JPH08292576A - フィルムマスクを用いる露光装置のプラテン - Google Patents
フィルムマスクを用いる露光装置のプラテンInfo
- Publication number
- JPH08292576A JPH08292576A JP7118970A JP11897095A JPH08292576A JP H08292576 A JPH08292576 A JP H08292576A JP 7118970 A JP7118970 A JP 7118970A JP 11897095 A JP11897095 A JP 11897095A JP H08292576 A JPH08292576 A JP H08292576A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- placing
- printed circuit
- film mask
- platen
- circuit board
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- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 精度の良い露光を行える、フィルムマスクを
用いる露光装置のプラテンを提供する。 【構成】 ９つの個々に分割された載置台１を備え、各
載置台１はバネ２により支持されて上下動可能である。
用いる露光装置のプラテンを提供する。 【構成】 ９つの個々に分割された載置台１を備え、各
載置台１はバネ２により支持されて上下動可能である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はフィルムマスクを用い
る露光装置のプラテンに関する。
る露光装置のプラテンに関する。
【０００２】
【従来の技術】プリント基板等を製造する際には、フィ
ルムマスクを用いた露光装置により回路の焼き付けが行
われている。このような露光装置の概略を図３に示す。
フィルムマスク５１はガラス板５０に密着され、プリン
ト基板Ｗをプラテン５２上に載せ、プラテン５２を上昇
させてフィルムマスク５１をプリント基板Ｗに接触さ
せ、この状態でガラス板５０の上方から光を放射してプ
リント基板Ｗにフィルムマスク５１に描かれたパターン
を焼き付けるようになっている。
ルムマスクを用いた露光装置により回路の焼き付けが行
われている。このような露光装置の概略を図３に示す。
フィルムマスク５１はガラス板５０に密着され、プリン
ト基板Ｗをプラテン５２上に載せ、プラテン５２を上昇
させてフィルムマスク５１をプリント基板Ｗに接触さ
せ、この状態でガラス板５０の上方から光を放射してプ
リント基板Ｗにフィルムマスク５１に描かれたパターン
を焼き付けるようになっている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、ガラス板５０
は完全な平面とすることが困難であり、全体に５０μｍ
レベルのソリが存在するため、フィルムマスク５１とプ
リント基板Ｗとが均一に密着せず、フィルムマスク５１
とプリント基板Ｗとの間にギャップが生じ、このギャッ
プにより露光精度が低下する問題があった。本発明は上
記した従来技術の問題点を解決することを目的とする。
は完全な平面とすることが困難であり、全体に５０μｍ
レベルのソリが存在するため、フィルムマスク５１とプ
リント基板Ｗとが均一に密着せず、フィルムマスク５１
とプリント基板Ｗとの間にギャップが生じ、このギャッ
プにより露光精度が低下する問題があった。本発明は上
記した従来技術の問題点を解決することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段及び作用】上記目的を達成
するために本発明のフィルムマスクを用いる露光装置の
プラテンは、 所定の位置に配設され、全体で１つの載
置平面を形成する、相互に独立した複数の載置台と、該
載置台を個々に上下方向可動に支持するバネと、該バネ
を支持する支持部と、を有することを特徴とする。個々
の載置台は個々に上下方向に可動であるから、露光対象
物を隙間を生ずることなくフィルムマスクに密着させる
ことができ、露光精度が向上する。一部又は全部の載置
台の台面上に開口するバキューム孔を設け、ここに吸引
装置を接続して、露光対象物を吸引して支持するように
することが望ましい。その際該バキューム孔を載置され
る露光対象物の大きさに合わせて選択的に吸引させるよ
うに構成することも可能である。
するために本発明のフィルムマスクを用いる露光装置の
プラテンは、 所定の位置に配設され、全体で１つの載
置平面を形成する、相互に独立した複数の載置台と、該
載置台を個々に上下方向可動に支持するバネと、該バネ
を支持する支持部と、を有することを特徴とする。個々
の載置台は個々に上下方向に可動であるから、露光対象
物を隙間を生ずることなくフィルムマスクに密着させる
ことができ、露光精度が向上する。一部又は全部の載置
台の台面上に開口するバキューム孔を設け、ここに吸引
装置を接続して、露光対象物を吸引して支持するように
することが望ましい。その際該バキューム孔を載置され
る露光対象物の大きさに合わせて選択的に吸引させるよ
うに構成することも可能である。
【０００５】
【実施例】以下本発明をプリント基板の露光装置のプラ
テンに適用した実施例を図面に基づいて説明する。図１
はその平面図、図２は図１におけるＡ−Ａ線断面図であ
る。このプラテンは９個の分割された載置台１を備えて
おり、それぞれ独立している。即ち、中央に配置された
載置台１ａ、その上下に配設された２つの載置台１ｂ、
１ｂ、左右に配設された２つの載置台１ｃ、１ｃ及び４
隅に配設された４つの載置台１ｄ、１ｄ、１ｄ、１ｄと
から構成されている。各載置台１は所定の隙間を開けて
設けられており、その隙間に位置合わせピン用溝２５が
設けられ、ここから位置合わせピンが突出して載置され
たプリント基板Ｗの位置合わせを行うようになってい
る。
テンに適用した実施例を図面に基づいて説明する。図１
はその平面図、図２は図１におけるＡ−Ａ線断面図であ
る。このプラテンは９個の分割された載置台１を備えて
おり、それぞれ独立している。即ち、中央に配置された
載置台１ａ、その上下に配設された２つの載置台１ｂ、
１ｂ、左右に配設された２つの載置台１ｃ、１ｃ及び４
隅に配設された４つの載置台１ｄ、１ｄ、１ｄ、１ｄと
から構成されている。各載置台１は所定の隙間を開けて
設けられており、その隙間に位置合わせピン用溝２５が
設けられ、ここから位置合わせピンが突出して載置され
たプリント基板Ｗの位置合わせを行うようになってい
る。
【０００６】各載置台１は図２に示すように支持部３に
支持されており、この支持部３との間にバネ２が介装さ
れている。この構成により載置台１は上下方向可動にな
っている。バネ２は図１に示すように各載置台１の４ヶ
所に設けられ、載置台１を平行に保つようになってい
る。載置台１と支持部３は隙間調整ボルト５及び隙間調
整ナット６により連結され、隙間調整ナット６を調整す
ることにより載置台１と支持部３の隙間を調整し、載置
台１の平行度の調整及び各載置台１毎の高さ調整を行え
るようになっている。
支持されており、この支持部３との間にバネ２が介装さ
れている。この構成により載置台１は上下方向可動にな
っている。バネ２は図１に示すように各載置台１の４ヶ
所に設けられ、載置台１を平行に保つようになってい
る。載置台１と支持部３は隙間調整ボルト５及び隙間調
整ナット６により連結され、隙間調整ナット６を調整す
ることにより載置台１と支持部３の隙間を調整し、載置
台１の平行度の調整及び各載置台１毎の高さ調整を行え
るようになっている。
【０００７】各載置台１の台面上には、図面上は点で示
される複数のバキューム孔１０が開口しており、図示し
ない吸引機構に接続され、載置されたプリント基板Ｗを
吸引保持するように構成されている。各吸引孔は破線Ｈ
により区分されており、各エリア毎に吸引を制御して、
プリント基板Ｗの大きさに合わせて吸引の稼働制御を行
えるようになっている。例えば、４隅の載置台１ｄ、１
ｄ、１ｄ、１ｄを例に採ると、ここでは破線Ｈで区分を
示すＶ１、Ｖ２、Ｖ３、の各エリアに区分され、プリン
ト基板Ｗが大きい場合にはＶ１、Ｖ２、Ｖ３の全てのエ
リアのバキューム孔１０を吸引し、プリント基板Ｗが小
さい場合にはＶ２或いはＶ３のバキューム孔１０のみを
吸引するようになっている。この構成によりプリント基
板Ｗの大きさに応じて効率的な吸引を行える。
される複数のバキューム孔１０が開口しており、図示し
ない吸引機構に接続され、載置されたプリント基板Ｗを
吸引保持するように構成されている。各吸引孔は破線Ｈ
により区分されており、各エリア毎に吸引を制御して、
プリント基板Ｗの大きさに合わせて吸引の稼働制御を行
えるようになっている。例えば、４隅の載置台１ｄ、１
ｄ、１ｄ、１ｄを例に採ると、ここでは破線Ｈで区分を
示すＶ１、Ｖ２、Ｖ３、の各エリアに区分され、プリン
ト基板Ｗが大きい場合にはＶ１、Ｖ２、Ｖ３の全てのエ
リアのバキューム孔１０を吸引し、プリント基板Ｗが小
さい場合にはＶ２或いはＶ３のバキューム孔１０のみを
吸引するようになっている。この構成によりプリント基
板Ｗの大きさに応じて効率的な吸引を行える。
【０００８】なお、載置台１ｃには光透過板２１が装着
され、その下側には図２に示すように位置合わせ用光源
２０が設けられている。
され、その下側には図２に示すように位置合わせ用光源
２０が設けられている。
【０００９】以上の構成において、このプラテンは独立
した複数の載置台１から構成され、しかも各載置台１は
バネ２により上下方向可動であるから、図３に示すよう
にガラス板５０にプリント基板Ｗを密着させる際に、各
載置台１が独立して上下方向に動き、プリント基板Ｗを
ガラス板５０のソリに合わせてフィルムマスク５１に密
着させることができる。そのためプリント基板Ｗとフィ
ルムマスク５１の間に隙間が生ずることなく、高精度の
露光が実現できる。また、バキューム孔１０の吸引はエ
リア毎に行えるため、プリント基板Ｗの大きさに合わせ
た効率的な吸引が可能である。
した複数の載置台１から構成され、しかも各載置台１は
バネ２により上下方向可動であるから、図３に示すよう
にガラス板５０にプリント基板Ｗを密着させる際に、各
載置台１が独立して上下方向に動き、プリント基板Ｗを
ガラス板５０のソリに合わせてフィルムマスク５１に密
着させることができる。そのためプリント基板Ｗとフィ
ルムマスク５１の間に隙間が生ずることなく、高精度の
露光が実現できる。また、バキューム孔１０の吸引はエ
リア毎に行えるため、プリント基板Ｗの大きさに合わせ
た効率的な吸引が可能である。
【００１０】
【発明の効果】以上説明したように本発明のフィルムマ
スクを用いる露光装置のプラテンは、所定の位置に配設
され、全体で１つの載置面を形成する、相互に独立した
複数の載置台と、該載置台を個々に上下方向可動に支持
するバネと、該バネを支持する支持部と、を有している
ため、高精度の露光が実現できる効果がある。
スクを用いる露光装置のプラテンは、所定の位置に配設
され、全体で１つの載置面を形成する、相互に独立した
複数の載置台と、該載置台を個々に上下方向可動に支持
するバネと、該バネを支持する支持部と、を有している
ため、高精度の露光が実現できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例を示す平面図。
【図２】図１におけるＡーＡ線断面図。
【図３】フィルムマスクを用いる露光装置の概略図。
１：載置台、２：バネ、３：支持部、４：基台、５：隙
間調整ボルト、６：隙間調整ナット、１０：バキューム
孔、２０：位置合わせ用光源、２１：光透過板、２５：
位置合わせピン用溝、５０：ガラス板、５１：フィルム
マスク、５２：プラテン。
間調整ボルト、６：隙間調整ナット、１０：バキューム
孔、２０：位置合わせ用光源、２１：光透過板、２５：
位置合わせピン用溝、５０：ガラス板、５１：フィルム
マスク、５２：プラテン。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中 川 圭 一 東京都品川区南大井６丁目17番15号 株式 会社アドテックエンジニアリング内 (72)発明者 藤 本 光 弘 埼玉県児玉郡上里町大字七本木3461番地１ キヤノン・コンポーネンツ株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 所定の位置に配設され、全体で１つの載
置面を形成する、相互に独立した複数の載置台と、 該載置台を個々に上下方向可動に支持するバネと、 該バネを支持する支持部と、 を有することを特徴とするフィルムマスクを用いる露光
装置のプラテン。 - 【請求項２】 前記所定の載置台上に、台表面上に開口
するバキューム孔を設け、該バキューム孔に吸引装置を
連結し、該バキューム孔を載置される露光対象物の大き
さに合わせて選択的に稼働させるようにした、 請求項１に記載のフィルムマスクを用いる露光装置のプ
ラテン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7118970A JPH08292576A (ja) | 1995-04-21 | 1995-04-21 | フィルムマスクを用いる露光装置のプラテン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7118970A JPH08292576A (ja) | 1995-04-21 | 1995-04-21 | フィルムマスクを用いる露光装置のプラテン |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08292576A true JPH08292576A (ja) | 1996-11-05 |
Family
ID=14749795
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7118970A Pending JPH08292576A (ja) | 1995-04-21 | 1995-04-21 | フィルムマスクを用いる露光装置のプラテン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08292576A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021063953A (ja) * | 2019-10-16 | 2021-04-22 | キヤノン株式会社 | ステージ装置、ステージ装置の調整方法、および物品製造方法 |
| CN113777891A (zh) * | 2021-08-19 | 2021-12-10 | 杭州新诺微电子有限公司 | 可移动压板结构及具有该结构的曝光机及曝光机压板方法 |
-
1995
- 1995-04-21 JP JP7118970A patent/JPH08292576A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2021063953A (ja) * | 2019-10-16 | 2021-04-22 | キヤノン株式会社 | ステージ装置、ステージ装置の調整方法、および物品製造方法 |
| CN113777891A (zh) * | 2021-08-19 | 2021-12-10 | 杭州新诺微电子有限公司 | 可移动压板结构及具有该结构的曝光机及曝光机压板方法 |
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