JPH08288360A - 湿式基体処理装置、カセット及び湿式基体処理方法 - Google Patents
湿式基体処理装置、カセット及び湿式基体処理方法Info
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- JPH08288360A JPH08288360A JP7111123A JP11112395A JPH08288360A JP H08288360 A JPH08288360 A JP H08288360A JP 7111123 A JP7111123 A JP 7111123A JP 11112395 A JP11112395 A JP 11112395A JP H08288360 A JPH08288360 A JP H08288360A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】液体処理槽からカセットを引き上げたとき、カ
セットに液体が残留し難く、しかも、カセットから基体
が脱落しない湿式基体処理装置を提供する。 【構成】湿式基体処理装置１０は、（イ）液体処理槽１
２、（ロ）カセット搬送機１４、及び、（ハ）基体４０
を収納したカセット３０を吊り下げ、カセット搬送機１
４によって搬送され、そして、カセット３０を液体処理
槽１２中の液体に浸漬するためにカセット３０を昇降さ
せ得るチャック２０を備えており、チャック２０は、液
体表面に対して傾けた状態でカセット３０を吊り下げ
る。チャックは、カセットの側板３１の２つの突出部
（ボス）３２Ａに係合するフック部２１Ａ，２１Ｂを有
し、この突出部３２Ａと係合する各フック部２１Ａ，２
１Ｂの部分の水平方向の高さが異なることが好ましい。
セットに液体が残留し難く、しかも、カセットから基体
が脱落しない湿式基体処理装置を提供する。 【構成】湿式基体処理装置１０は、（イ）液体処理槽１
２、（ロ）カセット搬送機１４、及び、（ハ）基体４０
を収納したカセット３０を吊り下げ、カセット搬送機１
４によって搬送され、そして、カセット３０を液体処理
槽１２中の液体に浸漬するためにカセット３０を昇降さ
せ得るチャック２０を備えており、チャック２０は、液
体表面に対して傾けた状態でカセット３０を吊り下げ
る。チャックは、カセットの側板３１の２つの突出部
（ボス）３２Ａに係合するフック部２１Ａ，２１Ｂを有
し、この突出部３２Ａと係合する各フック部２１Ａ，２
１Ｂの部分の水平方向の高さが異なることが好ましい。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、基体の湿式処理を行う
ための湿式基体処理装置及び湿式基体処理方法、及びか
かる装置若しくは方法での使用に適した基体を収納する
ためのカセットに関する。
ための湿式基体処理装置及び湿式基体処理方法、及びか
かる装置若しくは方法での使用に適した基体を収納する
ためのカセットに関する。
【０００２】
【従来の技術】薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）や半導体装
置を製造する場合、例えばガラス基板や半導体基板から
成る基体、若しくは、配線層や電極層、絶縁層、レジス
ト層、カラーフィルター層といった各種の層がその上に
形成されたガラス基板や半導体基板から成る基体に対し
て、例えばエッチングや洗浄、レジスト現像やレジスト
除去といった種々の液体を用いた湿式処理が施される。
置を製造する場合、例えばガラス基板や半導体基板から
成る基体、若しくは、配線層や電極層、絶縁層、レジス
ト層、カラーフィルター層といった各種の層がその上に
形成されたガラス基板や半導体基板から成る基体に対し
て、例えばエッチングや洗浄、レジスト現像やレジスト
除去といった種々の液体を用いた湿式処理が施される。
【０００３】洗浄処理装置から成る従来の湿式基体処理
装置の概念図を図４の（Ａ）に示す。また、従来のチャ
ック１２０の一部及びカセット１３０の模式的な正面図
を図４の（Ｂ）に示し、図４の（Ｂ）の矢印方向からチ
ャック１２０の一部及びカセット１３０を眺めた図を図
４の（Ｃ）に示す。
装置の概念図を図４の（Ａ）に示す。また、従来のチャ
ック１２０の一部及びカセット１３０の模式的な正面図
を図４の（Ｂ）に示し、図４の（Ｂ）の矢印方向からチ
ャック１２０の一部及びカセット１３０を眺めた図を図
４の（Ｃ）に示す。
【０００４】この湿式基体処理装置１０は、ローダー部
１１、液体処理槽１２、アンローダー部１３、カセット
搬送機１４及びチャック１２０から構成されている。チ
ャック１２０はカセット搬送機１４によって搬送され、
基体を収納したカセット１３０を吊り下げ、そして、カ
セット１３０を降下させて液体処理槽１２中の液体に浸
漬する。これによって、基体４０は湿式処理される。カ
セット１３０は、液体表面に対して水平に昇降させられ
る。
１１、液体処理槽１２、アンローダー部１３、カセット
搬送機１４及びチャック１２０から構成されている。チ
ャック１２０はカセット搬送機１４によって搬送され、
基体を収納したカセット１３０を吊り下げ、そして、カ
セット１３０を降下させて液体処理槽１２中の液体に浸
漬する。これによって、基体４０は湿式処理される。カ
セット１３０は、液体表面に対して水平に昇降させられ
る。
【０００５】カセット１３０は、ワークを整列収納する
容器であり、マガジンとも呼ばれ、２枚の対向する側板
１３１、並びに、これらの側板１３１を所定の間隔を開
けて連結する４本の支柱１３２から構成されている。４
本の支柱１３２には基体留め具１３３が配設されてお
り、基体４０は基体留め具１３３の間に保持される。通
常、カセット１３０には、基体を垂直に立てて収納す
る。カセットの側板１３１のそれぞれからは、支柱１３
２が水平方向外側に延在し、突出部（ボス）１３２Ａを
形成している。チャック１２０は、対向する一対のフッ
ク部１２１、一対のフック部１２１を連結するバー１２
２、一対のバー１２２を連結するバー１２３、及びバー
１２３から垂直に延びる垂直バー１２４から構成されて
いる。フック部１２１のそれぞれは突出部（ボス）１３
２Ａと係合し、これによって、カセット１３０はチャッ
ク１２０から水平に吊り下げられる。
容器であり、マガジンとも呼ばれ、２枚の対向する側板
１３１、並びに、これらの側板１３１を所定の間隔を開
けて連結する４本の支柱１３２から構成されている。４
本の支柱１３２には基体留め具１３３が配設されてお
り、基体４０は基体留め具１３３の間に保持される。通
常、カセット１３０には、基体を垂直に立てて収納す
る。カセットの側板１３１のそれぞれからは、支柱１３
２が水平方向外側に延在し、突出部（ボス）１３２Ａを
形成している。チャック１２０は、対向する一対のフッ
ク部１２１、一対のフック部１２１を連結するバー１２
２、一対のバー１２２を連結するバー１２３、及びバー
１２３から垂直に延びる垂直バー１２４から構成されて
いる。フック部１２１のそれぞれは突出部（ボス）１３
２Ａと係合し、これによって、カセット１３０はチャッ
ク１２０から水平に吊り下げられる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の湿式
基体処理装置においては、カセット１３０を液体表面に
対して水平に降下させるので、液体処理槽１２からカセ
ット１３０をチャック１２０によって引き上げたとき、
カセット１３０に液体が残留し易い。即ち、カセット１
３０は所謂水切れが悪い。それ故、液体処理槽１２から
の液体の損失を招くばかりでなく、カセット１３０に残
留した液体が次の液体処理槽内の液体中に混入し、液体
を汚染するという問題もある。また、カセット１３０を
昇降させる際、あるいはカセット１３０をカセット搬送
機１４によって水平方向に搬送する際、カセット１３０
から基体４０が脱落する虞がある。
基体処理装置においては、カセット１３０を液体表面に
対して水平に降下させるので、液体処理槽１２からカセ
ット１３０をチャック１２０によって引き上げたとき、
カセット１３０に液体が残留し易い。即ち、カセット１
３０は所謂水切れが悪い。それ故、液体処理槽１２から
の液体の損失を招くばかりでなく、カセット１３０に残
留した液体が次の液体処理槽内の液体中に混入し、液体
を汚染するという問題もある。また、カセット１３０を
昇降させる際、あるいはカセット１３０をカセット搬送
機１４によって水平方向に搬送する際、カセット１３０
から基体４０が脱落する虞がある。
【０００７】従って、本発明の目的は、湿式基体処理装
置における液体処理槽からカセットを引き上げたとき、
カセットに液体が残留し難く、しかも、カセットから基
体が脱落しない湿式基体処理装置及び湿式基体処理方
法、並びに、かかる装置若しくは方法での使用に適した
カセットを提供することにある。
置における液体処理槽からカセットを引き上げたとき、
カセットに液体が残留し難く、しかも、カセットから基
体が脱落しない湿式基体処理装置及び湿式基体処理方
法、並びに、かかる装置若しくは方法での使用に適した
カセットを提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの本発明の湿式基体処理装置は、（イ）液体処理槽、
（ロ）カセット搬送機、及び、（ハ）基体を収納したカ
セットを吊り下げ、カセット搬送機によって搬送され、
そして、該カセットを液体処理槽中の液体に浸漬するた
めに該カセットを昇降させ得るチャック、を備えた湿式
基体処理装置であって、該チャックは、液体表面に対し
て傾けた状態でカセットを吊り下げることを特徴とす
る。
めの本発明の湿式基体処理装置は、（イ）液体処理槽、
（ロ）カセット搬送機、及び、（ハ）基体を収納したカ
セットを吊り下げ、カセット搬送機によって搬送され、
そして、該カセットを液体処理槽中の液体に浸漬するた
めに該カセットを昇降させ得るチャック、を備えた湿式
基体処理装置であって、該チャックは、液体表面に対し
て傾けた状態でカセットを吊り下げることを特徴とす
る。
【０００９】本発明の湿式基体処理装置においては、チ
ャックは、カセットの側板のそれぞれに備えられた少な
くとも２つの突出部に係合するフック部を有し、該突出
部と係合する各フック部の部分の水平方向の高さが異な
ることが好ましい。あるいは又、チャックは、カセット
の側板の垂直方向中心線から外れた位置に設けられた孔
部又は突出部に係合する突出部又はフック部を有するこ
とが好ましい。
ャックは、カセットの側板のそれぞれに備えられた少な
くとも２つの突出部に係合するフック部を有し、該突出
部と係合する各フック部の部分の水平方向の高さが異な
ることが好ましい。あるいは又、チャックは、カセット
の側板の垂直方向中心線から外れた位置に設けられた孔
部又は突出部に係合する突出部又はフック部を有するこ
とが好ましい。
【００１０】本発明の湿式基体処理装置においては、例
えば、基体の洗浄、湿式エッチング、レジスト現像若し
くはレジスト除去が行われる。
えば、基体の洗浄、湿式エッチング、レジスト現像若し
くはレジスト除去が行われる。
【００１１】上記の目的を達成するための本発明の基体
を収納するカセットは、基体を液体に浸漬して湿式処理
を行うために用いられ、カセットの側板の垂直方向中心
線から外れた位置に、カセットを吊り下げるための孔部
又は突出部が設けられていることを特徴とする。カセッ
トは、ワークである基体を整列収納する容器であり、マ
ガジンとも呼ばれる。
を収納するカセットは、基体を液体に浸漬して湿式処理
を行うために用いられ、カセットの側板の垂直方向中心
線から外れた位置に、カセットを吊り下げるための孔部
又は突出部が設けられていることを特徴とする。カセッ
トは、ワークである基体を整列収納する容器であり、マ
ガジンとも呼ばれる。
【００１２】上記の目的を達成するための本発明の湿式
基体処理方法は、基体を収納したカセットを液体表面に
対して傾けた状態で液体に浸漬し、その後、基体を収納
したカセットを液体表面に対して傾けた状態で液体から
引き上げ、基体を湿式処理することを特徴とする。
基体処理方法は、基体を収納したカセットを液体表面に
対して傾けた状態で液体に浸漬し、その後、基体を収納
したカセットを液体表面に対して傾けた状態で液体から
引き上げ、基体を湿式処理することを特徴とする。
【００１３】本発明における基体としては、例えば薄膜
トランジスタ（ＴＦＴ）や半導体装置を製造するため
の、例えばガラス基板や半導体基板、配線層や電極層、
絶縁層、レジスト層、カラーフィルター層といった各種
の層がその上に形成されたガラス基板や半導体基板を例
示することができるが、これらに限定されるものではな
い。
トランジスタ（ＴＦＴ）や半導体装置を製造するため
の、例えばガラス基板や半導体基板、配線層や電極層、
絶縁層、レジスト層、カラーフィルター層といった各種
の層がその上に形成されたガラス基板や半導体基板を例
示することができるが、これらに限定されるものではな
い。
【００１４】
【作用】本発明の湿式基体処理装置においては、カセッ
トを液体表面に対して傾けた状態で、カセットをチャッ
クによって吊り下げる。また、本発明の湿式基体処理方
法においては、基体を収納したカセットを液体表面に対
して傾けた状態で液体に浸漬し、その後、基体を収納し
たカセットを液体表面に対して傾けた状態で液体から引
き上げる。このようにカセットを傾けることによって、
カセットの所謂水切れが良くなり、カセットに液体が残
留し難くなる。また、カセットを傾けた状態にすること
で、カセットに収納された基体はカセットに設けられた
ストッパーと確実に係合し、カセットからの基体の脱落
を効果的に防止することができる。
トを液体表面に対して傾けた状態で、カセットをチャッ
クによって吊り下げる。また、本発明の湿式基体処理方
法においては、基体を収納したカセットを液体表面に対
して傾けた状態で液体に浸漬し、その後、基体を収納し
たカセットを液体表面に対して傾けた状態で液体から引
き上げる。このようにカセットを傾けることによって、
カセットの所謂水切れが良くなり、カセットに液体が残
留し難くなる。また、カセットを傾けた状態にすること
で、カセットに収納された基体はカセットに設けられた
ストッパーと確実に係合し、カセットからの基体の脱落
を効果的に防止することができる。
【００１５】本発明のカセットにおいては、カセットの
側板の垂直方向中心線から外れた位置に孔部が設けられ
ているので、チャックをこの孔部に係合させてカセット
を吊り下げれば、カセットは自然と傾くので、カセット
の所謂水切れが良くなり、カセットに液体が残留し難く
なるし、カセットからの基体の脱落を効果的に防止する
ことができる。
側板の垂直方向中心線から外れた位置に孔部が設けられ
ているので、チャックをこの孔部に係合させてカセット
を吊り下げれば、カセットは自然と傾くので、カセット
の所謂水切れが良くなり、カセットに液体が残留し難く
なるし、カセットからの基体の脱落を効果的に防止する
ことができる。
【００１６】
【実施例】以下、図面を参照して、実施例に基づき本発
明を説明する。
明を説明する。
【００１７】（実施例１）洗浄処理装置から成る本発明
の湿式基体処理装置の概念図を図１の（Ａ）に示す。こ
の湿式基体処理装置は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）や
半導体装置を製造する場合に用いられ、例えばガラス基
板や半導体基板から成る基体が洗浄される。湿式基体処
理装置１０は、ローダー部１１、液体処理槽１２、アン
ローダー部１３、カセット搬送機１４及びチャック２０
から構成されている。チャック２０は、カセット搬送機
１４によって搬送され、基体４０を収納したカセット３
０を把持し、吊り下げ、そして、カセット３０を昇降さ
せて液体処理槽１２中の液体に浸漬する。これによっ
て、基体４０は湿式処理される。
の湿式基体処理装置の概念図を図１の（Ａ）に示す。こ
の湿式基体処理装置は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）や
半導体装置を製造する場合に用いられ、例えばガラス基
板や半導体基板から成る基体が洗浄される。湿式基体処
理装置１０は、ローダー部１１、液体処理槽１２、アン
ローダー部１３、カセット搬送機１４及びチャック２０
から構成されている。チャック２０は、カセット搬送機
１４によって搬送され、基体４０を収納したカセット３
０を把持し、吊り下げ、そして、カセット３０を昇降さ
せて液体処理槽１２中の液体に浸漬する。これによっ
て、基体４０は湿式処理される。
【００１８】チャック２０の一部及びカセット３０の模
式的な正面図を図１の（Ｂ）に示す。更に、図１の
（Ｂ）の矢印方向からチャック２０の一部及びカセット
３０を眺めた図を図１の（Ｃ）に示す。カセット３０
は、ワークである基体を整列収納する容器であり、２枚
の対向する金属製の側板３１、並びに、これらの側板３
１を所定の間隔を開けて連結する合成樹脂製の４本の支
柱３２から構成されている。４本の支柱３２には、基体
留め具３３が配設されている。基体４０は基体留め具３
３の間に保持される。通常、カセット３０には、基体４
０を垂直に立てて収納する。カセット３０が傾けられた
とき基体４０が脱落しないように、支柱３２にはストッ
パー（図示せず）が設けられている。カセットの側板３
１のそれぞれからは、支柱１３２が水平方向外側に延在
し、突出部（ボス）３２Ａを形成している。尚、カセッ
トを構成する部材は、湿式処理に用いられる液体に対す
る耐性があれば、如何なる材料から作製してもよい。
式的な正面図を図１の（Ｂ）に示す。更に、図１の
（Ｂ）の矢印方向からチャック２０の一部及びカセット
３０を眺めた図を図１の（Ｃ）に示す。カセット３０
は、ワークである基体を整列収納する容器であり、２枚
の対向する金属製の側板３１、並びに、これらの側板３
１を所定の間隔を開けて連結する合成樹脂製の４本の支
柱３２から構成されている。４本の支柱３２には、基体
留め具３３が配設されている。基体４０は基体留め具３
３の間に保持される。通常、カセット３０には、基体４
０を垂直に立てて収納する。カセット３０が傾けられた
とき基体４０が脱落しないように、支柱３２にはストッ
パー（図示せず）が設けられている。カセットの側板３
１のそれぞれからは、支柱１３２が水平方向外側に延在
し、突出部（ボス）３２Ａを形成している。尚、カセッ
トを構成する部材は、湿式処理に用いられる液体に対す
る耐性があれば、如何なる材料から作製してもよい。
【００１９】チャック２０は、カセット３０を液体表面
に対して傾けた状態で、カセット３０を把持し、吊り下
げる。より具体的には、実施例１においては、チャック
２０は、カセットの側板のそれぞれに備えられた少なく
とも２つの突出部（ボス）３２Ａに係合するフック部２
１Ａ，２１Ｂを有し、各フック部２１Ａ，２１Ｂの突出
部３２Ａと係合する部分の水平方向の高さが異なる。こ
れによって、カセット３０は、液体処理槽１２内の液体
表面に対して傾いた状態で昇降させられる。尚、フック
部２１Ａ，２１Ｂは、バー２２によって連結され、更
に、一対のバー２２はバー２３によって連結されてい
る。また、バー２３から垂直方向に垂直バー２４が延
び、垂直バー２４はカセット搬送機１４に移動可能に取
り付けられている。また、チャック２０には、図示しな
い公知の昇降機構が備えられている。
に対して傾けた状態で、カセット３０を把持し、吊り下
げる。より具体的には、実施例１においては、チャック
２０は、カセットの側板のそれぞれに備えられた少なく
とも２つの突出部（ボス）３２Ａに係合するフック部２
１Ａ，２１Ｂを有し、各フック部２１Ａ，２１Ｂの突出
部３２Ａと係合する部分の水平方向の高さが異なる。こ
れによって、カセット３０は、液体処理槽１２内の液体
表面に対して傾いた状態で昇降させられる。尚、フック
部２１Ａ，２１Ｂは、バー２２によって連結され、更
に、一対のバー２２はバー２３によって連結されてい
る。また、バー２３から垂直方向に垂直バー２４が延
び、垂直バー２４はカセット搬送機１４に移動可能に取
り付けられている。また、チャック２０には、図示しな
い公知の昇降機構が備えられている。
【００２０】液体処理槽１２のそれぞれには、例えば、
ＮＨ4ＯＨ／Ｈ2Ｏ2から成る洗浄液、リンス液、希フッ
酸から成る洗浄液、リンス液、ＨＣｌ／Ｈ2Ｏ2から成る
洗浄液、リンス液が入れられている。尚、図１の（Ａ）
においては、液体処理槽の一部の図示を省略した。
ＮＨ4ＯＨ／Ｈ2Ｏ2から成る洗浄液、リンス液、希フッ
酸から成る洗浄液、リンス液、ＨＣｌ／Ｈ2Ｏ2から成る
洗浄液、リンス液が入れられている。尚、図１の（Ａ）
においては、液体処理槽の一部の図示を省略した。
【００２１】基体４０を収納したカセット３０は、湿式
基体処理装置１０のローダー部１１を介して、チャック
２０によって把持され、カセット搬送機１４により湿式
基体処理装置１０の内部に搬入される。このとき、図１
の（Ｂ）に示すように、カセット３０は、傾いた状態で
チャック２０に把持され吊り下げられている。カセット
３０をカセット搬送機１４によって水平方向に移動さ
せ、液体処理槽１２の上方に位置させる。次いで、図示
しない昇降機構によってチャック２０を降下させ、基体
４０を収納したカセット３０を液体表面に対して傾けた
状態で、液体処理槽１２内の液体に浸漬する。そして、
液体処理槽１２内で所定の湿式処理を基体４０に施した
後、図示しない昇降機構によってチャック２０を上昇さ
せ、基体４０を収納したカセット３０を液体表面に対し
て傾けた状態で液体から引き上げる。このようにカセッ
ト３０を傾けることによって、カセットの所謂水切れが
良くなり、液体はカセット３０から滑らかに流下し、カ
セット３０には液体が殆ど残存しない。また、カセット
３０を傾けた状態にすることで、カセット３０からの基
体４０の脱落を効果的に防止することができる。
基体処理装置１０のローダー部１１を介して、チャック
２０によって把持され、カセット搬送機１４により湿式
基体処理装置１０の内部に搬入される。このとき、図１
の（Ｂ）に示すように、カセット３０は、傾いた状態で
チャック２０に把持され吊り下げられている。カセット
３０をカセット搬送機１４によって水平方向に移動さ
せ、液体処理槽１２の上方に位置させる。次いで、図示
しない昇降機構によってチャック２０を降下させ、基体
４０を収納したカセット３０を液体表面に対して傾けた
状態で、液体処理槽１２内の液体に浸漬する。そして、
液体処理槽１２内で所定の湿式処理を基体４０に施した
後、図示しない昇降機構によってチャック２０を上昇さ
せ、基体４０を収納したカセット３０を液体表面に対し
て傾けた状態で液体から引き上げる。このようにカセッ
ト３０を傾けることによって、カセットの所謂水切れが
良くなり、液体はカセット３０から滑らかに流下し、カ
セット３０には液体が殆ど残存しない。また、カセット
３０を傾けた状態にすることで、カセット３０からの基
体４０の脱落を効果的に防止することができる。
【００２２】このような、カセット搬送機１４によるカ
セット３０の水平方向の移動、チャック２０によっての
カセット３０の昇降による基体４０の湿式処理を繰り返
す。最後に、湿式基体処理装置に配設された乾燥装置
（図示せず）によって基体４０を乾燥し、アンローダー
部１３を介してカセット３０を搬出する。
セット３０の水平方向の移動、チャック２０によっての
カセット３０の昇降による基体４０の湿式処理を繰り返
す。最後に、湿式基体処理装置に配設された乾燥装置
（図示せず）によって基体４０を乾燥し、アンローダー
部１３を介してカセット３０を搬出する。
【００２３】（実施例２）実施例２は、実施例１の変形
である。実施例２が実施例１と相違する点は、チャック
の構造及びカセットの構造にある。チャック２０Ａの一
部及びカセット３０Ａの模式的な正面図を図２の（Ａ）
に示す。更に、図２の（Ａ）の矢印方向からチャック２
０Ａの一部及びカセット３０Ａを眺めた図を図２の
（Ｂ）に示す。カセット３０Ａは、２枚の対向する金属
製の側板３１、並びに、これらの側板３１を所定の間隔
を開けて連結する合成樹脂製の４本の支柱３２から構成
されている。４本の支柱３２には、基体留め具３３が配
設されている。
である。実施例２が実施例１と相違する点は、チャック
の構造及びカセットの構造にある。チャック２０Ａの一
部及びカセット３０Ａの模式的な正面図を図２の（Ａ）
に示す。更に、図２の（Ａ）の矢印方向からチャック２
０Ａの一部及びカセット３０Ａを眺めた図を図２の
（Ｂ）に示す。カセット３０Ａは、２枚の対向する金属
製の側板３１、並びに、これらの側板３１を所定の間隔
を開けて連結する合成樹脂製の４本の支柱３２から構成
されている。４本の支柱３２には、基体留め具３３が配
設されている。
【００２４】チャック２０Ａは、カセット３０Ａを液体
表面に対して傾けた状態で、カセット３０を把持し、吊
り下げる。より具体的には、実施例２においては、カセ
ット３０Ａの側板３１の垂直方向中心線（図２の（Ａ）
に一点鎖線で示す）から外れた位置に、カセット３０Ａ
を吊り下げるための孔部３４が設けられている。また、
一対のチャック２０Ａは、かかる孔部３４に係合するピ
ン状の突出部２５を有する。突出部２５と孔部３４を係
合させることによって、カセット３０Ａは、液体処理槽
１２内の液体表面に対して傾いた状態で昇降させられ
る。実施例２における湿式基体処理装置及び湿式基体処
理方法は、実質的に実施例１と同様とすることができる
ので、詳細な説明は省略する。
表面に対して傾けた状態で、カセット３０を把持し、吊
り下げる。より具体的には、実施例２においては、カセ
ット３０Ａの側板３１の垂直方向中心線（図２の（Ａ）
に一点鎖線で示す）から外れた位置に、カセット３０Ａ
を吊り下げるための孔部３４が設けられている。また、
一対のチャック２０Ａは、かかる孔部３４に係合するピ
ン状の突出部２５を有する。突出部２５と孔部３４を係
合させることによって、カセット３０Ａは、液体処理槽
１２内の液体表面に対して傾いた状態で昇降させられ
る。実施例２における湿式基体処理装置及び湿式基体処
理方法は、実質的に実施例１と同様とすることができる
ので、詳細な説明は省略する。
【００２５】実施例２の変形を図３に示す。図３に示し
たカセット３０Ｂにおいては、カセット３０Ｂの側板３
１の垂直方向中心線（図３の（Ａ）に一点鎖線で示す）
から外れた位置に、カセット３０Ｂを吊り下げるための
突出部３５が設けられている。突出部３５は側板３１か
ら水平方向外側に延びている。一方、チャック２０Ｂ
は、かかる突出部３５に係合するフック部２６を有す
る。フック部２６と突出部３５を係合させることによっ
て、カセット３０Ｂは、液体処理槽１２内の液体表面に
対して傾いた状態でチャック２０Ｂによって昇降させら
れる。尚、図２及び図３に示したカセットの構造におい
ては、カセットに錘等を取り付けることによって、基体
を収納したカセットの重心を通り且つ側板と直交する垂
直面が側板と交わる直線を、側板３１の垂直方向中心線
からずらした場合には、かかる垂直面が側板と交わる直
線上から外れた位置に、カセットを吊り下げるための孔
部又は突出部を設ければよい。
たカセット３０Ｂにおいては、カセット３０Ｂの側板３
１の垂直方向中心線（図３の（Ａ）に一点鎖線で示す）
から外れた位置に、カセット３０Ｂを吊り下げるための
突出部３５が設けられている。突出部３５は側板３１か
ら水平方向外側に延びている。一方、チャック２０Ｂ
は、かかる突出部３５に係合するフック部２６を有す
る。フック部２６と突出部３５を係合させることによっ
て、カセット３０Ｂは、液体処理槽１２内の液体表面に
対して傾いた状態でチャック２０Ｂによって昇降させら
れる。尚、図２及び図３に示したカセットの構造におい
ては、カセットに錘等を取り付けることによって、基体
を収納したカセットの重心を通り且つ側板と直交する垂
直面が側板と交わる直線を、側板３１の垂直方向中心線
からずらした場合には、かかる垂直面が側板と交わる直
線上から外れた位置に、カセットを吊り下げるための孔
部又は突出部を設ければよい。
【００２６】以上、本発明を好ましい実施例に基づき説
明したが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。実施例にて説明した湿式基体処理装置の構造は
例示であり、適宜変更することができるし、カセットあ
るいはチャックの構造や形態、カセットを吊り下げるた
めの手段も適宜設計変更することができる。実施例にお
いては、専ら、基体の洗浄処理を例にとり本発明を説明
したが、液体処理槽に入れる液体を代えれば、各種の層
がその上に形成されたガラス基板や半導体基板から成る
基体に対して、かかる層が配線層や電極層あるいはカラ
ーフィルター層の場合、湿式エッチングを行ったり、か
かる層がレジストの場合、レジスト現像やレジスト除去
を行うことができるし、場合によっては基体へのめっき
を行うこともできる。基体は、ガラス基板や半導体基板
に限定されず、液体に浸漬して湿式処理を施すべき基体
であれば、如何なる基体に対しても、本発明の湿式基体
処理方法を適用することができる。
明したが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。実施例にて説明した湿式基体処理装置の構造は
例示であり、適宜変更することができるし、カセットあ
るいはチャックの構造や形態、カセットを吊り下げるた
めの手段も適宜設計変更することができる。実施例にお
いては、専ら、基体の洗浄処理を例にとり本発明を説明
したが、液体処理槽に入れる液体を代えれば、各種の層
がその上に形成されたガラス基板や半導体基板から成る
基体に対して、かかる層が配線層や電極層あるいはカラ
ーフィルター層の場合、湿式エッチングを行ったり、か
かる層がレジストの場合、レジスト現像やレジスト除去
を行うことができるし、場合によっては基体へのめっき
を行うこともできる。基体は、ガラス基板や半導体基板
に限定されず、液体に浸漬して湿式処理を施すべき基体
であれば、如何なる基体に対しても、本発明の湿式基体
処理方法を適用することができる。
【００２７】
【発明の効果】本発明により、極めて簡素な構造でカセ
ットの所謂水切れを向上させることができるので、液体
処理槽からの液体の損失を抑制することができ、更に
は、カセットに残留した液体が次の液体処理槽内の液体
中に混入して液体を汚染するという問題を解決すること
ができる。また、カセットからの基体の脱落を効果的に
防止することもできる。
ットの所謂水切れを向上させることができるので、液体
処理槽からの液体の損失を抑制することができ、更に
は、カセットに残留した液体が次の液体処理槽内の液体
中に混入して液体を汚染するという問題を解決すること
ができる。また、カセットからの基体の脱落を効果的に
防止することもできる。
【図１】実施例１の湿式基体処理装置の概念図、並び
に、チャック及びカセットの模式的な正面図及び側面図
である。
に、チャック及びカセットの模式的な正面図及び側面図
である。
【図２】実施例２のチャック及びカセットの模式的な正
面図及び側面図である。
面図及び側面図である。
【図３】実施例２の変形であるチャック及びカセットの
模式的な正面図及び側面図である。
模式的な正面図及び側面図である。
【図４】従来の湿式基体処理装置の概念図、並びに、チ
ャック及びカセットの模式的な正面図及び側面図であ
る。
ャック及びカセットの模式的な正面図及び側面図であ
る。
１０ 湿式基体処理装置 １１ ローダー部 １２ 液体処理槽 １３ アンローダー部 １４ カセット搬送機 ２０，２０Ａ，２０Ｂ チャック ２１Ａ，２１Ｂ，２６ フック部 ２２，２３，２４ バー ２５ 突出部 ３０，３０Ａ，３０Ｂ カセット ３１ 側板 ３２ 支柱 ３２Ａ，３５ 突出部 ３３ 基体留め具 ３４ 孔部 ４０ 基体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６９Ｄ 21/306 21/306 Ｊ
Claims (7)
- 【請求項１】（イ）液体処理槽、 （ロ）カセット搬送機、及び、 （ハ）基体を収納したカセットを吊り下げ、カセット搬
送機によって搬送され、そして、該カセットを液体処理
槽中の液体に浸漬するために該カセットを昇降させ得る
チャック、を備えた湿式基体処理装置であって、 該チャックは、液体表面に対して傾けた状態でカセット
を吊り下げることを特徴とする湿式基体処理装置。 - 【請求項２】前記チャックは、カセットの側板のそれぞ
れに備えられた少なくとも２つの突出部に係合するフッ
ク部を有し、該突出部と係合する各フック部の部分の水
平方向の高さが異なることを特徴とする請求項１に記載
の湿式基体処理装置。 - 【請求項３】前記チャックは、カセットの側板の垂直方
向中心線から外れた位置に設けられた孔部又は突出部に
係合する突出部又はフック部を有することを特徴とする
請求項１に記載の湿式基体処理装置。 - 【請求項４】基体の洗浄、湿式エッチング、レジスト現
像若しくはレジスト除去を行うことを特徴とする請求項
１乃至請求項３のいずれか１項に記載の湿式基体処理装
置。 - 【請求項５】基体を液体に浸漬して湿式処理を行うため
に用いられる、基体を収納するカセットであって、 カセットの側板の垂直方向中心線から外れた位置に、カ
セットを吊り下げるための孔部又は突出部が設けられて
いることを特徴とするカセット。 - 【請求項６】基体を収納したカセットを液体表面に対し
て傾けた状態で液体に浸漬し、その後、基体を収納した
カセットを液体表面に対して傾けた状態で液体から引き
上げ、基体を湿式処理することを特徴とする湿式基体処
理方法。 - 【請求項７】基体はガラス基板若しくは半導体基板であ
ることを特徴とする請求項６に記載の湿式基体処理方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7111123A JPH08288360A (ja) | 1995-04-12 | 1995-04-12 | 湿式基体処理装置、カセット及び湿式基体処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7111123A JPH08288360A (ja) | 1995-04-12 | 1995-04-12 | 湿式基体処理装置、カセット及び湿式基体処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08288360A true JPH08288360A (ja) | 1996-11-01 |
Family
ID=14553026
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7111123A Pending JPH08288360A (ja) | 1995-04-12 | 1995-04-12 | 湿式基体処理装置、カセット及び湿式基体処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08288360A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023079882A1 (ja) * | 2021-11-05 | 2023-05-11 | 村田機械株式会社 | 天井搬送車 |
-
1995
- 1995-04-12 JP JP7111123A patent/JPH08288360A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023079882A1 (ja) * | 2021-11-05 | 2023-05-11 | 村田機械株式会社 | 天井搬送車 |
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