブ3Cのペレッ
ト塔載面と対向するその裏面に接着層(図示せず)を介在
して固着されると共に、絶縁体11を介在してインナー
リード3Aの一端側に支持される。つまり、熱拡散板1
0は、半導体ペレット2に塔載された回路システムの動
作で発生する動作熱をインナーリード3A及び樹脂封止
体1に拡散する金属体として構成される。
【0057】前記樹脂封止体1の樹脂1Aとこの樹脂封
止体1の樹脂1Aで覆われた熱拡散板10の表面との間
にはシランカップリング層6が設けられる。つまり、樹
脂封止体1の樹脂1Aとこの樹脂封止体1の樹脂1Aで
覆われた熱拡散板10の表面はシランカップリング層6
で強固に接着される。
【0058】次に、前記樹脂封止型半導体装置の製造方
法について簡単に説明する。
【0059】まず、表面処理液の液中に熱拡散板10を
浸漬する。表面処理液は、前述の実施例1と同様に、有
機溶剤と水とを混合させた混合溶媒にアルコキシシラン
カップリング剤を溶かしたものを使用する。
【0060】次に、前記表面処理液の液中から熱拡散板
10を取り出し、この熱拡散板10の表面に残留した表
面処理液をエアーブローなどで除去した後、風乾により
予備乾燥を行う。
【0061】次に、前記熱拡散板10に熱処理を施し、
この熱拡散板7の表面にシランカップリング層6を形成
する。熱処理は前述の実施例1と同様に行う。
【0062】次に、リードフレームのタブ3Cのペレッ
ト塔載面と対向するその裏面に接着層を介在して熱拡散
板10を固着すると共に、インナーリード3Aの一端側
に絶縁体11を介在して放熱板10を支持する。
【0063】次に、前記リードフレームのタブ3Cのペ
レット塔載面上に接着層を介在して半導体ペレット2を
固着する。
【0064】次に、前記半導体ペレット2の外部端子2
Aと前記リードフレームのインナーリード3Aとをボン
ディングワイヤ4で電気的に接続する。
【0065】次に、成形金型の上型と下型との間に前記
リードフレームを配置すると共に、前記成形金型の上型
と下型とで形成されるキャビティ内に半導体ペレット
2、インナーリード3A、タブ3C、ボンディングワイ
ヤ4及び熱拡散板10を配置する。
【0066】次に、前記成形金型のキャビティ内に樹脂
1Aを充填し、半導体ペレット2、インナーリード3
A、タブ3C、ボンディングワイヤ4及び熱拡散板10
を封止する樹脂封止体1を形成する。この時、タブ3C
が接合された領域及びインナーリード3Aが接合された
領域を除く熱拡散板11の他の表面は樹脂封止体1の樹
脂1Aで覆われる。この工程において、樹脂封止体1の
樹脂1Aとこの樹脂封止体1の樹脂1Aで覆われた熱拡
散板11の表面との間にはシランカップリング層6が形
成される。
【0067】次に、前記リードフレームの枠体からアウ
ターリード3Bを切断し、その後、アウターリード3B
を所定の形状に成形する。この工程により、樹脂封止型
半導体装置はほぼ完成する。
【0068】次に、前記樹脂封止型半導体装置に温度サ
イクル試験を施し、良品、不良品の選別を行なう。その
後、樹脂封止型半導体装置は製品として出荷される。製
品として出荷された樹脂封止型半導体装置は実装基板の
実装面上に実装される。
【0069】このように、本実施例によれば、以下の作
用効果が得られる。
【0070】(1)樹脂封止体1の樹脂1Aで表面が覆
われた熱拡散板(金属体)10を有する樹脂封止型半導体
装置において、前記樹脂封止体1の樹脂1Aとこの樹脂
封止体1の樹脂1Aで覆われた熱拡散板10の表面との
間にシランカップリング層6を設ける。この構成によ
り、シランカップリング層6は、金属及び樹脂に対する
接着性が高いので、製品完成後の温度サイクル試験での
熱処理時や実装基板に実装する熱処理時において、樹脂
封止体1の樹脂1Aと熱拡散板7との熱膨張係数の差に
起因する熱ストレスによって、樹脂封止体1の樹脂1A
とこの樹脂封止体1の樹脂1Aで覆われた熱拡散板7の
表面との間に生じる剥離を防止することができる。
【0071】この結果、樹脂封止体1の樹脂1Aに含ま
れている水分が剥離領域に溜り、この溜った水分の熱に
よる膨張で樹脂封止体1に生じる亀裂を防止することが
できるので、樹脂封止型半導体装置の熱に対する信頼性
を高めることができる。
【0072】(2)樹脂封止体1の樹脂1Aで表面が覆
われた熱拡散板(金属体)10を有する樹脂封止型半導体
装置の製造方法において、アルコキシシランカップリン
グ剤、有機溶剤及び0.5〜20[Vol%]の水を含有
する表面処理液に熱拡散板10を浸漬する工程と、前記
表面処理液から前記熱拡散板10を取り出す工程と、前
記熱拡散板10に熱処理を施し、この熱拡散板10の表
面にシランカップリング層6を形成する工程と、前記熱
拡散板10の表面を覆う樹脂封止体1を形成する工程と
を備える。これにより、樹脂封止体1の樹脂1Aとこの
樹脂封止体1の樹脂1Aで覆われた熱拡散板10の表面
との間にシランカップリング層6を形成することができ
るので、樹脂封止体1の樹脂1Aと熱拡散板10との熱
膨張係数の差に起因する熱ストレスによって、樹脂封止
体1の樹脂1Aとこの樹脂封止体1の樹脂1Aで覆われ
た熱拡散板10の表面との間に生じる剥離を防止するこ
とができる。この結果、樹脂封止体1の樹脂1Aで表面
が覆われた熱拡散板(金属体)10を有する樹脂封止型半
導体装置において、熱に対する信頼性の高い樹脂封止型
半導体装置を製造することができる。
【0073】なお、前記樹脂封止型半導体装置におい
て、絶縁体11を廃止し、インナーリード3Aの一端側
に放熱板11を支持しなくともよい。
【0074】また、前記樹脂封止型半導体装置の製造方
法において、リードフレームのタブ3Cに固着する前に
熱拡散板10を表面処理液に浸漬させているが、タブ3
Cに放熱板5を固着した後、リードフレーム及び熱拡散
板10を表面処理液に浸漬させてもよい。この場合、イ
ンナーリード3A、アウターリード3B、タブ3Cの夫
々の表面にもシランカップリング層6が形成される。
【0075】また、半導体ペレット2の外部端子2Aと
リードフレーム3のインナーリード3Aとをボンディン
グワイヤ4で電気的に接続した後、半導体ペレット2、
リードフレーム3、ボンディングワイヤ4及び熱拡散1
0を表面処理液に浸漬させてもよい。この場合、半導体
ペレット2、インナーリード3A、アウターリード3
B、タブ3C、ボンディングワイヤ4の夫々の表面にも
シランカップリング層6が形成される。
【0076】(実 施 例 3)本発明の実施例3である
QFP構造を採用する樹脂封止型半導体装置の概略構成
を図12(断面図)に示す。
【0077】図12に示すように、QFP構造を採用す
る樹脂封止型半導体装置は、タブ3Cのペレット塔載面
上に半導体ペレット2を塔載し、前記半導体ペレット2
の外部端子2Aとインナーリード3Aとをボンディング
ワイヤで電気的に接続し、前記半導体ペレット2、イン
ナーリード3A、タブ3C及びボンディングワイヤ4を
樹脂封止体1で封止し、樹脂封止体1の一表面上に放熱
フィン12を配置した構造で構成される。
【0078】前記放熱フィン12は熱伝導率が高い例え
ばAl、Al系合金、Cu、Cu系合金、Fe又はFe
系合金等の金属材で形成される。この放熱フィン12
は、その一部が樹脂封止体1に埋め込まれる。つまり、
放熱フィン12は、半導体ペレット2に塔載された回路
システムの動作で発生する動作熱を樹脂封止体1の外部
に放出する金属体として構成される。
【0079】前記樹脂封止体1の樹脂1Aとこの樹脂封
止体1の樹脂1Aで覆われた放熱フィン12の表面との
間にはシランカップリング層6が設けられる。つまり、
樹脂封止体1の樹脂1Aとこの樹脂封止体1の樹脂1A
で覆われた放熱フィン12の表面はシランカップリング
層6で強固に接着される。
【0080】次に、前記樹脂封止型半導体装置の製造方
法について簡単に説明する。
【0081】まず、表面処理液の液中に放熱フィン12
を浸漬する。表面処理液は、前述の実施例1と同様に、
有機溶剤と水とを混合させた混合溶媒にアルコキシシラ
ンカップリング剤を溶かしたものを使用する。
【0082】次に、前記表面処理液の液中から放熱フィ
ン12を取り出し、この放熱フィン12の表面に残留し
た表面処理液をエアーブローなどで除去した後、風乾に
より予備乾燥を行う。
【0083】次に、前記放熱フィン12に熱処理を施
し、この放熱フィン12の表面にシランカップリング層
6を形成する。熱処理は前述の実施例1と同様に行う。
【0084】次に、リードフレームのタブ3Cのペレッ
ト塔載面上に接着層を介在して半導体ペレット2を固着
する。
【0085】次に、前記半導体ペレット2の外部端子2
Aと前記リードフレームのインナーリード3Aとをボン
ディングワイヤ4で電気的に接続する。
【0086】次に、成形金型の上型と下型との間に前記
リードフレームを配置すると共に、前記成形金型の上型
と下型とで形成されるキャビティ内に半導体ペレット
2、インナーリード3A、タブ3C、ボンディングワイ
ヤ4、及び放熱フィン9を配置する。
【0087】次に、前記成形金型のキャビティ内に樹脂
1Aを充填し、半導体ペレット2、インナーリード3
A、タブ3C及びボンディングワイヤ4を封止すると共
に、放熱フィン12の一部を埋め込む樹脂封止体1を形
成する。この時、放熱フィン12の一部の表面は樹脂封
止体1の樹脂1Aで覆われる。この工程において、樹脂
封止体1の樹脂1Aとこの樹脂封止体1の樹脂1Aで覆
われた放熱フィン9の表面との間にはシランカップリン
グ層6が形成される。
【0088】次に、前記リードフレームの枠体からアウ
ターリード3Bを切断し、その後、アウターリード3B
を所定の形状に成形する。この工程により、樹脂封止型
半導体装置はほぼ完成する。
【0089】次に、前記樹脂封止型半導体装置に温度サ
イクル試験を施し、良品、不良品の選別を行なう。その
後、樹脂封止型半導体装置は製品として出荷される。製
品として出荷された樹脂封止型半導体装置は実装基板の
実装面上に実装される。
【0090】このように、本実施例によれば、以下の作
用効果が得られる。
【0091】(1)樹脂封止体1の樹脂1Aで表面が覆
われた放熱フィン(金属体)12を有する樹脂封止型半導
体装置において、前記樹脂封止体1の樹脂1Aとこの樹
脂封止体1の樹脂1Aで覆われた放熱フィン12の表面
との間にシランカップリング層6を設ける。この構成に
より、シランカップリング層6は、金属及び樹脂に対す
る接着性が高いので、製品完成後の温度サイクル試験で
の熱処理時や実装基板に実装する熱処理時において、樹
脂封止体1の樹脂1Aと放熱フィン12との熱膨張係数
の差に起因する熱ストレスによって、樹脂封止体1の樹
脂1Aとこの樹脂封止体1の樹脂1Aで覆われた放熱フ
ィン12の表面との間に生じる剥離を防止することがで
きる。
【0092】この結果、樹脂封止体1から放熱フィン1
2が脱落するのを防止することができるので、樹脂封止
型半導体装置の熱に対する信頼性を高めることができ
る。
【0093】(2)樹脂封止体1の樹脂1Aで表面が覆
われた放熱フィン(金属体)12を有する樹脂封止型半導
体装置の製造方法において、アルコキシシランカップリ
ング剤、有機溶剤及び0.5〜20[Vol%]の水を含
有する表面処理液に放熱フィン12を浸漬する工程と、
前記表面処理液から放熱フィン12を取り出す工程と、
前記熱放熱フィン12に熱処理を施し、この放熱フィン
12の表面にシランカップリング層6を形成する工程
と、前記放熱フィン12の表面を覆う樹脂封止体1を形
成する工程とを備える。これにより、樹脂封止体1の樹
脂1Aとこの樹脂封止体1の樹脂1Aで覆われた放熱フ
ィン9の表面との間にシランカップリング層6を形成す
ることができるので、樹脂封止体1の樹脂1Aと放熱フ
ィン12との熱膨張係数の差に起因する熱ストレスによ
って、樹脂封止体1の樹脂1Aとこの樹脂封止体1の樹
脂1Aで覆われた放熱フィン12の表面との間に生じる
剥離を防止することができる。この結果、樹脂封止体1
の樹脂1Aで表面が覆われた放熱フィン(金属体)12を
有する樹脂封止型半導体装置において、熱に対する信頼
性の高い樹脂封止型半導体装置を製造することができ
る。
【0094】(実 施 例 4)本発明の実施例4である
QFP構造を採用する樹脂封止型半導体装置の概略構成
を図13(断面図)に示す。
【0095】図13に示すように、QFP構造を採用す
る樹脂封止型半導体装置は、タブ3Cのペレット塔載面
上に半導体ペレット2を塔載し、前記半導体ペレット2
の外部端子2Aとインナーリード3Aとをボンディング
ワイヤで電気的に接続し、前記半導体ペレット2、イン
ナーリード3A、タブ3C及びボンディングワイヤ4を
樹脂封止体1で封止した構造で構成される。
【0096】前記インナーリード3A、タブ3Cの夫々
は熱伝導率が高い例えばFe−Ni系合金又はCu系合
金等の金属材で形成される。このインナーリード3Aに
はボンディングワイヤ4を介して半導体ペレット2の外
部端子2Aが電気的に接続される。また、タブ3Cのペ
レット塔載面上には半導体ペレット2が塔載される。つ
まり、インナーリード3Aはボンディングワイヤ4を介
して半導体ペレット2の外部端子2Aに電気的に接続さ
れる金属体として構成される。また、タブ3Cは半導体
ペレット2が塔載される金属体として構成される。
【0097】前記樹脂封止体1の樹脂1Aとこの樹脂封
止体1の樹脂1Aで覆われたインナーリード3Aの表面
との間にはシランカップリング層6が設けられる。ま
た、樹脂封止体1の樹脂1Aとこの樹脂封止体1の樹脂
1Aで覆われたタブ3Cの表面との間にはシランカップ
リング層6が設けられる。つまり、樹脂封止体1の樹脂
1Aとこの樹脂封止体1の樹脂1Aで覆われたインナー
リード3Aの表面はシランカップリング層6で強固に接
着される。また、樹脂封止体1の樹脂1Aとこの樹脂封
止体1の樹脂1Aで覆われたタブ3Cの表面はシランカ
ップリング層6で強固に接着される。
【0098】次に、前記樹脂封止型半導体装置の製造方
法について簡単に説明する。
【0099】まず、インナーリード3A、アウターリー
ド3B、タブ3Cの夫々を有するリードフレームを用意
する。
【0100】次に、表面処理液の液中に前記リードフレ
ームを浸漬する。表面処理液は、前述の実施例1と同様
に、有機溶剤と水とを混合させた混合溶媒にアルコキシ
シランカップリング剤を溶かしたものを使用する。
【0101】次に、前記表面処理液の液中からリードフ
レームを取り出し、このリードフレームの表面に残留し
た表面処理液をエアーブローなどで除去した後、風乾に
より予備乾燥を行う。
【0102】次に、前記リードフレームに熱処理を施
し、このリードフレームのインナーリード3A、タブ3
Cの夫々の表面にシランカップリング層6を形成する。
熱処理は前述の実施例1と同様に行う。この時、リード
フレームのアウターリード3Bの表面にもシランカップ
リング層6が形成される。
【0103】次に、リードフレームのタブ3Cのペレッ
ト塔載面上に接着層を介在して半導体ペレット2を固着
する。
【0104】次に、前記半導体ペレット2の外部端子2
Aと前記リードフレームのインナーリード3Aとをボン
ディングワイヤ4で電気的に接続する。
【0105】次に、成形金型の上型と下型との間に前記
リードフレームを配置すると共に、前記成形金型の上型
と下型とで形成されるキャビティ内に半導体ペレット
2、インナーリード3A、タブ3C及びボンディングワ
イヤ4を配置する。
【0106】次に、前記成形金型のキャビティ内に樹脂
1Aを充填し、半導体ペレット2、インナーリード3
A、タブ3C、ボンディングワイヤ4を樹脂封止体1で
封止する。この時、インナーリード3C、タブ3Cの夫
々の表面は樹脂封止体1の樹脂1Aで覆われる。この工
程において、樹脂封止体1の樹脂1Aとこの樹脂封止体
1の樹脂1Aで覆われたインナーリード3A、タブ3C
の夫々の表面との間にはシランカップリング層6が形成
される。
【0107】次に、前記リードフレームの枠体からアウ
ターリード3Bを切断し、その後、アウターリード3B
を所定の形状に成形する。この工程により、樹脂封止型
半導体装置はほぼ完成する。
【0108】次に、前記樹脂封止型半導体装置に温度サ
イクル試験を施し、良品、不良品の選別を行なう。その
後、樹脂封止型半導体装置は製品として出荷される。製
品として出荷された樹脂封止型半導体装置は実装基板の
実装面上に実装される。
【0109】このように、本実施例によれば、以下の作
用効果が得られる。
【0110】(1)樹脂封止体1の樹脂1Aで表面が覆
われたインナーリード(金属体)3A又はタブ(金属体)3
Cを有する樹脂封止型半導体装置において、前記樹脂封
止体1の樹脂1Aとこの樹脂封止体1の樹脂1Aで覆わ
れたインナーリード3Aの表面又はタブ3Cの表面との
間にシランカップリング層6を設ける。この構成によ
り、シランカップリング層6は、金属及び樹脂に対する
接着性が高いので、製品完成後の温度サイクル試験での
熱処理時や実装基板に実装する熱処理時において、樹脂
封止体1の樹脂1Aとインナーリード3C又はタブ3C
との熱膨張係数の差に起因する熱ストレスによって、樹
脂封止体1の樹脂1Aとこの樹脂封止体1の樹脂1Aで
覆われたインナーリード3Aの表面又はタブ3Cの表面
との間に生じる剥離を防止することができる。
【0111】この結果、樹脂封止体1の樹脂1Aに含ま
れている水分が剥離領域に溜り、この溜った水分の熱に
よる膨張で樹脂封止体1に生じる亀裂を防止することが
できるので、樹脂封止型半導体装置の熱に対する信頼性
を高めることができる。
【0112】(2)樹脂封止体1の樹脂1Aで表面が覆
われたインナーリード(金属体)3A又はタブ(金属体)3
Cを有する樹脂封止型半導体装置の製造方法において、
アルコキシシランカップリング剤、有機溶剤及び0.5
〜20[Vol%]の水を含有する表面処理液にインナー
リード3A又はタブ3Cを浸漬する工程と、前記表面処
理液からインナーリード3A又はタブ3Cを取り出す工
程と、前記インナーリード3A又はタブ3Cに熱処理を
施し、このインナーリード3Aの表面又はタブ3Cの表
面にシランカップリング層6を形成する工程と、前記イ
ンナーリード3Aの表面又はタブ3Cの表面を覆う樹脂
封止体1を形成する工程とを備える。これにより、樹脂
封止体1の樹脂1Aとこの樹脂封止体1の樹脂1Aで覆
われたインナーリード3Aの表面又はタブ3Cの表面と
の間にシランカップリング層6を形成することができる
ので、樹脂封止体1の樹脂1Aとインナーリード3A又
はタブ3Cとの熱膨張係数の差に起因する熱ストレスに
よって、樹脂封止体1の樹脂1Aとこの樹脂封止体1の
樹脂1Aで覆われたインナーリード3Aの表面又はタブ
3Cの表面との間に生じる剥離を防止することができ
る。この結果、樹脂封止体1の樹脂1Aで表面が覆われ
たインナーリード(金属体)3A又はタブ(金属体)3Cを
有する樹脂封止型半導体装置において、熱に対する信頼
性の高い樹脂封止型半導体装置を製造することができ
る。
【0113】以上、本発明者によってなされた発明を、
前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前
記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲において種々変更可能であることは勿論であ
る。
【0114】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
【0115】樹脂封止体の樹脂で表面が覆われた金属体
を有する樹脂封止型半導体装置の熱に対する信頼性を高
めることができる。
【0116】また、樹脂封止体の樹脂で表面が覆われた
金属体を有する樹脂封止型半導体装置において、熱に対
する信頼性の高い樹脂封止型半導体装置を製造できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1である樹脂封止型半導体装置
の概略構成を示す断面図。
【図2】前記樹脂封止型半導体装置の製造方法を説明す
るための説明図。
【図3】前記樹脂封止型半導体装置の製造方法を説明す
るための説明図。
【図4】前記樹脂封止型半導体装置の製造方法を説明す
るための説明図。
【図5】前記樹脂封止型半導体装置の製造方法を説明す
るための説明図。
【図6】前記樹脂封止型半導体装置の製造方法を説明す
るための説明図。
【図7】前記樹脂封止型半導体装置の製造方法を説明す
るための説明図。
【図8】前記樹脂封止型半導体装置の製造方法を説明す
るための説明図。
【図9】前記樹脂封止型半導体装置の製造方法を説明す
るための説明図。
【図10】前記樹脂封止型半導体装置の変形例を示す断
面図。
【図11】本発明の実施例2である樹脂封止型半導体装
置の概略構成を示す断面図。
【図12】本発明の実施例3である樹脂封止型半導体装
置の概略構成を示す断面図。
【図13】本発明の実施例4である樹脂封止型半導体装
置の概略構成を示す断面図。
【符号の説明】
1…樹脂封止型半導体装置、1A…樹脂、2…半導体ペ
レット、2A…外部端子、3…リードフレーム、3A…
インナーリード(金属体)、3B…アウターリード、3C
…タブ(金属体)、4…ボンディングワイヤ、5…放熱板
(金属体)、6…シランカップリング層、7…表面処理
液、8…成形金型、9…キャビティ、10…熱拡散部板
(金属体)、11…絶縁体、12…放熱フィン(金属体)。
フロントページの続き (72)発明者 沖永 隆幸 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 舘 宏 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 江俣 孝司 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 北村 輝夫 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内 (72)発明者 宝蔵寺 裕之 東京都青梅市今井2326番地 株式会社日立 製作所デバイス開発センタ内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 樹脂封止体の樹脂で表面が覆われた金属
    体を有する樹脂封止型半導体装置において、前記樹脂封
    止体の樹脂とこの樹脂封止体の樹脂で覆われた前記金属
    体の表面との間にシランカップリング層を設けたことを
    特徴とする樹脂封止型半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記金属体は、前記樹脂封止体の一表面
    から一表面が露出される放熱板又は前記樹脂封止体で封
    止される熱拡散板若しくは前記樹脂封止体の外部に配置
    される放熱フィンであることを特徴とする請求項1に記
    載の樹脂封止型半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記金属体は、半導体ペレットの外部端
    子にボンディングワイヤを介して電気的に接続されるイ
    ンナーリード又は前記半導体ペレットが塔載されるタブ
    であることを特徴とする請求項1に記載の樹脂封止型半
    導体装置。
  4. 【請求項4】 樹脂封止体の樹脂で表面が覆われた金属
    体を有する樹脂封止型半導体装置の製造方法において、
    アルコキシシランカップリング剤、有機溶剤及び0.5
    〜20[Vol%]の水を含有する表面処理液に金属体を
    浸漬する工程と、前記表面処理液から金属体を取り出す
    工程と、前記金属体に熱処理を施し、この金属体の表面
    にシランカップリング層を形成する工程と、前記金属体
    の表面を覆う樹脂封止体を形成する工程とを備えたこと
    を特徴とする樹脂封止型半導体装置の製造方法。
  5. 【請求項5】 前記金属体は、前記樹脂封止体の一表面
    から一表面が露出される放熱板又は前記樹脂封止体で封
    止される熱拡散板若しくは前記樹脂封止体の外部に配置
    される放熱フィンであることを特徴とする請求項4に記
    載の樹脂封止型半導体装置の製造方法。
  6. 【請求項6】 前記金属体は、半導体ペレットの外部端
    子にボンディングワイヤを介して電気的に接続されるイ
    ンナーリード又は前記半導体ペレットが塔載されるタブ
    であることを特徴とする請求項4に記載の樹脂封止型半
    導体装置の製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20020006735A (ko) * 2000-07-13 2002-01-26 이형도 미세 디바이스의 표면처리물질 및 표면처리방법
JP2010016398A (ja) * 2009-09-11 2010-01-21 Casio Comput Co Ltd 半導体装置の製造方法
JP2015162503A (ja) * 2014-02-26 2015-09-07 株式会社デンソー 樹脂成形体およびその製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020006735A (ko) * 2000-07-13 2002-01-26 이형도 미세 디바이스의 표면처리물질 및 표면처리방법
JP2010016398A (ja) * 2009-09-11 2010-01-21 Casio Comput Co Ltd 半導体装置の製造方法
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