JPH08274202A - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents

半導体装置及びその製造方法

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JPH08274202A
JPH08274202A JP7075121A JP7512195A JPH08274202A JP H08274202 A JPH08274202 A JP H08274202A JP 7075121 A JP7075121 A JP 7075121A JP 7512195 A JP7512195 A JP 7512195A JP H08274202 A JPH08274202 A JP H08274202A
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JP
Japan
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wiring
case
cap
heat sink
layer
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JP7075121A
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JP2715974B2 (ja
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Hisanori Yamashita
尚徳 山下
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10WGENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10W72/00Interconnections or connectors in packages
    • H10W72/851Dispositions of multiple connectors or interconnections
    • H10W72/874On different surfaces
    • H10W72/877Bump connectors and die-attach connectors

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  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】ケースとキャップの位置合わせ精度が高く、多
ピン化,小型化が達成できる低熱抵抗半導体装置及びそ
の製造方法を提供する。 【構成】キャップ5をケース14の配線と配線スルーホ
ール3を介して接続する配線層13を有する多層配線構
造とし、底面にこの配線層13に接続するBGAの外部
接続端子4を配置し、ケース14とキャップ5を位置決
めの突起12をキャップ5のキャビティに落し込んで位
置合わせし封止する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置及びその製造
方法に関し、特に低熱抵抗タイプのセラミックボールグ
リッドアレイ半導体装置及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の低熱抵抗タイプのセラミックボー
ルグリッドアレイ(以下、BGAと記す)として特開平
1−155633号公報に開示されたように半導体チッ
プ(以下、チップと記す)のパッドに半田ボールを形成
し柔軟性のある導体を介して外部素子に接続するという
技術がある。この技術は図2に示すように、例えば、チ
ップ2はセラミックケース14内でフェイスダウンに搭
載され、チップ2のパッドには半田ボール9が接続して
いる。この半田ボール9に柔構造配線7を介してケース
14の半田ボール8もしくはAuボールで接続してい
る。さらに、この半田ボール8は配線スルーホール10
を介しケース14の外部接続端子11へ導出される構成
となっている。
【0003】従来技術の他の例としてはチップをフェイ
スダウンにヒートシンクに搭載し、チップの上面以外の
周囲の部分に外部接続端子を設けるという技術がある。
この技術は図3(a),(b)に示すように、ヒートシ
ンク1にチップ2をフェイスダウンに搭載し、キャップ
5で封止してケース14のキャップ5の周囲に外部接続
端子を配置する構成となっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
この従来の柔構造導体を使用している場合には外部接続
端子のピッチが広くなり、多ピン化が困難であるという
問題点がある。
【0005】一方、従来技術の他の例では、ケースのキ
ャップの周囲に外部接続端子が配置されているので、チ
ップと対応するキャップ5の面に外部接続端子を配置す
ることが困難であり、多ピン化ならびに小型化が困難で
あるという問題点がある。
【0006】本発明の目的は、多ピン化ならびに小型化
が可能な半導体装置及びその製造方法を提供することに
ある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置は、
ヒートシンクと、このヒートシンクを含んで構成される
ケースと、前記ヒートシンクにフェイスダウン搭載され
た半導体チップと、配線層とこの配線層と前記ケースの
配線とを接続する配線スルーホールとを含んで構成され
多層配線構造を形成し底面にボールグリッドアレイの外
部接続端子を備えたキャップと、前記ケースにとりつけ
られこのケースの前記キャップとの位置合わせを行う位
置決めの突起とを有することを特徴とする。
【0008】本発明の半導体装置の製造方法は、ヒート
シンクと、このヒートシンクを含んで構成されるケース
と、前記ヒートシンクにフェイスダウン搭載された半導
体チップと、配線層とこの配線層と前記ケースの配線と
を接続する配線スルーホールとを含んで構成され多層配
線構造を形成し底面にボールグリッドアレイの外部接続
端子を備えたキャップと、前記ケースにとりつけられこ
のケースの前記キャップとの位置合わせを行う位置決め
の突起とを有し、前記ケースに前記キャップをとりつけ
る工程を含む半導体装置の製造方法において、前記位置
決めの突起を位置決めし前記キャップのキャビティに落
し込みガラス等により位置決めの突起の内側のみを封止
する工程と、前記ケースの配線と前記多層配線構造で底
面にボールグリッドアレイの外部接続端子を備えたキャ
ップの配線スルーホールとをAu−Snシールで接続す
る工程とを含むことを特徴とする。
【0009】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
【0010】図1(a),(b)は本発明の一実施例の
半導体装置の断面図および底面図である。本発明の一実
施例の半導体装置は、図1(a),(b)に示すよう
に、まず、ヒートシンク1の付いたケース14のヒート
シンク1にチップ2をAgペーストもしくはAu−Si
共晶合金によりフェイスダウンに搭載する。ヒートシン
ク1の材料としては、Cu−WもしくはCu−Moなど
を用いるとよい。次に、配線スルーホール3,配線層1
3により構成され多層配線構造を形成し外部接続端子4
が配置されたキャップ5をとりつける。多層配線構造
は、現在用いられているセラミックケース,基板の多層
構造と同様に形成できる。また、外部接続端子4は、C
uめっき,Auめっきにより容易に形成できる。次に、
位置決めの突起12をキャップ5のキャビティに落し込
む。この際、ガラス等により位置決めの突起12の内側
のみを封止する。同時に、ケース14の配線と多層配線
構造で外部接続端子が配置されたキャップ5をAu−S
nシールで接続する。Au−SnシールはAu−Sn片
を用いてもよいが、多ピンで個数が多いため、ブレージ
ングによりケース14側かキャップ5側のうちのいずれ
か一方の側につけておけば容易にシールできる。
【0011】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、キャップ
を多層配線構造とし底面にBGAの外部接続端を配置
し、ケース14とキャップ5を位置決めの突起をキャッ
プのキャビティに落し込んで位置合わせし封止したの
で、ケースとキャップの位置合わせ精度が高く、多ピン
化,小型化が達成できるという効果がある。外部接続端
子としては、0.4〜0.5mmピッチのBGAが可能
であり、大きさも10mm2で144ピンクラスが十分
可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a),(b)は本発明の一実施例の断面図及
び底面図である。
【図2】従来の多層印刷配線板の一例の断面図である。
【図3】(a),(b)は従来の多層印刷配線板の他の
例の断面図及び底面図である。
【符号の説明】
1 ヒートシンク 2 チップ 3,10 配線スルーホール 4,11 外部接続端子 5 キャップ 6 ワイヤ 7 柔構造配線 8,9 半田ボール 12 位置決めの突起 13 配線層 14 ケース

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ヒートシンクと、このヒートシンクを含
    んで構成されるケースと、前記ヒートシンクにフェイス
    ダウン搭載された半導体チップと、配線層とこの配線層
    と前記ケースの配線とを接続する配線スルーホールとを
    含んで構成され多層配線構造を形成し底面にボールグリ
    ッドアレイの外部接続端子を備えたキャップと、前記ケ
    ースにとりつけられこのケースの前記キャップとの位置
    合わせを行う位置決めの突起とを有することを特徴とす
    る半導体装置。
  2. 【請求項2】 ヒートシンクと、このヒートシンクを含
    んで構成されるケースと、前記ヒートシンクにフェイス
    ダウン搭載された半導体チップと、配線層とこの配線層
    と前記ケースの配線とを接続する配線スルーホールとを
    含んで構成され多層配線構造を形成し底面にボールグリ
    ッドアレイの外部接続端子を備えたキャップと、前記ケ
    ースにとりつけられこのケースの前記キャップとの位置
    合わせを行う位置決めの突起とを有し、前記ケースに前
    記キャップをとりつける工程を含む半導体装置の製造方
    法において、前記位置決めの突起を位置決めし前記キャ
    ップのキャビティに落し込みガラス等により位置決めの
    突起の内側のみを封止する工程と、前記ケースの配線と
    前記多層配線構造で底面にボールグリッドアレイの外部
    接続端子を備えたキャップの配線スルーホールとをAu
    −Snシールで接続する工程とを含むことを特徴とする
    半導体装置の製造方法。
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JPH08274202A true JPH08274202A (ja) 1996-10-18
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016069265A (ja) * 2014-09-29 2016-05-09 日本碍子株式会社 筐体を構成するセラミックス製のパッケージ部材とセラミックス製の蓋部材とを接合するための接合方法
CN110544632A (zh) * 2019-08-01 2019-12-06 中国电子科技集团公司第二十九研究所 在具有双面腔体的ltcc基板的封装盖板上制作bga焊盘的方法

Cited By (3)

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JP2016069265A (ja) * 2014-09-29 2016-05-09 日本碍子株式会社 筐体を構成するセラミックス製のパッケージ部材とセラミックス製の蓋部材とを接合するための接合方法
CN110544632A (zh) * 2019-08-01 2019-12-06 中国电子科技集团公司第二十九研究所 在具有双面腔体的ltcc基板的封装盖板上制作bga焊盘的方法
CN110544632B (zh) * 2019-08-01 2021-01-29 中国电子科技集团公司第二十九研究所 在具有双面腔体的ltcc基板的封装盖板上制作bga焊盘的方法

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JP2715974B2 (ja) 1998-02-18

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Effective date: 19971007