JPH08273538A - プラズマディスプレイパネルのセル障壁製造方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルのセル障壁製造方法Info
- Publication number
- JPH08273538A JPH08273538A JP9594295A JP9594295A JPH08273538A JP H08273538 A JPH08273538 A JP H08273538A JP 9594295 A JP9594295 A JP 9594295A JP 9594295 A JP9594295 A JP 9594295A JP H08273538 A JPH08273538 A JP H08273538A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cell barrier
- shape
- ionizing radiation
- sheet
- curable resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2211/00—Plasma display panels with alternate current induction of the discharge, e.g. AC-PDPs
- H01J2211/20—Constructional details
- H01J2211/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J2211/36—Spacers, barriers, ribs, partitions or the like
Landscapes
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 任意形状のセル障壁を精度よく、簡便、迅
速、安定に製造する。 【構成】 セル障壁部１形状に対応した版面を持つロー
ル凹版の版凹部に電離放射線硬化性樹脂を充填すると共
に、フィルム基材をロール凹版に接触させ、接触してい
る間に電離放射線の照射で電離放射線硬化性樹脂を硬化
させ電離放射線硬化性樹脂層とした後、電離放射線硬化
性樹脂層をフィルム基材と共にロール凹版から剥離し
て、セル障壁部と逆凹凸形状のシート凹部を持つ型シー
トを得る。ガラス基板１０表面にガラスペースト８を塗
布する。塗布されたガラス基板に賦形シート２を圧接
後、賦形シートを剥離してガラスペーストをセル障壁形
状に成形する。成形されたガラスペーストを焼成する焼
成工程。
速、安定に製造する。 【構成】 セル障壁部１形状に対応した版面を持つロー
ル凹版の版凹部に電離放射線硬化性樹脂を充填すると共
に、フィルム基材をロール凹版に接触させ、接触してい
る間に電離放射線の照射で電離放射線硬化性樹脂を硬化
させ電離放射線硬化性樹脂層とした後、電離放射線硬化
性樹脂層をフィルム基材と共にロール凹版から剥離し
て、セル障壁部と逆凹凸形状のシート凹部を持つ型シー
トを得る。ガラス基板１０表面にガラスペースト８を塗
布する。塗布されたガラス基板に賦形シート２を圧接
後、賦形シートを剥離してガラスペーストをセル障壁形
状に成形する。成形されたガラスペーストを焼成する焼
成工程。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、セル障壁により形成さ
れた複数の放電用空間を備えてなるプラズマディスプレ
イパネル（以下、ＰＤＰと記す。）のセル障壁製造方法
に関する。
れた複数の放電用空間を備えてなるプラズマディスプレ
イパネル（以下、ＰＤＰと記す。）のセル障壁製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＰＤＰのセル障壁製造方法として
は、ガラス基板上にガラスペーストをスクリーン印刷法
によりパターンニングした後、焼成する方法が利用され
ているが、セル障壁に必要な高さを得るために、印刷と
乾燥を例えば十数回繰り返すことによって積層した後に
焼成することが行われている。また、その障壁形状の精
度を向上させるために、ガラス基板上のセル障壁を設け
る部分に新油性高分子層を設けておく方法（特開平５−
１６６４６０号公報）等も提案されている。
は、ガラス基板上にガラスペーストをスクリーン印刷法
によりパターンニングした後、焼成する方法が利用され
ているが、セル障壁に必要な高さを得るために、印刷と
乾燥を例えば十数回繰り返すことによって積層した後に
焼成することが行われている。また、その障壁形状の精
度を向上させるために、ガラス基板上のセル障壁を設け
る部分に新油性高分子層を設けておく方法（特開平５−
１６６４６０号公報）等も提案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の従来の
製造方法では、製造装置が特殊ではなく工程が容易であ
る反面、工程数が多くなる点、また、スクリーン印刷に
よるセル障壁の形状が焼成前に崩れ、しかも印刷の繰り
返し回数が増えるにつれ形状精度が悪化する傾向があ
り、精巧さに劣る点などに問題がある。その結果、ディ
スプレイパネルの性能として、高精細な画像を得にくい
という問題があった。
製造方法では、製造装置が特殊ではなく工程が容易であ
る反面、工程数が多くなる点、また、スクリーン印刷に
よるセル障壁の形状が焼成前に崩れ、しかも印刷の繰り
返し回数が増えるにつれ形状精度が悪化する傾向があ
り、精巧さに劣る点などに問題がある。その結果、ディ
スプレイパネルの性能として、高精細な画像を得にくい
という問題があった。
【０００４】そこで、本発明は、上記のような従来技術
の欠点を解消し、さらに精度の良いセル障壁を、簡便で
迅速に且つ安定して製造し得る、新たな製造方法を提供
することを目的とする。
の欠点を解消し、さらに精度の良いセル障壁を、簡便で
迅速に且つ安定して製造し得る、新たな製造方法を提供
することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のプラズマディスプレイパネルのセル障壁製
造方法は、前面板と、複数の放電用空間を構成するセル
障壁を備えた背面板とを互いに平行に対向するように配
設してなるプラズマディスプレイパネルのセル障壁を製
造する方法について、次の(A) 〜(D) より構成する。 (A) セル障壁部の形状に対応した版凹部を有するロール
凹版を使用し、該ロール凹版の少なくとも版凹部に電離
放射線硬化性樹脂を充填すると共に、フィルム基材をロ
ール凹版に接触させ、接触している間に電離放射線を照
射してフィルム基材とロール凹版間に介在する電離放射
線硬化性樹脂を硬化させて電離放射線硬化性樹脂層とし
た後、フィルム基材に固着した電離放射線硬化性樹脂層
をフィルム基材と共に版凹部から剥離して、セル障壁部
と逆凹凸形状のシート凹部を有する賦形シートを得る賦
形シート製造工程。 (B) ガラス基板表面にガラスペーストを塗布する塗布工
程。 (C) ガラスペーストが塗布されたガラス基板に賦形シー
トを圧接した後、賦形シートを剥離して、ガラス基板表
面上のガラスペーストをセル障壁形状に成形する成形工
程。 (D) 成形されたガラスペーストを焼成する焼成工程。
に、本発明のプラズマディスプレイパネルのセル障壁製
造方法は、前面板と、複数の放電用空間を構成するセル
障壁を備えた背面板とを互いに平行に対向するように配
設してなるプラズマディスプレイパネルのセル障壁を製
造する方法について、次の(A) 〜(D) より構成する。 (A) セル障壁部の形状に対応した版凹部を有するロール
凹版を使用し、該ロール凹版の少なくとも版凹部に電離
放射線硬化性樹脂を充填すると共に、フィルム基材をロ
ール凹版に接触させ、接触している間に電離放射線を照
射してフィルム基材とロール凹版間に介在する電離放射
線硬化性樹脂を硬化させて電離放射線硬化性樹脂層とし
た後、フィルム基材に固着した電離放射線硬化性樹脂層
をフィルム基材と共に版凹部から剥離して、セル障壁部
と逆凹凸形状のシート凹部を有する賦形シートを得る賦
形シート製造工程。 (B) ガラス基板表面にガラスペーストを塗布する塗布工
程。 (C) ガラスペーストが塗布されたガラス基板に賦形シー
トを圧接した後、賦形シートを剥離して、ガラス基板表
面上のガラスペーストをセル障壁形状に成形する成形工
程。 (D) 成形されたガラスペーストを焼成する焼成工程。
【０００６】以下、本発明のプラズマディスプレイパネ
ルのセル障壁製造方法について図面を参照しながら詳述
する。
ルのセル障壁製造方法について図面を参照しながら詳述
する。
【０００７】本発明の製造方法は、先ず最初に、ＰＤＰ
セル障壁部の形状とは逆凹凸形状の賦形シートを製造す
る。賦形シートはフィルム基材上に、シート凹部を形成
した電離放射線硬化性樹脂層を有し、このシート凹部が
ＰＤＰセル障壁部形状と逆形状をなす鋳型である。
セル障壁部の形状とは逆凹凸形状の賦形シートを製造す
る。賦形シートはフィルム基材上に、シート凹部を形成
した電離放射線硬化性樹脂層を有し、このシート凹部が
ＰＤＰセル障壁部形状と逆形状をなす鋳型である。
【０００８】図３は、この賦形シートの製造装置の一例
を示す概念図である。ロール凹版４は多数のセル障壁か
らなるセル障壁部に対応した形状の版凹部４１を有し、
矢印方向に回転している。そこに、フィルム基材２１が
適宜移送手段により供給され押し圧ロール５１でロール
凹版に圧接され、ロール凹版に接触した状態で同期して
搬送されて、剥離ロール５２によりロール凹版から剥離
されて搬送される。なお、押し圧ロール及び剥離ロール
ともロール凹版とのクリアランス調整等が可能となって
いる。
を示す概念図である。ロール凹版４は多数のセル障壁か
らなるセル障壁部に対応した形状の版凹部４１を有し、
矢印方向に回転している。そこに、フィルム基材２１が
適宜移送手段により供給され押し圧ロール５１でロール
凹版に圧接され、ロール凹版に接触した状態で同期して
搬送されて、剥離ロール５２によりロール凹版から剥離
されて搬送される。なお、押し圧ロール及び剥離ロール
ともロール凹版とのクリアランス調整等が可能となって
いる。
【０００９】このようなロール凹版４、フィルム基材２
１に対して、電離放射線硬化性樹脂３をロール凹版の少
なくとも版凹部４１に充填すべく適宜手段により供給す
る。同図では、電離放射線硬化性樹脂はロール凹版の下
方から塗工装置６によりロール凹版に直接供給する。そ
して、フィルム基材をロール凹版に接触させるようにし
て、フィルム基材とロール凹版上の電離放射線硬化性樹
脂をフィルム基材とロール凹版とで挟みながら、電離放
射線照射装置７によってフィルム基材側から電離放射線
を照射して、フィルム基材とロール凹版との間に介在し
ている電離放射線硬化性樹脂を硬化させる。電離放射線
硬化性樹脂は硬化することによって、フィルム基材に固
着した状態の電離放射線硬化性樹脂層２２となる。次
に、剥離ロールによって、フィルム基材をロール凹版か
ら剥離すると、電離放射線硬化性樹脂層はフィルム基材
と共に剥離され、電離放射線硬化性樹脂層がセル障壁部
以外の部分（放電空間）の形状を成し、電離放射線硬化
性樹脂層によって形成されるシート凹部２３がセル障壁
部の形状を成す賦形シート２が得られる。
１に対して、電離放射線硬化性樹脂３をロール凹版の少
なくとも版凹部４１に充填すべく適宜手段により供給す
る。同図では、電離放射線硬化性樹脂はロール凹版の下
方から塗工装置６によりロール凹版に直接供給する。そ
して、フィルム基材をロール凹版に接触させるようにし
て、フィルム基材とロール凹版上の電離放射線硬化性樹
脂をフィルム基材とロール凹版とで挟みながら、電離放
射線照射装置７によってフィルム基材側から電離放射線
を照射して、フィルム基材とロール凹版との間に介在し
ている電離放射線硬化性樹脂を硬化させる。電離放射線
硬化性樹脂は硬化することによって、フィルム基材に固
着した状態の電離放射線硬化性樹脂層２２となる。次
に、剥離ロールによって、フィルム基材をロール凹版か
ら剥離すると、電離放射線硬化性樹脂層はフィルム基材
と共に剥離され、電離放射線硬化性樹脂層がセル障壁部
以外の部分（放電空間）の形状を成し、電離放射線硬化
性樹脂層によって形成されるシート凹部２３がセル障壁
部の形状を成す賦形シート２が得られる。
【００１０】ここで、目的とするセル障壁形状と、賦形
シートのシート凹部、ロール凹版の版凹部の形状の関係
を説明しておく。図２で（ａ）はロール凹版４とその版
凹部４１を、（ｂ）は（ａ）のロール凹版から得られる
賦形シート２とそのシート凹部２３を、（ｃ）は（ｂ）
の賦形シートから得られるセル障壁１を示す。そしてロ
ール凹版はセル障壁部の形状に対応した版凹部を有す
る。すなわち、ロール凹版４の版凹部４１とは直観的に
は凹んだ部分であり凹部空間とすれば、版凹部がセル障
壁部以外の部分（放電空間）と同一形状であり、逆に言
えば、版凹部以外の部分（凸部）がセル障壁部と同一形
状である。一方、賦形シート２ではシート凹部２３の凹
部空間が、セル障壁部と同一形状となる。なお、平凹版
から型シートを枚葉で作ることも可能であるが、説明の
便宜上、図２（ａ）ではロール凹版の版面は平面化して
ある。
シートのシート凹部、ロール凹版の版凹部の形状の関係
を説明しておく。図２で（ａ）はロール凹版４とその版
凹部４１を、（ｂ）は（ａ）のロール凹版から得られる
賦形シート２とそのシート凹部２３を、（ｃ）は（ｂ）
の賦形シートから得られるセル障壁１を示す。そしてロ
ール凹版はセル障壁部の形状に対応した版凹部を有す
る。すなわち、ロール凹版４の版凹部４１とは直観的に
は凹んだ部分であり凹部空間とすれば、版凹部がセル障
壁部以外の部分（放電空間）と同一形状であり、逆に言
えば、版凹部以外の部分（凸部）がセル障壁部と同一形
状である。一方、賦形シート２ではシート凹部２３の凹
部空間が、セル障壁部と同一形状となる。なお、平凹版
から型シートを枚葉で作ることも可能であるが、説明の
便宜上、図２（ａ）ではロール凹版の版面は平面化して
ある。
【００１１】上記したフィルム基材２としては、可撓性
及び電離放射線透過性があるフィルムであれば良い。例
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカー
ボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリスチレン、エ
チレン−酢酸エチレン共重合体、ポリビニルアルコー
ル、等の樹脂からなるフィルムが挙げられる。中でも、
加工適性、強度、コスト等の点を考慮した場合、特にポ
リエチレンテレフタレートフィルムが良い。
及び電離放射線透過性があるフィルムであれば良い。例
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリカー
ボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリスチレン、エ
チレン−酢酸エチレン共重合体、ポリビニルアルコー
ル、等の樹脂からなるフィルムが挙げられる。中でも、
加工適性、強度、コスト等の点を考慮した場合、特にポ
リエチレンテレフタレートフィルムが良い。
【００１２】なお、電離放射線硬化性樹脂の供給充填
は、図３に示す如くロール凹版にロールコート法にて直
接供給して行える他、Ｔダイ等のダイからロール凹版に
直接供給したり、あるいは、フィルム基材がロール凹版
に当接する前に、該フィルム基材上に予めロールコート
法等にて塗布形成して供給してもよい。
は、図３に示す如くロール凹版にロールコート法にて直
接供給して行える他、Ｔダイ等のダイからロール凹版に
直接供給したり、あるいは、フィルム基材がロール凹版
に当接する前に、該フィルム基材上に予めロールコート
法等にて塗布形成して供給してもよい。
【００１３】また、本発明で使用する電離放射線硬化性
樹脂としては、電離放射線により架橋重合反応を起こし
固体化するポリマー、プレポリマー、あるいはモノマー
が用いられる。具体的には、（メタ）アクリルアミド、
（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリル酸、（メ
タ）アクリル酸エステル等の（メタ）アクリロイル基を
有する化合物からなるラジカル重合系（ここで、（メ
タ）アクリロイルとはアクリロイル又はメタクリロイル
を意味する。以下同様。）、エポキシ、環状エーテル、
環状アセタール、ラクトン、ビニルモノマー、環状シロ
キサンとアリールジアゾニウム塩、ジアリールヨードニ
ウム塩等との組み合わせからなるカチオン重合系、チオ
ール基を有する化合物、例えば、トリメチロールプロパ
ントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリ
チオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラチオ
グリコールとポリエン化合物とからなる、ポリエン／チ
オール系等が使用できる。
樹脂としては、電離放射線により架橋重合反応を起こし
固体化するポリマー、プレポリマー、あるいはモノマー
が用いられる。具体的には、（メタ）アクリルアミド、
（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリル酸、（メ
タ）アクリル酸エステル等の（メタ）アクリロイル基を
有する化合物からなるラジカル重合系（ここで、（メ
タ）アクリロイルとはアクリロイル又はメタクリロイル
を意味する。以下同様。）、エポキシ、環状エーテル、
環状アセタール、ラクトン、ビニルモノマー、環状シロ
キサンとアリールジアゾニウム塩、ジアリールヨードニ
ウム塩等との組み合わせからなるカチオン重合系、チオ
ール基を有する化合物、例えば、トリメチロールプロパ
ントリチオグリコレート、トリメチロールプロパントリ
チオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラチオ
グリコールとポリエン化合物とからなる、ポリエン／チ
オール系等が使用できる。
【００１４】ラジカル重合系の（メタ）アクリレート化
合物の単官能モノマーとしては、例えば、メチル（メ
タ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチ
ル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アク
リレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート、ブト
キシエチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピ
ル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノエ
チル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレ
ート、イソホニル（メタ）アクリレート、エチルカルビ
トルール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メ
タ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール
（メタ）アクリレート、テトラヒドロキシフルフリル
（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコ
ール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイル
オキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２
−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフ
タレート等が挙げられる。
合物の単官能モノマーとしては、例えば、メチル（メ
タ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチ
ル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アク
リレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート、ブト
キシエチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピ
ル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノエ
チル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレ
ート、イソホニル（メタ）アクリレート、エチルカルビ
トルール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メ
タ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール
（メタ）アクリレート、テトラヒドロキシフルフリル
（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコ
ール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイル
オキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２
−（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフ
タレート等が挙げられる。
【００１５】また、ラジカル重合系の多官能モノマーと
しては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロ
ピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキシ
ルジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジ
オールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ−ジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオ
キサイドトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール
テトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンポリエチレン
オキサイドトリ（メタ）アクリレート、トリス（メタ）
アクリロイルオキシエチルフォスフェート等で挙げられ
る。
しては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロ
ピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキシ
ルジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジ
オールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコ
ールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ−ジ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオ
キサイドトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリト
ールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール
テトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール
ペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンポリエチレン
オキサイドトリ（メタ）アクリレート、トリス（メタ）
アクリロイルオキシエチルフォスフェート等で挙げられ
る。
【００１６】また、ラジカル重合系のプレポリマー、と
しては、例えば、アルキッド（メタ）アクリレート、ウ
レタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリ
レート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリブタ
ジエン（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート
類、不飽和ポリエステル等がある。
しては、例えば、アルキッド（メタ）アクリレート、ウ
レタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリ
レート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリブタ
ジエン（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート
類、不飽和ポリエステル等がある。
【００１７】これら（メタ）アクリロイル基を含む化合
物の中でも特にアクリロイル基を含む化合物、すなわち
アクリレートの方が重合反応速度が速い。そのため、電
離放射線硬化性樹脂層を塗工形成する生産速度を重視す
る場合は、アクリレートの方がメタクリレートより好ま
しい。
物の中でも特にアクリロイル基を含む化合物、すなわち
アクリレートの方が重合反応速度が速い。そのため、電
離放射線硬化性樹脂層を塗工形成する生産速度を重視す
る場合は、アクリレートの方がメタクリレートより好ま
しい。
【００１８】そして、ラジカル重合系の電離放射線硬化
性樹脂としては、以上の化合物を必要に応じて、１種も
しくは２種以上混合して用いる。
性樹脂としては、以上の化合物を必要に応じて、１種も
しくは２種以上混合して用いる。
【００１９】ここで、紫外線による硬化の場合の光重合
開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケト
ン、ジフェニルサルファイド、ジベンジルジサルファイ
ド、ジエチルオキサイド、トリフェニルビイミダゾー
ル、イソプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンゾエー
ト等の１種もしくは２種以上を該電離放射線硬化性樹脂
１００重量部に対して、０．１〜１０重量部の範囲で混
合して用いることができる。
開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケト
ン、ジフェニルサルファイド、ジベンジルジサルファイ
ド、ジエチルオキサイド、トリフェニルビイミダゾー
ル、イソプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンゾエー
ト等の１種もしくは２種以上を該電離放射線硬化性樹脂
１００重量部に対して、０．１〜１０重量部の範囲で混
合して用いることができる。
【００２０】ここで、該電離放射線硬化性樹脂を含む組
成物中に、該電離放射線硬化性樹脂を溶解しその粘度等
を調整し塗工適性を持たせるための溶剤として、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート等のエステル
類、アセトン、メチルエチルケトン、エチルイソブチル
ケトン等のケトン類、メチルアルコール、エチルアルコ
ール、イソプロピルアルコール等のアルコール類等の１
種又は２種以上を任意に混合して使用することもでき
る。
成物中に、該電離放射線硬化性樹脂を溶解しその粘度等
を調整し塗工適性を持たせるための溶剤として、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート等のエステル
類、アセトン、メチルエチルケトン、エチルイソブチル
ケトン等のケトン類、メチルアルコール、エチルアルコ
ール、イソプロピルアルコール等のアルコール類等の１
種又は２種以上を任意に混合して使用することもでき
る。
【００２１】電離放射線としては、可視光線、紫外線、
Ｘ線、電子線等の電磁波又は粒子線が用いられる。実用
上主に使用されるのは、紫外線又は電子線である。紫外
線源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、低圧水銀
灯、カーボンアーク、ブラックライト、メタルハライド
ランプ等の光源が使用される。
Ｘ線、電子線等の電磁波又は粒子線が用いられる。実用
上主に使用されるのは、紫外線又は電子線である。紫外
線源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、低圧水銀
灯、カーボンアーク、ブラックライト、メタルハライド
ランプ等の光源が使用される。
【００２２】電子線源としては、コッククロフトワルト
ン型、バンデグラフ型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器
型、あるいは、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等
の各種電子線加速器を用い、１００〜１０００ｋｅＶ、
好ましくは、１００〜３００ｋｅＶのエネルギーをもつ
電子を照射するものを使用できる。照射線量は、通常
０．５〜３０Ｍｒａｄである。
ン型、バンデグラフ型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器
型、あるいは、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等
の各種電子線加速器を用い、１００〜１０００ｋｅＶ、
好ましくは、１００〜３００ｋｅＶのエネルギーをもつ
電子を照射するものを使用できる。照射線量は、通常
０．５〜３０Ｍｒａｄである。
【００２３】なお、電離放射線の照射方法として、ま
ず、紫外線を照射して電離放射線硬化性樹脂層を少なく
とも表面が指触乾燥する程度以上に硬化させ、しかる
後、電子線で完全硬化させることも可能である。
ず、紫外線を照射して電離放射線硬化性樹脂層を少なく
とも表面が指触乾燥する程度以上に硬化させ、しかる
後、電子線で完全硬化させることも可能である。
【００２４】以上のようにして得られた賦形シートを賦
形型として、ガラス基板上に適宜手段により塗布され
た、ＰｂＯ等からなるガラスフリット、耐熱顔料等を有
機ビヒクルに分散してなるガラスペーストに対して、押
し当ててガラスペーストを所望のセル障壁形状に成形す
ることとなる。
形型として、ガラス基板上に適宜手段により塗布され
た、ＰｂＯ等からなるガラスフリット、耐熱顔料等を有
機ビヒクルに分散してなるガラスペーストに対して、押
し当ててガラスペーストを所望のセル障壁形状に成形す
ることとなる。
【００２５】ガラスペーストをガラス基板に塗布する塗
布工程における塗布手段としては、、Ｔダイのような押
し出し法、あるいはブレードによるギャップを利用する
方法（図１１参照）等が適宜使用できる。図３（ａ）で
は、ガラスペーストをＴダイによって塗工する。
布工程における塗布手段としては、、Ｔダイのような押
し出し法、あるいはブレードによるギャップを利用する
方法（図１１参照）等が適宜使用できる。図３（ａ）で
は、ガラスペーストをＴダイによって塗工する。
【００２６】次いで、ガラスペーストの成形工程とし
て、ガラスペーストのビヒクルの溶剤が乾かないうち
に、図３（ｂ）の如く、賦形シート２を塗布されたガラ
スペーストに押し当てて、賦形シートのシート凹部の中
にガラスペーストを充填すると共に、必要に応じ、賦形
シートの電離放射線硬化性樹脂層の凸面をガラス基板に
接触するまで当接する。次に、図３（ｃ）に示すよう
に、シート凹部内に充填されたガラスペーストが乾かな
いうちに、賦形シートを剥離すると、ガラス基板側にガ
ラスペーストが成形された状態で残留する。図４は、賦
形シート２と、賦形シート２で成形されたガラス基板１
０上のセル障壁１を示す。なお、シート凹部の内面は電
離放射線硬化性樹脂層等の材料を適宜調整してガラス基
板表面よりガラスペーストに対するぬれを少なくしてい
るので、剥離時にガラスペーストはガラス基板側に残る
こととなる。
て、ガラスペーストのビヒクルの溶剤が乾かないうち
に、図３（ｂ）の如く、賦形シート２を塗布されたガラ
スペーストに押し当てて、賦形シートのシート凹部の中
にガラスペーストを充填すると共に、必要に応じ、賦形
シートの電離放射線硬化性樹脂層の凸面をガラス基板に
接触するまで当接する。次に、図３（ｃ）に示すよう
に、シート凹部内に充填されたガラスペーストが乾かな
いうちに、賦形シートを剥離すると、ガラス基板側にガ
ラスペーストが成形された状態で残留する。図４は、賦
形シート２と、賦形シート２で成形されたガラス基板１
０上のセル障壁１を示す。なお、シート凹部の内面は電
離放射線硬化性樹脂層等の材料を適宜調整してガラス基
板表面よりガラスペーストに対するぬれを少なくしてい
るので、剥離時にガラスペーストはガラス基板側に残る
こととなる。
【００２７】かくして、一回の操作でガラス基板上に所
望の高さで所望のセル障壁形状となり得るガラスペース
トが成形され、これを所定の焼成条件で焼成すれば、目
的とする形状のセル障壁が得られる。そして、セル障壁
が形成された背面板と前面板とを封着して図５に示すよ
うなセル障壁構造のＰＤＰが得られる。
望の高さで所望のセル障壁形状となり得るガラスペース
トが成形され、これを所定の焼成条件で焼成すれば、目
的とする形状のセル障壁が得られる。そして、セル障壁
が形成された背面板と前面板とを封着して図５に示すよ
うなセル障壁構造のＰＤＰが得られる。
【００２８】本発明は、ガラス基板への一回のパターン
ニング処理で、所望の高さで所望の形状のセル障壁を形
成できる点が特徴の一つであり、図４に示すしたような
断面が台形形状は、前面板と接合される部分のセル障壁
前面の面積を小さくできるので、画素面積を広くとれＰ
ＤＰの開口率向上による輝度の向上が得られる利点があ
る。
ニング処理で、所望の高さで所望の形状のセル障壁を形
成できる点が特徴の一つであり、図４に示すしたような
断面が台形形状は、前面板と接合される部分のセル障壁
前面の面積を小さくできるので、画素面積を広くとれＰ
ＤＰの開口率向上による輝度の向上が得られる利点があ
る。
【００２９】セル障壁の形状としては、図４では、セル
を形成する対向するセル障壁同士が分離している台形形
状であるが、この他各種のセル障壁１の形状と、それを
形成するための賦形シート２の形状とを、図６〜図８に
例示する。図６は対向するセル障壁同士が分離した三角
形形状であり、図７は分離した直方体形状であり、図８
は分離した前面板側に凸となる曲線形状、例えば半楕円
形状である。なお、これらセル障壁の断面は、例えば四
方が囲まれたセルの一辺を形成するセル障壁の縦断面形
状を示すもので、セルの平面形状は問わない。
を形成する対向するセル障壁同士が分離している台形形
状であるが、この他各種のセル障壁１の形状と、それを
形成するための賦形シート２の形状とを、図６〜図８に
例示する。図６は対向するセル障壁同士が分離した三角
形形状であり、図７は分離した直方体形状であり、図８
は分離した前面板側に凸となる曲線形状、例えば半楕円
形状である。なお、これらセル障壁の断面は、例えば四
方が囲まれたセルの一辺を形成するセル障壁の縦断面形
状を示すもので、セルの平面形状は問わない。
【００３０】
【作用】本発明の製造方法によれば、ロール凹版に充填
された電離放射線硬化性樹脂により、ガラスペーストの
賦形型となる賦形シートが高精度で得られる。そして、
この賦形シートを、ガラス基板上にほぼ均一に塗布した
ガラスペーストに押し当てることで、ガラスペーストは
シート凹部の中に押し込まれ充填され、その後、賦形シ
ートを剥離すれば、ガラスペーストのシート凹部とガラ
ス基板とのぬれの差により、ガラスペーストは成形され
てガラス基板側に残留する。ガラス基板上で成形された
ガラスペーストの形状は、シート凹部の形状に対応して
形成されるので、シート凹部の形状を目的とするセル障
壁部の形状とすることで、ガラス基板に対する一回の処
理で目的とする形状を持ったガラスペーストがガラス基
板上に形成される。そして、焼成することで、目的とす
るセル障壁が得られる。
された電離放射線硬化性樹脂により、ガラスペーストの
賦形型となる賦形シートが高精度で得られる。そして、
この賦形シートを、ガラス基板上にほぼ均一に塗布した
ガラスペーストに押し当てることで、ガラスペーストは
シート凹部の中に押し込まれ充填され、その後、賦形シ
ートを剥離すれば、ガラスペーストのシート凹部とガラ
ス基板とのぬれの差により、ガラスペーストは成形され
てガラス基板側に残留する。ガラス基板上で成形された
ガラスペーストの形状は、シート凹部の形状に対応して
形成されるので、シート凹部の形状を目的とするセル障
壁部の形状とすることで、ガラス基板に対する一回の処
理で目的とする形状を持ったガラスペーストがガラス基
板上に形成される。そして、焼成することで、目的とす
るセル障壁が得られる。
【００３１】
【実施例】次に、具体的な実施例により本発明を更に詳
述する。
述する。
【００３２】《実施例１》賦形シートの製造 フィルム基材として、厚さ２５μｍのポリエチレンテレ
フタレートフィルム（東レ（株）製、Ｔ−６０）の片面
に、図３に示す賦形シート製造装置と、下記のように版
凹部が正四角錐形状の凹部空間を有するロール凹版及び
電離放射線硬化性樹脂組成物を使用して、且つ下記条件
にてセル障壁と逆凹凸形状のセル障壁部の雌型がフィル
ム基材の片面に設けられた賦形シートを得た。
フタレートフィルム（東レ（株）製、Ｔ−６０）の片面
に、図３に示す賦形シート製造装置と、下記のように版
凹部が正四角錐形状の凹部空間を有するロール凹版及び
電離放射線硬化性樹脂組成物を使用して、且つ下記条件
にてセル障壁と逆凹凸形状のセル障壁部の雌型がフィル
ム基材の片面に設けられた賦形シートを得た。
【００３３】ロール凹版 版面の断面形状：縦断面は分離した台形 〔図９参照〕 水平断面はストライプ状 セルピッチＰ ：２００μｍ セル溝幅Ｗ ：上底１８０μｍ，下底１５０μｍ セル深さＤ ：１５０μｍ
【００３４】電離放射線硬化性樹脂組成物 ペンタエリスリトールトリアクリレート ９０重量部 ウレタンアクリレートオリゴマー １０重量部
【００３５】照射条件 カーテンビーム型電子線照射装置にて１０Ｍｒａｄの電
子線を照射
子線を照射
【００３６】次に、低融点ガラスフリット、耐熱顔料等
を有機バインダー中に分散させたガラスペーストを、ガ
ラス基板上に１００μｍの膜厚にブレードコート法によ
り塗布した後、ガラス基板上の塗布されたガラスペース
トの上から上記で得た賦形シートを圧接し、その後、賦
形シートをガラス基板から剥離し、成形されたガラスペ
ーストをガラス基板上に形成した。次いで、セル障壁形
状で転写されたガラスペーストが施されたガラス基板
を、ピーク温度５８５℃、加熱時間１５分の条件で焼成
し、ＰＤＰガラス基板にセル障壁を形成した。
を有機バインダー中に分散させたガラスペーストを、ガ
ラス基板上に１００μｍの膜厚にブレードコート法によ
り塗布した後、ガラス基板上の塗布されたガラスペース
トの上から上記で得た賦形シートを圧接し、その後、賦
形シートをガラス基板から剥離し、成形されたガラスペ
ーストをガラス基板上に形成した。次いで、セル障壁形
状で転写されたガラスペーストが施されたガラス基板
を、ピーク温度５８５℃、加熱時間１５分の条件で焼成
し、ＰＤＰガラス基板にセル障壁を形成した。
【００３７】《実施例２》実施例１において、賦形シー
トの製造に関する、ロール凹版、電離放射線硬化性樹脂
組成物、照射条件を下記とした以外は、実施例１と同様
にして、セル障壁をガラス基板上に形成した。
トの製造に関する、ロール凹版、電離放射線硬化性樹脂
組成物、照射条件を下記とした以外は、実施例１と同様
にして、セル障壁をガラス基板上に形成した。
【００３８】ロール凹版 版面の断面形状：縦断面は分離した台形 〔図１０参照〕 水平断面は正方形 セルピッチＰ ：５００μｍ セル溝幅Ｗ ：上底４５０μｍ，下底１００μｍ セル深さＤ ：１５０μｍ
【００３９】電離放射線硬化性樹脂組成物 ペンタエリスリトールトリアクリレート ９０重量部 ウレタンアクリレートオリゴマー １０重量部 ２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン （メルク社製、ダロキュア１１７３） ０．７重量部
【００４０】照射条件 オゾン有りの高圧水銀灯、１６０Ｗ／ｃｍ×２灯
【００４１】
【発明の効果】以上詳述した如く本発明のセル障壁製造
方法によれば、精度が良く、任意の形状のセル障壁を、
一回のパターンニング処理により、簡便、迅速に且つ安
定して製造できる。しかも、セル障壁の形状が直方体以
外の例えば台形形状等も可能となり、ＰＤＰの前面板側
のセル障壁面の面積を小さくでき、ＰＤＰの高精細化も
容易となる。
方法によれば、精度が良く、任意の形状のセル障壁を、
一回のパターンニング処理により、簡便、迅速に且つ安
定して製造できる。しかも、セル障壁の形状が直方体以
外の例えば台形形状等も可能となり、ＰＤＰの前面板側
のセル障壁面の面積を小さくでき、ＰＤＰの高精細化も
容易となる。
【図１】（ａ）は塗布工程を、（ｂ）は成形工程前半、
（ｃ）は後半を示す概念図。
（ｃ）は後半を示す概念図。
【図２】ロール凹版、賦形シート、得られるセル障壁形
状の一例と関係を示す断面図。
状の一例と関係を示す断面図。
【図３】賦形シート製造工程で使用する製造装置の一例
を示す概念図。
を示す概念図。
【図４】賦形シートと、対応するセル障壁の形状（断面
が分離した台形）の一例を示す断面図。
が分離した台形）の一例を示す断面図。
【図５】セル障壁を持つ背面板と前面板とを封着してパ
ネルとした断面の概念図。
ネルとした断面の概念図。
【図６】セル障壁の形状（断面が分離した三角形）と対
応する賦形シートの他の一例を示す断面図。
応する賦形シートの他の一例を示す断面図。
【図７】セル障壁の形状（断面が分離した長方形）と対
応する賦形シートの他の一例を示す断面図。
応する賦形シートの他の一例を示す断面図。
【図８】セル障壁の形状（断面が分離した凸曲線）と対
応する賦形シートの他の一例を示す断面図。
応する賦形シートの他の一例を示す断面図。
【図９】ロール凹版の版凹部形状の一例を示す断面図及
び斜視図。
び斜視図。
【図１０】ロール凹版の版凹部形状の他の一例を示す断
面図及び斜視図。
面図及び斜視図。
【図１１】塗布工程の他の方法を示す概念図。
１ セル障壁 ２ 賦形シート ２１ フィルム基材 ２２ 電離放射線硬化性樹脂層 ２３ シート凹部 ３ 電離放射線硬化性樹脂 ４ ロール凹版 ４１ 版凹部 ５１ 押し圧ロール ５２ 剥離ロール ６ 塗工装置 ７ 電離放射線照射装置 ８ ガラスペースト ９ ブレード １０ ガラス基板
Claims (1)
- 【請求項１】 前面板と、複数の放電用空間を構成する
セル障壁を備えた背面板とを互いに平行に対向するよう
に配設してなるプラズマディスプレイパネルのセル障壁
を製造する方法において、次の(A) 〜(D) よりなること
を特徴とするプラズマディスプレイパネルのセル障壁製
造方法。 (A) セル障壁部の形状に対応した版凹部を有するロール
凹版を使用し、該ロール凹版の少なくとも版凹部に電離
放射線硬化性樹脂を充填すると共に、フィルム基材をロ
ール凹版に接触させ、接触している間に電離放射線を照
射してフィルム基材とロール凹版間に介在する電離放射
線硬化性樹脂を硬化させて電離放射線硬化性樹脂層とし
た後、フィルム基材に固着した電離放射線硬化性樹脂層
をフィルム基材と共に版凹部から剥離して、セル障壁部
と逆凹凸形状のシート凹部を有する賦形シートを得る賦
形シート製造工程。 (B) ガラス基板表面にガラスペーストを塗布する塗布工
程。 (C) ガラスペーストが塗布されたガラス基板に賦形シー
トを圧接した後、賦形シートを剥離して、ガラス基板表
面上のガラスペーストをセル障壁形状に成形する成形工
程。 (D) 成形されたガラスペーストを焼成する焼成工程。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9594295A JP3591910B2 (ja) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | プラズマディスプレイパネルのセル障壁製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9594295A JP3591910B2 (ja) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | プラズマディスプレイパネルのセル障壁製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08273538A true JPH08273538A (ja) | 1996-10-18 |
| JP3591910B2 JP3591910B2 (ja) | 2004-11-24 |
Family
ID=14151327
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9594295A Expired - Fee Related JP3591910B2 (ja) | 1995-03-30 | 1995-03-30 | プラズマディスプレイパネルのセル障壁製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3591910B2 (ja) |
Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0802170A3 (en) * | 1996-04-16 | 1997-11-05 | Corning Incorporated | Method and apparatus for forming glass rib structures |
| WO1998018146A1 (en) * | 1996-10-21 | 1998-04-30 | Hitachi, Ltd. | Gas-discharge display panel, method for manufacturing the same, and display device using the same |
| FR2763741A1 (fr) * | 1997-05-22 | 1998-11-27 | Samsung Display Devices Co Ltd | Procede et appareil pour la fabrication d'une cloison d'un dispositif d'affichage a plasma |
| FR2764438A1 (fr) * | 1997-06-10 | 1998-12-11 | Thomson Tubes Electroniques | Procede de realisation d'une couche dielectrique comportant des motifs en relief, sur une dalle de panneau a plasma |
| KR19990012635A (ko) * | 1997-07-30 | 1999-02-25 | 엄길용 | 플라즈마 표시소자의 제조방법 |
| EP0875915A3 (en) * | 1997-04-30 | 1999-06-16 | Kyocera Corporation | Method for manufacturing flat plate with precise bulkhead, flat plate with precise bulkhead, method for manufacturing plasma display unit substrate and plasma display unit substrate |
| EP0878019A4 (en) * | 1996-01-30 | 2000-01-05 | Sarnoff Corp | PLASMA DISPLAY AND THEIR PRODUCTION METHOD |
| US6039619A (en) * | 1997-05-22 | 2000-03-21 | Samsung Display Devices Co., Ltd. | Method and apparatus for manufacturing partition wall of plasma display device |
| KR20030017246A (ko) * | 2001-08-24 | 2003-03-03 | 주식회사 유피디 | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성용 소프트 몰드제작방법 및 그를 이용한 격벽 형성방법 |
| KR100406783B1 (ko) * | 1997-04-08 | 2004-01-24 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마표시소자의격벽제조방법및그장치 |
| WO2004010452A3 (en) * | 2002-07-17 | 2004-06-10 | 3M Innovative Properties Co | Flexible mold and method of manufacturing microstructure using same |
| KR100418866B1 (ko) * | 1997-07-05 | 2004-06-12 | 오리온전기 주식회사 | 평판소자의 기능층 형성방법 |
| US6821178B2 (en) * | 2000-06-08 | 2004-11-23 | 3M Innovative Properties Company | Method of producing barrier ribs for plasma display panel substrates |
| WO2005021260A1 (en) * | 2003-08-22 | 2005-03-10 | 3M Innovative Properties Company | Flexible mold, production method thereof and production method of fine structures |
| KR100488294B1 (ko) * | 1997-11-29 | 2005-07-29 | 오리온전기 주식회사 | 플라즈마표시소자의격벽형성장치 |
| KR100624829B1 (ko) * | 2001-09-27 | 2006-09-18 | 미츠비시 마테리알 가부시키가이샤 | 리브 형성용 블레이드 및, 그것의 제조 방법 |
| JP2007513467A (ja) * | 2003-10-31 | 2007-05-24 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 基板上に微細構造群を形成する方法および同方法に使用される微細構造組立体 |
| US7361409B2 (en) | 2003-08-22 | 2008-04-22 | 3M Innovative Properties Company | Microstructured article comprising a polymerized composition having low glass transition temperature |
| CN100440034C (zh) * | 2001-05-14 | 2008-12-03 | 大日本印刷株式会社 | 投影屏用薄板、光扩散薄板以及投影屏 |
| US7478791B2 (en) | 2005-04-15 | 2009-01-20 | 3M Innovative Properties Company | Flexible mold comprising cured polymerizable resin composition |
| US7943206B2 (en) | 2005-02-17 | 2011-05-17 | 3M Innovative Properties Company | Brightness enhancement film comprising polymerized organic phase having low glass transition temperature |
| CN106129269A (zh) * | 2016-06-24 | 2016-11-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种柔性显示基板的制备方法 |
-
1995
- 1995-03-30 JP JP9594295A patent/JP3591910B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0878019A4 (en) * | 1996-01-30 | 2000-01-05 | Sarnoff Corp | PLASMA DISPLAY AND THEIR PRODUCTION METHOD |
| EP0802170A3 (en) * | 1996-04-16 | 1997-11-05 | Corning Incorporated | Method and apparatus for forming glass rib structures |
| WO1998018146A1 (en) * | 1996-10-21 | 1998-04-30 | Hitachi, Ltd. | Gas-discharge display panel, method for manufacturing the same, and display device using the same |
| EP0837486A3 (en) * | 1996-10-21 | 1998-11-25 | Hitachi, Ltd. | Gas discharge type display panel, manufacturing method for gas discharge type display panel, and displaying arrangement using gas discharge type display panel |
| US6199404B1 (en) | 1996-10-21 | 2001-03-13 | Hitachi, Ltd. | Manufacturing method for gas discharge type display panel |
| KR100406783B1 (ko) * | 1997-04-08 | 2004-01-24 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마표시소자의격벽제조방법및그장치 |
| EP0875915A3 (en) * | 1997-04-30 | 1999-06-16 | Kyocera Corporation | Method for manufacturing flat plate with precise bulkhead, flat plate with precise bulkhead, method for manufacturing plasma display unit substrate and plasma display unit substrate |
| US6039619A (en) * | 1997-05-22 | 2000-03-21 | Samsung Display Devices Co., Ltd. | Method and apparatus for manufacturing partition wall of plasma display device |
| FR2763741A1 (fr) * | 1997-05-22 | 1998-11-27 | Samsung Display Devices Co Ltd | Procede et appareil pour la fabrication d'une cloison d'un dispositif d'affichage a plasma |
| FR2764438A1 (fr) * | 1997-06-10 | 1998-12-11 | Thomson Tubes Electroniques | Procede de realisation d'une couche dielectrique comportant des motifs en relief, sur une dalle de panneau a plasma |
| US6477863B1 (en) | 1997-06-10 | 2002-11-12 | Thomson Multimedia | Method for producing a dielectric coating comprising embossed patterns on a plasma panel faceplate |
| WO1998057348A1 (fr) * | 1997-06-10 | 1998-12-17 | Thomson Tubes Electroniques | Procede de realisation d'une couche dielectrique comportant des motifs en relief, sur une dalle de panneau a plasma |
| KR100418866B1 (ko) * | 1997-07-05 | 2004-06-12 | 오리온전기 주식회사 | 평판소자의 기능층 형성방법 |
| KR19990012635A (ko) * | 1997-07-30 | 1999-02-25 | 엄길용 | 플라즈마 표시소자의 제조방법 |
| KR100488294B1 (ko) * | 1997-11-29 | 2005-07-29 | 오리온전기 주식회사 | 플라즈마표시소자의격벽형성장치 |
| US6821178B2 (en) * | 2000-06-08 | 2004-11-23 | 3M Innovative Properties Company | Method of producing barrier ribs for plasma display panel substrates |
| CN100440034C (zh) * | 2001-05-14 | 2008-12-03 | 大日本印刷株式会社 | 投影屏用薄板、光扩散薄板以及投影屏 |
| KR20030017246A (ko) * | 2001-08-24 | 2003-03-03 | 주식회사 유피디 | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성용 소프트 몰드제작방법 및 그를 이용한 격벽 형성방법 |
| KR100624829B1 (ko) * | 2001-09-27 | 2006-09-18 | 미츠비시 마테리알 가부시키가이샤 | 리브 형성용 블레이드 및, 그것의 제조 방법 |
| WO2004010452A3 (en) * | 2002-07-17 | 2004-06-10 | 3M Innovative Properties Co | Flexible mold and method of manufacturing microstructure using same |
| KR100951278B1 (ko) * | 2002-07-17 | 2010-04-02 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 가요성 주형 및 이를 이용한 미세 구조체의 제조 방법 |
| JP2007503338A (ja) * | 2003-08-22 | 2007-02-22 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 可とう性成形型、その製造方法及び微細構造体の製造方法 |
| US7361409B2 (en) | 2003-08-22 | 2008-04-22 | 3M Innovative Properties Company | Microstructured article comprising a polymerized composition having low glass transition temperature |
| WO2005021260A1 (en) * | 2003-08-22 | 2005-03-10 | 3M Innovative Properties Company | Flexible mold, production method thereof and production method of fine structures |
| JP2007513467A (ja) * | 2003-10-31 | 2007-05-24 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 基板上に微細構造群を形成する方法および同方法に使用される微細構造組立体 |
| US7943206B2 (en) | 2005-02-17 | 2011-05-17 | 3M Innovative Properties Company | Brightness enhancement film comprising polymerized organic phase having low glass transition temperature |
| US7478791B2 (en) | 2005-04-15 | 2009-01-20 | 3M Innovative Properties Company | Flexible mold comprising cured polymerizable resin composition |
| CN106129269A (zh) * | 2016-06-24 | 2016-11-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种柔性显示基板的制备方法 |
| CN106129269B (zh) * | 2016-06-24 | 2019-01-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种柔性显示基板的制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3591910B2 (ja) | 2004-11-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3591910B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルのセル障壁製造方法 | |
| JP3589500B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルパネルのセル障壁製造方法 | |
| CN100441387C (zh) | 软模具以及使用该软模具制造微结构的方法 | |
| US7478791B2 (en) | Flexible mold comprising cured polymerizable resin composition | |
| US20060066007A1 (en) | Methods for forming microstructures on a substrate using a mold | |
| JP2005066836A (ja) | 可とう性成形型及びその製造方法ならびに微細構造体の製造方法 | |
| JP2011049374A (ja) | ナノインプリント方法、パターン形成体、及びナノインプリント装置 | |
| JP3591920B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルのセル障壁製造方法 | |
| JP3440352B2 (ja) | プラズマディスプレイパネル | |
| US7722789B2 (en) | Defoaming method, defoaming device and manufacturing method of transfer mold | |
| JP4179853B2 (ja) | 可とう性成形型及び微細構造体の製造方法 | |
| JP4541061B2 (ja) | 材料転写方法、プラズマディスプレイ用基板の製造方法 | |
| JP4184554B2 (ja) | プラズマディスプレイパネル及びプラズマディスプレイパネル用背面板 | |
| JP3690443B2 (ja) | プラズマディスプレイパネル | |
| JP5324553B2 (ja) | 可とう性成形型 | |
| JPH08276445A (ja) | 高意匠プラスチック成形品の製造方法 | |
| JP3734337B2 (ja) | 面放電交流型プラズマディスプレイパネル | |
| JPH11277864A (ja) | 孔版印刷方法 | |
| JPH0241242A (ja) | 賦型性を有する転写箔及びその製造方法 | |
| JP3475333B2 (ja) | プラズマディスプレイパネル | |
| KR100813847B1 (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널용 격벽 및 이를 포함하는 하판의제조방법 | |
| JP2837226B2 (ja) | 厚膜パターン形成方法 | |
| JP2965216B2 (ja) | 微小物体の製造方法及びその製造に用いる装置 | |
| JPH11296106A (ja) | バリアリブ製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040302 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20040420 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040422 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040609 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040702 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20040810 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040824 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040824 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080903 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 5 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090903 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090903 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100903 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |