JPH08281177A - 塗布液の塗布装置及びその塗布方法 - Google Patents
塗布液の塗布装置及びその塗布方法Info
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- JPH08281177A JPH08281177A JP9226795A JP9226795A JPH08281177A JP H08281177 A JPH08281177 A JP H08281177A JP 9226795 A JP9226795 A JP 9226795A JP 9226795 A JP9226795 A JP 9226795A JP H08281177 A JPH08281177 A JP H08281177A
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Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 簡単な構成により塗布液が所定高さにまで到
達しても液面に波打ち現象が生じず、商品性に優れた塗
布膜の得られる塗布液の塗布装置及びその塗布方法を提
供する。 【構成】 1はバルブ内径が2〜10mmのガラスバル
ブであって、上端開口部1aには吸引パッド2が着脱自
在なるように密接されている。この吸引パッド2は、中
心に吸引孔3a及び4aを有する第1のパッド3及び第
2のパッド4から構成されており、真空経路5,減圧弁
6,電磁弁7を介して真空ポンプ8が接続されている。
又、ガラスバルブ1の上端部分の側方には、液面センサ
9が配置されており、塗布液面の検出に基づいて出力さ
れる信号によって電磁弁7が開閉制御される。一方、ガ
ラスバルブ1の下端開口部1bは塗布液槽10に、塗布
液11に浸漬されるように配置されている。
達しても液面に波打ち現象が生じず、商品性に優れた塗
布膜の得られる塗布液の塗布装置及びその塗布方法を提
供する。 【構成】 1はバルブ内径が2〜10mmのガラスバル
ブであって、上端開口部1aには吸引パッド2が着脱自
在なるように密接されている。この吸引パッド2は、中
心に吸引孔3a及び4aを有する第1のパッド3及び第
2のパッド4から構成されており、真空経路5,減圧弁
6,電磁弁7を介して真空ポンプ8が接続されている。
又、ガラスバルブ1の上端部分の側方には、液面センサ
9が配置されており、塗布液面の検出に基づいて出力さ
れる信号によって電磁弁7が開閉制御される。一方、ガ
ラスバルブ1の下端開口部1bは塗布液槽10に、塗布
液11に浸漬されるように配置されている。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は塗布液の塗布装置及び
その塗布方法に関し、特に液晶表示装置に適用されるバ
ックライトユニットの冷陰極蛍光ランプにおけるガラス
バルブへの蛍光体塗布液の真空吸引による塗布装置並び
にその塗布方法の改良に関する。
その塗布方法に関し、特に液晶表示装置に適用されるバ
ックライトユニットの冷陰極蛍光ランプにおけるガラス
バルブへの蛍光体塗布液の真空吸引による塗布装置並び
にその塗布方法の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、液晶表示装置に適用されるバッ
クライトユニットの光源には、冷陰極蛍光ランプが小形
化に適していることから広く採用されている。
クライトユニットの光源には、冷陰極蛍光ランプが小形
化に適していることから広く採用されている。
【0003】この冷陰極蛍光ランプは、例えばバルブ内
径が6mm程度のガラスバルブの内面に発光層を形成す
ると共に、ガラスバルブのそれぞれの端部に電極を封止
・配置して構成されている。
径が6mm程度のガラスバルブの内面に発光層を形成す
ると共に、ガラスバルブのそれぞれの端部に電極を封止
・配置して構成されている。
【0004】この冷陰極蛍光ランプにおいて、発光層
は、例えば図5に示す塗布装置を用いて形成されてい
る。即ち、まず、直立状態に支持されたガラスバルブA
の上端開口部に塗布ヘッドBを配置する。次に、操作杆
Caを手による押圧操作によって弁Cを図示点線位置ま
で押し下げると、図示矢印のように蛍光体塗布液が流れ
る。そして、塗布液はガラスバルブAの内面に沿って流
れ落ちることによって、その内面に塗布膜が形成され
る。然る後、乾燥し、500〜600℃程度の温度にて
焼成することにより発光層が形成される。
は、例えば図5に示す塗布装置を用いて形成されてい
る。即ち、まず、直立状態に支持されたガラスバルブA
の上端開口部に塗布ヘッドBを配置する。次に、操作杆
Caを手による押圧操作によって弁Cを図示点線位置ま
で押し下げると、図示矢印のように蛍光体塗布液が流れ
る。そして、塗布液はガラスバルブAの内面に沿って流
れ落ちることによって、その内面に塗布膜が形成され
る。然る後、乾燥し、500〜600℃程度の温度にて
焼成することにより発光層が形成される。
【0005】この装置によれば、ガラスバルブAに良好
な発光層を形成できるものであるが、ガラスバルブの内
径が例えば3mmのように細径化されると、上述の塗布
装置もガラスバルブ内に挿入できる程度に細くしなけれ
ばならない。これに応じて、弁Cも極めて細くなるため
に、操作時に弁Cが変形し易くなる。従って、塗布液の
流出量が一定になるような制御ができなくなり、塗布膜
の膜厚にバラツキが生じて輝度分布の均一性が得られな
くなったり、さらには塗布膜にすじ状の膜不良などが発
生し塗布不良が20%にも達するという問題がある。
な発光層を形成できるものであるが、ガラスバルブの内
径が例えば3mmのように細径化されると、上述の塗布
装置もガラスバルブ内に挿入できる程度に細くしなけれ
ばならない。これに応じて、弁Cも極めて細くなるため
に、操作時に弁Cが変形し易くなる。従って、塗布液の
流出量が一定になるような制御ができなくなり、塗布膜
の膜厚にバラツキが生じて輝度分布の均一性が得られな
くなったり、さらには塗布膜にすじ状の膜不良などが発
生し塗布不良が20%にも達するという問題がある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って、このような問
題を解決するために、図6に示すように真空吸引を利用
した吸い上げ方式の塗布装置が提案されている。
題を解決するために、図6に示すように真空吸引を利用
した吸い上げ方式の塗布装置が提案されている。
【0007】この装置は、直立状態に支持されたガラス
バルブAの上端開口部に密接された、内部にテ−パ−状
の吸引孔Daを有する吸引パッドDと、この吸引パッド
Dに真空経路E,減圧弁F,電磁弁Gを介して接続され
た真空ポンプHと、ガラスバルブAの下端開口部が塗布
液Kに浸漬されるように配置した塗布液槽Jとから構成
されている。
バルブAの上端開口部に密接された、内部にテ−パ−状
の吸引孔Daを有する吸引パッドDと、この吸引パッド
Dに真空経路E,減圧弁F,電磁弁Gを介して接続され
た真空ポンプHと、ガラスバルブAの下端開口部が塗布
液Kに浸漬されるように配置した塗布液槽Jとから構成
されている。
【0008】この装置による発光層の形成は、次のよう
に行われる。まず、同図に示すように、ガラスバルブA
の下端開口部を塗布液Kに浸漬した状態で真空ポンプH
を駆動させると共に電磁弁Gを作動させると、真空経路
E及びガラスバルブAの内部が減圧される。このため
に、塗布液KはガラスバルブAの内部を充実させなが
ら、その液面を上昇させる。そして、液面が所定の高さ
にまで達したならば、電磁弁Fを遮断すると、真空経路
Eの真空度が急速に低下してしまう。このために、ガラ
スバルブ内の液面は降下し、塗布液槽Jにおける塗布液
Kの液面とほぼ同一になる。この際に、ガラスバルブA
の内面には蛍光体の塗布膜が形成される。以下、上述方
法と同様の工程を経て発光層が形成される。
に行われる。まず、同図に示すように、ガラスバルブA
の下端開口部を塗布液Kに浸漬した状態で真空ポンプH
を駆動させると共に電磁弁Gを作動させると、真空経路
E及びガラスバルブAの内部が減圧される。このため
に、塗布液KはガラスバルブAの内部を充実させなが
ら、その液面を上昇させる。そして、液面が所定の高さ
にまで達したならば、電磁弁Fを遮断すると、真空経路
Eの真空度が急速に低下してしまう。このために、ガラ
スバルブ内の液面は降下し、塗布液槽Jにおける塗布液
Kの液面とほぼ同一になる。この際に、ガラスバルブA
の内面には蛍光体の塗布膜が形成される。以下、上述方
法と同様の工程を経て発光層が形成される。
【0009】この方法によれば、ガラスバルブが細径化
されても、その内面に良好な塗布膜を形成でき、塗布不
良を大幅に低減できるものである。
されても、その内面に良好な塗布膜を形成でき、塗布不
良を大幅に低減できるものである。
【0010】しかしながら、塗布液が所定高さにまで到
達した際に、その液面が図6に示すように波打って一定
にならないという現象が生ずる。このままでランプ化す
ると、バルブ軸方向の輝度分布が均一になりにくい上、
商品性も損なわれる。従って、発光層の形成後に、図示
しないスクレ−パ−によって波打ち部分の発光層を一部
削りとって修正しているために、作業性が阻害されると
いう問題がある。
達した際に、その液面が図6に示すように波打って一定
にならないという現象が生ずる。このままでランプ化す
ると、バルブ軸方向の輝度分布が均一になりにくい上、
商品性も損なわれる。従って、発光層の形成後に、図示
しないスクレ−パ−によって波打ち部分の発光層を一部
削りとって修正しているために、作業性が阻害されると
いう問題がある。
【0011】それ故に、本発明の目的は、簡単な構成に
より塗布液が所定高さにまで到達しても液面に波打ち現
象が生じず、商品性に優れた塗布膜の得られる塗布液の
塗布装置及びその塗布方法を提供することにある。
より塗布液が所定高さにまで到達しても液面に波打ち現
象が生じず、商品性に優れた塗布膜の得られる塗布液の
塗布装置及びその塗布方法を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】従って、本発明は、上述
の目的を達成するために、バルブ内径が2〜10mmの
ガラスバルブを直立状態に支持する支持手段と、支持手
段にて支持されたガラスバルブの上端開口部に当接する
吸引パッドと、吸引パッドに接続した真空系と、ガラス
バルブの下端開口部が塗布液に浸漬されるように配置し
た塗布液槽と、ガラスバルブ上端の側方に配置し、塗布
液の液面が所定高さになった時にそれの出力信号に基づ
いて真空系を遮断する液面センサとを具備し、前記吸引
パッドは、真空系に連通する吸引孔を有し、その吸引孔
の大きさをガラスバルブの内径の1〜25%の範囲に設
定したものであり、本発明の第2の発明は、前記吸引パ
ッドにおける吸引孔の大きさをガラスバルブ内径の5〜
20%の範囲に設定したものであり、第3の発明は、前
記吸引パッドのガラスバルブに当接する部分を弾力性な
いし柔軟性を有する部材にて構成したものであり、第4
の発明は、前記真空系を、少なくとも真空経路,減圧
弁,電磁弁,真空ポンプにて構成したことを特徴とし、
さらに第5の発明は、前記電磁弁を、液面センサの液面
検出信号に基づいて制御することを特徴とする。
の目的を達成するために、バルブ内径が2〜10mmの
ガラスバルブを直立状態に支持する支持手段と、支持手
段にて支持されたガラスバルブの上端開口部に当接する
吸引パッドと、吸引パッドに接続した真空系と、ガラス
バルブの下端開口部が塗布液に浸漬されるように配置し
た塗布液槽と、ガラスバルブ上端の側方に配置し、塗布
液の液面が所定高さになった時にそれの出力信号に基づ
いて真空系を遮断する液面センサとを具備し、前記吸引
パッドは、真空系に連通する吸引孔を有し、その吸引孔
の大きさをガラスバルブの内径の1〜25%の範囲に設
定したものであり、本発明の第2の発明は、前記吸引パ
ッドにおける吸引孔の大きさをガラスバルブ内径の5〜
20%の範囲に設定したものであり、第3の発明は、前
記吸引パッドのガラスバルブに当接する部分を弾力性な
いし柔軟性を有する部材にて構成したものであり、第4
の発明は、前記真空系を、少なくとも真空経路,減圧
弁,電磁弁,真空ポンプにて構成したことを特徴とし、
さらに第5の発明は、前記電磁弁を、液面センサの液面
検出信号に基づいて制御することを特徴とする。
【0013】又、本発明の第6の発明は、バルブ内径が
2〜10mmのガラスバルブを直立状態に支持する工程
と、ガラスバルブの下端開口部を粘度が50〜200c
psの塗布液に浸漬させる工程と、ガラスバルブの上端
開口部に、ガラスバルブ内径の1〜25%の範囲に設定
された吸引孔を有する吸引パッドを密接する工程と、吸
引パッドを真空系に接続し塗布液をガラスバルブの所定
高さまで吸い上げた後、真空系を遮断する工程とを含む
ことを特徴とし、第7の発明は、前記吸引パッドにおけ
る吸引孔の大きさをガラスバルブ内径の5〜20%の範
囲に設定したことを特徴とし、第8の発明は、前記吸引
パッド部分における真空度を5〜10Kパスカルの範囲
に設定したことを特徴とする。
2〜10mmのガラスバルブを直立状態に支持する工程
と、ガラスバルブの下端開口部を粘度が50〜200c
psの塗布液に浸漬させる工程と、ガラスバルブの上端
開口部に、ガラスバルブ内径の1〜25%の範囲に設定
された吸引孔を有する吸引パッドを密接する工程と、吸
引パッドを真空系に接続し塗布液をガラスバルブの所定
高さまで吸い上げた後、真空系を遮断する工程とを含む
ことを特徴とし、第7の発明は、前記吸引パッドにおけ
る吸引孔の大きさをガラスバルブ内径の5〜20%の範
囲に設定したことを特徴とし、第8の発明は、前記吸引
パッド部分における真空度を5〜10Kパスカルの範囲
に設定したことを特徴とする。
【0014】
【作用】上述の構成によれば、ガラスバルブの上端開口
部に、バルブ内径の1〜25%の範囲に設定された吸引
孔を有する吸引パッドを当接すると共に、下端開口部を
塗布液に浸漬した状態において、吸引パッドを介してガ
ラスバルブ内を減圧すると、ガラスバルブ内は塗布液で
所定高さまで充実される。その後、減圧を解除すること
により、塗布液面は降下してガラスバルブ内面には塗布
膜が形成される。特に、吸引孔はバルブ内径の1〜25
%の範囲に設定されているために、塗布液が所定高さま
で到達しても液面の波打ち現象はなく、均一高さの塗布
膜が得られる。
部に、バルブ内径の1〜25%の範囲に設定された吸引
孔を有する吸引パッドを当接すると共に、下端開口部を
塗布液に浸漬した状態において、吸引パッドを介してガ
ラスバルブ内を減圧すると、ガラスバルブ内は塗布液で
所定高さまで充実される。その後、減圧を解除すること
により、塗布液面は降下してガラスバルブ内面には塗布
膜が形成される。特に、吸引孔はバルブ内径の1〜25
%の範囲に設定されているために、塗布液が所定高さま
で到達しても液面の波打ち現象はなく、均一高さの塗布
膜が得られる。
【0015】
【実施例】次に、本発明の1実施例について図1を参照
して説明する。同図において、1はバルブ内径が2〜1
0mmの硼・珪酸ガラスよりなるガラスバルブであっ
て、図示しない支持手段によって直立状態に支持されて
いる。尚、ガラスバルブ1は硼・珪酸ガラスの他、ソ−
ダガラス,鉛ガラス,低鉛ガラスなども使用できる。こ
のガラスバルブ1の上端開口部1aには吸引パッド2が
着脱自在なるように密接(当接)されている。この吸引
パッド2は、例えば中心に吸引孔3a及び4aを有する
第1のパッド3及び第2のパッド4から構成されてい
る。例えば第1のパッド3はシリコンゴムにて、第2の
パッド4はスポンジにて形成されており、それぞれの吸
引孔3a,4aの大きさはバルブ内径の1〜25%の範
囲に設定されているが、5〜20%の範囲が好ましい。
尚、それぞれのパッドの構成部材は、シリコンゴム,ス
ポンジ以外の弾力性ないし柔軟性を有する部材を適用す
ることもできる。この吸引パッド2には、真空経路5,
減圧弁6,電磁弁7を介して真空ポンプ8が接続されて
いる。又、ガラスバルブ1の上端部分の側方には、液面
センサ9が配置されており、塗布液面の検出に基づいて
出力される信号によって電磁弁7が開閉制御される。一
方、ガラスバルブ1の下端開口部1bは塗布液槽10
に、塗布液11に浸漬されるように配置されている。こ
の塗布液11は、例えば蛍光体,バインダ,溶剤にて構
成されており、粘度は50〜200cps好ましくは1
00〜150cpsの範囲に設定されている。
して説明する。同図において、1はバルブ内径が2〜1
0mmの硼・珪酸ガラスよりなるガラスバルブであっ
て、図示しない支持手段によって直立状態に支持されて
いる。尚、ガラスバルブ1は硼・珪酸ガラスの他、ソ−
ダガラス,鉛ガラス,低鉛ガラスなども使用できる。こ
のガラスバルブ1の上端開口部1aには吸引パッド2が
着脱自在なるように密接(当接)されている。この吸引
パッド2は、例えば中心に吸引孔3a及び4aを有する
第1のパッド3及び第2のパッド4から構成されてい
る。例えば第1のパッド3はシリコンゴムにて、第2の
パッド4はスポンジにて形成されており、それぞれの吸
引孔3a,4aの大きさはバルブ内径の1〜25%の範
囲に設定されているが、5〜20%の範囲が好ましい。
尚、それぞれのパッドの構成部材は、シリコンゴム,ス
ポンジ以外の弾力性ないし柔軟性を有する部材を適用す
ることもできる。この吸引パッド2には、真空経路5,
減圧弁6,電磁弁7を介して真空ポンプ8が接続されて
いる。又、ガラスバルブ1の上端部分の側方には、液面
センサ9が配置されており、塗布液面の検出に基づいて
出力される信号によって電磁弁7が開閉制御される。一
方、ガラスバルブ1の下端開口部1bは塗布液槽10
に、塗布液11に浸漬されるように配置されている。こ
の塗布液11は、例えば蛍光体,バインダ,溶剤にて構
成されており、粘度は50〜200cps好ましくは1
00〜150cpsの範囲に設定されている。
【0016】次に、ガラスバルブへの発光層の形成方法
について図1〜図4を参照して説明する。まず、図1に
示すように、ガラスバルブ1を支持手段にて直立状態に
支持すると共に、下端開口部1bを塗布液11に1〜3
mm程度浸漬させる。そして、ガラスバルブ1の上端開
口部1aに吸引パッド2における第2のパッド4を密接
させる。次に、図2に示すように、真空ポンプ8を駆動
させるか、又は真空ポンプ8は駆動させたままで電磁弁
7を図示しないスイッチによって作動させる。これによ
って、減圧弁6を介して真空経路5,ガラスバルブ1は
大気圧より減圧状態になる。従って、塗布液11は、ガ
ラスバルブ1の内部を充実させながら上昇する。そし
て、液面が所定高さに到達すると、液面センサ9が液面
を検出して検出信号を出力する。この出力信号に基づい
て電磁弁7が閉成動作し、真空吸引を停止させる。この
結果、液面は、図3に示すように、降下する。この際
に、ガラスバルブ1の内面には塗布膜11aが形成され
る。次に、ガラスバルブ1から吸引パッド2を除去する
と共に、ガラスバルブを支持手段から取り外し、下端部
分の外面に付着している塗布液を除去する。そして、こ
の塗布膜11aを乾燥した後、焼成することによって図
4に示すように発光層11bが形成される。
について図1〜図4を参照して説明する。まず、図1に
示すように、ガラスバルブ1を支持手段にて直立状態に
支持すると共に、下端開口部1bを塗布液11に1〜3
mm程度浸漬させる。そして、ガラスバルブ1の上端開
口部1aに吸引パッド2における第2のパッド4を密接
させる。次に、図2に示すように、真空ポンプ8を駆動
させるか、又は真空ポンプ8は駆動させたままで電磁弁
7を図示しないスイッチによって作動させる。これによ
って、減圧弁6を介して真空経路5,ガラスバルブ1は
大気圧より減圧状態になる。従って、塗布液11は、ガ
ラスバルブ1の内部を充実させながら上昇する。そし
て、液面が所定高さに到達すると、液面センサ9が液面
を検出して検出信号を出力する。この出力信号に基づい
て電磁弁7が閉成動作し、真空吸引を停止させる。この
結果、液面は、図3に示すように、降下する。この際
に、ガラスバルブ1の内面には塗布膜11aが形成され
る。次に、ガラスバルブ1から吸引パッド2を除去する
と共に、ガラスバルブを支持手段から取り外し、下端部
分の外面に付着している塗布液を除去する。そして、こ
の塗布膜11aを乾燥した後、焼成することによって図
4に示すように発光層11bが形成される。
【0017】この方法によれば、吸引パッド2における
吸引孔3a,4aの大きさ(孔径)は、バルブ内径の1
〜25%の範囲に設定されているために、塗布液11の
液面がガラスバルブ1の上端開口部1aの近辺にまで上
昇しても、液面の波打ち現象は発生しない。従って、発
光層11bの高さが均一となり、輝度分布に好影響を及
ぼす。特に、その設定範囲が5〜20%の場合に、顕著
である。
吸引孔3a,4aの大きさ(孔径)は、バルブ内径の1
〜25%の範囲に設定されているために、塗布液11の
液面がガラスバルブ1の上端開口部1aの近辺にまで上
昇しても、液面の波打ち現象は発生しない。従って、発
光層11bの高さが均一となり、輝度分布に好影響を及
ぼす。特に、その設定範囲が5〜20%の場合に、顕著
である。
【0018】又、ガラスバルブ1の上端側方には、液面
センサ9が配置されているために、塗布液の液面が所定
の高さにまで到達すると、直ちに作動して真空系(例え
ば電磁弁7)を遮断する。このために、液面高さを常に
一定に維持できるのみならず、塗布液の真空系への侵入
をも防止できる。
センサ9が配置されているために、塗布液の液面が所定
の高さにまで到達すると、直ちに作動して真空系(例え
ば電磁弁7)を遮断する。このために、液面高さを常に
一定に維持できるのみならず、塗布液の真空系への侵入
をも防止できる。
【0019】さらには、塗布液11の粘度が50〜20
0cpsに設定されているために、塗布膜11aの塗り
肌がよい上、ピ−リングの発生もなく、優れた外観特性
が得られるのみならず、作業性も改善できる。
0cpsに設定されているために、塗布膜11aの塗り
肌がよい上、ピ−リングの発生もなく、優れた外観特性
が得られるのみならず、作業性も改善できる。
【0020】次に、本発明者らは、バルブ内径が6m
m,長さが300mmの硼珪酸ガラスを直立状態に支持
し、その下端を3mmだけ粘度が100cpsの蛍光体
塗布液に浸漬すると共に上端開口部に吸引パッドを密接
させて上述の塗布方法にて塗布液を塗布し、バルブ内径
に対する吸引パッドにおける吸引孔の大きさ(%)と塗
布性(塗布作業のやりやすさ),塗布液面の波立ちとの
関係について検討したところ、表1に示す結果が得られ
た。
m,長さが300mmの硼珪酸ガラスを直立状態に支持
し、その下端を3mmだけ粘度が100cpsの蛍光体
塗布液に浸漬すると共に上端開口部に吸引パッドを密接
させて上述の塗布方法にて塗布液を塗布し、バルブ内径
に対する吸引パッドにおける吸引孔の大きさ(%)と塗
布性(塗布作業のやりやすさ),塗布液面の波立ちとの
関係について検討したところ、表1に示す結果が得られ
た。
【0021】
【表1】
【0022】この結果によれば、NO1バルブは、塗布
液の吸い上げに長い時間を要し作業性が著しく低く、生
産工程への適用は難しい。NO2〜NO9バルブは一応
量産性に耐えられるものであることを示している。又、
波立ちについては、NO1〜NO8バルブは実用上支障
となるような波立ちはないが、NO9バルブで生じてい
る。従って、吸引孔の大きさは、1.0〜25.0%の
範囲が望ましい。
液の吸い上げに長い時間を要し作業性が著しく低く、生
産工程への適用は難しい。NO2〜NO9バルブは一応
量産性に耐えられるものであることを示している。又、
波立ちについては、NO1〜NO8バルブは実用上支障
となるような波立ちはないが、NO9バルブで生じてい
る。従って、吸引孔の大きさは、1.0〜25.0%の
範囲が望ましい。
【0023】又、本発明者らは、バルブ内径が6mmの
硼珪酸ガラスを用いると共に吸引パッドの吸引孔の大き
さを5%に設定し、塗布液の粘度と塗布性,塗布膜にお
ける塗り肌,ピ−リングとの関係について検討したとこ
ろ、表2に示す結果が得られた。
硼珪酸ガラスを用いると共に吸引パッドの吸引孔の大き
さを5%に設定し、塗布液の粘度と塗布性,塗布膜にお
ける塗り肌,ピ−リングとの関係について検討したとこ
ろ、表2に示す結果が得られた。
【0024】
【表2】
【0025】この結果によれば、NO10〜21バルブ
は塗布液の粘度が40〜200cpsの範囲において塗
布性及びピ−リングについて優れた結果が得られている
が、塗り肌についてはNO12〜NO22バルブが優れ
た結果が得られている。従って、塗布液の粘度は50〜
200cpsの範囲に設定することが望ましい。
は塗布液の粘度が40〜200cpsの範囲において塗
布性及びピ−リングについて優れた結果が得られている
が、塗り肌についてはNO12〜NO22バルブが優れ
た結果が得られている。従って、塗布液の粘度は50〜
200cpsの範囲に設定することが望ましい。
【0026】しかしながら、塗布液の粘度が50csp
未満になると、塗り肌が悪くなり実用に供し得なくなる
し、逆に200cpsを越えると、塗布スピ−ドが遅く
塗布性が損なわれるのみならずピ−リングも発生し易く
なり好ましくない。又、吸引孔のバルブ内径に対する大
きさは1%未満になると、吸引孔に異物が詰まり易くな
る上に塗布スピ−ドが遅く塗布性が損なわれるし、逆に
25%を越えると、塗布液面が踊って波立ち外観性に優
れた塗布膜が得られなくなる。さらに、バルブ内径は2
mm未満になると、塗布膜の形成自体が困難になるし、
逆に10mmを越えると、機械的強度の大きい塗布ヘッ
ド(図5参照)の使用が可能となり、真空を利用した吸
い上げ塗布方法を採用する必要性がなくなる。
未満になると、塗り肌が悪くなり実用に供し得なくなる
し、逆に200cpsを越えると、塗布スピ−ドが遅く
塗布性が損なわれるのみならずピ−リングも発生し易く
なり好ましくない。又、吸引孔のバルブ内径に対する大
きさは1%未満になると、吸引孔に異物が詰まり易くな
る上に塗布スピ−ドが遅く塗布性が損なわれるし、逆に
25%を越えると、塗布液面が踊って波立ち外観性に優
れた塗布膜が得られなくなる。さらに、バルブ内径は2
mm未満になると、塗布膜の形成自体が困難になるし、
逆に10mmを越えると、機械的強度の大きい塗布ヘッ
ド(図5参照)の使用が可能となり、真空を利用した吸
い上げ塗布方法を採用する必要性がなくなる。
【0027】尚、本発明は、何ら上記実施例に制約され
ることなく、例えば塗布液はガラスバルブの1本づつに
塗布する他、複数の吸引パッドを使用して複数のガラス
バルブについて一括して塗布することもできる。又、塗
布液は有機溶剤を用いたものの他、水溶性バインダを用
いたものも使用できる。特に、水溶性バインダを用いた
塗布液を適用する場合、塗布液中の泡が効果的に真空脱
泡できる関係で、良好な塗布膜が得られる。又、液面セ
ンサは光反射形の他、透過形なども使用できるし、或い
はその他のセンサを適用することもできる。さらには、
真空系の減圧弁や第2のパッドは、場合によって省略す
ることができる。
ることなく、例えば塗布液はガラスバルブの1本づつに
塗布する他、複数の吸引パッドを使用して複数のガラス
バルブについて一括して塗布することもできる。又、塗
布液は有機溶剤を用いたものの他、水溶性バインダを用
いたものも使用できる。特に、水溶性バインダを用いた
塗布液を適用する場合、塗布液中の泡が効果的に真空脱
泡できる関係で、良好な塗布膜が得られる。又、液面セ
ンサは光反射形の他、透過形なども使用できるし、或い
はその他のセンサを適用することもできる。さらには、
真空系の減圧弁や第2のパッドは、場合によって省略す
ることができる。
【0028】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、吸引パ
ッドにおける吸引孔の大きさ(孔径)は、バルブ内径の
1〜25%の範囲に設定されているために、塗布液の液
面がガラスバルブの上端開口部の近辺にまで上昇して
も、液面での波打ち現象の発生を抑制できる。従って、
塗布膜の境界線が真直ぐに形成されて作業性,外観特性
を向上できるのみならず、軸方向の輝度分布にも好影響
を及ぼす。特に、その設定範囲が5〜20%の場合に、
顕著である。
ッドにおける吸引孔の大きさ(孔径)は、バルブ内径の
1〜25%の範囲に設定されているために、塗布液の液
面がガラスバルブの上端開口部の近辺にまで上昇して
も、液面での波打ち現象の発生を抑制できる。従って、
塗布膜の境界線が真直ぐに形成されて作業性,外観特性
を向上できるのみならず、軸方向の輝度分布にも好影響
を及ぼす。特に、その設定範囲が5〜20%の場合に、
顕著である。
【0029】又、ガラスバルブの上端側方には、液面セ
ンサが配置されているために、塗布液の液面が所定の高
さにまで到達すると、直ちに作動して真空系を遮断す
る。このために、液面高さを常に一定に維持できるのみ
ならず、塗布液の真空系への侵入をも防止できる。
ンサが配置されているために、塗布液の液面が所定の高
さにまで到達すると、直ちに作動して真空系を遮断す
る。このために、液面高さを常に一定に維持できるのみ
ならず、塗布液の真空系への侵入をも防止できる。
【0030】さらには、塗布液の粘度が50〜200c
psに設定されているために、塗布膜の塗り肌がよい
上、ピ−リングの発生もなく、優れた外観特性が得られ
るのみならず、作業性も改善できる。
psに設定されているために、塗布膜の塗り肌がよい
上、ピ−リングの発生もなく、優れた外観特性が得られ
るのみならず、作業性も改善できる。
【図1】本発明の1実施例を示す側断面図。
【図2】塗布液を吸い上げた状態を示す側断面図。
【図3】吸い上げた塗布液が降下し塗布膜が形成された
状態を示す側断面図。
状態を示す側断面図。
【図4】発光層の形成状態を示す側断面図。
【図5】従来の塗布ヘッドを用いた流し塗り方法を説明
するための側断面図。
するための側断面図。
【図6】従来の吸い上げ塗布方法を説明するための側断
面図。
面図。
1 ガラスバルブ 1a 上端開口部 1b 下端開口部 2,3,4 吸引パッド 3a,4a 吸引孔 5 真空経路 6 減圧弁 7 電磁弁 8 真空ポンプ 9 液面センサ 10 塗布液槽 11 塗布液 11a 塗布膜
Claims (9)
- 【請求項1】 バルブ内径が2〜10mmのガラスバル
ブを直立状態に支持する支持手段と、支持手段にて支持
されたガラスバルブの上端開口部に当接する吸引パッド
と、吸引パッドに接続した真空系と、ガラスバルブの下
端開口部が塗布液に浸漬されるように配置した塗布液槽
と、ガラスバルブ上端の側方に配置し、塗布液の液面が
所定高さになった時にそれの出力信号に基づいて真空系
を遮断する液面センサとを具備し、前記吸引パッドは、
真空系に連通する吸引孔を有し、その吸引孔の大きさを
ガラスバルブの内径の1〜25%の範囲に設定したこと
を特徴とする塗布液の塗布装置。 - 【請求項2】 前記吸引パッドにおける吸引孔の大きさ
をガラスバルブ内径の5〜20%の範囲に設定したこと
を特徴とする請求項1記載の塗布液の塗布装置。 - 【請求項3】 前記吸引パッドのガラスバルブに当接す
る部分を弾力性ないし柔軟性を有する部材にて構成した
ことを特徴とする請求項1記載の塗布液の塗布装置。 - 【請求項4】 前記真空系は、少なくとも真空経路,減
圧弁,電磁弁,真空ポンプにて構成したことを特徴とす
る請求項1記載の塗布液の塗布装置。 - 【請求項5】 前記電磁弁は、液面センサの液面検出信
号に基づいて制御されることを特徴とする請求項4記載
の塗布液の塗布装置。 - 【請求項6】 バルブ内径が2〜10mmのガラスバル
ブを直立状態に支持する工程と、ガラスバルブの下端開
口部を粘度が50〜200cpsの塗布液に浸漬させる
工程と、ガラスバルブの上端開口部に、ガラスバルブ内
径の1〜25%の範囲に設定された吸引孔を有する吸引
パッドを密接する工程と、吸引パッドを真空系に接続し
塗布液をガラスバルブの所定高さまで吸い上げた後、真
空系を遮断する工程とを含むことを特徴とする塗布液の
塗布方法。 - 【請求項7】 前記吸引パッドにおける吸引孔の大きさ
をガラスバルブ内径の5〜20%の範囲に設定したこと
を特徴とする請求項6記載の塗布液の塗布方法。 - 【請求項8】 前記吸引パッド部分における真空度を5
〜10Kパスカルの範囲に設定したことを特徴とする請
求項6記載の塗布液の塗布方法。 - 【請求項9】 前記塗布液は、少なくとも蛍光体,バイ
ンダ,溶剤を含むことを特徴とする請求項6記載の塗布
液の塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9226795A JPH08281177A (ja) | 1995-04-18 | 1995-04-18 | 塗布液の塗布装置及びその塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9226795A JPH08281177A (ja) | 1995-04-18 | 1995-04-18 | 塗布液の塗布装置及びその塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08281177A true JPH08281177A (ja) | 1996-10-29 |
Family
ID=14049630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9226795A Withdrawn JPH08281177A (ja) | 1995-04-18 | 1995-04-18 | 塗布液の塗布装置及びその塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08281177A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001314818A (ja) * | 2000-03-23 | 2001-11-13 | Dmc 2 Degussa Metals Catalysts Cerdec Ag | 担体を部分的に被覆する方法 |
| JP2004146102A (ja) * | 2002-10-22 | 2004-05-20 | West Electric Co Ltd | 蛍光液の塗布装置 |
| KR100628735B1 (ko) * | 2005-03-04 | 2006-09-29 | 주식회사 디엠에스 | 형광체 코팅장치 및 코팅방법 |
-
1995
- 1995-04-18 JP JP9226795A patent/JPH08281177A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001314818A (ja) * | 2000-03-23 | 2001-11-13 | Dmc 2 Degussa Metals Catalysts Cerdec Ag | 担体を部分的に被覆する方法 |
| JP2004146102A (ja) * | 2002-10-22 | 2004-05-20 | West Electric Co Ltd | 蛍光液の塗布装置 |
| KR100628735B1 (ko) * | 2005-03-04 | 2006-09-29 | 주식회사 디엠에스 | 형광체 코팅장치 및 코팅방법 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020702 |