JPH08269729A - 赤外線放射材料およびその製造方法 - Google Patents

赤外線放射材料およびその製造方法

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JPH08269729A
JPH08269729A JP7787995A JP7787995A JPH08269729A JP H08269729 A JPH08269729 A JP H08269729A JP 7787995 A JP7787995 A JP 7787995A JP 7787995 A JP7787995 A JP 7787995A JP H08269729 A JPH08269729 A JP H08269729A
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郁子 吉永
Noriko Yamada
紀子 山田
Toru Kametani
透 亀谷
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 高い赤外線放射特性を有し、耐汚性の高い赤
外線放射材料およびその製造方法を提供する。 【構成】 M−O−M結合(Mは金属、半金属原子)を
有する無機ポリマー骨格中のMを50〜95モル%の割
合でSi(R) n (O−)4-n 基(Rはアルキル基、n
=1〜3)に置換し、かつアルキル基の水素原子がフッ
素原子にF/(F+H)のモル比で0.01〜1の範囲
で置換した無機・有機融合体中にFe、Mn、Coの中
から1種以上の元素の酸化物を50%以上含む粒子を1
0〜70体積%の割合で分散含有する膜で被覆されてい
る。分散する酸化物粒子のサイズが0.1〜20μmで
あり、膜厚が1〜100μmである。本赤外線放射材料
は金属アルコキシド、アルキルアルコキシシラン、フル
オロアルキルアルコキシシランの加水分解溶液中にし、
酸化物を含む粒子を分散した溶液を基板に塗布して15
0〜600℃で熱処理する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、暖房、乾燥、調理等で
輻射加熱を利用する分野において、加熱体等の赤外線輻
射効果を付与するための被膜に関する。
【0002】
【従来の技術】赤外線輻射エネルギーは、効率的加熱方
法として広く利用されている。例えば、赤外線は、水、
人体、動植物、油脂、プラスチック等に吸収され、これ
らを効率良く加熱する。したがって、赤外線を放射する
材料は、暖房、乾燥、調理等のヒーターとして使用され
る。暖房としては、こたつ、ストーブ、工場暖房、床暖
房、壁暖房等がある。乾燥では、塗装膜、印刷インク、
粉体、木材、茶、海藻等に使用される。赤外線放射材料
としては、チタニア、ジルコニア、アルミナ等を主体と
した酸化物が知られている。これらの赤外線放射材料
は、金属やセラミックス等の発熱体に被覆して使用され
ることが多い。従来、この種の被膜は、赤外線放射材料
をガラスフリットなどの耐熱結合剤中に分散して被覆し
たり、あるいはプラズマ溶射により被覆して製造されて
きた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】赤外線放射材料は前記
のように乾燥や加熱に使用されるが、被加熱体から生じ
るガスや液体の飛散あるいは被加熱体との接触により汚
れる。特に食品加工の加熱等においてはその汚れが著し
い。このような汚れは、赤外線の放射特性を低下させる
ために、いつも掃除しなければならない。また、赤外線
放射材料と被加熱体を直接接触させて乾燥や加熱を行う
場合には、従来の材料では焦げ付きが生じ易くかつ汚れ
を落とし難い。本発明は、上記課題を解決するために創
案されたものであり、高い赤外線放射特性を有し、耐汚
性の高い赤外線放射材料およびその製造方法を提供する
ことを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明では、M−O−M結合(Mは金属、半金属原
子)を有する無機ポリマー骨格中のMを50〜95モル
%の割合でSi(R)n(O−)4-n 基(Rはアルキル
基、n=1〜3)に置換し、かつアルキル基の水素原子
がフッ素原子にF/(F+H)のモル比で0.01〜1
の範囲で置換した無機・有機融合体中にFe、Mn、C
oの中から1種以上の元素の酸化物を50モル%以上含
む粒子を10〜70体積%の割合で分散含有する膜で被
覆された赤外線放射材である。無機・有機融合体とは、
炭素、水素、酸素、窒素等からなる有機物に、金属、半
金属が化学結合して重合することにより、原子・分子レ
ベルで融合した材料である。
【0005】本発明では、アルキル基の水素原子がフッ
素原子に置換し、F/(F+H)のモル比が0.01〜
1の範囲が望ましい。0.01より少ないと撥水性が乏
しく、十分な耐汚性が得られない。すべての水素原子が
フッ素原子に置換しても良い(F/(F+H)=1)。
無機ポリマー骨格中のMをSi(R)n (O−)4-n
で置換する割合は、Mの50〜95モル%の範囲が望ま
しい。50モル%未満では、有機成分が少なくなり、膜
形成時にクラックが発生し易くなり、かつフルオロアル
キル基の含有量が少なくなり、十分な耐汚性が得られな
い。95モル%を越えると、無機成分の割合が少なくな
り、膜の密着性の低下や強度の低下が顕著になる。
【0006】分散する粒子のサイズは、0.1〜20μ
mの範囲が好ましい。0.1μm未満の粒子では、非常
に微細であるために均一に分散するのが困難である。2
0μmを越える粒子では、溶液中での沈降がはやいため
被膜中に均一に分散するように塗布するのが困難であ
る。膜厚は1〜100μmであることが好ましい。膜厚
が1μm未満では、充分な赤外線放射特性が得られな
い。一方、100μmを越える厚さになると、塗装過程
の熱処理時にクラック等が発生しやすい。粒子は、10
〜70体積%の割合で分散させることが好ましい。10
%未満では、高波長域に渡って充分な赤外線放射特性が
得られない。一方、70%を越えると膜の密着性が低下
したり、膜を形成することが困難になる。
【0007】本発明の赤外線放射材料は、Fe、Mn、
Coの中から1種以上の元素の酸化物を含む粒子が分散
された金属アルコキシド、アルキルアルコキシシラン、
フルオロアルキルアルコキシシランの加水分解溶液を基
板に塗布して150〜600℃で熱処理して製造する。
本発明で使用する金属アルコキシドは特に限定しない
が、例えば、メトキシド、エトキシド、プロポキシド、
ブトキシド等が挙げられる。また金属アルコキシドは、
そのアルコキシ基の一部をβ−ジケトン、β−ケトエス
テル、アルカノールアミン、アルキルアルカノールアミ
ン、有機酸等で置換して使用してもよい。本発明におけ
る無機成分を構成する金属、半金属は、アルコキシドを
形成することができるものに限定される。例えば、S
i,Al,Ti,Zr,Ta,Nb,Y,Co等であ
る。これらの金属アルコキシドは、1種または2種以上
使用できる。
【0008】本発明で使用するアルキルアルコキシシラ
ンとしては、モノアルキルトリアルコキシシラン、ジア
ルキルジアルコキシシラン、トリアルキルアルコキシシ
ランがある。これらのアルキル基としては、例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル
基、ビニル基等が挙げられる。また、アルコキシ基とし
ては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基等が挙げられる。
【0009】本発明で使用するフルオロアルキルアルコ
キシシランとしては、モノフルオロアルキルトリアルコ
キシシラン、モノフルオロアルキルモノアルキルジアル
コキシシラン、ジフルオロアルキルアルコキシシラン、
モノフルオロアルキルジアルキルモノアルコキシシラ
ン、ジフルオロアルキルモノアルキルモノアルコキシシ
ラン、トリフルオロアルキルモノアルコキシシランがあ
る。フルオロアルキル基としては、−CF3 ,−C2
5 ,−C3 7 ,−C4 9 ,CH2 CH2 CF 3 ,−
CH2 CH2 6 13,−CH2 CH2 8 17等が挙
げられる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基、ビニル基
等が挙げられる。また、アルコキシ基としては、例え
ば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ
基等が挙げられる。
【0010】本発明におけるアルコキシドの加水分解で
は、アルコキシドに対して10モル倍までの水を添加し
て加水分解することである。この際、無機酸、有機酸あ
るいはそれらの両方を触媒として使用してもよい。添加
する水は、アルコール等の有機溶媒で希釈してもよい。
10モル倍を越える水を使用するとすぐにゲル化するた
めに、好ましくない。加水分解においては、金属アルコ
キシド、アルキルアルコキシシラン、フルオロアルキル
アルコキシシランを均一に分散、溶解できる有機溶媒が
使用される。例えば、メタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノール等の各種アルコール、アセトン、ト
ルエン、キシレン等である。加水分解後、溶媒、加水分
解で生成したアルコール等を常圧あるいは減圧下で留去
して塗布してもよい。基板としては、用途に適合させ、
ステンレス等金属材料であれば何でも良い。塗布は、ス
プレーコート法、ディップコート法、ロールコート法、
スピンコート法等で行われる。
【0011】
【作用】本発明の赤外線放射材料において、フッ素を骨
格の中に取り込んだ無機・有機融合体のマトリックス中
に酸化物粒子を分散した複合構造であるために撥水性の
高いフッ素により耐汚性が高くかつ酸化物粒子により高
い赤外線放射率を示す。
【0012】
【実施例】本発明の赤外線放射材料およびその製造方法
を以下の実施例によって具体的に説明する。ただし、本
発明は、これらの実施例のみに限定されるものではな
い。表1に示すような条件で、エトキシエタノール溶媒
中のアルコキシドの加水分解した後、酸化物粒子を加え
ボールミルで10時間混合し、バーコータでステンレス
鋼板に塗布し、350℃で10分熱処理を行った。ステ
ンレス鋼板の塗布面を内側になるように管状にし、管ま
わりにニクロムヒータを巻いて、管内に大根を吊るして
試料重量の経時変化を調べた。この時、管の内表面の温
度はいずれも120℃である。無塗布から黒体塗料塗布
までの乾燥速度を3段階にわけて、この順に×、△、○
で表した。耐汚性については、塗膜した鋼板の上に鳥肉
片を置き、反対側からコンロで加熱し、そのこびり着き
の有無を調べた(有:×、無し:○)。
【0013】
【表1】
【0014】表2に結果を示す。酸化物の粒径が小さす
ぎると均一な分散ができず、均一な塗布ができなかった
(比較例6)。酸化物の粒径が大きすぎると粒子の沈降
が速すぎて、均一な塗布ができなかった(比較例7)。
塗膜の膜厚が厚すぎると熱処理時にクラックが生じてし
まった(比較例9)。酸化物粒子の割合が多くなると、
膜が容易に剥離した(比較例11)。有機成分の割合が
多くなりすぎると膜に密着性が悪く剥離した(比較例1
3)。実施例1〜4では乾燥速度が良好であったが、膜
厚の薄い比較例8および酸化物粒子の割合が少ない比較
例10では乾燥速度が遅くなった。図1に実施例1、比
較例8、比較例10、無塗装のステンレス鋼板の赤外線
放射特性を示す。実施例1は、黒体的な高効率放射特性
が認められるが、比較例8および10の放射特性は低か
った。実施例1〜4の耐汚性は良好であったが、フッ素
含有量の少ない比較例5、12の耐汚性が劣っていた。
【0015】
【表2】
【0016】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、以下に記載されるような効果を奏する。本
発明の赤外線放射材料によれば、高い赤外線放射特性を
有し、かつ耐汚性が高い。したがって、ヒーターとして
使用した場合には、汚れによる赤外線放射特性の低下が
小さいので、掃除等のメンテナンス回数を省略できる。
また、調理器具等で使用した場合には、焦げ付き難くか
つ赤外線輻射による効率良い加熱が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明および比較例の赤外線放射膜およびステ
ンレス鋼板の赤外線分光放射特性図である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成7年6月7日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0009
【補正方法】変更
【補正内容】
【0009】本発明で使用するフルオロアルキルアルコ
キシシランとしては、モノフルオロアルキルトリアルコ
キシシラン、モノフルオロアルキルモノアルキルジアル
コキシシラン、ジフルオロアルキルアルコキシシラン、
モノフルオロアルキルジアルキルモノアルコキシシラ
ン、ジフルオロアルキルモノアルキルモノアルコキシシ
ラン、トリフルオロアルキルモノアルコキシシランがあ
る。フルオロアルキル基としては、−CF,−C
−C ,−C,CHCHCF,−
CHCH13,−CHCH17
が挙げられる。アルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基、ビ
ニル基等が挙げられる。また、アルコキシ基としては、
例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブト
キシ基等が挙げられる。
フロントページの続き (72)発明者 山田 紀子 神奈川県川崎市中原区井田1618番地 新日 本製鐵株式会社先端技術研究所内 (72)発明者 亀谷 透 千葉県船橋市西浦1−1−1 大洋製鋼株 式会社総合研究所内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 M−O−M結合(Mは金属、半金属原
    子)を有する無機ポリマー骨格中のMを50〜95モル
    %の割合でSi(R) n (O−)4-n 基(Rはアルキル
    基、n=1〜3)に置換し、かつアルキル基の水素原子
    がフッ素原子にF/(F+H)のモル比で0.01〜1
    の範囲で置換した無機・有機融合体中にFe、Mn、C
    oの中から1種以上の元素の酸化物を50モル%以上含
    む粒子を10〜70体積%の割合で分散含有する膜で被
    覆された赤外線放射材。
  2. 【請求項2】 分散する酸化物粒子のサイズが0.1〜
    20μmであり、膜厚が1〜100μmであることを特
    徴とする請求項1記載の赤外線放射材料。
  3. 【請求項3】 金属アルコキシド、アルキルアルコキシ
    シラン、フルオロアルキルアルコキシシランを加水分解
    し、Fe、Mn、Coの中から1種以上の元素の酸化物
    を含む粒子を分散した溶液を得て、該溶液を基板に塗布
    して150〜600℃で熱処理することを特徴とする請
    求項1記載の赤外線放射材料の製造方法。
  4. 【請求項4】 Fe、Mn、Coの中から1種以上の元
    素の酸化物を含む粒子を分散した金属アルコキシド、ア
    ルキルアルコキシシラン、フルオロアルキルアルコキシ
    シランを加水分解し、基板に塗布して150〜600℃
    で熱処理することを特徴とする請求項1記載の赤外線放
    射材料の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE10044216A1 (de) * 2000-09-07 2002-05-02 Fraunhofer Ges Forschung Beschichtungsmaterial für multifunktionelle, superphobe Schichten
EP1862437A1 (en) * 2006-05-30 2007-12-05 Nippon Sheet Glass Company Limited Transparent article with infrared shielding film

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10044216A1 (de) * 2000-09-07 2002-05-02 Fraunhofer Ges Forschung Beschichtungsmaterial für multifunktionelle, superphobe Schichten
US6787585B2 (en) 2000-09-07 2004-09-07 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Forderung Coating material for multifunctional superphobic layers
EP1862437A1 (en) * 2006-05-30 2007-12-05 Nippon Sheet Glass Company Limited Transparent article with infrared shielding film

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