JPH08295530A - 無アルカリガラス基板 - Google Patents
無アルカリガラス基板Info
- Publication number
- JPH08295530A JPH08295530A JP12944495A JP12944495A JPH08295530A JP H08295530 A JPH08295530 A JP H08295530A JP 12944495 A JP12944495 A JP 12944495A JP 12944495 A JP12944495 A JP 12944495A JP H08295530 A JPH08295530 A JP H08295530A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- glass substrate
- alkali
- density
- resistance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 70
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 41
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 abstract description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910018404 Al2 O3 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 34
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 14
- 239000010408 film Substances 0.000 description 12
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 6
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005354 aluminosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052634 enstatite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- BBCCCLINBSELLX-UHFFFAOYSA-N magnesium;dihydroxy(oxo)silane Chemical compound [Mg+2].O[Si](O)=O BBCCCLINBSELLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
- C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明の目的は、ＴＦＴ型アクティブマトリ
ックスディスプレイ基板に要求される特性を全て満足す
る無アルカリガラス基板を提供することである。 【構成】 本発明の無アルカリガラス基板は、重量百分
率で、ＳｉＯ2 ５５〜６５％、Ａｌ2 Ｏ3 １１〜２
０％、Ｂ2 Ｏ3 ９〜１５％、ＭｇＯ ３〜１０％、Ｃ
ａＯ ０〜４．５％、ＳｒＯ ０〜１０％、ＢａＯ
０．５〜９％、ＺｎＯ ０〜５％、ＺｒＯ2 ０〜５
％、ＴｉＯ2 ０〜５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋Ｂ
ａＯ＋ＺｎＯ ５〜２０％の組成を有し、実質的にアル
カリ金属酸化物を含有せず、密度が２．６ｇ／ｃｍ3 以
下であることを特徴とする。
ックスディスプレイ基板に要求される特性を全て満足す
る無アルカリガラス基板を提供することである。 【構成】 本発明の無アルカリガラス基板は、重量百分
率で、ＳｉＯ2 ５５〜６５％、Ａｌ2 Ｏ3 １１〜２
０％、Ｂ2 Ｏ3 ９〜１５％、ＭｇＯ ３〜１０％、Ｃ
ａＯ ０〜４．５％、ＳｒＯ ０〜１０％、ＢａＯ
０．５〜９％、ＺｎＯ ０〜５％、ＺｒＯ2 ０〜５
％、ＴｉＯ2 ０〜５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋Ｂ
ａＯ＋ＺｎＯ ５〜２０％の組成を有し、実質的にアル
カリ金属酸化物を含有せず、密度が２．６ｇ／ｃｍ3 以
下であることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶ディスプレイ、Ｅ
Ｌディスプレイ等のディスプレイ、フィルター、センサ
ー等の基板として用いられる無アルカリガラス基板に関
するものである。
Ｌディスプレイ等のディスプレイ、フィルター、センサ
ー等の基板として用いられる無アルカリガラス基板に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より液晶ディスプレイ等のフラツト
パネルディスプレイ、フィルター、センサー等の基板と
してガラス基板が使用されている。
パネルディスプレイ、フィルター、センサー等の基板と
してガラス基板が使用されている。
【０００３】この種のガラス基板の表面には、透明導電
膜、絶縁膜、半導体膜、金属膜等が成膜され、しかもフ
ォトリソグラフィ−エッチング（フォトエッチング）に
よって種々の回路やパターンが形成される。これらの成
膜、フォトエッチング工程において、ガラス基板には、
種々の熱処理や薬品処理が施される。
膜、絶縁膜、半導体膜、金属膜等が成膜され、しかもフ
ォトリソグラフィ−エッチング（フォトエッチング）に
よって種々の回路やパターンが形成される。これらの成
膜、フォトエッチング工程において、ガラス基板には、
種々の熱処理や薬品処理が施される。
【０００４】例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）型アク
ティブマトリックス液晶ディスプレイの場合、ガラス基
板上に絶縁膜や透明導電膜が成膜され、さらにアモルフ
ァスシリコンや多結晶シリコンのＴＦＴが、フォトエッ
チングによって多数形成される。このような工程におい
て、ガラス基板は、数百度の熱処理を受けると共に、硫
酸、塩酸、アルカリ溶液、フッ酸、バッファードフッ酸
等の種々の薬品による処理を受ける。特にバッファード
フッ酸は、絶縁膜のエッチングに広く用いられるが、ガ
ラスを侵食してその表面を白濁させやすく、またガラス
成分と反応して反応生成物ができ、これが工程中のフィ
ルターをつまらせたり、基板上に付着するため、この種
のガラス基板には、耐バッファードフッ酸性を付与する
ことが大変重要である。
ティブマトリックス液晶ディスプレイの場合、ガラス基
板上に絶縁膜や透明導電膜が成膜され、さらにアモルフ
ァスシリコンや多結晶シリコンのＴＦＴが、フォトエッ
チングによって多数形成される。このような工程におい
て、ガラス基板は、数百度の熱処理を受けると共に、硫
酸、塩酸、アルカリ溶液、フッ酸、バッファードフッ酸
等の種々の薬品による処理を受ける。特にバッファード
フッ酸は、絶縁膜のエッチングに広く用いられるが、ガ
ラスを侵食してその表面を白濁させやすく、またガラス
成分と反応して反応生成物ができ、これが工程中のフィ
ルターをつまらせたり、基板上に付着するため、この種
のガラス基板には、耐バッファードフッ酸性を付与する
ことが大変重要である。
【０００５】従ってＴＦＴ型アクティブマトリツクス液
晶ディスプレイに使用されるガラス基板には、以下のよ
うな特性が要求される。
晶ディスプレイに使用されるガラス基板には、以下のよ
うな特性が要求される。
【０００６】（１）ガラス中にアルカリ金属酸化物が含
有されていると、熱処理中にアルカリイオンが成膜され
た半導体物質中に拡散し、膜特性の劣化を招くため、実
質的にアルカリ金属酸化物を含有しないこと。
有されていると、熱処理中にアルカリイオンが成膜され
た半導体物質中に拡散し、膜特性の劣化を招くため、実
質的にアルカリ金属酸化物を含有しないこと。
【０００７】（２）フォトエッチング工程において使用
される種々の酸、アルカリ等の薬品によって劣化しない
ような耐薬品性を有すること。
される種々の酸、アルカリ等の薬品によって劣化しない
ような耐薬品性を有すること。
【０００８】（３）成膜、アニール等の工程における熱
処理によって、熱収縮しないこと。そのため高い歪点を
有すること。
処理によって、熱収縮しないこと。そのため高い歪点を
有すること。
【０００９】また溶融性、成形性を考慮して、この種の
ガラス基板には、以下のような特性も要求される。
ガラス基板には、以下のような特性も要求される。
【００１０】（４）ガラス中に基板ガラスとして好まし
くない溶融欠陥が発生しないよう、溶融性に優れている
こと。
くない溶融欠陥が発生しないよう、溶融性に優れている
こと。
【００１１】（５）ガラス中に溶融、成形中に発生する
異物が存在しないように、耐失透性に優れていること。
異物が存在しないように、耐失透性に優れていること。
【００１２】また近年、ＴＦＴ型アクティブマトリック
ス液晶ディスプレイ等の電子機器は、パーソナルな分野
への利用が進められており、機器の軽量化が要求されて
いる。これに伴ってガラス基板にも軽量化が要求されて
おり、薄板化が進められている。しかしながらこの種の
電子機器は、大型化も進められており、ガラス基板の強
度を考慮すると、薄板化については自ずと限界がある。
そこでガラス基板の軽量化を図る目的で、ガラスの密度
を低くすることが望まれている。
ス液晶ディスプレイ等の電子機器は、パーソナルな分野
への利用が進められており、機器の軽量化が要求されて
いる。これに伴ってガラス基板にも軽量化が要求されて
おり、薄板化が進められている。しかしながらこの種の
電子機器は、大型化も進められており、ガラス基板の強
度を考慮すると、薄板化については自ずと限界がある。
そこでガラス基板の軽量化を図る目的で、ガラスの密度
を低くすることが望まれている。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】従来よりＴＦＴ型アク
ティブマトリックスディスプレイ基板に用いられている
無アルカリガラスとしては、石英ガラス、バリウム硼珪
酸ガラス及びアルミノ珪酸塩ガラスが存在するが、いず
れも一長一短がある。
ティブマトリックスディスプレイ基板に用いられている
無アルカリガラスとしては、石英ガラス、バリウム硼珪
酸ガラス及びアルミノ珪酸塩ガラスが存在するが、いず
れも一長一短がある。
【００１４】すなわち石英ガラスは、耐薬品性、耐熱性
に優れ、低密度であるが、材料コストが高いという難点
がある。
に優れ、低密度であるが、材料コストが高いという難点
がある。
【００１５】またバリウム硼珪酸ガラスとしては、市販
品としてコーニング社製＃７０５９が存在するが、この
ガラスは耐酸性に劣り、フォトエッチング工程において
ガラス基板の表面に変質や白濁、荒れが生じやすく、し
かも基板からの溶出成分によって薬液を汚染しやすい。
さらにこのガラスは、歪点が低いため、熱収縮や熱変形
を起こしやすく、耐熱性に劣っている。またその密度も
２．７６ｇ／ｃｍ3 と高い。
品としてコーニング社製＃７０５９が存在するが、この
ガラスは耐酸性に劣り、フォトエッチング工程において
ガラス基板の表面に変質や白濁、荒れが生じやすく、し
かも基板からの溶出成分によって薬液を汚染しやすい。
さらにこのガラスは、歪点が低いため、熱収縮や熱変形
を起こしやすく、耐熱性に劣っている。またその密度も
２．７６ｇ／ｃｍ3 と高い。
【００１６】アルミノ珪酸塩ガラスは、耐熱性に優れて
いるが、現在市場にあるガラス基板の多くが、溶融性が
悪く、大量生産に不向きである。またこのガラス基板
は、密度が高かったり、耐バッファードフッ酸性に劣る
ものが多く、全ての要求特性を満足するものは未だ存在
しないというのが実情である。
いるが、現在市場にあるガラス基板の多くが、溶融性が
悪く、大量生産に不向きである。またこのガラス基板
は、密度が高かったり、耐バッファードフッ酸性に劣る
ものが多く、全ての要求特性を満足するものは未だ存在
しないというのが実情である。
【００１７】本発明の目的は、上記した要求特性項目
（１）〜（５）を全て満足し、しかも密度が２．６ｇ／
ｃｍ3 以下である無アルカリガラス基板を提供すること
である。
（１）〜（５）を全て満足し、しかも密度が２．６ｇ／
ｃｍ3 以下である無アルカリガラス基板を提供すること
である。
【００１８】
【課題を解決するための手段】本発明の無アルカリガラ
ス基板は、重量百分率で、ＳｉＯ2 ５５〜６５％、Ａ
ｌ2 Ｏ3 １１〜２０％、Ｂ2 Ｏ3 ９〜１５％、Ｍｇ
Ｏ ３〜１０％、ＣａＯ ０〜４．５％、ＳｒＯ ０〜
１０％、ＢａＯ ０．５〜９％、ＺｎＯ ０〜５％、Ｚ
ｒＯ2 ０〜５％、ＴｉＯ2 ０〜５％、ＭｇＯ＋Ｃａ
Ｏ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ５〜２０％の組成を有
し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、密度で
２．６ｇ／ｃｍ3 以下であることを特徴とする。
ス基板は、重量百分率で、ＳｉＯ2 ５５〜６５％、Ａ
ｌ2 Ｏ3 １１〜２０％、Ｂ2 Ｏ3 ９〜１５％、Ｍｇ
Ｏ ３〜１０％、ＣａＯ ０〜４．５％、ＳｒＯ ０〜
１０％、ＢａＯ ０．５〜９％、ＺｎＯ ０〜５％、Ｚ
ｒＯ2 ０〜５％、ＴｉＯ2 ０〜５％、ＭｇＯ＋Ｃａ
Ｏ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ５〜２０％の組成を有
し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、密度で
２．６ｇ／ｃｍ3 以下であることを特徴とする。
【００１９】また本発明の無アルカリガラス基板は、好
ましくは、重量百分率で、ＳｉＯ2５５〜６５％、Ａｌ2
Ｏ3 １１〜２０％、Ｂ2 Ｏ3 ９〜１５％、ＭｇＯ
３〜１０％、ＣａＯ ０〜２％、ＳｒＯ ０．５〜１０
％、ＢａＯ ０．５〜９％、ＺｎＯ ０〜５％、ＺｒＯ
2 ０〜１．８％、ＴｉＯ2 ０〜５％、ＭｇＯ＋Ｃａ
Ｏ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ５〜２０％の組成を有す
ることを特徴とする。
ましくは、重量百分率で、ＳｉＯ2５５〜６５％、Ａｌ2
Ｏ3 １１〜２０％、Ｂ2 Ｏ3 ９〜１５％、ＭｇＯ
３〜１０％、ＣａＯ ０〜２％、ＳｒＯ ０．５〜１０
％、ＢａＯ ０．５〜９％、ＺｎＯ ０〜５％、ＺｒＯ
2 ０〜１．８％、ＴｉＯ2 ０〜５％、ＭｇＯ＋Ｃａ
Ｏ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ５〜２０％の組成を有す
ることを特徴とする。
【００２０】
【作用】以下、本発明の無アルカリガラス基板の構成成
分を上記のように限定した理由を説明する。
分を上記のように限定した理由を説明する。
【００２１】ＳｉＯ2 は、ガラスのネットワークフォー
マーとなる成分であり、その含有量は、５５〜６５％で
ある。５５％より少ないと、耐薬品性、特に耐酸性が低
下すると共に歪点が低くなるため耐熱性が悪くなり、且
つ、ガラスの密度を２．６ｇ／ｃｍ3 以下にすることが
困難となる。また６５％より多いと、高温粘度が大きく
なり、溶融性が悪くなるとと共にクリストバライトの失
透物が析出しやすくなる。
マーとなる成分であり、その含有量は、５５〜６５％で
ある。５５％より少ないと、耐薬品性、特に耐酸性が低
下すると共に歪点が低くなるため耐熱性が悪くなり、且
つ、ガラスの密度を２．６ｇ／ｃｍ3 以下にすることが
困難となる。また６５％より多いと、高温粘度が大きく
なり、溶融性が悪くなるとと共にクリストバライトの失
透物が析出しやすくなる。
【００２２】Ａｌ2 Ｏ3 は、ガラスの耐熱性、耐失透性
を高めると共に、密度を低下させるために不可欠な成分
であり、その含有量は、１１〜２０％である。１１％よ
り少ないと、失透温度が著しく上昇し、ガラス中に失透
異物が生じやすくなる。また２０％より多いと、耐酸
性、特に耐バッファードフッ酸性が低下し、ガラス基板
の表面に白濁が生じやすくなる。
を高めると共に、密度を低下させるために不可欠な成分
であり、その含有量は、１１〜２０％である。１１％よ
り少ないと、失透温度が著しく上昇し、ガラス中に失透
異物が生じやすくなる。また２０％より多いと、耐酸
性、特に耐バッファードフッ酸性が低下し、ガラス基板
の表面に白濁が生じやすくなる。
【００２３】Ｂ2 Ｏ3 は、融剤として働き、粘性を下
げ、溶融性を改善すると共に密度を低下させるための成
分であり、その含有量は、９〜１５％である。９％より
少ないと、融剤としての働きが不十分となると共に、ガ
ラスの密度が高くなり、しかも耐バッファードフッ酸性
が低下する。また１５％より多いと、ガラスの歪点が低
下し、耐熱性が悪くなると共に、ガラスの耐酸性も悪く
なる。
げ、溶融性を改善すると共に密度を低下させるための成
分であり、その含有量は、９〜１５％である。９％より
少ないと、融剤としての働きが不十分となると共に、ガ
ラスの密度が高くなり、しかも耐バッファードフッ酸性
が低下する。また１５％より多いと、ガラスの歪点が低
下し、耐熱性が悪くなると共に、ガラスの耐酸性も悪く
なる。
【００２４】ＭｇＯは、歪点を下げずに高温粘性を下
げ、ガラスの溶融性を改善する作用を有しており、二価
のアルカリ土類酸化物の中で、最も密度を下げる効果が
大きい成分であり、その含有量は、３〜１０％である。
３％より少ないと、上記の効果が得られず、１０％より
多いと、失透温度が著しく上昇し、エンスタタイト（Ｍ
ｇＯ・ＳｉＯ2 ）の結晶異物がガラス中に析出しやすく
なると共に、ガラスの耐バッファードフッ酸性が著しく
悪化する。
げ、ガラスの溶融性を改善する作用を有しており、二価
のアルカリ土類酸化物の中で、最も密度を下げる効果が
大きい成分であり、その含有量は、３〜１０％である。
３％より少ないと、上記の効果が得られず、１０％より
多いと、失透温度が著しく上昇し、エンスタタイト（Ｍ
ｇＯ・ＳｉＯ2 ）の結晶異物がガラス中に析出しやすく
なると共に、ガラスの耐バッファードフッ酸性が著しく
悪化する。
【００２５】ＣａＯも、ＭｇＯと同様に歪点を下げずに
高温粘性を下げ、ガラスの溶融性を改善する作用を有す
る成分であり、その含有量は、０〜４．５％、好ましく
は０〜２％である。４．５％より多いと、ガラスの耐バ
ッファードフッ酸性が著しく悪化する。
高温粘性を下げ、ガラスの溶融性を改善する作用を有す
る成分であり、その含有量は、０〜４．５％、好ましく
は０〜２％である。４．５％より多いと、ガラスの耐バ
ッファードフッ酸性が著しく悪化する。
【００２６】ＳｒＯ、ＢａＯは、共にガラスの耐薬品性
を向上させると共に、失透性を改善するための成分であ
るが、多量に含有させると、溶融性を損なうと共にガラ
スの密度が高くなるため好ましくない。従ってＳｒＯの
含有量は、０〜１０％、好ましくは０．５〜１０％であ
り、ＢａＯの含有量は、０．５〜９％である。
を向上させると共に、失透性を改善するための成分であ
るが、多量に含有させると、溶融性を損なうと共にガラ
スの密度が高くなるため好ましくない。従ってＳｒＯの
含有量は、０〜１０％、好ましくは０．５〜１０％であ
り、ＢａＯの含有量は、０．５〜９％である。
【００２７】ＺｎＯは、耐バッファードフッ酸性を改善
すると共に、失透性を改善する成分であり、その含有量
は、０〜５％である。５％より多いと、逆にガラスが失
透しやすくなると共に、歪点が低下するため耐熱性が得
られない。
すると共に、失透性を改善する成分であり、その含有量
は、０〜５％である。５％より多いと、逆にガラスが失
透しやすくなると共に、歪点が低下するため耐熱性が得
られない。
【００２８】ただしＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及
びＺｎＯの合量が５％より少ないと、ガラスの高温での
粘性が高くなり、溶融性が悪くなると共に、ガラスが失
透しやすくなり、２０％より多くなると、ガラスの密度
が高くなり、２．６ｇ／ｃｍ3以下にするのが困難とな
る。
びＺｎＯの合量が５％より少ないと、ガラスの高温での
粘性が高くなり、溶融性が悪くなると共に、ガラスが失
透しやすくなり、２０％より多くなると、ガラスの密度
が高くなり、２．６ｇ／ｃｍ3以下にするのが困難とな
る。
【００２９】ＺｒＯ2 は、ガラスの耐薬品性、特に耐酸
性を改善すると共に、高温粘性を下げて溶融性を向上さ
せる成分であり、その含有量は、０〜５％、好ましくは
０〜１．８％である。５％より多いと、失透温度が上昇
し、ジルコンの失透異物が析出しやすくなる。
性を改善すると共に、高温粘性を下げて溶融性を向上さ
せる成分であり、その含有量は、０〜５％、好ましくは
０〜１．８％である。５％より多いと、失透温度が上昇
し、ジルコンの失透異物が析出しやすくなる。
【００３０】ＴｉＯ2 は、耐薬品性、特に耐バッファー
ドフッ酸性を改善すると共に、高温粘性を低下し溶融性
を向上させる成分であり、その含有量は、０〜５％であ
る。５％より多いと、ガラスに着色を生じ、透過率が低
下するためディスプレイ用ガラス基板として好ましくな
い。
ドフッ酸性を改善すると共に、高温粘性を低下し溶融性
を向上させる成分であり、その含有量は、０〜５％であ
る。５％より多いと、ガラスに着色を生じ、透過率が低
下するためディスプレイ用ガラス基板として好ましくな
い。
【００３１】また本発明においては、上記成分以外に
も、特性を損なわない範囲で他の成分を添加させること
が可能であり、例えば清澄剤としてＡｓ2 Ｏ3 、Ｓｂ2
Ｏ3 、Ｆ2 、Ｃｌ2 、ＳＯ3 等の成分を添加させること
が可能である。
も、特性を損なわない範囲で他の成分を添加させること
が可能であり、例えば清澄剤としてＡｓ2 Ｏ3 、Ｓｂ2
Ｏ3 、Ｆ2 、Ｃｌ2 、ＳＯ3 等の成分を添加させること
が可能である。
【００３２】ただし一般に融剤として使用されるＰｂＯ
とＰ2 Ｏ5 は、ガラスの耐薬品性を著しく低下させるた
め、本発明においては添加を避けるべきである。特にＰ
ｂＯは、溶融時に融液の表面から揮発し、環境を汚染す
る虞れもあるため好ましくない。
とＰ2 Ｏ5 は、ガラスの耐薬品性を著しく低下させるた
め、本発明においては添加を避けるべきである。特にＰ
ｂＯは、溶融時に融液の表面から揮発し、環境を汚染す
る虞れもあるため好ましくない。
【００３３】
【実施例】以下、本発明の無アルカリガラス基板を実施
例に基づいて詳細に説明する。
例に基づいて詳細に説明する。
【００３４】表１、２は、実施例のガラス（試料Ｎｏ．
１〜９）と比較例のガラス（試料Ｎｏ．１０〜１３）を
示すものである。
１〜９）と比較例のガラス（試料Ｎｏ．１０〜１３）を
示すものである。
【００３５】
【表１】
【００３６】
【表２】
【００３７】表中の各試料は、次のようにして作製し
た。まず表の組成となるようにガラス原料を調合し、白
金坩堝に入れ、１５８０℃で、１６時間溶融した後、カ
ーボン板上に流し出し、板状に成形した。次いでこれら
の板状ガラスの両面を光学研磨することによってガラス
基板としたものである。
た。まず表の組成となるようにガラス原料を調合し、白
金坩堝に入れ、１５８０℃で、１６時間溶融した後、カ
ーボン板上に流し出し、板状に成形した。次いでこれら
の板状ガラスの両面を光学研磨することによってガラス
基板としたものである。
【００３８】表から明らかなように、実施例であるＮ
ｏ．１〜９の各試料は、いずれも密度が２．６ｇ／ｃｍ
3 以下、歪点が６４０℃以上、失透温度が１１００℃以
下、１０2.5 ポイズに相当する温度が１５８０℃以下で
あり、いずれも良好な特性を有していた。またこれらの
試料は、耐硫酸性と耐バッファードフッ酸性にも優れて
いた。
ｏ．１〜９の各試料は、いずれも密度が２．６ｇ／ｃｍ
3 以下、歪点が６４０℃以上、失透温度が１１００℃以
下、１０2.5 ポイズに相当する温度が１５８０℃以下で
あり、いずれも良好な特性を有していた。またこれらの
試料は、耐硫酸性と耐バッファードフッ酸性にも優れて
いた。
【００３９】それに対し、比較例であるＮｏ．１０の試
料は、密度が大きいため、実施例の試料に比べて重量が
大きいものと考えられる。しかも歪点が低いため、耐熱
性に劣り、且つ、耐硫酸性についても劣っていた。また
Ｎｏ．１１の試料も、密度が大きく、歪点がやや低かっ
た。さらに失透温度が高いため、溶融性に劣り、且つ、
耐バッファードフッ酸性についても劣っていた。さらに
Ｎｏ．１２の試料は、耐バッファードフッ酸性が劣り、
Ｎｏ．１３の試料は、高温粘度が高く、溶融性に劣ると
共に、失透温度も高かった。
料は、密度が大きいため、実施例の試料に比べて重量が
大きいものと考えられる。しかも歪点が低いため、耐熱
性に劣り、且つ、耐硫酸性についても劣っていた。また
Ｎｏ．１１の試料も、密度が大きく、歪点がやや低かっ
た。さらに失透温度が高いため、溶融性に劣り、且つ、
耐バッファードフッ酸性についても劣っていた。さらに
Ｎｏ．１２の試料は、耐バッファードフッ酸性が劣り、
Ｎｏ．１３の試料は、高温粘度が高く、溶融性に劣ると
共に、失透温度も高かった。
【００４０】尚、表中の密度は、周知のアルキメデス法
によって測定したものである。また歪点は、ＡＳＴＭ
Ｃ３３６−７１の方法に基づいて測定し、失透温度は、
各試料から３００〜５００μｍの粒径を有するガラス粉
末を作製し、これを白金ボート内に入れ、温度勾配炉に
２４時間保持した後の失透観察によって求めたものであ
る。
によって測定したものである。また歪点は、ＡＳＴＭ
Ｃ３３６−７１の方法に基づいて測定し、失透温度は、
各試料から３００〜５００μｍの粒径を有するガラス粉
末を作製し、これを白金ボート内に入れ、温度勾配炉に
２４時間保持した後の失透観察によって求めたものであ
る。
【００４１】また１０2.5 ポイズ温度は、高温粘度であ
る１０2.5 ポイズに相当する温度を示すものであり、こ
の温度が低いほど、溶融、成形性に優れていることにな
る。
る１０2.5 ポイズに相当する温度を示すものであり、こ
の温度が低いほど、溶融、成形性に優れていることにな
る。
【００４２】さらに耐硫酸性は、各試料を８０℃に保持
された１０重量％硫酸水溶液に２４時間浸漬した後、ガ
ラス基板の表面状態を観察することによって評価した。
ガラス基板の表面が、白濁したり、クラック等が入った
ものを×、全く変化がないものを○で示した。
された１０重量％硫酸水溶液に２４時間浸漬した後、ガ
ラス基板の表面状態を観察することによって評価した。
ガラス基板の表面が、白濁したり、クラック等が入った
ものを×、全く変化がないものを○で示した。
【００４３】また耐バッファードフッ酸性は、各試料
を、２０℃に保持された３８．７重量％フッ化アンモニ
ウム、１．６重量％フッ酸からなるバッファードフッ酸
に３０分間浸漬した後、ガラス基板の表面状態を観察す
ることによって評価した。ガラス基板の表面が白濁して
いるものを×、全く変化のなかったものを○で示した。
を、２０℃に保持された３８．７重量％フッ化アンモニ
ウム、１．６重量％フッ酸からなるバッファードフッ酸
に３０分間浸漬した後、ガラス基板の表面状態を観察す
ることによって評価した。ガラス基板の表面が白濁して
いるものを×、全く変化のなかったものを○で示した。
【００４４】
【発明の効果】以上のような本発明の無アルカリガラス
基板は、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、耐熱
性、耐薬品性、溶融成形性に優れ、しかも低密度である
ため、特に軽量化が要求されるＴＦＴ型アクティブマト
リックス基板として好適である。
基板は、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、耐熱
性、耐薬品性、溶融成形性に優れ、しかも低密度である
ため、特に軽量化が要求されるＴＦＴ型アクティブマト
リックス基板として好適である。
Claims (2)
- 【請求項１】 重量百分率で、ＳｉＯ2 ５５〜６５
％、Ａｌ2 Ｏ3 １１〜２０％、Ｂ2 Ｏ3 ９〜１５
％、ＭｇＯ ３〜１０％、ＣａＯ ０〜４．５％、Ｓｒ
Ｏ ０〜１０％、ＢａＯ ０．５〜９％、ＺｎＯ ０〜
５％、ＺｒＯ2０〜５％、ＴｉＯ2 ０〜５％、ＭｇＯ
＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ５〜２０％の組成
を有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、密度
が２．６ｇ／ｃｍ3 以下であることを特徴とする無アル
カリガラス基板。 - 【請求項２】 重量百分率で、ＳｉＯ2 ５５〜６５
％、Ａｌ2 Ｏ3 １１〜２０％、Ｂ2 Ｏ3 ９〜１５
％、ＭｇＯ ３〜１０％、ＣａＯ ０〜２％、ＳｒＯ
０．５〜１０％、ＢａＯ ０．５〜９％、ＺｎＯ ０〜
５％、ＺｒＯ2０〜１．８％、ＴｉＯ2 ０〜５％、Ｍ
ｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ５〜２０％の組
成を有することを特徴とする請求項１の無アルカリガラ
ス基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12944495A JP3666608B2 (ja) | 1995-04-27 | 1995-04-27 | 無アルカリガラス基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12944495A JP3666608B2 (ja) | 1995-04-27 | 1995-04-27 | 無アルカリガラス基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08295530A true JPH08295530A (ja) | 1996-11-12 |
| JP3666608B2 JP3666608B2 (ja) | 2005-06-29 |
Family
ID=15009629
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12944495A Expired - Fee Related JP3666608B2 (ja) | 1995-04-27 | 1995-04-27 | 無アルカリガラス基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3666608B2 (ja) |
Cited By (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1072237A (ja) * | 1996-06-03 | 1998-03-17 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラスおよび液晶ディスプレイパネル |
| DE19739912C1 (de) * | 1997-09-11 | 1998-12-10 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung |
| KR19990012860A (ko) * | 1997-07-31 | 1999-02-25 | 암라인/립퍼 | 알칼리가 없는 알루미노 붕규산 유리 및 그 이용/1 |
| KR19990012861A (ko) * | 1997-07-31 | 1999-02-25 | 암라인/립퍼 | 알칼리가 없는 알루미노 붕규산 유리 및 그 이용/2 |
| JPH11292563A (ja) * | 1998-04-03 | 1999-10-26 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラス基板 |
| DE19916296C1 (de) * | 1999-04-12 | 2001-01-18 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung |
| DE19934072A1 (de) * | 1999-07-23 | 2001-01-25 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas, seine Verwendungen und Verfahren zu seiner Herstellung |
| DE19939789A1 (de) * | 1999-08-21 | 2001-02-22 | Schott Glas | Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und deren Verwendungen |
| WO2001017921A1 (de) | 1999-09-04 | 2001-03-15 | Schott Glas | Erdalkalialuminoborosilicatglas und dessen verwendungen |
| DE10000839C1 (de) * | 2000-01-12 | 2001-05-10 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendungen |
| JP2001506223A (ja) * | 1996-12-17 | 2001-05-15 | コーニング インコーポレイテッド | ディスプレイパネル用ガラスおよび光電圧装置 |
| DE10000837C1 (de) * | 2000-01-12 | 2001-05-31 | Schott Glas | Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und ihre Verwendungen |
| WO2001000538A3 (en) * | 1999-06-29 | 2001-07-05 | Hoya Corp | Glass composition for use in a liquid crystal panel |
| DE10000836A1 (de) * | 2000-01-12 | 2001-07-26 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendungen |
| DE10000838A1 (de) * | 2000-01-12 | 2001-07-26 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendungen |
| DE10064804A1 (de) * | 2000-12-22 | 2002-07-11 | Schott Glas | Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und ihre Verwendung |
| DE10114581A1 (de) * | 2001-03-24 | 2002-10-10 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und Verwendungen |
| US6537937B1 (en) * | 1999-08-03 | 2003-03-25 | Asahi Glass Company, Limited | Alkali-free glass |
| JP2007008812A (ja) * | 2006-09-21 | 2007-01-18 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラス基板 |
| WO2009090013A1 (de) * | 2008-01-17 | 2009-07-23 | Schott Ag | Alkalifreies glas |
| WO2012074953A1 (en) * | 2010-11-30 | 2012-06-07 | Corning Incorporated | Glass articles/materials for use as touchscreen substrates |
| WO2013047586A1 (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-04 | ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 | フラットパネルディスプレイ用ガラス基板 |
| JP2013142048A (ja) * | 2012-01-11 | 2013-07-22 | Sharp Corp | 無アルカリガラスを原料とするゼオライトの製造方法、ａ型ゼオライトおよびそれを用いた成形体、水浄化剤、土壌改質剤、保肥剤 |
| DE102006016256B4 (de) * | 2006-03-31 | 2013-12-12 | Schott Ag | Aluminoborosilikatglas und dessen Verwendung |
| US11168018B2 (en) | 2013-08-15 | 2021-11-09 | Corning Incorporated | Aluminoborosilicate glass substantially free of alkali oxides |
| JP2022088298A (ja) * | 2020-12-02 | 2022-06-14 | 台湾玻璃工業股▲ふん▼有限公司 | 低熱膨張係数を有するガラス組成物及びそのガラス繊維 |
| USRE49307E1 (en) | 2013-08-15 | 2022-11-22 | Corning Incorporated | Alkali-doped and alkali-free boroaluminosilicate glass |
| JP2023155455A (ja) * | 2018-11-14 | 2023-10-20 | Ａｇｃ株式会社 | 高周波デバイス用ガラス基板、液晶アンテナ及び高周波デバイス |
| WO2025249285A1 (ja) * | 2024-05-31 | 2025-12-04 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板、支持ガラス基板、積層体、積層体の製造方法及び半導体パッケージの製造方法 |
-
1995
- 1995-04-27 JP JP12944495A patent/JP3666608B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (47)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1072237A (ja) * | 1996-06-03 | 1998-03-17 | Asahi Glass Co Ltd | 無アルカリガラスおよび液晶ディスプレイパネル |
| JP2001506223A (ja) * | 1996-12-17 | 2001-05-15 | コーニング インコーポレイテッド | ディスプレイパネル用ガラスおよび光電圧装置 |
| USRE38959E1 (en) * | 1996-12-17 | 2006-01-31 | Corning Incorporated | Glasses for display panels and photovoltaic devices |
| KR19990012860A (ko) * | 1997-07-31 | 1999-02-25 | 암라인/립퍼 | 알칼리가 없는 알루미노 붕규산 유리 및 그 이용/1 |
| KR19990012861A (ko) * | 1997-07-31 | 1999-02-25 | 암라인/립퍼 | 알칼리가 없는 알루미노 붕규산 유리 및 그 이용/2 |
| DE19739912C1 (de) * | 1997-09-11 | 1998-12-10 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung |
| EP0901990A1 (de) * | 1997-09-11 | 1999-03-17 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminosilicatglas |
| US6096670A (en) * | 1997-09-11 | 2000-08-01 | Schott Glaswerke | Alkali metal-free aluminoborosilicate glass and its use |
| JPH11292563A (ja) * | 1998-04-03 | 1999-10-26 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラス基板 |
| DE19916296C1 (de) * | 1999-04-12 | 2001-01-18 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendung |
| WO2001000538A3 (en) * | 1999-06-29 | 2001-07-05 | Hoya Corp | Glass composition for use in a liquid crystal panel |
| KR100623805B1 (ko) * | 1999-06-29 | 2006-09-18 | 호야 가부시키가이샤 | 액정 패널에 사용하기 위한 유리 기판 및 유리 조성물 |
| DE19934072A1 (de) * | 1999-07-23 | 2001-01-25 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas, seine Verwendungen und Verfahren zu seiner Herstellung |
| DE19934072C2 (de) * | 1999-07-23 | 2001-06-13 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas, seine Verwendungen und Verfahren zu seiner Herstellung |
| US6537937B1 (en) * | 1999-08-03 | 2003-03-25 | Asahi Glass Company, Limited | Alkali-free glass |
| US6417124B1 (en) | 1999-08-21 | 2002-07-09 | Schott Glas | Alkali-free aluminoborosilicate glass, and uses thereof |
| DE19939789A1 (de) * | 1999-08-21 | 2001-02-22 | Schott Glas | Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und deren Verwendungen |
| DE19942259C1 (de) * | 1999-09-04 | 2001-05-17 | Schott Glas | Erdalkalialuminoborosilicatglas und dessen Verwendungen |
| WO2001017921A1 (de) | 1999-09-04 | 2001-03-15 | Schott Glas | Erdalkalialuminoborosilicatglas und dessen verwendungen |
| DE10000838A1 (de) * | 2000-01-12 | 2001-07-26 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendungen |
| DE10000836A1 (de) * | 2000-01-12 | 2001-07-26 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendungen |
| DE10000837C1 (de) * | 2000-01-12 | 2001-05-31 | Schott Glas | Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und ihre Verwendungen |
| DE10000838B4 (de) * | 2000-01-12 | 2005-03-17 | Schott Ag | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendungen |
| DE10000839C1 (de) * | 2000-01-12 | 2001-05-10 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendungen |
| DE10000836B4 (de) * | 2000-01-12 | 2005-03-17 | Schott Ag | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und dessen Verwendungen |
| US6671026B2 (en) | 2000-01-12 | 2003-12-30 | Schott Glas | Flat panel liquid-crystal display such as for a laptop computer |
| US6852658B2 (en) | 2000-01-12 | 2005-02-08 | Schott Glas | Flat panel liquid-crystal display, such as for a laptop computer |
| US6867158B2 (en) | 2000-01-12 | 2005-03-15 | Schott Glas | Flat panel liquid-crystal display such as for a laptop computer |
| DE10064804C2 (de) * | 2000-12-22 | 2003-03-20 | Schott Glas | Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und ihre Verwendung |
| DE10064804A1 (de) * | 2000-12-22 | 2002-07-11 | Schott Glas | Alkalifreie Aluminoborosilicatgläser und ihre Verwendung |
| DE10114581C2 (de) * | 2001-03-24 | 2003-03-27 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und Verwendungen |
| DE10114581A1 (de) * | 2001-03-24 | 2002-10-10 | Schott Glas | Alkalifreies Aluminoborosilicatglas und Verwendungen |
| DE102006016256B4 (de) * | 2006-03-31 | 2013-12-12 | Schott Ag | Aluminoborosilikatglas und dessen Verwendung |
| JP2007008812A (ja) * | 2006-09-21 | 2007-01-18 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 無アルカリガラス基板 |
| WO2009090013A1 (de) * | 2008-01-17 | 2009-07-23 | Schott Ag | Alkalifreies glas |
| CN103261110A (zh) * | 2010-11-30 | 2013-08-21 | 康宁股份有限公司 | 用作触摸屏基板的玻璃制品/材料 |
| WO2012074953A1 (en) * | 2010-11-30 | 2012-06-07 | Corning Incorporated | Glass articles/materials for use as touchscreen substrates |
| WO2013047586A1 (ja) * | 2011-09-30 | 2013-04-04 | ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 | フラットパネルディスプレイ用ガラス基板 |
| JPWO2013047586A1 (ja) * | 2011-09-30 | 2015-03-26 | ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 | フラットパネルディスプレイ用ガラス基板 |
| JP2013142048A (ja) * | 2012-01-11 | 2013-07-22 | Sharp Corp | 無アルカリガラスを原料とするゼオライトの製造方法、ａ型ゼオライトおよびそれを用いた成形体、水浄化剤、土壌改質剤、保肥剤 |
| US11168018B2 (en) | 2013-08-15 | 2021-11-09 | Corning Incorporated | Aluminoborosilicate glass substantially free of alkali oxides |
| USRE49307E1 (en) | 2013-08-15 | 2022-11-22 | Corning Incorporated | Alkali-doped and alkali-free boroaluminosilicate glass |
| US12134580B2 (en) | 2013-08-15 | 2024-11-05 | Corning Incorporated | Aluminoborosilicate glass substantially free of alkali oxides |
| JP2023155455A (ja) * | 2018-11-14 | 2023-10-20 | Ａｇｃ株式会社 | 高周波デバイス用ガラス基板、液晶アンテナ及び高周波デバイス |
| US12344554B2 (en) | 2018-11-14 | 2025-07-01 | AGC Inc. | Glass substrate for high frequency device, liquid crystal antenna and high frequency device |
| JP2022088298A (ja) * | 2020-12-02 | 2022-06-14 | 台湾玻璃工業股▲ふん▼有限公司 | 低熱膨張係数を有するガラス組成物及びそのガラス繊維 |
| WO2025249285A1 (ja) * | 2024-05-31 | 2025-12-04 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス基板、支持ガラス基板、積層体、積層体の製造方法及び半導体パッケージの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3666608B2 (ja) | 2005-06-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3858293B2 (ja) | 無アルカリガラス基板 | |
| JP3666608B2 (ja) | 無アルカリガラス基板 | |
| JP3666610B2 (ja) | 無アルカリガラス基板 | |
| JP2990379B2 (ja) | 無アルカリガラス基板 | |
| KR100262116B1 (ko) | 무알칼리유리기판 | |
| JP3396835B2 (ja) | アルカリ金属を含有しないアルミノ硼珪酸ガラスとその用途 | |
| JPWO1997011920A1 (ja) | 無アルカリガラス基板 | |
| EP0607865B1 (en) | High liquidus viscosity glasses for flat panel displays | |
| US4994415A (en) | SiO2 -Al2 O3 -BaO glass substrates with improved chemical resistance for use in display panels and others having thin films | |
| JP3083586B2 (ja) | 無アルカリガラス | |
| US5326730A (en) | Barium aluminosilicate glasses | |
| TW555715B (en) | Alkali-free glass and glass plate for a display | |
| JP3144823B2 (ja) | 無アルカリガラス | |
| CA2314295C (en) | Alkali-free aluminoborosilicate glass, its use and process for its preparation | |
| JP3800657B2 (ja) | 無アルカリガラスおよびフラットディスプレイパネル | |
| JP4305817B2 (ja) | 無アルカリガラス基板 | |
| TWI900260B (zh) | 玻璃 | |
| JP2001151534A (ja) | 液晶ディスプレイ用ガラス基板 | |
| JPH05193980A (ja) | 高アルミナ、アルカリ土類ホウケイ酸塩ガラスを含むフラットパネル表示装置 | |
| CN115667165B (zh) | 无碱玻璃板 | |
| JPH10139467A (ja) | 無アルカリガラス及びフラットディスプレイパネル | |
| JPH10130034A (ja) | 無アルカリガラス及びその製造方法 | |
| JP2002029776A (ja) | 耐クラック性に優れた無アルカリガラス | |
| JP2707625B2 (ja) | ディスプレイ基板用無アルカリガラス | |
| JP4789058B2 (ja) | 無アルカリガラス基板 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041224 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050221 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050317 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050330 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080415 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090415 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090415 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100415 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100415 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110415 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110415 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130415 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140415 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |