JPH07169105A - 光ディスクの製造方法 - Google Patents
光ディスクの製造方法Info
- Publication number
- JPH07169105A JPH07169105A JP5310291A JP31029193A JPH07169105A JP H07169105 A JPH07169105 A JP H07169105A JP 5310291 A JP5310291 A JP 5310291A JP 31029193 A JP31029193 A JP 31029193A JP H07169105 A JPH07169105 A JP H07169105A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- coating
- speed
- hot
- melt adhesive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】ホットメルト型接着剤の塗布ムラを低減して、
接着力を高めることで、耐久性に優れた光ディスクの製
造方法を提供する。 【構成】ホットメルト型接着剤の樹脂層を塗布する塗布
ローラーの外周速度と基板搬送用コンベア速度の比を
７：１〜１７：１とする。
接着力を高めることで、耐久性に優れた光ディスクの製
造方法を提供する。 【構成】ホットメルト型接着剤の樹脂層を塗布する塗布
ローラーの外周速度と基板搬送用コンベア速度の比を
７：１〜１７：１とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ディスクの製造方法
のうち、記録膜を形成した基板上にホットメルト型接着
剤を塗布する方法に関する。
のうち、記録膜を形成した基板上にホットメルト型接着
剤を塗布する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】高密度に情報を蓄積することができる光
記録媒体は、大容量外部メモリーとしてその普及が期待
されているが、このうち光ディスクは高速に再生するこ
とが可能であるということでコンピュータの外部メモリ
ーとして注目されている。情報の蓄積方法や大きさが異
なる数々の種類の光記録媒体が提案されているが、この
なかで直径5.25インチのサイズでは１回のみ情報の書き
込みが可能であるライトワンスタイプ及び情報の書換え
が可能である光磁気タイプが、また、直径3.5 インチの
サイズでは再生専用であるＲＯＭタイプと光磁気タイプ
及び光磁気とＲＯＭの混在しているパーシャルＲＯＭタ
イプが、ＩＳＯ規格により標準化されており、今後更に
広く市場に普及するものと予想されている。
記録媒体は、大容量外部メモリーとしてその普及が期待
されているが、このうち光ディスクは高速に再生するこ
とが可能であるということでコンピュータの外部メモリ
ーとして注目されている。情報の蓄積方法や大きさが異
なる数々の種類の光記録媒体が提案されているが、この
なかで直径5.25インチのサイズでは１回のみ情報の書き
込みが可能であるライトワンスタイプ及び情報の書換え
が可能である光磁気タイプが、また、直径3.5 インチの
サイズでは再生専用であるＲＯＭタイプと光磁気タイプ
及び光磁気とＲＯＭの混在しているパーシャルＲＯＭタ
イプが、ＩＳＯ規格により標準化されており、今後更に
広く市場に普及するものと予想されている。
【０００３】また、最近ではデジタルオーディオ分野に
おいても、光ディスクが応用され始めている。例えば、
２４〜４８トラックのデジタルマルチトラックレコーデ
ィングにおけるマスターソースとして、ライトワンスタ
イプの光ディスクや光磁気ディスクを使ったプレーヤー
が発売されている。このような専門家向けの製品以外に
一般消費者向け製品でも、ＣＤ−Ｒ（ライトワンスタイ
プのコンパクトディスク）やＭＤ（ミニディスク）が登
場しており、今後の動向が注目されている。
おいても、光ディスクが応用され始めている。例えば、
２４〜４８トラックのデジタルマルチトラックレコーデ
ィングにおけるマスターソースとして、ライトワンスタ
イプの光ディスクや光磁気ディスクを使ったプレーヤー
が発売されている。このような専門家向けの製品以外に
一般消費者向け製品でも、ＣＤ−Ｒ（ライトワンスタイ
プのコンパクトディスク）やＭＤ（ミニディスク）が登
場しており、今後の動向が注目されている。
【０００４】これらの光ディスクには、記録再生装置の
光ピックアップからのレーザービームによる情報マーク
を整然と並べる為の、即ちトラッキングのためのガイド
が、凹または凸の溝の形で、ディスクの内周から外周へ
向けてスパイラル状に形成されている。この溝のことを
ガイド溝と呼ぶ。更にガイド溝について詳しく説明する
ならば、ＩＳＯ規格においても定義されているように、
光ピックアップから見た場合に凹になる部分、つまり遠
方になる部分はランドと呼ばれ、ピックアップから見た
場合に凸になる部分、つまり近くになる部分はグルーブ
と呼ばれる。情報は、ランドまたはグルーブのどちらか
に記録される。ランドに記録される場合はランド記録方
式と呼ばれ、グルーブに記録される場合はグルーブ記録
方式と呼ばれる。情報を記録する経路をトラックとい
う。トラックの中心から隣りのトラックの中心までを、
トラックピッチと呼んでいる。
光ピックアップからのレーザービームによる情報マーク
を整然と並べる為の、即ちトラッキングのためのガイド
が、凹または凸の溝の形で、ディスクの内周から外周へ
向けてスパイラル状に形成されている。この溝のことを
ガイド溝と呼ぶ。更にガイド溝について詳しく説明する
ならば、ＩＳＯ規格においても定義されているように、
光ピックアップから見た場合に凹になる部分、つまり遠
方になる部分はランドと呼ばれ、ピックアップから見た
場合に凸になる部分、つまり近くになる部分はグルーブ
と呼ばれる。情報は、ランドまたはグルーブのどちらか
に記録される。ランドに記録される場合はランド記録方
式と呼ばれ、グルーブに記録される場合はグルーブ記録
方式と呼ばれる。情報を記録する経路をトラックとい
う。トラックの中心から隣りのトラックの中心までを、
トラックピッチと呼んでいる。
【０００５】基板の材料としては用の透明基板としては
ガラス或いは合成樹脂が使用されているが、ガラス基板
は、製造コストや、安全性等からポリメチルメタクリレ
ートやポリカーボネートなどの合成樹脂が用いるのが一
般的で、この上に真空蒸着法やスパッタリング法を用い
て保護膜、記録膜、保護膜が順に形成されている。ま
た、基板表面を、ゴミの付着、キズつき等から保護する
ため、基板表面に光透過性の有機保護膜を形成すること
もある。
ガラス或いは合成樹脂が使用されているが、ガラス基板
は、製造コストや、安全性等からポリメチルメタクリレ
ートやポリカーボネートなどの合成樹脂が用いるのが一
般的で、この上に真空蒸着法やスパッタリング法を用い
て保護膜、記録膜、保護膜が順に形成されている。ま
た、基板表面を、ゴミの付着、キズつき等から保護する
ため、基板表面に光透過性の有機保護膜を形成すること
もある。
【０００６】ところで、光ディスクには記録膜が形成さ
れた基板１枚で構成されているタイプのものと、２枚ま
たは保護用基板を貼り合わせたタイプのものとがある。
このうち、後者のものは、記録膜形成側を内側にして２
枚の基板を対向させて貼り合わせることにより、記録膜
の機械的な保護と耐環境性の向上が図られている。この
ような接着に使用可能な接着剤は多数の種類がある。例
えば、従来からよく用いられて来た紫外線硬化型接着剤
は、短時間の紫外線照射により迅速に硬化するので、工
程を簡素に構成できるが、記録膜は紫外線を透過しない
ので全面を接着することはできない。従って、耐久性に
優れた光ディスクを製造するには問題があった。また、
エポキシ樹脂等の熱硬化性接着剤は接着強度は充分であ
るものの、完全に硬化させるには十数時間〜数日を要す
るために生産性が悪いという問題があった。
れた基板１枚で構成されているタイプのものと、２枚ま
たは保護用基板を貼り合わせたタイプのものとがある。
このうち、後者のものは、記録膜形成側を内側にして２
枚の基板を対向させて貼り合わせることにより、記録膜
の機械的な保護と耐環境性の向上が図られている。この
ような接着に使用可能な接着剤は多数の種類がある。例
えば、従来からよく用いられて来た紫外線硬化型接着剤
は、短時間の紫外線照射により迅速に硬化するので、工
程を簡素に構成できるが、記録膜は紫外線を透過しない
ので全面を接着することはできない。従って、耐久性に
優れた光ディスクを製造するには問題があった。また、
エポキシ樹脂等の熱硬化性接着剤は接着強度は充分であ
るものの、完全に硬化させるには十数時間〜数日を要す
るために生産性が悪いという問題があった。
【０００７】これに対して、ホットメルト型接着剤は、
有機溶剤を含んでいないので記録層への悪影響がなく、
量産性に優れ、工程も簡素であることから、注目を浴び
るようになった。ホットメルト型接着剤による接着は、
記録膜を形成した基板の記録膜側に、加熱溶融したホッ
トメルト型接着剤をロールコーターによりロールコート
（塗布）し、同様に処理した貼り合わせる相手の基板と
塗布面同志を接した後加圧して接着を行ううものであ
る。
有機溶剤を含んでいないので記録層への悪影響がなく、
量産性に優れ、工程も簡素であることから、注目を浴び
るようになった。ホットメルト型接着剤による接着は、
記録膜を形成した基板の記録膜側に、加熱溶融したホッ
トメルト型接着剤をロールコーターによりロールコート
（塗布）し、同様に処理した貼り合わせる相手の基板と
塗布面同志を接した後加圧して接着を行ううものであ
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかし、実際にホット
メルト型接着剤をロールコーターで塗布する際、しばし
ば、基板が溶融しているホットメルト型接着剤の粘性に
より塗布ローラーに巻き込まれかけるという問題があっ
た。この場合、基板上に塗布されたホットメルト型接着
剤表面にはスリップ跡が認められ、横縞状の塗布ムラが
生じていた。このような基板同士を貼り合わせて光ディ
スクを製造した後、８０℃、８５％ＲＨの加速試験を行
うと、接着部において剥離が生じる確率が高く、光ディ
スクの寿命が問題になることもわかった。
メルト型接着剤をロールコーターで塗布する際、しばし
ば、基板が溶融しているホットメルト型接着剤の粘性に
より塗布ローラーに巻き込まれかけるという問題があっ
た。この場合、基板上に塗布されたホットメルト型接着
剤表面にはスリップ跡が認められ、横縞状の塗布ムラが
生じていた。このような基板同士を貼り合わせて光ディ
スクを製造した後、８０℃、８５％ＲＨの加速試験を行
うと、接着部において剥離が生じる確率が高く、光ディ
スクの寿命が問題になることもわかった。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意研究の結
果、塗布ローラーの外周速度（または回転数）と基板を
搬送するコンベア速度の速度比をある範囲に調整するこ
とにより、基板が溶融しているホットメルト型接着剤の
粘性により塗布ローラーに巻き込まれかけ、これによっ
て塗布ムラが発生するという問題を解決できることを見
出し、本発明をなすに至った。
果、塗布ローラーの外周速度（または回転数）と基板を
搬送するコンベア速度の速度比をある範囲に調整するこ
とにより、基板が溶融しているホットメルト型接着剤の
粘性により塗布ローラーに巻き込まれかけ、これによっ
て塗布ムラが発生するという問題を解決できることを見
出し、本発明をなすに至った。
【００１０】従って、本発明は、「基板上に記録膜を形
成した後、該記録膜上に有機保護膜を形成し、更に該有
機保護膜上にホットメルト型接着剤を塗布し、別の基板
を貼り合わせる光ディスクの製造方法において、前期ホ
ットメルト型接着剤の樹脂層を塗布する塗布ローラーの
外周速度と基板搬送用コンベア速度の比が７：１〜１
７：１であることを特徴とする光ディスクの製造方法」
を提供するものである。
成した後、該記録膜上に有機保護膜を形成し、更に該有
機保護膜上にホットメルト型接着剤を塗布し、別の基板
を貼り合わせる光ディスクの製造方法において、前期ホ
ットメルト型接着剤の樹脂層を塗布する塗布ローラーの
外周速度と基板搬送用コンベア速度の比が７：１〜１
７：１であることを特徴とする光ディスクの製造方法」
を提供するものである。
【００１１】
【作用】ロールコーターは図１に示すように、主に塗布
ローラーとアンダーローラー及び基板を搬送するための
コンベアにより構成されている。基板が塗布ローラー上
のホットメルト型接着剤の粘性（タックネス）によって
塗布ローラー表面に巻き込まれるのは、基板が塗布ロー
ラーとアンダーローラーの間に進入し、基板上にホット
メルト型接着剤が略塗布され終えて排出されつつある時
である。塗布ローラー表面に巻き込まれた基板は自重に
よりローラー表面から剥がれ落ちる。即ち、ディスク基
板は、巻き込まれることで基板前方が上方に傾き、その
後自重により塗布ローラー表面から剥がれながら落下す
ることにより、塗布ムラが発生する。
ローラーとアンダーローラー及び基板を搬送するための
コンベアにより構成されている。基板が塗布ローラー上
のホットメルト型接着剤の粘性（タックネス）によって
塗布ローラー表面に巻き込まれるのは、基板が塗布ロー
ラーとアンダーローラーの間に進入し、基板上にホット
メルト型接着剤が略塗布され終えて排出されつつある時
である。塗布ローラー表面に巻き込まれた基板は自重に
よりローラー表面から剥がれ落ちる。即ち、ディスク基
板は、巻き込まれることで基板前方が上方に傾き、その
後自重により塗布ローラー表面から剥がれながら落下す
ることにより、塗布ムラが発生する。
【００１２】この現象は、塗布ローラー回転速度と基板
の通過速度の比に関係があり、塗布ローラーの回転数
（または外周速度）と搬送用のコンベア速度の比が７：
１〜１７：１の範囲で良好な塗膜が得られ、８：１〜１
３：１でより好ましい。速度比が７：１を下回ると、前
述のような巻き込み現象が起こり易く、速度比が１７：
１を上回ると巻き込み現象はないものの前後方向の塗布
ムラが増加する傾向がある。
の通過速度の比に関係があり、塗布ローラーの回転数
（または外周速度）と搬送用のコンベア速度の比が７：
１〜１７：１の範囲で良好な塗膜が得られ、８：１〜１
３：１でより好ましい。速度比が７：１を下回ると、前
述のような巻き込み現象が起こり易く、速度比が１７：
１を上回ると巻き込み現象はないものの前後方向の塗布
ムラが増加する傾向がある。
【００１３】以下、実施例により本発明をより具体的に
説明するが、本発明はこれに限られるものではない。
説明するが、本発明はこれに限られるものではない。
【００１４】
【実施例】直径 130 mm ( 5.25インチ) 、板厚 1.2 mm
の案内溝つきのポリカーボネート基板を用意した。その
基板の案内溝側に、Si3N4 の保護膜を 75 nmの厚さに、
TbFeCoの記録膜を 100 nm の厚さに、Si3N4 の保護膜を
75 nmの厚さにスパッタリング法により形成した。この
光ディスク基板の保護膜の上に紫外線硬化樹脂OVD-002
（日本化薬製）をスピンコートし、窒素置換後（酸素を
排出後）、高圧水銀ランプにより紫外線を１分間照射し
て硬化させた。この時点で、基板の厚さを測定してお
く。
の案内溝つきのポリカーボネート基板を用意した。その
基板の案内溝側に、Si3N4 の保護膜を 75 nmの厚さに、
TbFeCoの記録膜を 100 nm の厚さに、Si3N4 の保護膜を
75 nmの厚さにスパッタリング法により形成した。この
光ディスク基板の保護膜の上に紫外線硬化樹脂OVD-002
（日本化薬製）をスピンコートし、窒素置換後（酸素を
排出後）、高圧水銀ランプにより紫外線を１分間照射し
て硬化させた。この時点で、基板の厚さを測定してお
く。
【００１５】次に、ロールコーター R400T-DW （松下工
業製）を使用して光ディスク基板の記録膜側にホットメ
ルト型接着剤を塗布した。ホットメルト型接着剤はアロ
ンメルトPPET-XW-30（東亜合成製）を使用し、樹脂溶融
温度は 130℃とした。塗布ローラーの回転数は、100, 2
00, 400, 500, 600, 800 rpmとし、搬送用コンベア速度
は、25, 30, 35 cm/sec とした。塗布後のディスク基板
の厚さをデジタルマイクロメーター（ツガミ製）で測定
した。測定点は、送り方向に対して、前後左右の４点で
ある。その結果を表1 に示す。
業製）を使用して光ディスク基板の記録膜側にホットメ
ルト型接着剤を塗布した。ホットメルト型接着剤はアロ
ンメルトPPET-XW-30（東亜合成製）を使用し、樹脂溶融
温度は 130℃とした。塗布ローラーの回転数は、100, 2
00, 400, 500, 600, 800 rpmとし、搬送用コンベア速度
は、25, 30, 35 cm/sec とした。塗布後のディスク基板
の厚さをデジタルマイクロメーター（ツガミ製）で測定
した。測定点は、送り方向に対して、前後左右の４点で
ある。その結果を表1 に示す。
【００１６】表1 より、塗布ローラー回転速度と基板の
通過速度の比が、本発明の範囲に入っている場合には、
塗布ムラの小さな良好な接着が行われていることがわか
る。
通過速度の比が、本発明の範囲に入っている場合には、
塗布ムラの小さな良好な接着が行われていることがわか
る。
【００１７】
【発明の効果】本発明により、基板を貼り合わせるロー
ルコーターにより接着する工程において、塗布ローラー
の回転数または外周速度と搬送用コンベア速度を本発明
の範囲に制御することにより、塗布ムラを抑えることが
でき、その結果、信頼性の高い光ディスクを供給できる
ようになった。
ルコーターにより接着する工程において、塗布ローラー
の回転数または外周速度と搬送用コンベア速度を本発明
の範囲に制御することにより、塗布ムラを抑えることが
でき、その結果、信頼性の高い光ディスクを供給できる
ようになった。
【００１８】
【表１】
【図１】 本発明に係る光ディスクの製造装置の断面図
である。
である。
１……塗布ローラー ２……アンダーローラー ３……搬送用コンベア ４……タンク（加熱槽） ５……ホットメルト型接着剤 ６……基板 以 上
Claims (1)
- 【請求項１】 基板上に記録膜を形成した後、該記録膜
上に有機保護膜を形成し、更に該有機保護膜上にホット
メルト型接着剤を塗布し、別の基板を貼り合わせる光デ
ィスクの製造方法において、前期ホットメルト型接着剤
の樹脂層を塗布する塗布ローラーの外周速度と基板搬送
用コンベア速度の比が７：１〜１７：１であることを特
徴とする光ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5310291A JPH07169105A (ja) | 1993-12-10 | 1993-12-10 | 光ディスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5310291A JPH07169105A (ja) | 1993-12-10 | 1993-12-10 | 光ディスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07169105A true JPH07169105A (ja) | 1995-07-04 |
Family
ID=18003455
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5310291A Pending JPH07169105A (ja) | 1993-12-10 | 1993-12-10 | 光ディスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07169105A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7670447B2 (en) * | 2002-09-24 | 2010-03-02 | Dic Corporation | Method for applying adhesive to substrate, substrate, coating device, method for producing laminated object, and laminated object |
-
1993
- 1993-12-10 JP JP5310291A patent/JPH07169105A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7670447B2 (en) * | 2002-09-24 | 2010-03-02 | Dic Corporation | Method for applying adhesive to substrate, substrate, coating device, method for producing laminated object, and laminated object |
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