JPH0829317B2 - 超純水の製造方法およびその製造方法に用いる装置 - Google Patents
超純水の製造方法およびその製造方法に用いる装置Info
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- JPH0829317B2 JPH0829317B2 JP63278259A JP27825988A JPH0829317B2 JP H0829317 B2 JPH0829317 B2 JP H0829317B2 JP 63278259 A JP63278259 A JP 63278259A JP 27825988 A JP27825988 A JP 27825988A JP H0829317 B2 JPH0829317 B2 JP H0829317B2
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- ultrapure water
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- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、超純水の製造方法およびその製造方法に用
いる装置に関する。
いる装置に関する。
特に、LSIや超LSIを生産する電子工業において、その
中間製品である半導体ウエハーまたはチップ（以下半導
体ウエハーと略）の洗浄用の超純水の製造方法および装
置として好適である。
中間製品である半導体ウエハーまたはチップ（以下半導
体ウエハーと略）の洗浄用の超純水の製造方法および装
置として好適である。
［従来の技術］ LSIや超LSIを生産する電子工業の分野では、その中間
製品である半導体ウエハーの洗浄等に、大量のいわゆる
超純水を用いる。
製品である半導体ウエハーの洗浄等に、大量のいわゆる
超純水を用いる。
この超純水としては、イオン、TOC及び溶存シリカ濃
度がppbのオーダーであり、かつ微粒子数が、数個/ccの
オーダーである水が用いられており、この水質が、製品
の歩留りに大きな影響を及ぼす。
度がppbのオーダーであり、かつ微粒子数が、数個/ccの
オーダーである水が用いられており、この水質が、製品
の歩留りに大きな影響を及ぼす。
従来、この超純水としては、原水である工業用水、市
水、井水、水道水等を、凝集沈澱装置、砂濾過器、イオ
ン交換樹脂、逆浸透装置、真空脱気塔、紫外線照射装
置、混床式ポリッシャー等を組合わせた純水製造装置に
よって純水とし、さらに、これをユースポイント直前
で、限外濾過装置で処理しすることによって得られた超
純水を用いていた。
水、井水、水道水等を、凝集沈澱装置、砂濾過器、イオ
ン交換樹脂、逆浸透装置、真空脱気塔、紫外線照射装
置、混床式ポリッシャー等を組合わせた純水製造装置に
よって純水とし、さらに、これをユースポイント直前
で、限外濾過装置で処理しすることによって得られた超
純水を用いていた。
ところが最近、LSIの集積度が増加するにつれ、歩留
りの向上を計るため、超純水の水質の一層の向上が求め
られるようになってきた。
りの向上を計るため、超純水の水質の一層の向上が求め
られるようになってきた。
そこで、従来最終の濾過装置である限外濾過装置にお
いては、イオン性物質、TOC、微粒子等の除去に限界が
あるといった問題点があるため、末端の濾過装置に、逆
浸透装置を用いている超純水製造装置も出願されている
（特開昭62−254805号公報）。
いては、イオン性物質、TOC、微粒子等の除去に限界が
あるといった問題点があるため、末端の濾過装置に、逆
浸透装置を用いている超純水製造装置も出願されている
（特開昭62−254805号公報）。
［発明が解決しようとする課題］ ところが、超純水装置の末端に逆浸透装置を設置する
場合、逆浸透装置の前段に、高圧ポンプを置く必要があ
るが、ここで、シャフト、ローター、インペラーといっ
た高圧ポンプの部品により、イオン性物質が溶出するた
め、ポンプより出た水の比抵抗値が低下し、微粒子濃度
が増加といった水質の劣化が生ずるといった問題点を有
する。
場合、逆浸透装置の前段に、高圧ポンプを置く必要があ
るが、ここで、シャフト、ローター、インペラーといっ
た高圧ポンプの部品により、イオン性物質が溶出するた
め、ポンプより出た水の比抵抗値が低下し、微粒子濃度
が増加といった水質の劣化が生ずるといった問題点を有
する。
本発明は、かかる従来技術の欠点を解消し、イオン性
物質、TOC、微粒子および溶存シリカをさらに厳密に除
去し、より純度の高い超純水を得ることができる超純水
の製造方法およびその製造方法に用いる装置を提供する
ことを目的とする。
物質、TOC、微粒子および溶存シリカをさらに厳密に除
去し、より純度の高い超純水を得ることができる超純水
の製造方法およびその製造方法に用いる装置を提供する
ことを目的とする。
［課題を解決するための手段］ 上記目的を達成するために、本発明は下記の構成を有
する。
する。
（１） 純水製造装置で製造された純水を、高圧ポンプ
で３〜30kg/cm2に昇圧した後、イオン交換体装置で処理
し、さらに、該イオン交換体装置とは独立した逆浸透膜
装置で処理することにより超純水を得ることを特徴とす
る超純水の製造方法。
で３〜30kg/cm2に昇圧した後、イオン交換体装置で処理
し、さらに、該イオン交換体装置とは独立した逆浸透膜
装置で処理することにより超純水を得ることを特徴とす
る超純水の製造方法。
（２） 原水を処理することにより純水を得るための純
水製造装置と、該純水製造装置により得られた純水を３
〜30kg/cm2に昇圧する高圧ポンプと、高圧ポンプによる
処理水をさらに精製して超純水とする逆浸透膜装置と、
該製造後の超純水のうちユースポイントで使用しない余
剰超純水を純水中にリサイクルさせるリサイクル配管と
からなる超純水製造装置において、該高圧ポンプと該逆
浸透膜装置との間に、該逆浸透膜装置とは独立したイオ
ン交換体装置を設けたことを特徴とする超純水の製造装
置。
水製造装置と、該純水製造装置により得られた純水を３
〜30kg/cm2に昇圧する高圧ポンプと、高圧ポンプによる
処理水をさらに精製して超純水とする逆浸透膜装置と、
該製造後の超純水のうちユースポイントで使用しない余
剰超純水を純水中にリサイクルさせるリサイクル配管と
からなる超純水製造装置において、該高圧ポンプと該逆
浸透膜装置との間に、該逆浸透膜装置とは独立したイオ
ン交換体装置を設けたことを特徴とする超純水の製造装
置。
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明においては、高圧ポンプと逆浸透膜との間に、
イオン交換体を配置する点に特徴を有する。図面に、本
発明の装置の主要構成を説明するためのフロー図を示
す。イオン交換体（図中の４）により、高圧ポンプ（図
中の３）の部品より溶出したと考えられるイオン性物質
を排除し、次いで、TOCを逆浸透膜（図中の５）で排除
することができ、さらに、微粒子および微生物、また溶
存シリカ濃度については、イオン交換体および逆浸透膜
の両者によって極めて低濃度に排除することができる。
イオン交換体を配置する点に特徴を有する。図面に、本
発明の装置の主要構成を説明するためのフロー図を示
す。イオン交換体（図中の４）により、高圧ポンプ（図
中の３）の部品より溶出したと考えられるイオン性物質
を排除し、次いで、TOCを逆浸透膜（図中の５）で排除
することができ、さらに、微粒子および微生物、また溶
存シリカ濃度については、イオン交換体および逆浸透膜
の両者によって極めて低濃度に排除することができる。
本発明において、純水製造装置（図中の１）とは、一
般に知られている水処理装置、凝集沈澱装置、砂濾過
器、イオン交換樹脂、逆浸透装置、真空脱気塔、紫外線
照射装置、混床式ポリッシャー、限外濾過装置等のうち
のいずれか一つ、あるいは二つ以上の装置を組み合わせ
た装置であり、純水とは、工業用水、市水、井水、水道
水等を、これらの装置で処理して得られた水のことであ
る。上述の全ての装置による処理を行って得られた純水
が最も好ましい。純水として、水質の悪い水をそのまま
供給すると、後に続く、高圧ポンプ、イオン交換体およ
び逆浸透装置が汚染され、劣化が早くなるため、純水と
しては、できるだけ純度の高いものを用いることが好ま
しい。
般に知られている水処理装置、凝集沈澱装置、砂濾過
器、イオン交換樹脂、逆浸透装置、真空脱気塔、紫外線
照射装置、混床式ポリッシャー、限外濾過装置等のうち
のいずれか一つ、あるいは二つ以上の装置を組み合わせ
た装置であり、純水とは、工業用水、市水、井水、水道
水等を、これらの装置で処理して得られた水のことであ
る。上述の全ての装置による処理を行って得られた純水
が最も好ましい。純水として、水質の悪い水をそのまま
供給すると、後に続く、高圧ポンプ、イオン交換体およ
び逆浸透装置が汚染され、劣化が早くなるため、純水と
しては、できるだけ純度の高いものを用いることが好ま
しい。
以上により得られた純水を図中２で示される純水層中
に貯蔵し、次いで高圧ポンプへと供給される。本発明に
おいては、うず巻きポンプ、プランジャーポンプなどの
一般に用いられる高圧ポンプを使用することができる。
その操作圧力としては、３〜30kg/cm2程度で用いられる
ことが必要であり、さらには３〜10kg/cm2程度であるこ
とが好ましい。圧力が低すぎると、水浸透性が低くなる
可能性があり、また高すぎると、比較的大きな粒子径を
有する微粒子が膜を透過しやすくなる。
に貯蔵し、次いで高圧ポンプへと供給される。本発明に
おいては、うず巻きポンプ、プランジャーポンプなどの
一般に用いられる高圧ポンプを使用することができる。
その操作圧力としては、３〜30kg/cm2程度で用いられる
ことが必要であり、さらには３〜10kg/cm2程度であるこ
とが好ましい。圧力が低すぎると、水浸透性が低くなる
可能性があり、また高すぎると、比較的大きな粒子径を
有する微粒子が膜を透過しやすくなる。
本発明で用いるイオン交換体としては、公知のイオン
交換樹脂およびイオン交換繊維を用いることができる。
交換樹脂およびイオン交換繊維を用いることができる。
イオン交換樹脂としては、その直径が100〜1000μｍ
のものが好ましい。100μｍ未満であると、樹脂が粉末
状になって、圧損が大きくなる恐れがあり、1000μｍを
越えると、単位容積当たりのイオン交換量が小さくな
る。また、その好ましい具体的な成分としては、耐薬品
性、耐熱性に優れたスチレン−ジビニルベンゼン共重合
体、メタクリル酸−ジビニルベンゼン共重合体、あるい
はアクリル酸−ジビニルベンゼン共重合体にイオン交換
基を導入したゲル型ならびにMR型イオン交換樹脂などを
挙げることができる。
のものが好ましい。100μｍ未満であると、樹脂が粉末
状になって、圧損が大きくなる恐れがあり、1000μｍを
越えると、単位容積当たりのイオン交換量が小さくな
る。また、その好ましい具体的な成分としては、耐薬品
性、耐熱性に優れたスチレン−ジビニルベンゼン共重合
体、メタクリル酸−ジビニルベンゼン共重合体、あるい
はアクリル酸−ジビニルベンゼン共重合体にイオン交換
基を導入したゲル型ならびにMR型イオン交換樹脂などを
挙げることができる。
本発明においては、イオン交換樹脂として、特開昭59
−166245号公報、特開昭62−11593号公報などに挙げら
れるような、ポリスチレン系、ポリフェノール系、ポリ
ビニルアルコール系、ポリアクリル系、ポリエチレン
系、ポリアミド系などの合成有機質ポリマ（イオン交換
用ポリマ）にイオン交換基を導入した不溶性合成有機質
イオン交換繊維が用いられ、その直径が0.1〜100μのも
のが好ましく、さらには１〜100μのイオン交換繊維が
好ましい。そのなかでも、イオン交換用ポリマと補強用
ポリマからなる繊維、好ましくは、イオン交換用ポリマ
を鞘成分の主成分に、補強用ポリマを芯成分にした多芯
型混合および複合繊維を基材にしたイオン交換繊維が操
作上の充分な機械的強度ならびに形態保存性を有してい
るので好ましい。補強用ポリマの割合は、通常10〜90％
であるがあまり少なすぎると機械的強度が弱くなり、逆
にあまり多すぎるとイオン交換量や吸着量が低下するの
で、20〜80％の範囲が好ましい。
−166245号公報、特開昭62−11593号公報などに挙げら
れるような、ポリスチレン系、ポリフェノール系、ポリ
ビニルアルコール系、ポリアクリル系、ポリエチレン
系、ポリアミド系などの合成有機質ポリマ（イオン交換
用ポリマ）にイオン交換基を導入した不溶性合成有機質
イオン交換繊維が用いられ、その直径が0.1〜100μのも
のが好ましく、さらには１〜100μのイオン交換繊維が
好ましい。そのなかでも、イオン交換用ポリマと補強用
ポリマからなる繊維、好ましくは、イオン交換用ポリマ
を鞘成分の主成分に、補強用ポリマを芯成分にした多芯
型混合および複合繊維を基材にしたイオン交換繊維が操
作上の充分な機械的強度ならびに形態保存性を有してい
るので好ましい。補強用ポリマの割合は、通常10〜90％
であるがあまり少なすぎると機械的強度が弱くなり、逆
にあまり多すぎるとイオン交換量や吸着量が低下するの
で、20〜80％の範囲が好ましい。
イオン交換用ポリマとしては、ポリ（モノビニル芳香
族化合物）特にポリスチレン系化合物が耐薬品性、耐熱
性に優れており、操作を長期にわたって何回も繰り返し
てできるので好ましい。
族化合物）特にポリスチレン系化合物が耐薬品性、耐熱
性に優れており、操作を長期にわたって何回も繰り返し
てできるので好ましい。
補強用ポリマとしては、ポリ−α−オレフィンが耐薬
品性に優れているので好ましい。
品性に優れているので好ましい。
これらのイオン交換体のうち、超純水レベルの高純度
の水では、交換体自身から発生するTOC成分や微粒子
も、大きな汚染源となるため、このような汚染物質の溶
出速度の小さいイオン交換繊維が、イオン交換樹脂に比
べてより好ましい。
の水では、交換体自身から発生するTOC成分や微粒子
も、大きな汚染源となるため、このような汚染物質の溶
出速度の小さいイオン交換繊維が、イオン交換樹脂に比
べてより好ましい。
本発明に用いられる逆浸透膜としては、多孔性支持体
上に、分離を司る活性層を被覆した複合型逆浸透膜が用
いられる。多孔性支持体としては、ポリスルホン支持膜
の表面に、界面重縮合反応で架橋ポリアミドの活性層を
形成したものを例示することができる。活性層の成分と
しては、他にも、芳香族ポリアミド、ポリアミド酸、ポ
リアミドヒドラジド、ポリイミダゾロン、ポリスルホン
アミド、ポリベンズイミダゾール、ポリベンズイミダゾ
ロン、ポリアリーレンオキシドなどが挙げられる。
上に、分離を司る活性層を被覆した複合型逆浸透膜が用
いられる。多孔性支持体としては、ポリスルホン支持膜
の表面に、界面重縮合反応で架橋ポリアミドの活性層を
形成したものを例示することができる。活性層の成分と
しては、他にも、芳香族ポリアミド、ポリアミド酸、ポ
リアミドヒドラジド、ポリイミダゾロン、ポリスルホン
アミド、ポリベンズイミダゾール、ポリベンズイミダゾ
ロン、ポリアリーレンオキシドなどが挙げられる。
また、膜の形態としては、平膜、管状膜、中空糸膜、
スパイラル型膜といった公知の任意の形態を取ることが
できる。
スパイラル型膜といった公知の任意の形態を取ることが
できる。
なお、該イオン交換体を納めたイオン交換体装置と逆
浸透膜を納めた逆浸透膜装置は、図１にあるとおり、一
体型ではなく、両者は別々の構成単位としてあり、図１
にあるように超純水ラインで接続されている。
浸透膜を納めた逆浸透膜装置は、図１にあるとおり、一
体型ではなく、両者は別々の構成単位としてあり、図１
にあるように超純水ラインで接続されている。
以上により得られた超純水は図中６で示されるリサイ
クル配管によって、図中７のユースポイントに供給され
る。
クル配管によって、図中７のユースポイントに供給され
る。
配管の材料としては、公知の金属あるいはプラスチッ
クなどが用いられ、中でも配管表面からの金属、有機
物、微粒子といった汚染物質の溶出速度が小さく、表面
の平滑性が大きく、耐熱性、耐薬品性に優れているもの
が望ましい。その様な性質を有するものの一例として、
金属としては、表面を複合電解研磨もしくは不動態化処
理したステンレス管が挙げられ、プラスチックとして
は、硬質塩化ビニル、ポリプロピレンが挙げられ、さら
に好ましくは、汚染物質の溶出速度が小さい、ポリフッ
化ビニリデン、四フッ化エチレン−パーフルオロアルキ
ルビニルエーテル共重合樹脂、ポリエーテルエーテルケ
トンなどが挙げられる。
クなどが用いられ、中でも配管表面からの金属、有機
物、微粒子といった汚染物質の溶出速度が小さく、表面
の平滑性が大きく、耐熱性、耐薬品性に優れているもの
が望ましい。その様な性質を有するものの一例として、
金属としては、表面を複合電解研磨もしくは不動態化処
理したステンレス管が挙げられ、プラスチックとして
は、硬質塩化ビニル、ポリプロピレンが挙げられ、さら
に好ましくは、汚染物質の溶出速度が小さい、ポリフッ
化ビニリデン、四フッ化エチレン−パーフルオロアルキ
ルビニルエーテル共重合樹脂、ポリエーテルエーテルケ
トンなどが挙げられる。
ユースポイントとしては、通常のダイヤフラム弁を使
用、材質としては、例えばステンレス（SUS316）で内面
を複合電解研磨したものが使用される。
用、材質としては、例えばステンレス（SUS316）で内面
を複合電解研磨したものが使用される。
さらに、ユースポイントで使用しない余剰超純水は、
リサイクル配管によって、図中２の純水槽にリサイクル
される。また、図中１の純粋製造装置中にリサイクルさ
れることも本発明においては、さしつかえない。
リサイクル配管によって、図中２の純水槽にリサイクル
される。また、図中１の純粋製造装置中にリサイクルさ
れることも本発明においては、さしつかえない。
［実施例］ 以下に実施例を示すが、本発明はこれに限定されるも
のではない。
のではない。
イオン交換体としては、1mmカットファイバー状のカ
チオン交換繊維及びアニオン交換繊維の繊維混合体0.2
（カチオン28ミリ等量、アニオン24ミリ等量）を、逆
浸透装置としては、ポリスルホン支持膜表面に界面重縮
合反応で架橋ポリアミドの活性層を形成した複合型逆浸
透膜を装填したスパイラル型エレメントを用いて、以下
の実験を行った。
チオン交換繊維及びアニオン交換繊維の繊維混合体0.2
（カチオン28ミリ等量、アニオン24ミリ等量）を、逆
浸透装置としては、ポリスルホン支持膜表面に界面重縮
合反応で架橋ポリアミドの活性層を形成した複合型逆浸
透膜を装填したスパイラル型エレメントを用いて、以下
の実験を行った。
原水としては、市水を用い、凝集沈澱装置、砂濾過
器、イオン交換樹脂、逆浸透装置、真空脱気塔、紫外線
照射装置、混床式ポリッシャー、限外濾過装置からなる
純水製造装置によって純水を得た。得られた純水を用い
て、流量180/hrの流速で通水して超純水を製造したと
ころ、３時間後に超純水が150/hrの流量で得られた。
純水製造装置を透過し高圧ポンプに達するまでの純水、
高圧ポンプを透過しイオン交換体に達するまでの処理
水、イオン交換体を透過し逆浸透膜に達するまでの処理
水、および逆浸透膜を透過した超純水について、おのお
の水質分析をし、結果を第１表に示した。
器、イオン交換樹脂、逆浸透装置、真空脱気塔、紫外線
照射装置、混床式ポリッシャー、限外濾過装置からなる
純水製造装置によって純水を得た。得られた純水を用い
て、流量180/hrの流速で通水して超純水を製造したと
ころ、３時間後に超純水が150/hrの流量で得られた。
純水製造装置を透過し高圧ポンプに達するまでの純水、
高圧ポンプを透過しイオン交換体に達するまでの処理
水、イオン交換体を透過し逆浸透膜に達するまでの処理
水、および逆浸透膜を透過した超純水について、おのお
の水質分析をし、結果を第１表に示した。
［発明の効果］ 本発明の製造方法および装置によって、イオン性物
質、TOC、微粒子およびシリカ濃度が低く、優れた純度
を有する超純水を提供することができる。
質、TOC、微粒子およびシリカ濃度が低く、優れた純度
を有する超純水を提供することができる。
得られた超純水は、電子工業分野、医薬品分野、分析
分野、などの広い適用が考えられる。特に、LSIの高集
積化のために、高純度の超純水を切望している電子工業
分野には、非常に有効に用いられる。
分野、などの広い適用が考えられる。特に、LSIの高集
積化のために、高純度の超純水を切望している電子工業
分野には、非常に有効に用いられる。
図面は、本発明装置の主要構成を説明するためのフロー
図である。 １……純水製造装置、２……純水槽 ３……高圧ポンプ、４……イオン交換体 ５……逆浸透膜、６……リサイクル配管 ７……ユースポイント
図である。 １……純水製造装置、２……純水槽 ３……高圧ポンプ、４……イオン交換体 ５……逆浸透膜、６……リサイクル配管 ７……ユースポイント
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 横田 晴男 滋賀県大津市園山１丁目１番１号 東レ株 式会社滋賀事業所内 (72)発明者 野寄 賢 滋賀県大津市園山１丁目１番１号 東レ株 式会社滋賀事業場内 (72)発明者 大見 忠弘 宮城県仙台市米ケ袋２―１―17―301 (56)参考文献 特開 昭61−167404（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−176507（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−164903（ＪＰ，Ｕ)
Claims (2)
- 【請求項１】純水製造装置で製造された純水を、高圧ポ
ンプで３〜30kg/cm2に昇圧した後、イオン交換体装置で
処理し、さらに、該イオン交換体装置とは独立した逆浸
透膜装置で処理することにより超純水を得ることを特徴
とする超純水の製造方法。 - 【請求項２】原水を処理することにより純水を得るため
の純水製造装置と、該純粋製造装置により得られた純水
を３〜30kg/cm2に昇圧する高圧ポンプと、高圧ポンプに
よる処理水をさらに精製して超純水とする逆浸透膜装置
と、該製造後の超純水のうちユースポイントで使用しな
い余剰超純水を純水中にリサイクルさせるリサイクル配
管とからなる超純水製造装置において、該高圧ポンプと
該逆浸透膜装置との間に、該逆浸透膜装置とは独立した
イオン交換体装置を設けたことを特徴とする超純水の製
造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63278259A JPH0829317B2 (ja) | 1988-11-01 | 1988-11-01 | 超純水の製造方法およびその製造方法に用いる装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63278259A JPH0829317B2 (ja) | 1988-11-01 | 1988-11-01 | 超純水の製造方法およびその製造方法に用いる装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02122886A JPH02122886A (ja) | 1990-05-10 |
| JPH0829317B2 true JPH0829317B2 (ja) | 1996-03-27 |
Family
ID=17594846
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63278259A Expired - Lifetime JPH0829317B2 (ja) | 1988-11-01 | 1988-11-01 | 超純水の製造方法およびその製造方法に用いる装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0829317B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4508469B2 (ja) * | 2001-05-15 | 2010-07-21 | オルガノ株式会社 | 電子部品洗浄用超純水の製造方法 |
| US20070066797A1 (en) * | 2003-08-28 | 2007-03-22 | Tadahire Ohmi | Apparatus for producing polymer |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61167404A (ja) * | 1985-01-18 | 1986-07-29 | Yuasa Battery Co Ltd | 分離モジユ−ル |
| JPH0649141B2 (ja) * | 1986-01-31 | 1994-06-29 | オルガノ株式会社 | 限外濾過膜の回生処理方法 |
| JPS62164903U (ja) * | 1986-04-10 | 1987-10-20 |
-
1988
- 1988-11-01 JP JP63278259A patent/JPH0829317B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02122886A (ja) | 1990-05-10 |
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