JPH08290524A - 銅張り積層板 - Google Patents
銅張り積層板Info
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- JPH08290524A JPH08290524A JP12296695A JP12296695A JPH08290524A JP H08290524 A JPH08290524 A JP H08290524A JP 12296695 A JP12296695 A JP 12296695A JP 12296695 A JP12296695 A JP 12296695A JP H08290524 A JPH08290524 A JP H08290524A
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- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 100
- 239000010949 copper Substances 0.000 title abstract description 41
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title abstract description 41
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 claims abstract description 59
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 20
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 58
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 28
- 238000007788 roughening Methods 0.000 abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 8
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 7
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 7
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 7
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 6
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 4
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000011437 continuous method Methods 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000002659 electrodeposit Substances 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hcl hcl Chemical compound Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009966 trimming Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高い値のエッチングファクターが得られ、フ
ァインパターンの製造が可能な銅張り積層板の提供。 【構成】 粗化面の粗さが粗化処理後でRa=0.8μ
m以下、好ましくは0.7μm以下、特に好ましくは
0.6μm以下の銅箔を基板の少なくとも一面に接着し
たことを特徴とする銅張り積層板。粗化処理後の粗化面
を0.8μm以下とすると、エッチングパターンの裾に
銅粒子が残留し難くなり、ファインパターンを形成でき
る。
ァインパターンの製造が可能な銅張り積層板の提供。 【構成】 粗化面の粗さが粗化処理後でRa=0.8μ
m以下、好ましくは0.7μm以下、特に好ましくは
0.6μm以下の銅箔を基板の少なくとも一面に接着し
たことを特徴とする銅張り積層板。粗化処理後の粗化面
を0.8μm以下とすると、エッチングパターンの裾に
銅粒子が残留し難くなり、ファインパターンを形成でき
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、銅張り積層板に関し、
特に高いエッチングファクターが得られ、ファインピッ
チの回路パターンを製造可能な銅張り積層板に関する。
特に高いエッチングファクターが得られ、ファインピッ
チの回路パターンを製造可能な銅張り積層板に関する。
【0002】
【従来の技術】銅及び銅合金箔(以下銅箔と称する)
は、電気・電子関連産業の発展に大きく寄与しており、
特に印刷回路材として不可欠の存在となっている。印刷
回路用銅箔は一般に、合成樹脂ボード、フィルム等の基
材に接着剤を介して或いは接着剤を使用せずに高温高圧
下で積層接着して銅張積層板を製造し、その後目的とす
る回路を形成するべくレジスト塗布及び露光工程を経て
必要な回路を印刷した後、不要部を除去するエッチング
処理が施される。最終的に、所要の素子が半田付けされ
て、エレクトロニクスデバイス用の種々の印刷回路板を
形成する。印刷回路板用銅箔に関する品質要求は、樹脂
基材と接着される面(粗化面)と非接触面(光沢面)と
で異なり、それぞれに多くの方法が提唱されている。
は、電気・電子関連産業の発展に大きく寄与しており、
特に印刷回路材として不可欠の存在となっている。印刷
回路用銅箔は一般に、合成樹脂ボード、フィルム等の基
材に接着剤を介して或いは接着剤を使用せずに高温高圧
下で積層接着して銅張積層板を製造し、その後目的とす
る回路を形成するべくレジスト塗布及び露光工程を経て
必要な回路を印刷した後、不要部を除去するエッチング
処理が施される。最終的に、所要の素子が半田付けされ
て、エレクトロニクスデバイス用の種々の印刷回路板を
形成する。印刷回路板用銅箔に関する品質要求は、樹脂
基材と接着される面(粗化面)と非接触面(光沢面)と
で異なり、それぞれに多くの方法が提唱されている。
【0003】銅張積層板の製造方法としては、ホットプ
レス法や近時では連続法が採用されている。例えば、ホ
ットプレス法による紙基材フェノール樹脂銅張積層板の
製造を例にとると、フェノール樹脂の合成、紙基材への
フェノール樹脂の含浸及び乾燥を行ってプリプレグを製
造し、最後に、所定数量のプリプレグと銅箔とを組合わ
せ、多段式プレス機により熱圧成形を行い、解板、耳切
りを行い、次工程へと送られる。連続法の場合、片面銅
張積層板及び両面銅張積層板が製造されている。例え
ば、紙基材ポリエステル樹脂銅張積層板の場合、複数個
のロール状原紙から原紙が繰り出され、それぞれ別個に
紙処理、樹脂含浸工程を経て、複数枚の樹脂含浸紙はロ
ール対によって積層される。次いで接着剤塗布工程を経
た銅箔、片面の場合は銅箔とキャリアがラミネートされ
る。この積層およびラミネート工程で製品厚みを制御す
る。次に硬化炉へ送り込まれ、樹脂の硬化反応が起り、
硬化する。硬化後定尺切断、アフターキュアおよび端面
の研磨工程を経て、さらに外観検査、特性検査を実施し
製品となる。片面と両面の相違点は、片面の場合には、
下方よりキャリアフィルムを繰り出し、樹脂硬化後この
キャリアを引き剥がし、巻き取るのに対し、両面の場合
には下方からも接着剤塗布工程を経た銅箔を繰り出す点
であり、他の工程は片面も両面も同等である。その他、
ガラス−エポキシ樹脂基板等に関しても同様の工程で製
造される。
レス法や近時では連続法が採用されている。例えば、ホ
ットプレス法による紙基材フェノール樹脂銅張積層板の
製造を例にとると、フェノール樹脂の合成、紙基材への
フェノール樹脂の含浸及び乾燥を行ってプリプレグを製
造し、最後に、所定数量のプリプレグと銅箔とを組合わ
せ、多段式プレス機により熱圧成形を行い、解板、耳切
りを行い、次工程へと送られる。連続法の場合、片面銅
張積層板及び両面銅張積層板が製造されている。例え
ば、紙基材ポリエステル樹脂銅張積層板の場合、複数個
のロール状原紙から原紙が繰り出され、それぞれ別個に
紙処理、樹脂含浸工程を経て、複数枚の樹脂含浸紙はロ
ール対によって積層される。次いで接着剤塗布工程を経
た銅箔、片面の場合は銅箔とキャリアがラミネートされ
る。この積層およびラミネート工程で製品厚みを制御す
る。次に硬化炉へ送り込まれ、樹脂の硬化反応が起り、
硬化する。硬化後定尺切断、アフターキュアおよび端面
の研磨工程を経て、さらに外観検査、特性検査を実施し
製品となる。片面と両面の相違点は、片面の場合には、
下方よりキャリアフィルムを繰り出し、樹脂硬化後この
キャリアを引き剥がし、巻き取るのに対し、両面の場合
には下方からも接着剤塗布工程を経た銅箔を繰り出す点
であり、他の工程は片面も両面も同等である。その他、
ガラス−エポキシ樹脂基板等に関しても同様の工程で製
造される。
【0004】更に、多層プリント配線板を製造する場合
には、片面及び/又は両面に銅箔等で回路を形成した内
層用の回路板にプリプレグを介して外層用回路板もしく
は銅箔を重ね、これを積層形成して内層用の回路板と外
層用の回路板もしくは銅箔とを樹脂含浸基材による絶縁
層を介して積層することにより製造するのが一般的であ
る。
には、片面及び/又は両面に銅箔等で回路を形成した内
層用の回路板にプリプレグを介して外層用回路板もしく
は銅箔を重ね、これを積層形成して内層用の回路板と外
層用の回路板もしくは銅箔とを樹脂含浸基材による絶縁
層を介して積層することにより製造するのが一般的であ
る。
【0005】銅箔には、電解銅箔と圧延銅箔とがある
が、プリント配線板用として使用される銅箔は、その接
着強度などの観点から、大部分が電解銅箔である。以
下、電解銅箔を例に取り説明する。電解銅箔は、電気銅
あるいはそれと同等の純度を有する電線スクラップを原
料とし、それを硫酸酸性硫酸銅水溶液中に溶解させて電
解浴を調製し、通常ステンレス鋼、チタン、クロムめっ
きなどで表面が構成されている陰極円筒体を水平にし、
この陰極と相対して配置された陽極との間に電解液を流
し、陰極を回転させながら陽極との間に電流を流して、
陰極の表面に銅を電着させた後、所定の厚さとなった電
着物を銅箔として、連続的に剥離して生箔を製造するこ
とを基本とする。銅箔の厚みは、電流の大きさと、回転
速度を調節することで行う。その後、印刷回路板用銅箔
に対する品質要求に応じて、樹脂基材と接着される面
(以下粗化面と呼ぶ)と非接着面(以下光沢面と呼ぶ)
とでそれぞれに多くの処理がなされる。これは、トリー
ト処理(表面処理)工程と呼ばれる。電解銅箔は製造時
点で凹凸を有しているが、粗化面には、基板との引き剥
がし強度向上のため0.2〜3μm程度の銅粒子(粗化
粒子とも呼ぶ)を付着させるのが一般的である。銅粒子
は、電解銅箔の凸部を増強して凹凸を一層大きくする。
銅粒子の脱落を防止するために、銅粒子層を覆って薄い
銅めっき層を形成する場合もある。これを粗化処理と呼
ぶ。
が、プリント配線板用として使用される銅箔は、その接
着強度などの観点から、大部分が電解銅箔である。以
下、電解銅箔を例に取り説明する。電解銅箔は、電気銅
あるいはそれと同等の純度を有する電線スクラップを原
料とし、それを硫酸酸性硫酸銅水溶液中に溶解させて電
解浴を調製し、通常ステンレス鋼、チタン、クロムめっ
きなどで表面が構成されている陰極円筒体を水平にし、
この陰極と相対して配置された陽極との間に電解液を流
し、陰極を回転させながら陽極との間に電流を流して、
陰極の表面に銅を電着させた後、所定の厚さとなった電
着物を銅箔として、連続的に剥離して生箔を製造するこ
とを基本とする。銅箔の厚みは、電流の大きさと、回転
速度を調節することで行う。その後、印刷回路板用銅箔
に対する品質要求に応じて、樹脂基材と接着される面
(以下粗化面と呼ぶ)と非接着面(以下光沢面と呼ぶ)
とでそれぞれに多くの処理がなされる。これは、トリー
ト処理(表面処理)工程と呼ばれる。電解銅箔は製造時
点で凹凸を有しているが、粗化面には、基板との引き剥
がし強度向上のため0.2〜3μm程度の銅粒子(粗化
粒子とも呼ぶ)を付着させるのが一般的である。銅粒子
は、電解銅箔の凸部を増強して凹凸を一層大きくする。
銅粒子の脱落を防止するために、銅粒子層を覆って薄い
銅めっき層を形成する場合もある。これを粗化処理と呼
ぶ。
【0006】従来は、引き剥がし強度の高い銅箔が求め
られていたため、銅箔粗化面の粗さが粗化粒子付着処理
後もしくは銅粒子脱落防止銅めっき層の形成後で、Ra
=0.9μm以上としていた。図1は、銅箔1を基板2
に積層接着した銅張積層板の概念図を示す。銅箔1は粗
化面3と光沢面4とを具備している。粗化面3には、
0.2〜3μm程度の銅粒子層5と銅粒子層を覆う薄い
銅めっき層6とが形成されている。光沢面4上にはトリ
ート層7が形成され、更にその上にエッチングのための
レジスト8が塗布され、エッチング穿孔の結果としてエ
ッチングパターン9が形成されている。しかし、このよ
うに表面が粗い銅箔を用いた銅張積層板では、エッチン
グ時に基板表面に銅粒子が残存しやすい。このため、エ
ッチング時間を長くする必要があり、それだけサイドエ
ッチング量が増大し、また、ファインパターンを作製し
ようとしても、エッチングファクターを大きくすること
ができず、結果としてファインパターンを作製すること
が困難であった。無理にファインパターンを作製しよう
とすると、エッチングパターンの裾(根元)に10とし
て示すように銅粒子が付着、残存した状態となり、絶縁
抵抗の減少や、ショートの原因となることがあった。
られていたため、銅箔粗化面の粗さが粗化粒子付着処理
後もしくは銅粒子脱落防止銅めっき層の形成後で、Ra
=0.9μm以上としていた。図1は、銅箔1を基板2
に積層接着した銅張積層板の概念図を示す。銅箔1は粗
化面3と光沢面4とを具備している。粗化面3には、
0.2〜3μm程度の銅粒子層5と銅粒子層を覆う薄い
銅めっき層6とが形成されている。光沢面4上にはトリ
ート層7が形成され、更にその上にエッチングのための
レジスト8が塗布され、エッチング穿孔の結果としてエ
ッチングパターン9が形成されている。しかし、このよ
うに表面が粗い銅箔を用いた銅張積層板では、エッチン
グ時に基板表面に銅粒子が残存しやすい。このため、エ
ッチング時間を長くする必要があり、それだけサイドエ
ッチング量が増大し、また、ファインパターンを作製し
ようとしても、エッチングファクターを大きくすること
ができず、結果としてファインパターンを作製すること
が困難であった。無理にファインパターンを作製しよう
とすると、エッチングパターンの裾(根元)に10とし
て示すように銅粒子が付着、残存した状態となり、絶縁
抵抗の減少や、ショートの原因となることがあった。
【0007】なお、本発明において、エッチングファク
ターとは、図2(a)に示すように、銅箔上に開口幅
c、導体パターン幅bを有するようにレジストを塗布し
てエッチングを行った時に、エッチング液がレジストの
下側に回り込んで形成された導体上部の幅をaそして導
体の高さ(銅箔の厚み)に相当するエッチング深さをh
とするとき、エッチング深さhとサイドエッチング量
(b−a)/2の比率を云い、図2(b)に基づいて下
式で表わされるものであり、この値が大きいほどサイド
エッチングが少なく、ファインパターンを作製可能とな
る。 エッチングファクター(Ef)=tanθ=2×h/
(b−a)
ターとは、図2(a)に示すように、銅箔上に開口幅
c、導体パターン幅bを有するようにレジストを塗布し
てエッチングを行った時に、エッチング液がレジストの
下側に回り込んで形成された導体上部の幅をaそして導
体の高さ(銅箔の厚み)に相当するエッチング深さをh
とするとき、エッチング深さhとサイドエッチング量
(b−a)/2の比率を云い、図2(b)に基づいて下
式で表わされるものであり、この値が大きいほどサイド
エッチングが少なく、ファインパターンを作製可能とな
る。 エッチングファクター(Ef)=tanθ=2×h/
(b−a)
【0008】エッチングファクターを、向上させる手段
としては、特開昭63−119594号に、銅箔の配向
性が主として(111)配向のものを用いて異方性エッ
チングを可能にし、垂直対水平のエッチング比を改善す
る方法が記載されている。また、特開平6−26834
4号には、ランダム配向の銅箔を用いることで、エッチ
ングファクターを改善できると記載されている。さら
に、特開平6−270331号には、銅箔の光沢面に粗
化粒子を付着させ、エッチングファクターを向上させる
方法が記載されている。
としては、特開昭63−119594号に、銅箔の配向
性が主として(111)配向のものを用いて異方性エッ
チングを可能にし、垂直対水平のエッチング比を改善す
る方法が記載されている。また、特開平6−26834
4号には、ランダム配向の銅箔を用いることで、エッチ
ングファクターを改善できると記載されている。さら
に、特開平6−270331号には、銅箔の光沢面に粗
化粒子を付着させ、エッチングファクターを向上させる
方法が記載されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかし、いずれにして
も、上記のような特殊な箔を用いる方法では、通常の銅
箔を使用することができないため、製造コストの上昇が
避けられない。また、銅箔が安定に供給できるかどうか
の問題も抱えることになる。一方、銅箔の光沢面を使用
する方法は、樹脂との引き剥がし強さが弱くなりがちで
ある。樹脂との引き剥がし強さを向上させようとすれ
ば、粗化粒子を大量に付着させる必要があり、銅箔製造
コストが上昇することになる。
も、上記のような特殊な箔を用いる方法では、通常の銅
箔を使用することができないため、製造コストの上昇が
避けられない。また、銅箔が安定に供給できるかどうか
の問題も抱えることになる。一方、銅箔の光沢面を使用
する方法は、樹脂との引き剥がし強さが弱くなりがちで
ある。樹脂との引き剥がし強さを向上させようとすれ
ば、粗化粒子を大量に付着させる必要があり、銅箔製造
コストが上昇することになる。
【0010】また、ファインパターンを得る方法の一つ
として、銅箔を薄くすることが挙げられる。しかし、こ
の方法では電気抵抗が増加するため、大電流を必要とす
る回路に対応するためには、配線パターン形成後に銅め
っきを施す必要がある。
として、銅箔を薄くすることが挙げられる。しかし、こ
の方法では電気抵抗が増加するため、大電流を必要とす
る回路に対応するためには、配線パターン形成後に銅め
っきを施す必要がある。
【0011】本発明は、従来技術のこうした問題点を解
消するためになされたものであり、高い値のエッチング
ファクターが得られ、ファインパターンの製造が可能な
銅張り積層板を提供することを課題とする。
消するためになされたものであり、高い値のエッチング
ファクターが得られ、ファインパターンの製造が可能な
銅張り積層板を提供することを課題とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】前記問題点を解決するた
め、本発明者等が鋭意検討した結果、従来の銅箔であっ
ても、粗化処理後の粗化面粗さがRa=0.8μm以
下、好ましくは0.7μm以下、特に好ましくは0.6
μm以下のものを使用すれば、十分に高いエッチングフ
ァクター(4.5以上)が得られ、ファインパターンの
形成が可能であることを見出した。エッチングファクタ
ーが4.5未満では、エッチングパターンの根元に銅粒
子が残留しやすくなり、ファインパターンの形成が困難
になる。この知見に基づいて、本発明は、粗化面の粗さ
がRa=0.8μm以下、好ましくは0.7μm以下、
特に好ましくは0.6μm以下の銅箔を基板の少なくと
も一面、すなわち基板の片面又は両面に接着したことを
特徴とする銅張り積層板を提供する。なお、銅箔と基板
との接着強度を考慮に入れると、粗化面の粗さRa=
0.2μm以上とすることが好ましい。Raとは平均表
面粗さを表し、JISC6511の規定に従う。
め、本発明者等が鋭意検討した結果、従来の銅箔であっ
ても、粗化処理後の粗化面粗さがRa=0.8μm以
下、好ましくは0.7μm以下、特に好ましくは0.6
μm以下のものを使用すれば、十分に高いエッチングフ
ァクター(4.5以上)が得られ、ファインパターンの
形成が可能であることを見出した。エッチングファクタ
ーが4.5未満では、エッチングパターンの根元に銅粒
子が残留しやすくなり、ファインパターンの形成が困難
になる。この知見に基づいて、本発明は、粗化面の粗さ
がRa=0.8μm以下、好ましくは0.7μm以下、
特に好ましくは0.6μm以下の銅箔を基板の少なくと
も一面、すなわち基板の片面又は両面に接着したことを
特徴とする銅張り積層板を提供する。なお、銅箔と基板
との接着強度を考慮に入れると、粗化面の粗さRa=
0.2μm以上とすることが好ましい。Raとは平均表
面粗さを表し、JISC6511の規定に従う。
【0013】
【作用】銅箔粗化面の粗さが粗化粒子付着処理後で、
0.8μm以下とすると、エッチングパターンの裾(根
元)に図1に10として示したような銅粒子が残留し難
くなる。これが、ファインパターンを形成できる大きな
理由と考えられる。
0.8μm以下とすると、エッチングパターンの裾(根
元)に図1に10として示したような銅粒子が残留し難
くなる。これが、ファインパターンを形成できる大きな
理由と考えられる。
【0014】本発明に用いられる銅箔は、粗化処理後の
表面粗さがRa=0.8μm以下のものである。従っ
て、粗化処理前の銅箔も、この粗さ以下のものである必
要がある。この目的に適合する銅箔として、標準箔の厚
さ12μm以下のもの、例えば日鉱グールド・フォイル
(株)製JTC−LP箔及びSTCS箔の厚さ18μm
のもの、米国グールド・エレクトロニクス社製のJTC
−AM箔の厚さ70μm以下のもの等が挙げられる。こ
うした銅箔に、0.2〜3μm程度の銅粒子(粗化粒子
とも呼ぶ)を電着させ、必要に応じ銅粒子の脱落を防止
するために、銅粒子層を覆って薄い銅めっき層を形成し
て、粗化処理後の表面粗さがRa=0.8μm以下のも
のする。従来は、引き剥がし強度の高い銅箔が求められ
ていたため、銅箔粗化面の粗さが粗化処理後で0.9μ
m以上としていたが、ファインパターンの形成のために
は、引き剥がし強度を若干犠牲としても、粗化処理後の
表面粗さがRa=0.8μm以下のものとするのが良い
わけである。しかし、銅箔と基板との接着強度を考慮に
入れると、粗化面の粗さRa=0.2μm以上とするこ
とが好ましい。
表面粗さがRa=0.8μm以下のものである。従っ
て、粗化処理前の銅箔も、この粗さ以下のものである必
要がある。この目的に適合する銅箔として、標準箔の厚
さ12μm以下のもの、例えば日鉱グールド・フォイル
(株)製JTC−LP箔及びSTCS箔の厚さ18μm
のもの、米国グールド・エレクトロニクス社製のJTC
−AM箔の厚さ70μm以下のもの等が挙げられる。こ
うした銅箔に、0.2〜3μm程度の銅粒子(粗化粒子
とも呼ぶ)を電着させ、必要に応じ銅粒子の脱落を防止
するために、銅粒子層を覆って薄い銅めっき層を形成し
て、粗化処理後の表面粗さがRa=0.8μm以下のも
のする。従来は、引き剥がし強度の高い銅箔が求められ
ていたため、銅箔粗化面の粗さが粗化処理後で0.9μ
m以上としていたが、ファインパターンの形成のために
は、引き剥がし強度を若干犠牲としても、粗化処理後の
表面粗さがRa=0.8μm以下のものとするのが良い
わけである。しかし、銅箔と基板との接着強度を考慮に
入れると、粗化面の粗さRa=0.2μm以上とするこ
とが好ましい。
【0015】なお、本発明に用いられる基板としては特
に限定されるものではないが、紙基材フェノール樹脂基
板、紙基材ポリエステル樹脂基板、ガラス布基材エポキ
シ樹脂基板等が例示される。
に限定されるものではないが、紙基材フェノール樹脂基
板、紙基材ポリエステル樹脂基板、ガラス布基材エポキ
シ樹脂基板等が例示される。
【0016】
(実施例1)粗化処理面の粗さ(Ra)が0.6μm
で、35μm厚さの米国グールド・エレクトロニクス社
製JTC−AM電解銅箔をガラス布基材エポキシ樹脂で
加熱・加圧して銅張り積層板を作成した。これを、10
0μmピッチとなるように幅50μmのパターンを形成
後、通常の塩化第2銅−塩酸エッチング液中で4分間エ
ッチングした。結果を表1に示す。エッチングファクタ
ーが高く、エッチングパターンの裾(根元)に残留する
銅粒子も見られなかった。
で、35μm厚さの米国グールド・エレクトロニクス社
製JTC−AM電解銅箔をガラス布基材エポキシ樹脂で
加熱・加圧して銅張り積層板を作成した。これを、10
0μmピッチとなるように幅50μmのパターンを形成
後、通常の塩化第2銅−塩酸エッチング液中で4分間エ
ッチングした。結果を表1に示す。エッチングファクタ
ーが高く、エッチングパターンの裾(根元)に残留する
銅粒子も見られなかった。
【0017】(実施例2)粗化処理面の粗さ(Ra)が
0.4μmで18μm厚さの米国グールド・エレクトロ
ニクス社製JTC−AM電解銅箔を用いた以外は実施例
1と同様にして銅張り積層板を作成し、エッチング性を
調べた。結果を表1に示す。実施例1と同様に、エッチ
ングファクターが高い値を示し、エッチングパターンの
裾に残留する銅粒子も見られなかった。
0.4μmで18μm厚さの米国グールド・エレクトロ
ニクス社製JTC−AM電解銅箔を用いた以外は実施例
1と同様にして銅張り積層板を作成し、エッチング性を
調べた。結果を表1に示す。実施例1と同様に、エッチ
ングファクターが高い値を示し、エッチングパターンの
裾に残留する銅粒子も見られなかった。
【0018】(実施例3)粗化処理面の粗さ(Ra)が
0.8μmで18μm厚さの日鉱グールド・フォイル
(株)製STCS電解銅箔を用いた以外は実施例1と同
様にして銅張り積層板を作成し、エッチング性を調べ
た。結果を表1に示す。実施例1に比較してエッチング
ファクターが低くなり、エッチングパターンの裾に残留
する銅粒子も少し見られたが、十分シャープなエッチン
グパターンが得られた。
0.8μmで18μm厚さの日鉱グールド・フォイル
(株)製STCS電解銅箔を用いた以外は実施例1と同
様にして銅張り積層板を作成し、エッチング性を調べ
た。結果を表1に示す。実施例1に比較してエッチング
ファクターが低くなり、エッチングパターンの裾に残留
する銅粒子も少し見られたが、十分シャープなエッチン
グパターンが得られた。
【0019】(比較例1)粗化処理面の粗さ(Ra)が
1.0μmで18μm厚さの日鉱グールド・フォイル
(株)製JTC電解銅箔を用いた以外は実施例1と同様
にして銅張り積層板を作成し、エッチング性を調べた。
結果を表1に示す。実施例1に比較してエッチングファ
クターが低くなり、エッチングパターンの裾に残留する
銅粒子も多く、ファインパターンの形成は困難であっ
た。
1.0μmで18μm厚さの日鉱グールド・フォイル
(株)製JTC電解銅箔を用いた以外は実施例1と同様
にして銅張り積層板を作成し、エッチング性を調べた。
結果を表1に示す。実施例1に比較してエッチングファ
クターが低くなり、エッチングパターンの裾に残留する
銅粒子も多く、ファインパターンの形成は困難であっ
た。
【0020】(比較例2)粗化処理面の粗さ(Ra)が
1.2μmで35μm厚さの日鉱グールド・フォイル
(株)製JTC電解銅箔を用いた以外は実施例1と同様
にして銅張り積層板を作成し、エッチング性を調べた。
結果を表1に示す。実施例1に比較してエッチングファ
クターが低くなり、エッチングパターンの裾に残留する
銅粒子も多く、ファインパターンの形成は困難であっ
た。
1.2μmで35μm厚さの日鉱グールド・フォイル
(株)製JTC電解銅箔を用いた以外は実施例1と同様
にして銅張り積層板を作成し、エッチング性を調べた。
結果を表1に示す。実施例1に比較してエッチングファ
クターが低くなり、エッチングパターンの裾に残留する
銅粒子も多く、ファインパターンの形成は困難であっ
た。
【0021】
【表1】
【0022】
【発明の効果】本発明により得られる銅張り積層板は、
エッチング時に非常にシャープなエッジと、エッチング
パターンの裾に残留する銅粒子が少なくなる。このた
め、ファインパターンの形成が容易になる。
エッチング時に非常にシャープなエッジと、エッチング
パターンの裾に残留する銅粒子が少なくなる。このた
め、ファインパターンの形成が容易になる。
【図1】銅箔を基板に積層接着した銅張積層板のエッチ
ングパターンを形成した状態の概念図を示す。
ングパターンを形成した状態の概念図を示す。
【図2】エッチングファクターの説明図であり、(a)
はサイドエッチングを生じたエッチング穿孔の説明図そ
して(b)はエッチングファクター(Ef)の算出のた
めの説明図である。
はサイドエッチングを生じたエッチング穿孔の説明図そ
して(b)はエッチングファクター(Ef)の算出のた
めの説明図である。
1 銅箔 2 基板 3 粗化面 4 光沢面 5 銅粒子層 6 薄い銅めっき層 7 トリート層 8 レジスト 9 エッチングパターン 10 残存銅粒子 a エッチング後の導体上部の幅 b 導体のパターン幅 c レジスト開口幅 h エッチング深さ
Claims (3)
- 【請求項1】 粗化面の粗さがRa=0.8μm以下の
銅箔を基板の少なくとも一面に接着したことを特徴とす
る銅張り積層板。 - 【請求項2】 粗化面の粗さがRa=0.7μm以下の
銅箔を基板の少なくとも一面に接着したことを特徴とす
る銅張り積層板。 - 【請求項3】 粗化面の粗さがRa=0.6μm以下の
銅箔を基板の少なくとも一面に接着したことを特徴とす
る銅張り積層板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12296695A JPH08290524A (ja) | 1995-04-25 | 1995-04-25 | 銅張り積層板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12296695A JPH08290524A (ja) | 1995-04-25 | 1995-04-25 | 銅張り積層板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08290524A true JPH08290524A (ja) | 1996-11-05 |
Family
ID=14849024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12296695A Pending JPH08290524A (ja) | 1995-04-25 | 1995-04-25 | 銅張り積層板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08290524A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107761137A (zh) * | 2017-11-20 | 2018-03-06 | 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 | 一种实时计算、显示铜箔质重的装置及方法 |
-
1995
- 1995-04-25 JP JP12296695A patent/JPH08290524A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107761137A (zh) * | 2017-11-20 | 2018-03-06 | 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 | 一种实时计算、显示铜箔质重的装置及方法 |
| CN107761137B (zh) * | 2017-11-20 | 2023-10-20 | 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 | 一种实时计算、显示铜箔质重的装置及方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030401 |