JPH0829252A - レーザ出力検出装置 - Google Patents
レーザ出力検出装置Info
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- JPH0829252A JPH0829252A JP6188832A JP18883294A JPH0829252A JP H0829252 A JPH0829252 A JP H0829252A JP 6188832 A JP6188832 A JP 6188832A JP 18883294 A JP18883294 A JP 18883294A JP H0829252 A JPH0829252 A JP H0829252A
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Abstract
(57)【要約】
[目的]簡易かつ小規模な温調機構と温度補償機構とを
組み合わせて周囲温度等に影響されない安定かつ高精度
なレーザ出力測定値を得る。 [構成]ハウジング12内に入ったレーザ光LBは、反
射ミラー14で光路を90゜曲げて、ガラス板36、光
拡散板40、NDフィルタ42および可視光遮断フィル
タ44を通ってフォトダイオード46の受光面に入射す
る。光学フィルタ42,44およびフォトダイオード4
6は高熱伝導性の第2保持体28に一体的に保持されて
いる。第2保持体28は、発熱体48、温度センサ50
および温調制御回路からなる温調機構によって設定温度
に温調されている。フオトダイオード46より得られる
電気信号は温度補償による補正を受ける。
組み合わせて周囲温度等に影響されない安定かつ高精度
なレーザ出力測定値を得る。 [構成]ハウジング12内に入ったレーザ光LBは、反
射ミラー14で光路を90゜曲げて、ガラス板36、光
拡散板40、NDフィルタ42および可視光遮断フィル
タ44を通ってフォトダイオード46の受光面に入射す
る。光学フィルタ42,44およびフォトダイオード4
6は高熱伝導性の第2保持体28に一体的に保持されて
いる。第2保持体28は、発熱体48、温度センサ50
および温調制御回路からなる温調機構によって設定温度
に温調されている。フオトダイオード46より得られる
電気信号は温度補償による補正を受ける。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光検出方式のレーザ出
力検出装置に関する。
力検出装置に関する。
【0002】
【従来の技術】たとえばレーザ加工分野では、加工品質
を自動的に管理するために、レーザ光の出力(光強度)
を検出するレーザ出力検出装置が使われている。一般
に、レーザ出力検出装置は、大別して、カロリーメータ
のような光熱変換器を用いる熱量計測方式のものと、フ
ォトダイオードのような光電変換素子を用いる光検出方
式のものとに分けられる。熱量計測方式は、レーザ光の
出力をいったん熱に変換するため、応答速度が低く、計
測値が得られるまでに数秒もかかるという欠点があり、
最近は光検出方式が主流になっている。
を自動的に管理するために、レーザ光の出力(光強度)
を検出するレーザ出力検出装置が使われている。一般
に、レーザ出力検出装置は、大別して、カロリーメータ
のような光熱変換器を用いる熱量計測方式のものと、フ
ォトダイオードのような光電変換素子を用いる光検出方
式のものとに分けられる。熱量計測方式は、レーザ光の
出力をいったん熱に変換するため、応答速度が低く、計
測値が得られるまでに数秒もかかるという欠点があり、
最近は光検出方式が主流になっている。
【0003】図8および図9は光検出方式による従来の
レーザ出力検出装置の構成を示す図であって、図8は横
断面図および図9は正面図である。
レーザ出力検出装置の構成を示す図であって、図8は横
断面図および図9は正面図である。
【0004】このレーザ出力検出装置において、取付基
板100上には、一側面にレーザ光導入窓102aを有
するハウジング102が立設されている。ハウジング1
02内には該レーザ光導入窓102aに対して45゜の
向きで反射ミラー104が配設されている。反射ミラー
104からみて反射方向に位置するハウジング102の
側面には開口102bが設けられ、この開口102bに
支持部材106を介して絶縁材からなる筒状の第1保持
体108の一方の開口部(レーザ光入口部)108aが
ボルト(図示せず)等で固定されている。そして、第1
保持体108の他方の開口部(レーザ光出口部)108
bに金属からなる筒状の第2保持体110の一方の開口
部(レーザ光入口部)110aが嵌め込みで固定され、
第2保持体110の他方の開口部(レーザ光出口部)1
10b側に回路基板112が取り付けられている。取付
基板100の四隅にはボルトを通すための取付穴100
aが設けられている。
板100上には、一側面にレーザ光導入窓102aを有
するハウジング102が立設されている。ハウジング1
02内には該レーザ光導入窓102aに対して45゜の
向きで反射ミラー104が配設されている。反射ミラー
104からみて反射方向に位置するハウジング102の
側面には開口102bが設けられ、この開口102bに
支持部材106を介して絶縁材からなる筒状の第1保持
体108の一方の開口部(レーザ光入口部)108aが
ボルト(図示せず)等で固定されている。そして、第1
保持体108の他方の開口部(レーザ光出口部)108
bに金属からなる筒状の第2保持体110の一方の開口
部(レーザ光入口部)110aが嵌め込みで固定され、
第2保持体110の他方の開口部(レーザ光出口部)1
10b側に回路基板112が取り付けられている。取付
基板100の四隅にはボルトを通すための取付穴100
aが設けられている。
【0005】第1保持体108のレーザ光入口部108
aには平凸レンズ114が凸面を反射ミラー104側に
向けて配置されている。第2保持体110のレーザ光入
口部110aには複数枚たとえば3枚のNDフィルタ1
16と1枚の可視光遮断フィルタまたは赤外線透過フィ
ルタ118が光軸方向に並べて配置され、第2保持体1
10のレーザ光出口部110bには光電変換素子たとえ
ばフォトダイオード120が受光面をフィルタ側に向け
て回路基板112上に取り付けられている。
aには平凸レンズ114が凸面を反射ミラー104側に
向けて配置されている。第2保持体110のレーザ光入
口部110aには複数枚たとえば3枚のNDフィルタ1
16と1枚の可視光遮断フィルタまたは赤外線透過フィ
ルタ118が光軸方向に並べて配置され、第2保持体1
10のレーザ光出口部110bには光電変換素子たとえ
ばフォトダイオード120が受光面をフィルタ側に向け
て回路基板112上に取り付けられている。
【0006】かかる構成において、レーザ光導入窓10
2aには、たとえばレーザ発振部(図示せず)より出射
されたレーザ光をビームスプリッタ(図示せず)に通
し、そこで反射した一部(たとえば1%)のレーザ光L
Bが入射される。ハウジング102内に入ったレーザ光
LBは、反射ミラー104で光路を90゜曲げ、平凸レ
ンズ114、NDフィルタ116および可視光遮断フィ
ルタ118を通ってフォトダイオード120の受光面に
入射する。
2aには、たとえばレーザ発振部(図示せず)より出射
されたレーザ光をビームスプリッタ(図示せず)に通
し、そこで反射した一部(たとえば1%)のレーザ光L
Bが入射される。ハウジング102内に入ったレーザ光
LBは、反射ミラー104で光路を90゜曲げ、平凸レ
ンズ114、NDフィルタ116および可視光遮断フィ
ルタ118を通ってフォトダイオード120の受光面に
入射する。
【0007】この際、平凸レンズ114はレーザ光LB
をフォトダイオード120の受光面に集光せしめ、ND
フィルタ116はレーザ光LBの光強度を所定の減衰率
で減衰させ、可視光遮断フィルタ118はレーザ光LB
から可視光成分をノイズ成分として除去する。フォトダ
イオード120の出力端子からは、受光したレーザ光L
Bの出力を表し、ひいてはレーザ光導入窓102aに入
射されたレーザ光LBの出力あるいはレーザ発振部より
出射されたレーザ光LBの出力を表す電気信号が得られ
る。
をフォトダイオード120の受光面に集光せしめ、ND
フィルタ116はレーザ光LBの光強度を所定の減衰率
で減衰させ、可視光遮断フィルタ118はレーザ光LB
から可視光成分をノイズ成分として除去する。フォトダ
イオード120の出力端子からは、受光したレーザ光L
Bの出力を表し、ひいてはレーザ光導入窓102aに入
射されたレーザ光LBの出力あるいはレーザ発振部より
出射されたレーザ光LBの出力を表す電気信号が得られ
る。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところで、フォトダイ
オード等の光電変換素子は、周囲温度に応じて光電変換
特性が変化し、光強度の同じレーザ光を受光しても出力
信号が変わってしまう。また、NDフィルタや可視光遮
断フィルタ等の光学フィルタも周囲温度によってフィル
タ特性が変動しやすい。このために、上記したような従
来のレーザ出力検出装置では、たとえばレーザ加工場に
おいて朝と昼とではレーザ光LBの出力が同じでもフォ
トダイオード120の出力信号が違ってくるという不具
合があり、精度の高い安定なレーザ出力測定値が得られ
なかった。とりわけ、測定開始直後つまりレーザ光の透
過または入射の直後に光学フィルタの透過率および光電
変換素子の光電変換率がそれぞれ大きく変動しやすく、
このためにレーザ出力測定値が大きく変動しやすかっ
た。
オード等の光電変換素子は、周囲温度に応じて光電変換
特性が変化し、光強度の同じレーザ光を受光しても出力
信号が変わってしまう。また、NDフィルタや可視光遮
断フィルタ等の光学フィルタも周囲温度によってフィル
タ特性が変動しやすい。このために、上記したような従
来のレーザ出力検出装置では、たとえばレーザ加工場に
おいて朝と昼とではレーザ光LBの出力が同じでもフォ
トダイオード120の出力信号が違ってくるという不具
合があり、精度の高い安定なレーザ出力測定値が得られ
なかった。とりわけ、測定開始直後つまりレーザ光の透
過または入射の直後に光学フィルタの透過率および光電
変換素子の光電変換率がそれぞれ大きく変動しやすく、
このためにレーザ出力測定値が大きく変動しやすかっ
た。
【0009】本発明は、かかる問題点に鑑みてなされた
もので、周囲温度に関係なく高精度で信頼性の高いレー
ザ出力測定値を保証するレーザ出力検出装置を提供する
ことを主たる目的とする。
もので、周囲温度に関係なく高精度で信頼性の高いレー
ザ出力測定値を保証するレーザ出力検出装置を提供する
ことを主たる目的とする。
【0010】本発明の別の目的は、簡易かつ小規模な温
調機構と温度補償機構とを組み合わせて安定かつ高精度
なレーザ出力測定値を得るようにしたレーザ出力検出装
置を提供することにある。
調機構と温度補償機構とを組み合わせて安定かつ高精度
なレーザ出力測定値を得るようにしたレーザ出力検出装
置を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の第1のレーザ出力検出装置は、前記レー
ザ光を受光して前記レーザ光の出力を電気信号に変換す
る光電変換素子と、前記光電変換素子を保持する熱伝導
率の高い保持体と、前記保持体の温度を所定温度に制御
する温調手段と、前記光電変換素子より得られる前記電
気信号を温度補償によって補正する温度補償手段とを具
備する構成とした。
めに、本発明の第1のレーザ出力検出装置は、前記レー
ザ光を受光して前記レーザ光の出力を電気信号に変換す
る光電変換素子と、前記光電変換素子を保持する熱伝導
率の高い保持体と、前記保持体の温度を所定温度に制御
する温調手段と、前記光電変換素子より得られる前記電
気信号を温度補償によって補正する温度補償手段とを具
備する構成とした。
【0012】本発明の第2のレーザ出力検出装置は、前
記レーザ光を受光して前記レーザ光の出力を電気信号に
変換する光電変換素子と、前記光電変換素子を保持する
熱伝導率の高い保持体と、前記保持体の温度を所定温度
に制御する温調手段と、前記保持体の温度に応じて所定
の温度係数で抵抗値が変化する抵抗体と、前記光電変換
素子より得られる前記電気信号を前記抵抗体の抵抗値変
化に応じて補正する温度補償回路とを具備する構成とし
た。
記レーザ光を受光して前記レーザ光の出力を電気信号に
変換する光電変換素子と、前記光電変換素子を保持する
熱伝導率の高い保持体と、前記保持体の温度を所定温度
に制御する温調手段と、前記保持体の温度に応じて所定
の温度係数で抵抗値が変化する抵抗体と、前記光電変換
素子より得られる前記電気信号を前記抵抗体の抵抗値変
化に応じて補正する温度補償回路とを具備する構成とし
た。
【0013】本発明の第3のレーザ出力検出装置は、前
記レーザ光を通す光学フィルタと、前記光学フィルタを
通った前記レーザ光を受光して前記レーザ光の出力を電
気信号に変換する光電変換素子と、前記光学フィルタと
前記光電変換素子を保持する熱伝導率の高い保持体と、
前記保持体の温度を所定温度に制御する温調手段と、前
記保持体の温度に応じて所定の温度係数で抵抗値が変化
する抵抗体と、前記光電変換素子より得られる前記電気
信号を前記抵抗体の抵抗値変化に応じて補正する温度補
償回路とを具備する構成とした。
記レーザ光を通す光学フィルタと、前記光学フィルタを
通った前記レーザ光を受光して前記レーザ光の出力を電
気信号に変換する光電変換素子と、前記光学フィルタと
前記光電変換素子を保持する熱伝導率の高い保持体と、
前記保持体の温度を所定温度に制御する温調手段と、前
記保持体の温度に応じて所定の温度係数で抵抗値が変化
する抵抗体と、前記光電変換素子より得られる前記電気
信号を前記抵抗体の抵抗値変化に応じて補正する温度補
償回路とを具備する構成とした。
【0014】本発明の第4のレーザ出力検出装置は、前
記レーザ光を通す光学フィルタと、前記光学フィルタを
通った前記レーザ光を受光して前記レーザ光の出力を電
気信号に変換する光電変換素子と、前記光学フィルタと
前記光電変換素子とを保持する熱伝導率の高い保持体
と、前記保持体を加熱または冷却する温度調整手段と、
前記保持体の温度に応じて抵抗値が変化する第1の抵抗
体と、前記保持体の温度を所定温度に維持するよう前記
温度調整手段を前記第1の抵抗体の抵抗値変化に応じて
オン・オフ制御方式で制御する温度制御手段と、前記保
持体の温度に応じて前記光電変換素子と逆極性の温度係
数で抵抗値が変化する第2の抵抗体と、前記光電変換素
子より得られる前記電気信号を前記第2の抵抗体の抵抗
値変化に応じて補正する温度補償回路とを具備する構成
とした。
記レーザ光を通す光学フィルタと、前記光学フィルタを
通った前記レーザ光を受光して前記レーザ光の出力を電
気信号に変換する光電変換素子と、前記光学フィルタと
前記光電変換素子とを保持する熱伝導率の高い保持体
と、前記保持体を加熱または冷却する温度調整手段と、
前記保持体の温度に応じて抵抗値が変化する第1の抵抗
体と、前記保持体の温度を所定温度に維持するよう前記
温度調整手段を前記第1の抵抗体の抵抗値変化に応じて
オン・オフ制御方式で制御する温度制御手段と、前記保
持体の温度に応じて前記光電変換素子と逆極性の温度係
数で抵抗値が変化する第2の抵抗体と、前記光電変換素
子より得られる前記電気信号を前記第2の抵抗体の抵抗
値変化に応じて補正する温度補償回路とを具備する構成
とした。
【0015】
【作用】本発明の第1のレーザ出力検出装置では、光電
変換素子を保持する保持体が温調手段によって所定温度
に温調され、かつ光電変換素子の出力信号が温度補償手
段によって温度補償されるため、周囲温度やレーザ光の
状態等に左右されることなく光電変換素子が動作し、レ
ーザ光の出力を正確に表す高精度の電気信号が得られ
る。
変換素子を保持する保持体が温調手段によって所定温度
に温調され、かつ光電変換素子の出力信号が温度補償手
段によって温度補償されるため、周囲温度やレーザ光の
状態等に左右されることなく光電変換素子が動作し、レ
ーザ光の出力を正確に表す高精度の電気信号が得られ
る。
【0016】第2のレーザ出力検出装置では、上記第1
のレーザ出力検出装置において、温度補償手段が、抵抗
体と温度補償回路とにより簡易・小型に構成され得る。
のレーザ出力検出装置において、温度補償手段が、抵抗
体と温度補償回路とにより簡易・小型に構成され得る。
【0017】第3のレーザ出力検出装置では、上記第1
のレーザ出力検出装置において、保持体が光学フィルタ
をも保持するため、光学フィルタも周囲温度やレーザ光
の状態等に左右されることなく安定に動作し、一層高精
度な電気信号が得られる。
のレーザ出力検出装置において、保持体が光学フィルタ
をも保持するため、光学フィルタも周囲温度やレーザ光
の状態等に左右されることなく安定に動作し、一層高精
度な電気信号が得られる。
【0018】第4のレーザ出力検出装置では、温調制御
回路がオン・オフ制御方式で温調制御を行うとともに、
第2の抵抗体および温度補償回路からなる温度補償手段
がオン・オフ制御に起因する温度リップルを補償するの
で、温調制御回路を小規模・低コストな回路構成にする
ことができる。
回路がオン・オフ制御方式で温調制御を行うとともに、
第2の抵抗体および温度補償回路からなる温度補償手段
がオン・オフ制御に起因する温度リップルを補償するの
で、温調制御回路を小規模・低コストな回路構成にする
ことができる。
【0019】
【実施例】以下、図1〜図7を参照して本発明の実施例
を説明する。
を説明する。
【0020】図1は本発明の一実施例によるレーザ出力
検出装置の全体構成を示す横断面図であり、図2はこの
レーザ出力検出装置の要部の構成を示す側断面図であ
る。
検出装置の全体構成を示す横断面図であり、図2はこの
レーザ出力検出装置の要部の構成を示す側断面図であ
る。
【0021】このレーザ出力検出装置10において、取
付基板11上には、一側面にレーザ光導入窓12aを有
する箱状のハウジング12が設けられている。ハウジン
グ12内には該レーザ光導入窓12aに対して45゜の
向きで反射ミラー14がミラー支持体16に取り付けら
れている。反射ミラー14からみて反射方向に位置する
ハウジング12の側面には開口12bが設けられてい
る。
付基板11上には、一側面にレーザ光導入窓12aを有
する箱状のハウジング12が設けられている。ハウジン
グ12内には該レーザ光導入窓12aに対して45゜の
向きで反射ミラー14がミラー支持体16に取り付けら
れている。反射ミラー14からみて反射方向に位置する
ハウジング12の側面には開口12bが設けられてい
る。
【0022】ハウジング12の中央部には光軸と垂直な
方向に一対の棒状支持部材18がハウジング12の側面
にボルト20で固定されている。これらの棒状支持部材
18に遮光性の絶縁材たとえば樹脂からなる四角筒状の
第1保持体22の一方の開口部(レーザ光入口部)22
aがボルト24で固定されている。
方向に一対の棒状支持部材18がハウジング12の側面
にボルト20で固定されている。これらの棒状支持部材
18に遮光性の絶縁材たとえば樹脂からなる四角筒状の
第1保持体22の一方の開口部(レーザ光入口部)22
aがボルト24で固定されている。
【0023】ハウジング12の開口12b付近で、第1
保持体22の他方の開口部(レーザ光出口部)22bに
遮光性の絶縁材たとえば樹脂からなる四筒状の連結部材
26を介して熱伝導率の高い金属たとえばアルミニウム
からなる四角筒状の第2保持体28の一方の開口部(レ
ーザ光入口部)28aが接続され、第2保持体28の他
方の開口部(レーザ光出口部)28bに回路基板30が
接続されている。棒状支持部材18には光軸と平行に4
本の棒状支持部材32の一端が固定され、これらの棒状
支持部材32の他端に回路基板30がボルト34で固着
されている。取付基板11の四隅にはボルトを通すため
の取付穴11aが形成されている。
保持体22の他方の開口部(レーザ光出口部)22bに
遮光性の絶縁材たとえば樹脂からなる四筒状の連結部材
26を介して熱伝導率の高い金属たとえばアルミニウム
からなる四角筒状の第2保持体28の一方の開口部(レ
ーザ光入口部)28aが接続され、第2保持体28の他
方の開口部(レーザ光出口部)28bに回路基板30が
接続されている。棒状支持部材18には光軸と平行に4
本の棒状支持部材32の一端が固定され、これらの棒状
支持部材32の他端に回路基板30がボルト34で固着
されている。取付基板11の四隅にはボルトを通すため
の取付穴11aが形成されている。
【0024】第1保持体22のレーザ光入口部22aに
は防塵用のガラス板36が取り付けられ、このガラス板
36の内側にOリング38を介して光拡散板40が取り
付けられている。第2保持体28には、レーザ光入口部
28aから内奥へ向かって順に複数枚たとえば3枚のN
Dフィルタ42と1枚の可視光遮断フィルタまたは赤外
線透過フィルタ44が光軸方向に並べて配置され、レー
ザ光出口部28b付近に光電変換素子たとえばフォトダ
イオード46が受光面をフィルタ側に向けて回路基板3
0上に取り付けられている。
は防塵用のガラス板36が取り付けられ、このガラス板
36の内側にOリング38を介して光拡散板40が取り
付けられている。第2保持体28には、レーザ光入口部
28aから内奥へ向かって順に複数枚たとえば3枚のN
Dフィルタ42と1枚の可視光遮断フィルタまたは赤外
線透過フィルタ44が光軸方向に並べて配置され、レー
ザ光出口部28b付近に光電変換素子たとえばフォトダ
イオード46が受光面をフィルタ側に向けて回路基板3
0上に取り付けられている。
【0025】第2保持体28の内壁面において、フォト
ダイオード46の受光面より少し中心部寄りの位置に段
部28cが形成され、この段部28cをストッパにして
光学フィルタ42,44が筒状連結部材26の端面で押
し込められることにより、光学フィルタ42,44が第
2保持体28内でしっかりと保持されている。
ダイオード46の受光面より少し中心部寄りの位置に段
部28cが形成され、この段部28cをストッパにして
光学フィルタ42,44が筒状連結部材26の端面で押
し込められることにより、光学フィルタ42,44が第
2保持体28内でしっかりと保持されている。
【0026】かかる構成のレーザ光学系において、レー
ザ光導入窓12aには、たとえばレーザ発振部(図示せ
ず)より出射されたレーザ光をビームスプリッタ(図示
せず)に通し、そこで反射した一部(たとえば1%)の
レーザ光LBが入射される。ハウジング12内に入った
レーザ光LBは、反射ミラー14で光路を90゜曲げ
て、ガラス板36、光拡散板40、NDフィルタ42お
よび可視光遮断フィルタ44を通ってフォトダイオード
46の受光面に入射する。
ザ光導入窓12aには、たとえばレーザ発振部(図示せ
ず)より出射されたレーザ光をビームスプリッタ(図示
せず)に通し、そこで反射した一部(たとえば1%)の
レーザ光LBが入射される。ハウジング12内に入った
レーザ光LBは、反射ミラー14で光路を90゜曲げ
て、ガラス板36、光拡散板40、NDフィルタ42お
よび可視光遮断フィルタ44を通ってフォトダイオード
46の受光面に入射する。
【0027】この際、光拡散板40はレーザ光LBを拡
散させる。これによって、レーザ光LBの光束断面積が
拡がる。第1保持体22および連結部材26がそれぞれ
遮光性であるため、レーザ光LBは外部へ漏れることは
なく、かつ外部の光がレーザ光路に入ってくることもな
く、レーザ光LBの全部が第2保持体28のレーザ光入
口28aに配置されているNDフィルタ42に入射す
る。NDフィルタ42はレーザ光LBの光強度を所定の
減衰率で減衰させる。可視光遮断フィルタ44はレーザ
光LBから可視光成分をノイズ成分として除去する。フ
ォトダイオード46は、受光したレーザ光LBの光強度
を電気信号に変換する。この電気信号は、レーザ光導入
窓12aに入射されたレーザ光LBの出力を表し、ひい
てはレーザ発振部より出射されたレーザ光LBの出力を
表す。
散させる。これによって、レーザ光LBの光束断面積が
拡がる。第1保持体22および連結部材26がそれぞれ
遮光性であるため、レーザ光LBは外部へ漏れることは
なく、かつ外部の光がレーザ光路に入ってくることもな
く、レーザ光LBの全部が第2保持体28のレーザ光入
口28aに配置されているNDフィルタ42に入射す
る。NDフィルタ42はレーザ光LBの光強度を所定の
減衰率で減衰させる。可視光遮断フィルタ44はレーザ
光LBから可視光成分をノイズ成分として除去する。フ
ォトダイオード46は、受光したレーザ光LBの光強度
を電気信号に変換する。この電気信号は、レーザ光導入
窓12aに入射されたレーザ光LBの出力を表し、ひい
てはレーザ発振部より出射されたレーザ光LBの出力を
表す。
【0028】本実施例のレーザ出力検出装置は、上記し
たようなレーザ光学系を周囲温度に影響されずに安定動
作させるため、次に述べるような温調機構および温度補
償機構を備えている。
たようなレーザ光学系を周囲温度に影響されずに安定動
作させるため、次に述べるような温調機構および温度補
償機構を備えている。
【0029】第2保持体28の4辺の側壁は、図1に示
すように相対向する一対の肉薄な側壁と、図2に示すよ
うに相対向する一対の肉厚な側壁とからなる。
すように相対向する一対の肉薄な側壁と、図2に示すよ
うに相対向する一対の肉厚な側壁とからなる。
【0030】図2に示すように、第2保持体28の一方
の肉厚側壁28dの外壁面には、たとえば金属被膜抵抗
体からなる発熱体48が接着または貼付されている。こ
の抵抗発熱体48は、取付基板10が取付される回路基
板(図示せず)あるいは回路基板30上に実装されてい
る温調制御回路(図示せず)の制御の下で電源(図示せ
ず)より電力を供給され、抵抗発熱することによって、
第2保持体28を加熱する。
の肉厚側壁28dの外壁面には、たとえば金属被膜抵抗
体からなる発熱体48が接着または貼付されている。こ
の抵抗発熱体48は、取付基板10が取付される回路基
板(図示せず)あるいは回路基板30上に実装されてい
る温調制御回路(図示せず)の制御の下で電源(図示せ
ず)より電力を供給され、抵抗発熱することによって、
第2保持体28を加熱する。
【0031】第2保持体28の肉厚側壁28e,28d
の中には、フォトダイオード46に近接した位置に2つ
のサーミスタ50,52が埋め込まれている。これらの
サーミスタ50,52の端子50a,52aは、回路基
板30の外側に突出し、回路基板30上の配線を介して
それぞれ温調制御回路および温度補償回路に接続されて
いる。
の中には、フォトダイオード46に近接した位置に2つ
のサーミスタ50,52が埋め込まれている。これらの
サーミスタ50,52の端子50a,52aは、回路基
板30の外側に突出し、回路基板30上の配線を介して
それぞれ温調制御回路および温度補償回路に接続されて
いる。
【0032】図3に、本実施例における温調制御回路の
構成を示す。この温調制御回路は、直流電源VC とアー
スとの間でサーミスタ50と3つの抵抗54,56,5
8とをブリッジ回路に接続し、このブリッジ回路におけ
る一対の中間接続点NA,NBを演算増幅器60の両入力
端子に接続し、演算増幅器60の出力端子を発熱体給電
回路に挿入されたスイッチ62の制御端子に接続してな
るものである。ブリッジ回路の中の直列抵抗56,58
は基準電圧発生回路を構成している。
構成を示す。この温調制御回路は、直流電源VC とアー
スとの間でサーミスタ50と3つの抵抗54,56,5
8とをブリッジ回路に接続し、このブリッジ回路におけ
る一対の中間接続点NA,NBを演算増幅器60の両入力
端子に接続し、演算増幅器60の出力端子を発熱体給電
回路に挿入されたスイッチ62の制御端子に接続してな
るものである。ブリッジ回路の中の直列抵抗56,58
は基準電圧発生回路を構成している。
【0033】サーミスタ50が負の温度係数を有するN
TCサーミスタの場合、抵抗発熱体48の発熱によって
第2保持体28の温度が上昇すると、サーミスタ50の
抵抗値が減少し、中間接続点NA の電圧VA が上昇す
る。そして、この電圧VA が基準電圧VS を越えると、
演算増幅器60の出力電圧がHレベルになり、スイッチ
62が開いて、抵抗発熱体48の通電を切る。これによ
って、抵抗発熱体48の発熱が止まる。第2保持体28
の温度が下がるにつれて、サーミスタ50の抵抗値が上
昇し、中間接続点NA の電圧VA は低下する。そして、
電圧VA が基準電圧VS よりも下がると、演算増幅器6
0の出力電圧がLレベルになり、スイッチ62が閉じ
て、抵抗発熱体48に対する給電が再開される。
TCサーミスタの場合、抵抗発熱体48の発熱によって
第2保持体28の温度が上昇すると、サーミスタ50の
抵抗値が減少し、中間接続点NA の電圧VA が上昇す
る。そして、この電圧VA が基準電圧VS を越えると、
演算増幅器60の出力電圧がHレベルになり、スイッチ
62が開いて、抵抗発熱体48の通電を切る。これによ
って、抵抗発熱体48の発熱が止まる。第2保持体28
の温度が下がるにつれて、サーミスタ50の抵抗値が上
昇し、中間接続点NA の電圧VA は低下する。そして、
電圧VA が基準電圧VS よりも下がると、演算増幅器6
0の出力電圧がLレベルになり、スイッチ62が閉じ
て、抵抗発熱体48に対する給電が再開される。
【0034】このように、本実施例における温調機構
は、光学フィルタ42,44およびフォトダイオード4
6を一体的に保持している高熱伝導性の第2保持体28
の温度を、フィードバック制御方式によって、基準電圧
VS に対応した設定温度(たとえば40゜C)に維持す
るように機能する。これにより、光学フィルタ42,4
4およびフォトダイオード46は、周囲温度に関係な
く、またレーザ光LBのエネルギに影響されることな
く、ほぼ一定の温度で動作する。したがって、レーザ発
振開始直後から精度の高いレーザ出力測定値が得られ
る。
は、光学フィルタ42,44およびフォトダイオード4
6を一体的に保持している高熱伝導性の第2保持体28
の温度を、フィードバック制御方式によって、基準電圧
VS に対応した設定温度(たとえば40゜C)に維持す
るように機能する。これにより、光学フィルタ42,4
4およびフォトダイオード46は、周囲温度に関係な
く、またレーザ光LBのエネルギに影響されることな
く、ほぼ一定の温度で動作する。したがって、レーザ発
振開始直後から精度の高いレーザ出力測定値が得られ
る。
【0035】また、本実施例における温調機構は、第2
保持体28に対する加熱をオン・オフ制御方式で制御す
る構成であるため、温調制御回路が小規模で低コストな
ものにつくられている。
保持体28に対する加熱をオン・オフ制御方式で制御す
る構成であるため、温調制御回路が小規模で低コストな
ものにつくられている。
【0036】ただ、オン・オフ制御方式によると、スイ
ッチ62の開閉が頻繁に繰り返されて抵抗発熱体48の
発熱が断続的に行われるため、図6の(A)に示すよう
に、第2保持体28の温度にリップルrpが現れる。こ
の温度リップルrpは、フォトダイオード46の光電変
換に影響を及ぼす。
ッチ62の開閉が頻繁に繰り返されて抵抗発熱体48の
発熱が断続的に行われるため、図6の(A)に示すよう
に、第2保持体28の温度にリップルrpが現れる。こ
の温度リップルrpは、フォトダイオード46の光電変
換に影響を及ぼす。
【0037】本実施例では、そのような第2保持体28
における温度リップルrpのフォトダイオード46に対
する影響をキャンセルして、レーザ出力測定値を安定化
させるために、次のような温度補償回路を設けている。
における温度リップルrpのフォトダイオード46に対
する影響をキャンセルして、レーザ出力測定値を安定化
させるために、次のような温度補償回路を設けている。
【0038】図4に、本実施例における温度補償回路の
構成を示す。この温度補償回路は、フォトダイオード4
6のカソード端子をアースに接続するとともにアノード
端子を演算増幅器64の非反転入力端子(+)に接続
し、演算増幅器64の反転入力端子(−)をアースに接
続し、演算増幅器64の非反転入力端子(+)と出力端
子との間にフィードバック抵抗としてサーミスタ52お
よび抵抗66,68からなる直並列抵抗回路を接続して
なるものである。
構成を示す。この温度補償回路は、フォトダイオード4
6のカソード端子をアースに接続するとともにアノード
端子を演算増幅器64の非反転入力端子(+)に接続
し、演算増幅器64の反転入力端子(−)をアースに接
続し、演算増幅器64の非反転入力端子(+)と出力端
子との間にフィードバック抵抗としてサーミスタ52お
よび抵抗66,68からなる直並列抵抗回路を接続して
なるものである。
【0039】この温度補償回路において、レーザ光LB
がフォトダイオード46に入射し、レーザ光LBの光強
度に応じた電流ILBがフォトダイオード46に流れる
と、演算増幅器64の出力端子には電流ILBに対応した
電圧信号SLBが得られる。
がフォトダイオード46に入射し、レーザ光LBの光強
度に応じた電流ILBがフォトダイオード46に流れる
と、演算増幅器64の出力端子には電流ILBに対応した
電圧信号SLBが得られる。
【0040】一般に、フォトダイオード46の光電変換
特性は図5の曲線PLで示すように正の温度係数を有し
ており、周囲温度の上昇につれて出力(光電流)レベル
が増大する傾向がある。光電変換の温度特性は次式で近
似される。 SLB(△T)=R・ILB・exp(α△T) ………(1) ここで、αは光電感度の温度係数であり、△Tは任意の
基準温度(たとえば25゜C)との温度差を表す。
特性は図5の曲線PLで示すように正の温度係数を有し
ており、周囲温度の上昇につれて出力(光電流)レベル
が増大する傾向がある。光電変換の温度特性は次式で近
似される。 SLB(△T)=R・ILB・exp(α△T) ………(1) ここで、αは光電感度の温度係数であり、△Tは任意の
基準温度(たとえば25゜C)との温度差を表す。
【0041】この温度補償回路では、サーミスタ52を
負の温度係数を有するNTCサーミスタで構成するとと
もに、最小二乗法等の最適化条件によってフィードバッ
ク抵抗66,68の抵抗値(R66,R68)を選ぶ。
負の温度係数を有するNTCサーミスタで構成するとと
もに、最小二乗法等の最適化条件によってフィードバッ
ク抵抗66,68の抵抗値(R66,R68)を選ぶ。
【0042】図4の回路では、上記(1)式は次の式
(2)のようになる。 SLB(△T)=〔R66+[R68・R52・exp{−B・△T/T0 ・ (T0 +△T)}]/[R68+R52・exp{−B△T/ T0 ・(T0 +△T)}]〕・ILB・exp(α△T) ………(2) ここで、T0 は基準温度298゜K(25゜C)であ
り、Bはサーミスタ定数である。
(2)のようになる。 SLB(△T)=〔R66+[R68・R52・exp{−B・△T/T0 ・ (T0 +△T)}]/[R68+R52・exp{−B△T/ T0 ・(T0 +△T)}]〕・ILB・exp(α△T) ………(2) ここで、T0 は基準温度298゜K(25゜C)であ
り、Bはサーミスタ定数である。
【0043】温度特性を補償するためには、次の式
(3)を満足する条件(パラメータ値)を求めればよ
い。 d[SLB(△T)]/d(△T)=0 ………(3)
(3)を満足する条件(パラメータ値)を求めればよ
い。 d[SLB(△T)]/d(△T)=0 ………(3)
【0044】しかしながら、この条件を満足する値
(解)が存在しない場合がある。また、特定の温度で値
(解)が存在するが、広範囲の温度に対応できない場合
がある。これらを解決するには、任意の温度範囲でd
[SLB(△T)]/d(△T)=εi とし、Σεi 2
を最小にする条件(パラメータ値)を選べばよい。
(解)が存在しない場合がある。また、特定の温度で値
(解)が存在するが、広範囲の温度に対応できない場合
がある。これらを解決するには、任意の温度範囲でd
[SLB(△T)]/d(△T)=εi とし、Σεi 2
を最小にする条件(パラメータ値)を選べばよい。
【0045】このようにして、フォトダイオード46の
温度特性を補償し、演算増幅器64の出力信号SLBを図
5の曲線QLで示すようにフォトダイオード46の動作
温度範囲(通常20〜50゜C)内で安定化させること
ができる。
温度特性を補償し、演算増幅器64の出力信号SLBを図
5の曲線QLで示すようにフォトダイオード46の動作
温度範囲(通常20〜50゜C)内で安定化させること
ができる。
【0046】このように、本施例における温度補償回路
では、フォトダイオード46とは逆の温度係数を有する
抵抗(サーミスタ)52を第2保持体28に取り付け、
フォトダイオード46より出力される光電流を電圧信号
に変換する光電流−電圧変換回路のフィードバック抵抗
の中に該抵抗(サーミスタ)52を組み込み、かつフィ
ードバック抵抗66,68の抵抗値を適当な値に選ぶこ
とによって、フォトダイオード46の光電変換特性を温
度補償し、周囲温度に左右されないレーザ出力測定信号
SLBを出力するようにしている。
では、フォトダイオード46とは逆の温度係数を有する
抵抗(サーミスタ)52を第2保持体28に取り付け、
フォトダイオード46より出力される光電流を電圧信号
に変換する光電流−電圧変換回路のフィードバック抵抗
の中に該抵抗(サーミスタ)52を組み込み、かつフィ
ードバック抵抗66,68の抵抗値を適当な値に選ぶこ
とによって、フォトダイオード46の光電変換特性を温
度補償し、周囲温度に左右されないレーザ出力測定信号
SLBを出力するようにしている。
【0047】これにより、温調機構のオン・オフ制御の
ために第2保持体28の温度が図6の(A)に示すよう
にリップル変動しても、温度補償回路より出力されるレ
ーザ出力測定信号SLBには図6の(B)に示すようにリ
ップルが現れず、安定かつ高精度なレーザ出力測定値が
得られる。
ために第2保持体28の温度が図6の(A)に示すよう
にリップル変動しても、温度補償回路より出力されるレ
ーザ出力測定信号SLBには図6の(B)に示すようにリ
ップルが現れず、安定かつ高精度なレーザ出力測定値が
得られる。
【0048】なお、本実施例のレーザ出力検出装置で
は、第2保持体28の肉厚側壁28eの外壁面にサーマ
ルガードまたはサーマルプロテクタ53を貼付してい
る。このサーマルガード53は、熱応動素子たとえばサ
ーモスタットを内蔵している。温調機構が暴走するなど
して第2保持体28の温度が所定の過熱温度(たとえば
約65゜C)まで上昇すると、サーマルガード53のサ
ーモスタットが動作して発熱素子48への給電を断つよ
うになっている。
は、第2保持体28の肉厚側壁28eの外壁面にサーマ
ルガードまたはサーマルプロテクタ53を貼付してい
る。このサーマルガード53は、熱応動素子たとえばサ
ーモスタットを内蔵している。温調機構が暴走するなど
して第2保持体28の温度が所定の過熱温度(たとえば
約65゜C)まで上昇すると、サーマルガード53のサ
ーモスタットが動作して発熱素子48への給電を断つよ
うになっている。
【0049】また、本実施例のレーザ出力検出装置で
は、光拡散板40により光束断面積を大きくしたレーザ
光LBを光学フィルタ42,44に通してフォトダイオ
ード46に入射させるようにしているので、光学フィル
タ42,44を光拡散板40の後方の任意の位置に配置
することが可能であり、好ましくはフォトダイオード4
6に近接した位置に配置することによって、高熱伝導性
の第2保持体28を小型で熱容量の小さいものに構成す
ることが可能である。このように第2保持体28の熱容
量が小さいと、設定温度まで立ち上げる時間が短く、温
調に要する電力も少なくて済む。
は、光拡散板40により光束断面積を大きくしたレーザ
光LBを光学フィルタ42,44に通してフォトダイオ
ード46に入射させるようにしているので、光学フィル
タ42,44を光拡散板40の後方の任意の位置に配置
することが可能であり、好ましくはフォトダイオード4
6に近接した位置に配置することによって、高熱伝導性
の第2保持体28を小型で熱容量の小さいものに構成す
ることが可能である。このように第2保持体28の熱容
量が小さいと、設定温度まで立ち上げる時間が短く、温
調に要する電力も少なくて済む。
【0050】この点に関し、従来のレーザ出力検出装置
(図8)においては、集光レンズ114によって光電変
換素子120の受光面付近に集光されるレーザ光が光学
フィルタ116,118を通るため、発熱による変動を
避けるためには光学フィルタ116,118をできるだ
けレーザ光束断面積の大きな位置つまり集光レンズ11
4に近い位置に配置せざるを得ず、そうすると必然的に
第2保持体110が長くなって大型化し、その熱容量が
大きくなってしまうという不具合があった。
(図8)においては、集光レンズ114によって光電変
換素子120の受光面付近に集光されるレーザ光が光学
フィルタ116,118を通るため、発熱による変動を
避けるためには光学フィルタ116,118をできるだ
けレーザ光束断面積の大きな位置つまり集光レンズ11
4に近い位置に配置せざるを得ず、そうすると必然的に
第2保持体110が長くなって大型化し、その熱容量が
大きくなってしまうという不具合があった。
【0051】図7は、本実施例におけるレーザ出力検出
装置を適用したYAGレーザ加工システムの構成を示す
ブロック図である。図7において、図1および図2中の
ものと対応する部分には同一の符号を付してある。
装置を適用したYAGレーザ加工システムの構成を示す
ブロック図である。図7において、図1および図2中の
ものと対応する部分には同一の符号を付してある。
【0052】このYAGレーザ加工システムは、YAG
レーザ発振器72より発振出力されるレーザ光LBの出
力をフィードバック方式で制御するようにしたものであ
る。YAGレーザ発振器72にはYAGロッド、励起ラ
ンプおよび光共振器等が内蔵されており、レーザ電源7
0からのランプ電流に応じて励起ランプが点灯し、その
光エネルギで励起されたYAGロッドから所定の波長成
分を有する光が出射され、光共振器で特定波長の光が共
振増幅されて、レーザ光LBが出力される。このレーザ
光LBはビームスプリッタ74を通され、そこで反射し
た一部のレーザ光LBが本実施例のレーザ出力検出装置
10に導かれる。上記のようにして、レーザ出力検出装
置10のフォトダイオード46より、レーザ光LBの出
力を表す電気信号ILBが得られる。
レーザ発振器72より発振出力されるレーザ光LBの出
力をフィードバック方式で制御するようにしたものであ
る。YAGレーザ発振器72にはYAGロッド、励起ラ
ンプおよび光共振器等が内蔵されており、レーザ電源7
0からのランプ電流に応じて励起ランプが点灯し、その
光エネルギで励起されたYAGロッドから所定の波長成
分を有する光が出射され、光共振器で特定波長の光が共
振増幅されて、レーザ光LBが出力される。このレーザ
光LBはビームスプリッタ74を通され、そこで反射し
た一部のレーザ光LBが本実施例のレーザ出力検出装置
10に導かれる。上記のようにして、レーザ出力検出装
置10のフォトダイオード46より、レーザ光LBの出
力を表す電気信号ILBが得られる。
【0053】ビームスプリッタ74を透過した大部分の
レーザ光LBは、そのまま光学レンズ(図示せず)を介
して被加工物(図示せず)に照射されるか、あるいはい
ったん入射ユニット(図示せず)に入射され、そこから
光ファィバ(図示せず)を介して遠隔の出射ユニットへ
送られ、出射ユニットから被加工物に照射される。
レーザ光LBは、そのまま光学レンズ(図示せず)を介
して被加工物(図示せず)に照射されるか、あるいはい
ったん入射ユニット(図示せず)に入射され、そこから
光ファィバ(図示せず)を介して遠隔の出射ユニットへ
送られ、出射ユニットから被加工物に照射される。
【0054】レーザ出力検出装置10のフォトダイオー
ド46より出力される電気信号(光電流)ILBは、光電
流−電圧変換回路76で電圧信号SLBに変換される。こ
の変換回路76は上記温度補償回路(図4)に相当する
ものである。変換回路76より得られる電圧信号SLB
は、サンプ・ホールド回路78およびディジタル/アナ
ログ変換回路80によってディジタル信号に変換されて
からCPU82に入力される。
ド46より出力される電気信号(光電流)ILBは、光電
流−電圧変換回路76で電圧信号SLBに変換される。こ
の変換回路76は上記温度補償回路(図4)に相当する
ものである。変換回路76より得られる電圧信号SLB
は、サンプ・ホールド回路78およびディジタル/アナ
ログ変換回路80によってディジタル信号に変換されて
からCPU82に入力される。
【0055】CPU82は、メモリ84に格納されてい
るプログラムによって動作し、入力したレーザ出力検出
信号SLBに所定の校正または補正演算等を施して、レー
ザ光LBの出力の測定値を求める。そして、CPU82
は、求めたレーザ出力測定値を入力部88より入力され
メモリ84に格納されているレーザ出力設定値と比較し
て比較誤差を求め、その比較誤差を零にするような制御
信号CSをレーザ電源70に与える。また、必要に応じ
てレーザ出力測定値その他のデータを表示部86を通じ
て表示する。さらに、CPU74は、温調制御回路90
に対しても、入力部88より入力された温度設定値等の
データや所要の制御信号TSを与える。
るプログラムによって動作し、入力したレーザ出力検出
信号SLBに所定の校正または補正演算等を施して、レー
ザ光LBの出力の測定値を求める。そして、CPU82
は、求めたレーザ出力測定値を入力部88より入力され
メモリ84に格納されているレーザ出力設定値と比較し
て比較誤差を求め、その比較誤差を零にするような制御
信号CSをレーザ電源70に与える。また、必要に応じ
てレーザ出力測定値その他のデータを表示部86を通じ
て表示する。さらに、CPU74は、温調制御回路90
に対しても、入力部88より入力された温度設定値等の
データや所要の制御信号TSを与える。
【0056】このレーザ加工システムでは、周囲温度の
影響を受けることなく、YAGレーザ発振器72の発振
開始直後からレーザ光LBの出力を正確に表すレーザ出
力検出信号ILBがレーザ出力検出装置10より得られる
ので、精度の高い安定したフィードバック制御で所望の
レーザ出力波形を得ることができる。
影響を受けることなく、YAGレーザ発振器72の発振
開始直後からレーザ光LBの出力を正確に表すレーザ出
力検出信号ILBがレーザ出力検出装置10より得られる
ので、精度の高い安定したフィードバック制御で所望の
レーザ出力波形を得ることができる。
【0057】上記した実施例では、第2保持体28の中
に2つのサーミスタ50,52を離して取り付けたが、
両サーミスタ50,52を一緒にして(一箇所)に取り
付けてもよい。また、オン・オフ制御方式の簡易かつ小
規模な温調制御回路を用いたが、PID制御方式の温調
制御回路を用いることも可能である。
に2つのサーミスタ50,52を離して取り付けたが、
両サーミスタ50,52を一緒にして(一箇所)に取り
付けてもよい。また、オン・オフ制御方式の簡易かつ小
規模な温調制御回路を用いたが、PID制御方式の温調
制御回路を用いることも可能である。
【0058】上記実施例では、第2保持体28の熱容量
を可及的に小さくするために筒状連結部26を別体にし
ていたが、これらを一体に構成することも可能である。
上記実施例における光学フィルタ42,44の種類およ
び枚数は一例であり、任意の種類の光学フィルタをそれ
ぞれ任意の枚数用いることが可能である。光電変換素子
もフォトダイオード以外のものを用いることが可能であ
る。検出対象となるレーザ光はYAGレーザ光に限ら
ず、CO2 レーザ光や半導体レーザ光等の他のレーザ光
でも可能である。
を可及的に小さくするために筒状連結部26を別体にし
ていたが、これらを一体に構成することも可能である。
上記実施例における光学フィルタ42,44の種類およ
び枚数は一例であり、任意の種類の光学フィルタをそれ
ぞれ任意の枚数用いることが可能である。光電変換素子
もフォトダイオード以外のものを用いることが可能であ
る。検出対象となるレーザ光はYAGレーザ光に限ら
ず、CO2 レーザ光や半導体レーザ光等の他のレーザ光
でも可能である。
【0059】また、上記実施例では、第2保持体28の
温度を調整する手段として抵抗発熱素子48を使用して
常温よりも高い設定温度に温調するようにしたが、冷却
水やペルチェ素子等を用いる冷却式の温度調整手段を設
けて、常温よりも低い設定温度に温調することも可能で
ある。
温度を調整する手段として抵抗発熱素子48を使用して
常温よりも高い設定温度に温調するようにしたが、冷却
水やペルチェ素子等を用いる冷却式の温度調整手段を設
けて、常温よりも低い設定温度に温調することも可能で
ある。
【0060】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のレーザ出
力検出装置によれば、簡易・小型の温調機構と温度補償
機構を併用することにより、周囲温度やレーザ出力状態
等に影響されない高精度で信頼性の高いレーザ出力測定
値を保証することができる。
力検出装置によれば、簡易・小型の温調機構と温度補償
機構を併用することにより、周囲温度やレーザ出力状態
等に影響されない高精度で信頼性の高いレーザ出力測定
値を保証することができる。
【図1】本発明の一実施例によるレーザ出力検出装置の
全体の構成を示す縦断面図である。
全体の構成を示す縦断面図である。
【図2】実施例によるレーザ出力検出装置の要部の構成
を示す側断面図である。
を示す側断面図である。
【図3】実施例における温調制御回路の構成を示す回路
図である。
図である。
【図4】実施例における温度補償回路の回路構成を示す
回路図である。
回路図である。
【図5】実施例における光電変換素子および温度補償回
路の温度−出力特性を示す図である。
路の温度−出力特性を示す図である。
【図6】実施例における第2保持体の時間−温度特性お
よび温度補償回路の時間−出力特性を示す図である。
よび温度補償回路の時間−出力特性を示す図である。
【図7】実施例におけるレーザ出力検出装置を適用した
YAGレーザ加工システムの構成を示すブロック図であ
る。
YAGレーザ加工システムの構成を示すブロック図であ
る。
【図8】従来のレーザ出力検出装置の構成を示す縦断面
図である。
図である。
【図9】従来のレーザ出力検出装置の構成を示す背面図
である。
である。
10 レーザ出力検出装置 28 第2保持体 42 NDフィルタ 44 可視光遮断フィルタ 46 フォトダイオード 48 抵抗発熱素子 50 サーミスタ 52 サーミスタ 60,64 演算増幅器 66,68 抵抗
Claims (4)
- 【請求項1】 レーザ光の出力を検出するレーザ出力検
出装置において、 前記レーザ光を受光して前記レーザ光の出力を電気信号
に変換する光電変換素子と、 前記光電変換素子を保持する熱伝導率の高い保持体と、 前記保持体の温度を所定温度に制御する温調手段と、 前記光電変換素子より得られる前記電気信号を温度補償
によって補正する温度補償手段と、を具備したことを特
徴とするレーザ出力検出装置。 - 【請求項2】 レーザ光の出力を検出するレーザ出力検
出装置において、 前記レーザ光を受光して前記レーザ光の出力を電気信号
に変換する光電変換素子と、 前記光電変換素子を保持する熱伝導率の高い保持体と、 前記保持体の温度を所定温度に制御する温調手段と、 前記保持体の温度に応じて所定の温度係数で抵抗値が変
化する抵抗体と、 前記光電変換素子より得られる前記電気信号を前記抵抗
体の抵抗値変化に応じて補正する温度補償回路と、を具
備したことを特徴とするレーザ出力検出装置。 - 【請求項3】 レーザ光の出力を検出するレーザ出力検
出装置において、 前記レーザ光を通す光学フィルタと、 前記光学フィルタを通った前記レーザ光を受光して前記
レーザ光の出力を電気信号に変換する光電変換素子と、 前記光学フィルタと前記光電変換素子とを保持する熱伝
導率の高い保持体と、 前記保持体の温度を所定温度に制御する温調手段と、 前記保持体の温度に応じて所定の温度係数で抵抗値が変
化する抵抗体と、 前記光電変換素子より得られる前記電気信号を前記抵抗
体の抵抗値変化に応じて補正する温度補償回路と、を具
備したことを特徴とするレーザ出力検出装置。 - 【請求項4】 レーザ光の出力を検出するレーザ出力検
出装置において、 前記レーザ光を通す光学フィルタと、 前記光学フィルタを通った前記レーザ光を受光して前記
レーザ光の出力を電気信号に変換する光電変換素子と、 前記光学フィルタと前記光電変換素子とを保持する熱伝
導率の高い保持体と、 前記保持体を加熱または冷却する温度調整手段と、 前記保持体の温度に応じて抵抗値が変化する第1の抵抗
体と、 前記保持体の温度を所定温度に維持するよう前記温度調
整手段を前記第1の抵抗体の抵抗値変化に応じてオン・
オフ制御方式で制御する温度制御手段と、 前記保持体の温度に応じて前記光電変換素子と逆極性の
温度係数で抵抗値が変化する第2の抵抗体と、 前記光電変換素子より得られる前記電気信号を前記第2
の抵抗体の抵抗値変化に応じて補正する温度補償回路
と、を具備したことを特徴とするレーザ出力検出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6188832A JP3049469B2 (ja) | 1994-07-19 | 1994-07-19 | レーザ出力検出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6188832A JP3049469B2 (ja) | 1994-07-19 | 1994-07-19 | レーザ出力検出装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0829252A true JPH0829252A (ja) | 1996-02-02 |
| JP3049469B2 JP3049469B2 (ja) | 2000-06-05 |
Family
ID=16230625
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6188832A Expired - Lifetime JP3049469B2 (ja) | 1994-07-19 | 1994-07-19 | レーザ出力検出装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3049469B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1382982A1 (en) * | 2002-07-05 | 2004-01-21 | Agilent Technologies, Inc. | Heating compensated optical device |
| JP2007044739A (ja) * | 2005-08-11 | 2007-02-22 | Miyachi Technos Corp | レーザ加工モニタリング装置 |
| JP2007054881A (ja) * | 2005-08-26 | 2007-03-08 | Miyachi Technos Corp | レーザ加工モニタリング装置 |
| JP2008116940A (ja) * | 2006-10-23 | 2008-05-22 | Schott Ag | 光の結晶透過中に起こる直線偏光の解消を防止するための配置及び方法 |
| JP2013511301A (ja) * | 2009-11-18 | 2013-04-04 | ウェイブライト ゲーエムベーハー | 物質を加工処理する機器およびその作動方法 |
| JP2014190714A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | Brother Ind Ltd | レーザ出力検出装置 |
| CN109822243A (zh) * | 2019-04-02 | 2019-05-31 | 苏州匠恒智造科技有限公司 | 一种基于温度补偿的激光设备调节方法 |
| JP2023043342A (ja) * | 2021-09-16 | 2023-03-29 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
| JP2023045156A (ja) * | 2021-09-21 | 2023-04-03 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
-
1994
- 1994-07-19 JP JP6188832A patent/JP3049469B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3049469B2 (ja) | 2000-06-05 |
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