JPH08283221A - アルデヒド誘導体の製造法 - Google Patents
アルデヒド誘導体の製造法Info
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- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003774 valeryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
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- Indole Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Peptides Or Proteins (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】光学活性なペプチド性アルデヒド誘導体を製造
する。 【解決手段】一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒ1，Ｒ2およびＲ3は同一または異なって水素
または置換されていてもよい炭化水素基を、Ｒ4はアシ
ル基を、Ｒ5およびＲ6は同一または異なって置換されて
いてもよい炭化水素基を、ｍおよびｎは同一または異な
って０または１を示す］で表される化合物またはその塩
を還元反応に付すことを特徴とする一般式（II） 【化２】 ［式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，ｍおよびｎはそれぞれ前
記と同意義である］で表される化合物またはその塩の製
造法。 【効果】温和な条件で収率よく目的化合物が得られる。
する。 【解決手段】一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒ1，Ｒ2およびＲ3は同一または異なって水素
または置換されていてもよい炭化水素基を、Ｒ4はアシ
ル基を、Ｒ5およびＲ6は同一または異なって置換されて
いてもよい炭化水素基を、ｍおよびｎは同一または異な
って０または１を示す］で表される化合物またはその塩
を還元反応に付すことを特徴とする一般式（II） 【化２】 ［式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，ｍおよびｎはそれぞれ前
記と同意義である］で表される化合物またはその塩の製
造法。 【効果】温和な条件で収率よく目的化合物が得られる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、骨吸収抑制剤とし
て有用なアルデヒド誘導体またはその塩の製造法および
中間体に関する。
て有用なアルデヒド誘導体またはその塩の製造法および
中間体に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ペプチド性アルデヒド誘導体は、
相当するアルコール誘導体をＤＭＳＯ酸化に付すことに
より合成されるのが一般的である。例えば、ＥＰ−Ａ１
−０６２３６２７、特開平５−１６３２２１号などでは
相当するアルコール誘導体のＤＭＳＯ酸化によりアルデ
ヒド誘導体を合成している。しかしながら、この合成方
法ではＤＭＳＯ酸化において生成するジメチルスルフィ
ドの臭気がアルデヒド誘導体に付着する場合があるが、
これを完全に除くことが望まれる。
相当するアルコール誘導体をＤＭＳＯ酸化に付すことに
より合成されるのが一般的である。例えば、ＥＰ−Ａ１
−０６２３６２７、特開平５−１６３２２１号などでは
相当するアルコール誘導体のＤＭＳＯ酸化によりアルデ
ヒド誘導体を合成している。しかしながら、この合成方
法ではＤＭＳＯ酸化において生成するジメチルスルフィ
ドの臭気がアルデヒド誘導体に付着する場合があるが、
これを完全に除くことが望まれる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従って、ＤＭＳＯ酸化
を用いずに光学活性なペプチド性アルデヒド誘導体を製
造する方法が望まれていた。
を用いずに光学活性なペプチド性アルデヒド誘導体を製
造する方法が望まれていた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記問題を解決するため
本発明者らは鋭意研究を行った結果、一般式（Ｉ）
本発明者らは鋭意研究を行った結果、一般式（Ｉ）
【化１６】 ［式中、Ｒ1，Ｒ2およびＲ3は同一または異なって水素
または置換されていてもよい炭化水素基を、Ｒ4はアシ
ル基を、Ｒ5およびＲ6は同一または異なって置換されて
いてもよい炭化水素基を、ｍおよびｎは同一または異な
って０または１を示す］で表される化合物またはその塩
を還元反応に付すことにより、無臭で光学活性なアルデ
ヒド誘導体が得られることを見い出し、本発明を完成す
るに至った。
または置換されていてもよい炭化水素基を、Ｒ4はアシ
ル基を、Ｒ5およびＲ6は同一または異なって置換されて
いてもよい炭化水素基を、ｍおよびｎは同一または異な
って０または１を示す］で表される化合物またはその塩
を還元反応に付すことにより、無臭で光学活性なアルデ
ヒド誘導体が得られることを見い出し、本発明を完成す
るに至った。
【０００５】すなわち、本発明は、（１）一般式（Ｉ）
【化１７】 ［式中、Ｒ1，Ｒ2およびＲ3は同一または異なって水素
または置換されていてもよい炭化水素基を、Ｒ4はアシ
ル基を、Ｒ5およびＲ6は同一または異なって置換されて
いてもよい炭化水素基を、ｍおよびｎは同一または異な
って０または１を示す］で表される化合物またはその塩
を還元反応に付すことを特徴とする一般式（II）
または置換されていてもよい炭化水素基を、Ｒ4はアシ
ル基を、Ｒ5およびＲ6は同一または異なって置換されて
いてもよい炭化水素基を、ｍおよびｎは同一または異な
って０または１を示す］で表される化合物またはその塩
を還元反応に付すことを特徴とする一般式（II）
【化１８】 ［式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，ｍおよびｎはそれぞれ前
記と同意義である］で表される化合物またはその塩の製
造法、（２）還元反応を水素化金属アルミニウムを用い
て行う上記（１）記載の製造法、（３）Ｒ1，Ｒ2および
Ｒ3は、同一または異なって、水素またはＣ1-10アルキ
ル、Ｃ2-10アルケニル、Ｃ2-10アルキニル、Ｃ3-12シク
ロアルキル、Ｃ5-12シクロアルケニル、Ｃ5-12シクロア
ルカジエニル、Ｃ3-7シクロアルキル−Ｃ1-8アルキル、
Ｃ5-7シクロアルケニル−Ｃ1-8アルキルおよびＣ6-14ア
リールから選択される炭化水素基であって、該炭化水素
基は、（i）水酸基，Ｃ1-3アルコキシ，ハロゲンもしく
はＣ1-3アルキルで置換されていてもよいＣ6-14アリー
ル、（ii）水酸基，Ｃ1-3アルコキシ，ハロゲンもしく
はＣ1-3アルキルで置換されていてもよいＣ3-7シクロア
ルキルまたはＣ3-6シクロアルケニル、（iii）Ｃ1-3ア
ルキルで置換されていてもよい、１個の硫黄原子，窒素
原子もしくは酸素原子を含む５ないし７員芳香族複素環
基、２ないし４個の窒素原子を含む５もしくは６員芳香
族複素環基、１〜２個の窒素原子および１個の硫黄原子
もしくは酸素原子を含む５または６員芳香族複素環基、
１個の硫黄原子，窒素原子もしくは酸素原子を含む５な
いし７員非芳香族複素環基、および１個の窒素原子およ
び３個以下の窒素，酸素および硫黄原子から選ばれるヘ
テロ原子を含む４ないし７員非芳香族複素環基から選択
される複素環基、（iv）カルボキシル、(低級(Ｃ1-6)ア
ルコキシ)カルボニル、(Ｃ6-10アリールオキシ)カルボ
ニルまたは(Ｃ7-13アラルキルオキシ)カルボニル、
（v）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シクロアルキル，Ｃ6-10ア
リールもしくはＣ7-13アラルキルで置換されていてもよ
いカルバモイル、（vi）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シクロア
ルキル，Ｃ6-10アリールもしくはＣ7-13アラルキルで置
換されていてもよいアミノ、（vii）Ｃ1-6アルキル，Ｃ
3-6シクロアルキル，Ｃ6-10アリールもしくはＣ7-13ア
ラルキルで置換されていてもよい水酸基、（viii）Ｃ
1-6アルキル，Ｃ3-6シクロアルキル，Ｃ6-10アリールも
しくはＣ7-13アラルキルで置換されていてもよいチオー
ル、（ix）ハロゲンおよび（x）Ｃ1-6アルキルもしくは
Ｃ1-6アルコキシで置換されていてもよいホスホノから
選択される置換基を１ないし３個有していてもよい；Ｒ
4は、一般式−ＣＯＮＨＲ7，−ＣＳＮＨＲ8，−ＣＯ
Ｒ9，−ＳＯＲ10または−ＳＯ2Ｒ11〔式中、Ｒ7、Ｒ8、
Ｒ9、Ｒ10およびＲ11は同一または異なって水素または
（Ａ）Ｃ1-10アルキル，Ｃ2-10アルケニル，Ｃ2-10アル
キニル，Ｃ3-12シクロアルキル，Ｃ5-12シクロアルケニ
ル，Ｃ5-12シクロアルカジエニル，Ｃ3-7シクロアルキ
ル−Ｃ1-8アルキル，Ｃ5-7シクロアルケニル−Ｃ1-8ア
ルキルおよびＣ6-14アリールから選択される炭化水素基
または（Ｂ）１個の硫黄原子，窒素原子もしくは酸素原
子を含む５ないし７員芳香族複素環基、２ないし４個の
窒素原子を含む５または６員芳香族複素環基、１〜２個
の窒素原子および１個の硫黄原子もしくは酸素原子を含
む５または６員芳香族複素環基、１個の硫黄原子，窒素
原子もしくは酸素原子を含む５ないし７員非芳香族複素
環基、および１個の窒素原子および３個以下の窒素，酸
素および硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を含む４ない
し７員非芳香族複素環基から選択される複素環基であっ
て、該炭化水素および複素環基は、（i）水酸基，Ｃ1-3
アルコキシ，ハロゲンもしくはＣ1-3アルキルで置換さ
れていてもよいＣ6-14アリール、（ii）水酸基，Ｃ1-3
アルコキシ，ハロゲンもしくはＣ1-3アルキルで置換さ
れていてもよいＣ3-7シクロアルキルまたはＣ3-6シクロ
アルケニル、（iii）Ｃ1-3アルキルで置換されていても
よい、１個の硫黄原子，窒素原子もしくは酸素原子を含
む５ないし７員芳香族複素環基、２ないし４個の窒素原
子を含む５または６員芳香族複素環基、１〜２個の窒素
原子および１個の硫黄原子もしくは酸素原子を含む５ま
たは６員芳香族複素環基、１個の硫黄原子，窒素原子も
しくは酸素原子を含む５ないし７員非芳香族複素環基、
および１個の窒素原子および３個以下の窒素，酸素およ
び硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を含む４ないし７員
非芳香族複素環基から選択される複素環基、（iv）カル
ボキシル、(低級(Ｃ1-6)アルコキシ)カルボニル、(Ｃ
6-10アリールオキシ)カルボニルまたは(Ｃ7-13アラルキ
ルオキシ)カルボニル、（v）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シク
ロアルキル，Ｃ6-10アリールもしくはＣ7-13アラルキル
で置換されていてもよいカルバモイル、（vi）Ｃ1-6ア
ルキル，Ｃ3-6シクロアルキル，Ｃ6-10アリールもしく
はＣ7-13アラルキルで置換されていてもよいアミノ、
（vii）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シクロアルキル，Ｃ6-10
アリールもしくはＣ7-13アラルキルで置換されていても
よい水酸基、（viii）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シクロアル
キル，Ｃ6-10アリールもしくはＣ7-13アラルキルで置換
されていてもよいチオール、（ix）ハロゲンおよび
（x）Ｃ1-6アルキルもしくはＣ1-6アルコキシで置換さ
れていてもよいホスホノから選択される置換基を１ない
し３個有していてもよい〕で示される基を；Ｒ5および
Ｒ6は、同一または異なって、Ｃ1-10アルキル、Ｃ2-10
アルケニル、Ｃ2-10アルキニル、Ｃ3-12シクロアルキ
ル、Ｃ5-12シクロアルケニル、Ｃ5-12シクロアルカジエ
ニル、Ｃ3-7シクロアルキル−Ｃ1-8アルキル、Ｃ5-7シ
クロアルケニル−Ｃ1-8アルキルおよびＣ6-14アリール
から選択される炭化水素基であって、該炭化水素基は、
（i）水酸基，Ｃ1-3アルコキシ，ハロゲンもしくはＣ
1-3アルキルで置換されていてもよいＣ6-14アリール、
（ii）水酸基，Ｃ1-3アルコキシ，ハロゲンもしくはＣ
1-3アルキルで置換されていてもよいＣ3-7シクロアルキ
ルまたはＣ3-6シクロアルケニル、（iii）Ｃ1-3アルキ
ルで置換されていてもよい、１個の硫黄原子，窒素原子
もしくは酸素原子を含む５ないし７員芳香族複素環基、
２ないし４個の窒素原子を含む５もしくは６員芳香族複
素環基、１〜２個の窒素原子および１個の硫黄原子もし
くは酸素原子を含む５または６員芳香族複素環基、１個
の硫黄原子，窒素原子もしくは酸素原子を含む５ないし
７員非芳香族複素環基、および１個の窒素原子および３
個以下の窒素，酸素および硫黄原子から選ばれるヘテロ
原子を含む４ないし７員非芳香族複素環基から選択され
る複素環基、（iv）カルボキシル、(低級(Ｃ1-6)アルコ
キシ)カルボニル、(Ｃ6-10アリールオキシ)カルボニル
または(Ｃ7-13アラルキルオキシ)カルボニル、（v）Ｃ
1-6アルキル，Ｃ3-6シクロアルキル，Ｃ6-10アリールも
しくはＣ7-13アラルキルで置換されていてもよいカルバ
モイル、（vi）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シクロアルキル，
Ｃ6-10アリールもしくはＣ7-13アラルキルで置換されて
いてもよいアミノ、（vii）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シク
ロアルキル，Ｃ6-10アリールもしくはＣ7-13アラルキル
で置換されていてもよい水酸基、（viii）Ｃ1-6アルキ
ル，Ｃ3-6シクロアルキル，Ｃ6-10アリールもしくはＣ
7-13アラルキルで置換されていてもよいチオール、（i
x）ハロゲンおよび（x）Ｃ1-6アルキルもしくはＣ1-6ア
ルコキシで置換されていてもよいホスホノから選択され
る置換基を１ないし３個有していてもよいものである、
上記（１）記載の製造法、（４）Ｒ1，Ｒ2およびＲ3が
同一または異なって置換されていてもよいアルキル基で
ある上記（１）記載の製造法、（５）Ｒ1がアリールま
たは複素環基で置換された直鎖または分枝状のＣ1-6ア
ルキル基である上記（１）記載の製造法、（６）Ｒ2お
よびＲ3が同一または異なって直鎖または分枝状のＣ1-6
アルキル基である上記（１）記載の製造法、（７）アシ
ル基が、カルボン酸、スルホン酸、スルフィン酸、カル
バミン酸またはチオカルバミン酸由来のものである上記
（１）記載の製造法、（８）アシル基が、式−ＳＯ2Ｒ
11または−ＣＯＲ9〔式中、Ｒ11およびＲ9は同一または
異なって水素または置換されていてもよい炭化水素また
は複素環基である〕で表される上記（１）記載の製造
法、（９）Ｒ4が式−ＳＯ2Ｒ11’〔式中、Ｒ11’はＣ
6-10アリール基である〕で表される上記（１）記載の製
造法、（１０）Ｒ5およびＲ6が同一または異なって飽和
または不飽和の脂肪族鎖式炭化水素基である上記（１）
記載の製造法、（１１）飽和脂肪族炭化水素基がＣ1-10
アルキル基である上記（１０）記載の製造法、（１２）
アルキル基がメチルである上記（１１）記載の製造法、
（１３）ｍが１で、ｎが０である上記（１）記載の製造
法、（１４）一般式（Ｉ）の化合物が式（ι）
記と同意義である］で表される化合物またはその塩の製
造法、（２）還元反応を水素化金属アルミニウムを用い
て行う上記（１）記載の製造法、（３）Ｒ1，Ｒ2および
Ｒ3は、同一または異なって、水素またはＣ1-10アルキ
ル、Ｃ2-10アルケニル、Ｃ2-10アルキニル、Ｃ3-12シク
ロアルキル、Ｃ5-12シクロアルケニル、Ｃ5-12シクロア
ルカジエニル、Ｃ3-7シクロアルキル−Ｃ1-8アルキル、
Ｃ5-7シクロアルケニル−Ｃ1-8アルキルおよびＣ6-14ア
リールから選択される炭化水素基であって、該炭化水素
基は、（i）水酸基，Ｃ1-3アルコキシ，ハロゲンもしく
はＣ1-3アルキルで置換されていてもよいＣ6-14アリー
ル、（ii）水酸基，Ｃ1-3アルコキシ，ハロゲンもしく
はＣ1-3アルキルで置換されていてもよいＣ3-7シクロア
ルキルまたはＣ3-6シクロアルケニル、（iii）Ｃ1-3ア
ルキルで置換されていてもよい、１個の硫黄原子，窒素
原子もしくは酸素原子を含む５ないし７員芳香族複素環
基、２ないし４個の窒素原子を含む５もしくは６員芳香
族複素環基、１〜２個の窒素原子および１個の硫黄原子
もしくは酸素原子を含む５または６員芳香族複素環基、
１個の硫黄原子，窒素原子もしくは酸素原子を含む５な
いし７員非芳香族複素環基、および１個の窒素原子およ
び３個以下の窒素，酸素および硫黄原子から選ばれるヘ
テロ原子を含む４ないし７員非芳香族複素環基から選択
される複素環基、（iv）カルボキシル、(低級(Ｃ1-6)ア
ルコキシ)カルボニル、(Ｃ6-10アリールオキシ)カルボ
ニルまたは(Ｃ7-13アラルキルオキシ)カルボニル、
（v）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シクロアルキル，Ｃ6-10ア
リールもしくはＣ7-13アラルキルで置換されていてもよ
いカルバモイル、（vi）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シクロア
ルキル，Ｃ6-10アリールもしくはＣ7-13アラルキルで置
換されていてもよいアミノ、（vii）Ｃ1-6アルキル，Ｃ
3-6シクロアルキル，Ｃ6-10アリールもしくはＣ7-13ア
ラルキルで置換されていてもよい水酸基、（viii）Ｃ
1-6アルキル，Ｃ3-6シクロアルキル，Ｃ6-10アリールも
しくはＣ7-13アラルキルで置換されていてもよいチオー
ル、（ix）ハロゲンおよび（x）Ｃ1-6アルキルもしくは
Ｃ1-6アルコキシで置換されていてもよいホスホノから
選択される置換基を１ないし３個有していてもよい；Ｒ
4は、一般式−ＣＯＮＨＲ7，−ＣＳＮＨＲ8，−ＣＯ
Ｒ9，−ＳＯＲ10または−ＳＯ2Ｒ11〔式中、Ｒ7、Ｒ8、
Ｒ9、Ｒ10およびＲ11は同一または異なって水素または
（Ａ）Ｃ1-10アルキル，Ｃ2-10アルケニル，Ｃ2-10アル
キニル，Ｃ3-12シクロアルキル，Ｃ5-12シクロアルケニ
ル，Ｃ5-12シクロアルカジエニル，Ｃ3-7シクロアルキ
ル−Ｃ1-8アルキル，Ｃ5-7シクロアルケニル−Ｃ1-8ア
ルキルおよびＣ6-14アリールから選択される炭化水素基
または（Ｂ）１個の硫黄原子，窒素原子もしくは酸素原
子を含む５ないし７員芳香族複素環基、２ないし４個の
窒素原子を含む５または６員芳香族複素環基、１〜２個
の窒素原子および１個の硫黄原子もしくは酸素原子を含
む５または６員芳香族複素環基、１個の硫黄原子，窒素
原子もしくは酸素原子を含む５ないし７員非芳香族複素
環基、および１個の窒素原子および３個以下の窒素，酸
素および硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を含む４ない
し７員非芳香族複素環基から選択される複素環基であっ
て、該炭化水素および複素環基は、（i）水酸基，Ｃ1-3
アルコキシ，ハロゲンもしくはＣ1-3アルキルで置換さ
れていてもよいＣ6-14アリール、（ii）水酸基，Ｃ1-3
アルコキシ，ハロゲンもしくはＣ1-3アルキルで置換さ
れていてもよいＣ3-7シクロアルキルまたはＣ3-6シクロ
アルケニル、（iii）Ｃ1-3アルキルで置換されていても
よい、１個の硫黄原子，窒素原子もしくは酸素原子を含
む５ないし７員芳香族複素環基、２ないし４個の窒素原
子を含む５または６員芳香族複素環基、１〜２個の窒素
原子および１個の硫黄原子もしくは酸素原子を含む５ま
たは６員芳香族複素環基、１個の硫黄原子，窒素原子も
しくは酸素原子を含む５ないし７員非芳香族複素環基、
および１個の窒素原子および３個以下の窒素，酸素およ
び硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を含む４ないし７員
非芳香族複素環基から選択される複素環基、（iv）カル
ボキシル、(低級(Ｃ1-6)アルコキシ)カルボニル、(Ｃ
6-10アリールオキシ)カルボニルまたは(Ｃ7-13アラルキ
ルオキシ)カルボニル、（v）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シク
ロアルキル，Ｃ6-10アリールもしくはＣ7-13アラルキル
で置換されていてもよいカルバモイル、（vi）Ｃ1-6ア
ルキル，Ｃ3-6シクロアルキル，Ｃ6-10アリールもしく
はＣ7-13アラルキルで置換されていてもよいアミノ、
（vii）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シクロアルキル，Ｃ6-10
アリールもしくはＣ7-13アラルキルで置換されていても
よい水酸基、（viii）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シクロアル
キル，Ｃ6-10アリールもしくはＣ7-13アラルキルで置換
されていてもよいチオール、（ix）ハロゲンおよび
（x）Ｃ1-6アルキルもしくはＣ1-6アルコキシで置換さ
れていてもよいホスホノから選択される置換基を１ない
し３個有していてもよい〕で示される基を；Ｒ5および
Ｒ6は、同一または異なって、Ｃ1-10アルキル、Ｃ2-10
アルケニル、Ｃ2-10アルキニル、Ｃ3-12シクロアルキ
ル、Ｃ5-12シクロアルケニル、Ｃ5-12シクロアルカジエ
ニル、Ｃ3-7シクロアルキル−Ｃ1-8アルキル、Ｃ5-7シ
クロアルケニル−Ｃ1-8アルキルおよびＣ6-14アリール
から選択される炭化水素基であって、該炭化水素基は、
（i）水酸基，Ｃ1-3アルコキシ，ハロゲンもしくはＣ
1-3アルキルで置換されていてもよいＣ6-14アリール、
（ii）水酸基，Ｃ1-3アルコキシ，ハロゲンもしくはＣ
1-3アルキルで置換されていてもよいＣ3-7シクロアルキ
ルまたはＣ3-6シクロアルケニル、（iii）Ｃ1-3アルキ
ルで置換されていてもよい、１個の硫黄原子，窒素原子
もしくは酸素原子を含む５ないし７員芳香族複素環基、
２ないし４個の窒素原子を含む５もしくは６員芳香族複
素環基、１〜２個の窒素原子および１個の硫黄原子もし
くは酸素原子を含む５または６員芳香族複素環基、１個
の硫黄原子，窒素原子もしくは酸素原子を含む５ないし
７員非芳香族複素環基、および１個の窒素原子および３
個以下の窒素，酸素および硫黄原子から選ばれるヘテロ
原子を含む４ないし７員非芳香族複素環基から選択され
る複素環基、（iv）カルボキシル、(低級(Ｃ1-6)アルコ
キシ)カルボニル、(Ｃ6-10アリールオキシ)カルボニル
または(Ｃ7-13アラルキルオキシ)カルボニル、（v）Ｃ
1-6アルキル，Ｃ3-6シクロアルキル，Ｃ6-10アリールも
しくはＣ7-13アラルキルで置換されていてもよいカルバ
モイル、（vi）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シクロアルキル，
Ｃ6-10アリールもしくはＣ7-13アラルキルで置換されて
いてもよいアミノ、（vii）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シク
ロアルキル，Ｃ6-10アリールもしくはＣ7-13アラルキル
で置換されていてもよい水酸基、（viii）Ｃ1-6アルキ
ル，Ｃ3-6シクロアルキル，Ｃ6-10アリールもしくはＣ
7-13アラルキルで置換されていてもよいチオール、（i
x）ハロゲンおよび（x）Ｃ1-6アルキルもしくはＣ1-6ア
ルコキシで置換されていてもよいホスホノから選択され
る置換基を１ないし３個有していてもよいものである、
上記（１）記載の製造法、（４）Ｒ1，Ｒ2およびＲ3が
同一または異なって置換されていてもよいアルキル基で
ある上記（１）記載の製造法、（５）Ｒ1がアリールま
たは複素環基で置換された直鎖または分枝状のＣ1-6ア
ルキル基である上記（１）記載の製造法、（６）Ｒ2お
よびＲ3が同一または異なって直鎖または分枝状のＣ1-6
アルキル基である上記（１）記載の製造法、（７）アシ
ル基が、カルボン酸、スルホン酸、スルフィン酸、カル
バミン酸またはチオカルバミン酸由来のものである上記
（１）記載の製造法、（８）アシル基が、式−ＳＯ2Ｒ
11または−ＣＯＲ9〔式中、Ｒ11およびＲ9は同一または
異なって水素または置換されていてもよい炭化水素また
は複素環基である〕で表される上記（１）記載の製造
法、（９）Ｒ4が式−ＳＯ2Ｒ11’〔式中、Ｒ11’はＣ
6-10アリール基である〕で表される上記（１）記載の製
造法、（１０）Ｒ5およびＲ6が同一または異なって飽和
または不飽和の脂肪族鎖式炭化水素基である上記（１）
記載の製造法、（１１）飽和脂肪族炭化水素基がＣ1-10
アルキル基である上記（１０）記載の製造法、（１２）
アルキル基がメチルである上記（１１）記載の製造法、
（１３）ｍが１で、ｎが０である上記（１）記載の製造
法、（１４）一般式（Ｉ）の化合物が式（ι）
【化１９】 〔式中、Ｒ5’およびＲ6’は同一または異なってＣ1-6
アルキル基を示す〕で表される化合物またはその塩であ
る上記（１）記載の製造法、（１５）一般式（Ｉ）
アルキル基を示す〕で表される化合物またはその塩であ
る上記（１）記載の製造法、（１５）一般式（Ｉ）
【化２０】 ［式中、Ｒ1，Ｒ2およびＲ3は同一または異なって水素
または置換されていてもよい炭化水素基を、Ｒ4はアシ
ル基を、Ｒ5およびＲ6は同一または異なって置換されて
いてもよい炭化水素基を、ｍおよびｎは同一または異な
って０または１を示す］で表される化合物またはその
塩、（１６）一般式（Ｉ）の化合物が式（ι）
または置換されていてもよい炭化水素基を、Ｒ4はアシ
ル基を、Ｒ5およびＲ6は同一または異なって置換されて
いてもよい炭化水素基を、ｍおよびｎは同一または異な
って０または１を示す］で表される化合物またはその
塩、（１６）一般式（Ｉ）の化合物が式（ι）
【化２１】 〔式中、Ｒ5’およびＲ6’は同一または異なってＣ1-6
アルキル基を示す〕で表される化合物またはその塩であ
る上記（１５）記載の化合物、および（１７）（ｉ）式
（α）
アルキル基を示す〕で表される化合物またはその塩であ
る上記（１５）記載の化合物、および（１７）（ｉ）式
（α）
【化２２】 〔式中、Ｍはアミノ基の保護基を示す〕で表される化合
物もしくはそのカルボキシル基における反応性誘導体ま
たはその塩と式（β）
物もしくはそのカルボキシル基における反応性誘導体ま
たはその塩と式（β）
【化２３】 〔式中、Ｒ5’およびＲ6’は同一または異なってＣ1-6
アルキル基を示す〕で表される化合物もしくはそのアミ
ノ基における反応性誘導体またはその塩とを反応させる
ことにより式（γ）
アルキル基を示す〕で表される化合物もしくはそのアミ
ノ基における反応性誘導体またはその塩とを反応させる
ことにより式（γ）
【化２４】 〔式中、Ｒ5’、Ｒ6’およびＭは前記と同意義を示す〕
で表される化合物またはその塩を製造した後、式（γ）
で表される化合物またはその塩をアミノ保護基の脱離反
応に付し式（δ）
で表される化合物またはその塩を製造した後、式（γ）
で表される化合物またはその塩をアミノ保護基の脱離反
応に付し式（δ）
【化２５】 〔式中、Ｒ5’およびＲ6’は前記と同意義を示す〕で表
される化合物またはその塩を製造し、（ii）式（δ）で
表される化合物もしくはそのアミノ基における反応性誘
導体またはその塩と式（ε）
される化合物またはその塩を製造し、（ii）式（δ）で
表される化合物もしくはそのアミノ基における反応性誘
導体またはその塩と式（ε）
【化２６】 〔式中、Ｍ’はアミノ基の保護基を示す〕で表される化
合物もしくはそのカルボキシル基における反応性誘導体
またはその塩とを反応させることにより、式（ζ）
合物もしくはそのカルボキシル基における反応性誘導体
またはその塩とを反応させることにより、式（ζ）
【化２７】 〔式中、Ｒ5’、Ｒ6’およびＭ’は前記と同意義を示
す〕で表される化合物またはその塩を製造した後、式
（ζ）で表される化合物またはその塩をアミノ保護基の
脱離反応に付し式（η）
す〕で表される化合物またはその塩を製造した後、式
（ζ）で表される化合物またはその塩をアミノ保護基の
脱離反応に付し式（η）
【化２８】 〔式中、Ｒ5’、Ｒ6’は前記と同意義を示す〕で表され
る化合物またはその塩を製造し、（iii）式（η）で表
される化合物もしくはそのアミノ基における反応性誘導
体またはその塩と式（θ）
る化合物またはその塩を製造し、（iii）式（η）で表
される化合物もしくはそのアミノ基における反応性誘導
体またはその塩と式（θ）
【化２９】 〔式中、Ｘはハロゲン原子を示す〕で表される化合物ま
たはその塩とを反応させることにより、式（ι）
たはその塩とを反応させることにより、式（ι）
【化３０】 〔式中、Ｒ5’およびＲ6’は前記と同意義である〕で表
される化合物またはその塩を製造し、（iv）式（ι）で
表される化合物またはその塩を還元反応に付すことを特
徴とする式
される化合物またはその塩を製造し、（iv）式（ι）で
表される化合物またはその塩を還元反応に付すことを特
徴とする式
【化３１】 で表される化合物またはその塩の製造法に関する。
【０００６】上記一般式ならびに本発明の範囲内に包含
される諸定義の説明およびそれらの好適な例を以下に記
載する。本明細書中における構成アミノ酸は、特記しな
い限りＬ−型を意味し、略号で示す場合はＧｌｙ：グリ
シン；Ｌｅｕ：ロイシン；Ｉｌｅ：イソロイシンのよう
にＩＵＰＡＣ（International Union of Pure and Appl
ied Chemistry）−ＩＵＢ（International Union of Bi
ochemistry）の命名規約にしたがって記載する。
される諸定義の説明およびそれらの好適な例を以下に記
載する。本明細書中における構成アミノ酸は、特記しな
い限りＬ−型を意味し、略号で示す場合はＧｌｙ：グリ
シン；Ｌｅｕ：ロイシン；Ｉｌｅ：イソロイシンのよう
にＩＵＰＡＣ（International Union of Pure and Appl
ied Chemistry）−ＩＵＢ（International Union of Bi
ochemistry）の命名規約にしたがって記載する。
【０００７】上記式（I）および（II）において、Ｒ1，
Ｒ2およびＲ3で表される「置換されていてもよい炭化水
素基」における炭化水素基としては、飽和または不飽和
の脂肪族鎖式炭化水素基、飽和または不飽和の脂環式炭
化水素基、アリール基などが挙げられる。該飽和脂肪族
炭化水素基としては、例えば、炭素数１〜１０の直鎖状
または分枝状の飽和脂肪族炭化水素基など（例、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペン
チル、ネオペンチル、tert-ペンチル、ヘキシル、イソ
ヘキシル、ヘプチル、オクチルなどのＣ1-10アルキル基
など）が挙げられ、好ましくは炭素数１〜６の直鎖状ま
たは分枝状の飽和脂肪族炭化水素基などが挙げられる。
該不飽和脂肪族炭化水素基としては、炭素数２〜１０の
直鎖状または分枝状の不飽和脂肪族炭化水素基など
（例、エテニル、1-プロペニル、2-プロペニル、1-ブテ
ニル、2-ブテニル、3-ブテニル、2-メチル-1-プロペニ
ル、1-ペンテニル、2ーペンテニル、3-ペンテニル、4-ペ
ンテニル、3-メチル-2-ブテニル、1-ヘキセニル、3-ヘ
キセニル、2,4-ヘキサジエニル、5-ヘキセニル、1-ヘプ
テニル、1-オクテニルなどのＣ2-10アルケニル基など、
エチニル、1-プロピニル、2-プロピニル、1-ブチニル、
2-ブチニル、3-ブチニル、1-ペンチニル、2-ペンチニ
ル、3-ペンチニル、4-ペンチニル、1-ヘキシニル、3-ヘ
キシニル、2,4-ヘキサジイニル、5-ヘキシニル、1-ヘプ
チニル、1-オクチニルなどのＣ2-10アルキニル基など）
が挙げられ、好ましくは、炭素数２〜６の直鎖状または
分枝状の不飽和脂肪族炭化水素基などが挙げられる。
Ｒ2およびＲ3で表される「置換されていてもよい炭化水
素基」における炭化水素基としては、飽和または不飽和
の脂肪族鎖式炭化水素基、飽和または不飽和の脂環式炭
化水素基、アリール基などが挙げられる。該飽和脂肪族
炭化水素基としては、例えば、炭素数１〜１０の直鎖状
または分枝状の飽和脂肪族炭化水素基など（例、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペン
チル、ネオペンチル、tert-ペンチル、ヘキシル、イソ
ヘキシル、ヘプチル、オクチルなどのＣ1-10アルキル基
など）が挙げられ、好ましくは炭素数１〜６の直鎖状ま
たは分枝状の飽和脂肪族炭化水素基などが挙げられる。
該不飽和脂肪族炭化水素基としては、炭素数２〜１０の
直鎖状または分枝状の不飽和脂肪族炭化水素基など
（例、エテニル、1-プロペニル、2-プロペニル、1-ブテ
ニル、2-ブテニル、3-ブテニル、2-メチル-1-プロペニ
ル、1-ペンテニル、2ーペンテニル、3-ペンテニル、4-ペ
ンテニル、3-メチル-2-ブテニル、1-ヘキセニル、3-ヘ
キセニル、2,4-ヘキサジエニル、5-ヘキセニル、1-ヘプ
テニル、1-オクテニルなどのＣ2-10アルケニル基など、
エチニル、1-プロピニル、2-プロピニル、1-ブチニル、
2-ブチニル、3-ブチニル、1-ペンチニル、2-ペンチニ
ル、3-ペンチニル、4-ペンチニル、1-ヘキシニル、3-ヘ
キシニル、2,4-ヘキサジイニル、5-ヘキシニル、1-ヘプ
チニル、1-オクチニルなどのＣ2-10アルキニル基など）
が挙げられ、好ましくは、炭素数２〜６の直鎖状または
分枝状の不飽和脂肪族炭化水素基などが挙げられる。
【０００８】該飽和脂環式炭化水素基としては、炭素数
３〜１２の飽和脂環式炭化水素基など（例、シクロプロ
ピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘプチル、シクロオクチル、ビシクロ〔2.2.
1〕ヘプチル、ビシクロ〔2.2.2〕オクチル、ビシクロ
〔3.2.1〕オクチル、ビシクロ〔3.2.2〕ノニル、ビシク
ロ〔3.3.1〕ノニル、ビシクロ〔4.2.1〕ノニル、ビシク
ロ〔4.3.1〕デシルなどのＣ3-12シクロアルキル基な
ど）が挙げられ、好ましくは、炭素数３〜６の飽和脂環
式炭化水素基などが挙げられる。該不飽和脂環式炭化水
素基としては、炭素数５〜１２の不飽和脂環式炭化水素
基など（例、1-シクロペンテニル、2-シクロペンテニ
ル、3-シクロペンテニル、1-シクロヘキセニル、2-シク
ロヘキセニル、3-シクロヘキセニル、1-シクロヘプテニ
ル、2-シクロヘプテニル、3-シクロヘプテニル、2,4-シ
クロヘプタジエニル、2-シクロペンテン-1-イル、3-シ
クロペンテン-1-イル、2-シクロヘキセン-1-イル、3-シ
クロヘキセン-1-イルなどのＣ5-12シクロアルケニル基
など、また、2,4-シクロペンタジエン-1-イル、2,4-シ
クロヘキサジエン-1-イル、2,5-シクロヘキサジエン-1-
イルなどのＣ5-12シクロアルカジエニル基）が挙げられ
る。また、Ｒ1，Ｒ2およびＲ3で表される「置換されて
いてもよい炭化水素基」の炭化水素基としては、上記の
飽和または不飽和の脂環式炭化水素基で置換された炭素
数１〜８の飽和脂肪族炭化水素基など（例、Ｃ3-7シク
ロアルキル−Ｃ1-8アルキルなどまたはＣ5-7シクロアル
ケニル−Ｃ1-8アルキルなど、具体的には例えば、シク
ロプロピルメチル、シクロプロピルエチル、シクロブチ
ルメチル、シクロペンチルメチル、2-シクロペンテニル
メチル、3-シクロペンテニルメチル、シクロヘキシルメ
チル、2-シクロヘキセニルメチル、3-シクロヘキセニル
メチル、シクロヘキシルエチル、シクロヘキシルプロピ
ル、シクロヘプチルメチル、シクロヘプチルエチルな
ど）であってもよい。
３〜１２の飽和脂環式炭化水素基など（例、シクロプロ
ピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘプチル、シクロオクチル、ビシクロ〔2.2.
1〕ヘプチル、ビシクロ〔2.2.2〕オクチル、ビシクロ
〔3.2.1〕オクチル、ビシクロ〔3.2.2〕ノニル、ビシク
ロ〔3.3.1〕ノニル、ビシクロ〔4.2.1〕ノニル、ビシク
ロ〔4.3.1〕デシルなどのＣ3-12シクロアルキル基な
ど）が挙げられ、好ましくは、炭素数３〜６の飽和脂環
式炭化水素基などが挙げられる。該不飽和脂環式炭化水
素基としては、炭素数５〜１２の不飽和脂環式炭化水素
基など（例、1-シクロペンテニル、2-シクロペンテニ
ル、3-シクロペンテニル、1-シクロヘキセニル、2-シク
ロヘキセニル、3-シクロヘキセニル、1-シクロヘプテニ
ル、2-シクロヘプテニル、3-シクロヘプテニル、2,4-シ
クロヘプタジエニル、2-シクロペンテン-1-イル、3-シ
クロペンテン-1-イル、2-シクロヘキセン-1-イル、3-シ
クロヘキセン-1-イルなどのＣ5-12シクロアルケニル基
など、また、2,4-シクロペンタジエン-1-イル、2,4-シ
クロヘキサジエン-1-イル、2,5-シクロヘキサジエン-1-
イルなどのＣ5-12シクロアルカジエニル基）が挙げられ
る。また、Ｒ1，Ｒ2およびＲ3で表される「置換されて
いてもよい炭化水素基」の炭化水素基としては、上記の
飽和または不飽和の脂環式炭化水素基で置換された炭素
数１〜８の飽和脂肪族炭化水素基など（例、Ｃ3-7シク
ロアルキル−Ｃ1-8アルキルなどまたはＣ5-7シクロアル
ケニル−Ｃ1-8アルキルなど、具体的には例えば、シク
ロプロピルメチル、シクロプロピルエチル、シクロブチ
ルメチル、シクロペンチルメチル、2-シクロペンテニル
メチル、3-シクロペンテニルメチル、シクロヘキシルメ
チル、2-シクロヘキセニルメチル、3-シクロヘキセニル
メチル、シクロヘキシルエチル、シクロヘキシルプロピ
ル、シクロヘプチルメチル、シクロヘプチルエチルな
ど）であってもよい。
【０００９】アリール基としては、単環式または縮合多
環式の炭素数６〜１４の芳香族炭化水素環基などが挙げ
られる。該芳香族炭化水素環基としては、例えば、フェ
ニル、トリル、キシリル、ビフェニル、１−または２−
ナフチル、１−、２−または９−アントリル、１−、２
−、３−、４−または９−フェナントリル、１−、２
−、４−、５−または６−アズレニル、アセナフチレニ
ルなどのＣ6-14アリールが挙げられ、なかでもフェニ
ル、1-ナフチル、2-ナフチルなどのＣ6-10アリールが好
ましい。Ｒ1，Ｒ2およびＲ3で表される「置換されてい
てもよい炭化水素基」における炭化水素基は、置換可能
な位置に、任意の置換基を１〜３個有していてもよい。
該置換基としては、置換されていてもよいアリール基、
置換されていてもよいシクロアルキル基もしくはシクロ
アルケニル基、置換されていてもよい複素環基、エステ
ル化されていてもよいカルボキシル基、置換されていて
もよいカルバモイル基、置換されていてもよいアミノ
基、置換されていてもよい水酸基、置換されていてもよ
いチオール基、ハロゲン（例、フッ素、塩素、臭素、ヨ
ウ素）、置換されていてもよいホスホノ基等が挙げられ
る。該置換されていてもよいアリール基のアリール基と
しては、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナント
リル、アセナフチレニルのＣ6-14アリール等が挙げら
れ、なかでもフェニル、１−ナフチル、２−ナフチルが
好ましい。該アリールは、置換可能な位置に、任意の置
換基を１〜２個有していてもよく、該置換基としては、
水酸基、置換されていてもよいアルコキシ基（例、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ等のＣ1-3アルコキシ）、
ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、置
換されていてもよいアルキル基（例、メチル、エチル、
プロピル等のＣ1-3アルキル）等が挙げられる。該アル
コキシ基およびアルキル基は、置換可能な位置に任意の
置換基を１〜２個有していてもよく、該置換基としては
置換されていてもよいホスホノ基（例、ホスホリル、ジ
メトキシホスホリル，ジエトキシホスホリルなど）など
が挙げられる。
環式の炭素数６〜１４の芳香族炭化水素環基などが挙げ
られる。該芳香族炭化水素環基としては、例えば、フェ
ニル、トリル、キシリル、ビフェニル、１−または２−
ナフチル、１−、２−または９−アントリル、１−、２
−、３−、４−または９−フェナントリル、１−、２
−、４−、５−または６−アズレニル、アセナフチレニ
ルなどのＣ6-14アリールが挙げられ、なかでもフェニ
ル、1-ナフチル、2-ナフチルなどのＣ6-10アリールが好
ましい。Ｒ1，Ｒ2およびＲ3で表される「置換されてい
てもよい炭化水素基」における炭化水素基は、置換可能
な位置に、任意の置換基を１〜３個有していてもよい。
該置換基としては、置換されていてもよいアリール基、
置換されていてもよいシクロアルキル基もしくはシクロ
アルケニル基、置換されていてもよい複素環基、エステ
ル化されていてもよいカルボキシル基、置換されていて
もよいカルバモイル基、置換されていてもよいアミノ
基、置換されていてもよい水酸基、置換されていてもよ
いチオール基、ハロゲン（例、フッ素、塩素、臭素、ヨ
ウ素）、置換されていてもよいホスホノ基等が挙げられ
る。該置換されていてもよいアリール基のアリール基と
しては、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナント
リル、アセナフチレニルのＣ6-14アリール等が挙げら
れ、なかでもフェニル、１−ナフチル、２−ナフチルが
好ましい。該アリールは、置換可能な位置に、任意の置
換基を１〜２個有していてもよく、該置換基としては、
水酸基、置換されていてもよいアルコキシ基（例、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ等のＣ1-3アルコキシ）、
ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、置
換されていてもよいアルキル基（例、メチル、エチル、
プロピル等のＣ1-3アルキル）等が挙げられる。該アル
コキシ基およびアルキル基は、置換可能な位置に任意の
置換基を１〜２個有していてもよく、該置換基としては
置換されていてもよいホスホノ基（例、ホスホリル、ジ
メトキシホスホリル，ジエトキシホスホリルなど）など
が挙げられる。
【００１０】該置換されていてもよいシクロアルキル基
のシクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプ
チル等のＣ3-7シクロアルキル基等が挙げられる。該置
換されていてもよいシクロアルキル基の置換基とその置
換数としては、前記置換されていてもよいアリール基に
おける置換基と同様な種類と個数が挙げられる。該置換
されていてもよいシクロアルケニル基のシクロアルケニ
ル基としては、シクロプロペニル、シクロブテニル、シ
クロペンテニル、シクロヘキセニル等のＣ3-6シクロア
ルケニル基等が挙げられる。該置換されていてもよいシ
クロアルケニル基の置換基とその置換数としては、前記
置換されていてもよいアリール基における置換基と同様
な種類と個数が挙げられる。
のシクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプ
チル等のＣ3-7シクロアルキル基等が挙げられる。該置
換されていてもよいシクロアルキル基の置換基とその置
換数としては、前記置換されていてもよいアリール基に
おける置換基と同様な種類と個数が挙げられる。該置換
されていてもよいシクロアルケニル基のシクロアルケニ
ル基としては、シクロプロペニル、シクロブテニル、シ
クロペンテニル、シクロヘキセニル等のＣ3-6シクロア
ルケニル基等が挙げられる。該置換されていてもよいシ
クロアルケニル基の置換基とその置換数としては、前記
置換されていてもよいアリール基における置換基と同様
な種類と個数が挙げられる。
【００１１】該置換されていてもよい複素環基の複素環
基としては、環系を構成する原子（環原子）として、酸
素、硫黄、窒素のうち少なくとも１個のヘテロ原子をも
つ芳香族複素環基、飽和あるいは不飽和の非芳香族複素
環基（脂肪族複素環基）が挙げられるが、好ましくは芳
香族複素環基である。該芳香族複素環基としては、例え
ば、１個の硫黄原子，窒素原子または酸素原子を含む５
ないし７員芳香族複素環基、２〜４個の窒素原子を含む
５または６員芳香族複素環基、１〜２個の窒素原子およ
び１個の硫黄原子または酸素原子を含む５または６員芳
香族複素環基が挙げられ、これらの芳香族複素環基は、
２個以下の窒素原子を含む６員環，ベンゼン環または１
個の硫黄原子を含む５員環と縮合していてもよい。該芳
香族複素環基としては、芳香族単環式複素環基（例、フ
リル、チエニル、ピロリル、オキサゾリル、イソオキサ
ゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、イミダゾリル、
ピラゾリル、１,２,３−オキサジアゾリル、１,２,４−
オキサジアゾリル、１，３，４−オキサジアゾリル、フ
ラザニル、１，２，３−チアジアゾリル、１，２，４−
チアジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、１，
２，３−トリアゾリル、１，２，４−トリアゾリル、テ
トラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、
ピラジニル、トリアジニル等）及び芳香族縮合複素環基
（例：ベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ベンゾ
〔ｂ〕チエニル、インドリル、イソインドリル、１Ｈ−
インダゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾオキサゾリ
ル、１，２−ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾチアゾリ
ル、１，２−ベンゾイソチアゾリル、１Ｈ−ベンゾトリ
アゾリル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、キ
ナゾリニル、キノキサリニル、フタラジニル、ナフチリ
ジニル、プリニル、プテリジニル、カルバゾリル、α−
カルボリニル、β−カルボリニル、γ−カルボリニル、
アクリジニル、フェノキサジニル、フェノチアジニル、
フェナジニル、フェノキサチイニル、チアントレニル、
フェナトリジニル、フェナトロリニル、インドリジニ
ル、ピロロ〔１，２−ｂ〕ピリダジニル、ピラゾロ
〔１，５−ａ〕ピリジル、イミダゾ〔１，２−ａ〕ピリ
ジル、イミダゾ〔１，５−ａ〕ピリジル、イミダゾ
〔１，２−ｂ〕ピリダジニル、イミダゾ〔１，２−ａ〕
ピリミジニル、１，２，４−トリアゾロ〔４，３−ａ〕
ピリジル、１，２，４−トリアゾロ〔４，３−ｂ〕ピリ
ダジニル等）が挙げられるが、なかでもフリル、チエニ
ル、インドリル、イソインドリル、ピラジニル、ピリジ
ル、ピリミジニルなどが好ましい。該非芳香族複素環基
としては、１個の硫黄原子、窒素原子または酸素原子を
含む５ないし７員非芳香族複素環基または１個の窒素原
子および３個以下のヘテロ原子（例、窒素，酸素および
硫黄原子）を含む４ないし７員非芳香族複素環基が挙げ
られる。該非芳香族複素環基としては、例えば、オキシ
ラニル、アゼチジニル、オキセタニル、チエタニル、ピ
ロリジニル、テトラヒドロフリル、チオラニル、ピペリ
ジル、テトラヒドロピラニル、モルホリニル、チオモル
ホリニル、ピペラジニル等が挙げられる。該置換されて
いてもよい複素環基の置換基としては、炭素数１〜３個
のアルキル基（例：メチル、エチル、プロピル等）等が
挙げられる。これらの非芳香族複素環基は、ベンゼン
環、２個以下の窒素原子を含む６員環または１個の硫黄
原子を含む５員環と縮合していてもよく、例えば、縮合
非芳香族複素環基として、クロマニル、イソクロマニ
ル、インドリニル、イソインドリニル、チオクロマニル
またはイソチオクロマニルなどが挙げられる。
基としては、環系を構成する原子（環原子）として、酸
素、硫黄、窒素のうち少なくとも１個のヘテロ原子をも
つ芳香族複素環基、飽和あるいは不飽和の非芳香族複素
環基（脂肪族複素環基）が挙げられるが、好ましくは芳
香族複素環基である。該芳香族複素環基としては、例え
ば、１個の硫黄原子，窒素原子または酸素原子を含む５
ないし７員芳香族複素環基、２〜４個の窒素原子を含む
５または６員芳香族複素環基、１〜２個の窒素原子およ
び１個の硫黄原子または酸素原子を含む５または６員芳
香族複素環基が挙げられ、これらの芳香族複素環基は、
２個以下の窒素原子を含む６員環，ベンゼン環または１
個の硫黄原子を含む５員環と縮合していてもよい。該芳
香族複素環基としては、芳香族単環式複素環基（例、フ
リル、チエニル、ピロリル、オキサゾリル、イソオキサ
ゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、イミダゾリル、
ピラゾリル、１,２,３−オキサジアゾリル、１,２,４−
オキサジアゾリル、１，３，４−オキサジアゾリル、フ
ラザニル、１，２，３−チアジアゾリル、１，２，４−
チアジアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、１，
２，３−トリアゾリル、１，２，４−トリアゾリル、テ
トラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、
ピラジニル、トリアジニル等）及び芳香族縮合複素環基
（例：ベンゾフラニル、イソベンゾフラニル、ベンゾ
〔ｂ〕チエニル、インドリル、イソインドリル、１Ｈ−
インダゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾオキサゾリ
ル、１，２−ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾチアゾリ
ル、１，２−ベンゾイソチアゾリル、１Ｈ−ベンゾトリ
アゾリル、キノリル、イソキノリル、シンノリニル、キ
ナゾリニル、キノキサリニル、フタラジニル、ナフチリ
ジニル、プリニル、プテリジニル、カルバゾリル、α−
カルボリニル、β−カルボリニル、γ−カルボリニル、
アクリジニル、フェノキサジニル、フェノチアジニル、
フェナジニル、フェノキサチイニル、チアントレニル、
フェナトリジニル、フェナトロリニル、インドリジニ
ル、ピロロ〔１，２−ｂ〕ピリダジニル、ピラゾロ
〔１，５−ａ〕ピリジル、イミダゾ〔１，２−ａ〕ピリ
ジル、イミダゾ〔１，５−ａ〕ピリジル、イミダゾ
〔１，２−ｂ〕ピリダジニル、イミダゾ〔１，２−ａ〕
ピリミジニル、１，２，４−トリアゾロ〔４，３−ａ〕
ピリジル、１，２，４−トリアゾロ〔４，３−ｂ〕ピリ
ダジニル等）が挙げられるが、なかでもフリル、チエニ
ル、インドリル、イソインドリル、ピラジニル、ピリジ
ル、ピリミジニルなどが好ましい。該非芳香族複素環基
としては、１個の硫黄原子、窒素原子または酸素原子を
含む５ないし７員非芳香族複素環基または１個の窒素原
子および３個以下のヘテロ原子（例、窒素，酸素および
硫黄原子）を含む４ないし７員非芳香族複素環基が挙げ
られる。該非芳香族複素環基としては、例えば、オキシ
ラニル、アゼチジニル、オキセタニル、チエタニル、ピ
ロリジニル、テトラヒドロフリル、チオラニル、ピペリ
ジル、テトラヒドロピラニル、モルホリニル、チオモル
ホリニル、ピペラジニル等が挙げられる。該置換されて
いてもよい複素環基の置換基としては、炭素数１〜３個
のアルキル基（例：メチル、エチル、プロピル等）等が
挙げられる。これらの非芳香族複素環基は、ベンゼン
環、２個以下の窒素原子を含む６員環または１個の硫黄
原子を含む５員環と縮合していてもよく、例えば、縮合
非芳香族複素環基として、クロマニル、イソクロマニ
ル、インドリニル、イソインドリニル、チオクロマニル
またはイソチオクロマニルなどが挙げられる。
【００１２】該エステル化されていてもよいカルボキシ
ルとしては、カルボキシ、（低級Ｃ 1-6アルコキシ）カ
ルボニル（例、メトキシカルボニル，エトキシカルボニ
ル，プロポキシカルボニル，イソプロポキシカルボニ
ル，ブトキシカルボニル，tert−ブトキシカルボニル，
sec−ブトキシカルボニル，ペンチルオキシカルボニ
ル，イソペンチルオキシカルボニル，ネオペンチルオキ
シカルボニル，tert−ペンチルオキシカルボニルな
ど）、（Ｃ6-10アリールオキシ）カルボニル（例、フェ
ノキシカルボニル，１−ナフトキシカルボニルなど）、
（Ｃ7-13アラルキルオキシ）カルボニル（例、ベンジル
オキシカルボニルなど）などが挙げられる。なかでもカ
ルボキシル基，メトキシカルボニル，エトキシカルボニ
ルが好ましい。該置換されていてもよいカルバモイル基
の置換基としては、例えば、低級（Ｃ1-6）アルキル
（例、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチ
ル，イソブチル，sec−ブチル，tert−ブチル，ペンチ
ル，イソペンチル，ネオペンチル，ヘキシル，イソヘキ
シルなど）、Ｃ3-6シクロアルキル基（例、シクロプロ
ピル，シクロブチル，シクロペンチル，シクロヘキシル
など）、Ｃ6-10アリール基（例、フェニル，１−ナフチ
ル，２−ナフチルなど）、Ｃ7-13アラルキル基（例、ベ
ンジル，フェネチルなど）などが挙げられ、これらの置
換基が同一又は異なって１個又は２個置換していてもよ
い。該置換されていてもよいアミノ基の置換基として
は、例えば、低級（Ｃ1-6）アルキル（例、メチル，エ
チル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，
sec−ブチル，tert−ブチル，ペンチル，イソペンチ
ル，ネオペンチル，ヘキシル，イソヘキシルなど）、Ｃ
3-6シクロアルキル基（例、シクロプロピル，シクロブ
チル，シクロペンチル，シクロヘキシルなど）、Ｃ6-10
アリール基（例、フェニル，１−ナフチル，２−ナフチ
ルなど）、Ｃ7-13アラルキル基（例、ベンジル，フェネ
チルなど）などが挙げられ、これらの置換基が同一又は
異なって１個又は２個置換していてもよい。
ルとしては、カルボキシ、（低級Ｃ 1-6アルコキシ）カ
ルボニル（例、メトキシカルボニル，エトキシカルボニ
ル，プロポキシカルボニル，イソプロポキシカルボニ
ル，ブトキシカルボニル，tert−ブトキシカルボニル，
sec−ブトキシカルボニル，ペンチルオキシカルボニ
ル，イソペンチルオキシカルボニル，ネオペンチルオキ
シカルボニル，tert−ペンチルオキシカルボニルな
ど）、（Ｃ6-10アリールオキシ）カルボニル（例、フェ
ノキシカルボニル，１−ナフトキシカルボニルなど）、
（Ｃ7-13アラルキルオキシ）カルボニル（例、ベンジル
オキシカルボニルなど）などが挙げられる。なかでもカ
ルボキシル基，メトキシカルボニル，エトキシカルボニ
ルが好ましい。該置換されていてもよいカルバモイル基
の置換基としては、例えば、低級（Ｃ1-6）アルキル
（例、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチ
ル，イソブチル，sec−ブチル，tert−ブチル，ペンチ
ル，イソペンチル，ネオペンチル，ヘキシル，イソヘキ
シルなど）、Ｃ3-6シクロアルキル基（例、シクロプロ
ピル，シクロブチル，シクロペンチル，シクロヘキシル
など）、Ｃ6-10アリール基（例、フェニル，１−ナフチ
ル，２−ナフチルなど）、Ｃ7-13アラルキル基（例、ベ
ンジル，フェネチルなど）などが挙げられ、これらの置
換基が同一又は異なって１個又は２個置換していてもよ
い。該置換されていてもよいアミノ基の置換基として
は、例えば、低級（Ｃ1-6）アルキル（例、メチル，エ
チル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，
sec−ブチル，tert−ブチル，ペンチル，イソペンチ
ル，ネオペンチル，ヘキシル，イソヘキシルなど）、Ｃ
3-6シクロアルキル基（例、シクロプロピル，シクロブ
チル，シクロペンチル，シクロヘキシルなど）、Ｃ6-10
アリール基（例、フェニル，１−ナフチル，２−ナフチ
ルなど）、Ｃ7-13アラルキル基（例、ベンジル，フェネ
チルなど）などが挙げられ、これらの置換基が同一又は
異なって１個又は２個置換していてもよい。
【００１３】該置換されていてもよい水酸基の置換基と
しては、例えば、低級（Ｃ1-6）アルキル（例、メチ
ル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブ
チル，sec−ブチル，tert−ブチル，ペンチル，イソペ
ンチル，ネオペンチル，ヘキシル，イソヘキシルな
ど）、Ｃ3-6シクロアルキル基（例、シクロプロピル，
シクロブチル，シクロペンチル，シクロヘキシルな
ど）、Ｃ6-10アリール基（例、フェニル，１−ナフチ
ル，２−ナフチルなど）、Ｃ7-13アラルキル基（例、ベ
ンジル，フェネチルなど）などが挙げられる。該置換さ
れていてもよいチオール基における置換基としては、例
えば、低級（Ｃ1-6）アルキル（例、メチル，エチル，
プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，sec−
ブチル，tert−ブチル，ペンチル，イソペンチル，ネオ
ペンチル，ヘキシル，イソヘキシルなど）、Ｃ3-6シク
ロアルキル基（例、シクロプロピル，シクロブチル，シ
クロペンチル，シクロヘキシルなど）、Ｃ6-10アリール
基（例、フェニル，１−ナフチル，２−ナフチルな
ど）、Ｃ7-13アラルキル基（例、ベンジル，フェネチル
など）などが挙げられる。該置換されていてもよいホス
ホノ基における置換基としては、低級（Ｃ1-6）アルキ
ル（例、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブ
チル，イソブチル，sec.−ブチル，tert.−ブチル，ペ
ンチル，イソペンチル，ネオペンチル，ヘキシル，イソ
ヘキシルなど）、低級（Ｃ1-6）アルコキシ（例、メト
キシ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキ
シ，イソブトキシ，sec−ブトキシ，tert−ブトキシ，
ペンチルオキ，イソペンチルオキシ，ネオペンチルオキ
シ，ヘキシルオキシ，イソヘキシルオキシなど）が挙げ
られる。該置換されていてもよいホスホノ基としては、
ホスホリル、ジメトキシホスホリル、ジエトキシホスホ
リル、ジプロポキシホスホリル、ジイソプロポキシホス
ホリル、エチレンジオキシホスホリル、トリメチレンジ
オキシホスホリルまたはテトラメチレンジオキシホスホ
リルなどが挙げられる。また、Ｒ1，Ｒ2およびＲ3で表
わされる「置換されていてもよい炭化水素基」における
炭化水素基が脂環式炭化水素基またはアリール基である
場合、置換基としては、さらに置換されていてもよい脂
肪族炭化水素基であってもよい。該脂肪族炭化水素基と
しては、前記Ｒ1，Ｒ2およびＲ3で定義された「置換さ
れていてもよい炭化水素基」における飽和または不飽和
（好ましくは飽和）炭化水素基と同様なものが挙げられ
るが、好ましくは、アルキル基（例、メチル、エチル、
プロピルなどのＣ1-3アルキル）などが挙げられる。該
脂肪族炭化水素基は、置換可能な位置に任意の置換基を
１〜２個有していてもよく、該置換基としては置換され
ていてもよいホスホノ基（例、ホスホリル，ジメトキシ
ホスホリル，ジエトキシホスホリルなど）などが挙げら
れる。
しては、例えば、低級（Ｃ1-6）アルキル（例、メチ
ル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブ
チル，sec−ブチル，tert−ブチル，ペンチル，イソペ
ンチル，ネオペンチル，ヘキシル，イソヘキシルな
ど）、Ｃ3-6シクロアルキル基（例、シクロプロピル，
シクロブチル，シクロペンチル，シクロヘキシルな
ど）、Ｃ6-10アリール基（例、フェニル，１−ナフチ
ル，２−ナフチルなど）、Ｃ7-13アラルキル基（例、ベ
ンジル，フェネチルなど）などが挙げられる。該置換さ
れていてもよいチオール基における置換基としては、例
えば、低級（Ｃ1-6）アルキル（例、メチル，エチル，
プロピル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，sec−
ブチル，tert−ブチル，ペンチル，イソペンチル，ネオ
ペンチル，ヘキシル，イソヘキシルなど）、Ｃ3-6シク
ロアルキル基（例、シクロプロピル，シクロブチル，シ
クロペンチル，シクロヘキシルなど）、Ｃ6-10アリール
基（例、フェニル，１−ナフチル，２−ナフチルな
ど）、Ｃ7-13アラルキル基（例、ベンジル，フェネチル
など）などが挙げられる。該置換されていてもよいホス
ホノ基における置換基としては、低級（Ｃ1-6）アルキ
ル（例、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブ
チル，イソブチル，sec.−ブチル，tert.−ブチル，ペ
ンチル，イソペンチル，ネオペンチル，ヘキシル，イソ
ヘキシルなど）、低級（Ｃ1-6）アルコキシ（例、メト
キシ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキシ，ブトキ
シ，イソブトキシ，sec−ブトキシ，tert−ブトキシ，
ペンチルオキ，イソペンチルオキシ，ネオペンチルオキ
シ，ヘキシルオキシ，イソヘキシルオキシなど）が挙げ
られる。該置換されていてもよいホスホノ基としては、
ホスホリル、ジメトキシホスホリル、ジエトキシホスホ
リル、ジプロポキシホスホリル、ジイソプロポキシホス
ホリル、エチレンジオキシホスホリル、トリメチレンジ
オキシホスホリルまたはテトラメチレンジオキシホスホ
リルなどが挙げられる。また、Ｒ1，Ｒ2およびＲ3で表
わされる「置換されていてもよい炭化水素基」における
炭化水素基が脂環式炭化水素基またはアリール基である
場合、置換基としては、さらに置換されていてもよい脂
肪族炭化水素基であってもよい。該脂肪族炭化水素基と
しては、前記Ｒ1，Ｒ2およびＲ3で定義された「置換さ
れていてもよい炭化水素基」における飽和または不飽和
（好ましくは飽和）炭化水素基と同様なものが挙げられ
るが、好ましくは、アルキル基（例、メチル、エチル、
プロピルなどのＣ1-3アルキル）などが挙げられる。該
脂肪族炭化水素基は、置換可能な位置に任意の置換基を
１〜２個有していてもよく、該置換基としては置換され
ていてもよいホスホノ基（例、ホスホリル，ジメトキシ
ホスホリル，ジエトキシホスホリルなど）などが挙げら
れる。
【００１４】上記した中でも、Ｒ1，Ｒ2およびＲ3で表
される「置換されていてもよい炭化水素基」の炭化水素
基としては、アルキル基、好ましくはＣ1-10アルキル、
とりわけ、直鎖状または分枝状の炭素数１〜６の低級ア
ルキルなど（例、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチ
ル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、tert-ペ
ンチル、ヘキシル、イソヘキシル、４−メチルペンチ
ル、１，１−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチ
ル、３，３−ジメチルブチル、２−エチルブチルなど）
が好ましく挙げられる。また該「置換されていてもよい
炭化水素基」の置換基としては、置換されていてもよい
アリール（好ましくはフェニルなど），置換されていて
もよい複素環が好ましい。
される「置換されていてもよい炭化水素基」の炭化水素
基としては、アルキル基、好ましくはＣ1-10アルキル、
とりわけ、直鎖状または分枝状の炭素数１〜６の低級ア
ルキルなど（例、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチ
ル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、tert-ペ
ンチル、ヘキシル、イソヘキシル、４−メチルペンチ
ル、１，１−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチ
ル、３，３−ジメチルブチル、２−エチルブチルなど）
が好ましく挙げられる。また該「置換されていてもよい
炭化水素基」の置換基としては、置換されていてもよい
アリール（好ましくはフェニルなど），置換されていて
もよい複素環が好ましい。
【００１５】Ｒ1，Ｒ2およびＲ3で表される「置換され
ていてもよい炭化水素基」としては、より好ましくは、
アリールまたは複素環（好ましくは、複素環）で置換さ
れていてもよいアルキル基が挙げられる。該アリールま
たは複素環で置換されていてもよいアルキル基（好まし
くは、炭素数１〜６の低級アルキル（好ましくはＣ1-4
アルキル））のうち、アリールで置換されたアルキルと
しては、例えば、炭素数６〜１４の単環式または縮合多
環式の芳香族炭化水素基（例、フェニル、ナフチル、ア
ントリル、フェナントリル、アセナフチレニルなど）と
Ｃ1-6アルキルとが結合したもの（例えば、ベンジル、
２−フェニルエチル、３−フェニルプロピル、２−フェ
ニルプロピル、１−フェニルプロピル、α−ナフチルメ
チル、α−ナフチルエチル、β−ナフチルメチル、β−
ナフチルエチルなど）などが、複素環で置換されたアル
キルとしては、芳香族複素環基とＣ1-6アルキル（好ま
しくはＣ1-4アルキル）とが結合したものが挙げられ
る。該芳香族複素環基としては、例えば、２−フリル、
３−フリル、２−チエニル、３−チエニル、２−ピリジ
ル、３−ピリジル、４−ピリジル、２−ピリミジニル、
４−ピリミジニル、５−ピリミジニル、６−ピリミジニ
ル、３−ピリダジニル、４−ピリダジニル、２−ピラジ
ニル、２−ピロリル、３−ピロリル、２−イミダゾリ
ル、４−イミダゾリル、５−イミダゾリル、３−ピラゾ
リル、４−ピラゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾ
リル、２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリ
ル、２−オキサゾリル、４−オキサゾリル、５−オキサ
ゾリル、１,２,４−トリアゾール−３−イル、１,２,３
−トリアゾール−４−イル、テトラゾール−５−イル、
ベンズイミダゾール−２−イル、インドール−２−イ
ル、インドール−３−イル、1H-インダゾリル、ベンゾ
〔b〕フラニル、イソベンゾフラニル、ベンズ〔b〕チエ
ニル、１Ｈ−ピロロ〔２,３−ｂ〕ピラジン−２−イ
ル、１Ｈ−ピロロ〔２,３−ｂ〕ピリジン−６−イル、
１Ｈ−イミダゾ〔４,５−ｂ〕ピリジン−２−イル、１
Ｈ−イミダゾ〔４,５−ｃ〕ピリジン−２−イル、１Ｈ
−イミダゾ〔４,５−ｂ〕ピラジン−２−イル等が挙げ
られるが、好ましくは、２−ピリジル、３−ピリジル、
４−ピリジル、４−イミダゾリル、２−チエニル、２−
フリル、インドール−２−イル、インドール−３−イル
などが挙げられる。
ていてもよい炭化水素基」としては、より好ましくは、
アリールまたは複素環（好ましくは、複素環）で置換さ
れていてもよいアルキル基が挙げられる。該アリールま
たは複素環で置換されていてもよいアルキル基（好まし
くは、炭素数１〜６の低級アルキル（好ましくはＣ1-4
アルキル））のうち、アリールで置換されたアルキルと
しては、例えば、炭素数６〜１４の単環式または縮合多
環式の芳香族炭化水素基（例、フェニル、ナフチル、ア
ントリル、フェナントリル、アセナフチレニルなど）と
Ｃ1-6アルキルとが結合したもの（例えば、ベンジル、
２−フェニルエチル、３−フェニルプロピル、２−フェ
ニルプロピル、１−フェニルプロピル、α−ナフチルメ
チル、α−ナフチルエチル、β−ナフチルメチル、β−
ナフチルエチルなど）などが、複素環で置換されたアル
キルとしては、芳香族複素環基とＣ1-6アルキル（好ま
しくはＣ1-4アルキル）とが結合したものが挙げられ
る。該芳香族複素環基としては、例えば、２−フリル、
３−フリル、２−チエニル、３−チエニル、２−ピリジ
ル、３−ピリジル、４−ピリジル、２−ピリミジニル、
４−ピリミジニル、５−ピリミジニル、６−ピリミジニ
ル、３−ピリダジニル、４−ピリダジニル、２−ピラジ
ニル、２−ピロリル、３−ピロリル、２−イミダゾリ
ル、４−イミダゾリル、５−イミダゾリル、３−ピラゾ
リル、４−ピラゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾ
リル、２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリ
ル、２−オキサゾリル、４−オキサゾリル、５−オキサ
ゾリル、１,２,４−トリアゾール−３−イル、１,２,３
−トリアゾール−４−イル、テトラゾール−５−イル、
ベンズイミダゾール−２−イル、インドール−２−イ
ル、インドール−３−イル、1H-インダゾリル、ベンゾ
〔b〕フラニル、イソベンゾフラニル、ベンズ〔b〕チエ
ニル、１Ｈ−ピロロ〔２,３−ｂ〕ピラジン−２−イ
ル、１Ｈ−ピロロ〔２,３−ｂ〕ピリジン−６−イル、
１Ｈ−イミダゾ〔４,５−ｂ〕ピリジン−２−イル、１
Ｈ−イミダゾ〔４,５−ｃ〕ピリジン−２−イル、１Ｈ
−イミダゾ〔４,５−ｂ〕ピラジン−２−イル等が挙げ
られるが、好ましくは、２−ピリジル、３−ピリジル、
４−ピリジル、４−イミダゾリル、２−チエニル、２−
フリル、インドール−２−イル、インドール−３−イル
などが挙げられる。
【００１６】Ｒ1としては、複素環で置換されたアルキ
ルが好ましく、さらに好ましくは、インドール−３−イ
ルメチルなどが挙げられる。Ｒ2およびＲ3としては、好
ましくは、同一または異なって、直鎖または分枝状のＣ
1-6アルキル基、さらに好ましくは、sec−ブチル、ベン
ジル、イソブチル、イソプロピルなどが挙げられる。ま
た、Ｒ1およびＲ2としては、例えば、Ｒ1がインドール
−３−イルメチルであり、かつＲ2が、sec−ブチル、ベ
ンジル、イソブチルまたはイソプロピルである組み合わ
せが好ましい。Ｒ1，Ｒ2およびＲ3としては、例えば、
Ｒ1がインドール−３−イルメチルであり、Ｒ2がsec−
ブチル、ベンジル、イソブチルまたはイソプロピルであ
り、かつＲ3がsec−ブチル、ベンジル、イソブチルまた
はイソプロピルである組み合わせが好ましい。
ルが好ましく、さらに好ましくは、インドール−３−イ
ルメチルなどが挙げられる。Ｒ2およびＲ3としては、好
ましくは、同一または異なって、直鎖または分枝状のＣ
1-6アルキル基、さらに好ましくは、sec−ブチル、ベン
ジル、イソブチル、イソプロピルなどが挙げられる。ま
た、Ｒ1およびＲ2としては、例えば、Ｒ1がインドール
−３−イルメチルであり、かつＲ2が、sec−ブチル、ベ
ンジル、イソブチルまたはイソプロピルである組み合わ
せが好ましい。Ｒ1，Ｒ2およびＲ3としては、例えば、
Ｒ1がインドール−３−イルメチルであり、Ｒ2がsec−
ブチル、ベンジル、イソブチルまたはイソプロピルであ
り、かつＲ3がsec−ブチル、ベンジル、イソブチルまた
はイソプロピルである組み合わせが好ましい。
【００１７】一般式（I）および（II）において、Ｒ4で
表される「アシル基」としては、置換されていてもよい
有機酸由来のアシル基が挙げられる。該置換されていて
もよい有機酸由来のアシル基としては、置換されていて
もよいカルバミン酸、置換されていてもよいチオカルバ
ミン酸、置換されていてもよいカルボン酸、置換されて
いてもよいスルフィン酸、置換されていてもよいスルホ
ン酸などから由来するアシル基などが挙げられ、例え
ば、それぞれ一般式−ＣＯＮＨＲ7，−ＣＳＮＨＲ8，−
ＣＯＲ9、−ＳＯＲ10，−ＳＯ2Ｒ11〔Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、
Ｒ10およびＲ11は、それぞれ同一または異なって、水素
または置換されていてもよい炭化水素基あるいは複素環
基を示す。〕などで表される基が挙げられる。Ｒ7、
Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10およびＲ11で表される「置換されていて
もよい炭化水素基」における炭化水素基としては、前記
Ｒ1，Ｒ2およびＲ3で定義された「置換されていてもよ
い炭化水素基」における炭化水素基と同様なものが挙げ
られる。Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10およびＲ11で表される
「置換されていてもよい炭化水素基」における炭化水素
基は、置換可能な位置に、任意の置換基を１〜３個有し
ていてよく、該置換基としては、前記Ｒ1，Ｒ2およびＲ
3で定義された「置換されていてもよい炭化水素基」に
おける置換基と同様なものが挙げられる。。
表される「アシル基」としては、置換されていてもよい
有機酸由来のアシル基が挙げられる。該置換されていて
もよい有機酸由来のアシル基としては、置換されていて
もよいカルバミン酸、置換されていてもよいチオカルバ
ミン酸、置換されていてもよいカルボン酸、置換されて
いてもよいスルフィン酸、置換されていてもよいスルホ
ン酸などから由来するアシル基などが挙げられ、例え
ば、それぞれ一般式−ＣＯＮＨＲ7，−ＣＳＮＨＲ8，−
ＣＯＲ9、−ＳＯＲ10，−ＳＯ2Ｒ11〔Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、
Ｒ10およびＲ11は、それぞれ同一または異なって、水素
または置換されていてもよい炭化水素基あるいは複素環
基を示す。〕などで表される基が挙げられる。Ｒ7、
Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10およびＲ11で表される「置換されていて
もよい炭化水素基」における炭化水素基としては、前記
Ｒ1，Ｒ2およびＲ3で定義された「置換されていてもよ
い炭化水素基」における炭化水素基と同様なものが挙げ
られる。Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10およびＲ11で表される
「置換されていてもよい炭化水素基」における炭化水素
基は、置換可能な位置に、任意の置換基を１〜３個有し
ていてよく、該置換基としては、前記Ｒ1，Ｒ2およびＲ
3で定義された「置換されていてもよい炭化水素基」に
おける置換基と同様なものが挙げられる。。
【００１８】Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10およびＲ11で表され
る「置換されていてもよい複素環基」における複素環基
としては、前記Ｒ1，Ｒ2およびＲ3で定義された「置換
されていてもよい炭化水素基」における置換基として定
義された複素環基と同様なものが挙げられる。Ｒ7、
Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10およびＲ11で表される「置換されていて
もよい複素環基」における複素環基は、置換可能な位置
に、任意の置換基を１〜３個有していてよく、該置換基
としては、前記Ｒ1，Ｒ2およびＲ3で定義された「置換
されていてもよい炭化水素基」における置換基と同様な
ものが挙げられる。Ｒ4で表される「アシル基」として
は、例えば、アルカノイル基（例、ホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリ
ル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、バルプ
ロイルなどの（低級Ｃ1-6アルキル）カルボニル基）、
アルケノイル基（例、アクリロイル、メタクリロイル、
クロトノイル、イソクロトノイルなどの（低級Ｃ2-6ア
ルケニル）カルボニル基）、シクロアルカンカルボニル
基（例、シクロプロパンカルボニル、シクロブタンカル
ボニル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘキサンカ
ルボニルなどの（Ｃ3-6シクロアルキル）カルボニル
基）、シクロアルケニルカルボニル基（例、シクロプロ
ペニルカルボニル、シクロブテニルカルボニル、シクロ
ペンテニルカルボニル、シクロヘキセニルカルボニルな
どの（Ｃ3-7シクロアルケニル）カルボニル基）、アル
カンスルホニル基（例、メシル、エタンスルホニル、プ
ロパンスルホニルなどの（低級Ｃ1-6アルキル）スルホ
ニル基）などの脂肪族アシル基、アロイル基（例、ベン
ゾイル、p-トルオイル、1-ナフトイル、2-ナフトイルな
どの（Ｃ6-10アリール）カルボニル基）、アリールアル
カノイル基（例、フェニルアセチル、フェニルプロピオ
ニル、ヒドロアトロポイル、フェニルブチリルなどのＣ
6-10アリール基で置換された（Ｃ1-6アルキル）カルボ
ニル基）、アリールアルケノイル基（例、シンナモイ
ル、アトロポイルなどのＣ6-10アリール基で置換された
（Ｃ2-6アルケニル）カルボニル基）、アリールスルホ
ニル基（例、ベンゼンスルホニル基、p-トルエンスルホ
ニル基などのＣ6-10アリールスルホニル基）などの芳香
族アシル基、芳香族複素環カルボニル基（例、フロイ
ル、テノイル、ニコチノイル、イソニコチノイル、ピロ
ールカルボニル、オキサゾールカルボニル、イミダゾー
ルカルボニル、ピラゾールカルボニルなどの芳香族複素
環カルボニル基）、芳香族複素環アルカノイル基（例、
チエニルアセチル、チエニルプロパノイル、フリルアセ
チル、チアゾリルアセチル、1,2,4-チアジアゾリルアセ
チル、ピリジルアセチルなどの芳香族複素環基が置換し
た（Ｃ1-6アルキル）カルボニル基）などの芳香族アシ
ル基などが挙げられる。
る「置換されていてもよい複素環基」における複素環基
としては、前記Ｒ1，Ｒ2およびＲ3で定義された「置換
されていてもよい炭化水素基」における置換基として定
義された複素環基と同様なものが挙げられる。Ｒ7、
Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10およびＲ11で表される「置換されていて
もよい複素環基」における複素環基は、置換可能な位置
に、任意の置換基を１〜３個有していてよく、該置換基
としては、前記Ｒ1，Ｒ2およびＲ3で定義された「置換
されていてもよい炭化水素基」における置換基と同様な
ものが挙げられる。Ｒ4で表される「アシル基」として
は、例えば、アルカノイル基（例、ホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリ
ル、イソバレリル、ピバロイル、ヘキサノイル、バルプ
ロイルなどの（低級Ｃ1-6アルキル）カルボニル基）、
アルケノイル基（例、アクリロイル、メタクリロイル、
クロトノイル、イソクロトノイルなどの（低級Ｃ2-6ア
ルケニル）カルボニル基）、シクロアルカンカルボニル
基（例、シクロプロパンカルボニル、シクロブタンカル
ボニル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘキサンカ
ルボニルなどの（Ｃ3-6シクロアルキル）カルボニル
基）、シクロアルケニルカルボニル基（例、シクロプロ
ペニルカルボニル、シクロブテニルカルボニル、シクロ
ペンテニルカルボニル、シクロヘキセニルカルボニルな
どの（Ｃ3-7シクロアルケニル）カルボニル基）、アル
カンスルホニル基（例、メシル、エタンスルホニル、プ
ロパンスルホニルなどの（低級Ｃ1-6アルキル）スルホ
ニル基）などの脂肪族アシル基、アロイル基（例、ベン
ゾイル、p-トルオイル、1-ナフトイル、2-ナフトイルな
どの（Ｃ6-10アリール）カルボニル基）、アリールアル
カノイル基（例、フェニルアセチル、フェニルプロピオ
ニル、ヒドロアトロポイル、フェニルブチリルなどのＣ
6-10アリール基で置換された（Ｃ1-6アルキル）カルボ
ニル基）、アリールアルケノイル基（例、シンナモイ
ル、アトロポイルなどのＣ6-10アリール基で置換された
（Ｃ2-6アルケニル）カルボニル基）、アリールスルホ
ニル基（例、ベンゼンスルホニル基、p-トルエンスルホ
ニル基などのＣ6-10アリールスルホニル基）などの芳香
族アシル基、芳香族複素環カルボニル基（例、フロイ
ル、テノイル、ニコチノイル、イソニコチノイル、ピロ
ールカルボニル、オキサゾールカルボニル、イミダゾー
ルカルボニル、ピラゾールカルボニルなどの芳香族複素
環カルボニル基）、芳香族複素環アルカノイル基（例、
チエニルアセチル、チエニルプロパノイル、フリルアセ
チル、チアゾリルアセチル、1,2,4-チアジアゾリルアセ
チル、ピリジルアセチルなどの芳香族複素環基が置換し
た（Ｃ1-6アルキル）カルボニル基）などの芳香族アシ
ル基などが挙げられる。
【００１９】上記した中でも、Ｒ4で表されるアシル基
としては、式−ＣＯＲ9で表される基，式−ＳＯ2Ｒ11で
表される基が好ましく、さらに好ましくは、式−ＳＯ2
Ｒ11で表される基である。式−ＣＯＲ9で表される基と
しては、さらに好ましくは、式−ＣＯＲ9'〔Ｒ9'は水素
または置換されていてもよいアルキル，アルケニルもし
くは芳香族基を示す〕で表される基が挙げられる。Ｒ9'
で表される「置換されていてもよいアルキル」における
アルキルとしては、低級（Ｃ1-6）アルキル（例、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペン
チル、ネオペンチル、tert-ペンチル、ヘキシル、イソ
ヘキシルなど）が挙げられる。Ｒ9'で表される「置換さ
れていてもよいアルケニル」におけるアルケニルとして
は、低級（Ｃ2-6）アルケニル（例、エテニル、1-プロ
ペニル、2-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブ
テニル、2-メチル-1-プロペニル、1-ペンテニル、2ーペ
ンテニル、3-ペンテニル、4-ペンテニル、3-メチル-2-
ブテニル、1-ヘキセニル、3-ヘキセニル、2,4-ヘキサジ
エニル、5-ヘキセニルなど）が挙げられる。Ｒ9'で表さ
れる「置換されていてもよいアルキル」におけるアルキ
ルおよび「置換されていてもよいアルケニル」における
アルケニルは、それぞれ置換可能な位置に、任意の置換
基を１〜２個有していてもよく、該置換基としては、置
換されていてもよいアリール基（好ましくは、フェニ
ル、１−ナフチル、２−ナフチル）などが挙げられる。
該アリールは、置換可能な位置に、任意の置換基を１〜
２個有していてもよく、該置換基としては、置換されて
いてもよいアルキル基（例、メチル、エチル、プロピル
等のＣ1-3アルキル）等が挙げられる。該アルキル基
は、置換可能な位置に任意の置換基を１〜２個有してい
てもよく、該置換基としては置換されていてもよいホス
ホノ基（例、ホスホリル、ジメトキシホスホリル，ジエ
トキシホスホリルなど）などが挙げられる。
としては、式−ＣＯＲ9で表される基，式−ＳＯ2Ｒ11で
表される基が好ましく、さらに好ましくは、式−ＳＯ2
Ｒ11で表される基である。式−ＣＯＲ9で表される基と
しては、さらに好ましくは、式−ＣＯＲ9'〔Ｒ9'は水素
または置換されていてもよいアルキル，アルケニルもし
くは芳香族基を示す〕で表される基が挙げられる。Ｒ9'
で表される「置換されていてもよいアルキル」における
アルキルとしては、低級（Ｃ1-6）アルキル（例、メチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペンチル、イソペン
チル、ネオペンチル、tert-ペンチル、ヘキシル、イソ
ヘキシルなど）が挙げられる。Ｒ9'で表される「置換さ
れていてもよいアルケニル」におけるアルケニルとして
は、低級（Ｃ2-6）アルケニル（例、エテニル、1-プロ
ペニル、2-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブ
テニル、2-メチル-1-プロペニル、1-ペンテニル、2ーペ
ンテニル、3-ペンテニル、4-ペンテニル、3-メチル-2-
ブテニル、1-ヘキセニル、3-ヘキセニル、2,4-ヘキサジ
エニル、5-ヘキセニルなど）が挙げられる。Ｒ9'で表さ
れる「置換されていてもよいアルキル」におけるアルキ
ルおよび「置換されていてもよいアルケニル」における
アルケニルは、それぞれ置換可能な位置に、任意の置換
基を１〜２個有していてもよく、該置換基としては、置
換されていてもよいアリール基（好ましくは、フェニ
ル、１−ナフチル、２−ナフチル）などが挙げられる。
該アリールは、置換可能な位置に、任意の置換基を１〜
２個有していてもよく、該置換基としては、置換されて
いてもよいアルキル基（例、メチル、エチル、プロピル
等のＣ1-3アルキル）等が挙げられる。該アルキル基
は、置換可能な位置に任意の置換基を１〜２個有してい
てもよく、該置換基としては置換されていてもよいホス
ホノ基（例、ホスホリル、ジメトキシホスホリル，ジエ
トキシホスホリルなど）などが挙げられる。
【００２０】Ｒ9'で表される「置換されていてもよい芳
香族基」における芳香族基としては、好ましくは、フリ
ル、チエニル、インドリル、イソインドリル、ピラジニ
ル、ピリジル、ピリミジニルなどが挙げられる。Ｒ9'で
表される「置換されていてもよい芳香族基」における芳
香族は、置換可能な位置に、任意の置換基を有していて
もよく、該置換基としては、炭素数１〜３のアルキル
（例、メチル、エチル、プロピル等），ハロゲンなどが
挙げられる。式−ＳＯ2Ｒ11で表される基としては、さ
らに好ましくは、式−ＳＯ2Ｒ11'で表される基［Ｒ11'
は置換されていてもよいアリール基を示す〕で表される
基が挙げられる。Ｒ11'で表される「置換されていても
よいアリール基」におけるアリールとしては、例えば、
フェニル、1-ナフチル、2-ナフチルなどのＣ6-14アリー
ルが挙げられる。該アリール基は、置換可能な位置に任
意の置換基を１〜２個有していてもよく、該置換基とし
ては、置換されていてもよいアルキル基（例、メチル、
エチル、プロピル等のＣ1-3アルキル）等が挙げられ
る。該アルキル基は、置換可能な位置に任意の置換基を
１〜２個有していてもよく、該置換基としては置換され
ていてもよいホスホノ基（例、ホスホリル、ジメトキシ
ホスホリル，ジエトキシホスホリルなど）などが挙げら
れる。
香族基」における芳香族基としては、好ましくは、フリ
ル、チエニル、インドリル、イソインドリル、ピラジニ
ル、ピリジル、ピリミジニルなどが挙げられる。Ｒ9'で
表される「置換されていてもよい芳香族基」における芳
香族は、置換可能な位置に、任意の置換基を有していて
もよく、該置換基としては、炭素数１〜３のアルキル
（例、メチル、エチル、プロピル等），ハロゲンなどが
挙げられる。式−ＳＯ2Ｒ11で表される基としては、さ
らに好ましくは、式−ＳＯ2Ｒ11'で表される基［Ｒ11'
は置換されていてもよいアリール基を示す〕で表される
基が挙げられる。Ｒ11'で表される「置換されていても
よいアリール基」におけるアリールとしては、例えば、
フェニル、1-ナフチル、2-ナフチルなどのＣ6-14アリー
ルが挙げられる。該アリール基は、置換可能な位置に任
意の置換基を１〜２個有していてもよく、該置換基とし
ては、置換されていてもよいアルキル基（例、メチル、
エチル、プロピル等のＣ1-3アルキル）等が挙げられ
る。該アルキル基は、置換可能な位置に任意の置換基を
１〜２個有していてもよく、該置換基としては置換され
ていてもよいホスホノ基（例、ホスホリル、ジメトキシ
ホスホリル，ジエトキシホスホリルなど）などが挙げら
れる。
【００２１】上記式（I）において、Ｒ5およびＲ6で表
される「置換されていてもよい炭化水素基」における炭
化水素基としては、飽和または不飽和の脂肪族鎖式炭化
水素基、飽和または不飽和の脂環式炭化水素基、アリー
ル基などが挙げられる。該飽和脂肪族炭化水素基として
は、例えば、炭素数１〜１０の直鎖状または分枝状の飽
和脂肪族炭化水素基など（例、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、
tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチ
ル、tert-ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチ
ル、オクチルなどのＣ1-10アルキル基など）が挙げら
れ、好ましくは炭素数１〜６の直鎖状または分枝状の飽
和脂肪族炭化水素基などが挙げられる。該不飽和脂肪族
炭化水素基としては、炭素数２〜１０の直鎖状または分
枝状の不飽和脂肪族炭化水素基など（例、エテニル、1-
プロペニル、2-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、
3-ブテニル、2-メチル-1-プロペニル、1-ペンテニル、2
ーペンテニル、3-ペンテニル、4-ペンテニル、3-メチル-
2-ブテニル、1-ヘキセニル、3-ヘキセニル、2,4-ヘキサ
ジエニル、5-ヘキセニル、1-ヘプテニル、1-オクテニル
などのＣ2-10アルケニル基など、エチニル、1-プロピニ
ル、2-プロピニル、1-ブチニル、2-ブチニル、3-ブチニ
ル、1-ペンチニル、2-ペンチニル、3-ペンチニル、4-ペ
ンチニル、1-ヘキシニル、3-ヘキシニル、2,4-ヘキサジ
イニル、5-ヘキシニル、1-ヘプチニル、1-オクチニルな
どのＣ2-10アルキニル基など）が挙げられ、好ましく
は、炭素数２〜６の直鎖状または分枝状の不飽和脂肪族
炭化水素基などが挙げられる。
される「置換されていてもよい炭化水素基」における炭
化水素基としては、飽和または不飽和の脂肪族鎖式炭化
水素基、飽和または不飽和の脂環式炭化水素基、アリー
ル基などが挙げられる。該飽和脂肪族炭化水素基として
は、例えば、炭素数１〜１０の直鎖状または分枝状の飽
和脂肪族炭化水素基など（例、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec-ブチル、
tert-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチ
ル、tert-ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチ
ル、オクチルなどのＣ1-10アルキル基など）が挙げら
れ、好ましくは炭素数１〜６の直鎖状または分枝状の飽
和脂肪族炭化水素基などが挙げられる。該不飽和脂肪族
炭化水素基としては、炭素数２〜１０の直鎖状または分
枝状の不飽和脂肪族炭化水素基など（例、エテニル、1-
プロペニル、2-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、
3-ブテニル、2-メチル-1-プロペニル、1-ペンテニル、2
ーペンテニル、3-ペンテニル、4-ペンテニル、3-メチル-
2-ブテニル、1-ヘキセニル、3-ヘキセニル、2,4-ヘキサ
ジエニル、5-ヘキセニル、1-ヘプテニル、1-オクテニル
などのＣ2-10アルケニル基など、エチニル、1-プロピニ
ル、2-プロピニル、1-ブチニル、2-ブチニル、3-ブチニ
ル、1-ペンチニル、2-ペンチニル、3-ペンチニル、4-ペ
ンチニル、1-ヘキシニル、3-ヘキシニル、2,4-ヘキサジ
イニル、5-ヘキシニル、1-ヘプチニル、1-オクチニルな
どのＣ2-10アルキニル基など）が挙げられ、好ましく
は、炭素数２〜６の直鎖状または分枝状の不飽和脂肪族
炭化水素基などが挙げられる。
【００２２】該飽和脂環式炭化水素基としては、炭素数
３〜１２の飽和脂環式炭化水素基など（例、シクロプロ
ピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘプチル、シクロオクチル、ビシクロ〔2.2.
1〕ヘプチル、ビシクロ〔2.2.2〕オクチル、ビシクロ
〔3.2.1〕オクチル、ビシクロ〔3.2.2〕ノニル、ビシク
ロ〔3.3.1〕ノニル、ビシクロ〔4.2.1〕ノニル、ビシク
ロ〔4.3.1〕デシルなどのＣ3-12シクロアルキル基な
ど）が挙げられ、好ましくは、炭素数３〜６の飽和脂環
式炭化水素基などが挙げられる。該不飽和脂環式炭化水
素基としては、炭素数５〜１２の不飽和脂環式炭化水素
基など（例、1-シクロペンテニル、2-シクロペンテニ
ル、3-シクロペンテニル、1-シクロヘキセニル、2-シク
ロヘキセニル、3-シクロヘキセニル、1-シクロヘプテニ
ル、2-シクロヘプテニル、3-シクロヘプテニル、2,4-シ
クロヘプタジエニル、2-シクロペンテン-1-イル、3-シ
クロペンテン-1-イル、2-シクロヘキセン-1-イル、3-シ
クロヘキセン-1-イルなどのＣ5-12シクロアルケニル基
など、また、2,4-シクロペンタジエン-1-イル、2,4-シ
クロヘキサジエン-1-イル、2,5-シクロヘキサジエン-1-
イルなどのＣ5-12シクロアルカジエニル基）が挙げられ
る。また、Ｒ5およびＲ6で表される「置換されていても
よい炭化水素基」の炭化水素基としては、上記の飽和ま
たは不飽和の脂環式炭化水素基で置換された炭素数１〜
８の飽和脂肪族炭化水素基など（例、Ｃ3-7シクロアル
キル−Ｃ1-8アルキルなどまたはＣ5-7シクロアルケニル
−Ｃ1-8アルキルなど、具体的には例えば、シクロプロ
ピルメチル、シクロプロピルエチル、シクロブチルメチ
ル、シクロペンチルメチル、2-シクロペンテニルメチ
ル、3-シクロペンテニルメチル、シクロヘキシルメチ
ル、2-シクロヘキセニルメチル、3-シクロヘキセニルメ
チル、シクロヘキシルエチル、シクロヘキシルプロピ
ル、シクロヘプチルメチル、シクロヘプチルエチルな
ど）であってもよい。
３〜１２の飽和脂環式炭化水素基など（例、シクロプロ
ピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、シクロヘプチル、シクロオクチル、ビシクロ〔2.2.
1〕ヘプチル、ビシクロ〔2.2.2〕オクチル、ビシクロ
〔3.2.1〕オクチル、ビシクロ〔3.2.2〕ノニル、ビシク
ロ〔3.3.1〕ノニル、ビシクロ〔4.2.1〕ノニル、ビシク
ロ〔4.3.1〕デシルなどのＣ3-12シクロアルキル基な
ど）が挙げられ、好ましくは、炭素数３〜６の飽和脂環
式炭化水素基などが挙げられる。該不飽和脂環式炭化水
素基としては、炭素数５〜１２の不飽和脂環式炭化水素
基など（例、1-シクロペンテニル、2-シクロペンテニ
ル、3-シクロペンテニル、1-シクロヘキセニル、2-シク
ロヘキセニル、3-シクロヘキセニル、1-シクロヘプテニ
ル、2-シクロヘプテニル、3-シクロヘプテニル、2,4-シ
クロヘプタジエニル、2-シクロペンテン-1-イル、3-シ
クロペンテン-1-イル、2-シクロヘキセン-1-イル、3-シ
クロヘキセン-1-イルなどのＣ5-12シクロアルケニル基
など、また、2,4-シクロペンタジエン-1-イル、2,4-シ
クロヘキサジエン-1-イル、2,5-シクロヘキサジエン-1-
イルなどのＣ5-12シクロアルカジエニル基）が挙げられ
る。また、Ｒ5およびＲ6で表される「置換されていても
よい炭化水素基」の炭化水素基としては、上記の飽和ま
たは不飽和の脂環式炭化水素基で置換された炭素数１〜
８の飽和脂肪族炭化水素基など（例、Ｃ3-7シクロアル
キル−Ｃ1-8アルキルなどまたはＣ5-7シクロアルケニル
−Ｃ1-8アルキルなど、具体的には例えば、シクロプロ
ピルメチル、シクロプロピルエチル、シクロブチルメチ
ル、シクロペンチルメチル、2-シクロペンテニルメチ
ル、3-シクロペンテニルメチル、シクロヘキシルメチ
ル、2-シクロヘキセニルメチル、3-シクロヘキセニルメ
チル、シクロヘキシルエチル、シクロヘキシルプロピ
ル、シクロヘプチルメチル、シクロヘプチルエチルな
ど）であってもよい。
【００２３】アリール基としては、単環式または縮合多
環式の炭素数６〜１４の芳香族炭化水素環基などが挙げ
られる。該芳香族炭化水素環基としては、例えば、フェ
ニル、トリル、キシリル、ビフェニル、１−または２−
ナフチル、１−、２−または９−アントリル、１−、２
−、３−、４−または９−フェナントリル、１−、２
−、４−、５−または６−アズレニル、アセナフチレニ
ルなどのＣ6-14アリールが挙げられ、なかでもフェニ
ル、1-ナフチル、2-ナフチルなどのＣ6-10アリールが好
ましい。Ｒ5およびＲ6で表される「置換されていてもよ
い炭化水素基」における炭化水素基は、置換可能な位置
に、任意の置換基を１〜３個有していてもよい。該置換
基としては、置換されていてもよいアリール基、置換さ
れていてもよいシクロアルキル基もしくはシクロアルケ
ニル基、置換されていてもよい複素環基、エステル化さ
れていてもよいカルボキシル基、置換されていてもよい
カルバモイル基、置換されていてもよいアミノ基、置換
されていてもよい水酸基、置換されていてもよいチオー
ル基、ハロゲン（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、
置換されていてもよいホスホノ基等が挙げられる。該置
換されていてもよいアリール基のアリール基としては、
フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、ア
セナフチレニル等のＣ6-14アリールが挙げられ、なかで
もフェニル、１−ナフチル、２−ナフチルなどのＣ6-10
アリールが好ましい。該アリールは、置換可能な位置
に、任意の置換基を１〜２個有していてもよく、該置換
基としては、水酸基、置換されていてもよいアルコキシ
基（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ等のＣ1-3ア
ルコキシ）、ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、
ヨウ素）、置換されていてもよいアルキル基（例、メチ
ル、エチル、プロピル等のＣ1-3アルキル）等が挙げら
れる。該アルコキシ基およびアルキル基は、置換可能な
位置に任意の置換基を１〜２個有していてもよく、該置
換基としては置換されていてもよいホスホノ基（例、ホ
スホリル，ジメトキシホスホリル，ジエトキシホスホリ
ルなど）などが挙げられる。
環式の炭素数６〜１４の芳香族炭化水素環基などが挙げ
られる。該芳香族炭化水素環基としては、例えば、フェ
ニル、トリル、キシリル、ビフェニル、１−または２−
ナフチル、１−、２−または９−アントリル、１−、２
−、３−、４−または９−フェナントリル、１−、２
−、４−、５−または６−アズレニル、アセナフチレニ
ルなどのＣ6-14アリールが挙げられ、なかでもフェニ
ル、1-ナフチル、2-ナフチルなどのＣ6-10アリールが好
ましい。Ｒ5およびＲ6で表される「置換されていてもよ
い炭化水素基」における炭化水素基は、置換可能な位置
に、任意の置換基を１〜３個有していてもよい。該置換
基としては、置換されていてもよいアリール基、置換さ
れていてもよいシクロアルキル基もしくはシクロアルケ
ニル基、置換されていてもよい複素環基、エステル化さ
れていてもよいカルボキシル基、置換されていてもよい
カルバモイル基、置換されていてもよいアミノ基、置換
されていてもよい水酸基、置換されていてもよいチオー
ル基、ハロゲン（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、
置換されていてもよいホスホノ基等が挙げられる。該置
換されていてもよいアリール基のアリール基としては、
フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、ア
セナフチレニル等のＣ6-14アリールが挙げられ、なかで
もフェニル、１−ナフチル、２−ナフチルなどのＣ6-10
アリールが好ましい。該アリールは、置換可能な位置
に、任意の置換基を１〜２個有していてもよく、該置換
基としては、水酸基、置換されていてもよいアルコキシ
基（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ等のＣ1-3ア
ルコキシ）、ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、
ヨウ素）、置換されていてもよいアルキル基（例、メチ
ル、エチル、プロピル等のＣ1-3アルキル）等が挙げら
れる。該アルコキシ基およびアルキル基は、置換可能な
位置に任意の置換基を１〜２個有していてもよく、該置
換基としては置換されていてもよいホスホノ基（例、ホ
スホリル，ジメトキシホスホリル，ジエトキシホスホリ
ルなど）などが挙げられる。
【００２４】該置換されていてもよいシクロアルキル基
のシクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプ
チル等のＣ3-7シクロアルキル基等が挙げられる。該置
換されていてもよいシクロアルキル基の置換基とその置
換数としては、前記置換されていてもよいアリール基に
おける置換基と同様な種類と個数が挙げられる。該置換
されていてもよいシクロアルケニル基のシクロアルケニ
ル基としては、シクロプロペニル、シクロブテニル、シ
クロペンテニル、シクロヘキセニル等のＣ3-6シクロア
ルケニル基等が挙げられる。該置換されていてもよいシ
クロアルケニル基の置換基とその置換数としては、前記
置換されていてもよいアリール基における置換基と同様
な種類と個数が挙げられる。該置換されていてもよい複
素環基の複素環基としては、環系を構成する原子（環原
子）として、酸素、硫黄、窒素のうち少なくとも１個の
ヘテロ原子をもつ芳香族複素環基、飽和あるいは不飽和
の非芳香族複素環基（脂肪族複素環基）が挙げられる
が、好ましくは芳香族複素環基である。該芳香族複素環
基としては、例えば、１個の硫黄原子，窒素原子または
酸素原子を含む５ないし７員芳香族複素環基、２〜４個
の窒素原子を含む５または６員芳香族複素環基、１〜２
個の窒素原子および１個の硫黄原子または酸素原子を含
む５または６員芳香族複素環基が挙げられ、これらの芳
香族複素環基は、２個以下の窒素原子を含む６員環，ベ
ンゼン環または１個の硫黄原子を含む５員環と縮合して
いてもよい。該芳香族複素環基としては、芳香族単環式
複素環基（例、フリル、チエニル、ピロリル、オキサゾ
リル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリ
ル、イミダゾリル、ピラゾリル、１,２,３−オキサジア
ゾリル、１,２,４−オキサジアゾリル、１，３，４−オ
キサジアゾリル、フラザニル、１，２，３−チアジアゾ
リル、１，２，４−チアジアゾリル、１，３，４−チア
ジアゾリル、１，２，３−トリアゾリル、１，２，４−
トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリダジニ
ル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアジニル等）及び
芳香族縮合複素環基（例：ベンゾフラニル、イソベンゾ
フラニル、ベンゾ〔ｂ〕チエニル、インドリル、イソイ
ンドリル、１Ｈ−インダゾリル、ベンズイミダゾリル、
ベンゾオキサゾリル、１，２−ベンゾイソオキサゾリ
ル、ベンゾチアゾリル、１，２−ベンゾイソチアゾリ
ル、１Ｈ−ベンゾトリアゾリル、キノリル、イソキノリ
ル、シンノリニル、キナゾリニル、キノキサリニル、フ
タラジニル、ナフチリジニル、プリニル、プテリジニ
ル、カルバゾリル、α−カルボリニル、β−カルボリニ
ル、γ−カルボリニル、アクリジニル、フェノキサジニ
ル、フェノチアジニル、フェナジニル、フェノキサチイ
ニル、チアントレニル、フェナトリジニル、フェナトロ
リニル、インドリジニル、ピロロ〔１，２−ｂ〕ピリダ
ジニル、ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリジル、イミダゾ
〔１，２−ａ〕ピリジル、イミダゾ〔１，５−ａ〕ピリ
ジル、イミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジニル、イミダゾ
〔１，２−ａ〕ピリミジニル、１，２，４−トリアゾロ
〔４，３−ａ〕ピリジル、１，２，４−トリアゾロ
〔４，３−ｂ〕ピリダジニル等）が挙げられるが、なか
でもフリル、チエニル、インドリル、イソインドリル、
ピラジニル、ピリジル、ピリミジニルなどが好ましい。
該非芳香族複素環基としては、１個の硫黄原子、窒素原
子または酸素原子を含む５ないし７員非芳香族複素環基
または１個の窒素原子および３個以下のヘテロ原子
（例、窒素，酸素および硫黄原子）を含む４ないし７員
非芳香族複素環基が挙げられる。該非芳香族複素環基と
しては、例えば、オキシラニル、アゼチジニル、オキセ
タニル、チエタニル、ピロリジニル、テトラヒドロフリ
ル、チオラニル、ピペリジル、テトラヒドロピラニル、
モルホリニル、チオモルホリニル、ピペラジニル等が挙
げられる。該置換されていてもよい複素環基の置換基と
しては、炭素数１〜３個のアルキル基（例：メチル、エ
チル、プロピル等）等が挙げられる。これらの非芳香族
複素環基は、ベンゼン環、２個以下の窒素原子を含む６
員環または１個の硫黄原子を含む５員環と縮合していて
もよく、例えば、縮合非芳香族複素環基として、クロマ
ニル、イソクロマニル、インドリニル、イソインドリニ
ル、チオクロマニルまたはイソチオクロマニルなどが挙
げられる。
のシクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプ
チル等のＣ3-7シクロアルキル基等が挙げられる。該置
換されていてもよいシクロアルキル基の置換基とその置
換数としては、前記置換されていてもよいアリール基に
おける置換基と同様な種類と個数が挙げられる。該置換
されていてもよいシクロアルケニル基のシクロアルケニ
ル基としては、シクロプロペニル、シクロブテニル、シ
クロペンテニル、シクロヘキセニル等のＣ3-6シクロア
ルケニル基等が挙げられる。該置換されていてもよいシ
クロアルケニル基の置換基とその置換数としては、前記
置換されていてもよいアリール基における置換基と同様
な種類と個数が挙げられる。該置換されていてもよい複
素環基の複素環基としては、環系を構成する原子（環原
子）として、酸素、硫黄、窒素のうち少なくとも１個の
ヘテロ原子をもつ芳香族複素環基、飽和あるいは不飽和
の非芳香族複素環基（脂肪族複素環基）が挙げられる
が、好ましくは芳香族複素環基である。該芳香族複素環
基としては、例えば、１個の硫黄原子，窒素原子または
酸素原子を含む５ないし７員芳香族複素環基、２〜４個
の窒素原子を含む５または６員芳香族複素環基、１〜２
個の窒素原子および１個の硫黄原子または酸素原子を含
む５または６員芳香族複素環基が挙げられ、これらの芳
香族複素環基は、２個以下の窒素原子を含む６員環，ベ
ンゼン環または１個の硫黄原子を含む５員環と縮合して
いてもよい。該芳香族複素環基としては、芳香族単環式
複素環基（例、フリル、チエニル、ピロリル、オキサゾ
リル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリ
ル、イミダゾリル、ピラゾリル、１,２,３−オキサジア
ゾリル、１,２,４−オキサジアゾリル、１，３，４−オ
キサジアゾリル、フラザニル、１，２，３−チアジアゾ
リル、１，２，４−チアジアゾリル、１，３，４−チア
ジアゾリル、１，２，３−トリアゾリル、１，２，４−
トリアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピリダジニ
ル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアジニル等）及び
芳香族縮合複素環基（例：ベンゾフラニル、イソベンゾ
フラニル、ベンゾ〔ｂ〕チエニル、インドリル、イソイ
ンドリル、１Ｈ−インダゾリル、ベンズイミダゾリル、
ベンゾオキサゾリル、１，２−ベンゾイソオキサゾリ
ル、ベンゾチアゾリル、１，２−ベンゾイソチアゾリ
ル、１Ｈ−ベンゾトリアゾリル、キノリル、イソキノリ
ル、シンノリニル、キナゾリニル、キノキサリニル、フ
タラジニル、ナフチリジニル、プリニル、プテリジニ
ル、カルバゾリル、α−カルボリニル、β−カルボリニ
ル、γ−カルボリニル、アクリジニル、フェノキサジニ
ル、フェノチアジニル、フェナジニル、フェノキサチイ
ニル、チアントレニル、フェナトリジニル、フェナトロ
リニル、インドリジニル、ピロロ〔１，２−ｂ〕ピリダ
ジニル、ピラゾロ〔１，５−ａ〕ピリジル、イミダゾ
〔１，２−ａ〕ピリジル、イミダゾ〔１，５−ａ〕ピリ
ジル、イミダゾ〔１，２−ｂ〕ピリダジニル、イミダゾ
〔１，２−ａ〕ピリミジニル、１，２，４−トリアゾロ
〔４，３−ａ〕ピリジル、１，２，４−トリアゾロ
〔４，３−ｂ〕ピリダジニル等）が挙げられるが、なか
でもフリル、チエニル、インドリル、イソインドリル、
ピラジニル、ピリジル、ピリミジニルなどが好ましい。
該非芳香族複素環基としては、１個の硫黄原子、窒素原
子または酸素原子を含む５ないし７員非芳香族複素環基
または１個の窒素原子および３個以下のヘテロ原子
（例、窒素，酸素および硫黄原子）を含む４ないし７員
非芳香族複素環基が挙げられる。該非芳香族複素環基と
しては、例えば、オキシラニル、アゼチジニル、オキセ
タニル、チエタニル、ピロリジニル、テトラヒドロフリ
ル、チオラニル、ピペリジル、テトラヒドロピラニル、
モルホリニル、チオモルホリニル、ピペラジニル等が挙
げられる。該置換されていてもよい複素環基の置換基と
しては、炭素数１〜３個のアルキル基（例：メチル、エ
チル、プロピル等）等が挙げられる。これらの非芳香族
複素環基は、ベンゼン環、２個以下の窒素原子を含む６
員環または１個の硫黄原子を含む５員環と縮合していて
もよく、例えば、縮合非芳香族複素環基として、クロマ
ニル、イソクロマニル、インドリニル、イソインドリニ
ル、チオクロマニルまたはイソチオクロマニルなどが挙
げられる。
【００２５】該エステル化されていてもよいカルボキシ
ルとしては、カルボキシ、（低級Ｃ1-6アルコキシ）カ
ルボニル（例、メトキシカルボニル，エトキシカルボニ
ル，プロポキシカルボニル，イソプロポキシカルボニ
ル，ブトキシカルボニル，tert−ブトキシカルボニル，
sec−ブトキシカルボニル，ペンチルオキシカルボニ
ル，イソペンチルオキシカルボニル，ネオペンチルオキ
シカルボニル，tert−ペンチルオキシカルボニルな
ど）、（Ｃ6-10アリールオキシ）カルボニル（例、フェ
ノキシカルボニル，１−ナフトキシカルボニルなど）、
（Ｃ7-13アラルキルオキシ）カルボニル（例、ベンジル
オキシカルボニルなど）などが挙げられる。なかでもカ
ルボキシル基，メトキシカルボニル，エトキシカルボニ
ルが好ましい。該置換されていてもよいカルバモイル基
の置換基としては、例えば、置換されていてもよい低級
（Ｃ1-6）アルキル（例、メチル，エチル，プロピル，
イソプロピル，ブチル，イソブチル，sec−ブチル，ter
t−ブチル，ペンチル，イソペンチル，ネオペンチル，
ヘキシル，イソヘキシルなど）、置換されていてもよい
Ｃ3-6シクロアルキル基（例、シクロプロピル，シクロ
ブチル，シクロペンチル，シクロヘキシルなど）、置換
されていてもよいＣ6-10アリール基（例、フェニル，１
−ナフチル，２−ナフチルなど）、置換されていてもよ
いＣ7-13アラルキル基（例、ベンジル，フェネチルな
ど）などが挙げられ、これらの置換基が同一又は異なっ
て１個又は２個置換していてもよい。該置換されていて
もよい低級（Ｃ1-6）アルキルおよび置換されていても
よいＣ3-6シクロアルキル基における置換基としては、
カルボキシル基，芳香族複素環基（例、フリル，チエニ
ル，インドリル，イソインドリル，ピラジニル，ピリジ
ル，ピリミジル，イミダゾリルなど），アミノ基，水酸
基，フェニル基などが挙げられる。該置換されていても
よいアリール基および置換されていてもよいアラルキル
基の置換基としては、ハロゲン原子（例、フッ素，塩
素，臭素、ヨウ素），カルボキシル基などが挙げられ
る。また、２個の窒素原子上の置換基が窒素原子と一緒
になって環状アミノ基を形成していてもよく、このよう
な環状アミノ基の例としては、１−アゼチジニル，１−
ピロリジニル，ピペリジノ，モルホリノ，１−ピペラジ
ニルなどが挙げられる。
ルとしては、カルボキシ、（低級Ｃ1-6アルコキシ）カ
ルボニル（例、メトキシカルボニル，エトキシカルボニ
ル，プロポキシカルボニル，イソプロポキシカルボニ
ル，ブトキシカルボニル，tert−ブトキシカルボニル，
sec−ブトキシカルボニル，ペンチルオキシカルボニ
ル，イソペンチルオキシカルボニル，ネオペンチルオキ
シカルボニル，tert−ペンチルオキシカルボニルな
ど）、（Ｃ6-10アリールオキシ）カルボニル（例、フェ
ノキシカルボニル，１−ナフトキシカルボニルなど）、
（Ｃ7-13アラルキルオキシ）カルボニル（例、ベンジル
オキシカルボニルなど）などが挙げられる。なかでもカ
ルボキシル基，メトキシカルボニル，エトキシカルボニ
ルが好ましい。該置換されていてもよいカルバモイル基
の置換基としては、例えば、置換されていてもよい低級
（Ｃ1-6）アルキル（例、メチル，エチル，プロピル，
イソプロピル，ブチル，イソブチル，sec−ブチル，ter
t−ブチル，ペンチル，イソペンチル，ネオペンチル，
ヘキシル，イソヘキシルなど）、置換されていてもよい
Ｃ3-6シクロアルキル基（例、シクロプロピル，シクロ
ブチル，シクロペンチル，シクロヘキシルなど）、置換
されていてもよいＣ6-10アリール基（例、フェニル，１
−ナフチル，２−ナフチルなど）、置換されていてもよ
いＣ7-13アラルキル基（例、ベンジル，フェネチルな
ど）などが挙げられ、これらの置換基が同一又は異なっ
て１個又は２個置換していてもよい。該置換されていて
もよい低級（Ｃ1-6）アルキルおよび置換されていても
よいＣ3-6シクロアルキル基における置換基としては、
カルボキシル基，芳香族複素環基（例、フリル，チエニ
ル，インドリル，イソインドリル，ピラジニル，ピリジ
ル，ピリミジル，イミダゾリルなど），アミノ基，水酸
基，フェニル基などが挙げられる。該置換されていても
よいアリール基および置換されていてもよいアラルキル
基の置換基としては、ハロゲン原子（例、フッ素，塩
素，臭素、ヨウ素），カルボキシル基などが挙げられ
る。また、２個の窒素原子上の置換基が窒素原子と一緒
になって環状アミノ基を形成していてもよく、このよう
な環状アミノ基の例としては、１−アゼチジニル，１−
ピロリジニル，ピペリジノ，モルホリノ，１−ピペラジ
ニルなどが挙げられる。
【００２６】該置換されていてもよいアミノ基の置換基
としては、例えば、置換されていてもよい低級
（Ｃ1-6）アルキル（例、メチル，エチル，プロピル，
イソプロピル，ブチル，イソブチル，sec−ブチル，ter
t−ブチル，ペンチル，イソペンチル，ネオペンチル，
ヘキシル，イソヘキシルなど）、置換されていてもよい
Ｃ3-6シクロアルキル基（例、シクロプロピル，シクロ
ブチル，シクロペンチル，シクロヘキシルなど）、置換
されていてもよいＣ6-10アリール基（例、フェニル，１
−ナフチル，２−ナフチルなど）、置換されていてもよ
いＣ7-13アラルキル基（例、ベンジル，フェネチルな
ど）などが挙げられ、これらの置換基が同一又は異なっ
て１個又は２個置換していてもよい。該置換されていて
もよい低級（Ｃ１−６）アルキルおよび置換されていて
もよいＣ３−６シクロアルキル基における置換基として
は、カルボキシル基，芳香族複素環基（例、フリル，チ
エニル，インドリル，イソインドリル，ピラジニル，ピ
リジル，ピリミジル，イミダゾリルなど），アミノ基，
水酸基，フェニル基などが挙げられる。該置換されてい
てもよいアリール基および置換されていてもよいアラル
キル基の置換基としては、ハロゲン原子（例、フッ素，
塩素，臭素、ヨウ素），カルボキシル基などが挙げられ
る。また、２個の窒素原子上の置換基が窒素原子と一緒
になって環状アミノ基を形成していてもよく、このよう
な環状アミノ基の例としては、１−アゼチジニル，１−
ピロリジニル，ピペリジノ，モルホリノ，１−ピペラジ
ニルなどが挙げられる。該置換されていてもよい水酸基
の置換基としては、例えば、低級（Ｃ1-6）アルキル
（例、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチ
ル，イソブチル，sec−ブチル，tert−ブチル，ペンチ
ル，イソペンチル，ネオペンチル，ヘキシル，イソヘキ
シルなど）、Ｃ3-6シクロアルキル基（例、シクロプロ
ピル，シクロブチル，シクロペンチル，シクロヘキシル
など）、Ｃ6-10アリール基（例、フェニル，１−ナフチ
ル，２−ナフチルなど）、Ｃ7-13アラルキル基（例、ベ
ンジル，フェネチルなど）などが挙げられる。
としては、例えば、置換されていてもよい低級
（Ｃ1-6）アルキル（例、メチル，エチル，プロピル，
イソプロピル，ブチル，イソブチル，sec−ブチル，ter
t−ブチル，ペンチル，イソペンチル，ネオペンチル，
ヘキシル，イソヘキシルなど）、置換されていてもよい
Ｃ3-6シクロアルキル基（例、シクロプロピル，シクロ
ブチル，シクロペンチル，シクロヘキシルなど）、置換
されていてもよいＣ6-10アリール基（例、フェニル，１
−ナフチル，２−ナフチルなど）、置換されていてもよ
いＣ7-13アラルキル基（例、ベンジル，フェネチルな
ど）などが挙げられ、これらの置換基が同一又は異なっ
て１個又は２個置換していてもよい。該置換されていて
もよい低級（Ｃ１−６）アルキルおよび置換されていて
もよいＣ３−６シクロアルキル基における置換基として
は、カルボキシル基，芳香族複素環基（例、フリル，チ
エニル，インドリル，イソインドリル，ピラジニル，ピ
リジル，ピリミジル，イミダゾリルなど），アミノ基，
水酸基，フェニル基などが挙げられる。該置換されてい
てもよいアリール基および置換されていてもよいアラル
キル基の置換基としては、ハロゲン原子（例、フッ素，
塩素，臭素、ヨウ素），カルボキシル基などが挙げられ
る。また、２個の窒素原子上の置換基が窒素原子と一緒
になって環状アミノ基を形成していてもよく、このよう
な環状アミノ基の例としては、１−アゼチジニル，１−
ピロリジニル，ピペリジノ，モルホリノ，１−ピペラジ
ニルなどが挙げられる。該置換されていてもよい水酸基
の置換基としては、例えば、低級（Ｃ1-6）アルキル
（例、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチ
ル，イソブチル，sec−ブチル，tert−ブチル，ペンチ
ル，イソペンチル，ネオペンチル，ヘキシル，イソヘキ
シルなど）、Ｃ3-6シクロアルキル基（例、シクロプロ
ピル，シクロブチル，シクロペンチル，シクロヘキシル
など）、Ｃ6-10アリール基（例、フェニル，１−ナフチ
ル，２−ナフチルなど）、Ｃ7-13アラルキル基（例、ベ
ンジル，フェネチルなど）などが挙げられる。
【００２７】該置換されていてもよいチオール基におけ
る置換基としては、例えば、低級（Ｃ1-6）アルキル
（例、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチ
ル，イソブチル，sec−ブチル，tert−ブチル，ペンチ
ル，イソペンチル，ネオペンチル，ヘキシル，イソヘキ
シルなど）、Ｃ3-6シクロアルキル基（例、シクロプロ
ピル，シクロブチル，シクロペンチル，シクロヘキシル
など）、Ｃ6-10アリール基（例、フェニル，１−ナフチ
ル，２−ナフチルなど）、Ｃ7-13アラルキル基（例、ベ
ンジル，フェネチルなど）などが挙げられる。該置換さ
れていてもよいホスホノ基における置換基としては、低
級（Ｃ1-6）アルキル（例、メチル，エチル，プロピ
ル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，sec.−ブチ
ル，tert.−ブチル，ペンチル，イソペンチル，ネオペ
ンチル，ヘキシル，イソヘキシルなど）、低級
（Ｃ1-6）アルコキシ（例、メトキシ，エトキシ，プロ
ポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，イソブトキシ，se
c−ブトキシ，tert−ブトキシ，ペンチルオキ，イソペ
ンチルオキシ，ネオペンチルオキシ，ヘキシルオキシ，
イソヘキシルオキシなど）が挙げられる。該置換されて
いてもよいホスホノ基としては、ホスホリル、ジメトキ
シホスホリル、ジエトキシホスホリル、ジプロポキシホ
スホリル、ジイソプロポキシホスホリル、エチレンジオ
キシホスホリル、トリメチレンジオキシホスホリルまた
はテトラメチレンジオキシホスホリルなどが挙げられ
る。また、Ｒ5およびＲ6で表わされる「置換されていて
もよい炭化水素基」における炭化水素基が脂環式炭化水
素基またはアリール基である場合、置換基としては、さ
らに置換されていてもよい脂肪族炭化水素基であっても
よい。該脂肪族炭化水素基としては、前記Ｒ5およびＲ6
で定義された「置換されていてもよい炭化水素基」にお
ける飽和または不飽和（好ましくは飽和）炭化水素基と
同様なものが挙げられるが、好ましくは、アルキル基
（例、メチル、エチル、プロピルなどのＣ1-3アルキ
ル）などが挙げられる。該脂肪族炭化水素基は、置換可
能な位置に任意の置換基を１〜２個有していてもよく、
該置換基としては置換されていてもよいホスホノ基
（例、ホスホリル，ジメトキシホスホリル，ジエトキシ
ホスホリルなど）などが挙げられる。
る置換基としては、例えば、低級（Ｃ1-6）アルキル
（例、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチ
ル，イソブチル，sec−ブチル，tert−ブチル，ペンチ
ル，イソペンチル，ネオペンチル，ヘキシル，イソヘキ
シルなど）、Ｃ3-6シクロアルキル基（例、シクロプロ
ピル，シクロブチル，シクロペンチル，シクロヘキシル
など）、Ｃ6-10アリール基（例、フェニル，１−ナフチ
ル，２−ナフチルなど）、Ｃ7-13アラルキル基（例、ベ
ンジル，フェネチルなど）などが挙げられる。該置換さ
れていてもよいホスホノ基における置換基としては、低
級（Ｃ1-6）アルキル（例、メチル，エチル，プロピ
ル，イソプロピル，ブチル，イソブチル，sec.−ブチ
ル，tert.−ブチル，ペンチル，イソペンチル，ネオペ
ンチル，ヘキシル，イソヘキシルなど）、低級
（Ｃ1-6）アルコキシ（例、メトキシ，エトキシ，プロ
ポキシ，イソプロポキシ，ブトキシ，イソブトキシ，se
c−ブトキシ，tert−ブトキシ，ペンチルオキ，イソペ
ンチルオキシ，ネオペンチルオキシ，ヘキシルオキシ，
イソヘキシルオキシなど）が挙げられる。該置換されて
いてもよいホスホノ基としては、ホスホリル、ジメトキ
シホスホリル、ジエトキシホスホリル、ジプロポキシホ
スホリル、ジイソプロポキシホスホリル、エチレンジオ
キシホスホリル、トリメチレンジオキシホスホリルまた
はテトラメチレンジオキシホスホリルなどが挙げられ
る。また、Ｒ5およびＲ6で表わされる「置換されていて
もよい炭化水素基」における炭化水素基が脂環式炭化水
素基またはアリール基である場合、置換基としては、さ
らに置換されていてもよい脂肪族炭化水素基であっても
よい。該脂肪族炭化水素基としては、前記Ｒ5およびＲ6
で定義された「置換されていてもよい炭化水素基」にお
ける飽和または不飽和（好ましくは飽和）炭化水素基と
同様なものが挙げられるが、好ましくは、アルキル基
（例、メチル、エチル、プロピルなどのＣ1-3アルキ
ル）などが挙げられる。該脂肪族炭化水素基は、置換可
能な位置に任意の置換基を１〜２個有していてもよく、
該置換基としては置換されていてもよいホスホノ基
（例、ホスホリル，ジメトキシホスホリル，ジエトキシ
ホスホリルなど）などが挙げられる。
【００２８】上記した中でも、Ｒ5およびＲ6で表される
「置換されていてもよい炭化水素基」の炭化水素基とし
ては、アルキル基、好ましくはＣ1-10アルキル、とりわ
け、直鎖状または分枝状の炭素数１〜６の低級アルキル
など（例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペン
チル、イソペンチル、ネオペンチル、tert-ペンチル、
ヘキシル、イソヘキシル、４−メチルペンチル、１，１
−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、３，３−
ジメチルブチル、２−エチルブチルなど）が好ましく挙
げられる。Ｒ5およびＲ6としては、同一であってもよい
し、それぞれ異なっていてもよいが、同一であるのが好
ましい。Ｒ5およびＲ6としては、無置換のアルキル基
（好ましくは、メチル，エチル）が好ましい。一般式
（I）および（II）において、ｍおよびｎとしては、i）
ｍが１でかつｎが１、ii）ｍが１でかつｎが０、または
iii）ｍが０でかつｎが０が好ましく、さらに好ましく
は、ｍが１でかつｎが０である。
「置換されていてもよい炭化水素基」の炭化水素基とし
ては、アルキル基、好ましくはＣ1-10アルキル、とりわ
け、直鎖状または分枝状の炭素数１〜６の低級アルキル
など（例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、sec-ブチル、tert-ブチル、ペン
チル、イソペンチル、ネオペンチル、tert-ペンチル、
ヘキシル、イソヘキシル、４−メチルペンチル、１，１
−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、３，３−
ジメチルブチル、２−エチルブチルなど）が好ましく挙
げられる。Ｒ5およびＲ6としては、同一であってもよい
し、それぞれ異なっていてもよいが、同一であるのが好
ましい。Ｒ5およびＲ6としては、無置換のアルキル基
（好ましくは、メチル，エチル）が好ましい。一般式
（I）および（II）において、ｍおよびｎとしては、i）
ｍが１でかつｎが１、ii）ｍが１でかつｎが０、または
iii）ｍが０でかつｎが０が好ましく、さらに好ましく
は、ｍが１でかつｎが０である。
【００２９】一般式（I）は、一般式（I'）
【化３２】 ［式中、Ｒ1'はインドール−３−イルメチルを、Ｒ4''
はアシル基またはエステル化されていてもよいカルボキ
シル基を示す。その他の記号は前記と同意義を示す］で
表されるものでもよい。また一般式（II）は、一般式
（II'）
はアシル基またはエステル化されていてもよいカルボキ
シル基を示す。その他の記号は前記と同意義を示す］で
表されるものでもよい。また一般式（II）は、一般式
（II'）
【化３３】 ［式中、Ｒ1'はインドール−３−イルメチルを、Ｒ4''
はアシル基またはエステル化されていてもよいカルボキ
シル基を示す。その他の記号は前記と同意義を示す］で
表されるものでもよい。
はアシル基またはエステル化されていてもよいカルボキ
シル基を示す。その他の記号は前記と同意義を示す］で
表されるものでもよい。
【００３０】該「エステル化されていてもよいカルボキ
シル基」としては、例えば、一般式−ＣＯＯＲ12〔Ｒ12
は水素、Ｃ1-6アルキル、Ｃ2-6アルケニルまたはＣ6-10
アラルキルなどを示す〕で表される基が挙げられる。例
えば、カルボキシル基と炭素数１〜６のアルキル基の結
合したものとしては、Ｃ1-6アルコキシカルボニル
（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキ
シカルボニル、イソブトキシカルボニル、sec-ブトキシ
カルボニル、tert-ブトキシカルボニル、ペンチルオキ
シカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなど）など
が、カルボキシル基と炭素数２〜６のアルケニル基の結
合したものとしては、Ｃ2-6アルケニルオキシカルボニ
ルなど（例、アリル(allyl)オキシカルボニル、クロチ
ルオキシカルボニル、2-ペンテニルオキシカルボニル、
3-ヘキセニルオキシカルボニルなど）が、カルボキシル
基と炭素数６〜１０のアラルキル基の結合したものとし
ては、Ｃ6-10アラルキルオキシカルボニルなど（例、ベ
ンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル
など）が挙げられる。
シル基」としては、例えば、一般式−ＣＯＯＲ12〔Ｒ12
は水素、Ｃ1-6アルキル、Ｃ2-6アルケニルまたはＣ6-10
アラルキルなどを示す〕で表される基が挙げられる。例
えば、カルボキシル基と炭素数１〜６のアルキル基の結
合したものとしては、Ｃ1-6アルコキシカルボニル
（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロ
ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキ
シカルボニル、イソブトキシカルボニル、sec-ブトキシ
カルボニル、tert-ブトキシカルボニル、ペンチルオキ
シカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなど）など
が、カルボキシル基と炭素数２〜６のアルケニル基の結
合したものとしては、Ｃ2-6アルケニルオキシカルボニ
ルなど（例、アリル(allyl)オキシカルボニル、クロチ
ルオキシカルボニル、2-ペンテニルオキシカルボニル、
3-ヘキセニルオキシカルボニルなど）が、カルボキシル
基と炭素数６〜１０のアラルキル基の結合したものとし
ては、Ｃ6-10アラルキルオキシカルボニルなど（例、ベ
ンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル
など）が挙げられる。
【００３１】本発明において、製造される一般式（II）
で表される化合物としては、例えば、次のものが挙げら
れる。 ・Ｎ−（４−トルエンスルホニル）−(Ｌ)−イソロイシ
ル−(Ｌ)−トリプトファナール ・Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−(Ｌ)−イソロイシ
ル−(Ｌ)−トリプトファナール ・Ｎ−（１−ナフチルスルホニル）−(Ｌ)−イソロイシ
ル−(Ｌ)−トリプトファナール ・Ｎ−（１−ナフチルスルホニル）−(Ｌ)−イソロイシ
ル−(Ｌ)−イソロイシル−(Ｌ)−トリプトファナール ・Ｎ−ベンジルカルバモイル−(Ｌ)−イソロイシル−
(Ｌ)−トリプトファナール
で表される化合物としては、例えば、次のものが挙げら
れる。 ・Ｎ−（４−トルエンスルホニル）−(Ｌ)−イソロイシ
ル−(Ｌ)−トリプトファナール ・Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−(Ｌ)−イソロイシ
ル−(Ｌ)−トリプトファナール ・Ｎ−（１−ナフチルスルホニル）−(Ｌ)−イソロイシ
ル−(Ｌ)−トリプトファナール ・Ｎ−（１−ナフチルスルホニル）−(Ｌ)−イソロイシ
ル−(Ｌ)−イソロイシル−(Ｌ)−トリプトファナール ・Ｎ−ベンジルカルバモイル−(Ｌ)−イソロイシル−
(Ｌ)−トリプトファナール
【００３２】・Ｎ−〔（２−シクロヘキシルエチル）カ
ルバモイル〕−(Ｌ)−イソロイシル−(Ｌ)−トリプトフ
ァナール ・Ｎ−（３−トリフルオロメチルフェニルカルバモイ
ル）−(Ｌ)−イソロイシル−(Ｌ)−トリプトファナール ・Ｎ−（２−プロピルペンタノイル）−（Ｌ）−トリプ
トファナール ・Ｎ−ジベンジルアセチル−（Ｌ）−トリプトファナー
ル ・Ｎ−ジベンジルアセチル−（Ｌ）−フェニルアラニナ
ール ・Ｎ−（１−ナフチルスルホニル）−（Ｌ）−イソロイ
シル−（Ｌ）−フェニルアラニナール ・Ｎ−（１−ナフチルスルホニル）−（Ｌ）−イソロイ
シル−（Ｌ）−アラニナール ・Ｎ−（２−プロピルペンタノイル）−（Ｌ）−アラニ
ル−（Ｌ）−トリプトファナール ・Ｎ−（２−プロピルペンタノイル）−（Ｌ）−バリル
−（Ｌ）−トリプトファナール
ルバモイル〕−(Ｌ)−イソロイシル−(Ｌ)−トリプトフ
ァナール ・Ｎ−（３−トリフルオロメチルフェニルカルバモイ
ル）−(Ｌ)−イソロイシル−(Ｌ)−トリプトファナール ・Ｎ−（２−プロピルペンタノイル）−（Ｌ）−トリプ
トファナール ・Ｎ−ジベンジルアセチル−（Ｌ）−トリプトファナー
ル ・Ｎ−ジベンジルアセチル−（Ｌ）−フェニルアラニナ
ール ・Ｎ−（１−ナフチルスルホニル）−（Ｌ）−イソロイ
シル−（Ｌ）−フェニルアラニナール ・Ｎ−（１−ナフチルスルホニル）−（Ｌ）−イソロイ
シル−（Ｌ）−アラニナール ・Ｎ−（２−プロピルペンタノイル）−（Ｌ）−アラニ
ル−（Ｌ）−トリプトファナール ・Ｎ−（２−プロピルペンタノイル）−（Ｌ）−バリル
−（Ｌ）−トリプトファナール
【００３３】本発明における一般式（I），（Ｉ'），
（II）および（II'）の化合物の塩としては、生理学的
に許容される塩が好ましく、例えば無機塩基との塩、有
機塩基との塩、無機酸との塩、有機酸との塩、塩基性ま
たは酸性アミノ酸との塩などが挙げられる。無機塩基と
の塩の好適な例としては、例えばナトリウム塩、カリウ
ム塩などのアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグネシウ
ム塩などのアルカリ土類金属塩；ならびにアルミニウム
塩などが挙げられる。有機塩基との塩の好適な例として
は、例えばアンモニウム塩、トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、ピリジン、ピコリン、エタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロ
ヘキシルアミン、Ｎ,Ｎ'-ジベンジルエチレンジアミン
などとの塩が挙げられる。無機酸との塩の好適な例とし
ては、例えば塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸な
どとの塩が挙げられる。有機酸との塩の好適な例として
は、例えばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フマール
酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク
酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、p-トルエンスルホン酸などとの塩が挙げられる。塩
基性アミノ酸との塩の好適な例としては、例えばアルギ
ニン、リジン、オルニチンなどとの塩が挙げられ、酸性
アミノ酸との塩の好適な例としては、例えばアスパラギ
ン酸、グルタミン酸などとの塩が挙げられる。
（II）および（II'）の化合物の塩としては、生理学的
に許容される塩が好ましく、例えば無機塩基との塩、有
機塩基との塩、無機酸との塩、有機酸との塩、塩基性ま
たは酸性アミノ酸との塩などが挙げられる。無機塩基と
の塩の好適な例としては、例えばナトリウム塩、カリウ
ム塩などのアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグネシウ
ム塩などのアルカリ土類金属塩；ならびにアルミニウム
塩などが挙げられる。有機塩基との塩の好適な例として
は、例えばアンモニウム塩、トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、ピリジン、ピコリン、エタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロ
ヘキシルアミン、Ｎ,Ｎ'-ジベンジルエチレンジアミン
などとの塩が挙げられる。無機酸との塩の好適な例とし
ては、例えば塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸な
どとの塩が挙げられる。有機酸との塩の好適な例として
は、例えばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フマール
酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク
酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、p-トルエンスルホン酸などとの塩が挙げられる。塩
基性アミノ酸との塩の好適な例としては、例えばアルギ
ニン、リジン、オルニチンなどとの塩が挙げられ、酸性
アミノ酸との塩の好適な例としては、例えばアスパラギ
ン酸、グルタミン酸などとの塩が挙げられる。
【００３４】以下に、化合物（II）の製造法を詳述す
る。 ［Ａ工程］
る。 ［Ａ工程］
【化３４】 ［式中、各記号は前記と同意義を有する。］
【００３５】本還元反応は、アルミニウムハイドライド
系還元剤を用いて、シンセシス（Synthesis）６７６頁
（１９８３年）やジャーナル・オブ・メディシナル・ケ
ミストリー（Journal of Medicinal Chemistry）第３３
巻，１１−１３頁（１９９０年）に記載された方法に準
じて行われる。還元剤としては、好ましくは、水素化金
属アルミニウム（例、水素化ジイソブチルアルミニウ
ム、水素化リチウムアルミニウム、水素化ビス(２−メ
トキシエトキシ)ナトリウムアルミニウムなど）などが
挙げられる。使用量は、一般式（I）で表される化合物
１モルに対し、還元剤は約３〜１０倍モル、好ましくは
約４〜５倍モルを用いる。反応時間は約１０分〜２４時
間、好ましくは約３０分〜５時間、反応温度は約−１０
０〜１００℃、好ましくは約−７０〜６０℃である。使
用される溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホル
ム、1,2-ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル類等が用いられる。これらの溶媒は、単独で用
いることもできるし、また必要に応じて２種またはそれ
以上の多種類を混合して用いてもよい。このようにして
得られるアルデヒド誘導体（II）は、公知の分離精製手
段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、
転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製すること
ができる。
系還元剤を用いて、シンセシス（Synthesis）６７６頁
（１９８３年）やジャーナル・オブ・メディシナル・ケ
ミストリー（Journal of Medicinal Chemistry）第３３
巻，１１−１３頁（１９９０年）に記載された方法に準
じて行われる。還元剤としては、好ましくは、水素化金
属アルミニウム（例、水素化ジイソブチルアルミニウ
ム、水素化リチウムアルミニウム、水素化ビス(２−メ
トキシエトキシ)ナトリウムアルミニウムなど）などが
挙げられる。使用量は、一般式（I）で表される化合物
１モルに対し、還元剤は約３〜１０倍モル、好ましくは
約４〜５倍モルを用いる。反応時間は約１０分〜２４時
間、好ましくは約３０分〜５時間、反応温度は約−１０
０〜１００℃、好ましくは約−７０〜６０℃である。使
用される溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホル
ム、1,2-ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
エーテル類等が用いられる。これらの溶媒は、単独で用
いることもできるし、また必要に応じて２種またはそれ
以上の多種類を混合して用いてもよい。このようにして
得られるアルデヒド誘導体（II）は、公知の分離精製手
段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、
転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製すること
ができる。
【００３６】Ａ工程の原料化合物は、例えば次のような
方法で製造することができる。 ［Ｂ工程］
方法で製造することができる。 ［Ｂ工程］
【化３５】 ［式中、Ｒ4'は、置換されていてもよいカルボン酸また
は置換されていてもよいスルホン酸由来のアシル基を示
す。その他の記号は前記と同意義を有する。ただし、Ｒ
1がインドール−３−イルメチルのとき、Ｒ4'としては
エステル化されていてもよいカルボキシル基であっても
よい。］
は置換されていてもよいスルホン酸由来のアシル基を示
す。その他の記号は前記と同意義を有する。ただし、Ｒ
1がインドール−３−イルメチルのとき、Ｒ4'としては
エステル化されていてもよいカルボキシル基であっても
よい。］
【００３７】本工程では、化合物（III）あるいはカル
ボキシル基におけるその反応性誘導体またはその塩を、
化合物（IV）あるいはアミノ基におけるその反応性誘導
体またはその塩と反応させることにより、化合物（I−
１）を製造する。化合物（IV）のアミノ基における好適
な反応性誘導体としては、化合物（IV）とアルデヒド、
ケトン等のようなカルボニル化合物との反応によって生
成するシッフ塩基型イミノまたはそのエナミン型互変異
性体；化合物（IV）とビス(トリメチルシリル)アセトア
ミド、モノ(トリメチルシリル)アセトアミド、ビス(ト
リメチルシリル)尿素等のようなシリル化合物との反応
によって生成するシリル誘導体；化合物（IV）と三塩化
リンまたはホスゲンとの反応によって生成する誘導体等
が挙げられる。化合物（IV）およびその反応性誘導体の
好適な塩類については、化合物（I）について例示した
酸付加塩を参照すればよい。例えば、無機酸との塩、有
機酸との塩などが挙げられる。無機酸との塩の好適な例
としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン
酸などとの塩が挙げられる。有機酸との塩の好適な例と
しては、例えばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フマー
ル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハ
ク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、p-トルエンスルホン酸などとの塩が挙げられる。
ボキシル基におけるその反応性誘導体またはその塩を、
化合物（IV）あるいはアミノ基におけるその反応性誘導
体またはその塩と反応させることにより、化合物（I−
１）を製造する。化合物（IV）のアミノ基における好適
な反応性誘導体としては、化合物（IV）とアルデヒド、
ケトン等のようなカルボニル化合物との反応によって生
成するシッフ塩基型イミノまたはそのエナミン型互変異
性体；化合物（IV）とビス(トリメチルシリル)アセトア
ミド、モノ(トリメチルシリル)アセトアミド、ビス(ト
リメチルシリル)尿素等のようなシリル化合物との反応
によって生成するシリル誘導体；化合物（IV）と三塩化
リンまたはホスゲンとの反応によって生成する誘導体等
が挙げられる。化合物（IV）およびその反応性誘導体の
好適な塩類については、化合物（I）について例示した
酸付加塩を参照すればよい。例えば、無機酸との塩、有
機酸との塩などが挙げられる。無機酸との塩の好適な例
としては、例えば塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン
酸などとの塩が挙げられる。有機酸との塩の好適な例と
しては、例えばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フマー
ル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハ
ク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、p-トルエンスルホン酸などとの塩が挙げられる。
【００３８】化合物 (III) のカルボキシル基における
好適な反応性誘導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水
物、活性化アミド、活性化エステル等が挙げられる。反
応性誘導体の好適な例としては、酸塩化物；酸アジ化
物；例えばジアルキルリン酸、フェニルリン酸、ジフェ
ニルリン酸、ジベンジルリン酸、ハロゲン化リン酸等の
置換されたリン酸、ジアルキル亜リン酸、亜硫酸、チオ
硫酸、硫酸、例えばメタンスルホン酸等のスルホン酸、
例えば酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸ピバリン
酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、トリクロロ酢酸等の
脂肪族カルボン酸または例えば安息香酸等の芳香族カル
ボン酸のような酸との混合酸無水物；対称酸無水物；イ
ミダゾ−ル、４−置換イミダゾ−ル、ジメチルピラゾ−
ル、トリアゾ−ルまたはテトラゾ−ルとの活性化アミ
ド；または例えばシアノメチルエステル、メトキシメチ
ルエステル、ジメチルイミノメチルエステル、ビニルエ
ステル、プロパルギルエステル、p-ニトロフェニルエス
テル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフェ
ニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニルアゾ
フェニルエステル、フェニルチオエステル、p-ニトロフ
ェニルエステル、p-クレジルチオエステル、カルボキシ
メチルチオエステル、ピラニルエステル、ピリジルエス
テル、ピペリジルエステル、8-キノリルチオエステル等
の活性化エステル、または例えば N,N-ジメチルヒドロ
キシアミン、1-ヒドロキシ-2-(1H)-ピリドン、N-ヒドロ
キシスクシンイミド、N-ヒドロキシフタルイミド、1-ヒ
ドロキシ-1H-ベンゾトリアゾ−ル等の N-ヒドロキシ化
合物とのエステル等が挙げられる。これら反応性誘導体
は、使用する化合物 (III) の種類によって任意に選択
することができる。化合物 (III) またはその反応性誘
導体の好適な塩としては、例えばナトリウム塩、カリウ
ム塩等のアルカリ金属塩、例えばカルシウム塩、マグネ
シウム塩等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、例
えばトリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジ
ン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N,N-ジ
ベンジルエチレンジアミン塩等の有機塩基塩等のような
塩基塩が挙げられる。
好適な反応性誘導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水
物、活性化アミド、活性化エステル等が挙げられる。反
応性誘導体の好適な例としては、酸塩化物；酸アジ化
物；例えばジアルキルリン酸、フェニルリン酸、ジフェ
ニルリン酸、ジベンジルリン酸、ハロゲン化リン酸等の
置換されたリン酸、ジアルキル亜リン酸、亜硫酸、チオ
硫酸、硫酸、例えばメタンスルホン酸等のスルホン酸、
例えば酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸ピバリン
酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、トリクロロ酢酸等の
脂肪族カルボン酸または例えば安息香酸等の芳香族カル
ボン酸のような酸との混合酸無水物；対称酸無水物；イ
ミダゾ−ル、４−置換イミダゾ−ル、ジメチルピラゾ−
ル、トリアゾ−ルまたはテトラゾ−ルとの活性化アミ
ド；または例えばシアノメチルエステル、メトキシメチ
ルエステル、ジメチルイミノメチルエステル、ビニルエ
ステル、プロパルギルエステル、p-ニトロフェニルエス
テル、トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフェ
ニルエステル、メシルフェニルエステル、フェニルアゾ
フェニルエステル、フェニルチオエステル、p-ニトロフ
ェニルエステル、p-クレジルチオエステル、カルボキシ
メチルチオエステル、ピラニルエステル、ピリジルエス
テル、ピペリジルエステル、8-キノリルチオエステル等
の活性化エステル、または例えば N,N-ジメチルヒドロ
キシアミン、1-ヒドロキシ-2-(1H)-ピリドン、N-ヒドロ
キシスクシンイミド、N-ヒドロキシフタルイミド、1-ヒ
ドロキシ-1H-ベンゾトリアゾ−ル等の N-ヒドロキシ化
合物とのエステル等が挙げられる。これら反応性誘導体
は、使用する化合物 (III) の種類によって任意に選択
することができる。化合物 (III) またはその反応性誘
導体の好適な塩としては、例えばナトリウム塩、カリウ
ム塩等のアルカリ金属塩、例えばカルシウム塩、マグネ
シウム塩等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、例
えばトリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジ
ン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、N,N-ジ
ベンジルエチレンジアミン塩等の有機塩基塩等のような
塩基塩が挙げられる。
【００３９】本工程反応は、通常、水、例えばメタノ−
ル、エタノ−ル等のアルコ−ル類、アセトン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩
化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N,N-ジ
メチルホルムアミド、ピリジンのような常用の溶媒中で
行われるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればそ
の他のいかなる有機溶媒中でも反応を行うことができ
る。これら常用の溶媒は水との混合物として使用しても
よい。この反応において、化合物 (III) を遊離酸の形
またはその塩の形で使用する場合には、N,N'-ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド；N-シクロヘキシル-N'-モルホ
リノエチルカルボジイミド；N-シクロヘキシル-N'-（4-
ジエチルアミノシクロヘキシル）カルボジイミド；N,N'
-ジエチルカルボジイミド、N,N'-ジイソプロピルカルボ
ジイミド、N-エチル-N'-（3-ジメチルアミノプロピル）
カルボジイミド；N,N'-カルボニルビス（2-メチルイミ
ダゾ−ル）；ペンタメチレンケテン-N-シクロヘキシル
イミン；ジフェニルケテン-N-シクロヘキシルイミン；
エトキシアセチレン；1-アルコキシ-1-クロロエチレ
ン；亜リン酸トリアルキル；ポリリン酸エチル；ポリリ
ン酸イソプロピル；オキシ塩化リン；ジフェニルホスホ
リルアジド；塩化チオニル；塩化オキサリル；例えばク
ロロギ酸エチル；クロロギ酸イソプロピル等のハロギ酸
低級アルキル；トリフェニルホスフィン；2-エチル-7-
ヒドロキシベンズイソオキサゾリウム塩、2-エチル-5-
（m-スルホフェニル）イソオキサゾリウムヒドロキシド
分子内塩；N-ヒドロキシベンゾトリアゾ−ル；1-(p-ク
ロロベンゼンスルホニルオキシ）-6-クロロ-1H-ベンゾ
トリアゾ−ル;N,N'-ジメチルホルムアミドと塩化チオニ
ル、ホスゲン、クロロギ酸トリクロロメチル、オキシ塩
化リン等との反応によって調製したいわゆるビルスマイ
ヤ−試薬等のような常用の縮合剤の存在下に反応を行う
のが望ましい。反応はまたアルカリ金属炭酸水素塩トリ
（低級）アルキルアミン、ピリジン、N-（低級)-アルキ
ルモルホリン、N,N-ジ（低級）アルキルベンジルアミン
等のような無機塩基または有機塩基の存在下に行っても
よい。反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下な
いし加温下（例、約−１００℃〜１００℃）に反応が行
われる。反応時間は通常約３０分〜７２時間で行われ
る。
ル、エタノ−ル等のアルコ−ル類、アセトン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩
化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N,N-ジ
メチルホルムアミド、ピリジンのような常用の溶媒中で
行われるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればそ
の他のいかなる有機溶媒中でも反応を行うことができ
る。これら常用の溶媒は水との混合物として使用しても
よい。この反応において、化合物 (III) を遊離酸の形
またはその塩の形で使用する場合には、N,N'-ジシクロ
ヘキシルカルボジイミド；N-シクロヘキシル-N'-モルホ
リノエチルカルボジイミド；N-シクロヘキシル-N'-（4-
ジエチルアミノシクロヘキシル）カルボジイミド；N,N'
-ジエチルカルボジイミド、N,N'-ジイソプロピルカルボ
ジイミド、N-エチル-N'-（3-ジメチルアミノプロピル）
カルボジイミド；N,N'-カルボニルビス（2-メチルイミ
ダゾ−ル）；ペンタメチレンケテン-N-シクロヘキシル
イミン；ジフェニルケテン-N-シクロヘキシルイミン；
エトキシアセチレン；1-アルコキシ-1-クロロエチレ
ン；亜リン酸トリアルキル；ポリリン酸エチル；ポリリ
ン酸イソプロピル；オキシ塩化リン；ジフェニルホスホ
リルアジド；塩化チオニル；塩化オキサリル；例えばク
ロロギ酸エチル；クロロギ酸イソプロピル等のハロギ酸
低級アルキル；トリフェニルホスフィン；2-エチル-7-
ヒドロキシベンズイソオキサゾリウム塩、2-エチル-5-
（m-スルホフェニル）イソオキサゾリウムヒドロキシド
分子内塩；N-ヒドロキシベンゾトリアゾ−ル；1-(p-ク
ロロベンゼンスルホニルオキシ）-6-クロロ-1H-ベンゾ
トリアゾ−ル;N,N'-ジメチルホルムアミドと塩化チオニ
ル、ホスゲン、クロロギ酸トリクロロメチル、オキシ塩
化リン等との反応によって調製したいわゆるビルスマイ
ヤ−試薬等のような常用の縮合剤の存在下に反応を行う
のが望ましい。反応はまたアルカリ金属炭酸水素塩トリ
（低級）アルキルアミン、ピリジン、N-（低級)-アルキ
ルモルホリン、N,N-ジ（低級）アルキルベンジルアミン
等のような無機塩基または有機塩基の存在下に行っても
よい。反応温度は特に限定されないが、通常は冷却下な
いし加温下（例、約−１００℃〜１００℃）に反応が行
われる。反応時間は通常約３０分〜７２時間で行われ
る。
【００４０】［Ｃ工程］
【化３６】 〔式中、Ｌはカルボキシ基保護基を示し、他の記号は前
記と同意義を有する〕 Ｌで表されるカルボキシ保護基としては、ペプチド合成
の分野で通常用いられる保護基、たとえばエステル誘導
体が挙げられる。本工程においては、Ｒ4としてエステ
ル化されていてもよいカルボキシル基であってもよい。
該エステル化されていてもよいカルボキシル基として
は、式−ＣＯＯＲ12〔式中、Ｒ12は前記と同意義であ
る〕で表される基が挙げられる。
記と同意義を有する〕 Ｌで表されるカルボキシ保護基としては、ペプチド合成
の分野で通常用いられる保護基、たとえばエステル誘導
体が挙げられる。本工程においては、Ｒ4としてエステ
ル化されていてもよいカルボキシル基であってもよい。
該エステル化されていてもよいカルボキシル基として
は、式−ＣＯＯＲ12〔式中、Ｒ12は前記と同意義であ
る〕で表される基が挙げられる。
【００４１】本工程では、化合物 (V) またはカルボキ
シル基における反応性誘導体またはその塩を、化合物
(VI) またはアミノ基におけるその反応性誘導体または
その塩と反応させることにより (VII) を製造した後、
カルボキシ保護基の脱離反応に付し、化合物 (III−１)
を製造する。化合物 (V) またはカルボキシル基におけ
る反応性誘導体またはその塩と、化合物 (VI) またはア
ミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩との反応
は、Ｂ工程と同様にして行われる。化合物 (VII) のカ
ルボキシ保護基脱離反応は、カルボキシ保護基の脱離反
応に用いられるすべての慣用的方法、例えば加水分解、
還元、ルイス酸を用いての脱離などを適用できる。カル
ボキシ保護基がエステルの場合、加水分解またはルイス
酸を用いる脱離によって脱離することができる。加水分
解は、塩基または酸の存在下で行うことが好ましい。好
適な塩基としては、たとえばアルカリ金属水酸化物（た
とえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど）、アル
カリ土類金属水酸化物（たとえば水酸化マグネシウム、
水酸化カルシウムなど）、アルカリ金属炭酸塩（たとえ
ば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど）、アルカリ土類
金属炭酸塩（たとえば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウ
ムなど）、アルカリ金属重炭酸塩（重炭酸ナトリウム、
重炭酸カリウムなど）、アルカリ金属酢酸塩（たとえば
酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等）、アルカリ土類金属
リン酸塩（たとえばリン酸マグネシウム、リン酸カルシ
ウム等）、アルカリ金属水素リン酸塩（たとえばリン酸
水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウムなど）などの
無機塩基、トリアルキルアミン（たとえばトリメチルア
ミン、トリエチルアミンなど）、ピコリン、N-メチルピ
ロリジン、N-メチルモルホリン、1,5-ジアザビシクロ
〔4.3.0〕ノン-5-エン、1,4-ジアザビシクロ〔2.2.2〕
ノン-5-エン、1,8-ジアザビシクロ〔5.4.0〕-7-ウンデ
センなどの有機塩基が挙げられる。塩基を用いての加水
分解は、水または親水性有機溶媒あるいは混合溶媒中で
行われることが多い。好適な酸としては、有機または無
機酸（たとえばギ酸、臭化水素酸、硫酸など）を挙げる
ことができる。
シル基における反応性誘導体またはその塩を、化合物
(VI) またはアミノ基におけるその反応性誘導体または
その塩と反応させることにより (VII) を製造した後、
カルボキシ保護基の脱離反応に付し、化合物 (III−１)
を製造する。化合物 (V) またはカルボキシル基におけ
る反応性誘導体またはその塩と、化合物 (VI) またはア
ミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩との反応
は、Ｂ工程と同様にして行われる。化合物 (VII) のカ
ルボキシ保護基脱離反応は、カルボキシ保護基の脱離反
応に用いられるすべての慣用的方法、例えば加水分解、
還元、ルイス酸を用いての脱離などを適用できる。カル
ボキシ保護基がエステルの場合、加水分解またはルイス
酸を用いる脱離によって脱離することができる。加水分
解は、塩基または酸の存在下で行うことが好ましい。好
適な塩基としては、たとえばアルカリ金属水酸化物（た
とえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなど）、アル
カリ土類金属水酸化物（たとえば水酸化マグネシウム、
水酸化カルシウムなど）、アルカリ金属炭酸塩（たとえ
ば炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど）、アルカリ土類
金属炭酸塩（たとえば炭酸マグネシウム、炭酸カルシウ
ムなど）、アルカリ金属重炭酸塩（重炭酸ナトリウム、
重炭酸カリウムなど）、アルカリ金属酢酸塩（たとえば
酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等）、アルカリ土類金属
リン酸塩（たとえばリン酸マグネシウム、リン酸カルシ
ウム等）、アルカリ金属水素リン酸塩（たとえばリン酸
水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウムなど）などの
無機塩基、トリアルキルアミン（たとえばトリメチルア
ミン、トリエチルアミンなど）、ピコリン、N-メチルピ
ロリジン、N-メチルモルホリン、1,5-ジアザビシクロ
〔4.3.0〕ノン-5-エン、1,4-ジアザビシクロ〔2.2.2〕
ノン-5-エン、1,8-ジアザビシクロ〔5.4.0〕-7-ウンデ
センなどの有機塩基が挙げられる。塩基を用いての加水
分解は、水または親水性有機溶媒あるいは混合溶媒中で
行われることが多い。好適な酸としては、有機または無
機酸（たとえばギ酸、臭化水素酸、硫酸など）を挙げる
ことができる。
【００４２】本加水分解は、通常、水、例えばメタノ−
ル、エタノ−ル等のアルコ−ル類、アセトン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩
化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N,N-ジ
メチルホルムアミド、ピリジンのような常用の溶媒中で
行われるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればそ
の他のいかなる有機溶媒中でも反応を行うことができ
る。これら常用の溶媒は水との混合物として使用しても
よい。反応温度は特に限定されず、カルボキシ保護基の
種類ならびに脱離方法の応じて適宜選択される。例え
ば、約−１００℃〜１００℃で行われる。反応時間は、
通常約３０分〜７２時間で行われる。ルイス酸を用いる
脱離は、化合物 (VII) またはその塩を、ルイス酸、た
とえば三ハロゲン化ホウ素（たとえば三塩化ホウ素、三
フッ化ホウ素など）、ハロゲン化チタン（たとえば四塩
化チタン、四臭化チタンなど）、ハロゲン化アルミニウ
ム（たとえば塩化アルミニウム、臭化アルミニウムな
ど）、トリハロ酢酸（たとえばトリクロロ酢酸、トリフ
ルオロ酢酸など）などと反応させることにより行われ
る。この脱離反応は、カチオン捕捉剤（たとえばアニソ
−ル、フェノ−ルなど）の存在下で行うことが好まし
く、また通常、ニトロアルカン（たとえばニトロメタ
ン、ニトロエタンなど）、アルキレンハライド（たとえ
ば塩化メチレン、塩化エチレンなど）、ジエチルエ−テ
ル、二硫化炭素、その他反応に悪影響を及ぼさない溶媒
などの溶媒中で行われる。これらの溶媒は、それらの混
合物として使用してもよい。反応時間は通常約３０分〜
４８時間、反応温度は、通常約−１００〜１００℃で行
われる。還元による脱離は、ハロゲン化アルキル（たと
えば2-ヨ−ドエチル、2,2,2-トリクロロエチルなど）エ
ステル、アラルキル（たとえばベンジルなど）エステル
などの保護基の脱離に適用するのが好ましい。本脱離反
応に用いる還元方法としては、たとえば金属（たとえば
亜鉛、亜鉛アマルガムなど）またはクロム化合物の塩
（たとえば塩化第一クロム、酢酸第一クロムなど）と有
機または無機酸（たとえば酢酸、プロピオン酸、塩酸な
ど）との組み合わせ；慣用の金属触媒（たとえばパラジ
ウム炭素、ラネ−ニッケルなど）の存在下での慣用の接
触還元などを挙げることができる。反応温度は、特に限
定されず、通常、冷却下、室温または加温下（例、約−
１００℃〜１００℃）で反応は行われる。反応時間は、
３０分〜７２時間で通常行われる。使用される溶媒とし
ては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2-ジクロロエ
タン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類等が用い
られる。これらの溶媒は、単独で用いることもできる
し、また必要に応じて２種またはそれ以上の多種類を混
合して用いてもよい。
ル、エタノ−ル等のアルコ−ル類、アセトン、ジオキサ
ン、アセトニトリル、クロロホルム、塩化メチレン、塩
化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、N,N-ジ
メチルホルムアミド、ピリジンのような常用の溶媒中で
行われるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であればそ
の他のいかなる有機溶媒中でも反応を行うことができ
る。これら常用の溶媒は水との混合物として使用しても
よい。反応温度は特に限定されず、カルボキシ保護基の
種類ならびに脱離方法の応じて適宜選択される。例え
ば、約−１００℃〜１００℃で行われる。反応時間は、
通常約３０分〜７２時間で行われる。ルイス酸を用いる
脱離は、化合物 (VII) またはその塩を、ルイス酸、た
とえば三ハロゲン化ホウ素（たとえば三塩化ホウ素、三
フッ化ホウ素など）、ハロゲン化チタン（たとえば四塩
化チタン、四臭化チタンなど）、ハロゲン化アルミニウ
ム（たとえば塩化アルミニウム、臭化アルミニウムな
ど）、トリハロ酢酸（たとえばトリクロロ酢酸、トリフ
ルオロ酢酸など）などと反応させることにより行われ
る。この脱離反応は、カチオン捕捉剤（たとえばアニソ
−ル、フェノ−ルなど）の存在下で行うことが好まし
く、また通常、ニトロアルカン（たとえばニトロメタ
ン、ニトロエタンなど）、アルキレンハライド（たとえ
ば塩化メチレン、塩化エチレンなど）、ジエチルエ−テ
ル、二硫化炭素、その他反応に悪影響を及ぼさない溶媒
などの溶媒中で行われる。これらの溶媒は、それらの混
合物として使用してもよい。反応時間は通常約３０分〜
４８時間、反応温度は、通常約−１００〜１００℃で行
われる。還元による脱離は、ハロゲン化アルキル（たと
えば2-ヨ−ドエチル、2,2,2-トリクロロエチルなど）エ
ステル、アラルキル（たとえばベンジルなど）エステル
などの保護基の脱離に適用するのが好ましい。本脱離反
応に用いる還元方法としては、たとえば金属（たとえば
亜鉛、亜鉛アマルガムなど）またはクロム化合物の塩
（たとえば塩化第一クロム、酢酸第一クロムなど）と有
機または無機酸（たとえば酢酸、プロピオン酸、塩酸な
ど）との組み合わせ；慣用の金属触媒（たとえばパラジ
ウム炭素、ラネ−ニッケルなど）の存在下での慣用の接
触還元などを挙げることができる。反応温度は、特に限
定されず、通常、冷却下、室温または加温下（例、約−
１００℃〜１００℃）で反応は行われる。反応時間は、
３０分〜７２時間で通常行われる。使用される溶媒とし
ては、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2-ジクロロエ
タン等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類等が用い
られる。これらの溶媒は、単独で用いることもできる
し、また必要に応じて２種またはそれ以上の多種類を混
合して用いてもよい。
【００４３】［Ｄ工程］
【化３７】 〔式中の各記号は前記と同意義を有する。〕 本工程では、化合物 (IX) またはカルボキシル基におけ
る反応性誘導体またはその塩を、化合物 (VIII) または
アミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩と反応
させることにより (X) を製造した後、カルボキシ保護
基の脱離反応に付し、化合物 (III-２) を製造する。本
工程は、Ｃ工程と同様に行われる。
る反応性誘導体またはその塩を、化合物 (VIII) または
アミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩と反応
させることにより (X) を製造した後、カルボキシ保護
基の脱離反応に付し、化合物 (III-２) を製造する。本
工程は、Ｃ工程と同様に行われる。
【００４４】［Ｅ工程］
【化３８】 〔式中、Ｘはハロゲン原子（例、塩素、臭素）を、その
他の記号は前記と同意義を有する。〕 本工程では、化合物 (XI) またはその塩を、化合物 (VI
II) またはそのアミノ基における反応性誘導体またはそ
の塩と反応させることにより (XII) を製造した後、カ
ルボキシ保護基の脱離反応に付し、化合物 (III-３) を
製造する。(VIII) と (XI) の反応は、適宜の溶媒中で
行われる。該溶媒としては例えばベンゼン、トルエン、
キシレンなどの芳香族炭化水素、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ジメトキシエタンなどのエ−テル類、酢酸
エチル、アセトニトリル、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、
ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，１，
２，２−テトラクロロエタン、アセトン、２−ブタノン
及びこれらの混合溶媒があげられる。 (VIII) と (XI)
の反応は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなどのア
ルカリ金属塩、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリン等のアミン類、水素化ナトリウム、水
素化カリウムなどの適宜の塩基の存在下に行われ、これ
ら塩基の使用量は化合物 (VIII) に対し１〜５モル程度
が好ましい。本反応は通常−２０℃〜１５０℃、好まし
くは約−１０℃〜１００℃で行われる。反応時間は、通
常約３０分〜７２時間で行われる。化合物（VIII）の好
ましい塩としては、化合物（I）について例示した酸付
加塩を参照すればよい。例えば、無機酸との塩、有機酸
との塩などが挙げられる。無機酸との塩の好適な例とし
ては、例えば塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸な
どとの塩が挙げられる。有機酸との塩の好適な例として
は、例えばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フマール
酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク
酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、p-トルエンスルホン酸などとの塩が挙げられる。こ
のようにして得た化合物 (XII) は、脱保護基反応に付
すことにより化合物（III-３）を製造する。本脱保護基
反応は、Ｃ工程における脱保護基反応と同様に行われ
る。
他の記号は前記と同意義を有する。〕 本工程では、化合物 (XI) またはその塩を、化合物 (VI
II) またはそのアミノ基における反応性誘導体またはそ
の塩と反応させることにより (XII) を製造した後、カ
ルボキシ保護基の脱離反応に付し、化合物 (III-３) を
製造する。(VIII) と (XI) の反応は、適宜の溶媒中で
行われる。該溶媒としては例えばベンゼン、トルエン、
キシレンなどの芳香族炭化水素、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ジメトキシエタンなどのエ−テル類、酢酸
エチル、アセトニトリル、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホキシド、クロロホルム、
ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，１，
２，２−テトラクロロエタン、アセトン、２−ブタノン
及びこれらの混合溶媒があげられる。 (VIII) と (XI)
の反応は水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウムなどのア
ルカリ金属塩、ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリン等のアミン類、水素化ナトリウム、水
素化カリウムなどの適宜の塩基の存在下に行われ、これ
ら塩基の使用量は化合物 (VIII) に対し１〜５モル程度
が好ましい。本反応は通常−２０℃〜１５０℃、好まし
くは約−１０℃〜１００℃で行われる。反応時間は、通
常約３０分〜７２時間で行われる。化合物（VIII）の好
ましい塩としては、化合物（I）について例示した酸付
加塩を参照すればよい。例えば、無機酸との塩、有機酸
との塩などが挙げられる。無機酸との塩の好適な例とし
ては、例えば塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸な
どとの塩が挙げられる。有機酸との塩の好適な例として
は、例えばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フマール
酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク
酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、p-トルエンスルホン酸などとの塩が挙げられる。こ
のようにして得た化合物 (XII) は、脱保護基反応に付
すことにより化合物（III-３）を製造する。本脱保護基
反応は、Ｃ工程における脱保護基反応と同様に行われ
る。
【００４５】［Ｆ工程］
【化３９】 〔式中の各記号は前記と同意義を有する。〕 本工程では、化合物 (XIII) またはその塩を、化合物
(XI) またはその塩と反応させることにより化合物 (III
-３) を製造する。本スルホニル化反応は、通常、アミ
ノ酸誘導体 (XIII) をナトリウム塩とし、化合物 (XI)
を反応させた後、酸性化する、いわゆるショッテン バ
ウマン(Schotten Baumann) の条件下で行われる。化合
物（XIII）の好ましい塩としては、化合物（VIII）につ
いて例示した酸付加塩を参照すればよい。
(XI) またはその塩と反応させることにより化合物 (III
-３) を製造する。本スルホニル化反応は、通常、アミ
ノ酸誘導体 (XIII) をナトリウム塩とし、化合物 (XI)
を反応させた後、酸性化する、いわゆるショッテン バ
ウマン(Schotten Baumann) の条件下で行われる。化合
物（XIII）の好ましい塩としては、化合物（VIII）につ
いて例示した酸付加塩を参照すればよい。
【００４６】［Ｇ工程］
【化４０】 〔式中、Ｘはハロゲン原子（例、塩素、臭素）を、その
他の記号は前記と同意義を有する。〕 本工程では、化合物 (XIII) またはその塩を、化合物
(XIV) またはその塩と反応させることにより化合物 (II
I-２) を製造する。本アシル化反応は、Ｆ工程と同様に
して行われる。
他の記号は前記と同意義を有する。〕 本工程では、化合物 (XIII) またはその塩を、化合物
(XIV) またはその塩と反応させることにより化合物 (II
I-２) を製造する。本アシル化反応は、Ｆ工程と同様に
して行われる。
【００４７】［Ｈ工程］
【化４１】 〔式中の各記号は前記と同意義を有する。〕 本工程では、化合物 (VIII) またはその塩を、化合物
(XV) と反応させることにより (XVI) を製造した後、カ
ルボキシ保護基の脱離反応に付し、化合物 (III-４) を
製造する。化合物 (VIII) またはその塩と化合物 (XV)
との反応は、適宜の溶媒中で行われる。該溶媒としては
例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化
水素、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タンなどのエ−テル類、酢酸エチル、アセトニトリル、
ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−
ジクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタ
ン、アセトン、２−ブタノン及びこれらの混合溶媒があ
げられる。化合物 (XV) の使用量は化合物 (VIII) に対
し１〜５モル程度が好ましい。本反応は通常−２０℃〜
１５０℃、好ましくは約−１０℃〜１００℃で行われ
る。反応温度は通常約３０分〜７２時間で行われる。こ
のようにして得た化合物 (XVI) は、脱保護基反応に付
すことにより化合物 (III-４) を製造する。本脱保護基
反応は、Ｃ工程における脱保護基反応と同様に行われ
る。
(XV) と反応させることにより (XVI) を製造した後、カ
ルボキシ保護基の脱離反応に付し、化合物 (III-４) を
製造する。化合物 (VIII) またはその塩と化合物 (XV)
との反応は、適宜の溶媒中で行われる。該溶媒としては
例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化
水素、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タンなどのエ−テル類、酢酸エチル、アセトニトリル、
ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−
ジクロロエタン、１，１，２，２−テトラクロロエタ
ン、アセトン、２−ブタノン及びこれらの混合溶媒があ
げられる。化合物 (XV) の使用量は化合物 (VIII) に対
し１〜５モル程度が好ましい。本反応は通常−２０℃〜
１５０℃、好ましくは約−１０℃〜１００℃で行われ
る。反応温度は通常約３０分〜７２時間で行われる。こ
のようにして得た化合物 (XVI) は、脱保護基反応に付
すことにより化合物 (III-４) を製造する。本脱保護基
反応は、Ｃ工程における脱保護基反応と同様に行われ
る。
【００４８】［Ｉ工程］
【化４２】 〔式中の各記号は前記と同意義を有する。〕 本工程では、化合物 (VIII) またはその塩を、化合物
(XVII) と反応させることにより (XVIII) を製造した
後、カルボキシ保護基の脱離反応に付し、化合物(III-
５) を製造する。本反応は、Ｈ工程と同様に行われる。
(XVII) と反応させることにより (XVIII) を製造した
後、カルボキシ保護基の脱離反応に付し、化合物(III-
５) を製造する。本反応は、Ｈ工程と同様に行われる。
【００４９】［Ｊ工程］
【化４３】 〔式中、Ｍはアミノ基の保護基を示し、他の記号は前記
と同意義を有する。〕 Ｍで表されるアミノ基の保護基としては、ペプチド合成
の分野で通常用いられる保護基、たとえばアセチル，ベ
ンジルオキシカルボニル，４−メトキシベンジルオキシ
カルボニル，ｔ−ブトキシカルボニル，ホルミルなどが
挙げられ、好ましくはベンジルオキシカルボニル，ｔ−
ブトキシカルボニルが用いられる。本工程では、化合物
（XIX）またはカルボキシル基における反応性誘導体ま
たはその塩を、化合物（XX）またはアミノ基におけるそ
の反応性誘導体またはその塩と反応させることにより
（XXI）を製造した後、アミノ保護基の脱離反応に付
し、化合物（IV）を製造する。化合物（XXI）のアミノ
保護基脱離反応は、アミノ保護基の脱離反応に用いられ
るすべての慣用的方法によって脱離することができる。
例えば、ベンジルオキシカルボニル基の脱離は、慣用の
金属触媒（例えばパラジウム炭素、ラネーニッケルな
ど）の存在下での接触還元により行われる。反応温度
は、特に限定されず、通常、冷却下、室温または加温下
（例、約−１００〜１００℃）で反応は行われる。反応
時間は、通常約３０分〜７２時間で行われる。化合物
（XIX）またはカルボキシル基における反応性誘導体ま
たはその塩と化合物（XX）またはアミノ基におけるその
反応性誘導体またはその塩との反応はＣ工程と同様に行
われる。
と同意義を有する。〕 Ｍで表されるアミノ基の保護基としては、ペプチド合成
の分野で通常用いられる保護基、たとえばアセチル，ベ
ンジルオキシカルボニル，４−メトキシベンジルオキシ
カルボニル，ｔ−ブトキシカルボニル，ホルミルなどが
挙げられ、好ましくはベンジルオキシカルボニル，ｔ−
ブトキシカルボニルが用いられる。本工程では、化合物
（XIX）またはカルボキシル基における反応性誘導体ま
たはその塩を、化合物（XX）またはアミノ基におけるそ
の反応性誘導体またはその塩と反応させることにより
（XXI）を製造した後、アミノ保護基の脱離反応に付
し、化合物（IV）を製造する。化合物（XXI）のアミノ
保護基脱離反応は、アミノ保護基の脱離反応に用いられ
るすべての慣用的方法によって脱離することができる。
例えば、ベンジルオキシカルボニル基の脱離は、慣用の
金属触媒（例えばパラジウム炭素、ラネーニッケルな
ど）の存在下での接触還元により行われる。反応温度
は、特に限定されず、通常、冷却下、室温または加温下
（例、約−１００〜１００℃）で反応は行われる。反応
時間は、通常約３０分〜７２時間で行われる。化合物
（XIX）またはカルボキシル基における反応性誘導体ま
たはその塩と化合物（XX）またはアミノ基におけるその
反応性誘導体またはその塩との反応はＣ工程と同様に行
われる。
【００５０】Ａ工程の原料化合物（I）は、次の方法で
も製造される。 ［Ｋ工程］
も製造される。 ［Ｋ工程］
【化４４】 ［式中、Ｍはアミノ基の保護基を示し、他の記号は前記
と同意義を有する。] Ｍで表されるアミノ保護基としては、前記したものと同
様なものが挙げられる。
と同意義を有する。] Ｍで表されるアミノ保護基としては、前記したものと同
様なものが挙げられる。
【００５１】本工程では、化合物（XXII）またはカルボ
キシル基における反応性誘導体またはその塩を、化合物
（IV）またはアミノ基におけるその反応性誘導体または
その塩と反応させることにより化合物（XXIII）を製造
した後、アミノ保護基の脱離反応に付し、化合物（XXI
V）を製造する。化合物（XXII）またはカルボキシル基
における反応性誘導体またはその塩と、化合物（IV）ま
たはアミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩と
の反応は、Ｂ工程と同様にして行われる。化合物（XXII
I）のアミノ保護基脱離反応は、アミノ保護基の脱離反
応に用いられるすべての慣用的方法によって脱離するこ
とができる。具体的な方法は、Ｊ工程を参照すればよ
い。次に、化合物（XXIV）を、Ｄ工程における化合物
（VIII）と化合物（IX）の反応またはＧ工程における化
合物（XIII）と化合物（XIV）の反応と同様にしてアシ
ル化を、Ｅ工程における化合物（VIII）と化合物（II）
の反応と同様にしてスルホニル化を、Ｈ工程における化
合物（VIII）と化合物（XV）の反応と同様にしてカルバ
モイル化を、Ｉ工程における化合物（VIII）と化合物
（XVII）の反応と同様にしてチオカルバモイル化を行
い、化合物（I）を製造する。
キシル基における反応性誘導体またはその塩を、化合物
（IV）またはアミノ基におけるその反応性誘導体または
その塩と反応させることにより化合物（XXIII）を製造
した後、アミノ保護基の脱離反応に付し、化合物（XXI
V）を製造する。化合物（XXII）またはカルボキシル基
における反応性誘導体またはその塩と、化合物（IV）ま
たはアミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩と
の反応は、Ｂ工程と同様にして行われる。化合物（XXII
I）のアミノ保護基脱離反応は、アミノ保護基の脱離反
応に用いられるすべての慣用的方法によって脱離するこ
とができる。具体的な方法は、Ｊ工程を参照すればよ
い。次に、化合物（XXIV）を、Ｄ工程における化合物
（VIII）と化合物（IX）の反応またはＧ工程における化
合物（XIII）と化合物（XIV）の反応と同様にしてアシ
ル化を、Ｅ工程における化合物（VIII）と化合物（II）
の反応と同様にしてスルホニル化を、Ｈ工程における化
合物（VIII）と化合物（XV）の反応と同様にしてカルバ
モイル化を、Ｉ工程における化合物（VIII）と化合物
（XVII）の反応と同様にしてチオカルバモイル化を行
い、化合物（I）を製造する。
【００５２】［Ｌ工程］
【化４５】 〔式中、各記号は前記と同意義を示す。〕 本工程では、化合物 (V) またはカルボキシル基におけ
る反応性誘導体またはその塩を、化合物 (XXIV') また
はアミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩と反
応させることにより (I-2) を製造する。本工程は、Ｃ
工程と同様に行われる。
る反応性誘導体またはその塩を、化合物 (XXIV') また
はアミノ基におけるその反応性誘導体またはその塩と反
応させることにより (I-2) を製造する。本工程は、Ｃ
工程と同様に行われる。
【００５３】一般式（II−１）
【化４６】 〔式中、各記号は前記と同意義である〕で表される化合
物は、好ましくは次のように製造される。 （ｉ）式（a）
物は、好ましくは次のように製造される。 （ｉ）式（a）
【化４７】 〔式中、Ｒ1およびＭは前記と同意義を示す〕で表され
る化合物もしくはそのカルボキシル基における反応性誘
導体またはその塩と式（b）
る化合物もしくはそのカルボキシル基における反応性誘
導体またはその塩と式（b）
【化４８】 〔式中、Ｒ5およびＲ6は前記と同意義を示す〕で表され
る化合物もしくはそのアミノ基における反応性誘導体ま
たはその塩とを反応させることにより式（c）
る化合物もしくはそのアミノ基における反応性誘導体ま
たはその塩とを反応させることにより式（c）
【化４９】 〔式中、Ｒ1、Ｒ5、Ｒ6およびＭは前記と同意義を示
す〕で表される化合物またはその塩を製造した後、式
（c）で表される化合物またはその塩をアミノ保護基の
脱離反応に付し式（d）
す〕で表される化合物またはその塩を製造した後、式
（c）で表される化合物またはその塩をアミノ保護基の
脱離反応に付し式（d）
【化５０】 〔式中、Ｒ1，Ｒ5およびＲ6は前記と同意義を示す〕で
表される化合物またはその塩を製造し、（ii）式（d）
で表される化合物もしくはそのアミノ基における反応性
誘導体またはその塩と式（e）
表される化合物またはその塩を製造し、（ii）式（d）
で表される化合物もしくはそのアミノ基における反応性
誘導体またはその塩と式（e）
【化５１】 〔式中、Ｒ2は前記と同意義を示し、Ｍ’はアミノ基の
保護基を示す〕で表される化合物もしくはそのカルボキ
シル基における反応性誘導体またはその塩とを反応させ
ることにより、式（f）
保護基を示す〕で表される化合物もしくはそのカルボキ
シル基における反応性誘導体またはその塩とを反応させ
ることにより、式（f）
【化５２】 〔式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ5，Ｒ6およびＭ’は前記と同意義
を示す〕で表される化合物またはその塩を製造した後、
式（f）で表される化合物またはその塩をアミノ保護基
の脱離反応に付し式（g）
を示す〕で表される化合物またはその塩を製造した後、
式（f）で表される化合物またはその塩をアミノ保護基
の脱離反応に付し式（g）
【化５３】 〔式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ5，Ｒ6は前記と同意義を示す〕で
表される化合物またはその塩を製造し、（iii）式（g）
で表される化合物もしくはそのアミノ基における反応性
誘導体またはその塩と式（h） Ｒ11ＳＯ2Ｘ 〔式中、Ｒ11は前記と同意義を示し、Ｘはハロゲン原子
（例、塩素、臭素）を示す〕で表される化合物またはそ
の塩とを反応させることにより、式（i）
表される化合物またはその塩を製造し、（iii）式（g）
で表される化合物もしくはそのアミノ基における反応性
誘導体またはその塩と式（h） Ｒ11ＳＯ2Ｘ 〔式中、Ｒ11は前記と同意義を示し、Ｘはハロゲン原子
（例、塩素、臭素）を示す〕で表される化合物またはそ
の塩とを反応させることにより、式（i）
【化５４】 〔式中、各記号は前記と同意義である〕で表される化合
物またはその塩を製造し、（iv）式（i）で表される化
合物またはその塩を還元反応に付すことを特徴とする式
（II−１）で表される化合物またはその塩の製造法であ
る。
物またはその塩を製造し、（iv）式（i）で表される化
合物またはその塩を還元反応に付すことを特徴とする式
（II−１）で表される化合物またはその塩の製造法であ
る。
【００５４】Ｍ’で表されるアミノ保護基としては、前
記Ｍで表されるアミノ保護基で定義されたものと同様な
ものが挙げられる。本工程において、化合物（a）また
はカルボキシル基における反応性誘導体またはその塩
と、化合物（b）またはアミノ基におけるその反応性誘
導体またはその塩との反応は、Ｊ工程と同様にして行わ
れる。化合物（c）のアミノ保護基脱離反応は、Ｊ工程
を参照すればよい。化合物（d）またはアミノ基におけ
る反応性誘導体またはその塩と、化合物（e）またはカ
ルボキシル基におけるその反応性誘導体またはその塩と
の反応は、Ｋ工程と同様にして行われる。化合物（f）
のアミノ保護基脱離反応は、Ｋ工程と同様にして行われ
る。化合物（g）またはアミノ基における反応性誘導体
またはその塩と、化合物（h）またはその塩との反応
は、Ｅ工程と同様にして行われる。化合物（i）の脱離
反応は、Ａ工程と同様にして行われる。
記Ｍで表されるアミノ保護基で定義されたものと同様な
ものが挙げられる。本工程において、化合物（a）また
はカルボキシル基における反応性誘導体またはその塩
と、化合物（b）またはアミノ基におけるその反応性誘
導体またはその塩との反応は、Ｊ工程と同様にして行わ
れる。化合物（c）のアミノ保護基脱離反応は、Ｊ工程
を参照すればよい。化合物（d）またはアミノ基におけ
る反応性誘導体またはその塩と、化合物（e）またはカ
ルボキシル基におけるその反応性誘導体またはその塩と
の反応は、Ｋ工程と同様にして行われる。化合物（f）
のアミノ保護基脱離反応は、Ｋ工程と同様にして行われ
る。化合物（g）またはアミノ基における反応性誘導体
またはその塩と、化合物（h）またはその塩との反応
は、Ｅ工程と同様にして行われる。化合物（i）の脱離
反応は、Ａ工程と同様にして行われる。
【００５５】一般式（II−１）で表される化合物は、好
ましくは式
ましくは式
【化５５】 で表される化合物である。 式
【化５６】 で表される化合物は、（ｉ）式（α）
【化５７】 〔式中、Ｍはアミノ基の保護基を示す〕で表される化合
物もしくはそのカルボキシル基における反応性誘導体ま
たはその塩と式（β）
物もしくはそのカルボキシル基における反応性誘導体ま
たはその塩と式（β）
【化５８】 〔式中、Ｒ5’およびＲ6’は同一または異なってＣ1-6
アルキル基を示す〕で表される化合物もしくはそのアミ
ノ基における反応性誘導体またはその塩とを反応させる
ことにより式（γ）
アルキル基を示す〕で表される化合物もしくはそのアミ
ノ基における反応性誘導体またはその塩とを反応させる
ことにより式（γ）
【化５９】 〔式中、Ｒ5’、Ｒ6’およびＭは前記と同意義を示す〕
で表される化合物またはその塩を製造した後、式（γ）
で表される化合物またはその塩をアミノ保護基の脱離反
応に付し式（δ）
で表される化合物またはその塩を製造した後、式（γ）
で表される化合物またはその塩をアミノ保護基の脱離反
応に付し式（δ）
【化６０】 〔式中、Ｒ5’およびＲ6’は前記と同意義を示す〕で表
される化合物またはその塩を製造し、（ii）式（δ）で
表される化合物もしくはそのアミノ基における反応性誘
導体またはその塩と式（ε）
される化合物またはその塩を製造し、（ii）式（δ）で
表される化合物もしくはそのアミノ基における反応性誘
導体またはその塩と式（ε）
【化６１】 〔式中、Ｍ’はアミノ基の保護基を示す〕で表される化
合物もしくはそのカルボキシル基における反応性誘導体
またはその塩とを反応させることにより、式（ζ）
合物もしくはそのカルボキシル基における反応性誘導体
またはその塩とを反応させることにより、式（ζ）
【化６２】 〔式中、Ｒ5’、Ｒ6’およびＭ’は前記と同意義を示
す〕で表される化合物またはその塩を製造した後、式
（ζ）で表される化合物またはその塩をアミノ保護基の
脱離反応に付し式（η）
す〕で表される化合物またはその塩を製造した後、式
（ζ）で表される化合物またはその塩をアミノ保護基の
脱離反応に付し式（η）
【化６３】 〔式中、Ｒ5’、Ｒ6’は前記と同意義を示す〕で表され
る化合物またはその塩を製造し、（iii）式（η）で表
される化合物もしくはそのアミノ基における反応性誘導
体またはその塩と式（θ'）
る化合物またはその塩を製造し、（iii）式（η）で表
される化合物もしくはそのアミノ基における反応性誘導
体またはその塩と式（θ'）
【化６４】 で表される化合物またはその塩とを反応させることによ
り、式（ι）
り、式（ι）
【化６５】 〔式中、Ｒ5’およびＲ6’は前記と同意義である〕で表
される化合物またはその塩を製造し、（iv）式（ι）で
表される化合物またはその塩を還元反応に付すことを特
徴とする方法によって製造される。
される化合物またはその塩を製造し、（iv）式（ι）で
表される化合物またはその塩を還元反応に付すことを特
徴とする方法によって製造される。
【００５６】本発明の製造法によれば、温和な条件で収
率良く化合物（I）から光学活性な化合物（II）を製造
することができ、 悪臭の発生するＤＭＳＯ酸化反応を行
わないので、工業的にも有利な方法である。一般式（I
I）で表される化合物またはその塩は、その有効量を生
理学的に許容される担体と配合し、錠剤、カプセル剤、
顆粒剤、散剤などの固形製剤；またはシロップ剤、注射
剤などの液状製剤として経口または非経口的に投与する
ことができる。一般式（II）で表される化合物またはそ
の塩は、例えば、ＥＰ０６１１７５６号に記載されてい
るように、強いカテプシンＬ阻害作用と共に、すぐれた
骨吸収抑制作用を有し、かつ毒性が低い。したがって、
一般式（II）で表される化合物またはその塩は、哺乳動
物（例、マウス、ラット、ウサギ、犬、ネコ、牛、豚、
ヒト等）の骨粗鬆症の予防または治療に用いることがで
きる。
率良く化合物（I）から光学活性な化合物（II）を製造
することができ、 悪臭の発生するＤＭＳＯ酸化反応を行
わないので、工業的にも有利な方法である。一般式（I
I）で表される化合物またはその塩は、その有効量を生
理学的に許容される担体と配合し、錠剤、カプセル剤、
顆粒剤、散剤などの固形製剤；またはシロップ剤、注射
剤などの液状製剤として経口または非経口的に投与する
ことができる。一般式（II）で表される化合物またはそ
の塩は、例えば、ＥＰ０６１１７５６号に記載されてい
るように、強いカテプシンＬ阻害作用と共に、すぐれた
骨吸収抑制作用を有し、かつ毒性が低い。したがって、
一般式（II）で表される化合物またはその塩は、哺乳動
物（例、マウス、ラット、ウサギ、犬、ネコ、牛、豚、
ヒト等）の骨粗鬆症の予防または治療に用いることがで
きる。
【００５７】
【発明の実施の形態】以下に、参考例および実施例を挙
げて本発明を詳述するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。室温としては、約２０〜３０℃である。
げて本発明を詳述するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。室温としては、約２０〜３０℃である。
【００５８】
参考例１ N-ベンジルオキシカルボニル-L-トリプトファン(40g)、
N,O-ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩(12g)、トリエ
チルアミン(17.6ml)をジメチルホルムアミド(DMF)(300m
l)に溶解し、氷冷下1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(H
OBt)(20g)および1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピ
ル)カルボジイミド塩酸塩(WSCD・HCl)(24.8g)を加え、室
温で15時間撹拌した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残
留物に酢酸エチルを加えた。酢酸エチル層は、10%クエ
ン酸水溶液、水、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、飽和
食塩水の順に洗浄後、乾燥(MgSO4)した。溶媒を留去
し、得られた残留物を酢酸エチル-ヘキサンで洗浄し、N
-ベンジルオキシカルボニル-L-トリプトファン N,O-ジ
メチルヒドロキシルアミド(42g,93%)を白色固体として
得た。融点 131-132℃。 [α]D=-21.0°(c 0.56,MeOH)(2
0℃)。 元素分析 C21H23N3O4として 計算値: C, 66.13; H, 6.08; N, 11.02. 分析値: C, 66.38; H, 6.28; N, 11.25.
N,O-ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩(12g)、トリエ
チルアミン(17.6ml)をジメチルホルムアミド(DMF)(300m
l)に溶解し、氷冷下1-ヒドロキシベンゾトリアゾール(H
OBt)(20g)および1-エチル-3-(3-ジメチルアミノプロピ
ル)カルボジイミド塩酸塩(WSCD・HCl)(24.8g)を加え、室
温で15時間撹拌した。反応混合物を減圧下に濃縮し、残
留物に酢酸エチルを加えた。酢酸エチル層は、10%クエ
ン酸水溶液、水、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、飽和
食塩水の順に洗浄後、乾燥(MgSO4)した。溶媒を留去
し、得られた残留物を酢酸エチル-ヘキサンで洗浄し、N
-ベンジルオキシカルボニル-L-トリプトファン N,O-ジ
メチルヒドロキシルアミド(42g,93%)を白色固体として
得た。融点 131-132℃。 [α]D=-21.0°(c 0.56,MeOH)(2
0℃)。 元素分析 C21H23N3O4として 計算値: C, 66.13; H, 6.08; N, 11.02. 分析値: C, 66.38; H, 6.28; N, 11.25.
【００５９】参考例２ 参考例１と同様にして、N-ベンジルオキシカルボニル-L
-アラニン N,O-ジメチルヒドロキシルアミドを無色プリ
ズム晶として得た。 融点 88-89℃。 [α]D=-16.6°(c 0.
89,MeOH)(20℃)。 元素分析 C13H18N2O4として 計算値: C, 58.63; H, 6.81; N, 10.52. 分析値: C, 58.59; H, 6.71; N, 10.51. 参考例３ N-ベンジルオキシカルボニル-L-トリプトファン N,O-ジ
メチルヒドロキシルアミド(35g)とパラジウム-炭素(5%,
18g)をメタノール(200ml)とテトラヒドロフラン(THF)(2
00ml)の混合溶媒に加え、1気圧、室温で接触還元を行っ
た。パラジウム-炭素をろ別し、ろ液を減圧下に濃縮し
た。残留物をジメチルホルムアミド(DMF)(250ml)に溶解
し、N-ベンジルオキシカルボニル-L-イソロイシン(25.5
g)を加えた。この溶液に、氷冷下1-ヒドロキシベンゾト
リアゾール(HOBt)(15.4g)および1-エチル-3-(3-ジメチ
ルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(WSCD・HCl)(1
9.3g)を加え、室温で15時間撹拌した。反応混合物を減
圧下に濃縮し、残留物に酢酸エチルを加えた。酢酸エチ
ル層は、10%クエン酸水溶液、水、炭酸水素ナトリウム
飽和水溶液、飽和食塩水の順に洗浄後、乾燥(MgSO4)し
た。溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付した。酢酸エチル-ヘキサン(3:
1)で溶出する部分よりN-ベンジルオキシカルボニル-L-
イソロイシル-L-トリプトファン N,O-ジメチルヒドロキ
シルアミド(42g,92%)を無色粉末として得た。[α]D=-3
6.6°(c 0.55,MeOH)(20℃)。 元素分析 C27H34N4O5・1/2H2Oとして 計算値: C, 64.40; H, 7.01; N, 11.13. 分析値: C, 64.49; H, 6.77; N, 11.30.
-アラニン N,O-ジメチルヒドロキシルアミドを無色プリ
ズム晶として得た。 融点 88-89℃。 [α]D=-16.6°(c 0.
89,MeOH)(20℃)。 元素分析 C13H18N2O4として 計算値: C, 58.63; H, 6.81; N, 10.52. 分析値: C, 58.59; H, 6.71; N, 10.51. 参考例３ N-ベンジルオキシカルボニル-L-トリプトファン N,O-ジ
メチルヒドロキシルアミド(35g)とパラジウム-炭素(5%,
18g)をメタノール(200ml)とテトラヒドロフラン(THF)(2
00ml)の混合溶媒に加え、1気圧、室温で接触還元を行っ
た。パラジウム-炭素をろ別し、ろ液を減圧下に濃縮し
た。残留物をジメチルホルムアミド(DMF)(250ml)に溶解
し、N-ベンジルオキシカルボニル-L-イソロイシン(25.5
g)を加えた。この溶液に、氷冷下1-ヒドロキシベンゾト
リアゾール(HOBt)(15.4g)および1-エチル-3-(3-ジメチ
ルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(WSCD・HCl)(1
9.3g)を加え、室温で15時間撹拌した。反応混合物を減
圧下に濃縮し、残留物に酢酸エチルを加えた。酢酸エチ
ル層は、10%クエン酸水溶液、水、炭酸水素ナトリウム
飽和水溶液、飽和食塩水の順に洗浄後、乾燥(MgSO4)し
た。溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付した。酢酸エチル-ヘキサン(3:
1)で溶出する部分よりN-ベンジルオキシカルボニル-L-
イソロイシル-L-トリプトファン N,O-ジメチルヒドロキ
シルアミド(42g,92%)を無色粉末として得た。[α]D=-3
6.6°(c 0.55,MeOH)(20℃)。 元素分析 C27H34N4O5・1/2H2Oとして 計算値: C, 64.40; H, 7.01; N, 11.13. 分析値: C, 64.49; H, 6.77; N, 11.30.
【００６０】参考例４ N-ベンジルオキシカルボニル-L-イソロイシル-L-トリプ
トファン N,O-ジメチルヒドロキシルアミド(42g)とパラ
ジウム-炭素(5%,18g)をメタノール(150ml)とテトラヒド
ロフラン(THF)(150ml)の混合溶媒に加え、1気圧、室温
で接触還元を行った。パラジウム-炭素をろ別し、ろ液
を減圧下に濃縮した。残留物をジメチルホルムアミド(D
MF)(300ml)に溶解し、氷冷下1-ナフタレンスルホニルク
ロライド(20.2g)およびN,N-ジメチルアミノピリジン(1
0.9g)を加え、同温度で3時間撹拌した。反応混合物を減
圧下に濃縮し、残留物に酢酸エチルを加えた。酢酸エチ
ル層は、10%クエン酸水溶液、水、炭酸水素ナトリウム
飽和水溶液、飽和食塩水の順に洗浄後、乾燥(MgSO4)し
た。溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付した。酢酸エチル-ヘキサン(3:
1)で溶出する部分よりN-1-ナフタレンスルホニル-L-イ
ソロイシル-L-トリプトファン N,O-ジメチルヒドロキシ
ルアミド(42g,83%)を淡黄色粉末として得た。得られた
粉末にトルエンを加え、減圧下濃縮し、完全に酢酸エチ
ルを除いた。 [α]D=+30.2°(c 0.75,MeOH)(20℃）。 元素分析 Ｃ２９Ｈ３４Ｎ４Ｏ５Ｓ・１／２ｔｏｌｕｅ
ｎｅとして 計算値: C, 65.41; H, 6.42; N, 9.39. 分析値: C, 65.44; H, 6.43; N, 9.26.
トファン N,O-ジメチルヒドロキシルアミド(42g)とパラ
ジウム-炭素(5%,18g)をメタノール(150ml)とテトラヒド
ロフラン(THF)(150ml)の混合溶媒に加え、1気圧、室温
で接触還元を行った。パラジウム-炭素をろ別し、ろ液
を減圧下に濃縮した。残留物をジメチルホルムアミド(D
MF)(300ml)に溶解し、氷冷下1-ナフタレンスルホニルク
ロライド(20.2g)およびN,N-ジメチルアミノピリジン(1
0.9g)を加え、同温度で3時間撹拌した。反応混合物を減
圧下に濃縮し、残留物に酢酸エチルを加えた。酢酸エチ
ル層は、10%クエン酸水溶液、水、炭酸水素ナトリウム
飽和水溶液、飽和食塩水の順に洗浄後、乾燥(MgSO4)し
た。溶媒を留去し、得られた残留物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付した。酢酸エチル-ヘキサン(3:
1)で溶出する部分よりN-1-ナフタレンスルホニル-L-イ
ソロイシル-L-トリプトファン N,O-ジメチルヒドロキシ
ルアミド(42g,83%)を淡黄色粉末として得た。得られた
粉末にトルエンを加え、減圧下濃縮し、完全に酢酸エチ
ルを除いた。 [α]D=+30.2°(c 0.75,MeOH)(20℃）。 元素分析 Ｃ２９Ｈ３４Ｎ４Ｏ５Ｓ・１／２ｔｏｌｕｅ
ｎｅとして 計算値: C, 65.41; H, 6.42; N, 9.39. 分析値: C, 65.44; H, 6.43; N, 9.26.
【００６１】参考例５ 参考例３と同様にして、N-ベンジルオキシカルボニル-L
-バリル-L-フェニルアラニン N,O-ジメチルヒドロキシ
ルアミドを無色結晶として得た。 融点 101-102℃。 [α]
D=-36.9°(c 0.76,MeOH)(20℃)。 元素分析 C24H31N3O5として 計算値: C, 65.29; H, 7.08; N, 9.52. 分析値: C, 65.08; H, 7.05; N, 9.41. つぎに、得られた化合物から、N-バルプロイル-L-バリ
ル-L-フェニルアラニンN,O-ジメチルヒドロキシルアミ
ドを無色針状晶として得た。 融点 157-158℃。 [α]D=-5
4.6°(c 0.66,MeOH)(20℃)。 元素分析 C24H39N3O4として 計算値: C, 66.48; H, 9.07; N, 9.69. 分析値: C, 66.43; H, 9.04; N, 9.86. 参考例６ 参考例３と同様にして、N-α-t-ブトキシカルボニル-N-
ε-ベンジルオキシカルボニル-L-リジル-L-アラニン N,
O-ジメチルヒドロキシルアミドを無色油状物として得
た。1 H-NMR(δ ppm in CDCl3) : 1.33(3H,d,J=7.0Hz), 1.44
(9H,s), 1.5-1.9(6H,m),3.13，(3H,s), 3.1-3.3(2H,m),
3.75(3H,s), 4.0-4.2(1H,m), 4.8-5.0(1H,m),5.09(2H,
s)，5.1-5.3(1H,m), 6.63(1H,d,J=7.4Hz), 7.35(5H,s). 参考例７ 参考例４と同様にして、N-α-(p-トルエンスルホニル)-
N-(ε-ベンジルオキシカルボニル)-L-リジル-L-アラニ
ン N,O-ジメチルヒドロキシルアミドを無色針状晶とし
て得た。 融点 102-103℃。 [α]D=-25.5°(c 0.55,MeOH)
(20℃)。 元素分析 C26H36N4O7Sとして 計算値: C, 56.92; H, 6.61; N, 10.21. 分析値: C, 57.05; H, 6.54; N, 10.19.
-バリル-L-フェニルアラニン N,O-ジメチルヒドロキシ
ルアミドを無色結晶として得た。 融点 101-102℃。 [α]
D=-36.9°(c 0.76,MeOH)(20℃)。 元素分析 C24H31N3O5として 計算値: C, 65.29; H, 7.08; N, 9.52. 分析値: C, 65.08; H, 7.05; N, 9.41. つぎに、得られた化合物から、N-バルプロイル-L-バリ
ル-L-フェニルアラニンN,O-ジメチルヒドロキシルアミ
ドを無色針状晶として得た。 融点 157-158℃。 [α]D=-5
4.6°(c 0.66,MeOH)(20℃)。 元素分析 C24H39N3O4として 計算値: C, 66.48; H, 9.07; N, 9.69. 分析値: C, 66.43; H, 9.04; N, 9.86. 参考例６ 参考例３と同様にして、N-α-t-ブトキシカルボニル-N-
ε-ベンジルオキシカルボニル-L-リジル-L-アラニン N,
O-ジメチルヒドロキシルアミドを無色油状物として得
た。1 H-NMR(δ ppm in CDCl3) : 1.33(3H,d,J=7.0Hz), 1.44
(9H,s), 1.5-1.9(6H,m),3.13，(3H,s), 3.1-3.3(2H,m),
3.75(3H,s), 4.0-4.2(1H,m), 4.8-5.0(1H,m),5.09(2H,
s)，5.1-5.3(1H,m), 6.63(1H,d,J=7.4Hz), 7.35(5H,s). 参考例７ 参考例４と同様にして、N-α-(p-トルエンスルホニル)-
N-(ε-ベンジルオキシカルボニル)-L-リジル-L-アラニ
ン N,O-ジメチルヒドロキシルアミドを無色針状晶とし
て得た。 融点 102-103℃。 [α]D=-25.5°(c 0.55,MeOH)
(20℃)。 元素分析 C26H36N4O7Sとして 計算値: C, 56.92; H, 6.61; N, 10.21. 分析値: C, 57.05; H, 6.54; N, 10.19.
【００６２】実施例１ N-(1-ナフタレンスルホニル)-L-イソロイシル-L-トリプ
トファン N,O-ジメチルヒドロキシルアミド(21g)を無水
テトラヒドロフラン(THF)(200ml)に溶解し、N2気流中-6
0℃に冷却した。この溶液に、1.5M水素化ジイソブチル
アルミニウムトルエン溶液(107ml)を25分間で滴下し
た。-50℃で4時間撹拌後、反応溶液をクエン酸水溶液に
加えた。酢酸エチルで抽出し、クエン酸水溶液、水、炭
酸水素ナトリウム飽和水溶液、飽和食塩水の順に洗浄
後、乾燥(MgSO4)した。溶媒を留去し、残留物を酢酸エ
チル-ヘキサンから結晶化し、N-(1-ナフタレンスルホニ
ル)-L-イソロイシル-L-トリプトファナール(9.0g,58%)
を無色結晶として得た。融点 156-157℃。 [α]D=-54.4
°(c 0.50,CHCl3)(20℃)。 元素分析 C27H29N3O4Sとして 計算値: C, 65.97; H, 5.95; N, 8.55. 分析値: C, 65.95; H, 6.16; N, 8.36. 実施例２ 実施例１と同様にして、N-(バルプロイル)-L-バリル-L-
フェニルアラニナールを無色結晶として得た。 融点 161
-162℃。 [α]D=-59.3°(c 0.84,DMSO)(20℃)。元素分析
C22H34N2O3として 計算値: C, 70.55; H, 9.15; N, 7.48. 分析値: C, 70.16; H, 9.13; N, 7.76. 実施例３ 実施例１と同様にして、N-α-(p-トルエンスルホニル)-
N-(ε-ベンジルオキシカルボニル)-L-リジル-L-アラニ
ナールを無色結晶として得た。 融点 161-162℃。[α]D=-
9.2°(c 0.53,MeOH)。 元素分析 C24H31N3O6Sとして 計算値: C, 58.88; H, 6.38; N, 8.58. 分析値： Ｃ， ５８．４６； Ｈ， ６．３６；
Ｎ， ８．６１．
トファン N,O-ジメチルヒドロキシルアミド(21g)を無水
テトラヒドロフラン(THF)(200ml)に溶解し、N2気流中-6
0℃に冷却した。この溶液に、1.5M水素化ジイソブチル
アルミニウムトルエン溶液(107ml)を25分間で滴下し
た。-50℃で4時間撹拌後、反応溶液をクエン酸水溶液に
加えた。酢酸エチルで抽出し、クエン酸水溶液、水、炭
酸水素ナトリウム飽和水溶液、飽和食塩水の順に洗浄
後、乾燥(MgSO4)した。溶媒を留去し、残留物を酢酸エ
チル-ヘキサンから結晶化し、N-(1-ナフタレンスルホニ
ル)-L-イソロイシル-L-トリプトファナール(9.0g,58%)
を無色結晶として得た。融点 156-157℃。 [α]D=-54.4
°(c 0.50,CHCl3)(20℃)。 元素分析 C27H29N3O4Sとして 計算値: C, 65.97; H, 5.95; N, 8.55. 分析値: C, 65.95; H, 6.16; N, 8.36. 実施例２ 実施例１と同様にして、N-(バルプロイル)-L-バリル-L-
フェニルアラニナールを無色結晶として得た。 融点 161
-162℃。 [α]D=-59.3°(c 0.84,DMSO)(20℃)。元素分析
C22H34N2O3として 計算値: C, 70.55; H, 9.15; N, 7.48. 分析値: C, 70.16; H, 9.13; N, 7.76. 実施例３ 実施例１と同様にして、N-α-(p-トルエンスルホニル)-
N-(ε-ベンジルオキシカルボニル)-L-リジル-L-アラニ
ナールを無色結晶として得た。 融点 161-162℃。[α]D=-
9.2°(c 0.53,MeOH)。 元素分析 C24H31N3O6Sとして 計算値: C, 58.88; H, 6.38; N, 8.58. 分析値： Ｃ， ５８．４６； Ｈ， ６．３６；
Ｎ， ８．６１．
【００６３】
【発明の効果】本発明の製造法によれば、温和な条件で
収率良く化合物（Ｉ）から光学活性な目的化合物（II）
を製造することができ、 悪臭の発生するＤＭＳＯ酸化反
応を行わないので、工業的にも有利な方法である。
収率良く化合物（Ｉ）から光学活性な目的化合物（II）
を製造することができ、 悪臭の発生するＤＭＳＯ酸化反
応を行わないので、工業的にも有利な方法である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｋ 5/068 8517−4Ｈ Ｃ０７Ｋ 5/068
Claims (17)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒ1，Ｒ2およびＲ3は同一または異なって水素
または置換されていてもよい炭化水素基を、Ｒ4はアシ
ル基を、Ｒ5およびＲ6は同一または異なって置換されて
いてもよい炭化水素基を、ｍおよびｎは同一または異な
って０または１を示す］で表される化合物またはその塩
を還元反応に付すことを特徴とする一般式（II） 【化２】 ［式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，ｍおよびｎはそれぞれ前
記と同意義である］で表される化合物またはその塩の製
造法。 - 【請求項２】還元反応を水素化金属アルミニウムを用い
て行う請求項１記載の製造法。 - 【請求項３】Ｒ1，Ｒ2およびＲ3は、同一または異なっ
て、水素またはＣ1-10アルキル、Ｃ2-10アルケニル、Ｃ
2-10アルキニル、Ｃ3-12シクロアルキル、Ｃ5-12シクロ
アルケニル、Ｃ5-12シクロアルカジエニル、Ｃ3-7シク
ロアルキル−Ｃ1-8アルキル、Ｃ5-7シクロアルケニル−
Ｃ1-8アルキルおよびＣ6-14アリールから選択される炭
化水素基であって、該炭化水素基は、（i）水酸基，Ｃ
1-3アルコキシ，ハロゲンもしくはＣ1-3アルキルで置換
されていてもよいＣ6-14アリール、（ii）水酸基，Ｃ
1-3アルコキシ，ハロゲンもしくはＣ1-3アルキルで置換
されていてもよいＣ3-7シクロアルキルまたはＣ3-6シク
ロアルケニル、（iii）Ｃ1-3アルキルで置換されていて
もよい、１個の硫黄原子，窒素原子もしくは酸素原子を
含む５ないし７員芳香族複素環基、２ないし４個の窒素
原子を含む５もしくは６員芳香族複素環基、１〜２個の
窒素原子および１個の硫黄原子もしくは酸素原子を含む
５または６員芳香族複素環基、１個の硫黄原子，窒素原
子もしくは酸素原子を含む５ないし７員非芳香族複素環
基、および１個の窒素原子および３個以下の窒素，酸素
および硫黄原子から選ばれるヘテロ原子を含む４ないし
７員非芳香族複素環基から選択される複素環基、（iv）
カルボキシル、(低級(Ｃ1-6)アルコキシ)カルボニル、
(Ｃ6-10アリールオキシ)カルボニルまたは(Ｃ7-13アラ
ルキルオキシ)カルボニル、（v）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6
シクロアルキル，Ｃ6-10アリールもしくはＣ7-13アラル
キルで置換されていてもよいカルバモイル、（vi）Ｃ
1-6アルキル，Ｃ3-6シクロアルキル，Ｃ6-10アリールも
しくはＣ7-13アラルキルで置換されていてもよいアミ
ノ、（vii）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シクロアルキル，Ｃ
6-10アリールもしくはＣ7-13アラルキルで置換されてい
てもよい水酸基、（viii）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シクロ
アルキル，Ｃ6-10アリールもしくはＣ7-13アラルキルで
置換されていてもよいチオール、（ix）ハロゲンおよび
（x）Ｃ1-6アルキルもしくはＣ1-6アルコキシで置換さ
れていてもよいホスホノから選択される置換基を１ない
し３個有していてもよい；Ｒ4は、一般式−ＣＯＮＨ
Ｒ7，−ＣＳＮＨＲ8，−ＣＯＲ9，−ＳＯＲ10または−
ＳＯ2Ｒ11〔式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10およびＲ11は同
一または異なって水素または（Ａ）Ｃ1-10アルキル，Ｃ
2-10アルケニル，Ｃ2-10アルキニル，Ｃ3-12シクロアル
キル，Ｃ5-12シクロアルケニル，Ｃ5-12シクロアルカジ
エニル，Ｃ3-7シクロアルキル−Ｃ1-8アルキル，Ｃ5-7
シクロアルケニル−Ｃ1-8アルキルおよびＣ6-14アリー
ルから選択される炭化水素基または（Ｂ）１個の硫黄原
子，窒素原子もしくは酸素原子を含む５ないし７員芳香
族複素環基、２ないし４個の窒素原子を含む５または６
員芳香族複素環基、１〜２個の窒素原子および１個の硫
黄原子もしくは酸素原子を含む５または６員芳香族複素
環基、１個の硫黄原子，窒素原子もしくは酸素原子を含
む５ないし７員非芳香族複素環基、および１個の窒素原
子および３個以下の窒素，酸素および硫黄原子から選ば
れるヘテロ原子を含む４ないし７員非芳香族複素環基か
ら選択される複素環基であって、該炭化水素および複素
環基は、（i）水酸基，Ｃ1-3アルコキシ，ハロゲンもし
くはＣ1-3アルキルで置換されていてもよいＣ6-14アリ
ール、（ii）水酸基，Ｃ1-3アルコキシ，ハロゲンもし
くはＣ1-3アルキルで置換されていてもよいＣ3-7シクロ
アルキルまたはＣ3-6シクロアルケニル、（iii）Ｃ1-3
アルキルで置換されていてもよい、１個の硫黄原子，窒
素原子もしくは酸素原子を含む５ないし７員芳香族複素
環基、２ないし４個の窒素原子を含む５または６員芳香
族複素環基、１〜２個の窒素原子および１個の硫黄原子
もしくは酸素原子を含む５または６員芳香族複素環基、
１個の硫黄原子，窒素原子もしくは酸素原子を含む５な
いし７員非芳香族複素環基、および１個の窒素原子およ
び３個以下の窒素，酸素および硫黄原子から選ばれるヘ
テロ原子を含む４ないし７員非芳香族複素環基から選択
される複素環基、（iv）カルボキシル、(低級(Ｃ1-6)ア
ルコキシ)カルボニル、(Ｃ6-10アリールオキシ)カルボ
ニルまたは(Ｃ7-13アラルキルオキシ)カルボニル、
（v）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シクロアルキル，Ｃ6-10ア
リールもしくはＣ7-13アラルキルで置換されていてもよ
いカルバモイル、（vi）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シクロア
ルキル，Ｃ6-10アリールもしくはＣ7-13アラルキルで置
換されていてもよいアミノ、（vii）Ｃ1-6アルキル，Ｃ
3-6シクロアルキル，Ｃ6-10アリールもしくはＣ7-13ア
ラルキルで置換されていてもよい水酸基、（viii）Ｃ
1-6アルキル，Ｃ3-6シクロアルキル，Ｃ6-10アリールも
しくはＣ7-13アラルキルで置換されていてもよいチオー
ル、（ix）ハロゲンおよび（x）Ｃ1-6アルキルもしくは
Ｃ1-6アルコキシで置換されていてもよいホスホノから
選択される置換基を１ないし３個有していてもよい〕で
示される基を；Ｒ5およびＲ6は、同一または異なって、
Ｃ1-10アルキル、Ｃ2-10アルケニル、Ｃ2-10アルキニ
ル、Ｃ3-12シクロアルキル、Ｃ5-12シクロアルケニル、
Ｃ5-12シクロアルカジエニル、Ｃ3-7シクロアルキル−
Ｃ1-8アルキル、Ｃ5-7シクロアルケニル−Ｃ1-8アルキ
ルおよびＣ6-14アリールから選択される炭化水素基であ
って、該炭化水素基は、（i）水酸基，Ｃ1-3アルコキ
シ，ハロゲンもしくはＣ1-3アルキルで置換されていて
もよいＣ6-14アリール、（ii）水酸基，Ｃ1-3アルコキ
シ，ハロゲンもしくはＣ1-3アルキルで置換されていて
もよいＣ3-7シクロアルキルまたはＣ3-6シクロアルケニ
ル、（iii）Ｃ1-3アルキルで置換されていてもよい、１
個の硫黄原子，窒素原子もしくは酸素原子を含む５ない
し７員芳香族複素環基、２ないし４個の窒素原子を含む
５もしくは６員芳香族複素環基、１〜２個の窒素原子お
よび１個の硫黄原子もしくは酸素原子を含む５または６
員芳香族複素環基、１個の硫黄原子，窒素原子もしくは
酸素原子を含む５ないし７員非芳香族複素環基、および
１個の窒素原子および３個以下の窒素，酸素および硫黄
原子から選ばれるヘテロ原子を含む４ないし７員非芳香
族複素環基から選択される複素環基、（iv）カルボキシ
ル、(低級(Ｃ1-6)アルコキシ)カルボニル、(Ｃ6-10アリ
ールオキシ)カルボニルまたは(Ｃ7-13アラルキルオキ
シ)カルボニル、（v）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シクロアル
キル，Ｃ6-10アリールもしくはＣ7-13アラルキルで置換
されていてもよいカルバモイル、（vi）Ｃ1-6アルキ
ル，Ｃ3-6シクロアルキル，Ｃ6-10アリールもしくはＣ
7-13アラルキルで置換されていてもよいアミノ、（vi
i）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シクロアルキル，Ｃ6-10アリ
ールもしくはＣ7-13アラルキルで置換されていてもよい
水酸基、（viii）Ｃ1-6アルキル，Ｃ3-6シクロアルキ
ル，Ｃ6-10アリールもしくはＣ7-13アラルキルで置換さ
れていてもよいチオール、（ix）ハロゲンおよび（x）
Ｃ1-6アルキルもしくはＣ1-6アルコキシで置換されてい
てもよいホスホノから選択される置換基を１ないし３個
有していてもよいものである、請求項１記載の製造法。 - 【請求項４】Ｒ1，Ｒ2およびＲ3が同一または異なって
置換されていてもよいアルキル基である請求項１記載の
製造法。 - 【請求項５】Ｒ1がアリールまたは複素環基で置換され
た直鎖または分枝状のＣ1-6アルキル基である請求項１
記載の製造法。 - 【請求項６】Ｒ2およびＲ3が同一または異なって直鎖ま
たは分枝状のＣ1-6アルキル基である請求項１記載の製
造法。 - 【請求項７】アシル基が、カルボン酸、スルホン酸、ス
ルフィン酸、カルバミン酸またはチオカルバミン酸由来
のものである請求項１記載の製造法。 - 【請求項８】アシル基が、式−ＳＯ2Ｒ11または−ＣＯ
Ｒ9〔式中、Ｒ11およびＲ9は同一または異なって水素ま
たは置換されていてもよい炭化水素または複素環基であ
る〕で表される請求項１記載の製造法。 - 【請求項９】Ｒ4が式−ＳＯ2Ｒ11’〔式中、Ｒ11’はＣ
6-10アリール基である〕で表される請求項１記載の製造
法。 - 【請求項１０】Ｒ5およびＲ6が同一または異なって飽和
または不飽和の脂肪族鎖式炭化水素基である請求項１記
載の製造法。 - 【請求項１１】飽和脂肪族炭化水素基がＣ1-10アルキル
基である請求項１０記載の製造法。 - 【請求項１２】アルキル基がメチルである請求項１１記
載の製造法。 - 【請求項１３】ｍが１で、ｎが０である請求項１記載の
製造法。 - 【請求項１４】一般式（Ｉ）の化合物が式（ι） 【化３】 〔式中、Ｒ5’およびＲ6’は同一または異なってＣ1-6
アルキル基を示す〕で表される化合物またはその塩であ
る請求項１記載の製造法。 - 【請求項１５】一般式（Ｉ） 【化４】 ［式中、Ｒ1，Ｒ2およびＲ3は同一または異なって水素
または置換されていてもよい炭化水素基を、Ｒ4はアシ
ル基を、Ｒ5およびＲ6は同一または異なって置換されて
いてもよい炭化水素基を、ｍおよびｎは同一または異な
って０または１を示す］で表される化合物またはその
塩。 - 【請求項１６】一般式（Ｉ）の化合物が式（ι） 【化５】 〔式中、Ｒ5’およびＲ6’は同一または異なってＣ1-6
アルキル基を示す〕で表される化合物またはその塩であ
る請求項１５記載の化合物。 - 【請求項１７】（ｉ）式（α） 【化６】 〔式中、Ｍはアミノ基の保護基を示す〕で表される化合
物もしくはそのカルボキシル基における反応性誘導体ま
たはその塩と式（β） 【化７】 〔式中、Ｒ5’およびＲ6’は同一または異なってＣ1-6
アルキル基を示す〕で表される化合物もしくはそのアミ
ノ基における反応性誘導体またはその塩とを反応させる
ことにより式（γ） 【化８】 〔式中、Ｒ5’、Ｒ6’およびＭは前記と同意義を示す〕
で表される化合物またはその塩を製造した後、式（γ）
で表される化合物またはその塩をアミノ保護基の脱離反
応に付し式（δ） 【化９】 〔式中、Ｒ5’およびＲ6’は前記と同意義を示す〕で表
される化合物またはその塩を製造し、（ii）式（δ）で
表される化合物もしくはそのアミノ基における反応性誘
導体またはその塩と式（ε） 【化１０】 〔式中、Ｍ’はアミノ基の保護基を示す〕で表される化
合物もしくはそのカルボキシル基における反応性誘導体
またはその塩とを反応させることにより、式（ζ） 【化１１】 〔式中、Ｒ5’、Ｒ6’およびＭ’は前記と同意義を示
す〕で表される化合物またはその塩を製造した後、式
（ζ）で表される化合物またはその塩をアミノ保護基の
脱離反応に付し式（η） 【化１２】 〔式中、Ｒ5’、Ｒ6’は前記と同意義を示す〕で表され
る化合物またはその塩を製造し、（iii）式（η）で表
される化合物もしくはそのアミノ基における反応性誘導
体またはその塩と式（θ） 【化１３】 〔式中、Ｘはハロゲン原子を示す〕で表される化合物ま
たはその塩とを反応させることにより、式（ι） 【化１４】 〔式中、Ｒ5’およびＲ6’は前記と同意義である〕で表
される化合物またはその塩を製造し、（iv）式（ι）で
表される化合物またはその塩を還元反応に付すことを特
徴とする式 【化１５】 で表される化合物またはその塩の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2421596A JPH08283221A (ja) | 1995-02-13 | 1996-02-09 | アルデヒド誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7-24250 | 1995-02-13 | ||
| JP2425095 | 1995-02-13 | ||
| JP2421596A JPH08283221A (ja) | 1995-02-13 | 1996-02-09 | アルデヒド誘導体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08283221A true JPH08283221A (ja) | 1996-10-29 |
Family
ID=26361704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2421596A Withdrawn JPH08283221A (ja) | 1995-02-13 | 1996-02-09 | アルデヒド誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08283221A (ja) |
-
1996
- 1996-02-09 JP JP2421596A patent/JPH08283221A/ja not_active Withdrawn
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