JPH08271907A - 液晶パネル用スペーサーの形成方法 - Google Patents
液晶パネル用スペーサーの形成方法Info
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- JPH08271907A JPH08271907A JP7759195A JP7759195A JPH08271907A JP H08271907 A JPH08271907 A JP H08271907A JP 7759195 A JP7759195 A JP 7759195A JP 7759195 A JP7759195 A JP 7759195A JP H08271907 A JPH08271907 A JP H08271907A
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 配向膜の十分な配向能を維持し、荷重の集中
が無く、かつ、画線の再現性に優れたスペーサーを簡便
な工程で形成する方法を提供する。 【構成】 液晶パネル用スペーサーの形成方法が、
（１）該基板の少なくとも一方に配向膜を形成する工
程、（２）該配向膜に配向処理を行う工程、（３）該配
向処理を施した配向膜を形成した該基板に、可撓性支持
体上に少なくとも露光時に実質的に酸素を遮断する有機
高分子層、その上に水系現像液で現像可能な光重合性樹
脂層を設けた感光性シートをラミネートする工程、
（４）必要に応じて該可撓性支持体を剥離し、該ラミネ
ートされた光重合性樹脂層にパターン露光して硬化させ
る工程、（５）現像により未露光部を除去する工程、を
含む
が無く、かつ、画線の再現性に優れたスペーサーを簡便
な工程で形成する方法を提供する。 【構成】 液晶パネル用スペーサーの形成方法が、
（１）該基板の少なくとも一方に配向膜を形成する工
程、（２）該配向膜に配向処理を行う工程、（３）該配
向処理を施した配向膜を形成した該基板に、可撓性支持
体上に少なくとも露光時に実質的に酸素を遮断する有機
高分子層、その上に水系現像液で現像可能な光重合性樹
脂層を設けた感光性シートをラミネートする工程、
（４）必要に応じて該可撓性支持体を剥離し、該ラミネ
ートされた光重合性樹脂層にパターン露光して硬化させ
る工程、（５）現像により未露光部を除去する工程、を
含む
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶パネルを構成する
２枚の基板間に介在して両基板を支持する液晶パネル用
スペーサーの形成方法に関する。
２枚の基板間に介在して両基板を支持する液晶パネル用
スペーサーの形成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶パネルは、画素電極、薄膜トランジ
スタ、ＭＩＭ形成素子及びマトリクス配線等を備える下
側基板と、電極やカラーフイルター等を備える上側基板
とを対向させ、両基板間に液晶を封入して構成されてい
る。そして、従来は液晶層の厚さを決定するために、い
ずれかの基板上（両方の基板の場合も有る）に透明で、
円筒状もしくは粒状の微少なスペーサーを散布し、この
スペーサーを挟み込んで両方の基板を張り合わせてい
た。
スタ、ＭＩＭ形成素子及びマトリクス配線等を備える下
側基板と、電極やカラーフイルター等を備える上側基板
とを対向させ、両基板間に液晶を封入して構成されてい
る。そして、従来は液晶層の厚さを決定するために、い
ずれかの基板上（両方の基板の場合も有る）に透明で、
円筒状もしくは粒状の微少なスペーサーを散布し、この
スペーサーを挟み込んで両方の基板を張り合わせてい
た。
【０００３】しかしながら、この方法によると、下側基
板の凸部（ＴＦＴ、ＭＩＭ型素子、電極配線部等）上に
散布された少数のスペーサーのみが上側基板に当たるた
め、この少数のスペーサーにより支持される部分に荷重
が集中し、素子や電極に損害を与えることがあつた。
板の凸部（ＴＦＴ、ＭＩＭ型素子、電極配線部等）上に
散布された少数のスペーサーのみが上側基板に当たるた
め、この少数のスペーサーにより支持される部分に荷重
が集中し、素子や電極に損害を与えることがあつた。
【０００４】スペーサーにより支持される部分に集中す
る荷重の軽減を図るために、スペーサーの散布密度を上
げることも考えられるが、この場合には、表示部にも多
数のスペーサーが散布されるためにコントラストが低下
するという問題があつた。
る荷重の軽減を図るために、スペーサーの散布密度を上
げることも考えられるが、この場合には、表示部にも多
数のスペーサーが散布されるためにコントラストが低下
するという問題があつた。
【０００５】これらの問題を解決する方法として、特開
平３−８９３２０号公報には、画素電極を備えた基板上
に、紫外線硬化型の樹脂を塗布し、画素電極上に位置し
ていない部分を硬化させ、その後、未硬化部分を除去し
て、スペーサーを形成する方法が開示されている。この
方法によれば、素子や配線の破壊が防止され、更にコン
トラストの高い液晶パネルを得ることができる。
平３−８９３２０号公報には、画素電極を備えた基板上
に、紫外線硬化型の樹脂を塗布し、画素電極上に位置し
ていない部分を硬化させ、その後、未硬化部分を除去し
て、スペーサーを形成する方法が開示されている。この
方法によれば、素子や配線の破壊が防止され、更にコン
トラストの高い液晶パネルを得ることができる。
【０００６】しかしながら、この方法には、（１）配向
処理を行った配向膜上にスペーサーを形成した場合、紫
外線硬化型樹脂の塗布工程でその溶剤により配向処理を
破壊してしまう、（２）塗布、乾燥と工程に時間がかか
り、通常さらに保護層を設けて露光時の酸素の影響によ
る感度低下を防止し、画線の再現性の悪化を避け、製造
得率の低下の防ぐ必要がある、等の問題点がある。
処理を行った配向膜上にスペーサーを形成した場合、紫
外線硬化型樹脂の塗布工程でその溶剤により配向処理を
破壊してしまう、（２）塗布、乾燥と工程に時間がかか
り、通常さらに保護層を設けて露光時の酸素の影響によ
る感度低下を防止し、画線の再現性の悪化を避け、製造
得率の低下の防ぐ必要がある、等の問題点がある。
【０００７】特開平２−２１０３２９号公報にはフォト
ポリマーシートを配向膜を形成した基板に張り付け、パ
ターン露光、現像によりスペーサードットを形成し、そ
の後、配向処理を行う方法が開示されている。この方法
では、スペーサードットの形成後に配向処理を行うの
で、配向処理時に形成したスペーサードットの脱落やス
ペーサードット周囲の配向膜面に十分な配向処理ができ
ないという不都合が発生していた。
ポリマーシートを配向膜を形成した基板に張り付け、パ
ターン露光、現像によりスペーサードットを形成し、そ
の後、配向処理を行う方法が開示されている。この方法
では、スペーサードットの形成後に配向処理を行うの
で、配向処理時に形成したスペーサードットの脱落やス
ペーサードット周囲の配向膜面に十分な配向処理ができ
ないという不都合が発生していた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、
（１）配向膜の十分な配向能を維持し、（２）荷重の集
中が無く、かつ（３）画線の再現性に優れたスペーサー
を簡便な工程で形成する方法を提供することにある。
（１）配向膜の十分な配向能を維持し、（２）荷重の集
中が無く、かつ（３）画線の再現性に優れたスペーサー
を簡便な工程で形成する方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の第１の目的は、
液晶パネルを構成する２枚の基板間に介在して両基板を
支持する液晶パネル用スペーサーの形成方法において、
（１）該基板の少なくとも一方に配向膜を形成する工
程、（２）該配向膜に配向処理を行う工程、（３）該配
向処理を施した配向膜を形成した該基板に、可撓性支持
体上に少なくとも露光時に実質的に酸素を遮断する有機
高分子層、その上に水系現像液で現像可能な光重合性樹
脂層を設けた感光性シートをラミネートする工程、
（４）必要に応じて該可撓性支持体を剥離して、該ラミ
ネートされた光重合性樹脂層にパターン露光して硬化さ
せる工程、（５）可撓性支持体を除去した状態で現像を
行い、未露光部を除去する工程、を含むことを特徴とす
る液晶パネル用スペーサーの形成方法により達成され
た。
液晶パネルを構成する２枚の基板間に介在して両基板を
支持する液晶パネル用スペーサーの形成方法において、
（１）該基板の少なくとも一方に配向膜を形成する工
程、（２）該配向膜に配向処理を行う工程、（３）該配
向処理を施した配向膜を形成した該基板に、可撓性支持
体上に少なくとも露光時に実質的に酸素を遮断する有機
高分子層、その上に水系現像液で現像可能な光重合性樹
脂層を設けた感光性シートをラミネートする工程、
（４）必要に応じて該可撓性支持体を剥離して、該ラミ
ネートされた光重合性樹脂層にパターン露光して硬化さ
せる工程、（５）可撓性支持体を除去した状態で現像を
行い、未露光部を除去する工程、を含むことを特徴とす
る液晶パネル用スペーサーの形成方法により達成され
た。
【００１０】本発明の第２の目的は、上記該ラミネート
された光重合性樹脂層にパターン露光させる工程におい
て、該ラミネートされた光重合性樹脂層の、画素電極上
に位置していない部分及び／又はカラーフィルターを構
成するブラックマトリックス上に位置している部分に対
応する少なくとも一部にパターン露光し、現像すること
により、当該位置にのみスペーサーを形成することを特
徴とする液晶パネル用スペーサーの形成方法により達成
された。以下に、本発明を詳細に説明する。
された光重合性樹脂層にパターン露光させる工程におい
て、該ラミネートされた光重合性樹脂層の、画素電極上
に位置していない部分及び／又はカラーフィルターを構
成するブラックマトリックス上に位置している部分に対
応する少なくとも一部にパターン露光し、現像すること
により、当該位置にのみスペーサーを形成することを特
徴とする液晶パネル用スペーサーの形成方法により達成
された。以下に、本発明を詳細に説明する。
【００１１】本発明に用いられる液晶パネルを構成する
基板としては、公知の種々の材料を挙げることができ
る。具体的には、ガラス基板、プラスチック基板等が挙
げられる。
基板としては、公知の種々の材料を挙げることができ
る。具体的には、ガラス基板、プラスチック基板等が挙
げられる。
【００１２】本発明に用いられる配向膜としては、公知
の種々の材料が挙げられ、具体的にはポリイミド系の材
料が挙げられる。
の種々の材料が挙げられ、具体的にはポリイミド系の材
料が挙げられる。
【００１３】本発明に用いられる配向処理の方法として
は、公知の種々の方法が挙げられ、具体的には、ラビン
グ法等が挙げられる。
は、公知の種々の方法が挙げられ、具体的には、ラビン
グ法等が挙げられる。
【００１４】感光性シート材料に使用する可撓性支持体
としては、可撓性のあるプラスチツクフイルムを使用す
ることができ、中では、厚さ２０〜２００μｍのポリエ
チレンテレフタレートフイルムが特に好ましい。
としては、可撓性のあるプラスチツクフイルムを使用す
ることができ、中では、厚さ２０〜２００μｍのポリエ
チレンテレフタレートフイルムが特に好ましい。
【００１５】実質的に酸素を遮断する水溶性樹脂層とし
ては、特公昭５６−４０８２４号公報中に記載されてい
る種々の材料を使用することができる。
ては、特公昭５６−４０８２４号公報中に記載されてい
る種々の材料を使用することができる。
【００１６】光重合性感光層としては、特公昭５６−４
０８２４号公報、特願平２−２３５３６２号明細書及び
その中で引用されている公報に記載された、種々の光重
合性組成物を使用することができる。この感光層中に
は、必要に応じて顔料等を添加しても良い。
０８２４号公報、特願平２−２３５３６２号明細書及び
その中で引用されている公報に記載された、種々の光重
合性組成物を使用することができる。この感光層中に
は、必要に応じて顔料等を添加しても良い。
【００１７】更に、必要に応じて、光重合性層上に保護
用のカバーフイルムを設けても良く、支持体と水溶性有
機高分子層の間に下塗層を設けても良い。以下、実施例
に基づき、本発明を更に詳細に説明するが、本発明は、
これらに限定されるものではない。
用のカバーフイルムを設けても良く、支持体と水溶性有
機高分子層の間に下塗層を設けても良い。以下、実施例
に基づき、本発明を更に詳細に説明するが、本発明は、
これらに限定されるものではない。
【００１８】
実施例１ 特開平３−８９３２０号公報を参考にして、ゲート電
極、画素電極、ソース電極、絶縁膜、ドレイン電極、パ
ッシベーション膜、および配向膜を形成したガラス基板
を作成した。その後、上記配向膜にラビングによる配向
処理を行った。一方、下記構成の感光性シートを作成し
た。７５μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上
に、乾燥膜厚１．５μｍになるように、ポリビニルアル
コール（ＰＶＡ２０５：クラレ（株）製）を塗布した。
その上に、下記処方の感光液を乾燥膜厚７．０μｍにな
るように塗布した。
極、画素電極、ソース電極、絶縁膜、ドレイン電極、パ
ッシベーション膜、および配向膜を形成したガラス基板
を作成した。その後、上記配向膜にラビングによる配向
処理を行った。一方、下記構成の感光性シートを作成し
た。７５μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム上
に、乾燥膜厚１．５μｍになるように、ポリビニルアル
コール（ＰＶＡ２０５：クラレ（株）製）を塗布した。
その上に、下記処方の感光液を乾燥膜厚７．０μｍにな
るように塗布した。
【００１９】 ・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（モル比＝７３／２７、 粘度＝０．１２［ＭＥＫ中、２５℃］） ６０ｇ ・ペンタエリスリトールテトラアクリレート ５０ｇ ・ミヒラーズケトン ２．４ｇ ・ロフインダイマー ２．５ｇ ・メチルセロソルブアセテート ５６０ｇ ・メチルエチルケトン ２８０ｇ
【００２０】更にその上に、カバーフイルムとして、１
２μｍのポリプロピレンフイルムをラミネートした。
２μｍのポリプロピレンフイルムをラミネートした。
【００２１】この感光性シートを用いて、以下の様にし
てスペーサーを作成した。上記感光性シート材料のカバ
ーフイルムを剥し、下側基板のパツシベーシヨン膜上
に、大成ラミネータ社製ラミネータ（ＶＰ−ＩＩ型）を
用い、加熱温度１１０℃、ローラー圧力２ｋｇ／ｃｍ、
搬送速度０．３ｍ／分で感光層をラミネートし、ポリエ
チレンテレフタレートフイルムを剥離して、平滑な感光
層を設けた。次いで、ゲート電極とドレイン電極の交差
部分に、直径３０μｍのマスクを介してパターン露光
し、その後、ｐＨ１０．８のアルカリ水溶液で現像して
未露光部を除去した。この様にして作成されたパターン
は、スペーサーとして間隔の精度が高く、強度も十分で
あり、且つ加重を集中させないために十分な面積を有す
るものであつた。さらに、その後、上記基板を用いて液
晶表示パネルを作成したところ、配向不良による表示不
良は発生しなかった。
てスペーサーを作成した。上記感光性シート材料のカバ
ーフイルムを剥し、下側基板のパツシベーシヨン膜上
に、大成ラミネータ社製ラミネータ（ＶＰ−ＩＩ型）を
用い、加熱温度１１０℃、ローラー圧力２ｋｇ／ｃｍ、
搬送速度０．３ｍ／分で感光層をラミネートし、ポリエ
チレンテレフタレートフイルムを剥離して、平滑な感光
層を設けた。次いで、ゲート電極とドレイン電極の交差
部分に、直径３０μｍのマスクを介してパターン露光
し、その後、ｐＨ１０．８のアルカリ水溶液で現像して
未露光部を除去した。この様にして作成されたパターン
は、スペーサーとして間隔の精度が高く、強度も十分で
あり、且つ加重を集中させないために十分な面積を有す
るものであつた。さらに、その後、上記基板を用いて液
晶表示パネルを作成したところ、配向不良による表示不
良は発生しなかった。
【００２２】比較例１ 特開平３−８９３２０号公報を参考にして、ゲート電
極、画素電極、ソース電極、絶縁膜、ドレイン電極、パ
ッシベーション膜、および配向膜を形成したガラス基板
を作成した。その後、上記配向膜にラビングによる配向
処理を行った。その後、実施例１の感光液を乾燥後の膜
厚が７．０μｍとなるように直接配向膜上に塗布し、さ
らにポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５：クラレ
（株）製）を塗布した。その後、実施例１と同様な露光
−現像を行い、スペーサーパターンを作成した。上記基
板を用いて液晶表示パネルを作成したところ、感光液塗
布時に配向処理を破壊してしまったため、配向不良によ
る表示不良が発生した。
極、画素電極、ソース電極、絶縁膜、ドレイン電極、パ
ッシベーション膜、および配向膜を形成したガラス基板
を作成した。その後、上記配向膜にラビングによる配向
処理を行った。その後、実施例１の感光液を乾燥後の膜
厚が７．０μｍとなるように直接配向膜上に塗布し、さ
らにポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５：クラレ
（株）製）を塗布した。その後、実施例１と同様な露光
−現像を行い、スペーサーパターンを作成した。上記基
板を用いて液晶表示パネルを作成したところ、感光液塗
布時に配向処理を破壊してしまったため、配向不良によ
る表示不良が発生した。
【００２３】比較例２ 特開平３−８９３２０号公報を参考にして、ゲート電
極、画素電極、ソース電極、絶縁膜、ドレイン電極、パ
ッシベーション膜、および配向膜を形成したガラス基板
を作成した。その後、実施例１と同様にスペーサーパタ
ーンを作成した。その後上記配向膜にラビングによる配
向処理を行った。その際に、一部スペーサードットの脱
落が認められた。上記基板を用いて液晶表示パネルを作
成したところ、スペーサードットの脱落により一部セル
ギャップの均一性が乱れ、表示不良が発生した。また、
スペーサードット周囲は十分な配向処理が出来ないた
め、配向不良による表示不良が発生した。
極、画素電極、ソース電極、絶縁膜、ドレイン電極、パ
ッシベーション膜、および配向膜を形成したガラス基板
を作成した。その後、実施例１と同様にスペーサーパタ
ーンを作成した。その後上記配向膜にラビングによる配
向処理を行った。その際に、一部スペーサードットの脱
落が認められた。上記基板を用いて液晶表示パネルを作
成したところ、スペーサードットの脱落により一部セル
ギャップの均一性が乱れ、表示不良が発生した。また、
スペーサードット周囲は十分な配向処理が出来ないた
め、配向不良による表示不良が発生した。
【００２４】
【発明の効果】本発明の方法によれば、配向膜の配向能
を充分に維持し、かつ、スペーサーの一部に加重を集中
させることがなく、素子や電極等の破壊防止、コントラ
ストの低下防止を達成することができる。
を充分に維持し、かつ、スペーサーの一部に加重を集中
させることがなく、素子や電極等の破壊防止、コントラ
ストの低下防止を達成することができる。
Claims (2)
- 【請求項１】 液晶パネルを構成する２枚の基板間に介
在して両基板を支持する液晶パネル用スペーサーの形成
方法において、（１）該基板の少なくとも一方に配向膜
を形成する工程、（２）該配向膜に配向処理を行う工
程、（３）該配向処理を施した配向膜を形成した該基板
に、可撓性支持体上に少なくとも露光時に実質的に酸素
を遮断する有機高分子層、その上に水系現像液で現像可
能な光重合性樹脂層を設けた感光性シートをラミネート
する工程、（４）該ラミネートされた光重合性樹脂層に
パターン露光して硬化させる工程、（５）現像により未
露光部を除去する工程、を含むことを特徴とする液晶パ
ネル用スペーサーの形成方法。 - 【請求項２】 該ラミネートされた光重合性樹脂層にパ
ターン露光する工程において、該ラミネートされた光重
合性樹脂層の、画素電極上に位置していない部分及び／
又はカラーフィルターを構成するブラックマトリックス
上に位置している部分に対応する少なくとも一部にパタ
ーン露光することを特徴とする請求項１に記載の液晶パ
ネル用スペーサーの形成方法。
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| JP07759195A JP3782127B2 (ja) | 1995-04-03 | 1995-04-03 | 液晶パネル用スペーサーの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP07759195A JP3782127B2 (ja) | 1995-04-03 | 1995-04-03 | 液晶パネル用スペーサーの形成方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JPH08271907A true JPH08271907A (ja) | 1996-10-18 |
| JP3782127B2 JP3782127B2 (ja) | 2006-06-07 |
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Family Applications (1)
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|---|---|
| JP (1) | JP3782127B2 (ja) |
-
1995
- 1995-04-03 JP JP07759195A patent/JP3782127B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP3782127B2 (ja) | 2006-06-07 |
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