JPH08303676A - 除害処理配管 - Google Patents
除害処理配管Info
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- JPH08303676A JPH08303676A JP11050895A JP11050895A JPH08303676A JP H08303676 A JPH08303676 A JP H08303676A JP 11050895 A JP11050895 A JP 11050895A JP 11050895 A JP11050895 A JP 11050895A JP H08303676 A JPH08303676 A JP H08303676A
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- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 除害処理装置にガスを略一定流量で送るよう
にした除害処理配管を簡単かつ安価なものとする。 【構成】 本発明は、ガスを除害処理装置側に略一定流
量で流入するようにした除害処理配管において、管路内
に圧力調整弁（レギュレータバルブ）とオリフィスを直
列に配管し、除害処理装置に送るようにした除害処理配
管である。
にした除害処理配管を簡単かつ安価なものとする。 【構成】 本発明は、ガスを除害処理装置側に略一定流
量で流入するようにした除害処理配管において、管路内
に圧力調整弁（レギュレータバルブ）とオリフィスを直
列に配管し、除害処理装置に送るようにした除害処理配
管である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体の製造過程で使
用したガスを除害処理装置に排出するための除害処理配
管に関するものである。
用したガスを除害処理装置に排出するための除害処理配
管に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体の製造過程においては、有毒で爆
発性を有する危険な反応ガスが多種使用されている。こ
れらのガスは、使用後は除害処理装置に送って除害処理
をした後、外部に排出している。
発性を有する危険な反応ガスが多種使用されている。こ
れらのガスは、使用後は除害処理装置に送って除害処理
をした後、外部に排出している。
【０００３】例えば、図５に示す除害処理配管がある。
ここでガスＡは、通常はバルブＶ1を開、バルブＶ2を閉
とし反応炉等の半導体製造装置Ｆ側に供給している。し
かし、その後ガスＡが無くなってボンベを交換すると
き、あるいは他のガスに交換する必要が生じたとき等
は、管路ｈ（タンクの元弁からバルブＶ2までの間）に
残ったガスＡを除害して排出する必要がある。この時は
バルブＶ1を閉、バルブＶ2，Ｖ3を開とするが、管路ｈ
の残圧はボンベ内圧と同じ略150kgf/cm2と高圧であるか
ら一旦バッファタンクＢで圧力を減圧緩和している。ま
た真空吸引装置ＤによってガスＡを除害処理装置Ｅ内へ
導入している。
ここでガスＡは、通常はバルブＶ1を開、バルブＶ2を閉
とし反応炉等の半導体製造装置Ｆ側に供給している。し
かし、その後ガスＡが無くなってボンベを交換すると
き、あるいは他のガスに交換する必要が生じたとき等
は、管路ｈ（タンクの元弁からバルブＶ2までの間）に
残ったガスＡを除害して排出する必要がある。この時は
バルブＶ1を閉、バルブＶ2，Ｖ3を開とするが、管路ｈ
の残圧はボンベ内圧と同じ略150kgf/cm2と高圧であるか
ら一旦バッファタンクＢで圧力を減圧緩和している。ま
た真空吸引装置ＤによってガスＡを除害処理装置Ｅ内へ
導入している。
【０００４】ところが、この除害処理装置Ｅには時間当
りの処理能力があるから一度に大量のガスを送っても能
力オーバーとなり処理しきれないし、このまま送り続け
ると効率が落ちることもある。かと言って、バルブＶ3
等を絞って少量のガスを送るようにしては逆に処理時間
がかかり過ぎて能率が悪い。従って、単純には除害処理
装置Ｅの最大処理能力分の流量を一定に流すということ
が好ましい。そこで、従来はマスフローコントローラＣ
を用いてガスＡを最適流量にコントロールした上で除害
処理装置Ｅに送るようにしていた。
りの処理能力があるから一度に大量のガスを送っても能
力オーバーとなり処理しきれないし、このまま送り続け
ると効率が落ちることもある。かと言って、バルブＶ3
等を絞って少量のガスを送るようにしては逆に処理時間
がかかり過ぎて能率が悪い。従って、単純には除害処理
装置Ｅの最大処理能力分の流量を一定に流すということ
が好ましい。そこで、従来はマスフローコントローラＣ
を用いてガスＡを最適流量にコントロールした上で除害
処理装置Ｅに送るようにしていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】マスフローコントロー
ラＣは、大きく分けて熱式質量流量計と流量制御弁及び
制御回路部の三要素からなっている。熱式質量流量計は
極めて小径のセンサパイプを利用したものであるし、ま
た、流量制御弁の弁体，弁座の開閉量も微少（ミクロン
オーダー）である。両者は流量制御の上で重要な構成で
あるが、一方でガスＡは主に反応性の強いガスであるか
ら反応生成物を発生しやすく、特に上記したセンサパイ
プ内や開閉弁部にこれが生成し、詰まることがある。特
にセンサーパイプは数ミクロン狭くなっても流量制御に
直接影響するからマスフローコントローラＣの流量は変
化し、除害処理装置Ｅに送る流量が変動（過流量となる
ことが多い）するという問題がある。
ラＣは、大きく分けて熱式質量流量計と流量制御弁及び
制御回路部の三要素からなっている。熱式質量流量計は
極めて小径のセンサパイプを利用したものであるし、ま
た、流量制御弁の弁体，弁座の開閉量も微少（ミクロン
オーダー）である。両者は流量制御の上で重要な構成で
あるが、一方でガスＡは主に反応性の強いガスであるか
ら反応生成物を発生しやすく、特に上記したセンサパイ
プ内や開閉弁部にこれが生成し、詰まることがある。特
にセンサーパイプは数ミクロン狭くなっても流量制御に
直接影響するからマスフローコントローラＣの流量は変
化し、除害処理装置Ｅに送る流量が変動（過流量となる
ことが多い）するという問題がある。
【０００６】また、一般にマスフローコントローラは高
価であるから低コストの配管系を構成するには好ましく
ない。
価であるから低コストの配管系を構成するには好ましく
ない。
【０００７】本発明は、上記の問題点を解決するもの
で、反応生成物が原因で流量変動が起るようなことがな
く、極めて効率的で安価な除害処理配管を提供すること
を目的とする。
で、反応生成物が原因で流量変動が起るようなことがな
く、極めて効率的で安価な除害処理配管を提供すること
を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、ガスを除害処
理装置側に略一定流量で流入するようにした除害処理配
管において、管路内に圧力調整弁（レギュレータバル
ブ）とオリフィスを直列に配管し、除害処理装置に送る
ようにした除害処理配管である。
理装置側に略一定流量で流入するようにした除害処理配
管において、管路内に圧力調整弁（レギュレータバル
ブ）とオリフィスを直列に配管し、除害処理装置に送る
ようにした除害処理配管である。
【０００９】そして、上記圧力調整弁の一次側には、ガ
スボンベ側の高圧ガスを一旦減圧する減圧緩和手段を設
け、前記オリフィスの二次側には真空吸引手段を設けて
も良い。また、上記圧力調整弁とオリフィスは１つの弁
本体内に組合せることが望ましい。
スボンベ側の高圧ガスを一旦減圧する減圧緩和手段を設
け、前記オリフィスの二次側には真空吸引手段を設けて
も良い。また、上記圧力調整弁とオリフィスは１つの弁
本体内に組合せることが望ましい。
【００１０】
【作用】上記圧力調整弁（レギュレータバルブ以下同
じ）は、高圧の一次側圧力の変動に対応して二次側圧力
すなわちオリフィスの入口側圧力を低圧一定にするよう
に働く。またオリフィスの出口側は除害処理装置、また
は真空ポンプ等に接続されておりその圧力はほぼ一定で
ある。従って、オリフィスの前後は略一定差圧となり略
一定のガス流量を除害処理装置側へ送り出すことができ
る。
じ）は、高圧の一次側圧力の変動に対応して二次側圧力
すなわちオリフィスの入口側圧力を低圧一定にするよう
に働く。またオリフィスの出口側は除害処理装置、また
は真空ポンプ等に接続されておりその圧力はほぼ一定で
ある。従って、オリフィスの前後は略一定差圧となり略
一定のガス流量を除害処理装置側へ送り出すことができ
る。
【００１１】圧力調整弁の一次側の圧力は徐々に降下す
るが、この調整弁はいわゆる自力式であるから一旦二次
側圧力を設定すれば途中の制御は必要なく、一次側と二
次側の圧力差がなくなるまで設定圧が得られるように機
能するので扱いやすい。また、この圧力調整弁の品種や
仕様は多種類あるし、オリフィスも容易に手に入る。従
って、これら圧力調整弁の設定圧力やオリフィス径を適
宜選定すれば、各々の除害処理装置の処理能力や状況に
応じて、効率的な流量を選定してより短時間内で除害処
理を終えることができる。
るが、この調整弁はいわゆる自力式であるから一旦二次
側圧力を設定すれば途中の制御は必要なく、一次側と二
次側の圧力差がなくなるまで設定圧が得られるように機
能するので扱いやすい。また、この圧力調整弁の品種や
仕様は多種類あるし、オリフィスも容易に手に入る。従
って、これら圧力調整弁の設定圧力やオリフィス径を適
宜選定すれば、各々の除害処理装置の処理能力や状況に
応じて、効率的な流量を選定してより短時間内で除害処
理を終えることができる。
【００１２】尚、圧力調整弁やオリフィスにも反応生成
物が生じることは避けられないが、ミクロンオーダーの
生成ぐらいでは機能的に問題にならない。そして、配管
系が簡素で構成部品自身の価格が安価であるから低コス
トの除害処理配管となる。
物が生じることは避けられないが、ミクロンオーダーの
生成ぐらいでは機能的に問題にならない。そして、配管
系が簡素で構成部品自身の価格が安価であるから低コス
トの除害処理配管となる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図１は、除害処理配管の一例を示す配管図、図２
は同じく他の実施例を示す配管図である。尚、図４に示
した配管例と同様の構成については同一符号を付した。
先ず、図１より除害処理配管の概要は従来と同様である
が、バルブＶ3の下流側にレギュレータバルブRV1とオリ
フィスＯ1を直列に配管接続し、その下流側に除害処理
装置Ｅを直結したものである。レギュレータバルブRVは
自力式圧力調整弁で、ここでは高圧対応型の減圧弁（１
次圧250kgf/cm2，２次圧−76cmHg〜３kgf/cm2）を用い
ている。
する。図１は、除害処理配管の一例を示す配管図、図２
は同じく他の実施例を示す配管図である。尚、図４に示
した配管例と同様の構成については同一符号を付した。
先ず、図１より除害処理配管の概要は従来と同様である
が、バルブＶ3の下流側にレギュレータバルブRV1とオリ
フィスＯ1を直列に配管接続し、その下流側に除害処理
装置Ｅを直結したものである。レギュレータバルブRVは
自力式圧力調整弁で、ここでは高圧対応型の減圧弁（１
次圧250kgf/cm2，２次圧−76cmHg〜３kgf/cm2）を用い
ている。
【００１４】この圧力調整弁は高圧の一次側圧力の変動
に対応して二次側圧力を減圧して、ある一定の圧力にな
るように設定できるようになっている。オリフィスＯ1
も市販のものを利用でき、レギュレータバルブを通って
一定圧力に下がったガスを定流量で除害処理装置Ｅに流
すようになっている。従って、管路ｈに残ったガスＡは
バルブＶ1を介して設定圧に減圧され、オリフィスＯ1を
通過して一定流量で除害処理装置Ｅに送られる。
に対応して二次側圧力を減圧して、ある一定の圧力にな
るように設定できるようになっている。オリフィスＯ1
も市販のものを利用でき、レギュレータバルブを通って
一定圧力に下がったガスを定流量で除害処理装置Ｅに流
すようになっている。従って、管路ｈに残ったガスＡは
バルブＶ1を介して設定圧に減圧され、オリフィスＯ1を
通過して一定流量で除害処理装置Ｅに送られる。
【００１５】次に図２は、他の実施例を示すが除害処理
配管の概要は上記と同様である。しかし、上記例ではオ
リフィスの開度や流量によっては、レギュレータバルブ
の二次側の圧力がかなり低い値となる可能性があり、レ
ギュレータバルブだけで、二次側の圧力を安定してコン
トロールすることが困難になる場合がある。これを防止
するため、図２ではレギュレータバルブの一次側、詳し
くはバルブＶ2とＶ3の間にガスボンベ側の高圧ガスを一
旦減圧緩和する手段、例えばバッファタンクＢを設け、
圧力を下げて二次側圧力の安定化を可能としている。
配管の概要は上記と同様である。しかし、上記例ではオ
リフィスの開度や流量によっては、レギュレータバルブ
の二次側の圧力がかなり低い値となる可能性があり、レ
ギュレータバルブだけで、二次側の圧力を安定してコン
トロールすることが困難になる場合がある。これを防止
するため、図２ではレギュレータバルブの一次側、詳し
くはバルブＶ2とＶ3の間にガスボンベ側の高圧ガスを一
旦減圧緩和する手段、例えばバッファタンクＢを設け、
圧力を下げて二次側圧力の安定化を可能としている。
【００１６】オリフィスＯ2は、上記例と同様の働きを
なし、このオリフィスＯ2の二次側に真空吸引手段とな
るバキュームジェネレータＤを設け、オリフィスＯ2の
前後の差圧がより一定になるようになし、一定流量のガ
スを除害処理装置Ｅに送るようにしている。Ｐ1，Ｐ2は
レギュレータバルブRV2の一次側と二次側の圧力で圧力
計を設けこれを取り出せるようにしておいても良い。
なし、このオリフィスＯ2の二次側に真空吸引手段とな
るバキュームジェネレータＤを設け、オリフィスＯ2の
前後の差圧がより一定になるようになし、一定流量のガ
スを除害処理装置Ｅに送るようにしている。Ｐ1，Ｐ2は
レギュレータバルブRV2の一次側と二次側の圧力で圧力
計を設けこれを取り出せるようにしておいても良い。
【００１７】以上によって管路ｈに残ったガスＡは、バ
ルブＶ1を閉、バルブＶ2及びＶ3を開とすると、高圧の
ガスはバッファタンクＢで減圧されて、レギュレータバ
ルブRV2に導入され、これによって設定圧に減圧され、
オリフィスＯ2を通過して一定流量でバキュームジェネ
レータＤを介して除害処理装置Ｅに送られる。
ルブＶ1を閉、バルブＶ2及びＶ3を開とすると、高圧の
ガスはバッファタンクＢで減圧されて、レギュレータバ
ルブRV2に導入され、これによって設定圧に減圧され、
オリフィスＯ2を通過して一定流量でバキュームジェネ
レータＤを介して除害処理装置Ｅに送られる。
【００１８】図３に示すレギュレータバルブRV3は、継
手Ｇ内にオリフィスＯ3を内装し、この継手Ｇをバルブ
の接続口にねじ込み溶接して組込んだもので、レギュレ
ータバルブを構成する１つの弁本体に一体的にオリフィ
スを組合せた例である。このようにすればさらに配管系
が簡素かつコンパクトにまとまるので都合が良い。
手Ｇ内にオリフィスＯ3を内装し、この継手Ｇをバルブ
の接続口にねじ込み溶接して組込んだもので、レギュレ
ータバルブを構成する１つの弁本体に一体的にオリフィ
スを組合せた例である。このようにすればさらに配管系
が簡素かつコンパクトにまとまるので都合が良い。
【００１９】次に、この除害処理配管について実験を行
った。その結果を図４(a),(b)に示す。 〔実験例１〕図２に示す除害処理配管（但しガスタンク
ＡとバルブＶ1及び除害処理装置Ｅは除いている。）に
ついて、Ｎ2を用いてバッファタンクＢ内にPB＝10kgf/c
m2，500ccを封入し、オリフィスＯ2の二次側流量Ｑをマ
スフローメーターで測定した。この時の流量Ｑと時間Ｔ
及びレギュレータバルブRV2の一次側圧力Ｐ1と時間Ｔと
の特性を測定した。尚、レギュレータバルブRV2の二次
側設定圧力Ｐ2は74Torr，オリフィスＯ2のオリフィス径
はφ0.5mmであった。この時の結果を図４(a)に示す。こ
のように二次側流量Ｑ＝2.3ｌ/minを約130秒間にわたっ
て一定に流し、バッファタンク内のＮ2をほぼ一定流量
で流し切ることができた。
った。その結果を図４(a),(b)に示す。 〔実験例１〕図２に示す除害処理配管（但しガスタンク
ＡとバルブＶ1及び除害処理装置Ｅは除いている。）に
ついて、Ｎ2を用いてバッファタンクＢ内にPB＝10kgf/c
m2，500ccを封入し、オリフィスＯ2の二次側流量Ｑをマ
スフローメーターで測定した。この時の流量Ｑと時間Ｔ
及びレギュレータバルブRV2の一次側圧力Ｐ1と時間Ｔと
の特性を測定した。尚、レギュレータバルブRV2の二次
側設定圧力Ｐ2は74Torr，オリフィスＯ2のオリフィス径
はφ0.5mmであった。この時の結果を図４(a)に示す。こ
のように二次側流量Ｑ＝2.3ｌ/minを約130秒間にわたっ
て一定に流し、バッファタンク内のＮ2をほぼ一定流量
で流し切ることができた。
【００２０】〔実験例２〕次に、オリフィスＯ2を変え
て上記と同様の実験データを採った。但し、レギュレー
タバルブRV2の二次側設定圧力Ｐ2は710Torr,オリフィス
Ｏ2のオリフィス径はφ0.32mmとした。この時の結果を
図４(b)に示す。この場合には二次側流量Ｑを、ほぼ500
cc/minと一定とすることができ、これを約550秒間流し
続けてほぼ全量を流し切ることができた。上記２例と
も、得られた流量特性は従来のマスフローコントローラ
を使用した時の特性とほぼ同等である。
て上記と同様の実験データを採った。但し、レギュレー
タバルブRV2の二次側設定圧力Ｐ2は710Torr,オリフィス
Ｏ2のオリフィス径はφ0.32mmとした。この時の結果を
図４(b)に示す。この場合には二次側流量Ｑを、ほぼ500
cc/minと一定とすることができ、これを約550秒間流し
続けてほぼ全量を流し切ることができた。上記２例と
も、得られた流量特性は従来のマスフローコントローラ
を使用した時の特性とほぼ同等である。
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、簡単な部品構成で効率
的かつ安価な除害処理配管を提供することができた。
的かつ安価な除害処理配管を提供することができた。
【図１】 本発明の除害処理配管の実施例を示す配管図
である。
である。
【図２】 本発明の除害処理配管の他の実施例を示す配
管図である。
管図である。
【図３】 レギュレータバルブとオリフィスを組合せた
例を示す一部断面図である。
例を示す一部断面図である。
【図４】 本発明による除害処理配管の性能試験データ
で、一次側圧力と時間及び二次側流量と時間の特性線図
である。
で、一次側圧力と時間及び二次側流量と時間の特性線図
である。
【図５】 従来の除害処理配管の一例を示す配管図であ
る。
る。
Ａ…ガス Ｂ…バッファータ
ンク Ｃ…マスフローコントローラ Ｄ…バキュームジ
ェネレータ Ｅ…除害処理装置 Ｆ…半導体製造装
置 Ｏ…オリフィス Ｖ…開閉弁 RV…レギュレータバルブ Ｇ…継手
ンク Ｃ…マスフローコントローラ Ｄ…バキュームジ
ェネレータ Ｅ…除害処理装置 Ｆ…半導体製造装
置 Ｏ…オリフィス Ｖ…開閉弁 RV…レギュレータバルブ Ｇ…継手
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川島 正治 三重県桑名市大福２番地日立金属株式会社 桑名工場内 (72)発明者 松岡 亨 三重県桑名市大福２番地日立金属株式会社 桑名工場内 (72)発明者 石川 誠 三重県桑名市大福２番地日立金属株式会社 桑名工場内
Claims (3)
- 【請求項１】 ガスを除害処理装置側に略一定流量で流
すようにした除害処理配管において、管路内に圧力調整
弁とオリフィスを直列に配管し、前記除害処理装置に送
るようにしたことを特徴とする除害処理配管。 - 【請求項２】 前記圧力調整弁の一次側には、ガスボン
ベ側の高圧ガスを一旦減圧する減圧緩和手段を備え、前
記オリフィスの二次側には真空吸引手段を備えたことを
特徴とする請求項１記載の除害処理配管。 - 【請求項３】 前記圧力調整弁とオリフィスを１つの弁
本体内に組合せたことを特徴とする請求項１又は２記載
の除害処理配管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11050895A JPH08303676A (ja) | 1995-05-09 | 1995-05-09 | 除害処理配管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11050895A JPH08303676A (ja) | 1995-05-09 | 1995-05-09 | 除害処理配管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08303676A true JPH08303676A (ja) | 1996-11-22 |
Family
ID=14537563
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11050895A Pending JPH08303676A (ja) | 1995-05-09 | 1995-05-09 | 除害処理配管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08303676A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0980701A1 (en) * | 1998-08-20 | 2000-02-23 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Gas recovery unit |
| JP2023178657A (ja) * | 2022-06-06 | 2023-12-18 | ライオンハイジーン株式会社 | 発泡洗浄機 |
-
1995
- 1995-05-09 JP JP11050895A patent/JPH08303676A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0980701A1 (en) * | 1998-08-20 | 2000-02-23 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Gas recovery unit |
| JP2023178657A (ja) * | 2022-06-06 | 2023-12-18 | ライオンハイジーン株式会社 | 発泡洗浄機 |
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