JPH08311070A - セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】新規セフェム化合物の提供。 【解決手段】式 【化１】 〔式中、Ｒ¹は保護されていてもよいＮＨ₂を、Ｒ²はＨ
又は炭素原子を介して結合する基を、Ａは置換されてい
もよい複素環基を、ＱはＮまたはＣＨを示す。〕で表さ
れる化合物またはそのエステルあるいはその塩。 【効果】前記化合物は幅広く優れた抗菌活性を示し、抗
菌剤として有用である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は優れた抗菌作用を有
する新規なセフェム化合物およびその製造法ならびに抗
菌組成物に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】セフェム系抗生物質は人および動物の病
原性細菌により生ずる疾病の治療に広く使用されてお
り、たとえばペニシリン系抗生物質に抵抗性を示す細菌
に起因する疾病の治療およびペニシリン感受性患者の治
療に特に有用である。その場合グラム陽性菌およびグラ
ム陰性菌の両者に活性を示すセフェム系抗生物質を用い
ることが望ましく、この理由から広い抗菌スペクトルを
持つセフェム系抗生物質の研究が盛んに行われてきた。
一方、セフェム骨格の３位にブタンジエニル基を有する
セフェム化合物ついては研究例が非常に少ない。たとえ
ば、リービッヒ アナーレン デア ケミー（Liebigs
Ann. Chem.）1992, 895-898には式

【化５】 で表されるセフェム化合物が記載されている。また、特
開平７−２８７１号公報には式

【化６】 〔式中、Ｒ¹は水素原子、アシル基又はアミノ基の保護
基を、Ｒ²は水素原子、エステル残基又はカルボキシル
保護基を示す。〕で表わされるセファロスポリン誘導体
又はその塩が開示されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】既知のセファロスポリ
ン類に耐性を示す一部のエシェリヒア・コリ菌、一部の
シトロバクター属およびインドール陽性のプロテウス
属、さらにエンテロバクター属、セラチア属あるいはシ
ュウドモナス属などに分類される病原性細菌に対して臨
床的に使用可能な抗菌活性を有する新規セフェム化合物
の開発が望まれている。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記事情
に鑑み、３位ブタンジエニル基を有する化合物につい
て、鋭意種々研究を重ねた結果、３位に置換されていて
もよい複素環ブタンジエニル基を有し、かつ７位に２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−，または２−
（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２−ヒドロキシ（または置換ヒドロキシ）イミノ
アセトアミド基を有することに化学構造上の特徴がある
新規セフェム化合物またはそのエステルあるいはその塩
を初めて合成し、さらにこの合成された新規化合物がこ
の特異な化学構造に基づいて予想外にも、グラム陽性菌
及びグラム陰性菌の両者に対して強い抗菌作用を有する
ことを見出し、これらに基づいて本発明を完成した。

【０００５】すなわち、本発明は、式〔I〕：

【化７】 〔式中、 Ｒ¹は保護されていてもよいアミノ基を、Ｒ²は
水素原子または炭素原子を介して結合する基を、Ａは置
換されていてもよい複素環を、Ｑは窒素原子またはＣＨ
基をそれぞれ示す〕で表されるセフェム化合物またはそ
のエステルあるいはその塩、およびその製造法ならびに
抗菌組成物に関するものである。本明細書におけるセフ
ェム化合物は「ザ・ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン
・ケミカル・ソサイエティ」第８４巻 ３４００頁（１
９６２）に記載されている「セフェム」に基づいて命名
された化合物群であり、セフェム化合物はセフェム化合
物のうち３，４−位に二重結合を有する化合物を意味す
る。化合物〔I〕にはセフェム環３位側鎖ブタジエニル
基の１位および３位における二重結合を中心として配位
する立体位置の相違に依存して、（１Ｅ，３Ｅ）異性
体、（１Ｅ，３Ｚ）異性体、（１Ｚ，３Ｅ）異性体およ
び（１Ｚ，３Ｚ）異性体がある。本発明化合物は、（１
Ｅ，３Ｅ）異性体、（１Ｅ，３Ｚ）異性体、（１Ｚ，３
Ｅ）異性体および（１Ｚ，３Ｚ）異性体またはそれらの
混合物を包含するものである。

【０００６】上記セフェム化合物〔I〕において置換基
Ｒ¹は保護されていてもよいアミノ基、すなわちアミノ
基または保護されたアミノ基を表わす。β−ラクタムお
よびペプチド合成分野ではアミノ基の保護基は充分に研
究されていてその保護法はすでに確立されており、本発
明においてもアミノ基の保護基としてはそれら公知のも
のが適宜に採用されうる。アミノ基の保護基としては、
たとえば、置換されていてもよいＣ_1-6アルカノイル
基，置換されていてもよいＣ_3-5アルケノイル基，置換
されていてもよいＣ_6-10アリール−カルボニル基，複素
環カルボニル基，置換されていてもよいＣ_1-10アルキル
スルホニル基，置換されていてもよいＣ_6-10アリールス
ルホニル基，置換オキシカルボニル基，置換されていて
もよいカルバモイル基，置換されていてもよいチオカル
バモイル基，置換されていてもよいＣ_6-10アリール−メ
チル基，置換されていてもよいジＣ_6-10アリール−メチ
ル基，置換されていてもよいトリＣ_6-10アリール−メチ
ル基，置換されていてもよいＣ_6-10アリール−メチレン
基，置換されていてもよいＣ_6-10アリールチオ基，置換
シリル基，２−Ｃ_1-10アルコキシ−カルボニル−１−メ
チル−１−エテニル基，式Ｍ'ＯＣＯ−〔式中、Ｍ'はア
ルカリ金属を示す。〕で表される基などが用いられる。

【０００７】「置換されていてもよいＣ_1-6アルカノイ
ル基」としてはたとえば、ハロゲン，オキソ，Ｃ_1-6ア
ルコキシ，Ｃ_1-6アルカノイル，Ｃ_6-10アリール，ハロ
ゲノＣ_6-10アリール，Ｃ_6-10アリールオキシ，ハロゲノ
Ｃ_6-10アリールオキシ，Ｃ_6-10アリールチオなどから選
ばれた１〜３個の置換基で置換されていてもよいＣ_1-6
アルカノイル基が用いられ、具体的にはたとえば、ホル
ミル，アセチル，プロピオニル，ブチリル，バレリル，
ピバロイル，サクシニル，グルタリル，モノクロロアセ
チル，ジクロロアセチル，トリクロロアセチル，モノブ
ロモアセチル，モノフルオロアセチル，ジフルオロアセ
チル，トリフルオロアセチル，モノヨードアセチル，ア
セトアセチル，３−オキソブチリル，４−クロロ−３−
オキソブチリル，フェニルアセチル，ｐ−クロロフェニ
ルアセチル，フェノキシアセチル，ｐ−クロロフェノキ
シアセチルなどが用いられる。「置換されていてもよい
Ｃ_3-5アルケノイル基」としてはたとえば、ハロゲン，
Ｃ_6-10アリールなどから選ばれた１〜３個の置換基で置
換されていてもよいＣ_3-5アルケノイル基が用いられ、
具体的にはたとえば、アクリロイル，クロトノイル，マ
レオイル，シンナモイル，ｐ−クロロシンナモイル，β
−フェニルシンナモイルなどが用いられる。「置換され
ていてもよいＣ_6-10アリール−カルボニル基」としては
たとえば、ハロゲン，ニトロ，ヒドロキシ，Ｃ_1-6アル
キル，Ｃ_1-6アルコキシなどから選ばれた１〜３個の置
換基で置換されていてもよいＣ_6-10アリール−カルボニ
ル基が用いられ、具体的にはたとえば、ベンゾイル，ナ
フトイル，フタロイル，ｐ−トルオイル，ｐ−tert−ブ
チルベンゾイル，ｐ−ヒドロキシベンゾイル，ｐ−メト
キシベンゾイル，ｐ−tert−ブトキシベンゾイル，ｐ−
クロロベンゾイル，ｐ−ニトロベンゾイルなどが用いら
れる。

【０００８】「複素環カルボニル基」における「複素環
基」は複素環の炭素原子に結合している水素原子を１個
とりのぞいてできる基をいい、そのような複素環はたと
えば、窒素原子（オキシド化されていてもよい），酸素
原子，硫黄原子などのヘテロ原子を１〜数個、好ましく
は１〜４個含む５〜８員環またはその縮合環をいう。こ
のような複素環基としては具体的には２−または３−ピ
ロリル；３−，４−または５−ピラゾリル；２−，４−
または５−イミダゾリル；１,２,３−または１,２,４−
トリアゾリル；１Ｈ−または２Ｈ−テトラゾリル；２−
または３−フリル；２−または３−チエニル；２−，４
−または５−オキサゾリル；３−，４−または５−イソ
キサゾリル；１,２,３−オキサジアゾール−４−イルま
たは１,２,３−オキサジアゾール−５−イル；１,２,４
−オキサジアゾール−３−イルまたは１,２,４−オキサ
ジアゾール−５−イル；１,２,５−または１,３,４−オ
キサジアゾリル；２−，４−または５−チアゾリル；３
−，４−または５−イソチアゾリル；１,２,３−チアジ
アゾール−４−イルまたは１,２,３−チアジアゾール−
５−イル；１,２,４−チアジアゾール−３−イルまたは
１,２,４−チアジアゾール−５−イル；１,２,５−また
は１,３,４−チアジアゾリル；２−または３−ピロリジ
ニル；２−，３−または４−ピリジル；２−，３−また
は４−ピリジル−Ｎ−オキシド；３−または４−ピリダ
ジニル；３−または４−ピリダジニル−Ｎ−オキシド；
２−，４−または５−ピリミジニル；２−，４−または
５−ピリミジニル−Ｎ−オキシド；ピラジニル；２−，
３−または４−ピペリジニル；ピペラジニル；３Ｈ−イ
ンドール−２−イルまたは３Ｈ−インドール−３−イ
ル；２−，３−または４−ピラニル；２−，３−または
４−チオピラニル；ベンゾピラニル；キノリル；ピリド
〔２,３−ｄ〕ピリミジル；１,５−，１,６−，１,７
−，１,８−，２,６−または２,７−ナフチリジル；チ
エノ〔２,３−ｄ〕ピリジル；ピリミドピリジル；ピラ
ジノキノリル；ベンゾピラニルなどが用いられる。「置
換されていてもよいＣ_1-10アルキルスルホニル基」とし
てはたとえば、ハロゲン，Ｃ_6-10アリール，Ｃ_6-10アリ
ールオキシなどから選ばれた１〜３個の置換基で置換さ
れていてもよいＣ_1-10アルキルスルホニル基が用いら
れ、具体的にはたとえばメタンスルホニル，エタンスル
ホニル，カンファースルホニルなどが用いられる。「置
換されていてもよいＣ_6-10アリールスルホニル基」とし
てはたとえば、ハロゲン，ニトロ，Ｃ_1-6アルキル，Ｃ
_1-6アルコキシなどから選ばれた１〜３個の置換基で置
換されていてもよいＣ_6-10アリールスルホニル基が用い
られ、具体的にはたとえば、ベンゼンスルホニル，ナフ
タレンスルホニル，ｐ−トルエンスルホニル，ｐ−tert
−ブチルベンゼンスルホニル，ｐ−メトキシベンゼンス
ルホニル，ｐ−クロロベンゼンスルホニル，ｐ−ニトロ
ベンゼンスルホニルなどが用いられる。

【０００９】「置換オキシカルボニル基」としてはたと
えば、Ｃ_1-10アルコキシ−カルボニル基（例、メトキシ
カルボニル，エトキシカルボニル，ｎ−プロポキシカル
ボニル，イソプロポキシカルボニル，ｎ−ブトキシカル
ボニル，tert−ブトキシカルボニル，シクロプロピルオ
キシカルボニル，シクロペンチルオキシカルボニル，シ
クロヘキシルオキシカルボニル，ノルボルニルオキシカ
ルボニル等），Ｃ_6-10アリールオキシ−カルボニル基
（例、フェノキシカルボニル，ナフチルオキシカルボニ
ル等）またはＣ_7-19アラルキルオキシ−カルボニル基
（例、ベンジルオキシカルボニル，ベンズヒドリルオキ
シカルボニル等）のほか、それらがさらにＣ_1-4アルコ
キシ基（例、メトキシ，エトキシ等），Ｃ_1-4アシル基
（例、アセチル，プロピオニル等），置換シリル基（後
記する置換シリル基、例、トリメチルシリル，tert−ブ
チルジメチルシリル等），Ｃ_1-4アルキルスルホニル基
（例、メタンスルホニル，エタンスルホニル等），ハロ
ゲン（例、フッ素，塩素，臭素等），シアノ，Ｃ_1-4ア
ルキル基（例、メチル，エチル等），ニトロ等から選ば
れる置換基を１〜３個有しているものも含まれる。具体
的には例えばメトキシメチルオキシカルボニル，アセチ
ルメチルオキシカルボニル，２−トリメチルシリルエト
キシカルボニル，２−メタンスルホニルエトキシカルボ
ニル，２,２,２−トリクロロエトキシカルボニル，２−
シアノエトキシカルボニル，ｐ−メチルフエノキシカル
ボニル，ｐ−メトキシフエノキシカルボニル，ｐ−クロ
ロフエノキシカルボニル，ｐ−メチルベンジルオキシカ
ルボニル，ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル，ｐ
−クロロベンジルオキシカルボニル，ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルなどが用いられる。「置換されてい
てもよいカルバモイル基」としてはたとえば、Ｃ_1-4ア
ルキル基（例、メチル，エチル等），フェニル基，Ｃ
_1-7アシル基（例、アセチル，プロピオニル，ベンゾイ
ル等），Ｃ_1-4アルコキシ−フェニル基（例、メトキシ
フェニル等）などから選ばれた１または２個の置換基で
置換されていてもよいカルバモイル基が用いられ、具体
的にはたとえば、Ｎ−メチルカルバモイル，Ｎ−エチル
カルバモイル，Ｎ,Ｎ−ジメチルカルバモイル，Ｎ,Ｎ−
ジエチルカルバモイル，Ｎ−フェニルカルバモイル，Ｎ
−アセチルカルバモイル，Ｎ−ベンゾイルカルバモイ
ル，Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）カルバモイルなどが
用いられる。「置換されていてもよいチオカルバモイル
基」としてはたとえば、Ｃ_1-4アルキル基（例、メチ
ル，エチル等），フェニル基などから選ばれた１または
２個の置換基で置換されていてもよいチオカルバモイル
基が用いられ、たとえば、チオカルバモイル，Ｎ−メチ
ルチオカルバモイル，Ｎ−フェニルチオカルバモイルな
どが用いられる。

【００１０】「置換されていてもよいＣ_6-10アリール−
メチル基」としてはたとえば、ハロゲン，ニトロ，Ｃ
_1-6アルキル，Ｃ_1-6アルコキシなどから選ばれた１〜３
個の置換基で置換されていてもよいＣ_6-10アリール−メ
チル基が用いられ、具体的にはたとえば、ベンジル，ナ
フチルメチル，ｐ−メチルベンジル，ｐ−メトキシベン
ジル，ｐ−クロロベンジル，ｐ−ニトロベンジルなどが
用いられる。「置換されていてもよいジＣ_6-10アリール
−メチル基」としてはたとえば、ハロゲン，ニトロ，Ｃ
_1-6アルキル，Ｃ_1-6アルコキシなどから選ばれた１〜３
個の置換基で置換されていてもよいジＣ_6-10アリール−
メチル基が用いられ、具体的にはたとえば、ベンズヒド
リル，ジ（ｐ−トリル）メチルなどが用いられる。「置
換されていてもよいトリＣ_6-10アリール−メチル基」と
してはたとえば、ハロゲン，ニトロ，Ｃ_1-6アルキル，
Ｃ_1-6アルコキシなどから選ばれた１〜３個の置換基で
置換されていてもよいトリＣ_6-10アリール−メチル基が
用いられ、具体的にはたとえば、トリチル，トリ（ｐ−
トリル）メチルなどが用いられる。「置換されていても
よいＣ_6-10アリール−メチレン基」としてはたとえば、
ハロゲン，ニトロ，Ｃ_1-6アルキル，Ｃ_1-6アルコキシな
どから選ばれた１〜３個の置換基で置換されていてもよ
いＣ_6-10アリール−メチレン基が用いられ、具体的には
たとえば、ベンジリデン，ｐ−メチルベンジリデン，ｐ
−クロロベンジリデンなどが用いられる。「置換されて
いてもよいＣ_6-10アリールチオ基」としてはたとえば、
ハロゲン，ニトロ，Ｃ_1-6アルキル，Ｃ_1-6アルコキシな
どから選ばれた１〜３個の置換基で置換されていてもよ
いＣ_6-10アリールチオ基が用いられ、具体的にはたとえ
ば、ｏ−ニトロフェニルチオなどが用いられる。

【００１１】「置換シリル基」は保護されるアミノ基と
あわさって式Ｒ⁴Ｒ⁵Ｒ⁶ＳiＮＨ−，(Ｒ⁴Ｒ⁵Ｒ⁶Ｓi)₂Ｎ
−または

【化８】 〔式中、Ｒ⁴,Ｒ⁵,Ｒ⁶,Ｒ⁷,Ｒ⁸,Ｒ⁷'およびＲ⁸'はそれぞ
れＣ_1-6アルキル基またはＣ_6-10アリール基を、Ｚ'はＣ
_1-3アルキレン基を示す〕で表わされるような基を形成
する。ここにおいて、「Ｃ_1-6アルキル基」としてはた
とえば、メチル，エチル，ｎ−プロピル，イソプロピ
ル，ｎ−ブチル，ｎ−ペンチルなど直鎖状または分枝状
のＣ_1-6アルキル基などが用いられる。「Ｃ_6-10アリー
ル基」としてはたとえば、フェニル，ナフチルなどが用
いられる。「Ｃ_1-3アルキレン基」としてはたとえば、
メチレン，エチレン，プロピレンなどが用いられる。
「置換シリル基」の好ましい例としてはたとえば、トリ
メチルシリル，tert−ブチルジメチルシリル，−Ｓi(Ｃ
Ｈ₃)₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓi(ＣＨ₃)₂−などが用いられる。「２
−Ｃ_1-10アルコキシ−カルボニル−１−メチル−１−エ
テニル基」のＣ_1-10アルコキシとしては、メトキシ，エ
トキシ，tert-ブトキシ, シクロヘキシルオキシなどの
直鎖状、分枝状または環状のＣ_1-10アルコキシが用いら
れ、２−Ｃ_1-10アルコキシ−カルボニル−１−メチル−
１−エテニル基として具体的にはたとえば、２−メトキ
シカルボニル−１−メチル−１−エテニル，２−エトキ
シカルボニル−１−メチル−１−エテニル，２−tert−
ブトキシカルボニル−１−メチル−１−エテニル，２−
シクロヘキシルオキシカルボニル−１−メチル−１−エ
テニル，２−ノルボルニルオキシカルボニル−１−メチ
ル−１−エテニルなどが用いられる。Ｍ'で示される「ア
ルカリ金属」としてはたとえば、ナトリウム，カリウム
などが好ましく、特にナトリウムなどが好ましい。Ｒ¹
は抗菌活性からみてアミノ基が好ましい。

【００１２】Ｒ²は水素原子または炭素原子を介して結
合する基を表す。Ｒ²で表される「炭素原子を介して結
合する基」としてはたとえば、置換されていてもよい炭
化水素基（例えば、置換されていてもよいアルキル基、
置換されていてもよいアルケニル基、置換されていても
よいアラルキル基、置換されていてもよい環状炭化水素
基）または炭素原子に結合手を有する置換されていても
よい非芳香族複素環基などが好ましく、特に、置換され
ていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケ
ニル基、置換されていてもよい環状炭化水素基などが好
ましい。「置換されていてもよいアルキル基」の「アル
キル基」としてはたとえば、メチル，エチル，ｎ−プロ
ピル，イソプロピル，ｎ−ブチル，イソブチル，sec−
ブチル，tert−ブチル，ｎ−ペンチル，ｎ−ヘキシルな
どのＣ_1-6アルキル基が好ましく、特にメチル，エチ
ル，イソプロピルなどが好ましい。「置換されていても
よいアルケニル基」の「アルケニル基」としてはたとえ
ば、ビニル，アリル，イソプロペニル，メタリル，１,
１−ジメチルアリル，２−ブテニル，３−ブテニルなど
のＣ_2-6アルケニル基などが好ましい。「置換されてい
てもよいアラルキル基」の「アラルキル基」はたとえ
ば、ベンジル，１−フェニルエチル，２−フェニルエチ
ル，フェニルプロピル，ナフチルメチル，ベンズヒドリ
ルなどのＣ_7-19アラルキル基が好ましい。「置換されて
いてもよい環状炭化水素基」の「環状炭化水素基」とし
てはたとえば、シクロプロピル，シクロブチル，シクロ
ペンチル，シクロヘキシル，シクロヘプチル，２−シク
ロペンテン−１−イル，３−シクロペンテン−１−イ
ル，２−シクロヘキセン−１−イル，３−シクロヘキセ
ン−１−イルなどの３〜７員非芳香族環状炭化水素基な
どが好ましく、特にシクロブチル、シクロペンチルなど
のＣ_3-7シクロアルキル基などが好ましい。「置換され
ていてもよい非芳香族複素環基」の「非芳香族複素環
基」としてはたとえば、オキシラニル、アゼチジニル、
オキセタニル、チエタニル、ピロリジニル、テトラヒド
ロフリル、チオラニル、ピペリジル、テトラヒドロピラ
ニル、モルホリニル、チオモルホリニルなどの炭素原子
以外に窒素原子，酸素原子，硫黄原子などのヘテロ原子
を１または２個含む３ないし６員非芳香族複素環基など
が好ましい。

【００１３】前記「炭化水素基」が有していてもよい置
換基としてはたとえば、複素環基，水酸基，Ｃ_1-6アル
コキシ基，Ｃ_3-7シクロアルキルオキシ基，Ｃ_6-10アリ
ールオキシ基，Ｃ_7-19アラルキルオキシ基，複素環オキ
シ基，メルカプト基，Ｃ_1-6アルキルチオ基，Ｃ_3-10シ
クロアルキルチオ基，Ｃ_6-10アリールチオ基，Ｃ_7-19ア
ラルキルチオ基，複素環チオ基，アミノ基，モノＣ_1-6
アルキルアミノ基，ジＣ_{1 -6}アルキルアミノ基，トリＣ
_1-6アルキルアンモニウム基，Ｃ_3-10シクロアルキルア
ミノ基，Ｃ_6-10アリールアミノ基，Ｃ_7-19アラルキルア
ミノ基，複素環アミノ基，環状アミノ基，アジド基，ニ
トロ基，ハロゲン原子，シアノ基，カルボキシル基，Ｃ
_1-10アルコキシ−カルボニル基，Ｃ_1-10アリールオキシ
−カルボニル基，Ｃ_7-19アラルキルオキシ−カルボニル
基，Ｃ_6-10アリール−カルボニル基，Ｃ_1-6アルカノイ
ル基，Ｃ_3-5アルケノイル基，Ｃ_6-10アリール−カルボ
ニルオキシ基，Ｃ_2-6アルカノイルオキシ基，Ｃ_3-5アル
ケノイルオキシ基，置換されていてもよいカルバモイル
基，置換されていてもよいチオカルバモイル基，置換さ
れていてもよいカルバモイルオキシ基，フタルイミド
基，Ｃ_1-6アルカノイルアミノ基，Ｃ_6-10アリール−カ
ルボニルアミノ基，Ｃ_1-10アルコキシ−カルボキサミド
基，Ｃ_6-10アリールオキシ−カルボキサミド基，Ｃ_7-19
アラルキルオキシ−カルボキサミド基などが挙げられ、
同一または異なって１ないし４個存在していてもよい。

【００１４】「炭化水素基」の置換基の具体例として
は、「Ｃ_1-6アルコキシ基」としてはたとえば、メトキ
シ，エトキシ，ｎ−プロポキシ，イソプロポキシ，ｎ−
ブトキシ，tert−ブトキシ，ｎ−ペンチルオキシ，ｎ−
ヘキシルオキシなどが、「Ｃ_3-10シクロアルキルオキシ
基」としてはたとえば、シクロプロピルオキシ，シクロ
ヘキシルオキシなどが、「Ｃ_6-10アリールオキシ基」と
してはたとえば、フェノキシ，ナフチルオキシなどが、
「Ｃ_7-19アラルキルオキシ基」としてはたとえば、ベン
ジルオキシ，１−フェニルエチルオキシ，２−フェニル
エチルオキシ，ベンズヒドリルオキシなどが、「Ｃ_1-6
アルキルチオ基」としてはたとえば、メチルチオ，エチ
ルチオ，ｎ−プロピルチオ，ｎ−ブチルチオなどが、
「Ｃ_3-10シクロアルキルチオ基」としてはたとえば、シ
クロプロピルチオ，シクロヘキシルチオなどが、「Ｃ
_6-10アリールチオ基」としてはたとえば、フェニルチ
オ，ナフチルチオなどが、「Ｃ_7-19アラルキルチオ基」
としてはたとえば、ベンジルチオ，フェニルエチルチ
オ，ベンズヒドリルチオなどが、「モノＣ_1-6アルキル
アミノ基」としてはたとえば、メチルアミノ，エチルア
ミノ，ｎ−プロピルアミノ，ｎ−ブチルアミノなどが、
「ジＣ_1-6アルキルアミノ基」としてはたとえば、ジメ
チルアミノ，ジエチルアミノ，メチルエチルアミノ，ジ
−（ｎ−プロピル）アミノ，ジ−（ｎ−ブチル）アミノ
などが、「トリＣ_1-6アルキルアンモニウム基」として
はたとえば、トリメチルアンモニウムなどが、「Ｃ_3-10
シクロアルキルアミノ基」としてはたとえば、シクロプ
ロピルアミノ，シクロペンチルアミノ，シクロヘキシル
アミノなどが、「Ｃ_6-10アリールアミノ基」としてはた
とえば、アニリノ，Ｎ−メチルアニリノなどが、「Ｃ
_7-19アラルキルアミノ基」としてはたとえば、ベンジル
アミノ，１−フェニルエチルアミノ，２−フェニルエチ
ルアミノ，ベンズヒドリルアミノなどが、「環状アミノ
基」としてはたとえば、ピロリジノ，ピペリジノ，ピペ
ラジノ，モルホリノ，１−ピロリルなどが、「ハロゲン
原子」としてはたとえば、フッ素，塩素，臭素，ヨウ素
などが、「Ｃ_1-10アルコキシ−カルボニル基」としては
たとえば、メトキシカルボニル，エトキシカルボニル，
ｎ−プロポキシカルボニル，イソプロポキシカルボニ
ル，ｎ−ブトキシカルボニル，イソブトキシカルボニ
ル，tert−ブトキシカルボニル，シクロペンチルオキシ
カルボニル，シクロヘキシルオキシカルボニル，ノルボ
ルニルオキシカルボニルなどが、「Ｃ_6-10アリールオキ
シ−カルボニル基」としてはたとえば、フェノキシカル
ボニル，ナフチルオキシカルボニルなどが、「Ｃ_7-19ア
ラルキルオキシ−カルボニル基」としてはたとえば、ベ
ンジルオキシカルボニル，ベンズヒドリルオキシカルボ
ニルなどが、「Ｃ_6-10アリール−カルボニル基」として
はたとえば、ベンゾイル，ナフトイル，フタロイル，フ
ェニルアセチルなどが、「Ｃ_1-6アルカノイル基」とし
てはたとえば、ホルミル，アセチル，プロピオニル，ブ
チリル，バレリル，ピバロイル，サクシニル，グルタリ
ルなどが、「Ｃ_3-5アルケノイル基」としてはたとえ
ば、アクリロイル，クロトノイル，マレオイルなどが、
「Ｃ_6-10アリール−カルボニルオキシ基」としてはたと
えば、ベンゾイルオキシ，ナフトイルオキシ，フェニル
アセトキシなどが、「Ｃ_2-6アルカノイルオキシ基」と
してはたとえば、アセトキシ，プロピオニルオキシ，ブ
チリルオキシ，バレリルオキシ，ピバロイルオキシなど
が、「Ｃ_3-5アルケノイルオキシ基」としてはたとえ
ば、アクリロイルオキシ，クロトノイルオキシなどがあ
げられる。「置換されていてもよいカルバモイル基」と
してはたとえば、Ｃ_1-4アルキル基（例、メチル，エチ
ル等），フェニル基，Ｃ_1-7アシル基（例、アセチル，
プロピオニル，ベンゾイル等），Ｃ_1-4アルコキシ−フ
ェニル基（例、メトキシフェニル等）などから選ばれた
１または２個の置換基で置換されていてもよいカルバモ
イル基および環状アミノカルボニル基などが用いられ、
具体的にはたとえば、カルバモイル，Ｎ−メチルカルバ
モイル，Ｎ−エチルカルバモイル，Ｎ,Ｎ−ジメチルカ
ルバモイル，Ｎ,Ｎ−ジエチルカルバモイル，Ｎ−フェ
ニルカルバモイル，Ｎ−アセチルカルバモイル，Ｎ−ベ
ンゾイルカルバモイル，Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）
カルバモイル，ピロリジノカルボニル，ピペリジノカル
ボニル，ピペラジノカルボニル，モルホリノカルボニル
などが用いられる。「置換されていてもよいチオカルバ
モイル基」としてはたとえば、Ｃ_1-4アルキル基（例、
メチル，エチル等），フェニル基などから選ばれた１ま
たは２個の置換基で置換されていてもよいチオカルバモ
イル基が用いられ、たとえば、チオカルバモイル，Ｎ−
メチルチオカルバモイル，Ｎ−フェニルチオカルバモイ
ルなどが用いられる。「置換されていてもよいカルバモ
イルオキシ基」はたとえば、Ｃ_1-4アルキル基（例、メ
チル，エチル等），フェニル基などから選ばれた１また
は２個の置換基で置換されていてもよいカルバモイルオ
キシ基が用いられ、具体的にはたとえば、カルバモイル
オキシ，Ｎ−メチルカルバモイルオキシ，Ｎ,Ｎ−ジメ
チルカルバモイルオキシ，Ｎ−エチルカルバモイルオキ
シ，Ｎ−フェニルカルバモイルオキシなどが用いられ
る。また、「Ｃ_1-6アルカノイルアミノ基」としてはた
とえば、アセトアミド，プロピオンアミド，ブチロアミ
ド，バレロアミド，ピバロアミドなどが、「Ｃ_6-10アリ
ール−カルボニルアミノ基」としてはたとえば、ベンズ
アミド，ナフトイルアミド，フタルイミドなどが、「Ｃ
_1-10アルコキシ−カルボキサミド基」としてはたとえ
ば、メトキシカルボキサミド（ＣＨ₃ＯＣＯＮＨ−），
エトキシカルボキサミド，tert−ブトキシカルボキサミ
ドなどを、「Ｃ_6-10アリールオキシ−カルボキサミド
基」としてはたとえば、フェノキシカルボキサミド（Ｃ
₆Ｈ₅ＯＣＯＮＨ−）などが、「Ｃ_7-10アラルキルオキシ
−カルボキサミド基」としてはたとえば、ベンジルオキ
シカルボキサミド（Ｃ₆Ｈ₅ＣＨ₂ＯＣＯＮＨ−），ベン
ズヒドリルオキシカルボキサミドなどがあげられる。

【００１５】「炭化水素基」の置換基における複素環
基，複素環オキシ基，複素環チオ基および複素環アミノ
基の複素環基は複素環の炭素原子に結合している水素原
子を１個とりのぞいてできる基を表し、そのような複素
環は、たとえば窒素原子（オキシド化されていてもよ
い），酸素原子，硫黄原子などのヘテロ原子を１〜数
個、好ましくは１〜４個含む５〜８員環またはその縮合
環を示す。このような複素環基としては、たとえば２−
または３−ピロリル；３−，４−または５−ピラゾリ
ル；２−，４−または５−イミダゾリル；１,２,３−ま
たは１,２,４−トリアゾリル；１Ｈ−または２Ｈ−テト
ラゾリル；２−または３−フリル；２−または３−チエ
ニル；２−，４−または５−オキサゾリル；３−，４−
または５−イソキサゾリル；１,２,３−オキサジアゾー
ル−４−イルまたは１,２,３−オキサジアゾール−５−
イル；１,２,４−オキサジアゾール−３−イルまたは
１,２,４−オキサジアゾール−５−イル；１,２,５−ま
たは１,３,４−オキサジアゾリル；２−，４−または５
−チアゾリル；３−，４−または５−イソチアゾリル；
１,２,３−チアジアゾール−４−イルまたは１,２,３−
チアジアゾール−５−イル；１,２,４−チアジアゾール
−３−イルまたは１,２,４−チアジアゾール−５−イ
ル；１,２,５−または１,３,４−チアジアゾール；２−
または３−ピロリジニル；２−，３−または４−ピリジ
ル；２−，３−または４−ピリジル−Ｎ−オキシド；３
−または４−ピリダジニル；３−または４−ピリダジニ
ル−Ｎ−オキシド；２−，４−または５−ピリミジニ
ル；２−，４−または５−ピリミジニル−Ｎ−オキシ
ド；ピラジニル；２−，３−または４−ピペリジニル；
ピペラジニル；３Ｈ−インドール−２−イルまたは３Ｈ
−インドール−３−イル；２−，３−または４−ピラニ
ル；２−，３−または４−チオピラニル；ベンゾピラニ
ル；キノリル；ピリド〔２,３−ｄ〕ピリミジニル；１,
５−，１,６−，１,７−，１,８−，２,６−または２,
７−ナフチリジル；チエノ〔２,３−ｄ〕ピリジル；ピ
リミドピリジル；ピラジノキノリル；ベンゾピラニルな
どが挙げられる。

【００１６】前記「置換されていてもよいアルキル基」
の「アルキル基」、「置換されていてもよいアルケニル
基」の「アルケニル基」、「置換されていてもよいアラ
ルキル基」の「アラルキル基」および「置換されていて
もよい環状炭化水素基」の「環状炭化水素基」が有して
いてもよい置換基としては、たとえば前記「置換されて
いてもよい炭化水素基」の「炭化水素基」が有していて
もよい置換基と同様のものなどが用いられる。前記「置
換されていてもよい炭化水素基」の好ましいものとして
は、たとえば、水酸基，Ｃ_3-7シクロアルキル基（たと
えば、前記と同様のもの），Ｃ_1-6アルコキシ基（たと
えば、前記と同様のもの），Ｃ_1-6アルキルチオ基（た
とえば、前記と同様のもの），アミノ基，トリＣ_1-6ア
ルキルアンモニウム基（たとえば、前記と同様のも
の），ハロゲン原子（たとえば、前記と同様のもの），
カルボキシル基，Ｃ_1-10アルコキシカルボニル基（たと
えば、前記と同様のもの），置換されていてもよいカル
バモイル基，シアノ基，アジド基，複素環基（たとえ
ば、前記と同様のもの）などから選ばれた１ないし３個
の置換基で置換されたＣ_1-6アルキル基（Ｃ_1-6アルキル
基としては、たとえばメチル，エチル，ｎ−プロピル，
イソプロピルなどが用いられる）であり、それらを具体
的に挙げると、シクロプロピルメチル，メトキシメチ
ル，エトキシメチル，１−メトキシエチル，２−メトキ
シエチル，１−エトキシエチル，２−ヒドロキシエチ
ル，メチルチオメチル，２−アミノエチル，２−（トリ
メチルアンモニウム）エチル，２−（トリエチルアンモ
ニウム）エチル，フルオロメチル，ジフルオロメチル，
トリフルオロメチル，２−フルオロエチル，２,２−ジ
フルオロエチル，クロロメチル，２−クロロエチル，
２,２−ジクロロエチル，２,２,２−トリクロロエチ
ル，２−ブロモエチル，２−ヨードエチル，２,２,２−
トリフルオロエチル，カルボキシメチル，１−カルボキ
シエチル，２−カルボキシエチル，２−カルボキシプロ
ピル，３−カルボキシプロピル，１−カルボキシブチ
ル，シアノメチル，１−カルボキシ−１−メチルエチ
ル，メトキシカルボニルメチル，エトキシカルボニルメ
チル，tert−ブトキシカルボニルメチル，１−メトキシ
カルボニル−１−メチルエチル，１−エトキシカルボニ
ル−１−メチルエチル，１−tert−ブトキシカルボニル
−１−メチルエチル，１−ベンジルオキシカルボニル−
１−メチルエチル，１−ピバロイルオキシカルボニル−
１−メチルエチル，カルバモイルメチル，２−アジドエ
チル，２−（ピラゾリル）エチル，２−（イミダゾリ
ル）エチル，２−（２−オキソピロリジン−３−イル）
エチル，２−アミノ−４または５−チアゾリルメチル，
５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イルメチ
ル，１−カルボキシ−１−（２,３,４−トリヒドロキシ
フェニル）メチル，２−オキソ−３−ピロリジルなどが
挙げられる。前記した「炭化水素基」の置換基は１個に
限定されず、同一または異なって複数個（２ないし４
個）あってもよい。「置換されていてもよい炭化水素
基」のうち最も好ましいものはメチル，エチル，ｎ−プ
ロピル，イソプロピルなどの直鎖状及び分枝状のＣ_1-3
アルキル基およびフルオロメチル、２−フルオロエチ
ル，２−クロロエチル，２−ヒドロキシエチル，２−メ
トキシエチル，シアノメチル，カルボキシメチル，tert
−ブトキシカルボニルメチル，１−カルボキシ−１−メ
チルエチル，１−tert−ブトキシカルボニル−１−メチ
ルエチルなどのハロゲン原子，水酸基，Ｃ_1-6アルコキ
シ基，カルボキシル基，Ｃ_1-10アルコキシカルボニル
基，シアノ基で置換された直鎖状又は分枝状のＣ_1-3ア
ルキル基およびアリル基である。

【００１７】前記「炭素原子に結合手を有する置換され
ていてもよい非芳香族複素環基」の非芳香族複素環基と
しては、たとえばオキシラニル、アゼチジニル、オキセ
タニル、チエタニル、ピロリジニル、テトラヒドロフリ
ル、チオラニル、ピペリジル、テトラヒドロピラニル、
モルホリニル、チオモルホリニルなどの炭素原子以外に
窒素原子、酸素原子、硫黄原子などのヘテロ原子を１ま
たは２個含む３ないし６員非芳香族複素環基などが用い
られる。「炭素原子に結合手を有する置換されていても
よい非芳香族複素環基」の置換基としては、前記「置換
されていてもよい炭化水素基」において例示した炭化水
素基およびその置換基などがあげられる。Ｒ²として
は、とりわけ水素原子またはメチル、エチル等のＣ_1-6
アルキル基が好ましい。また本明細書においてＯＲ²基
はすべてシン配位(Ｚ配位)である。上記セフェム化合物
〔I〕において置換基Ａは置換されていてもよい複素環
基を表す。そのような複素環基としては窒素原子、酸素
原子、硫黄原子などのヘテロ原子を１〜４個含む５また
は６員複素環基などが好ましい。具体的には５員複素環
基としては、 2-フリル,3-フリル,2-チエニル,3-チエニ
ル,2-ピロリル,3-ピロリル,3-イソオキサゾリル,4-イソ
オキサゾリル,5-イソオキサゾリル,3-イソチアゾリル,4
-イソチアゾリル,5-イソチアゾリル,3-ピラゾリル,4-ピ
ラゾリル,5-ピラゾリル,2-オキサゾリル,4-オキサゾリ
ル,5-オキサゾリル,2-チアゾリル,4-チアソ゛リル,5-チアゾリ
ル,2-イミダゾリル,4-イミダゾリル,5-イミダゾリル,1,
2,3-オキサジアゾ-ル-4-イル,1,2,3-オキサジアゾ-ル-5
-イル,1,2,3-チアジアゾ-ル-4-イル,1,2,3-チアジアゾ-
ル-5-イル,1,2,3-トリアゾ-ル-4-イル,1,2,3-トリアゾ-
ル-5-イル,1,2,4-オキサジアゾ-ル-3-イル,1,2,4-オキ
サジアゾ-ル-5-イル,1,2,4-チアジアゾ-ル-3-イル,1,2,
4-チアジアゾ-ル-5-イル,1,2,4-トリアゾ-ル-3-イル,1,
2,4-トリアゾ-ル-5-イル,1,2,5-オキサジアゾ-ル-3-イ
ル,1,2,5-オキサジアゾ-ル-4-イル,1,2,5-チアジアゾ-
ル-3-イル,1,2,5-チアジアゾ-ル-4-イル,1,3,4-オキサ
ジアゾ-ル-2-イル,1,3,4-オキサジアゾ-ル-5-イル,1,3,
4-チアジアゾ-ル-2-イル,1,3,4-チアジアゾ-ル-5-イル,
テトラゾリル等である。６員複素環としては、 2-ピリジ
ル,3-ピリジル,4-ピリジル,3-ピリダジニル,4-ピリダジ
ニル,2-ピリミジニル,4-ピリミジニル,5-ピリミジニル,
ピラジニル,1,2,4-トリアジン-3-イル,1,2,4-トリアジ
ン-5-イル,1,2,4-トリアジン-6-イル,1,2,3-トリアジン
-4-イル,1,2,3-トリアジン-5-イル等があげられる。

【００１８】置換基Ａは複素環のいずれかの環構成炭素
原子に結合手を有する基である。また複素環基の結合手
を有する炭素原子以外の環構成原子上の水素原子は他の
置換基で置換されていてもよい。このような置換基とし
てはたとえば水酸基,Ｃ_1-4ヒドロキシアルキル基,Ｃ_1-6
アルキル基,Ｃ_2-6アルケニル基,Ｃ_2-6アルキニル基,Ｃ
_4-6アルカジエニル基,Ｃ_3-6シクロアルキル基,Ｃ_3-6シ
クロアルケニル基,Ｃ_3-6シクロアルキル−Ｃ_1-6アルキ
ル基,Ｃ_6-10アリール基,Ｃ_7-12アラルキル基,複素環基,
Ｃ_1-6アルコキシ基,Ｃ_1-6アルコキシ−Ｃ_1-4アルキル
基,Ｃ_3-6シクロアルキルオキシ基,Ｃ_6-10アリールオキ
シ基,Ｃ_7-12アラルキルオキシ基,メルカプト基,Ｃ_1-4メ
ルカプトアルキル基,スルホ基,Ｃ_1-4スルホアルキル基,
Ｃ_1-6アルキルチオ基,Ｃ_1-6アルキルチオ−Ｃ_1-4アルキ
ル基,Ｃ_3-6シクロアルキルチオ基,Ｃ_6-10アリールチオ
基,Ｃ_7-12アラルキルチオ基,Ｃ_2-4シアノアルキルチオ
基,アミノ基,Ｃ_1-4アミノアルキル基,モノＣ_1-4アルキ
ルアミノ基,ジＣ_1-4アルキルアミノ基,モノＣ_1-4アルキ
ルアミノ−Ｃ_1-4アルキル基,ジＣ_1-4アルキルアミノ−
Ｃ_1-4アルキル基,Ｃ_3-6シクロアルキルアミノ基,Ｃ_6-10
アリールアミノ基,Ｃ_7-12アラルキルアミノ基,環状アミ
ノ基,環状アミノ−Ｃ_1-4アルキル基,環状アミノ−Ｃ_1-4
アルキルアミノ基,アジド基,ニトロ基,ハロゲン原子,Ｃ
_1-4ハロゲノアルキル基,シアノ基,シアノ−Ｃ_1-4アルキ
ル基,カルボキシル基,カルボキシ−Ｃ_1-4アルキル基,Ｃ
_1-8アルコキシ−カルボニル基,Ｃ_1-8アルコキシ−カル
ボニル−Ｃ_1-4アルキル基,Ｃ_6-10アリールオキシ−カル
ボニル基,Ｃ_3-6シクロアルキルオキシ−カルボニル基,
Ｃ_7-12アラルキルオキシ−カルボニル基,Ｃ_6-10アリー
ル−カルボニル基,Ｃ_1-5アルカノイル基,Ｃ_2-5アルカノ
イル−Ｃ_1-4アルキル基,Ｃ_3-5アルケノイル基,Ｃ_6-10ア
リール−アシルオキシ基,Ｃ_2-5アルカノイルオキシ基,
Ｃ_2-5アルカノイルオキシ−Ｃ_1-4アルキル基,Ｃ_3-5アル
ケノイルオキシ基,カルバモイル基,カルバモイル−Ｃ
_1-4アルキル基,置換カルバモイル基,チオカルバモイル
基,置換チオカルバモイル基,カルバモイルオキシ基,カ
ルバモイルオキシ−Ｃ_1-4アルキル基,置換カルバモイル
オキシ基,フタルイミド基,Ｃ_2-5アルカノイルアミド基,
Ｃ_6-10アリール−アシルアミド基,スルホンアミド基,２
−アミノ−２−カルボキシエチル基,Ｃ_1-4アルコキシ−
カルボニルアミノ基,Ｃ_6-10アリールオキシ−カルボニ
ルアミノ基,Ｃ_7-12アラルキルオキシ−カルボニルアミ
ノ基などがあげられる。具体的にはＣ_1-4ヒドロキシア
ルキル基はヒドロキシメチル,２−ヒドロキシエチルな
どを、Ｃ_{1- 6}アルキル基はメチル,エチル,プロピル,イソ
プロピル,ブチル,イソブチル,sec−ブチル,tert−ブチ
ル,ペンチル,ヘキシルなどを、Ｃ_2-6アルケニル基はビ
ニル,アリル,イソプロペニル,メタリル,１,１−ジメチ
ルアリル,１−ブテニル,２−ブテニル,３−ブテニルな
どを、Ｃ_2-6アルキニル基はエチニル,１−プロピニル,
２−プロピニル,プロパルギルなどを、Ｃ_4-6アルカジエ
ニル基は１,３−ブタジエニルなどを、Ｃ_3-6シクロアル
キル基はシクロプロピル,シクロブチル,シクロペンチ
ル,シクロヘキシルなどを、Ｃ_3-6シクロアルケニル基は
１−シクロペンテニル,２−シクロペンテニル,３−シク
ロペンテニル,１−シクロヘキセニル,２−シクロヘキセ
ニル,３−シクロヘキセニル,１,４−シクロヘキサジエ
ニルなどを、Ｃ_3-6シクロアルキル−Ｃ_1-6アルキル基は
シクロペンチルメチル,シクロヘキシルメチルなどを、
Ｃ_6-10アリール基はフェニル,ナフチルなどを、Ｃ_7-12
アラルキル基はベンジル,フェネチルなどを、複素環基
は２−ピリジル,３−ピリジル,４−ピリジル,Ｎ−オキ
シド−２−ピリジル,Ｎ−オキシド−３−ピリジル,Ｎ−
オキシド−４−ピリジル,２−ピペリジニル,３−ピペリ
ジニル,４−ピペリジニル,ピペラジニル,２−ピラジニ
ル,２−ピリミジニル,４−ピリミジニル,５−ピリミジ
ニル,３−ピリダジニル,４−ピリダジニル,２−ピラニ
ル,３−ピラニル,４−ピラニル,２−チオピラニル,３−
チオピラニル,４−チオピラニル,３Ｈ−インドール−２
−イル,３Ｈ−インドール−３−イル,１,２,３−チアジ
アゾール−４−イル,１,２,４−チアジアゾール−５−
イル,１,２,４−チアジアゾール−３−イル,１,３,４−
チアジアゾリル,１,２,５−チアジアゾリル,１,２,３−
トリアゾリル,１,２,４−トリアゾリル,１Ｈ−テトラゾ
リル,ベンゾピラニル,２−フリル,３−フリル,２−チエ
ニル,３−チエニル,２−オキサゾリル,４−オキサゾリ
ル,５−オキサゾリル,２−チアゾリル,４−チアゾリル,
５−チアゾリル,３−イソキサゾリル,４−イソキサゾリ
ル,５−イソキサゾリル,３−イソチアゾリル,４−イソ
チアゾリル,５−イソチアゾリル,２−ピロリル,３−ピ
ロリル,２−ピロリジニル,３−ピロリジニル,１−イミ
ダゾリル,２−イミダゾリル,４−イミダゾリル,５−イ
ミダゾリル,１−ピラゾリル,３−ピラゾリル,４−ピラ
ゾリル,５−ピラゾリルなどの窒素原子(オキシド化され
ていてもよい),酸素原子,硫黄原子などのヘテロ原子を
１〜４個含む５〜８員環またはその縮合環で炭素原子に
結合手を有するものを、Ｃ_1-6アルコキシ基はメトキシ,
エトキシ,プロポキシ,イソプロポキシ,ブトキシ,tert−
ブトキシなどを、Ｃ_1-6アルコキシ−Ｃ_1-4アルキル基は
メトキシメチル,エトキシメチル,２−メトキシエチルな
どをＣ_3-6シクロアルキルオキシ基はシクロプロピルオ
キシ,シクロヘキシルオキシなどを、Ｃ_6-10アリールオ
キシ基はフェノキシ,ナフチルオキシなどを、Ｃ_7-12ア
ラルキルオキシ基はベンジルオキシ,１−フェニルエチ
ルオキシ,２−フェニルエチルオキシなどを、Ｃ_1-4メル
カプトアルキル基はメルカプトメチル,２−メルカプト
エチルなどを、Ｃ_1-4スルホアルキル基はスルホメチル,
２−スルホエチルなどを、Ｃ_1-6アルキルチオ基はメチ
ルチオ,エチルチオ,プロピルチオ,イソプロピルチオ,ブ
チルチオなどを、Ｃ_1-6アルキルチオ−Ｃ_1-4アルキル基
はメチルチオメチル,２−メチルチオエチルなどを、Ｃ
_3-6シクロアルキルチオ基はシクロプロピルチオ,シクロ
ヘキシルチオなどを、Ｃ_6-10アリールチオ基はフェニル
チオなどを、Ｃ_7-12アラルキルチオ基はベンジルチオな
どを、Ｃ_1-4シアノアルキルチオ基はシアノメチルチオ,
シアノエチルチオなどを、Ｃ_1-4アミノアルキル基はア
ミノメチル,２−アミノエチルなどを、モノＣ_1-4アルキ
ルアミノ基はメチルアミノ,エチルアミノ,プロピルアミ
ノ,ブチルアミノなどを、ジＣ_1-4アルキルアミノ基はジ
メチルアミノ,ジエチルアミノ,メチルエチルアミノ,ジ
プロピルアミノ,ジブチルアミノなどを、モノＣ_1-4アル
キルアミノ−Ｃ_1-4アルキル基はメチルアミノメチル,エ
チルアミノメチル,２−(Ｎ−メチルアミノ)エチル,３−
(Ｎ−メチルアミノ)プロピルなどを、ジＣ_1-4アルキル
アミノ−Ｃ_1-4アルキル基はＮ,Ｎ−ジメチルアミノメチ
ル,Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノメチル,２−(Ｎ,Ｎ−ジメチ
ルアミノ)エチル,２−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ)エチル,
３−(Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ)プロピルなどを、Ｃ_3-6シ
クロアルキルアミノ基はシクロプロピルアミノ,シクロ
ヘキシルアミノなどを、Ｃ_6-10アリールアミノ基はアニ
リノ,Ｎ−メチルアニリノなどを、Ｃ_7-12アラルキルア
ミノ基はベンジルアミノ,１−フェニルエチルアミノ,２
−フェニルエチルアミノなどを、環状アミノ基はピロリ
ジノ,ピペリジノ,ピペラジノ,モルホリノ,１−ピロリル
などを、環状アミノＣ_1-4アルキル基はピロリジノメチ
ル,ピペリジノメチル,ピペラジノメチル,モルホリノメ
チル,２−(モルホリノ)エチル,１−イミダゾリルメチ
ル,１−イミダゾリルエチルなどを、環状アミノＣ_1-4ア
ルキルアミノ基はピロリジノメチルアミノ,ピペリジノ
メチルアミノ,ピペラジノメチルアミノ,モルホリノメチ
ルアミノなどを、ハロゲン原子はフッ素,塩素,臭素など
を、Ｃ_1-4ハロゲノアルキル基はモノフルオロメチル,ジ
フルオロメチル,トリフルオロメチル,１−フルオロエチ
ル,２−フルオロエチル,モノクロロメチル,ジクロロメ
チル,トリクロロメチル,１−クロロエチル,２−クロロ
エチル,ブロモメチル,ヨードメチルなどを、シアノ−Ｃ
_1-4アルキル基はシアノメチル,２−シアノエチルなど
を、カルボキシ−Ｃ_1-4アルキル基はカルボキシメチル,
１−カルボキシエチル,２−カルボキシエチルなどを、
Ｃ_1-8アルコキシ−カルボニル基はメトキシカルボニル,
エトキシカルボニル,プロポキシカルボニル,イソプロポ
キシカルボニル,ブトキシカルボニル,tert−ブトキシカ
ルボニル,イソボルニルオキシカルボニルなどを、Ｃ_1-8
アルコキシ−カルボニル−Ｃ_1-4アルキル基はメトキシ
カルボニルメチル,エトキシカルボニルメチル,tert−ブ
トキシカルボニルメチルなどを、Ｃ_6-10アリールオキシ
−カルボニル基はフェノキシカルボニルなどを、Ｃ_3-6
シクロアルキルオキシ−カルボニル基はシクロプロピル
オキシカルボニル,シクロヘキシルオキシカルボニルな
どを、Ｃ_7-12アラルキルオキシ−カルボニル基はベンジ
ルオキシカルボニルなどを、Ｃ_6-10アリール−カルボニ
ル基はベンゾイル,フタロイル,フェニルアセチルなど
を、Ｃ_1-5アルカノイル基はホルミル,アセチル,プロピ
オニル,ブチリル,バレリル,ピバロイルなどを、Ｃ_2-5ア
ルカノイル−Ｃ_1-4アルキル基はアセチルメチル,１−ア
セチルエチル,２−アセチルエチルなどを、Ｃ_3-5アルケ
ノイル基はアクリロイル,クロトノイル,マレオイルなど
を、Ｃ_6-10アリール−アシルオキシ基はベンゾイルオキ
シなどを、Ｃ_2-5アルカノイルオキシ基はアセトキシ,プ
ロピオニルオキシ,ブチリルオキシ,ピバロイルオキシな
どを、Ｃ_2-5アルカノイルオキシ−Ｃ_1-4アルキル基はア
セトキシメチル,１−アセトキシエチル,２−アセトキシ
エチルなどを、Ｃ_3-5アルケノイルオキシ基はアクリロ
イルオキシなどを、カルバモイル−Ｃ_1-4アルキル基は
カルバモイルメチルなどを、置換カルバモイル基はＮ−
メチルカルバモイル,Ｎ,Ｎ−ジメチルカルバモイル,Ｎ
−エチルカルバモイル,Ｎ,Ｎ−ジエチルカルバモイル,
Ｎ−フェニルカルバモイル,ピペリジノカルボニル,ピペ
ラジノカルボニル,モルホリノカルボニルなどを、カル
バモイルオキシ−Ｃ_1-4アルキル基はカルバモイルオキ
シメチルなどを、置換チオカルバモイル基はＮ−メチル
チオカルバモイルなどを、置換カルバモイルオキシ基は
Ｎ−メチルカルバモイルオキシ,Ｎ,Ｎ−ジメチルカルバ
モイルオキシ,Ｎ−エチルカルバモイルオキシなどを、
Ｃ_2-5アルカノイルアミド基はアセトアミド,プロピオン
アミドなどを、Ｃ_6-10アリール−アシルアミド基はベン
ズアミドなどを、Ｃ_1-4アルコキシ−カルボニルアミノ
基はメトキシカルボニルアミノ,エトキシカルボニルア
ミノ,tert−ブトキシカルボニルアミノなどを、Ｃ_6-10
アリールオキシ−カルボニルアミノ基はフェノキシカル
ボニルアミノなどを、Ｃ_7-12アラルキルオキシ−カルボ
ニルアミノ基はベンジルオキシカルボニルアミノなどを
表わす。また上記のＣ_7-12アラルキル基、Ｃ_7-12アラル
キルオキシ基,Ｃ_7-12アラルキルチオ基,Ｃ_7-12アラルキ
ルアミノ基,Ｃ_7-12アラルキルオキシ−カルボニル基お
よびＣ_7-12アラルキルオキシ−カルボニルアミノ基など
のアラルキル基を構成するアルキル基はもう１個のＣ
_6-10アリール基で置換されていてもよく、具体的にはベ
ンズヒドリル,ベンズヒドリルオキシ,ベンズヒドリルチ
オ,ベンズヒドリルアミノ,ベンズヒドリルオキシカルボ
ニル,ベンズヒドリルオキシカルボニルアミノなどがあ
げられる。上記の置換基は同一または異なって１〜３個
置換されていてもよい。

【００１９】セフェム化合物〔I〕は塩もしくはエステ
ルであってもよい。化合物〔I〕の塩のうち、特に薬学
的に受容される塩は化合物〔I〕を抗菌剤として使用す
る際に用いられる塩であり、その他の塩は合成中間体と
して利用できる塩である。化合物〔I〕の塩としては無
機塩基塩,アンモニウム塩,有機塩基塩,無機酸付加塩,有
機酸付加塩,塩基性アミノ酸塩などがあげられる。無機
塩基塩を生成させうる無機塩基としてはアルカリ金属
(たとえばナトリウム,カリウムなど),アルカリ土類金属
(たとえばカルシウムなど)などが、有機塩基塩を生成さ
せうる有機塩基としてはたとえばプロカイン,２−フェ
ニルエチルベンジルアミン,ジベンジルエチレンジアミ
ン,エタノールアミン,ジエタノールアミン,トリスヒド
ロキシメチルアミノメタン,ポリヒドロキシアルキルア
ミン,Ｎ−メチルグルコサミン,１,１,１−トリス(ヒド
ロキシメチル)メチルアミンなどが、無機酸付加塩を生
成させうる無機酸としてはたとえば塩酸,臭化水素酸,硫
酸,硝酸,リン酸などが、有機酸付加塩を生成させうる有
機酸としてはたとえばp−トルエンスルホン酸,メタンス
ルホン酸,ギ酸,トリフルオロ酢酸,マレイン酸,コハク
酸,エチルコハク酸などが、塩基性アミノ酸塩を生成さ
せうる塩基性アミノ酸としてはたとえばリジン,アルギ
ニン,オルニチン,ヒスチジンなどがあげられる。これら
の塩のうち塩基塩(すなわち無機塩基塩，アンモニウム
塩，有機塩基塩，塩基性アミノ酸塩）は化合物〔I〕の
４位のカルボキシル基において形成しうる塩基塩もしく
は、化合物〔I〕の置換基Ｒ²中もしくは置換基Ａ上にカ
ルボキシル基，スルホ基などの酸性基が存在する場合に
形成しうる塩基塩を意味し、酸付加塩（すなわち無機酸
付加塩，有機酸付加塩）は化合物〔I〕の置換基Ｒ²中も
しくは置換基Ａ上にアミノ基，モノアルキルアミノ基，
ジアルキルアミノ基，シクロアルキルアミノ基，アリー
ルアミノ基，アラルキルアミノ基，環状アミノ基，含窒
素複素環基などの塩基性基が存在する場合に形成しうる
酸付加塩を意味する。

【００２０】化合物〔I〕のエステル誘導体は分子中に
含まれるカルボキシル基,なかんづく、４位のカルボキ
シル基をエステル化することにより生成されうるエステ
ルを意味し、合成中間体として利用できるエステルおよ
び代謝上不安定な無毒のエステルである。合成中間体と
して利用できるエステルとしてはＣ_1-4アルキルエステ
ル,Ｃ_2-4アルケニルエステル,Ｃ_3-6シクロアルキルエス
テル,Ｃ_3-6シクロアルキル−Ｃ_1-4アルキルエステル,Ｃ
_6-10アリールエステル,Ｃ_7-12アラルキルエステル,置換
シリルエステルなどがあげられ、これらはさらに置換さ
れていてもよい。Ｃ_1-4アルキルエステルを形成するア
ルキルとしては具体的にはメチル,エチル,プロピル,ブ
チル,tert−ブチルなどを、Ｃ_2-4アルケニルエステルを
形成するアルケニルとしては具体的にはビニル,アリル,
イソプロペニルなどを、Ｃ_3-6シクロアルキルエステル
を形成するシクロアルキルとしては具体的にはシクロプ
ロピル,シクロブチル,シクロペンチル,シクロヘキシル
などを、Ｃ_3-6シクロアルキル−Ｃ_1-4アルキルエステル
を形成するアルキルとしては具体的にはシクロプロピル
メチル,シクロヘキシルメチルなどを、Ｃ_6-10アリール
エステルを形成するアリールとしては具体的にはフェニ
ルなどを、Ｃ_7-12アラルキルエステルを形成するアラル
キルとしては具体的にはベンジル,フェネチルなどを、
置換シリルエステルを形成する置換シリルとしては具体
的にはトリメチルシリル,tert−ブチルジメチルシリル
などをそれぞれ表わす。またアラルキルエステルを構成
するアルキルはもう１〜２個のＣ_6-10アリールで置換さ
れていてもよく、具体的にはベンズヒドリルエステル,
トリチルエステルなどがあげられる。代謝上不安定な無
毒のエステルは経口投与が可能なエステルを意味し、こ
のようなエステルとしてはペニシリン,セファロスポリ
ンの分野ですでに確立されているものが本発明において
も便宜に採用されうる。このような代謝上不安定な無毒
のエステルとしては、たとえばＣ_1-5アルカノイルオキ
シメチルエステル,Ｃ_1-5アルカノイルオキシエチルエス
テル,Ｃ_1-6アルコキシ−Ｃ_1-4アルキルエステル,Ｃ_1-6
アルキルチオ−Ｃ_1-4アルキルエステル,１−(Ｃ_1-6アル
コキシカルボニルオキシ)Ｃ_1-6アルキルエステルなどが
あげられ、具体的にはアセトキシメチルエステル,１−
アセトキシエチルエステル,１−アセトキシブチルエス
テル,２−アセトキシエチルエステル,ピバロイルオキシ
メチルエステル,メトキシメチルエステル,エトキシメチ
ルエステル,イソプロポキシメチルエステル,１−メトキ
シエチルエステル,１−エトキシエチルエステル,メチル
チオメチルエステル,エチルチオメチルエステル,エトキ
シカルボニルオキシメチルエステル,１−(エトキシカル
ボニルオキシ)エチルエステル,tert−ブトキシカルボニ
ルオキシメチルエステル,１−(tert−ブトキシカルボニ
ルオキシ)エチルエステル,１−{(２−メチル−２−メト
キシプロピオニルオキシ)カルボニルオキシ}エチルエス
テル,１−(シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ)エ
チルエステルなどがあげられる。本発明は上記エステル
誘導体のほかに、生体内において化合物〔I〕に変換さ
れうる薬学的に受容しうる化合物も包含する。

【００２１】本発明の化合物〔I〕はスペクトルの広い
抗菌活性を有し、毒性が低いので人および哺乳動物（例
えば、マウス，ラット，ウサギ，犬，ネコ，牛，豚な
ど）における病原性細菌により生ずる種々の疾病,たと
えば気道感染症，尿路感染症の予防ならびに治療のため
に安全に使用されうる。また本発明の化合物〔I〕は優
れた安定性を有する、血中濃度が高い、効果の持続時間
が長い、組織移行性が顕著である、優れた経口吸収性を
有するなどの特徴をも有している。本発明の化合物
〔I〕の製造法を以下に詳しく述べる。化合物〔I〕はた
とえば次の製造法(1)、(2)にあげた方法で製造できる。
すなわち製造法(1) 式

【化９】 〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされるセフ
ェム化合物またはそのエステルあるいは塩と式

【化１０】 〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされるカル
ボン酸またはその塩もしくは反応性誘導体とを反応させ
るか、製造法(2) 式

【化１１】 で表わされる化合物またはそのエステルあるいはその塩
と式 Ａ−ＣＨ＝ＣＨＣＨ＝Ｙ 〔Ｖ〕 で表される化合物〔式中、ＸとＹとは互いに反応して二
重結合を形成する基を、その他の記号は前記と同意義を
示す〕とを反応させ、要すれば保護基の除去を行うこと
により化合物〔I〕を製造することができる。製造法(1)
及び(2)、 保護基除去法および化合物〔I〕の精製法につ
いて順次説明を加える。

【００２２】製造法(1)：

【化１２】 本法は７−アミノ化合物〔II〕をカルボン酸〔III〕ま
たはその反応性誘導体でアシル化する方法である。この
方法においてカルボン酸〔III〕は遊離のままあるいは
その塩もしくは反応性誘導体が７−アミノ化合物〔II〕
の７位アミノ基のアシル化剤として用いられる。すなわ
ち遊離酸〔III〕あるいは遊離酸〔III〕の無機塩,有機
塩,酸ハライド,酸アジド,酸無水物,混合酸無水物,活性
アミド,活性エステル,活性チオエステルなどの反応性誘
導体がアシル化反応に供される。無機塩としてはアルカ
リ金属塩(たとえばナトリウム塩,カリウム塩など),アル
カリ土類金属塩(たとえばカルシウム塩など)などが、有
機塩としてはたとえばトリメチルアミン塩,トリエチル
アミン塩,tert−ブチルジメチルアミン塩,ジベンジルメ
チルアミン塩,ベンジルジメチルアミン塩,Ｎ,Ｎ−ジメ
チルアニリン塩,ピリジン塩,キノリン塩などが、酸ハラ
イドとしてはたとえば酸クロライド,酸ブロマイドなど
が、混合酸無水物としてはモノＣ_1-4アルキル炭酸混合
酸無水物(たとえば遊離酸〔III〕とモノメチル炭酸,モ
ノエチル炭酸,モノイソプロピル炭酸,モノイソブチル炭
酸,モノtert−ブチル炭酸,モノベンジル炭酸,モノ(p−
ニトロベンジル)炭酸,モノアリル炭酸などとの混合酸無
水物),Ｃ_1-6脂肪族カルボン酸混合酸無水物(たとえば遊
離酸〔III〕と酢酸,シアノ酢酸,プロピオン酸,酪酸,イ
ソ酪酸,吉草酸,イソ吉草酸,ピバル酸,トリフルオロ酢
酸,トリクロロ酢酸,アセト酢酸などとの混合酸無水物),
Ｃ_7-11芳香族カルボン酸混合酸無水物(たとえば遊離酸
〔III〕と安息香酸,p−トルイル酸,p−クロロ安息香酸
などとの混合酸無水物),有機スルホン酸混合酸無水物
(たとえばメタンスルホン酸,エタンスルホン酸,ベンゼ
ンスルホン酸,p−トルエンスルホン酸などとの混合酸無
水物)などが、活性アミドとしては含窒素複素環化合物
とのアミド(たとえば遊離酸〔III〕とピラゾール,イミ
ダゾール,ベンゾトリアゾールなどとの酸アミドで、こ
れらの含窒素複素環化合物はＣ_1-4アルキル,Ｃ_1-6アル
コキシ,ハロゲン原子,オキソ,チオキソ,Ｃ_1-6アルキル
チオなどで置換されていてもよい)などがあげられる。

【００２３】活性エステルとしてはβ−ラクタムおよび
ペプチド合成の分野でこの目的に用いられるものはすべ
て利用でき、たとえば有機リン酸エステル(たとえばジ
エトキシリン酸エステル,ジフェノキシリン酸エステル
など)のほかp−ニトロフェニルエステル,２,４−ジニト
ロフェニルエステル,シアノメチルエステル,ペンタクロ
ロフェニルエステル,Ｎ−ヒドロキシサクシンイミドエ
ステル,Ｎ−ヒドロキシフタルイミドエステル,１−ヒド
ロキシベンゾトリアゾールエステル,６−クロロ−１−
ヒドロキシベンゾトリアゾールエステル,１−ヒドロキ
シ−１Ｈ−２−ピリドンエステルなどがあげられる。活
性チオエステルとしては芳香族複素環チオール化合物と
のエステル(たとえば２−ピリジルチオールエステル,２
−ベンゾチアゾリルチオールエステルなどで、これらの
複素環はＣ_1-4アルキル,Ｃ_1-6アルコキシ,ハロゲン原
子,Ｃ_1-6アルキルチオなどで置換されていてもよい)が
あげられる。一方、７−アミノ化合物〔II〕は遊離のま
ま、その塩あるいはエステルとして用いられる。化合物
〔II〕の塩としては無機塩基塩,アンモニウム塩,有機塩
基塩,無機酸付加塩,有機酸付加塩などがあげられる。無
機塩基塩としてはアルカリ金属塩(たとえばナトリウム
塩,カリウム塩など),アルカリ土類金属塩(たとえばカル
シウム塩など)などが、有機塩基塩としてはたとえばト
リメチルアミン塩,トリエチルアミン塩,tert−ブチルジ
メチルアミン塩,ジベンジルメチルアミン塩,ベンジルジ
メチルアミン塩,Ｎ,Ｎ−ジメチルアニリン塩,ピリジン
塩,キノリン塩などが、無機酸付加塩としてはたとえば
塩酸塩,臭化水素酸塩,硫酸塩,硝酸塩,リン酸塩などが、
有機酸付加塩としてはギ酸塩,酢酸塩,トリフルオロ酢酸
塩,メタンスルホン酸塩,p−トルエンスルホン酸塩など
があげられる。化合物〔II〕のエステルとしては化合物
〔I〕のエステル誘導体としてすでに述べたエステルが
ここでもそのままあげられる。すなわちＣ_1-4アルキル
エステル,Ｃ_2-4アルケニルエステル,Ｃ_3-6シクロアルキ
ルエステル,Ｃ_3-6シクロアルキル−Ｃ_1-4アルキルエス
テル,Ｃ_6-10アリールエステル,Ｃ_7-12アラルキルエステ
ル,Ｃ_1-5アルカノイルオキシメチルエステル,Ｃ_1-5アル
カノイルオキシエチルエステルおよびこれらがさらに水
酸基,Ｃ_1-6アルコキシ基,ハロゲン原子,ニトロ基,シア
ノ基,メルカプト基,Ｃ_1-6アルキルチオ基,オキソ基,チ
オキソ基などで置換されたものなどがあげられる。

【００２４】原料物質〔III〕およびその反応性誘導体
はいずれも公知の方法またはそれに準ずる方法によって
容易に製造できる。化合物〔III〕の反応性誘導体は反
応混合物から単離された物質として、または単離前の化
合物〔III〕の反応性誘導体を含有する反応混合物をそ
のまま化合物〔II〕と反応させることができる。カルボ
ン酸〔III〕を遊離酸または塩の状態で使用する場合は
適当な縮合剤を用いる。縮合剤としてはたとえばＮ,
Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミドなどのＮ,Ｎ′
−ジ置換カルボジイミド類,たとえばＮ,Ｎ′−カルボニ
ルジイミダゾールなどのアゾライド類,たとえばＮ−エ
トキシカルボニル−２−エトキシ−１,２−ジヒドロキ
ノリン,オキシ塩化リン,アルコキシアセチレンなどの脱
水剤,たとえば２−クロロピリジニウムメチルアイオダ
イド,２−フルオロピリジニウムメチルアイオダイドな
どの２−ハロゲノピリジニウム塩類などが用いられる。
これらの縮合剤を用いた場合、反応はカルボン酸〔II
I〕の反応性誘導体を経て進行すると考えられる。反応
は一般に溶媒中で行われ、反応を阻害しない溶媒が適宜
に選択される。このような溶媒としてはたとえばジオキ
サン,テトラヒドロフラン,ジエチルエーテル,tert−ブ
チルメチルエーテル,ジイソプロピルエーテル,エチレン
グリコールジメチルエーテルなどのエーテル類,たとえ
ばギ酸エチル,酢酸エチル,酢酸ブチルなどのエステル
類,たとえばジクロロメタン,クロロホルム,四塩化炭素,
トリクレン,１,２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭
化水素類,たとえばn−ヘキサン,ベンゼン,トルエンなど
の炭化水素類,たとえばホルムアミド,Ｎ,Ｎ−ジメチル
ホルムアミド,Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミ
ド類,たとえばアセトン,メチルエチルケトン,メチルイ
ソブチルケトンなどのケトン類,たとえばアセトニトリ
ル,プロピオニトリルなどのニトリル類などのほか、ジ
メチルスルホキシド,スルホラン,ヘキサメチルホスホル
アミド,水などが単独または混合溶媒として用いられ
る。アシル化剤〔III〕の使用量は化合物〔II〕１モル
に対して通常１〜５モル,好ましくは１〜２モルであ
る。反応は−８０〜８０℃,好ましくは−４０〜５０℃,
最も好ましくは−３０〜３０℃の温度範囲で行われる。
反応時間は化合物〔II〕および〔III〕の種類,溶媒の種
類(混合溶媒の場合はその混合比も),反応温度などに依
存し、通常１分〜７２時間,好ましくは１５分〜２４時
間である。アシル化剤として酸ハライドを用いた場合は
放出されるハロゲン化水素を反応系から除去する目的で
脱酸剤の存在下に反応を行うことができる。このような
脱酸剤としてはたとえば炭酸ナトリウム,炭酸カリウム,
炭酸カルシウム,炭酸水素ナトリウムなどの無機塩基,た
とえばトリエチルアミン,トリプロピルアミン,トリフ゛チルアミ
ン,シクロヘキシルジメチルアミン,ピリジン,ルチジン,
γ−コリジン,Ｎ,Ｎ−ジメチルアニリン,Ｎ−メチルピ
ペジリン,Ｎ−メチルピロリジン,Ｎ−メチルモルホリン
などの第３級アミン,たとえばプロピレンオキシド,エピ
クロルヒドリンなどのアルキレンオキシド類などがあげ
られる。

【００２５】製造法(2)-1および(2)-2：

【化１３】 〔式中、Ｒ³は低級アルキル基またはアリール基を、そ
の他の記号は前記と同意義を示す。〕 製造法(2)-1はセフェム−ホスホラン誘導体〔IV^a〕とア
ルデヒド誘導体〔V^a〕との、また製造法(2)-2ではセフ
ェム−３−アルデヒド誘導体〔IV^b〕と複素環−ホスホ
ラン誘導体〔V^b〕とのＷｉｔｔｉｇ反応による、化合物
〔Ｉ〕の製造方法である。本反応は通常溶媒中で行わ
れ、これら溶媒としてはたとえばジオキサン,テトラヒ
ドロフラン,ジエチルエーテル,tert−ブチルメチルエー
テル,ジイソプロピルエーテル,エチレングリコールジメ
チルエーテルなどのエーテル類,たとえばギ酸エチル,酢
酸エチル,酢酸ブチルなどのエステル類,たとえばジクロ
ロメタン,クロロホルム,四塩化炭素,トリクレン,１,２
−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類,たとえ
ばn−ヘキサン,ベンゼン,トルエンなどの炭化水素類,た
とえばホルムアミド,Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド,Ｎ,
Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類,たとえばア
セトン,メチルエチルケトン,メチルイソブチルケトンな
どのケトン類,たとえばアセトニトリル,プロピオニトリ
ルなどのニトリル類などのほか、ジメチルスルホキシ
ド,スルホラン,ヘキサメチルホスホルアミド,水などが
単独または混合溶媒として用いられる。製造法(2)-1の
場合、化合物〔V^a〕の使用量は化合物〔IV^a〕１モルに
対して通常１〜５モル好ましくは１〜３モルであり、製
造法(2)-2の場合、化合物〔V^b〕の使用量は化合物〔I
V^b〕１モルに対して通常１〜５モル好ましくは１〜３モ
ルである。反応は−５０〜１５０℃,好ましくは−３０
〜１２０℃,最も好ましくは−２０〜１００℃の温度範
囲で行われる。反応時間は化合物〔IV^a〕,〔IV^b〕およ
び塩基の種類、溶媒の種類(混合溶媒の場合はその混合
比も)、反応温度などに依存し、通常５分〜７２時間,好
ましくは１０分〜４０時間である。Ｒ³で示される低級
アルキル基としては例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、ｓ
ｅｃ−ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル等のＣ_1-6ア
ルキル基等があげられる。Ｒ³で示されるアリール基と
しては例えば、フェニル、ｐ−トリル、ｍ−トリル、ｏ
−トリル、ｐ−クロロフェニル、ｍ−クロロフェニル、
ｏ−クロロフェニル、ｐ−メトキシフェニル、ｍ−メト
キシフェニル、ｏ−メトキシフェニル、フリル、チエニ
ル等のハロゲン原子（塩素、臭素、ヨウ素等）、Ｃ_1-4
アルキル、Ｃ_1-4アルコキシ等の１または２個の置換基
で置換されていてもよいＣ_6-14アリール（例、フェニ
ル、ナフチル等）または複素環アリール基（例、Ｎ，
Ｓ，Ｏなどのヘテロ原子を１〜４個含む５〜６員複素環
基等）等があげられる。

【００２６】化合物〔IV^a〕は式〔IV^c〕

【化１４】 〔式中、Ｚはハロゲン原子を、その他の記号は前記と同
意義を示す〕で表される化合物またはそのエステルある
いはその塩と塩基とを反応させることによって、また化
合物〔V^b〕は式〔V^c〕 Ａ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ₂Ｐ（Ｒ³）₃Ｚ 〔Ｖ^c〕 〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表される化合物
と塩基とを反応させることによってそれぞれ製造でき
る。セフェム−ホスホニウム塩誘導体〔IV^c〕，複素環
ホスホニウム塩〔V^c〕およびセフェム−３−アルデヒド
誘導体〔IV^b〕は公知の方法またはそれに準じる方法に
よって製造できる。本法に用いられるリンの誘導体とし
ては、通常Ｗｉｔｔｉｇ反応に用いられるリンの誘導体
であればいかなるものでも良く、例えば低級トリアルキ
ルホスフィン、トリアリールホスフィンが好んで用いら
れる。Ｚはハロゲン原子を表し、塩素原子、臭素原子、
ヨウ素原子などが用いられる。本反応に用いられる塩基
としては、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、水酸化カルシウムなどの無機塩
基、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピ
ルアミン、トリブチルアミン、Ｎ−エチルジイソプロピ
ルアミン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホリ
ン、ピリジン、ルチジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等
の有機塩基、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキ
シド、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド、水素化ナトリ
ウム、ナトリウムアミド等が用いられる。反応は通常溶
媒中で行われ、反応を阻害しない溶媒が適宜に選択され
る。このような溶媒としてはたとえばジオキサン,テト
ラヒドロフラン,ジエチルエーテル,tert−ブチルメチル
エーテル,ジイソプロピルエーテル,エチレングリコール
ジメチルエーテルなどのエーテル類,たとえばギ酸エチ
ル,酢酸エチル,酢酸ブチルなどのエステル類,たとえば
ジクロロメタン,クロロホルム,四塩化炭素,トリクレン,
１,２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類,た
とえばn−ヘキサン,ベンゼン,トルエンなどの炭化水素
類,たとえばホルムアミド,Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド,Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類,たと
えばアセトン,メチルエチルケトン,メチルイソブチルケ
トンなどのケトン類,たとえばアセトニトリル,プロピオ
ニトリルなどのニトリル類などのほか、ジメチルスルホ
キシド,スルホラン,ヘキサメチルホスホルアミド,水な
どが単独または混合溶媒として用いられる。塩基の使用
量は化合物〔IV^c〕または〔V^c〕１モルに対して通常１
〜７モル,好ましくは１〜３モルである。反応は−５０
〜１５０℃,好ましくは−３０〜１００℃,最も好ましく
は−２０〜８０℃の温度範囲で行われる。反応時間は化
合物〔IV〕および塩基の種類、溶媒の種類(混合溶媒の
場合はその混合比も)、反応温度などに依存し、通常５
分〜７２時間,好ましくは１０分〜４０時間である。化
合物〔IV^c〕は遊離のまま、その塩あるいはエステルと
して用いられる。化合物〔IV^c〕の塩,エステルとしては
製造法(1)において化合物〔II〕の塩,エステルとしてあ
げたものがここでもそのままあてはめられる。

【００２７】本発明における出発化合物〔II〕、〔V^a〕
は、以下の図式で示される製法により製造することが出
来る。

【化１５】 ［式中、セフェム化合物〔VII〕、〔IV^d〕、〔IV^e〕、
〔IX〕、〔II〕は塩またはエステルを含み、Ｒ⁹は保護
されていてもよいアミノ基を、Ｒ′及びＲ″は低級アル
キル基を示し、その他の記号は前記と同意義を示す］。

【００２８】製造法Ａ 化合物〔VII〕と化合物〔VIII〕との反応によって、ホ
スホニウム塩〔IV^d〕を製造することが出来る。反応は
通常溶媒中で行われ、反応を阻害しない溶媒が適宜に選
択される。このような溶媒としてはたとえばジオキサ
ン,テトラヒドロフラン,ジエチルエーテル,tert−ブチ
ルメチルエーテル,ジイソプロピルエーテル,エチレング
リコールジメチルエーテルなどのエーテル類,たとえば
ギ酸エチル,酢酸エチル,酢酸ブチルなどのエステル類,
たとえばジクロロメタン,クロロホルム,四塩化炭素,ト
リクレン,１,２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化
水素類,たとえばn−ヘキサン,ベンゼン,トルエンなどの
炭化水素類,たとえばホルムアミド,Ｎ,Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド,Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド
類,たとえばアセトニトリル,プロピオニトリルなどのニ
トリル類などのほか、ジメチルスルホキシド,スルホラ
ン,ヘキサメチルホスホルアミド,水などが単独または混
合溶媒として用いられる。反応は−５０〜１５０℃,好
ましくは−３０〜１００℃,最も好ましくは−２０〜８
０℃の温度範囲で行われる。反応時間は化合物〔VI
I〕、溶媒の種類(混合溶媒の場合はその混合比も)、反
応温度などに依存し、通常５分〜７２時間,好ましくは
１０分〜４０時間である。化合物〔VIII〕の使用量は化
合物〔VII〕１モルに対して１−１０モル、好ましくは
１−３モルである。ついで〔IV^e〕及び〔IX〕を製造す
る。本製造法は製造法（２）で述べた方法に準じて行う
ことが出来る。さらに化合物〔IX〕のアミノ基の保護基
を脱保護して化合物〔II〕が製造出来る。本脱保護反応
は後述の保護基の除去法に述べた方法に準じて行うこと
が出来る。

【００２９】製造法Ｂ 化合物〔Ｘ〕と化合物〔XI〕との反応で化合物〔V^a〕が
製造出来る。この反応は前記製造法Ａに準じて行うこと
が出来る。化合物〔Ｘ〕と化合物〔XII〕との反応も前
記製造法Ａに準じて行い、化合物〔XIV〕が製造出来
る。化合物〔XIV〕は、化合物〔Ｘ〕と化合物〔XIII〕
との反応でも製造出来る。本製造法では塩基が必要であ
り、かかる塩基としては製造法（２）で述べた塩基がそ
のまま使用出来る。塩基の使用量は化合物〔XIII〕１モ
ルに対して１−３モルである。溶媒は製造法（Ａ）で用
いた溶媒が使用出来る。ついで化合物〔XIV〕は還元し
て化合物〔XV〕さらに酸化して化合物〔V^a〕が製造出来
る。本還元反応に用いる還元剤としては、水素化ホウ素
ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化リチウムア
ルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム等が好ん
で用いられるが、反応に悪影響を与えない限りいかなる
還元剤を用いても良い。反応は通常溶媒中で行い、この
ような溶媒としてはたとえばジオキサン,テトラヒドロ
フラン,ジエチルエーテル,tert−ブチルメチルエーテ
ル,ジイソプロピルエーテル,エチレングリコールジメチ
ルエーテルなどのエーテル類,たとえばジクロロメタン,
クロロホルム,四塩化炭素,１,２−ジクロロエタンなど
のハロゲン化炭化水素類,たとえばn−ヘキサン,ベンゼ
ン,トルエンなどの炭化水素類,たとえばホルムアミド,
Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド,Ｎ,Ｎ−ジメチルアセト
アミドなどのアミド類,ジメチルスルホキシド,スルホラ
ン,ヘキサメチルホスホルアミド,水などが単独または混
合溶媒として用いられる。反応温度は特に限定されず、
通常冷却化、室温または加温下に行われる。還元剤の使
用量は〔XIV〕１モルに対して１−１０モルが用いられ
る。また化合物〔XIV〕は反応条件によって一挙に化合
物〔V^a〕に変換することも可能であり、かかる反応にお
いても、前述の還元剤及び溶媒が用いられる。つぎに酸
化剤としてはジメチルスルホキシドによる酸化（ジメチ
ルスルホキシドと無水酢酸、ジメチルスルホキシドと三
酸化イオウ−ピリジン、ジメチルスルホキシドとジシク
ロヘキシルカルボジイミド、ジメチルスルホキシドとオ
キザリルクロリド等）が用いられる他、三酸化クロム−
ピリジン、三酸化クロム−硫酸、アルカリ金属重クロム
酸等のクロム化合物が好んで用いられるが、他の酸化剤
を用いても良い。反応溶媒は前述の溶媒が用いられる。
反応温度は特に限定されず、通常冷却化、室温または加
温下に行われる。還元剤の使用量は〔XV〕１モル対して
１−２０モルである。

【００３０】保護基除去法：前記した通りβ−ラクタム
およびペプチド合成の分野ではアミノ基の保護基は充分
に研究されていてその保護法はすでに確立されている。
また、アミノ保護基の除去法も同様に確立されており、
本発明においても保護基の除去は従来の技術をそのまま
利用できる。たとえばモノハロゲノアセチル基(クロロ
アセチル,ブロモアセチルなど)はチオ尿素により、アル
コキシカルボニル基(メトキシカルボニル,エトキシカル
ボニル,tert−ブトキシカルボニルなど)は酸(たとえば
塩酸など)により、アラルキルオキシカルボニル基(ベン
ジルオキシカルボニル,p−メチルベンジルオキシカルボ
ニル,p−ニトロベンジルオキシカルボニルなど)は接触
還元により、２,２,２−トリクロロエトキシカルボニル
は亜鉛と酸(たとえば酢酸など)により除去することがで
きる。一方、合成中間体として化合物〔I〕がエステル
化されている場合もそれ自体公知の方法またはそれに準
ずる方法によってエステル残基を除去することができ
る。たとえば２−メチルスルホニルエチルエステルはア
ルカリにより、アラルキルエステル(ベンジルエステル,
ジフェニルメチルエステル,p−メトキシベンジルエステ
ル,p−ニトロベンジルエステルなど)は酸(たとえばトリ
フルオロ酢酸など)または接触還元により、２,２,２−
トリクロロエチルエステルは亜鉛と酸(たとえば酢酸な
ど)により、シリルエステル(トリメチルシリルエステ
ル,tert−ブチルジメチルシリルエステルなど)は水のみ
により除去することができる。

【００３１】化合物〔I〕の精製法：製造法(１)、(２)
に詳記した各種製造法により、 また要すれば上記の保護
基除去法をつづいて行うことにより反応混合物中に生成
した化合物〔I〕は抽出法、カラムクロマトグラフィ
ー、沈澱法、再結晶法などの公知の処理手段によって単
離精製することができる。 一方、 単離された化合物
〔I〕を公知の方法により所望の薬学的に受容される塩
または代謝上不安定な無毒のエステルへと変換すること
もできる。 セフェム化合物〔I〕のスルホキシドは化合物〔I〕の酸
化反応により得られる。このような酸化反応はよく知ら
れた反応である。セフェム環中の硫黄原子の酸化に適し
た酸化剤としてはたとえば酸素,過酸,ヒドロパーオキシ
ド,過酸化水素などがあげられ、過酸はその場で酸と過
酸化物の混和によって製造することもできる。過酸とし
ては過酢酸,過安息香酸,p−クロル過安息香酸などが繁
用される。反応は通常、溶媒中で行なわれる。この反応
に用いられる溶媒としてはたとえばジオキサン,テトラ
ヒドロフランなどのエーテル類,たとえばジクロロメタ
ン,クロロホルム,クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素
類,たとえばギ酸,酢酸,トリフルオロ酢酸などの有機酸
類,たとえばジメチルホルムアミド,ジメチルアセトアミ
ドなどのアミド類などがあげられる。反応温度は−４０
〜１００℃の範囲で行なわれるが、なるべく低い温度,
好ましくは−２０〜５０℃で行なわれる。式〔I〕の化
合物の酸化に際してはＳ−立体配位をもつスルホキシド
が主に生成することが一般に知られている。Ｒ−および
Ｓ−スルホキシドはそれらの異なる溶解性およびクロマ
トグラフィー分離に際しての異なる移動速度によって分
離される。スルホキシドを得るための上記の酸化反応は
前記(１)、(２)の反応の前に行なってもよいし、 また
(１)、(２)の反応の後に行なってもよい。

【００３２】本発明の化合物〔I〕は公知のペニシリン
剤,セファロスポリン剤と同様に注射剤,カプセル剤,錠
剤,顆粒剤として非経口または経口的に投与できる。投
与量は前記したような病原性細菌に感染（たとえば、気
道感染症）した人および動物の体重１kgあたり有効成分
〔I〕として０.５〜８０mg／日,より好ましくは１〜２
０mg／日を１日２〜４回に分割して非経口投与すればよ
い。注射剤として用いられる場合の担体は、たとえば蒸
留水,生理食塩水などが用いられ、カプセル剤,粉剤,顆
粒剤,錠剤として用いられる場合は、公知の薬学的に許
容される賦形剤(たとえばデンプン,乳糖,白糖,炭酸カル
シウム,リン酸カルシウムなど),結合剤(たとえばデンプ
ン,アラビアゴム,カルボキシメチルセルロース,ヒドロ
キシプロピルセルロース,結晶セルロースなど),滑沢剤
(たとえばステアリン酸マグネシウム,タルクなど),崩壊
剤(たとえばカルボキシメチルカルシウム,タルクなど)
と混合して用いられる。化合物〔I〕またはその塩・エ
ステルを含む医薬組成物は公知の方法により製造するこ
とができる。該組成物は通常化合物〔I〕またはその薬
学的に受容される塩もしくはエステルの少くとも１種以
上と上記の担体,賦形剤などとを混合することにより製
造される。組成物全体に対する化合物〔I〕の配合割合
は通常５〜100重量％,好ましくはカプセル剤,錠剤,顆粒
剤などの固形製剤においては２０〜100重量％,注射剤な
どの液状製剤においては、 ５〜３０重量％である。

【００３３】

【発明の実施の形態】本発明はさらに下記の参考例,実
施例で詳しく説明されるが、これらの例は単なる実例で
あって本発明を限定するものではなく、また本発明の範
囲を逸脱しない範囲で変化させてもよい。参考例,実施
例のカラムクロマトグラフィーにおける溶出はＴＬＣ(T
hin LayerChromatography,薄層クロマトグラフィー)に
よる観察下に行なわれた。 ＴＬＣ観察においては、ＴＬ
Ｃプレートとしてメルク(Merck)社製のキーゼルゲル６
０Ｆ₂₅₄を、展開溶媒としてはカラムクロマトグラフィ
ーで溶出溶媒として用いられた溶媒を、検出法としては
ＵＶ検出器を採用した。カラム用シリカゲルは同じくメ
ルク社製のキーゼルゲル６０(２３０〜４００メッシュ)
を用いた。″セファデックス″はファルマシア・ファイ
ン・ケミカルズ社(Pharmacia Fine Chemicals)製であ
る。 ハイポラスポリマーは三菱化成社製 ダイアイオン
ＣＨＰ−２０Ｐを用いた。ＮＭＲスペクトルは内部また
は外部基準としてテトラメチルシランを用いてVarian J
emini−２００（２００ＭＨz）型スペクトロメーターで
測定し、全δ値をｐｐｍで示した。混合溶媒において
( )内に示した数値は各溶媒の容量混合比である。また
溶液における％は溶液１００ｍｌ中のｇ数を表わす。 ま
た参考例,実施例中の記号は次のような意味である。 s ：シングレット(singlet) d ：ダブレット(doublet) t ：トリプレット(triplet) q ：クワルテット(quartet) ＡＢq：ＡＢ型クワルテット(ＡＢ type quartet) dd ：ダブル ダブレット(double doublet) m ：マチルプレット(multiplet) br． ：ブロード(broad) Ｊ ：カップリング定数(coupling constant) Ｈz ：ヘルツ(Herz) mg ：ミリグラム(milligram) g ：グラム(gram) ml ：ミリリーター(milliliter) ｌ ：リーター(liter) ％ ：パーセント(percent) ＰＭＢ：ｐ−メトキシベンジル Ｂｏｃ：ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル ＤＰＭ：ジフェニルメチル Ｔｒ：トリフェニルメチル ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド(dimethylsulfoxide) Ｄ₂Ｏ：重水 ＣＤＣl₃：重クロロホルム 室温：２５℃

【００３４】試験例１ 試験化合物最小阻止濃度（ＭＩＣ：minimal inhibitory
concentration）は寒天希釈法（agar dilution metho
d）により決定された。即ち、順次薄められた試験化合
物の水溶液１．０mlをシャーレ（petri dish）に注ぎ、
次にトリプティカーゼ ソイ アガー（Trypticase soy
agar）９．０mlを注いで混ぜた。その混合寒天プレー
ト上に、試験菌の懸濁液（約１０⁶ＣＦＵ／ml）を塗抹
した。３７℃で一夜培養（incubation）した後、試験菌
の増殖を完全に阻害する試験化合物の最低濃度をＭＩＣ
とした。 試験菌 （Ａ）スタフィロコッカス アウレウス 308 A-1 (Staphylococcus aureus 308 A-1) (Ｂ）エシェリヒア コリ NIHJ JC-2 (Escherichia coli NIHJ JC-2) 結果：

【表１】 ─────────────────────── ＭＩＣ(μg/ml) ─────────────────────── 菌 種 （Ａ） （Ｂ） ─────────────────────── 実施例２の化合物 ０．３９ ０．３９ 実施例４の化合物 ０．２ ０．２ 実施例５の化合物 ０．２ ０．２ 実施例10の化合物 ０．３９ ０．３９ 実施例11の化合物 ０．３９ ０．３９ 実施例12の化合物 ０．３９ ０．３９ 実施例13の化合物 ０．３９ ０．３９ ─────────────────────── 以上の結果から、本発明のセフェム化合物〔I〕または
そのエステルあるいはその塩は臨床上重要視されている
菌株に対して優れた抗菌作用を示すことが明らかであ
る。

【００３５】参考例 1 1-トリチル-1H-1,2,3-トリアゾ-ル-4-カルボキシアルデ
ヒド 4-ヒドロキシメチル-1-トリチル-1H-1,2,3-トリアゾ-ル
(4.1g)のジクロロメタン(120ml)溶液に二酸化マンガン
(20g)を加え室温で1.5時間撹拌した。 二酸化マンガンを
ろ去し、 溶媒を留去し1-トリチル-1H-1,2,3-トリアゾ-
ル-4-カルボキシアルデヒドを結晶として得た。 IR(KB
r) cm^-1：1690。 NMR(CDCl₃)： 7.09-7.38(15H, m),
8.07(1H, s), 10.18(1H, s)。 参考例 2 3-(1-トリチルー1H-1,2,3-トリアゾ-ルー4-イル)-2(E)-プ
ロペン-1-ア-ル 1-トリチル-1H-1,2,3-トリアゾ-ル-4-カルボキシアルデ
ヒド(1.02g)、 (トリフェニルホスホロアニリデン)アセ
トアルデヒド(1.0g)、 クロロホルム(9ml)の混合物を72
時間室温で撹拌した後、 溶媒を留去した。 残留物をシリ
カゲルクロマトグラフィ-に付し、 ヘキサン-酢酸エチル
(6：1)で溶出し、3-(1-トリチルー1H-1,2,3-トリアゾ-ル
ー4-イル)-2(E)-プロペン-1-ア-ル(0.63g, 57％)を得た。
IR(KBr) cm^-1： 1680。NMR(CDCl₃)： 6.80(1H, dd, J=
7.8, 16.0Hz), 7.10-7.17(6H, m),7.27-7.40(9H, m),
7.50(1H, d, J=16.0Hz), 7.69(1H, s), 9.66(1H, d, J=
7.8Hz)。

【００３６】参考例 3 p-メトキシベンジル 7β-tert-ブトキシカルボニルアミ
ノ-3-[4-(1-トリチルー1H-1,2,3-トリアゾ-ルー4-イル)-
1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボキシレ-ト p-メトキシベンジル 7β-tert-ブトキシカルボニルアミ
ノ-3-(トリフェニルホスホニウム)メチル-3-セフェム-4
-カルボキシレ-ト ヨ-ダイド(823mg)、 1N 水酸化ナトリ
ウム(2ml)、 飽和食塩水(2ml)、 クロロホルム(4ml)の混
合物をアルゴン気流下、 室温で1時間撹拌した。 クロロ
ホルム層を分取し乾燥(MgSO₄)後、 3-(1-トリチルー1H-1,
2,3-トリアゾ-ルー4-イル)-2(E)-プロペン-1-ア-ル(329m
g)を加え、 アルゴン気流下20時間加熱還流した。 溶媒を
留去し残留物をシリカゲルクロマトグラフィ-に付しト
ルエン-酢酸エチル(12：1)で溶出し、 p-メトキシベンジ
ル7β-tert-ブトキシカルボニルアミノ-3-[4-(1-トリチ
ルー1H-1,2,3-トリアゾ-ルー4-イル)-(1Z,3E)-1,3-ブタン
ジエニル]-3-セフェム-4-カルボキシレ-ト及びp-メトキ
シベンジル 7β-tert-ブトキシカルボニルアミノ-3-[4-
(1-トリチルー1H-1,2,3-トリアゾ-ルー4-イル)-(1E,3E)-
1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボキシレ-トの
1：1混合物を得た(260mg, 33％)。 NMR(CDCl₃)： 1.46(9
H, s), 3.48(0.5H, d, J=17.8Hz), 3.66(0.5H, d, J=1
7.8Hz), 3.68-3.82(4H, m), 4.97(0.5H,d, J=4.8Hz),
5.03(0.5H, d, J=4.8Hz), 5.12(0.5H, d, J=7.4Hz), 5.
18-5.23(2.5H, m), 5.55-5.63(1H, m), 6.18-6.37(1H,
m), 6.51-7.46(23H, m)。 参考例 4 参考例 2と同様にしてチアゾ-ル-2-カルボキシアルデヒ
ド及び(トリフェニルホスホロアニリデン)アセトアルデ
ヒドから3-(チアゾ-ル-2-イル)-2(E)-プロペン-1-ア-ル
を製造した。 IR(KBr) cm^-1： 1680。 NMR(CDCl₃)： 6.91 (1H, dd, J
=16.0, 7.6Hz), 7.56(1H, d, J=3.2Hz), 7.67 (1H, d,
J=16.0Hz), 8.02 (1H, d, J=3.2Hz), 9.78 (1H, d, J=
7.6Hz)。

【００３７】参考例 5 p-メトキシベンジル 7β-tert-ブトキシカルボニルアミ
ノ-3-[4-(チアゾ-ルー2-イル)-(1E,3E)-1.3-ブタンジエ
ニル]-3-セフェム-4-カルボキシレ-ト p-メトキシベンジル 7β-tert-ブトキシカルボニルアミ
ノ-3-(トリフェニルホスホニウム)メチル-3-セフェム-4
-カルボキシレ-ト ヨ-ダイド(2.47g)、 1N NaOH(6ml)、
クロロホルム(12ml)、 飽和食塩水(6ml)の混合物をアル
ゴン気流下、 室温で1時間撹拌した。 クロロホルム層を
分取し乾燥(MgSO₄)した。 このクロロホルム溶液に3-(チ
アゾ-ル-2-イル)-2(E)-プロペン-1-ア-ル(376mg)を加
え、 2.5時間加熱還流後、 溶媒を留去した。 残留物をシ
リカゲルクロマトグラフィ-に付し、 ヘキサン-酢酸エチ
ル(2：1→1：1)で溶出して、 p-メトキシベンジル 7β-t
ert-ブトキシカルボニルアミノ-3-[4-(チアゾ-ルー2-イ
ル)-(1Z,3E)-1.3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カル
ボキシレ-ト及び p-メトキシベンジル 7β-tert-ブトキ
シカルボニルアミノ-3-[4-(チアゾ-ルー2-イル)-(1E,3E)
-1.3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボキシレ-ト
の混合物を得た。 本混合物のトルエン(15ml)溶液にヨ-
素(95mg)を加え60℃で1時間撹拌した。 溶媒を留去し残
留物を酢酸エチルに溶解し、 5％チオ硫酸ナトリウム水
溶液、 水で洗浄後乾燥(MgSO₄)した。 溶媒を留去し残留
物をシリカゲルクロマトグラフィ-付し、 トルエン-酢酸
エチル(4：1)で溶出し、 p-メトキシベンジル 7β-tert-
ブトキシカルボニルアミノ-3-[4-(チアゾ-ルー2-イル)-
(1E,3E)-1.3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボキ
シレ-トを得た(0.89g, 53％)。 IR(KBr) cm^-1： 3330, 1780, 1710。 NMR(CDCl₃)： 1.4
7 (9H, s), 3.60 (1H, d, J=18.0Hz), 3.78 (1H, d, J=
18.0Hz), 4.99 (1H, d, J=4.6Hz), 5.25 (1H, d,J=9.2H
z), 5.26 (2H, s), 5,63 (1H, dd, L=9.2, 4.6Hz), 6.6
3 (1H, dd, J=15.6, 10.2Hz), 6.88 (1H, d, J=15.6H
z), 6.93 (2H, d, J=8.6Hz), 7.11 (1H, dd, J=15.6, 1
0.2Hz), 7.28 (1H, d, J=15.6Hz), 7.28 (1H, d, J=3.4
Hz), 7.38 (2H, d, J=8.6Hz), 7.81 (1H, d, J=3.4Hz)。 参考例 6 参考例 2と同様にして、 ピリジン-2-カルボキシアルデ
ヒド及び(トリフェニルホスホロアニリデン)アセトアル
デヒドから3-(ピリジン-2-イル)-2(E)-プロペン-1-ア-
ルを製造した。 IR(KBr) cm^-1： 1685。 NMR(CDCl₃)： 7.10 (1H, dd, J
=15.6, 7.6Hz), 7.33(1H, dd, J=7.6, 4.8Hz), 7.54 (1
H, d, J=15.6Hz), 7.56 (1H, d, J=7.6Hz), 7.78 (1H,
t, J=7.6Hz), 8.72 (1H, d, J=4.8Hz), 9.82 (1H, d, J
=7.6Hz)。

【００３８】参考例 7 参考例 5と同様にしてp-メトキシベンジル 7β-tert-ブ
トキシカルボニルアミノ-3-(トリフェニルホスホニウ
ム)メチル-3-セフェム-4-カルボキシレ-ト ヨ-ダイド及
び3-(ピリジン-2-イル)-2(E)-プロペン-1-ア-ルからp-
メトキシベンジル7β-tert-ブトキシカルボニルアミノ-
3-[4-(ピリジン-2-イル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニル]
-3-セフェム-4-カルボキシレ-トを製造した。 IR(KBr) cm^-1： 3430, 3315, 1780, 1705。 NMR(CDC
l₃)： 1.47 (9H, s), 3.61 (1H, d, J=18.0Hz), 3.74
(1H, d, J=18.0Hz), 3.82 (3H, s), 4.99 (1H, d,J=4.8
Hz), 5.20-5.32 (3H, m) 5,62 (1H, dd, L=9.4, 4.8H
z), 6.62-6.76 (2H,m), 6.93 (2H, d, J=8.6Hz), 6.95-
7.41 (6H, m), 7.65 (1H, dt, J=7.6, 1.8Hz), 8.59 (1
H, d, J=4.8Hz)。 参考例 8 参考例 2と同様にして4-(1,2,3-チアジアゾ-ル)カルボ
キシアルデヒド及び(トリフェニルホスホロアニリデン)
アセトアルデヒドから3-(1,2,3-チアジアゾ-ル-4-イル)
-2(E)-プロペン-1-ア-ルを製造した。 IR(KBr) cm^-1： 1680。 NMR(CDCl₃)： 7.21(1H, dd, J=
16.2, 7.6 Hz), 7.90(1H, d, J=16.2 Hz), 8.77(1H,
s), 9.83(1H, d, J=7.6 Hz)。

【００３９】参考例 9 参考例 5と同様にしてp-メトキシベンジル 7β-tert-ブ
トキシカルボニルアミノ-3-(トリフェニルホスホニウ
ム)メチル-3-セフェム-4-カルボキシレ-ト ヨ-ダイド
及び3-(1,2,3-チアジアゾ-ル-4-イル)-2(E)-プロペン-1
-ア-ルからp-メトキシベンジル 7β-tert-ブトキシカル
ボニルアミノ-3-[4-(1,2,3-チアジアゾ-ル-4-イル)-(1
E,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボキシ
レ-トを製造した。 IR(KBr) cm^-1： 3420, 1780, 1710。 NMR(CDCl₃)： 1.4
7 (9H, s), 3.61 (1H,d, J=17.4Hz), 3.78 (1H, d, J=1
7.4Hz), 3.82 (3H, s), 5.00 (1H, d, J=4.8Hz), 5.21-
5.33 (3H, m), 5,63 (1H, dd, L=9.6, 4.8Hz), 6.67
(1H, dd, J=15.4, 10.6Hz), 6.93 (2H, d, J=8.8Hz),
7.00 (1H, d, J=15.4Hz), 7.24 (1H, d,J=15.4Hz), 7.3
3 (1H, dd, J=15.4, 10.6Hz), 7.39 (2H, d, J=8.8Hz),
8.34 (1H, s)。 参考例 10 参考例 2と同様にして3-(1,2,5-チアジアゾ-ル)カルボ
キシアルデヒド及び(トリフェニルホスホロアニリデン)
アセトアルデヒドから3-(1,2,5-チアジアゾ-ル-3-イル)
-2(E)-プロペン-1-ア-ルを製造した。 IR(KBr) cm^-1： 1675。 NMR(CDCl₃)： 7.01 (1H, dd, J
=16.2, 7.6Hz), 7.69(1H, d, J=16.2Hz), 8.82 (1H,
s), 9.81 (1H, d, J=7.6Hz)。

【００４０】参考例 11 参考例 5と同様にしてp-メトキシベンジル 7β-tert-ブ
トキシカルボニルアミノ-3-(トリフェニルホスホニウ
ム)メチル-3-セフェム-4-カルボキシレ-ト ヨ-ダイド
及び3-(1,2,5-チアジアゾ-ル-3-イル)-2(E)-プロペン-1
-ア-ルからp-メトキシベンジル 7β-tert-ブトキシカル
ボニルアミノ-3-[4-(1,2,5-チアジアゾ-ル-3-イル)-(1
E,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボキシ
レ-トを製造した。 IR(KBr) cm^-1： 3430, 3320, 1780, 1710。 NMR(CDC
l₃)： 1.47 (9H, s), 3.51 (1H, d, J=17.8Hz), 3.78
(1H, d, J=17.8Hz), 3.83 (3H, s), 5.00 (1H, d,J=4.8
Hz), 5.21-5.34 (3H, m), 5,64 (1H, dd, L=10.0, 4.8
Hz), 6.64 (1H, dd, J=15.4, 10.4Hz), 6.87 (1H, d, J
=15.4Hz), 6.93 (2H, d, J=8.6Hz), 7.20 (1H, dd, J=1
5.4, 10.4Hz), 7.28 (1H, d, J=15.4Hz), 7.39 (2H, d,
J=8.6Hz),8.63 (1H, s)。

【００４１】参考例 12 参考例 2と同様にして以下の化合物を製造した。 3-(4-チアゾリル)-2(E)-プロペン-1-アール NMR(CDCl₃)：7.00(1H, dd, J=8.0, 15.4Hz), 7.53(1H,
d, J=15.4Hz), 7.66(1H,d, J=1.8Hz), 8.90(1H, d, J=
1.8Hz), 9.75(1H, d, J=8.0Hz)。 3-(5-チアゾリル)-2(E)-プロペン-1-アール NMR(CDCl₃)：6.53(1H, dd, J=7.6, 15.8Hz), 7.67(1H,
d, J=15.8Hz), 8.13(1H,s), 8.91(1H, s), 9.68(1H, d,
J=7.6Hz)。 3-ピラジニル-2(E)-プロペン-1-アール NMR(CDCl₃)：7.22(1H, dd, J=7.8, 15.8Hz), 7.55(1H,
d, J=15.8Hz), 8.60(1H,d, J=2.4Hz), 8.69(1H, t, J=
2.4Hz), 8.79(1H, d, J=2.4Hz), 9.85(1H, d, J=7.8H
z)。 3-(4-ピリダジニル)-2(E)-プロペン-1-アール NMR(CDCl₃)：6.94(1H, dd, J=7.2, 16.4Hz), 7.43(1H,
d, J=16.4Hz), 7.59(1H,dd, J=2.2, 5.2Hz), 9.33(1H,
d, J=5.2Hz), 9.35(1H, d, J=2.2Hz), 9.82(1H,d,J=7.2
Hz)。

【００４２】参考例 13 3-(3-ピリジル)-2(E)-プロペン-1-アール 3-(3-ピリジル)アクリル酸メチルエステル(1.63g)のト
ルエン(25ml)溶液に水素化ジイソブチルアルミニウム(1
M トルエン溶液，22ml)を-40〜-50℃で滴下した。15分
間-40〜-50℃で撹拌した後メタノール(4.0ml)を同温度
で滴加し、室温までもどして20分間撹拌した。析出した
沈殿をろ去し、テトラヒドロフランで洗浄後ろ液を合わ
せて溶媒を留去した。残留物をシリカゲルクロマトグラ
フィーに付しヘキサン-酢酸エチル(2：1)で溶出して3-
(3-ピリジル)-2(E)-プロペン-1-オール(1.1g)を得た。N
MR（CDCl₃）：4.36(2H, d, J=5.0Hz), 6.42(1H, dt, J=
5.0, 16.2Hz), 6.60(1H, d, J=16.2Hz), 7.25(1H, dd,
J=5.0, 7.0Hz), 7.68(1H,m), 8.44(1H, d, J=4.4Hz),
8.57(1H, s)。 ついで 3-(3-ピリジル)-2(E)-プロペン-1-オール(1.0g)
のアセトン(40ml)溶液に二酸化マンガン(5g)を加え室温
で45分間撹拌した。不溶物をろ去しろ液を濃縮して標題
化合物を得た(0.91g)。NMR(CDCl₃)：6.80(1H, dd, J=7.
8, 16.2Hz), 7.48(1H, dd, J=4.6, 8.0Hz), 7.51(1H,
d, J=16.2Hz), 7.91(1H, m), 8.67(1H, dd,J=1.6, 4.6H
z), 8.80(1H, d, J=2.0Hz), 9.75(1H, d, J=7.8Hz)。 参考例 14 参考例 13と同様にして3-(4-ピリジル)-2(E)-プロペン-
1-アールを製造した。NMR(CDCl₃)：6.85(1H, dd, J=7.6,
16.2Hz), 7.42(1H, d, J=6.2Hz), 7.46(2H,d, J=16.2H
z), 8.72(2H, d, J=6.2Hz), 9.78(1H, d, J=7.6Hz)。

【００４３】参考例 15 参考例 5と同様にして以下の化合物を製造した。 p-メトキシベンジル 7β-tert-ブトキシカルボニルア
ミノ-3-〔4-(4-チアゾリル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニ
ル〕-3-セフェム-4-カルボキシレート IR(KBr) cm^-1：3330, 1770, 1705, 1695。NMR(CDCl₃)：
1.47(9H, s), 3.60(1H,d, J=18.4Hz), 3.75(1H, d, J=1
8.4Hz), 3.82(3H, s), 4.98(1H, d, J=5.2Hz),5.18-5.3
2(3H, m), 5.60(1H, dd, J=5.2, 10.0Hz), 6.63(1H, d
d, J=10.8, 16.0Hz), 6.72(1H, d, J=15.4Hz), 6.92(2
H, d, J=8.8Hz), 6.95-7.28(3H, m), 7.38(2H, d, J=8.
8Hz), 8.80(1H, d, J=1.6Hz)。 p-メトキシベンジル 7β-tert-ブトキシカルボニルア
ミノ-3-〔4-(5-チアゾリル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニ
ル〕-3-セフェム-4-カルボキシレート IR(KBr) cm^-1：3330, 1770, 1710, 1695。NMR(CDCl₃)：
1.47(9H, s), 3.58(1H,d, J=17.6Hz), 3.75(1H, d, J=1
7.6Hz), 3.82(3H, s), 4.99(1H, d, J=4.8Hz),5.18-5.3
2(3H, m), 5.61(1H, dd, J=4.8, 10.0Hz), 6.56-7.40(8
H, m), 7.79(1H, s), 8.67(1H, s)。 p-メトキシベンジル 7β-tert-ブトキシカルボニルア
ミノ-3-〔4-(3-ピリジル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニ
ル〕-3-セフェム-4-カルボキシレート NMR(CDCl₃)：1.47(9H, s), 3.60(1H, d, J=17.6Hz), 3.
76(1H, d, J=17.6Hz), 3.82(3H, s), 4.99(1H, d, J=4.
6Hz), 5.22(1H, d, J=11.8Hz), 5.30(1H, d, J=11.8H
z), 5.35(1H, d, J=9.2Hz), 5.61(1H, dd, J=4.6, 9.2H
z), 6.62(1H, d, J=15.0Hz), 6.65(1H, dd, J=8.0, 15.
0Hz), 6.89(1H, d, J=15.0Hz), 6.92(2H, d,J=8.8Hz),
7.29(1H, dd, J=8.0, 15.0Hz), 7.39(2H, d, J=8.8Hz),
7.52(1H, dd, J=8.0, 4.8Hz), 7.73(1H, d, J=8.0Hz),
8.49(1H, d, J=4.8Hz), 8.62(1H, s)。

【００４４】p-メトキシベンジル 7β-tert-ブトキシ
カルボニルアミノ-3-〔4-(４-ピリジル)-(1E,3E)-1,3-
ブタンジエニル〕-3-セフェム-4-カルボキシレート NMR(CDCl₃)：1.47(9H, s), 3.59(1H, d, J=17.8Hz), 3.
74(1H, d, J=17.8Hz), 3.82(3H, s), 5.00(1H, d, J=5.
0Hz), 5.23(1H, d, J=11.8Hz), 5.27(1H, d, J=9.6Hz),
5.32(1H, d, J=11.8Hz), 5.62(1H, dd, J=5.0, 9.6H
z), 6.55(1H, d, J=15.8Hz), 6.62(1H, dd, J=16.0, 1
0.0Hz), 6.93(2H, d, J=8.8Hz), 6.95(1H, d,J=16.0H
z), 7.24(2H, d, J=6.0Hz), 7.29(1H, dd, J=10.0, 15.
8Hz), 7.38(2H,d, J=8.8Hz), 8.57(2H, d, J=6.0Hz)。 p-メトキシベンジル 7β-tert-ブトキシカルボニルア
ミノ-3-〔4-ピラジニル-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニル〕
-3-セフェム-4-カルボキシレート NMR(CDCl₃)：1.47(9H, s), 3.60(1H, d, J=17.8Hz), 3.
77(1H, d, J=17.8Hz), 3.82(3H, s), 4.99(1H, d, J=4.
6Hz), 5.26(2H, s), 5.31(1H, d, J=8.8Hz), 5.64(1H,
dd, J=4.6, 8.8Hz), 6.39(1H, d, J=14.0Hz), 6.67(1H,
dd, J=9.6, 15.4Hz), 6.69(1H, d, J=15.4Hz), 6.28(2
H, d, J=11.0Hz), 7.37(2H, d, J=11.0Hz), 7.44(1H, d
d, J=14.0, 9.6Hz), 8.37(1H, s), 8.51(1H, s), 8.55
(1H, s)。 p-メトキシベンジル 7β-tert-ブトキシカルボニルア
ミノ-3-〔4-(4-ピリダジニル-(1E,3E)-1,3-ブタンジエ
ニル〕-3-セフェム-4-カルボキシレート NMR(CDCl₃)：1.43(9H, s), 3.57(1H, d, J=16.0Hz), 3.
77(1H, d, J=16.0Hz), 3.82(3H, s), 5.00(1H, d, J=4.
8Hz), 5.23(1H, d, J=11.8Hz), 5.27(1H, d, J=9.8Hz),
5.31(1H, d, J=11.8Hz), 5.61(1H, dd, J=4.8, 9.8H
z), 6.52(1H, d, J=15.2Hz), 6.63(1H, dd, J=15.4, 1
0.4Hz), 6.90(1H, d, J=15.4Hz), 6.93(2H, d, J=8.8H
z), 7.09(1H, dd, J=10.4, 15.2Hz), 7.36(2H, d, J=8.
8Hz), 7.48(1H,d, J=5.4Hz), 9.11(1H, d, J=5.4Hz),
9.17(1H, s)。

【００４５】実施例 1 7β-[2-(2-アミノチアゾル-4-イル)-2(Z)-ヒドロキシイ
ミノアセトアミド]-3-[4-(1H-1,2,3-トリアゾ-ル-4-イ
ル)-(1Z,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カル
ボン酸ナトリウム及び7β-[2-(2-アミノチアゾル-4-イ
ル)-2(Z)-ヒドロキシイミノアセトアミド]-3-[4-(1H-1,
2,3-トリアゾ-ル-4-イル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニ
ル]-3-セフェム-4-カルボン酸ナトリウム p-メトキシベンジル 7β-tert-ブトキシカルボニルアミ
ノ-3-[4-(1-トリチルー1H-1,2,3-トリアゾ-ルー4-イル)-
(1Z,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボキ
シレ-ト及びp-メトキシベンジル 7β-tert-ブトキシカ
ルボニルアミノ-3-[4-(1-トリチルー1H-1,2,3-トリアゾ-
ルー4-イル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-
4-カルボキシレ-トの1：1混合物(260mg)をジクロロメタ
ン(3ml)に溶解しアニソ-ル(0.75ml)を加え、氷冷下トリ
フルオロ酢酸(3ml)を加えて、 室温で1.5時間撹拌した。
溶媒を留去し残留物にイソプロピルエ-テルを加え粉末
をろ取した。 この粉末をテトラヒドロフラン(4ml)、 ア
セトン(1ml)に加えS-(2-ベンゾチアゾリル) 2-(2-アミ
ノチアゾ-ル-4-イル)-2(Z)-トリチルオキシイミノ酢酸
(249mg)、 トリ-n-ブチルアミン(0.433ml)を加え、 室温
で16時間撹拌した。 溶媒を留去し、 残留物に90％ギ酸(5
ml)を加え、室温で1時間撹拌した後、ギ酸を留去した。
残留物に飽和重曹水を加え、酢酸エチルで洗浄後ダイア
イオン CHP-20Pクロマトグラフィーに付し5％エタノ-ル
で溶出し、 濃縮後凍結乾燥して、 7β-[2-(2-アミノチア
ゾル-4-イル)-2(Z)-ヒドロキシイミノアセトアミド]-3-
[4-(1H-1,2,3-トリアゾ-ル-4-イル)-1,3-ブタンジエニ
ル]-3-セフェム-4-カルボン酸 ナトリウムを粉末として
得た(74mg)。 粉末をLH-20クロマトグラフィーに付し水で
溶出し、 1番目のフラクションから7β-[2-(2-アミノチ
アゾル-4-イル)-2(Z)-ヒドロキシイミノアセトアミド]-
3-[4-(1H-1,2,3-トリアゾ-ル-4-イル)-(1E,3E)-1,3-ブ
タンジエニル]-3-セフェム-4-カルボン酸ナトリウムを
得た(35mg, 21％)。 IR(KBr) cm^-1： 3420, 1755, 1605。
NMR(D₂O)： 3.62(1H, d, J=17.6 Hz), 3.72(1H,d, J=1
7.6 Hz), 5.21(1H, d, J=4.5 Hz), 5.78(1H, d, J=4.5
Hz), 6.52-7.02(5H, m), 7.88(1H, s)。 2番目のフラク
ッションから7β-[2-(2-アミノチアゾル-4-イル)-2(Z)-
ヒドロキシイミノアセトアミド]-3-[4-(1H-1,2,3-トリ
アゾ-ル-4-イル)-(1Z,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフ
ェム-4-カルボン酸ナトリウムを得た(15mg, 9％)。 IR(K
Br) cm^-1： 3430, 1760, 1620。 NMR(D₂O)： 3.43(1H,
d, J=17.8 Hz), 3.65(1H, d, J=17.8 Hz), 5.30(1H, d,
J=4.6 Hz), 5.84(1H, d, J=4.6 Hz), 6.06(1H, d, J=1
1.2Hz), 6.29(1H, t, J=11.2Hz), 6.64(1H, d, J=15.6H
z), 6.95(1H, s), 7.02(1H, dd, J=11.2, 15.6 Hz), 7.
91(1H, s).

【００４６】実施例 2 実施例 1と同様にして、 p-メトキシベンジル 7β-tert-
ブトキシカルボニルアミノ-3-[4-(チアゾ-ルー2-イル)-
(1E,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボキ
シレ-トから7β-[2-(2-アミノチアゾル-4-イル)-2(Z)-
ヒドロキシイミノアセトアミド]-3-[4-(チアゾ-ル-2-イ
ル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カル
ボン酸ナトリウムを製造した。 IR(KBr) cm^-1： 3400, 1760, 1600。 NMR(D₂O)： 3.58
(1H, d, J=17.6Hz), 3.69(1H, d, J=17.6Hz), 5.18 (1
H, d, J=4.8Hz), 5.76 (1H, d, J=4.8Hz), 6.55 (1H, d
d, J=15.0, 10.4Hz), 6.75 (1H, d, J=15.0Hz), 6.83
(1H, d, J=15.0Hz),6.92 (1H, s), 7.10 (1H, dd, J=1
5.0, 10.4Hz), 7.36 (1H, d, J=3.8Hz), 7.64 (1H, d,
J=3.8Hz)。 元素分析値 C₁₉H₁₅N₆O₅S₃Na・3.5H₂Oとして 計算値： C, 38.71; H, 3.76; N, 14.25。 実測値： C, 38.98; H, 3.70; N, 14.42。

【００４７】実施例 3 実施例 1と同様にしてp-メトキシベンジル 7β-tert-ブ
トキシカルボニルアミノ-3-[4-(ピリジンー2-イル)-(1E,
3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボキシレ-
トから7β-[2-(2-アミノチアゾル-4-イル)-2(Z)-ヒドロ
キシイミノアセトアミド]-3-[4-(ピリジン-2-イル)-(1
E,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボン酸
ナトリウムを製造した。 IR(KBr) cm^-1： 3430, 1760。 NMR(D₂O)： 3.58 (1H, d,
J=17.6Hz), 3.69 (1H,d, J=17.6Hz), 5.18 (1H, d, J=
4.8Hz), 5.75 (1H, d, J=4.8Hz), 6.53-6.65 (2H, m),
6.80 (1H, d, J=15.4Hz), 6.89 (1H, s), 7.06-7.19 (2
H, m), 7.46 (1H, d, J=7.6Hz), 7.70 (1H, t, J=7.6H
z), 8.32 (1H, d, J=4.8Hz)。 元素分析値 C₂₁H₁₇N₆O₅S₂Na・3.0H₂Oとして 計算値： C, 43.90; H, 4.03; N, 14.63。 実測値： C, 44.01; H, 3.82; N, 14.97。

【００４８】実施例 4 実施例 1と同様にしてp-メトキシベンジル 7β-tert-ブ
トキシカルボニルアミノ-3-[4-(1,2,3-チアジアゾ-ルー4
-イル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カ
ルボキシレ-トから7β-[2-(2-アミノチアゾル-4-イル)-
2(Z)-ヒドロキシイミノアセトアミド]-3-[4-(1,2,3-チ
アジアゾ-ル-4-イル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-
セフェム-4-カルボン酸ナトリウムを製造した。 IR(KBr) cm^-1： 3420, 1755, 1600。 NMR(D₂O)： 3.62
(1H, d, J=17.2Hz), 3.72(1H, d, J=17.2Hz), 5.20 (1
H, d, J=4.8Hz), 5.77 (1H, d, J=4.8Hz), 6.62 (1H, d
d, J=15.4, 10.2Hz), 6.82 (1H, d, J=15.4Hz), 6.91
(1H, s), 6.94 (1H,d, J=15.4Hz), 7.21 (1H, dd, J=1
5.4, 10.2Hz), 8.78 (1H, s)。 元素分析値 C₁₈H₁₄N₇O₅S₃Na・3.0H₂Oとして 計算値： C, 37.17; H, 3.47; N, 16.86。 実測値： C, 37.15; H, 3.21; N, 16.80。

【００４９】実施例 5 実施例 1と同様にしてp-メトキシベンジル 7β-tert-ブ
トキシカルボニルアミノ-3-[4-(1,2,5-チアジアゾ-ルー3
-イル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カ
ルボキシレ-トから7β-[2-(2-アミノチアゾル-4-イル)-
2(Z)-ヒドロキシイミノアセトアミド]-3-[4-(1,2,5-チ
アジアゾ-ル-3-イル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-
セフェム-4-カルボン酸ナトリウムを製造した。 IR(KBr) cm^-1： 3440, 1760, 1615。 NMR(D₂O)： 3.63
(1H, d, J=16.4Hz), 3.72(1H, d, J=16.4Hz), 5.21 (1
H, d, J=4.8Hz), 5.78 (1H, d, J=4.8Hz), 6.62 (1H, d
d, J=15.6, 10.2Hz), 6.82 (1H, d, J=15.6Hz), 6.87
(1H, d, J=15.6Hz),6.91 (1H, s), 7.27 (1H, dd, J=1
5.6, 10.2Hz), 8.74 (1H, s)。 元素分析値 C₁₈H₁₄N₇O₅S₃Na・3.0H₂Oとして 計算値： C, 37.17; H, 3.47; N, 16.86。 実測値： C, 36.93; H, 3.42; N, 16.72。

【００５０】実施例 6 7β-[2-(2-アミノチアゾル-4-イル)-2(Z)-メトキシシイ
ミノアセトアミド]-3-[4-(1,2,3-チアジアゾ-ル-4-イ
ル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カル
ボン酸ナトリウム p-メトキシベンジル 7β-tert-ブトキシカルボニルアミ
ノ-3-[4-(1,2,3-チアジアゾ-ルー4-イル)-(1E,3E)-1,3-
ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボキシレ-ト(437m
g)、 アニソ-ル(1ml)のジクロロメタン(6ml)溶液に、 氷
冷下トリフルオロ酢酸(6ml)を加えた。 室温で1時間撹拌
した後、 溶媒を留去し、 残留物にイソプロピルエ-テル
を加えた。 析出した沈殿をろ取しイソプロピルエ-テル
で洗浄した。本沈殿をジクロロメタン(5ml)に懸濁し、 N-
トリメチルシリルアセトアミド(525mg)を加え均一溶液
を得た。 ついで-15℃に冷却下、 2-(2-アミノチアゾ-ル-
4-イル)-2(Z)-メトキシイミノアセチルクロリド(307mg)
を加え、 -15℃で1時間撹拌し、溶媒を留去した。 残留物
に水を加え、 析出した沈殿をろ取し、 重曹水に溶解しダ
イアイオン CHP-20Pクロマトグラフィ-に付し、 10％エ
タノ-ルで溶出した。 溶出液を濃縮後凍結乾燥し7β-[2-
(2-アミノチアゾル-4-イル)-2(Z)-メトキシシイミノア
セトアミド]-3-[4-(1,2,3-チアジアゾ-ル-4-イル)-(1E,
3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボン酸ナ
トリウムを得た(180mg, 42％)。 IR(KBr) cm^-1： 3430, 1760, 1600。 NMR(D₂O)： 3.61(1
H, d, J=17.4 Hz), 3.71(1H, d, J=17.4 Hz), 3.90(3H,
s), 5.18(1H, d, J=4.8 Hz), 5.72(1H, d, J=4.8 Hz),
6.611H, dd, J=15.6, 10.0Hz), 6.80(1H, d, J=15.6H
z), 6.93(1H, d, J=15.6Hz), 6.94(1H, s), 7.19(1H, d
d, J=15.6, 10.0Hz), 8.77(1H, s)。 元素分析値C₁₉H₁₆N₇O₅S₃Na・3.5H₂Oとして 計算値： C, 37.74; H, 3.83; N, 16.22。 実測値： C, 37.73; H, 3.61; N, 16.17。

【００５１】実施例 7 実施例 6と同様にして 7β-[2-(2-アミノチアゾール-4-
イル)-2(Z)-メトキシイミノアセトアミド]-3-[4-(1H-1,
2,3-トリアゾール-4-イル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニ
ル]-3-セフェム-4-カルボン酸ナトリウムを製造した。 IR(KBr) cm^-1：3420, 1760, 1660, 1600。NMR(D₂O)：3.
62(1H, d, J=17.4Hz), 3.71(1H, d, J=17.4Hz), 3.91(3
H, s), 5.18(1H, d, J=4.8Hz), 5.73(1H, d, J=4.8Hz),
6.52-7.01(5H, m), 7.86(1H, s)。 元素分析値 C₁₉H₁₇N₈O₅S₂Na・3.0H₂Oとして 計算値： C, 39.44； H, 4.01； N, 19.37。 実測値： C, 39.21； H, 3.96； N, 19.77。

【００５２】実施例 8 実施例 6と同様にして 7β-[2-(2-アミノチアゾール-4-
イル)-2(Z)-フルオロメトキシイミノアセトアミド]-3-
[4-(1,2,3-チアジアゾール-4-イル)-(1E,3E)-1,3-ブタ
ンジエニル]-3-セフェム-4-カルボン酸ナトリウムを製
造した。 IR(KBr) cm^-1：3420, 1775, 1680, 1605。NMR(D₂O)：3.
64(1H, d, J=17.6Hz), 3.73(1H, d, J=17.6Hz), 5.22(1
H, d, J=4.4Hz), 5.73(2H, d, J=55.6Hz), 5.77(1H, d,
J=4.4Hz), 6.64(1H, dd, J=10.2, 15.4Hz), 6.83(1H,
d, J=15.4Hz), 6.95(1H, d, J=15.4Hz), 7.10(1H, s),
7.22(1H, dd, J=10.2, 15.4Hz), 8.80(1H,s)。 元素分析値 C₁₉H₁₅N₇O₅S₃FNa・3.5H₂Oとして 計算値： C, 36.65； H, 3.56； N, 15.75。 実測値： C, 36.76； H, 3.56； N, 15.89。

【００５３】実施例 9 実施例 6と同様にして 7β-[2-(2-アミノチアゾール-4-
イル-2(Z)-メトキシイミノアセトアミド]-3-[4-(1,2,5-
チアジアゾール-4-イル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニル]
-3-セフェム-4-カルボン酸ナトリウムを製造した。 IR(KBr) cm^-1：3420, 1765, 1660, 1620。NMR(D₂O)：3.
64(1H, d, J=17.8Hz), 3.74(1H, d, J=17.8Hz), 3.93(3
H, s), 5.21(1H, d, J=4.8Hz), 5.75(1H, d, J=4.8Hz),
6.64(1H, dd, J=10.6, 15.8Hz), 6.83(1H, d, J=15.8H
z), 6.88(1H, d,J=15.8Hz), 6.95(1H, s), 7.28(1H, d
d, J=10.6, 15.8Hz), 8.75(1H, s)。 元素分析値 C₁₉H₁₆N₇O₅S₃Na・3.0H₂Oとして 計算値： C, 38.31； H, 3.72； N, 16.46。 実測値： C, 38.10； H, 3.71； N, 16.43。

【００５４】実施例 10 実施例 1と同様にしてp-メトキシベンジル 7β-tert-ブ
トキシカルボニルアミノ-3-[4-(4-チアゾリル)-(1E,3E)
-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボキシレート
から 7β-[2-(2-アミノチアゾール-4-イル)-2(Z)-ヒド
ロキシイミノアセトアミド]-3-[4-(4-チアゾリル)-(1E,
3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボン酸ナ
トリウムを製造した。 IR(KBr) cm^-1：3410, 1755, 1600。NMR(D₂O)：3.61(1H,
d, J=17.6Hz), 3.71(1H, d, J=17.6Hz), 5.19(1H, d,
J=4.8Hz), 5.75(1H, d, J=4.8Hz), 6.52-6.80(3H, m),
6.91(1H, s), 7.01(1H, dd, J=10.4, 15.4Hz), 7.41(1
H, d, 1.6Hz), 8.87(1H, d, J=1.6Hz)。 元素分析値 C₁₉H₁₅N₆O₅S₃Na・4.5H₂Oとして 計算値： C, 37.56； H, 3.98； N, 13.83。 実測値： C, 37.73； H, 3.62； N, 13.96。

【００５５】実施例 11 実施例 1と同様にしてp-メトキシベンジル 7β-tert-ブ
トキシカルボニルアミノ-3-[4-(5-チアゾリル)-(1E,3E)
-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボキシレート
から 7β-[2-(2-アミノチアゾール-4-イル)-2(Z)-ヒド
ロキシイミノアセトアミド]-3-[4-(5-チアゾリル)-(1E,
3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボン酸ナ
トリウムを製造した。 IR(KBr) cm^-1：3430, 1755, 1610。NMR(D₂O)：3.56(1H,
d, J=17.2Hz), 3.65(1H, d, J=17.2Hz), 5.16(1H, d,
J=4.8Hz), 5.73(1H, d, J=4.8Hz), 6.43-6.82(4H, m),
6.88(1H, s), 7.68(1H, s), 8.69(1H, s)。 元素分析値 C₁₉H₁₅N₆O₅S₃Na・3.5H₂Oとして 計算値： C, 38.71； H, 3.76； N, 14.25。 実測値： C, 38.67； H, 3.54； N, 14.33。

【００５６】実施例 12 実施例 1と同様にしてp-メトキシベンジル 7β-tert-ブ
トキシカルボニルアミノ-3-[4-(3-ピリジル)-(1E,3E)-
1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボキシレート
から 7β-[2-(2-アミノチアゾール-4-イル)-2(Z)-ヒド
ロキシイミノアセトアミド]-3-[4-(3-ピリジル)-(1E,3
E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボン酸ナト
リウムを製造した。 IR(KBr) cm^-1：3400, 1760, 1660, 1600。NMR(D₂O)：3.
60(1H, d, J=16.8Hz), 3.71(1H, d, J=16.8Hz), 5.18(1
H, d, J=4.8Hz), 5.75(1H, d, J=4.8Hz), 6.55(1H, dd,
J=10.0, 15.8Hz), 6.85(1H, d, J=15.4Hz), 6.77(1H,
d, J=15.8Hz), 6.89(1H, s), 7.00(1H, dd, J=10.0, 1
5.4Hz), 7.29(1H, dd, J=4.4, 8.0Hz), 7.86(1H, d, J=
8.0Hz), 8.24(1H, d, J=4.4Hz), 8.45(1H, s)。

【００５７】実施例 13 実施例 1と同様にしてp-メトキシベンジル 7β-tert-ブ
トキシカルボニルアミノ-3-[4-(4-ピリジル)-(1E,3E)-
1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボキシレート
から 7β-[2-(2-アミノチアゾール-4-イル)-2(Z)-ヒド
ロキシイミノアセトアミド]-3-[4-(4-ピリジル)-(1E,3
E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボン酸ナト
リウムを製造した。 IR(KBr) cm^-1：3400, 1750, 1600。NMR(D₂O)：3.59(1H,
d, J=16.4Hz), 3.72(1H, d, J=16.4Hz), 5.19(1H, d,
J=4.8Hz), 5.76(1H, d, J=4.8Hz), 6.55(1H, d,J=15.0H
z), 6.61(1H, dd, J=9.8, 15.4Hz), 6.83(1H, d, J=15.
4Hz), 6.89(1H,s), 7.15(1H, dd, J=9.8, 15.0Hz), 7.3
5(2H, d, J=5.4Hz), 8.31(2H, d, J=5.4Hz)。

【００５８】実施例 14 実施例 1と同様にしてp-メトキシベンジル 7β-tert-ブ
トキシカルボニルアミノ-3-[4-ピラジニル-(1E,3E)-1,3
-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボキシレートから
7β-[2-(2-アミノチアゾール-4-イル)-2(Z)-ヒドロキ
シイミノアセトアミド]-3-[4-ピラジニル-(1E,3E)-1,3-
ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボン酸ナトリウム
を製造した。 IR(KBr) cm^-1：3400, 1760, 1620。NMR(D₂O)：3.61(1H,
d, J=16.8Hz), 3.73(1H, d, J=16.8Hz), 5.21(1H, d,
J=4.4Hz), 5.77(1H, d, J=4.4Hz), 6.61(1H, dd,J=10.
6, 15.4Hz), 6.63(1H, d, J=15.6Hz), 6.85(1H, d, J=1
5.4Hz), 6.90(1H,s), 7.27(1H, dd, J=10.6, 15.6Hz),
8.27(1H, s), 8.39(1H, s), 8.57(1H, s)。

【００５９】実施例 15 実施例 1と同様にしてp-メトキシベンジル 7β-tert-ブ
トキシカルボニルアミノ-3-[4-(4-ピリダジニル)-(1E,3
E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボキシレー
トから 7β-[2-(2-アミノチアゾール-4-イル)-2(Z)-ヒ
ドロキシイミノアセトアミド]-3-[4-(4-ピリダジニル)-
(1E,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボン
酸ナトリウムを製造した。 IR(KBr) cm^-1：3400, 1760, 1620。NMR(D₂O)：3.60(1H,
d, J=18.4Hz), 3.70(1H, d, J=18.4Hz), 5.20(1H, d,
J=4.6Hz), 5.77(1H, d, J=4.6Hz), 6.52(1H, d,J=15.8H
z), 6.60(1H, dd, J=10.2, 15.2Hz), 6.87(1H, d, J=1
5.2Hz), 6.90(1H,s), 7.30(1H, dd, J=10.2, 15.8Hz),
7.63(1H, d, J=5.4Hz), 8.90(1H, d, J=5.4Hz), 9.07(1
H, s)。

【００６０】実施例 16 ピバロイルオキシメチル 7β-[2-(2-アミノチアゾール-
4-イル)-2(Z)-ヒドロキシイミノアセトアミド]-3-[4-(1
H-1,2,3-トリアゾール-4-イル]-(1E,3E)-1,3-ブタンジ
エニル]-3-セフェム-4-カルボキシレート 7β-[2-(2-アミノチアゾール-4-イル)-2(Z)-ヒドロキシ
イミノアセトアミド]-3-[4-(1H-1,2,3-トリアゾール-4-
イル]-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カ
ルボン酸ナトリウム(53mg)のジメチルアセトアミド(1.5
ml)溶液にピバロイルオキシメチルヨージド(29mg)のジ
メチルアセトアミド(0.5ml)溶液を0℃で滴加した。0℃
で1時間撹拌した後酢酸エチルを加え、クエン酸水溶
液、チオ硫酸ナトリウム水溶液，飽和重曹水及び飽和食
塩水で順次洗浄し乾燥(MgSO₄)した。溶媒を留去し得ら
れた粉末をろ取しエーテルで洗浄した(43mg，69％)。 IR(KBr) cm^-1：3350, 3200, 1770, 1670, 1615。NMR(CD
Cl₃＋DMSO-d₆)：1.25(9H, s), 3.65(1H, d, J=17.6Hz),
3.83(1H, d, J=17.6Hz), 5.15(1H, d, J=4.8Hz), 5.88
-5.98(3H, m), 6.16(2H, bs), 6.67-6.80(2H, m), 6.96
(1H, s), 7.02(1H, dd, J=10.2, 15.4Hz), 7.22(1H, d,
J=15.4Hz), 7.74(1H, s), 10.14-10.18(1H, m)。

【００６１】実施例17-1〜17-10 実施例16と同様にして以下の化合物を製造した。 実施例17-1 1-(シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ)エチル 7β
-[2-(2-アミノチアゾール-4-イル)-2(Z)-ヒドロキシイ
ミノアセトアミド]-3-[4-(1H-1,2,3-トリアゾール-4-イ
ル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カル
ボキシレートIR(KBr) cm^-1：3200, 1760, 1670, 1615。
NMR(CDCl₃＋DMSO-d₆)：1.20-2.05(13H, m), 3.60-3.90
(2H, m), 4.60-4.75(1H, m), 5.11-5.16(1H, m), 5.89-
5.98(1H, m), 6.14(2H, bs), 6.65-7.38(6H, m), 7.74
(1H, s), 10.14-10.18(1H, m)。 実施例17-2 ピバロイルオキシメチル 7β-[2-(2-アミノチアゾール-
4-イル)-2(Z)-ヒドロキシイミノアセトアミド]-3-[4-
(1,2,3-チアジアゾール-4-イル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジ
エニル]-3-セフェム-4-カルボキシレート IR(KBr) cm^-1：3200, 1775, 1750, 1670, 1615。NMR(CD
Cl₃)：1.26(9H, s), 3.69(1H, d, J=16.8Hz), 3.85(1H,
d, J=16.8Hz), 5.08-5.19(3H, m), 5.89-6.01(3H, m),
6.76(1H, dd, J=10.2, 15.4Hz), 7.05(1H, d, J=15.4H
z), 7.10(1H, s),7.35-7.51(2H, m), 8.39(1H, s), 11.
95-12.05(1H, br)。

【００６２】実施例17-3 ピバロイルオキシメチル 7β-[2-(2-アミノチアゾール-
4-イル)-2(Z)-ヒドロキシイミノアセトアミド]-3-[4-
(1,2,5-チアジアゾール-4-イル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジ
エニル]-3-セフェム-4-カルボキシレート IR(KBr) cm^-1：3200, 1775, 1750, 1670, 1610。NMR(CD
Cl₃)：1.26(9H, s), 3.68(1H, d, J=18.2Hz), 3.83(1H,
d, J=18.2Hz), 5.08-5.25(3H, m), 5.89-6.03(3H, m),
6.73(1H, dd, J=10.2, 15.4Hz), 6.92(1H, d, J=15.4H
z), 7.09(1H, s),7.22-7.37(2H, m), 8.66(1H, s), 10.
95-11.05(1H, br)。 実施例17-4 ピバロイルオキシメチル 7β-[2-(2-アミノチアゾール-
4-イル)-2(Z)-メトキシイミノアセトアミド]-3-[4-(1,
2,3-チアジアゾール-4-イル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジエ
ニル]-3-セフェム-4-カルボキシレート IR(KBr) cm^-1：3200, 1780, 1750, 1680, 1620。NMR(CD
Cl₃)：1.25(9H, s), 3.67(1H, d, J=18.0Hz), 3.84(1H,
d, J=18.0Hz), 4.10(3H, s), 5.16(1H, d, J=4.8Hz),
5.30-5.39(2H, br), 5.91(1H, d, J=5.5Hz), 5.97(1H,
d, J=5.5Hz), 6.02(1H, dd, J=4.8, 8.4Hz), 6.76(1H,
dd, J=10.8, 15.4Hz), 6.95(1H, s), 7.06(1H, d, J=1
5.4Hz), 7.33-7.49(3H, m), 8.38(1H, s)。

【００６３】実施例17-5 1-(イソプロピルオキシカルボニルオキシ)エチル 7β-
[2-(2-アミノチアゾール-4-イル)-2(Z)-ヒドロキシイミ
ノアセトアミド]-3-[4-(1,2,3-チアジアゾール-4-イル)
-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボキ
シレート IR(KBr) cm^-1：3200, 1770, 1755, 1660, 1630。NMR(CD
Cl₃)：1.25-1.60(9H, m), 3.63-3.91(2H, m), 4.91-5.1
6(4H, m), 5.89-5.97(1H, m), 6.67-7.52(6H, m), 8.35
(0.5H, s), 8.38(0.5H, s), 10.98-11.06(1H, br)。 実施例17-6 1-(シクロヘキシルオキシカルボニルオキシ)エチル 7β
-[2-(2-アミノチアゾール-4-イル)-2(Z)-ヒドロキシイ
ミノアセトアミド]-3-[4-(1,2,3-チアジアゾール-4-イ
ル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カル
ボキシレート IR(KBr) cm^-1：3200, 1760, 1670, 1620。NMR(CDCl₃)：
1.20-2.05(13H, m), 3.63-3.95(2H, m), 4.62-4.74(1H,
m), 5.11-5.29(3H, m), 5.90-5.98(1H, m), 6.69-7.51
(6H, m), 8.36(0.5H, s), 8.39(0.5H, s), 10.90-11.10
(1H, br)。

【００６４】実施例17-7 1-(イソプロピルオキシカルボニルオキシ)エチル 7β-
[2-(2-アミノチアゾール-4-イル)-2(Z)-メトキシイミノ
アセトアミド]-3-[4-(1,2,3-チアジアゾール-4-イル)-
(1E,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボキ
シレート IR(KBr) cm^-1：3200, 1765, 1675, 1610。NMR(CDCl₃)：
1.32-1.67(9H, m), 3.61-3.90(2H, m), 4.10(3H, m),
4.85-5.10(1H, m), 5.15(1H, d, J=4.8Hz), 5.37-5.53
(2H, br), 5.96-6.06(1H, m), 6.65-6.82(1H, m), 6.92
-7.10(3H,m), 7.27-7.47(3H, m), 8.36(0.5H,. s), 8.3
8(0.5H, s)。 実施例17-8 ピバロイルオキシメチル 7β-[2-(2-アミノチアゾール-
4-イル)-2(Z)-ヒドロキシイミノアセトアミド]-3-[4-(2
-ピリジル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-
4-カルボキシレート IR(KBr) cm^-1：3200, 1780, 1760, 1670, 1620。NMR(CD
Cl₃)：1.26(9H, s), 3.68(1H, d, J=17.2Hz), 3.83(1H,
d, J=17.2Hz), 5.10-5.17(3H, m), 5.89-6.00(3H, m),
6.70-6.83(2H, m), 7.08(1H, s), 7.08-7.46(4H, m),
7.62-7.70(1H, m), 8.58-8.65(1H, m), 10.90-11.10(1
H, br)。

【００６５】実施例17-9ヒ゜ハ゛ロイルオキシメチル 7β-[2-(2-アミノチアゾール-4-イル)-2
(Z)-ヒドロキシイミノアセトアミド]-3-[4-ピラジニル-
(1E,3E)-1,3-ブタンジエニル]-3-セフェム-4-カルボキ
シレート IR(KBr) cm^-1：3200, 1780, 1755, 1670, 1620。NMR(CD
Cl₃)：1.25(9H, s), 3.69(1H, d, J=18Hz), 3.84(1H,
d, J=18Hz), 5.16(1H, d, J=4.8Hz), 5.05-5.25(2H, b
r), 5.88-6.01(3H, m), 6.70-6.84(2H, m), 7.09(1H,
s), 7.34(1H, d, J=15.2Hz), 7.52(1H, dd, J=10.2, 1
5.2Hz), 8.41(1H, bs), 8.52(1H, bs), 8.57(1H, bs),
10.90-11.00(1H, br)。 実施例17-10 ピバロイルオキシメチル 7β-[2-(2-アミノチアゾール-
4-イル)-2(Z)-メトキシイミノアセトアミド]-3-[4-(1,
2,5-チアジアゾール-4-イル)-(1E,3E)-1,3-ブタンジエ
ニル]-3-セフェム-4-カルボキシレート IR(KBr) cm^-1：3200, 1780, 1750, 1680, 1620。NMR(CD
Cl₃)：1.25(9H, s), 3.66(1H, d, J=18.0Hz), 3.83(1H,
d, J=18.0Hz), 4.09(3H, s), 5.16(1H, d, J=4.8Hz),
5.25-5.32(2H, br), 5.91(1H, d, J=5.4Hz), 5.97(1H,
d, J=5.4Hz), 6.02(1H, dd, J=4.8, 8.6Hz), 6.72(1H,
dd, J=10.6, 15.4Hz), 6.91(1H, d, J=15.4Hz), 6.95(1
H, s), 7.23-7.28(3H, m), 8.65(1H, s)。

【００６６】実施例化合物の化学構造式は次の通りであ
る。

【化１６】

【００６７】

【発明の効果】本発明のセフェム化合物〔Ｉ〕またはそ
のエステルあるいはその塩は、グラム陰性菌およびグラ
ム陽性菌に対して広範囲の抗菌スペクトルと優れた抗菌
作用を有しており、これらの菌に基づく感染症に対し有
効な抗菌剤を提供することができる。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】式 【化１】 〔式中、Ｒ¹は保護されていてもよいアミノ基を、Ｒ²は
   水素原子または炭素原子を介して結合する基を、Ａは置
   換されていもよい複素環基を、Ｑは窒素原子またはＣＨ
   をそれぞれ示す。〕で表される化合物またはそのエステ
   ルあるいはその塩。
2. 【請求項２】Ｒ²が水素原子または低級アルキル基であ
   る請求項１記載の化合物。
3. 【請求項３】式 【化２】 〔式中の記号は請求項１記載と同意義を示す。〕で表さ
   れる化合物またはそのエステルあるいはその塩と式 【化３】 〔式中の記号は請求項１記載と同意義を示す。〕で表さ
   れるカルボン酸またはその塩もしくは反応性誘導体とを
   反応させ、必要に応じて保護基を除去することを特徴と
   する請求項１記載の化合物の製造法。
4. 【請求項４】式 【化４】 で表される化合物またはそのエステルあるいはその塩と
   式 Ａ−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｙ 〔式中、ＸとＹとは互いに反応して二重結合を形成する
   基を、その他の記号は請求項１記載と同意義を示す。〕
   で表わされる化合物とを反応させ、必要に応じて保護基
   を除去することを特徴とする請求項１記載の化合物の製
   造法。
5. 【請求項５】請求項１記載の化合物を含有する医薬。
6. 【請求項６】抗菌剤である請求項５記載の医薬。