JPH0831013A - 光記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
光記録媒体及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH0831013A JPH0831013A JP6158475A JP15847594A JPH0831013A JP H0831013 A JPH0831013 A JP H0831013A JP 6158475 A JP6158475 A JP 6158475A JP 15847594 A JP15847594 A JP 15847594A JP H0831013 A JPH0831013 A JP H0831013A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical recording
- recording medium
- protective layer
- dielectric layer
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】紫外線硬化樹脂等の有機保護層を第二の誘電体
層上にスピンコート法により形成する際、放射状の被覆
されない部分や部分的な波打ち状の塗布むらが発生する
のを防止し、耐久性に優れた光記録媒体を提供する。 【構成】未硬化の状態で測定した場合、25℃における粘
度が 80 cps （センチポイズ）以下の紫外線硬化型樹脂
で有機保護層を形成する。
層上にスピンコート法により形成する際、放射状の被覆
されない部分や部分的な波打ち状の塗布むらが発生する
のを防止し、耐久性に優れた光記録媒体を提供する。 【構成】未硬化の状態で測定した場合、25℃における粘
度が 80 cps （センチポイズ）以下の紫外線硬化型樹脂
で有機保護層を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光信号を高速、高密度
に記録、再生する光記録膜を誘電体層で挟んだ構造をと
る光磁気記録媒体を保護し、紫外線によって硬化する紫
外線硬化樹脂組成物に関するものである。
に記録、再生する光記録膜を誘電体層で挟んだ構造をと
る光磁気記録媒体を保護し、紫外線によって硬化する紫
外線硬化樹脂組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】高密度に情報を蓄積することができる光
記録媒体は、大容量外部メモリーとしてその普及が期待
されているが、このうち光ディスクは高速に再生するこ
とが可能であるということでコンピュータの外部メモリ
ーとして注目されている。情報の蓄積方法や大きさが異
なる数々の種類の光記録媒体が提案されているが、この
なかで直径5.25インチのサイズでは１回のみ情報の書き
込みが可能であるライトワンスタイプ及び情報の書換え
が可能である光磁気タイプが、また、直径3.5 インチの
サイズでは再生専用であるＲＯＭタイプと光磁気タイプ
及び光磁気とＲＯＭの混在しているパーシャルＲＯＭタ
イプが、ＩＳＯ規格により標準化されており、今後更に
広く市場に普及するものと予想されている。また、最近
では、ＣＤ−Ｒ（ライトワンスタイプのコンパクトディ
スク）やＭＤ（ミニディスク）が登場しており、今後の
動向が注目されている。
記録媒体は、大容量外部メモリーとしてその普及が期待
されているが、このうち光ディスクは高速に再生するこ
とが可能であるということでコンピュータの外部メモリ
ーとして注目されている。情報の蓄積方法や大きさが異
なる数々の種類の光記録媒体が提案されているが、この
なかで直径5.25インチのサイズでは１回のみ情報の書き
込みが可能であるライトワンスタイプ及び情報の書換え
が可能である光磁気タイプが、また、直径3.5 インチの
サイズでは再生専用であるＲＯＭタイプと光磁気タイプ
及び光磁気とＲＯＭの混在しているパーシャルＲＯＭタ
イプが、ＩＳＯ規格により標準化されており、今後更に
広く市場に普及するものと予想されている。また、最近
では、ＣＤ−Ｒ（ライトワンスタイプのコンパクトディ
スク）やＭＤ（ミニディスク）が登場しており、今後の
動向が注目されている。
【０００３】これらの光ディスクには、記録再生装置の
光ピックアップからのレーザービームによる情報マーク
を整然と並べる為の、即ちトラッキングのためのガイド
が、凹または凸の溝の形で、ディスクの内周から外周へ
向けてスパイラル状に形成されている。この溝のことを
ガイド溝と呼ぶ。更にガイド溝について詳しく説明する
ならば、ＩＳＯ規格においても定義されているように、
光ピックアップから見た場合に凹になる部分、つまり遠
方になる部分はランドと呼ばれ、ピックアップから見た
場合に凸になる部分、つまり近くになる部分はグルーブ
と呼ばれる。情報は、ランドまたはグルーブのどちらか
に記録される。ランドに記録される場合はランド記録方
式と呼ばれ、グルーブに記録される場合はグルーブ記録
方式と呼ばれる。情報を記録する経路をトラックとい
う。トラックの中心から隣りのトラックの中心までを、
トラックピッチと呼んでいる。
光ピックアップからのレーザービームによる情報マーク
を整然と並べる為の、即ちトラッキングのためのガイド
が、凹または凸の溝の形で、ディスクの内周から外周へ
向けてスパイラル状に形成されている。この溝のことを
ガイド溝と呼ぶ。更にガイド溝について詳しく説明する
ならば、ＩＳＯ規格においても定義されているように、
光ピックアップから見た場合に凹になる部分、つまり遠
方になる部分はランドと呼ばれ、ピックアップから見た
場合に凸になる部分、つまり近くになる部分はグルーブ
と呼ばれる。情報は、ランドまたはグルーブのどちらか
に記録される。ランドに記録される場合はランド記録方
式と呼ばれ、グルーブに記録される場合はグルーブ記録
方式と呼ばれる。情報を記録する経路をトラックとい
う。トラックの中心から隣りのトラックの中心までを、
トラックピッチと呼んでいる。
【０００４】基板の材料としてはガラス或いは合成樹脂
が使用されているが、ガラス基板は製造コストが高く、
また、割れ易い等の安全性の問題からポリメチルメタク
リレートやポリカーボネートなどの合成樹脂を用いるの
が一般的である。これらの基板の上に真空蒸着法やスパ
ッタリング法等を用いて保護層、記録層、保護層の順に
形成し、更にその上に有機物による保護層を形成するの
が一般的である。
が使用されているが、ガラス基板は製造コストが高く、
また、割れ易い等の安全性の問題からポリメチルメタク
リレートやポリカーボネートなどの合成樹脂を用いるの
が一般的である。これらの基板の上に真空蒸着法やスパ
ッタリング法等を用いて保護層、記録層、保護層の順に
形成し、更にその上に有機物による保護層を形成するの
が一般的である。
【０００５】第二の誘電体層としては、SiO2, Al2O3 等
の酸化物、Si3N4,AlN 等の窒化物、更にSiC 等の炭化物
等が考えられるが、このうち酸化物は自身の化合物内に
酸素を含むため記録媒体が酸化され易い光磁気記録媒体
のような物質に対してはその耐久性に影響を与えると考
えられる。従って、このような場合には酸化物を使用し
ないのが一般的である。
の酸化物、Si3N4,AlN 等の窒化物、更にSiC 等の炭化物
等が考えられるが、このうち酸化物は自身の化合物内に
酸素を含むため記録媒体が酸化され易い光磁気記録媒体
のような物質に対してはその耐久性に影響を与えると考
えられる。従って、このような場合には酸化物を使用し
ないのが一般的である。
【０００６】また、特にSi3N4 （窒化シリコン）は透湿
性が小さいことや製造し易い等優れた特質を有している
ので、誘電体層として使用することは望ましい。第二の
誘電体層の上には、更に有機保護層を積層することで記
録媒体に傷や汚れが付くのを防ぐ。積層の方法として
は、その製造効率の良さからスピンコート法が最良の方
法とされている。
性が小さいことや製造し易い等優れた特質を有している
ので、誘電体層として使用することは望ましい。第二の
誘電体層の上には、更に有機保護層を積層することで記
録媒体に傷や汚れが付くのを防ぐ。積層の方法として
は、その製造効率の良さからスピンコート法が最良の方
法とされている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、窒化シリコ
ンを第二の誘電体層として積層した上に紫外線硬化樹脂
等の有機保護層をスピンコート法により形成しようとす
ると、第二の誘電体層上に有機材料が被覆された部分の
中に被覆されない部分が放射状に発生したり、また全体
が被覆されていても部分的に波打ち状の塗布むらが生じ
易いという問題があった。
ンを第二の誘電体層として積層した上に紫外線硬化樹脂
等の有機保護層をスピンコート法により形成しようとす
ると、第二の誘電体層上に有機材料が被覆された部分の
中に被覆されない部分が放射状に発生したり、また全体
が被覆されていても部分的に波打ち状の塗布むらが生じ
易いという問題があった。
【０００８】このような塗布むらが生じると、外観が悪
いだけでなく、空気中の水分や酸素に直に暴露された
り、あるいはこれらが侵入し易くなったりすること、ま
た、その後の貼り合わせ工程の際に記録層が損傷を受け
ること等、耐久性に影響を与える問題を生じていた。本
発明の目的はこれらの問題点を解決することにある。
いだけでなく、空気中の水分や酸素に直に暴露された
り、あるいはこれらが侵入し易くなったりすること、ま
た、その後の貼り合わせ工程の際に記録層が損傷を受け
ること等、耐久性に影響を与える問題を生じていた。本
発明の目的はこれらの問題点を解決することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】かかる問題点の解決のた
め本発明は鋭意研究の結果、その有機材料の粘度の違い
によりスピンコートのされ具合が大きく影響を受けるこ
と、そして、有機材料は、その粘度が未硬化の状態で測
定した場合、25℃において 80 cps （センチポイズ）以
下の紫外線硬化型樹脂である場合に、良好に有機保護層
が形成できることを見出し、本発明をなすに至った。
め本発明は鋭意研究の結果、その有機材料の粘度の違い
によりスピンコートのされ具合が大きく影響を受けるこ
と、そして、有機材料は、その粘度が未硬化の状態で測
定した場合、25℃において 80 cps （センチポイズ）以
下の紫外線硬化型樹脂である場合に、良好に有機保護層
が形成できることを見出し、本発明をなすに至った。
【００１０】従って、本発明は、「少なくとも片面に微
細な凹凸を有する基板の、前記微細な凹凸を有する面上
に、第一の誘電体層、光記録層、及び第二の誘電体層を
順次積層し、更にその上に有機保護層を積層してなる光
記録媒体において、前記有機保護層は未硬化の状態で測
定した場合、25℃における粘度が 80 cps （センチポイ
ズ）以下の紫外線硬化型樹脂であることを特徴とする光
記録媒体」を提供するものである。
細な凹凸を有する基板の、前記微細な凹凸を有する面上
に、第一の誘電体層、光記録層、及び第二の誘電体層を
順次積層し、更にその上に有機保護層を積層してなる光
記録媒体において、前記有機保護層は未硬化の状態で測
定した場合、25℃における粘度が 80 cps （センチポイ
ズ）以下の紫外線硬化型樹脂であることを特徴とする光
記録媒体」を提供するものである。
【００１１】
【作用】光記録層は単層であっても、また、多層で構成
されていてもよい。第一、第二の誘電体層及び光記録層
はスパッタリング法で形成されるのが一般的である。第
二の誘電体層としては、酸化物、窒化物、炭化物等が考
えられるが、このうち窒化シリコンは特に適している。
されていてもよい。第一、第二の誘電体層及び光記録層
はスパッタリング法で形成されるのが一般的である。第
二の誘電体層としては、酸化物、窒化物、炭化物等が考
えられるが、このうち窒化シリコンは特に適している。
【００１２】第二の誘電体層の上に有機保護層を形成す
る方法としては、スピンコート法が優れている。この場
合、使用する有機材料は、25℃における粘度が 80 cps
（センチポイズ）以下であるような紫外線硬化型樹脂で
あることが要求され、スピンコートの条件としては、第
二の誘電体層上に吐出した有機材料の振り切り回転数が
500rpm 以下であることが望ましい。
る方法としては、スピンコート法が優れている。この場
合、使用する有機材料は、25℃における粘度が 80 cps
（センチポイズ）以下であるような紫外線硬化型樹脂で
あることが要求され、スピンコートの条件としては、第
二の誘電体層上に吐出した有機材料の振り切り回転数が
500rpm 以下であることが望ましい。
【００１３】プラスチック基板としては、ポリメチルメ
タクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（Ｐ
Ｃ）、ポリオレフィンの一種等の熱可塑性樹脂がよく使
用されるが、稀にガラスも使用される。
タクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（Ｐ
Ｃ）、ポリオレフィンの一種等の熱可塑性樹脂がよく使
用されるが、稀にガラスも使用される。
【００１４】
【実施例】以下、実施例により本発明をより具体的に説
明するが、本発明はこれに限られるものではない。ま
ず、射出成形法によりトラッキング用グルーブを有する
外径130mm 、内径10mm、厚さ1.2mm のポリカーボネート
樹脂基板を用意した。この基板上全面に、第１の誘電体
層として窒化シリコンを70nmの厚さに形成し、その上
に、DyFeCoの光磁気記録層を50nmの厚さに形成し、更に
その上に第２の誘電体層として窒化シリコンを70nmの厚
さに形成した。以上の層は全てスパッタリングにて形成
した。
明するが、本発明はこれに限られるものではない。ま
ず、射出成形法によりトラッキング用グルーブを有する
外径130mm 、内径10mm、厚さ1.2mm のポリカーボネート
樹脂基板を用意した。この基板上全面に、第１の誘電体
層として窒化シリコンを70nmの厚さに形成し、その上
に、DyFeCoの光磁気記録層を50nmの厚さに形成し、更に
その上に第２の誘電体層として窒化シリコンを70nmの厚
さに形成した。以上の層は全てスパッタリングにて形成
した。
【００１５】次に、第２の誘電体層の上に、アクリレー
ト系紫外線硬化型樹脂をスピンコート法により塗布後、
30秒間紫外線を照射して硬化させることにより有機保護
層を形成した。使用した紫外線硬化樹脂の25℃における
粘度、スピンコート時の振り切り回転数、及びそれらの
条件の結果としての塗布状態を表１に示す。25℃におけ
る粘度が 80 cps 以下であれば塗布むらが発生すること
なく有機保護層を形成できることがわかる。
ト系紫外線硬化型樹脂をスピンコート法により塗布後、
30秒間紫外線を照射して硬化させることにより有機保護
層を形成した。使用した紫外線硬化樹脂の25℃における
粘度、スピンコート時の振り切り回転数、及びそれらの
条件の結果としての塗布状態を表１に示す。25℃におけ
る粘度が 80 cps 以下であれば塗布むらが発生すること
なく有機保護層を形成できることがわかる。
【００１６】なお、振り切りはそれぞれの回転数を 10
秒間維持することで行った。また、塗布表面状態におい
て、塗布むらの生じた状態を図１に示す。
秒間維持することで行った。また、塗布表面状態におい
て、塗布むらの生じた状態を図１に示す。
【００１７】
【表１】
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
塗布むらが発生することなく有機保護層が形成できるの
で、信頼性の高い光記録媒体が提供できる。
塗布むらが発生することなく有機保護層が形成できるの
で、信頼性の高い光記録媒体が提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 塗布むらの状態を説明する説明図である。
１・・・塗布されなかった部分 ２・・・波状塗布むら 以 上
Claims (1)
- 【請求項１】 少なくとも片面に微細な凹凸を有する基
板の、前記微細な凹凸を有する面上に、第一の誘電体
層、光記録層、及び第二の誘電体層を順次積層し、更に
その上に有機保護層を積層してなる光記録媒体におい
て、 前記有機保護層は未硬化の状態で測定した場合、25℃に
おける粘度が 80 cps（センチポイズ）以下の紫外線硬
化型樹脂であることを特徴とする光記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6158475A JPH0831013A (ja) | 1994-07-11 | 1994-07-11 | 光記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6158475A JPH0831013A (ja) | 1994-07-11 | 1994-07-11 | 光記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0831013A true JPH0831013A (ja) | 1996-02-02 |
Family
ID=15672558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6158475A Pending JPH0831013A (ja) | 1994-07-11 | 1994-07-11 | 光記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0831013A (ja) |
-
1994
- 1994-07-11 JP JP6158475A patent/JPH0831013A/ja active Pending
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