JPH0831175A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH0831175A
JPH0831175A JP6187808A JP18780894A JPH0831175A JP H0831175 A JPH0831175 A JP H0831175A JP 6187808 A JP6187808 A JP 6187808A JP 18780894 A JP18780894 A JP 18780894A JP H0831175 A JPH0831175 A JP H0831175A
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JP
Japan
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mat
common data
signal
memory
high level
Prior art date
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Pending
Application number
JP6187808A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshinori Taruishi
敏伯 垂石
Yoshinori Matsumoto
美紀 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Japan Display Inc
Original Assignee
Hitachi Device Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Device Engineering Co Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Device Engineering Co Ltd
Priority to JP6187808A priority Critical patent/JPH0831175A/en
Publication of JPH0831175A publication Critical patent/JPH0831175A/en
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 シンクロナスDRAM等のブロックライトモ
ードのIOマスク時における読み出しデータの競合を防
止し、レベル反転を防止する。これにより、その低コス
ト化を阻害することなく、シンクロナスDRAM等の信
頼性を高める。 【構成】 IOマスク可能なブロックライトモードを有
するシンクロナスDRAM等において、例えば回路の電
源電圧とマット間相補共通データ線IC00*の非反転
及び反転信号線との間に、非選択時にオン状態とされる
ことでマット間相補共通データ線IC00*の非反転及
び反転信号線をハイレベルにプリチャージするPチャン
ネル型のプリチャージMOSFETP2〜P4を設け、
これらのMOSFETをブロックライトモードのIOマ
スク時、IOマスク制御信号MIO0がハイレベルとさ
れるときにもオン状態とする。
(57) [Abstract] [Purpose] To prevent contention of read data and prevent level inversion when an IO mask is used in a block write mode of a synchronous DRAM or the like. As a result, the reliability of the synchronous DRAM or the like is improved without impeding the cost reduction. In a synchronous DRAM or the like having a block write mode capable of IO masking, for example, between a power supply voltage of a circuit and a non-inversion of an inter-mat complementary common data line IC00 * and an inversion signal line, an ON state is set when not selected. As a result, P channel type precharge MOSFETs P2 to P4 for precharging the non-inverted and inverted signal lines of the inter-mat complementary common data line IC00 * to a high level are provided,
These MOSFETs are turned on even when the IO mask control signal MIO0 is set to the high level during the IO mask in the block write mode.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は半導体記憶装置に関
し、例えば、ブロックライトモードを有するシンクロナ
スDRAM(ダイナミック型ランダムアクセスメモリ)
ならびにそのIOマスク制御に利用して特に有効な技術
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, for example, a synchronous DRAM (dynamic random access memory) having a block write mode.
In addition, the present invention relates to a technique that is particularly effective in controlling the IO mask.

【0002】[0002]

【従来の技術】その動作が所定のクロック信号に従って
同期化されるいわゆるシンクロナスDRAMがある。ま
た、共通データ線と複数のビット線とを同時接続して複
数のアドレスに同一内容を書き込むいわゆるブロックラ
イトモードがあり、このようなブロックライトモードを
有するマルチポートビデオRAMがある。
2. Description of the Related Art There is a so-called synchronous DRAM whose operation is synchronized according to a predetermined clock signal. Further, there is a so-called block write mode in which a common data line and a plurality of bit lines are simultaneously connected to write the same content to a plurality of addresses, and there is a multi-port video RAM having such a block write mode.

【0003】ブロックライトモードを有するマルチポー
トビデオRAMについて、例えば、平成3年2月26
日、株式会社日立製作所発行の『HM534253Aシ
リーズ262144−Word×4−Bit Mult
iport CMOS Video RAM データシ
ート』に記載されている。
Regarding a multi-port video RAM having a block write mode, for example, February 26, 1991.
Published by Hitachi, Ltd., "HM534253A Series 262144-Word x 4-Bit Mult"
iport CMOS Video RAM Data Sheet ”.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】近年、シンクロナスD
RAMは、ビデオRAMと同様な分野で用いられること
が多く、画面の初期化や背景着色時等において有効なブ
ロックライトモードに対する顧客要求が高まりつつあ
る。このような要求に対処するため、本願発明者等は、
この発明に先立って、ブロックライトモードを有するシ
ンクロナスDRAMを開発し、次のような問題点に直面
した。すなわち、画面表示に用いられるシンクロナスD
RAMのブロックライトモードでは、例えば書き込みを
カラーデータのビット方向に選択的にマスクするいわゆ
るIOマスク機能と、画面の走査線方向つまりカラムア
ドレス方向に選択的にマスクするいわゆるアドレスマス
ク機能とが要求される。このうち、アドレスマスク機能
は、図8に例示されるように、カラーデータの各ビット
に対応して設けられるマット内相補共通データ線AC0
*(ここで、例えば非反転マット内共通データ線AC0
Tと反転マット内共通データ線AC0Bとをあわせてマ
ット内相補共通データ線AC0*のように*を付して表
す。また、それが有効とされるとき選択的にハイレベル
とされるいわゆる非反転信号等についてはその名称の末
尾にTを付して表し、それが有効とされるとき選択的に
ロウレベルとされるいわゆる反転信号等についてはその
名称の末尾にBを付して表す。以下同様)と単位メモリ
アレイUMA0の相補ビット線B0*〜B7*とを接続
するためのビット線選択信号YS0〜YS7を選択的に
形成することで実現できるが、IOマスク機能の場合、
データ入出力回路IOからマット間相補共通データ線I
C00*及びマット内相補共通データ線AC0*を介す
る書き込み信号の供給を選択的に停止する必要がある。
In recent years, Synchronous D
RAMs are often used in the same fields as video RAMs, and customer demands for a block write mode effective during screen initialization and background coloring are increasing. In order to deal with such a demand, the inventors of the present application have
Prior to the present invention, a synchronous DRAM having a block write mode was developed, and the following problems were encountered. That is, the synchronous D used for the screen display
In the block write mode of RAM, for example, a so-called IO mask function of selectively masking writing in the bit direction of color data and a so-called address mask function of selectively masking in the scanning line direction of the screen, that is, the column address direction are required. It Among them, the address mask function has an in-mat complementary common data line AC0 provided corresponding to each bit of color data, as illustrated in FIG.
* (Here, for example, the common data line AC0 in the non-inversion mat
T and the common data line AC0B in the inverted mat are collectively indicated by an asterisk such as a complementary common data line AC0 * in the mat. Further, a so-called non-inverted signal or the like which is selectively set to high level when it is validated is represented by adding T to the end of the name, and is selectively set to low level when it is validated. A so-called inverted signal or the like is represented by adding B to the end of its name. The same applies hereinafter) can be realized by selectively forming the bit line selection signals YS0 to YS7 for connecting the complementary bit lines B0 * to B7 * of the unit memory array UMA0.
Complementary common data line I between the data input / output circuit IO and the mat
It is necessary to selectively stop the supply of the write signal via C00 * and the complementary common data line AC0 * in the mat.

【0005】ところが、シンクロナスDRAMでは、メ
モリアレイの高集積化を図るため、カラムアドレスデコ
ーダにより形成されるビット線選択信号YS0〜YS7
等を図の水平方向に隣接して配置される複数のメモリマ
ットつまりは単位メモリアレイUMA0等及び単位セン
スアンプUS0等で共有する方法を採っており、ビット
線選択信号YS0〜YS7等は、IOマスク時において
も停止されることなく形成される。したがって、特に例
えば8組の相補ビット線が同時にマット内相補共通デー
タ線AC0*に接続されるブロックライトモードでは、
このマット内相補共通データ線AC0*上において選択
された8組の相補ビット線の読み出しデータが競合し、
その論理レベルが偏った最悪の場合には少数派データの
再書き込み後における論理レベルの反転を招くおそれも
ある。これに対処するため、本願発明者等は、図8に示
されるように、ビット線選択信号YS0〜YS7等に従
って選択的にオン状態とされるスイッチMOSFET
(金属酸化物半導体型電界効果トランジスタ。この明細
書では、MOSFETをして絶縁ゲート型電界効果トラ
ンジスタの総称とする)N2及びN3とマット内相補共
通データ線AC0*との間に、IOマスク時、反転IO
マスク制御信号MIO0Bのロウレベルを受けて選択的
にオフ状態とされるNチャンネルMOSFETN9及び
N10を設けることを考えた。しかし、この方法では、
高集積化を要求される単位センスアンプUS0等の所要
レイアウト面積が増大して、シンクロナスDRAMのチ
ップサイズが大きくなり、その低コスト化が阻害される
結果となる。
However, in the synchronous DRAM, in order to achieve high integration of the memory array, the bit line selection signals YS0 to YS7 formed by the column address decoder are used.
Are shared by a plurality of memory mats arranged adjacent to each other in the horizontal direction in the figure, that is, a unit memory array UMA0 and the like and a unit sense amplifier US0 and the like, and the bit line selection signals YS0 to YS7 are It is formed without stopping even during masking. Therefore, particularly in the block write mode in which, for example, eight complementary bit lines are simultaneously connected to the in-mat complementary common data line AC0 *,
The read data of the eight complementary bit lines selected on the complementary common data line AC0 * in the mat compete with each other,
In the worst case where the logic level is biased, there is a possibility that the logic level may be inverted after rewriting the minority data. To deal with this, the inventors of the present application, as shown in FIG. 8, switch MOSFETs that are selectively turned on in accordance with bit line selection signals YS0 to YS7 and the like.
(Metal oxide semiconductor type field effect transistor. In this specification, MOSFETs are collectively referred to as insulated gate field effect transistors.) Between N2 and N3 and the complementary common data line AC0 * in the mat, at the time of IO masking. , Inversion IO
It was considered to provide N-channel MOSFETs N9 and N10 which are selectively turned off in response to the low level of the mask control signal MIO0B. But with this method,
As a result, the required layout area of the unit sense amplifier US0 or the like, which is required to be highly integrated, is increased, the chip size of the synchronous DRAM is increased, and the cost reduction is hindered.

【0006】この発明の目的は、シンクロナスDRAM
等のブロックライトモードのIOマスク時における読み
出しデータの競合を防止し、その再書き込み後における
レベル反転を防止することにある。この発明の他の目的
は、その低コスト化を阻害されることなく、シンクロナ
スDRAM等の信頼性を高めることにある。
An object of the present invention is to provide a synchronous DRAM.
It is to prevent contention of read data at the time of IO mask in the block write mode, and to prevent level inversion after rewriting. Another object of the present invention is to improve the reliability of a synchronous DRAM or the like without impeding cost reduction.

【0007】この発明の前記ならびにその他の目的と新
規な特徴は、この明細書の記述及び添付図面から明らか
になるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次
の通りである。すなわち、IOマスク可能なブロックラ
イトモードを有するシンクロナスDRAM等において、
例えば回路の電源電圧と書き込み信号を伝達する相補共
通データ線の非反転及び反転信号線との間に、非選択時
選択的にオン状態とされることで相補共通データ線の非
反転及び反転信号線をハイレベルにプリチャージするP
チャンネルMOSFETを設け、これらのMOSFET
をブロックライトモードのIOマスク時にもオン状態と
する。
The outline of the representative one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, in a synchronous DRAM or the like having a block write mode capable of IO masking,
For example, the non-inverted and inverted signals of the complementary common data line are selectively turned on during non-selection between the power supply voltage of the circuit and the non-inverted and inverted signal lines of the complementary common data line transmitting the write signal. P to precharge the line to high level
Providing channel MOSFETs, these MOSFETs
Is also turned on during the IO mask in the block write mode.

【0009】[0009]

【作用】上記した手段によれば、ビット線ごとにマスク
制御のためのスイッチMOSFETを設けることなく、
IOマスクの対象となる相補共通データ線の非反転及び
反転信号線のレベルを充分に高くして、同時選択された
複数の相補ビット線の読み出しデータの競合を防止でき
るため、これらの読み出しデータの論理レベルが偏った
場合でも、少数派データの再書き込み後におけるレベル
反転を防止することができる。この結果、その低コスト
化を阻害することなく、ブロックライトモードを有する
シンクロナスDRAM等の信頼性を高めることができ
る。
According to the above-mentioned means, the switch MOSFET for mask control is not provided for each bit line,
Since the levels of the non-inverted and inverted signal lines of the complementary common data line that is the target of the IO mask can be made sufficiently high to prevent the read data of the plurality of simultaneously selected complementary bit lines from conflicting with each other, the read data of these read data can be prevented. Even if the logic levels are biased, it is possible to prevent the level inversion after rewriting the minority data. As a result, it is possible to enhance the reliability of the synchronous DRAM having the block write mode and the like without impeding the cost reduction.

【0010】[0010]

【実施例】図1には、この発明が適用されたシンクロナ
スDRAMの一実施例のブロック図が示され、図2に
は、図1のシンクロナスDRAMに含まれるバンクBA
NK0の一実施例のブロック図が示されている。また、
図3には、図2のバンクBANK0に含まれるメモリブ
ロックMB0の一実施例のブロック図が示され、図4に
は、図3のメモリブロックMB0のメモリマットMAT
0を構成する単位メモリアレイUMA0及び単位センス
アンプUS0の一実施例の部分的な回路図が示されてい
る。さらに、図5には、図1のシンクロナスDRAMに
含まれるデータ入出力回路IOの一実施例の部分的な回
路図が示されている。これらの図をもとに、まずこの実
施例のシンクロナスDRAMの構成及び動作の概要につ
いて説明する。なお、図1の各ブロックを構成する回路
素子は、公知のMOSFET集積回路の製造技術によ
り、単結晶シリコンのような1個の半導体基板上に形成
される。また、以下の回路図において、そのチャンネル
(バックゲート)部に矢印が付されるMOSFETはP
チャンネル型であり、矢印の付されないNチャンネルM
OSFETと区別して示される。さらに、図2では、バ
ンクBANK0を例にバンクBANK0〜BANK1を
説明し、図3では、メモリブロックMB0を例にメモリ
ブロックMB0〜MBF(ここで、16個設けられるメ
モリブロック等の追番は16進数により表示される。以
下同様)を説明し、図4では、メモリマットMAT0を
例にメモリマットMAT0〜MAT7を説明し、図5で
は、ライトアンプWA0を例にライトアンプWA0〜W
AFを説明する。
1 shows a block diagram of an embodiment of a synchronous DRAM to which the invention is applied, and FIG. 2 shows a bank BA included in the synchronous DRAM of FIG.
A block diagram of one embodiment of NK0 is shown. Also,
FIG. 3 shows a block diagram of an embodiment of the memory block MB0 included in the bank BANK0 of FIG. 2, and FIG. 4 shows a memory mat MAT of the memory block MB0 of FIG.
A partial circuit diagram of one embodiment of the unit memory array UMA0 and the unit sense amplifier US0 constituting 0 is shown. Further, FIG. 5 shows a partial circuit diagram of an embodiment of the data input / output circuit IO included in the synchronous DRAM of FIG. Based on these figures, the outline of the configuration and operation of the synchronous DRAM of this embodiment will be described first. The circuit elements forming each block in FIG. 1 are formed on a single semiconductor substrate such as single crystal silicon by a known MOSFET integrated circuit manufacturing technique. In the following circuit diagram, the MOSFET whose channel (back gate) part has an arrow is P
Channel type, N channel M without arrow
It is shown separately from the OSFET. Further, in FIG. 2, the banks BANK0 to BANK1 will be described by taking the bank BANK0 as an example, and in FIG. 3, the memory blocks MB0 to MBF will be taken as an example by taking the memory block MB0 as an example. (Displayed in a decimal number. The same shall apply hereinafter.), The memory mats MAT0 to MAT7 will be described with reference to FIG. 4 as an example, and the write amplifiers WA0 to W will be described with reference to FIG.
AF will be described.

【0011】図1において、この実施例のシンクロナス
DRAMはバンクBANK0及びBANK1を備え、こ
れらのバンクのそれぞれは、そのレイアウト面積の大半
を占めて配置されるメモリアレイMARYと、直接周辺
回路となるロウアドレスデコーダRD,センスアンプS
A及びカラムアドレスデコーダCDとを含む。
In FIG. 1, the synchronous DRAM of this embodiment includes banks BANK0 and BANK1, each of which serves as a memory array MARY occupying most of its layout area and a direct peripheral circuit. Row address decoder RD, sense amplifier S
A and column address decoder CD.

【0012】この実施例において、シンクロナスDRA
Mは、×16ビット構成とされ、16個のデータ入出力
端子D0〜DFを備える。また、バンクBANK0及び
BANK1を構成するメモリアレイMARYは、図2に
例示されるように、データ入出力端子D0〜DFに対応
してそれぞれ16個のメモリアレイMARY0〜MAR
YFに分割され、センスアンプSA及びロウアドレスデ
コーダRDも、これに対応してそれぞれ16個のセンス
アンプSA0〜SAFならびにロウアドレスデコーダR
D0〜RDFに分割される。これらのメモリアレイ及び
センスアンプならびにロウアドレスデコーダは、それぞ
れメモリブロックMB0〜MBFを構成する。また、入
出力データの上位又は下位8ビットに対応してそれぞれ
8個ずつビット線延長方向に隣接配置され、その左端に
は、2個に分割されたカラムアドレスデコーダCDつま
りカラムアドレスデコーダCD0及びCD1がそれぞれ
配置される。これにより、カラムアドレスデコーダCD
0及びCD1は、対応する8個のメモリブロックMB0
〜MBFによりそれぞれ共有され、これらのカラムアド
レスデコーダから出力されるビット線選択信号YS0〜
YSnも、対応する8個のメモリブロックMB0〜MB
Fによりそれぞれ共有される。
In this embodiment, the synchronous DRA
M has a 16-bit configuration and includes 16 data input / output terminals D0 to DF. Further, the memory arrays MARY forming the banks BANK0 and BANK1 respectively have 16 memory arrays MARY0 to MAR corresponding to the data input / output terminals D0 to DF as illustrated in FIG.
The sense amplifier SA and the row address decoder RD are also divided into YFs, and the sense amplifier SA and the row address decoder RD are also provided with 16 sense amplifiers SA0 to SAF and the row address decoder R, respectively.
It is divided into D0 to RDF. These memory array, sense amplifier, and row address decoder form memory blocks MB0 to MBF, respectively. In addition, eight columns each corresponding to the upper or lower eight bits of the input / output data are arranged adjacent to each other in the bit line extension direction, and a column address decoder CD divided into two columns, that is, column address decoders CD0 and CD1 is provided at the left end thereof. Are arranged respectively. As a result, the column address decoder CD
0 and CD1 correspond to eight corresponding memory blocks MB0
To MBF, bit line selection signals YS0 to YS0 output from these column address decoders are shared.
YSn also has eight corresponding memory blocks MB0 to MB
Shared by F respectively.

【0013】一方、図2のメモリブロックMB0〜MB
Fを構成するメモリアレイMARY0〜MARYFは、
図3に例示されるように、さらに最小単位である8個の
単位メモリアレイUMA0〜UMA7に分割され、セン
スアンプSA0及びロウアドレスデコーダRD0も、こ
れに対応して8個の単位センスアンプUS0〜US7な
らびに単位ロウアドレスデコーダURD0〜URD7に
それぞれ分割される。これらの単位メモリアレイ,単位
センスアンプならびに単位ロウアドレスデコーダは、そ
れぞれメモリマットMAT0〜MATFを構成する。以
下、メモリマットMAT0とこれを構成する単位メモリ
アレイUMA0〜UMA7,単位センスアンプUS0〜
US7ならびに単位ロウアドレスデコーダURD0〜U
RD7を例に、メモリマットMAT0〜MAT7の具体
的説明を進める。
On the other hand, the memory blocks MB0 to MB shown in FIG.
The memory arrays MARY0 to MARYF forming F are
As illustrated in FIG. 3, the unit memory array is further divided into eight unit memory arrays UMA0 to UMA7 which are the minimum units, and the sense amplifier SA0 and the row address decoder RD0 also correspond to the eight unit sense amplifiers US0 to US0. It is divided into US7 and unit row address decoders URD0 to URD7. These unit memory array, unit sense amplifier and unit row address decoder form memory mats MAT0 to MATF, respectively. Hereinafter, the memory mat MAT0, the unit memory arrays UMA0 to UMA7 and the unit sense amplifiers US0 to US0 to
US7 and unit row address decoders URD0 to URD
Taking the RD7 as an example, a specific description of the memory mats MAT0 to MAT7 will be given.

【0014】メモリマットMAT0を構成する単位セン
スアンプUS0〜US7には、タイミング発生回路TG
から内部制御信号PAが共通に供給され、マット選択回
路MSから対応するマット選択信号MS0〜MS7が供
給される。また、単位ロウアドレスデコーダURD0〜
URD7には、タイミング発生回路TGから内部制御信
号RGが共通に供給されるとともに、ロウアドレスバッ
ファRBから内部アドレス信号X0〜Xi−4が共通に
供給され、さらにマット選択回路MSから対応するマッ
ト選択信号MS0〜MS7が供給される。
The unit sense amplifiers US0 to US7 forming the memory mat MAT0 include timing generation circuits TG.
To the internal control signal PA in common, and the mat selection circuit MS supplies corresponding mat selection signals MS0 to MS7. Further, the unit row address decoders URD0 to URD0
The URD7 is commonly supplied with the internal control signal RG from the timing generation circuit TG, the common address signals X0 to Xi-4 from the row address buffer RB, and the mat selection circuit MS with the corresponding mat selection. The signals MS0 to MS7 are supplied.

【0015】ここで、メモリマットMAT0を構成する
単位メモリアレイUMA0〜UMA7のそれぞれは、図
4に例示されるように、図の垂直方向に平行して配置さ
れるm+1本のワード線W0〜Wmと、水平方向に平行
して配置されるn+1組の相補ビット線B0*〜Bn*
とを含む。これらのワード線及び相補ビット線の交点に
は、情報蓄積キャパシタCs及びアドレス選択MOSF
ETQaからなる(m+1)×(n+1)個のダイナミ
ック型メモリセルが格子状に配置される。単位メモリア
レイUMA0〜UMA7の同一列に配置されるm+1個
のメモリセルのアドレス選択MOSFETQaのドレイ
ンは、対応する相補ビット線B0*〜Bn*の非反転又
は反転信号線に所定の規則性をもって交互に結合され
る。また、同一行に配置されるn+1個のメモリセルの
アドレス選択MOSFETQaのゲートは、対応するワ
ード線W0〜Wmにそれぞれ共通結合される。単位メモ
リアレイUMA0〜UMA7を構成するすべてのメモリ
セルの情報蓄積キャパシタCsの他方の電極には、所定
の内部電圧HVが共通に供給される。なお、内部電圧H
Vは、回路の電源電圧及び接地電位間の二分の一の電位
とされる。
Here, each of the unit memory arrays UMA0 to UMA7 forming the memory mat MAT0 is, as illustrated in FIG. 4, m + 1 word lines W0 to Wm arranged in parallel in the vertical direction of the drawing. And n + 1 sets of complementary bit lines B0 * to Bn * arranged in parallel in the horizontal direction.
And An information storage capacitor Cs and an address selection MOSF are provided at the intersections of these word lines and complementary bit lines.
(M + 1) × (n + 1) dynamic memory cells made of ETQa are arranged in a grid pattern. The drains of the address selection MOSFETs Qa of the m + 1 memory cells arranged in the same column of the unit memory arrays UMA0 to UMA7 alternate with the non-inversion or inversion signal lines of the corresponding complementary bit lines B0 * to Bn * with a predetermined regularity. Be combined with. Further, the gates of the address selection MOSFETs Qa of the n + 1 memory cells arranged in the same row are commonly coupled to the corresponding word lines W0 to Wm. A predetermined internal voltage HV is commonly supplied to the other electrodes of the information storage capacitors Cs of all the memory cells forming the unit memory arrays UMA0 to UMA7. The internal voltage H
V is set to a half potential between the power supply voltage of the circuit and the ground potential.

【0016】メモリマットMAT0の単位メモリアレイ
UMA0〜UMA7を構成するワード線W0〜Wmは、
対応する単位ロウアドレスデコーダURD0〜URD7
に結合され、それぞれ択一的に選択状態とされる。これ
らの単位ロウアドレスデコーダには、ロウアドレスバッ
ファRBから上位4ビットを除くi−3ビットの内部ア
ドレス信号X0〜Xi−4が供給されるとともに、タイ
ミング発生回路TGから内部制御信号RGが供給され、
さらにマット選択回路MSから対応するマット選択信号
MS0〜MS7が供給される。ロウアドレスバッファR
Bには、アドレス入力端子A0〜Aiを介してXアドレ
ス信号AX0〜AXiが時分割的に供給され、タイミン
グ発生回路TGから内部制御信号RLが供給される。
The word lines W0 to Wm forming the unit memory arrays UMA0 to UMA7 of the memory mat MAT0 are
Corresponding unit row address decoders URD0 to URD7
Are connected to each other, and each of them is selectively put into a selected state. These unit row address decoders are supplied with the internal address signals X0 to Xi-4 of i-3 bits excluding the upper 4 bits from the row address buffer RB and the internal control signal RG from the timing generation circuit TG. ,
Further, corresponding mat selection signals MS0 to MS7 are supplied from the mat selection circuit MS. Row address buffer R
B is supplied with X address signals AX0 to AXi in a time division manner via address input terminals A0 to Ai, and an internal control signal RL is supplied from a timing generation circuit TG.

【0017】ロウアドレスバッファRBは、アドレス入
力端子A0〜Aiを介して入力されるXアドレス信号A
X0〜AXiを内部制御信号RLに従って取り込み、保
持するとともに、これらのXアドレス信号をもとに内部
アドレス信号X0〜Xiを形成する。このうち、最上位
ビットの内部アドレス信号Xiは、バンク選択回路BS
に供給され、次位3ビットの内部アドレス信号Xi−3
〜Xi−1は、マット選択回路MSに供給される。ま
た、残りi−3ビットの内部アドレス信号X0〜Xi−
4は、上記のように、バンクBANK0及びBANK1
のメモリブロックMB0〜MBFのメモリマットMAT
0〜MAT7を構成するすべての単位ロウアドレスデコ
ーダURD0〜URD7に共通に供給される。
The row address buffer RB has an X address signal A input via address input terminals A0 to Ai.
X0 to AXi are fetched and held according to internal control signal RL, and internal address signals X0 to Xi are formed based on these X address signals. Of these, the internal address signal Xi of the most significant bit is the bank selection circuit BS.
And an internal address signal Xi-3 of the next 3 bits.
~ Xi-1 are supplied to the mat selection circuit MS. Further, the remaining i-3 bit internal address signals X0 to Xi-
4 are banks BANK0 and BANK1 as described above.
Memory blocks MAT of memory blocks MB0 to MBF
0 to MAT7 are commonly supplied to all unit row address decoders URD0 to URD7.

【0018】バンク選択回路BSは、ロウアドレスバッ
ファRBから供給される内部アドレス信号Xiをデコー
ドして、対応するバンク選択信号BS0〜BS1を選択
的にハイレベルとする。また、マット選択回路MSは、
内部アドレス信号Xi−3〜Xi−1をデコードして、
対応するマット選択信号MS0〜MS7を択一的にハイ
レベルとする。バンク選択信号BS0〜BS1は、デー
タ入出力回路IOならびにカラムアドレスデコーダCD
0及びCD1を含むシンクロナスDRAMの各部に供給
され、マット選択信号MS0〜MS7は、バンクBAN
K0〜BANK1のメモリブロックMB0〜MBFの対
応するメモリマットMAT0〜MAT7を構成する単位
センスアンプUS0〜US7ならびに単位ロウアドレス
デコーダURD0〜URD7にそれぞれ共通に供給され
る。
The bank selection circuit BS decodes the internal address signal Xi supplied from the row address buffer RB and selectively sets the corresponding bank selection signals BS0 to BS1 to the high level. Further, the mat selection circuit MS is
By decoding the internal address signals Xi-3 to Xi-1,
The corresponding mat selection signals MS0 to MS7 are alternatively set to the high level. The bank selection signals BS0 to BS1 are used for the data input / output circuit IO and the column address decoder CD.
0 and CD1 supplied to each part of the synchronous DRAM, and the mat select signals MS0 to MS7 are stored in the bank BAN.
It is commonly supplied to the unit sense amplifiers US0 to US7 and the unit row address decoders URD0 to URD7 forming the corresponding memory mats MAT0 to MAT7 of the memory blocks MB0 to MBF of K0 to BANK1.

【0019】一方、メモリマットMAT0を構成する単
位ロウアドレスデコーダURD0〜URD7は、内部制
御信号RGがハイレベルとされかつ対応するマット選択
信号MS0〜MS7がハイレベルとされることで、それ
ぞれ選択的に動作状態とされる。この動作状態におい
て、各単位ロウアドレスデコーダは、内部アドレス信号
X0〜Xi−4をデコードして、対応する単位メモリア
レイUMA0〜UMA7のワード線W0〜Wmをそれぞ
れ択一的にハイレベルの選択状態とする。
On the other hand, the unit row address decoders URD0 to URD7 forming the memory mat MAT0 are selectively activated by setting the internal control signal RG to the high level and the corresponding mat selection signals MS0 to MS7. Is activated. In this operation state, each unit row address decoder decodes the internal address signals X0 to Xi-4 to selectively select the high level selected state of the word lines W0 to Wm of the corresponding unit memory arrays UMA0 to UMA7. And

【0020】次に、メモリマットMAT0の単位メモリ
アレイUMA0〜UMA7を構成する相補ビット線B0
*〜Bn*は、対応する単位センスアンプUS0〜US
7の対応する単位回路にそれぞれ結合される。これらの
単位センスアンプには、対応するカラムアドレスデコー
ダCD0からn+1ビットのビット線選択信号YS0〜
YSnが共通に供給される。また、前述のように、タイ
ミング発生回路TGから内部制御信号PAが共通に供給
されるとともに、マット選択回路MSから対応するマッ
ト選択信号MS0〜MS7がそれぞれ供給される。
Next, the complementary bit line B0 forming the unit memory arrays UMA0 to UMA7 of the memory mat MAT0.
* To Bn * are the corresponding unit sense amplifiers US0 to US
7 corresponding unit circuits, respectively. These unit sense amplifiers have a bit line selection signal YS0 of n + 1 bits from the corresponding column address decoder CD0.
YSn is commonly supplied. Further, as described above, the timing generation circuit TG commonly supplies the internal control signal PA, and the mat selection circuit MS also supplies the corresponding mat selection signals MS0 to MS7.

【0021】メモリマットMAT0の単位センスアンプ
US0〜US7は、対応する単位メモリアレイUMA0
〜UMA7の相補ビット線B0*〜Bn*に対応して設
けられるn+1個の単位回路をそれぞれ含み、これらの
単位回路のそれぞれは、図4に例示されるように、一対
のCMOSインバータが交差結合されてなる単位増幅回
路USA0〜USAnと、これらの単位増幅回路の非反
転及び反転入出力ノードつまりは対応する単位メモリア
レイUMA0〜UMA7の相補ビット線B0*〜Bn*
と対応するマット内相補共通データ線AC0*〜AC7
*との間にそれぞれ設けられるNチャンネル型のスイッ
チMOSFETN2及びN3とを含む。以下、単位セン
スアンプUS0を例に具体的説明を進める。
The unit sense amplifiers US0 to US7 of the memory mat MAT0 correspond to the corresponding unit memory array UMA0.
To UMA7 complementary bit lines B0 * to Bn *, each of which includes n + 1 unit circuits. Each of these unit circuits includes a pair of CMOS inverters cross-coupled as illustrated in FIG. And the complementary bit lines B0 * to Bn * of the corresponding unit memory arrays UMA0 to UMA7.
In-mat complementary common data lines AC0 * to AC7 corresponding to
It includes N-channel type switch MOSFETs N2 and N3 which are respectively provided between and. Hereinafter, a specific description will be given by taking the unit sense amplifier US0 as an example.

【0022】単位センスアンプUS0の各単位回路を構
成する単位増幅回路USA0〜USAnには、Pチャン
ネル駆動MOSFETP1及びコモンソース線SPを介
して回路の電源電圧が選択的に供給され、Nチャンネル
駆動MOSFETN1及びコモンソース線SNを介して
回路の接地電位が選択的に供給される。駆動MOSFE
TP1のゲートには、ナンドゲートG5の反転内部信号
PM0Bが供給され、駆動MOSFETN1のゲートに
は、そのインバータV3による反転信号が供給される。
ナンドゲートG5の一方の入力端子には内部制御信号P
Aが供給され、その他方の入力端子には対応するマット
選択信号MS0が供給される。
The power supply voltage of the circuit is selectively supplied to the unit amplifier circuits USA0 to USAn forming each unit circuit of the unit sense amplifier US0 via the P-channel drive MOSFET P1 and the common source line SP, and the N-channel drive MOSFET N1. And the ground potential of the circuit is selectively supplied via the common source line SN. Drive MOSFE
The inverted internal signal PM0B of the NAND gate G5 is supplied to the gate of TP1, and the inverted signal of the inverter V3 is supplied to the gate of the drive MOSFET N1.
An internal control signal P is applied to one input terminal of the NAND gate G5.
A is supplied, and the corresponding mat selection signal MS0 is supplied to the other input terminal.

【0023】これにより、単位増幅回路USA0〜US
Anは、内部制御信号PAがハイレベルとされかつ対応
するマット選択信号MS0がハイレベルとされることで
選択的にかつ一斉に動作状態となり、対応する単位メモ
リアレイUMA0〜UMA7の選択されたワード線に結
合されるn+1個のメモリセルから対応する相補ビット
線B0*〜Bn*を介して出力される微小読み出し信号
をそれぞれ増幅して、ハイレベル又はロウレベルの2値
読み出し信号とする。
As a result, the unit amplifier circuits USA0 to US
When the internal control signal PA is set to the high level and the corresponding mat selection signal MS0 is set to the high level, An is selectively and simultaneously activated, and the selected word of the corresponding unit memory array UMA0 to UMA7 is selected. The minute read signals output from the corresponding n + 1 memory cells coupled to the lines via the corresponding complementary bit lines B0 * to Bn * are amplified and converted into high level or low level binary read signals.

【0024】一方、単位センスアンプUS0の各単位回
路を構成するスイッチMOSFETN2及びN3のゲー
トはそれぞれ共通結合され、カラムアドレスデコーダC
D0から対応するビット線選択信号YS0〜YSnが供
給される。これにより、スイッチMOSFETN2及び
N3は、対応するビット線選択信号YS0〜YSnのハ
イレベルを受けて選択的にオン状態となり、単位メモリ
アレイUMA0の対応する相補ビット線B0*〜Bn*
とマット内相補共通データ線AC0*との間を選択的に
接続状態とする。なお、ビット線選択信号YS0〜YS
nは、シンクロナスDRAMが通常の動作モードとされ
るとき択一的にハイレベルとされ、シンクロナスDRA
Mがブロックライトモードとされるとき、例えばYS0
〜YS7の組み合わせで8ビットずつ同時にハイレベル
とされる。このとき、単位センスアンプUS0では、8
組の相補ビット線B0*〜B7*が同時選択され、マッ
ト内相補共通データ線AC0*に対して同時接続され
る。
On the other hand, the gates of the switch MOSFETs N2 and N3 forming each unit circuit of the unit sense amplifier US0 are commonly coupled to each other, and the column address decoder C is used.
Corresponding bit line selection signals YS0 to YSn are supplied from D0. As a result, the switch MOSFETs N2 and N3 are selectively turned on in response to the high level of the corresponding bit line selection signals YS0 to YSn, and the corresponding complementary bit lines B0 * to Bn * of the unit memory array UMA0.
And the complementary common data line AC0 * in the mat are selectively connected. The bit line selection signals YS0 to YS
n is alternatively set to a high level when the synchronous DRAM is set to the normal operation mode, and the synchronous DRA
When M is set to the block write mode, for example, YS0
8 bits are simultaneously set to a high level by a combination of ~ YS7. At this time, in the unit sense amplifier US0, 8
A pair of complementary bit lines B0 * to B7 * are simultaneously selected and simultaneously connected to the in-mat complementary common data line AC0 *.

【0025】この実施例において、単位センスアンプU
S0は、さらに、マット内相補共通データ線AC0*の
非反転及び反転信号線間に設けられイコライズ回路を構
成する3個のNチャンネルMOSFETN4〜N6と、
対応するマット間相補共通データ線IC00*と対応す
るマット内相補共通データ線AC0*との間に設けられ
る2組のトランスファゲートT1及びT2とをそれぞれ
含む。このうち、トランスファゲートT1及びT2は、
対応するマット選択信号MS0のハイレベルを受けて選
択的にオン状態となり、対応するマット内相補共通デー
タ線AC0*とマット間相補共通データ線IC00*と
の間を選択的に接続状態とする。また、MOSFETN
4〜N6は、対応するマット選択信号MS0のロウレベ
ルを受けて選択的にオン状態となり、非選択時における
マット内相補共通データ線AC0*の非反転及び反転信
号線を内部電圧HVのような中間レベルとする。
In this embodiment, the unit sense amplifier U
S0 further includes three N-channel MOSFETs N4 to N6 that are provided between the non-inverted and inverted signal lines of the complementary common data line AC0 * in the mat to form an equalizing circuit,
It includes two sets of transfer gates T1 and T2 provided between corresponding inter-mat complementary common data line IC00 * and corresponding in-mat complementary common data line AC0 *. Of these, the transfer gates T1 and T2 are
Upon receiving the high level of the corresponding mat selection signal MS0, it is selectively turned on, and the corresponding in-mat complementary common data line AC0 * and inter-mat complementary common data line IC00 * are selectively connected. In addition, MOSFETN
4 to N6 are selectively turned on in response to the low level of the corresponding mat selection signal MS0, and the non-inversion and inversion signal lines of the mat in-mat complementary common data line AC0 * at the time of non-selection are set to an intermediate level such as the internal voltage HV. Level.

【0026】次に、バンクBANK0及びBANK1の
カラムアドレスデコーダCD0及びCD1には、カラム
アドレスバッファCBからi+1ビットの内部アドレス
信号Y0〜Yiが共通に供給される。また、タイミング
発生回路TGから内部制御信号CG及びBWが共通に供
給され、バンク選択回路BSから対応するバンク選択信
号BS0〜BS1が供給される。カラムアドレスバッフ
ァCBには、アドレス入力端子A0〜Aiを介してYア
ドレス信号AY0〜AYiが時分割的に供給され、タイ
ミング発生回路TGから内部制御信号CLが供給され
る。
Next, the column address decoders CB0 and CD1 of the banks BANK0 and BANK1 are commonly supplied with the internal address signals Y0 to Yi of i + 1 bits from the column address buffer CB. Further, the internal control signals CG and BW are commonly supplied from the timing generation circuit TG, and the corresponding bank selection signals BS0 to BS1 are supplied from the bank selection circuit BS. The column address buffer CB is supplied with the Y address signals AY0 to AYi in a time division manner via the address input terminals A0 to Ai, and is supplied with the internal control signal CL from the timing generation circuit TG.

【0027】カラムアドレスバッファCBは、アドレス
入力端子A0〜Aiを介して供給されるYアドレス信号
AY0〜AYiを内部制御信号CLに従って取り込み、
保持するとともに、これらのYアドレス信号をもとに内
部アドレス信号Y0〜Yiを形成して、各バンクのカラ
ムアドレスデコーダCD0及びCD1に供給する。ま
た、各バンクのカラムアドレスデコーダCD0及びCD
1は、対応するバンク選択信号BS0〜BS1ならびに
内部制御信号CGのハイレベルを受けて選択的に動作状
態とされ、内部アドレス信号Y0〜Yiをデコードし
て、上記ビット線選択信号YS0〜YSnをそれぞれ選
択的にハイレベルとする。
The column address buffer CB fetches the Y address signals AY0 to AYi supplied via the address input terminals A0 to Ai in accordance with the internal control signal CL,
The internal address signals Y0 to Yi are formed based on these Y address signals while being held and supplied to the column address decoders CD0 and CD1 of each bank. Also, the column address decoders CD0 and CD of each bank
1 is selectively activated by receiving the high level of the corresponding bank selection signals BS0 to BS1 and the internal control signal CG, decodes the internal address signals Y0 to Yi, and outputs the bit line selection signals YS0 to YSn. Select high level for each.

【0028】この実施例において、カラムアドレスデコ
ーダCD0〜CD1のそれぞれは、図4に例示されるよ
うに、ビット線選択信号YS0〜YSnに対応して4個
ずつ設けられるナンド(NAND)ゲートG1〜G4を
含む。このうち、ナンドゲートG4の一方の入力端子に
は、図示されない前段のデコーダ回路から対応するデコ
ード信号CDS0〜CDSnが供給され、その他方の入
力端子には、対応するブロック選択信号BWS0等のイ
ンバータV2による反転信号が順次8個ずつ共通に供給
される。また、ナンドゲートG3の一方の入力端子に
は、図示されないマスクレジスタから対応する反転アド
レスマスク制御信号MC0B〜MC7Bが供給され、そ
の他方の入力端子には、対応するブロック選択信号BW
S0等が順次8個ずつ共通に供給される。一方、ナンド
ゲートG2の二つの入力端子には、ナンドゲートG3及
びG4の出力信号がそれぞれ供給される。また、ナンド
ゲートG1の一方の入力端子には、ナンドゲートG2の
出力信号が供給され、その他方の入力端子には、内部制
御信号CGが共通に供給される。ナンドゲートG1の出
力信号は、インバータV1を経てビット線選択信号YS
0〜YSnとなり、バンクBANK0及びBANK1の
対応する8個のメモリブロックMB0〜MB7あるいは
MB8〜MBFのメモリマットMAT0〜MAT7を構
成するすべての単位センスアンプUS0〜US7にそれ
ぞれ共通に供給される。
In this embodiment, each of the column address decoders CD0-CD1 is provided with four NAND gates G1-G1 corresponding to the bit line selection signals YS0-YSn, as shown in FIG. Including G4. Of these, one of the input terminals of the NAND gate G4 is supplied with the corresponding decode signals CDS0-CDSn from the decoder circuit (not shown) at the preceding stage, and the other input terminal is provided with the inverter V2 for the corresponding block selection signal BWS0 or the like. Eight inversion signals are sequentially supplied in common. Further, the corresponding inverted address mask control signals MC0B to MC7B are supplied from a mask register (not shown) to one input terminal of the NAND gate G3, and the corresponding block selection signal BW is supplied to the other input terminal.
S0 and the like are sequentially supplied commonly to each eight. On the other hand, the output signals of the NAND gates G3 and G4 are supplied to the two input terminals of the NAND gate G2, respectively. The output signal of the NAND gate G2 is supplied to one input terminal of the NAND gate G1, and the internal control signal CG is commonly supplied to the other input terminal. The output signal of the NAND gate G1 passes through the inverter V1 and the bit line selection signal YS.
0 to YSn, which are commonly supplied to all the unit sense amplifiers US0 to US7 constituting the memory mats MAT0 to MAT7 of the corresponding eight memory blocks MB0 to MB7 or MB8 to MBF of the banks BANK0 and BANK1.

【0029】これらのことから、ビット線選択信号YS
0〜YSnは、シンクロナスDRAMが通常の動作モー
ドとされ内部制御信号BWがロウレベルとされるとき、
対応するデコード信号CDS0〜CDSnのハイレベル
を受けてそれぞれ択一的にハイレベルとされ、シンクロ
ナスDRAMがブロックライトモードとされ内部制御信
号BWがハイレベルとされるとき、対応するブロック選
択信号BWS0等のハイレベルを受けてそれぞれ8ビッ
トずつ同時にハイレベルとされる。なお、ビット線選択
信号YS0〜YSnが、内部制御信号CGのハイレベル
を条件として形成されることは言うまでもない。また、
同時にハイレベルとされるべき8ビットのビット線選択
信号は、対応する反転アドレスマスク制御信号MC0B
〜MC7Bのロウレベルを受けて選択的にロウレベルの
ままとされ、これによってブロックライトモードにおけ
るカラム方向のアドレスマスク制御が行われる。
From these facts, the bit line selection signal YS
0 to YSn, when the synchronous DRAM is in the normal operation mode and the internal control signal BW is at low level,
When the corresponding decode signals CDS0 to CDSn are respectively set to the high level to be set to the high level, the synchronous DRAM is set to the block write mode, and the internal control signal BW is set to the high level, the corresponding block selection signal BWS0. In response to a high level such as 8 bits, 8 bits are simultaneously set to a high level. It goes without saying that the bit line selection signals YS0 to YSn are formed on the condition of the high level of the internal control signal CG. Also,
At the same time, the 8-bit bit line selection signal to be set to the high level is the corresponding inverted address mask control signal MC0B.
When the low level of MC7B is received, the low level is selectively maintained and the address mask control in the column direction in the block write mode is performed.

【0030】ところで、シンクロナスDRAMが通常の
動作モードとされビット線選択信号YS0〜YSnが択
一的にハイレベルとされるとき、バンクBANK0及び
BANK1のメモリブロックMB0〜MBFでは、前述
のように、マット選択信号MS0〜MS7により指定さ
れるメモリマットMAT0〜MAT7の単位メモリアレ
イUMA0〜UMA7を構成するワード線W0〜Wmが
それぞれ択一的にハイレベルとされ、合計16本の選択
ワード線に結合される16×(n+1)個のメモリセル
が対応する相補ビット線B0*〜B7*を介して対応す
る単位センスアンプUS0〜US7の対応する単位回路
に結合される。このとき、単位センスアンプUS0〜U
S7は、内部制御信号PA及び対応するマット選択信号
MS0〜MS7のハイレベルを受けて16個ずつ選択的
に活性化される。また、16個の単位メモリアレイにお
いて選択された合計16×(n+1)個のメモリセル
は、ビット線選択信号YS0〜YSnに従って対応する
マット内相補共通データ線AC0*〜AC7*にそれぞ
れ択一的に接続され、さらにマット選択信号MS0〜M
S7に従ってそれぞれ選択的に対応するマット間相補共
通データ線IC00*〜IC0F*あるいはIC10*
〜IC1F*に接続される。
By the way, when the synchronous DRAM is set to the normal operation mode and the bit line selection signals YS0 to YSn are alternatively set to the high level, the memory blocks MB0 to MBF of the banks BANK0 and BANK1 are as described above. , The word lines W0 to Wm forming the unit memory arrays UMA0 to UMA7 of the memory mats MAT0 to MAT7 designated by the mat selection signals MS0 to MS7 are alternatively set to a high level, and a total of 16 selected word lines are formed. 16 × (n + 1) memory cells to be coupled are coupled to corresponding unit circuits of corresponding unit sense amplifiers US0 to US7 via corresponding complementary bit lines B0 * to B7 *. At this time, the unit sense amplifiers US0 to U
S7 are selectively activated by 16 in response to the high level of the internal control signal PA and the corresponding mat selection signals MS0 to MS7. Further, a total of 16 × (n + 1) memory cells selected in the 16 unit memory arrays are respectively selected as corresponding in-mat complementary common data lines AC0 * to AC7 * according to bit line selection signals YS0 to YSn. And mat selection signals MS0 to MS
Inter-mat complementary common data lines IC00 * to IC0F * or IC10 * selectively corresponding to S7, respectively.
~ Connected to IC1F *.

【0031】マット間相補共通データ線IC00*〜I
C0F*ならびにIC10*〜IC1F*は、データ入
出力回路IOに結合される。データ入出力回路IOに
は、バンク選択回路BSからバンク選択信号BS0及び
BS1が供給され、タイミング発生回路TGから内部制
御信号WT及びRDが供給される。なお、内部制御信号
WTは、シンクロナスDRAMがライトモードとされる
とき所定のタイミングで選択的にハイレベルとされ、内
部制御信号RDは、シンクロナスDRAMがリードモー
ドとされるとき所定のタイミングで選択的にハイレベル
とされる。
Inter-mat complementary common data lines IC00 * to I
C0F * and IC10 * to IC1F * are coupled to the data input / output circuit IO. The data input / output circuit IO is supplied with bank selection signals BS0 and BS1 from the bank selection circuit BS and internal control signals WT and RD from the timing generation circuit TG. The internal control signal WT is selectively set to a high level at a predetermined timing when the synchronous DRAM is in the write mode, and the internal control signal RD is at a predetermined timing when the synchronous DRAM is in the read mode. Selectively set to high level.

【0032】データ入出力回路IOは、マット間相補共
通データ線IC00*〜IC0F*ならびにIC10*
〜IC1F*に対応して設けられる16個のライトアン
プWA0〜WAF,メインアンプMA0〜MAF,デー
タ入力バッファならびにデータ出力バッファを含む。こ
のうち、ライトアンプWA0〜WAFの出力端子とメイ
ンアンプMA0〜MAFの入力端子は、図5に例示され
るように、バンク選択信号BS0又はBS1に従って選
択的にオン状態とされるトランスファゲートT3及びT
5あるいはT4及びT6を介して対応するマット間相補
共通データ線IC00*〜IC0F*ならびにIC10
*〜IC1F*にそれぞれ結合される。また、ライトア
ンプWA0〜WAFの入力端子は、対応するデータ入力
バッファの出力端子に結合され、メインアンプMA0〜
MAFの出力端子は、対応するデータ出力バッファの入
力端子に結合される。各データ入力バッファの入力端子
と各データ出力バッファの出力端子は、対応するデータ
入出力端子D0〜DFにそれぞれ共通結合される。ライ
トアンプWA0〜WAFには、内部制御信号WT及びR
Dが共通に供給されるとともに、対応するデータ入力バ
ッファから内部入力データDI0〜DIFが供給され、
マスクレジスタから対応するIOマスク制御信号MIO
0〜MIOFが供給される。メインアンプMA0〜MA
Fには、内部制御信号RDが共通に供給され、その出力
信号は、内部出力データDO0〜DOFとして対応する
データ出力バッファに供給される。
The data input / output circuit IO includes complementary mat common data lines IC00 * to IC0F * and IC10 *.
.About.IC1F * includes 16 write amplifiers WA0 to WAF, main amplifiers MA0 to MAF, a data input buffer and a data output buffer. Of these, the output terminals of the write amplifiers WA0 to WAF and the input terminals of the main amplifiers MA0 to MAF are, as illustrated in FIG. 5, a transfer gate T3 and a transfer gate T3 which are selectively turned on in accordance with the bank selection signal BS0 or BS1. T
5 or corresponding inter-mat complementary common data lines IC00 * to IC0F * and IC10 via T4 and T6
* To IC1F *, respectively. Further, the input terminals of the write amplifiers WA0-WAF are coupled to the output terminals of the corresponding data input buffers, and the main amplifiers MA0-MA0 are connected.
The output terminal of the MAF is coupled to the input terminal of the corresponding data output buffer. The input terminal of each data input buffer and the output terminal of each data output buffer are commonly coupled to the corresponding data input / output terminals D0 to DF. The write amplifiers WA0 to WAF have internal control signals WT and R.
D is commonly supplied, and internal input data DI0 to DIF are supplied from corresponding data input buffers.
Corresponding IO mask control signal MIO from the mask register
0 to MIOF are supplied. Main amplifier MA0-MA
An internal control signal RD is commonly supplied to F, and its output signal is supplied to corresponding data output buffers as internal output data DO0 to DOF.

【0033】データ入出力回路IOの各データ入力バッ
ファは、シンクロナスDRAMがライトモードで選択状
態とされるとき対応するデータ入出力端子D0〜DFを
介して供給される16ビットの入力データを取り込み、
内部入力データDI0〜DIFとして対応するライトア
ンプWA0〜WAFに伝達する。このとき、ライトアン
プWA0〜WAFは、内部制御信号WTのハイレベルを
受けて選択的に動作状態とされ、データ入力バッファか
ら伝達される内部入力データDI0〜DIFをもとに所
定の相補書き込み信号を形成し、対応するマット間相補
共通データ線IC00*〜IC0F*あるいはIC10
*〜IC1F*を介してバンクBANK0又はBANK
1の選択された16個のメモリセルに書き込む。なお、
データ入出力回路IOは、図示されないカラーレジスタ
を含み、その出力信号は、シンクロナスDRAMがブロ
ックライトモードとされるとき、上記内部入力データD
I0〜DIFとしてライトアンプWA0〜WAFに供給
される。
Each data input buffer of the data input / output circuit IO fetches 16-bit input data supplied via the corresponding data input / output terminals D0-DF when the synchronous DRAM is selected in the write mode. ,
The internal input data DI0 to DIF are transmitted to the corresponding write amplifiers WA0 to WAF. At this time, the write amplifiers WA0 to WAF are selectively activated by receiving the high level of the internal control signal WT, and based on the internal input data DI0 to DIF transmitted from the data input buffer, a predetermined complementary write signal. And corresponding mat complementary common data lines IC00 * to IC0F * or IC10.
* ~ IC1F * via bank BANK0 or BANK
Write to 16 selected memory cells of 1. In addition,
The data input / output circuit IO includes a color register (not shown) whose output signal is the internal input data D when the synchronous DRAM is set to the block write mode.
I0 to DIF are supplied to the write amplifiers WA0 to WAF.

【0034】ところで、データ入出力回路IOを構成す
るライトアンプWA0〜WAFのそれぞれは、図5に例
示されるように、その非反転出力端子WM0T〜WMF
Tならびに反転出力端子WM0B〜WMFBつまりはマ
ット間相補共通データ線IC00*〜IC0F*あるい
はIC10*〜IC1F*の実質的な非反転及び反転信
号線と回路の接地電位(第2の電源電圧供給点)との間
にそれぞれ設けられるNチャンネル型の出力MOSFE
TN7及びN8を含む。以下、ライトアンプWA0を例
に、ライトアンプWA0〜WAFの説明を進める。
By the way, each of the write amplifiers WA0-WAF constituting the data input / output circuit IO has its non-inverted output terminals WM0T-WMF, as illustrated in FIG.
T and the inverted output terminals WM0B to WMFB, that is, the non-inverted and inverted signal lines of the complementary common data lines IC00 * to IC0F * or IC10 * to IC1F * and the ground potential of the circuit (the second power supply voltage supply point). ) And N-channel type output MOSFE respectively provided between
Includes TN7 and N8. The write amplifiers WA0 to WAF will be described below using the write amplifier WA0 as an example.

【0035】出力MOSFETN7のゲートには、ナン
ドゲートG6の出力信号のインバータV8による反転信
号が供給され、出力MOSFETN8のゲートには、ナ
ンドゲートG8の出力信号のインバータV9による反転
信号が供給される。ナンドゲートG6及びG8の第1の
入力端子には、内部制御信号WTが共通に供給され、そ
の第3の入力端子には、対応するIOマスク制御信号M
IO0のインバータV6による反転信号が共通に供給さ
れる。また、ナンドゲートG8の第2の入力端子には、
対応する内部入力データDI0が供給され、ナンドゲー
トG6の第2の入力端子には、そのインバータV5によ
る反転信号が供給される。
The gate of the output MOSFET N7 is supplied with the inverted signal of the output signal of the NAND gate G6 by the inverter V8, and the gate of the output MOSFET N8 is supplied with the inverted signal of the output signal of the NAND gate G8 by the inverter V9. The internal control signal WT is commonly supplied to the first input terminals of the NAND gates G6 and G8, and the corresponding IO mask control signal M is supplied to the third input terminal thereof.
An inversion signal from the inverter V6 of IO0 is commonly supplied. In addition, the second input terminal of the NAND gate G8,
Corresponding internal input data DI0 is supplied, and the inverted signal of the inverter V5 is supplied to the second input terminal of the NAND gate G6.

【0036】この実施例において、ライトアンプWA0
は、さらに、回路の電源電圧(第1の電源電圧供給点)
と非反転出力端子WM0T及び反転出力端子WM0Bつ
まりはマット間相補共通データ線IC00*の非反転及
び反転信号線との間にそれぞれ設けられるプリチャージ
手段つまりPチャンネル型のプリチャージMOSFET
P2及びP4と、非反転出力端子WM0T及び反転出力
端子WM0B間つまりはマット間相補共通データ線IC
00*の非反転及び反転信号線間に設けられるPチャン
ネル型のもう1個のプリチャージMOSFETP3とを
含む。MOSFETP2及びP4のゲートには、ナンド
ゲートG9及びG11の出力信号がそれぞれ供給され、
MOSFETP3のゲートには、ナンドゲートG10の
出力信号が供給される。このうち、ナンドゲートG9及
びG11の一方の入力端子には、ナンドゲートG6及び
G8の出力信号がそれぞれ供給され、ナンドゲートG1
0の一方の入力端子には、ナンドゲートG7の出力信号
が供給される。ナンドゲートG9〜G11の他方の入力
端子には、内部制御信号RDのインバータV7による反
転信号が共通に供給される。ナンドゲートG7の一方の
入力端子には、内部制御信号WTが供給され、その他方
の入力端子には、IOマスク制御信号MIO0のインバ
ータV6による反転信号が供給される。
In this embodiment, the write amplifier WA0
Is the circuit power supply voltage (first power supply voltage supply point)
And the non-inverting output terminal WM0T and the inverting output terminal WM0B, that is, the non-inverting and inverting signal lines of the inter-mat complementary common data line IC00 *, that is, precharge means, that is, a P-channel type precharge MOSFET.
Complementary common data line IC between P2 and P4 and between the non-inverting output terminal WM0T and the inverting output terminal WM0B, that is, between mats
00 * non-inverted and another P-channel type precharge MOSFET P3 provided between the inverted signal lines. The output signals of the NAND gates G9 and G11 are supplied to the gates of the MOSFETs P2 and P4, respectively.
The output signal of the NAND gate G10 is supplied to the gate of the MOSFET P3. Of these, the output signals of the NAND gates G6 and G8 are supplied to one input terminals of the NAND gates G9 and G11, respectively.
The output signal of the NAND gate G7 is supplied to one input terminal of 0. An inverted signal of the internal control signal RD from the inverter V7 is commonly supplied to the other input terminals of the NAND gates G9 to G11. The internal control signal WT is supplied to one input terminal of the NAND gate G7, and the inverted signal of the IO mask control signal MIO0 by the inverter V6 is supplied to the other input terminal.

【0037】これらのことから、ナンドゲートG6の出
力信号は、内部制御信号WTがハイレベルとされると
き、対応するIOマスク制御信号MIO0がロウレベル
とされかつ対応する内部入力データDI0がロウレベル
とされることで選択的にロウレベルとされ、このナンド
ゲートG6の出力信号のロウレベルを受けて出力MOS
FETN7が選択的にオン状態となる。また、ナンドゲ
ートG8の出力信号は、内部制御信号WTがハイレベル
とされるとき、対応するIOマスク制御信号MIO0が
ロウレベルとされかつ対応する内部入力データDI0が
ハイレベルとされることで選択的にロウレベルとされ、
このナンドゲートG8の出力信号のロウレベルを受けて
出力MOSFETN8が選択的にオン状態となる。
From these facts, the output signal of the NAND gate G6 makes the corresponding IO mask control signal MIO0 low and the corresponding internal input data DI0 low when the internal control signal WT is high. As a result, the output signal of the NAND gate G6 is selectively set to the low level, and the output MOS receives the low level of the output signal.
The FET N7 is selectively turned on. The output signal of the NAND gate G8 is selectively output when the corresponding IO mask control signal MIO0 is set to low level and the corresponding internal input data DI0 is set to high level when the internal control signal WT is set to high level. Low level,
Upon receiving the low level of the output signal of the NAND gate G8, the output MOSFET N8 is selectively turned on.

【0038】一方、ナンドゲートG9の出力信号は、ナ
ンドゲートG6の出力信号がハイレベルとされかつ内部
制御信号RDがロウレベルとされることで選択的にロウ
レベルとされ、このナンドゲートG9の出力信号のロウ
レベルを受けてプリチャージMOSFETP2が選択的
にオン状態となる。また、ナンドゲートG11の出力信
号は、ナンドゲートG8の出力信号がハイレベルとされ
かつ内部制御信号RDがロウレベルとされることで選択
的にロウレベルとされ、ナンドゲートG11の出力信号
のロウレベルを受けてプリチャージMOSFETP4が
選択的にオン状態となる。ナンドゲートG7の出力信号
は、内部制御信号WTがハイレベルとされかつ対応する
IOマスク制御信号MIO0がロウレベルとされること
で選択的にロウレベルとされる。さらに、ナンドゲート
G10の出力信号は、ナンドゲートG7の出力信号がハ
イレベルとされかつ内部制御信号RDがロウレベルとさ
れることで選択的にロウレベルとされ、ナンドゲートG
10の出力信号のロウレベルを受けてプリチャージMO
SFETP3が選択的にオン状態となる。
On the other hand, the output signal of the NAND gate G9 is selectively set to the low level by setting the output signal of the NAND gate G6 to the high level and the internal control signal RD to the low level, and the output signal of the NAND gate G9 is set to the low level. Then, the precharge MOSFET P2 is selectively turned on. The output signal of the NAND gate G11 is selectively set to the low level by setting the output signal of the NAND gate G8 to the high level and the internal control signal RD to the low level, and receives the low level of the output signal of the NAND gate G11 to precharge the output signal. The MOSFET P4 is selectively turned on. The output signal of the NAND gate G7 is selectively set to low level by setting the internal control signal WT to high level and the corresponding IO mask control signal MIO0 to low level. Further, the output signal of the NAND gate G10 is selectively set to the low level by setting the output signal of the NAND gate G7 to the high level and the internal control signal RD to the low level.
Precharge MO in response to the low level of the output signal of 10
The SFET P3 is selectively turned on.

【0039】つまり、IC00*に代表されるマット間
相補共通データ線の非反転及び反転信号線は、シンクロ
ナスDRAMが非選択状態とされ内部制御信号RDがロ
ウレベルとされるとき、ライトアンプWA0のプリチャ
ージMOSFETP2〜P4がオン状態とされることで
ともに回路の電源電圧のようなハイレベルにプリチャー
ジされる。しかし、シンクロナスDRAMがライトモー
ドで選択状態とされ内部制御信号WTがハイレベルとさ
れると、プリチャージMOSFETP2〜P4はオフ状
態とされ、代わって出力MOSFETN7及びN8が対
応する内部入力データDI0の論理レベルに従って選択
的にオン状態とされる。この結果、マット間相補共通デ
ータ線IC00*等の非反転又は反転信号線が選択的に
回路の接地電位のようなロウレベルとされ、これによっ
て選択されたメモリセルに対する論理“0”又は“1”
の書き込みが選択的に実現される。
That is, the non-inverted and inverted signal lines of the inter-mat complementary common data line represented by IC00 * are written in the write amplifier WA0 when the synchronous DRAM is in the non-selected state and the internal control signal RD is at the low level. When the precharge MOSFETs P2 to P4 are turned on, both are precharged to a high level like the power supply voltage of the circuit. However, when the synchronous DRAM is selected in the write mode and the internal control signal WT is set to the high level, the precharge MOSFETs P2 to P4 are turned off, and instead the output MOSFETs N7 and N8 correspond to the corresponding internal input data DI0. It is selectively turned on according to the logic level. As a result, the non-inverted or inverted signal lines such as the inter-mat complementary common data line IC00 * are selectively set to the low level like the ground potential of the circuit, and the logic "0" or "1" for the selected memory cell is thereby obtained.
Writing is selectively realized.

【0040】この実施例において、ライトアンプWA0
を構成するプリチャージMOSFETP2〜P4は、対
応するIOマスク制御信号MIO0がハイレベルとされ
るとき、言い換えるならばブロックライトモード等の書
き込み動作時において対応するビットがIOマスクされ
るときにも選択的にオン状態とされる。このとき、カラ
ムアドレスデコーダCD0及びCD1では、8個のメモ
リブロックMB0〜MB7あるいはMB8〜MBFによ
って共有されるビット線選択信号YS0〜YSnが所定
の条件で選択的にハイレベルとされ、バンクBANK0
又はBANK1の対応するメモリブロックMB0等で
は、特にブロックライトモードにおいて、マット選択信
号MS0〜MS7により指定される単位メモリアレイU
MA0〜UMA7の指定される8組の相補ビット線B0
*〜Bn*が対応するマット内相補共通データ線AC0
*〜AC7*つまりはマット間相補共通データ線IC0
0*〜IC0F*あるいはIC10*〜IC1F*に同
時接続状態とされる。このため、マット内相補共通デー
タ線AC0*等のレベルは、同時接続された8組の相補
ビット線上の2値読み出し信号による競合で、回路の電
源電圧のようなハイレベル又は回路の接地電位のような
ロウレベルに偏ろうとする。
In this embodiment, the write amplifier WA0
Of the precharge MOSFETs P2 to P4 that make up the above are selectively used even when the corresponding IO mask control signal MIO0 is at a high level, in other words, when the corresponding bit is IO masked during a write operation such as a block write mode. Is turned on. At this time, in the column address decoders CD0 and CD1, the bit line selection signals YS0 to YSn shared by the eight memory blocks MB0 to MB7 or MB8 to MBF are selectively set to a high level under a predetermined condition, and the bank BANK0.
Alternatively, in the corresponding memory block MB0 or the like of BANK1, particularly in the block write mode, the unit memory array U designated by the mat select signals MS0 to MS7.
Eight complementary bit lines B0 designated by MA0 to UMA7
Complementary common data line AC0 in mat corresponding to * to Bn *
* To AC7 *, that is, complementary complementary common data line IC0 between mats
0 * to IC0F * or IC10 * to IC1F * are simultaneously connected. Therefore, the levels of the complementary common data lines AC0 * and the like in the mat are contended by the binary read signals on the eight pairs of complementary bit lines that are simultaneously connected, and the levels of the high level such as the power supply voltage of the circuit or the ground potential of the circuit are high. I try to concentrate on such a low level.

【0041】しかし、この実施例では、前述のように、
ブロックライトモードのIOマスク時にも、ライトアン
プWA0のプリチャージMOSFETP2〜P4がオン
状態とされるため、マット間相補共通データ線IC00
*ならびにマット内相補共通データ線AC0*等の非反
転及び反転信号線のレベルはこれらのMOSFETを介
して安定したハイレベルのままとされる。この結果、マ
ット内相補共通データ線AC0*等に同時接続される8
組の相補ビット線上の2値読み出し信号の論理レベルが
偏った場合でも、ブロックライトモードのIOマスク時
の少数派読み出しデータの再書き込み後におけるレベル
反転を防止し、これによってシンクロナスDRAMの信
頼性を高めることができるものである。
However, in this embodiment, as described above,
Even during the IO mask in the block write mode, the precharge MOSFETs P2 to P4 of the write amplifier WA0 are turned on, so that the inter-mat complementary common data line IC00
The levels of the non-inverted and inverted signal lines such as * and the complementary common data line AC0 * in the mat are kept at a stable high level via these MOSFETs. As a result, it is simultaneously connected to the complementary common data line AC0 * in the mat 8
Even if the logical levels of the binary read signals on the complementary bit lines of the set are biased, the level inversion after the rewriting of the minority read data in the IO mask of the block write mode is prevented, and the reliability of the synchronous DRAM is thereby prevented. Can be increased.

【0042】次に、データ入出力回路IOのメインアン
プMA0〜MAFは、シンクロナスDRAMがリードモ
ードで選択状態とされるとき、内部制御信号RDのハイ
レベルを受けて選択的に動作状態とされる。この動作状
態において、メインアンプMA0〜MAFは、バンクB
ANK0又はBANK1の選択された16個のメモリセ
ルから対応するマット間相補共通データ線IC00*〜
IC0F*あるいはIC10*〜IC1F*を介して出
力される2値読み出し信号をさらに増幅し、内部出力デ
ータDO0〜DOFとして対応するデータ出力バッファ
に伝達する。これらの内部出力データは、各データ出力
バッファから対応するデータ入出力端子D0〜DFを介
してシンクロナスDRAMの外部に出力される。
Next, the main amplifiers MA0 to MAF of the data input / output circuit IO are selectively activated by receiving the high level of the internal control signal RD when the synchronous DRAM is selected in the read mode. It In this operating state, the main amplifiers MA0 to MAF operate in the bank B
From the 16 memory cells selected in ANK0 or BANK1, the corresponding inter-mat complementary common data line IC00 * to
The binary read signal output via IC0F * or IC10 * to IC1F * is further amplified and transmitted to the corresponding data output buffer as internal output data DO0 to DOF. These internal output data are output from the respective data output buffers to the outside of the synchronous DRAM via the corresponding data input / output terminals D0 to DF.

【0043】タイミング発生回路TGは、外部から供給
されるクロック信号CLKと、起動制御信号となるクロ
ックイネーブル信号CKE,チップ選択信号CSB,ロ
ウアドレスストローブ信号RASB,カラムアドレスス
トローブ信号CASB,ライトイネーブル信号WEBな
らびにスペシャルファンクション信号DSFとをもとに
上記各種の内部制御信号を選択的に形成し、各部に供給
する。
The timing generation circuit TG has a clock signal CLK supplied from the outside, a clock enable signal CKE serving as a start control signal, a chip selection signal CSB, a row address strobe signal RASB, a column address strobe signal CASB, and a write enable signal WEB. In addition, the above various internal control signals are selectively formed based on the special function signal DSF and are supplied to each unit.

【0044】図6には、図1のシンクロナスDRAMの
ブロックライトモードの一実施例の信号波形図が示され
ている。同図をもとに、この実施例のシンクロナスDR
AMのブロックライトモードの詳細とその特徴について
説明する。なお、この実施例のシンクロナスDRAMの
ブロックライトモードは、カラーデータをカラーレジス
タにまたIOマスクデータをマスクレジスタにそれぞれ
セットするための二つのスペシャルモードレジスタセッ
トサイクルと、書き込み対象となるメモリセルのロウア
ドレスを指定しワード線W0〜Wmの選択動作を開始す
るためのロウアクティブコマンドサイクルと、書き込み
対象となるメモリセルのカラムアドレスを指定し実質的
なブロック書き込みを実行するためのライトコマンドサ
イクルとからなるが、図4には、ライトコマンドサイク
ルのみが示されている。また、図4には、IOマスクを
伴わないサイクルAとIOマスクを伴うサイクルBとが
連続して示されているが、実際には、これらのサイクル
の間にマスクレジスタ書き換えのためのスペシャルモー
ドレジスタセットサイクルが必要であることは言うまで
もない。さらに、この実施例では、メモリブロックMB
0〜MBFを構成する8個のメモリマットMAT0〜M
AT7の中からマット選択信号MS0に対応するメモリ
マットMAT0が選択され、ブロックライトモードの対
象として、各メモリマットMAT0を構成する単位メモ
リアレイUMA0の相補ビット線B0*〜B7*に結合
される8個のメモリセルがそれぞれ選択される。ブロッ
クライトモードのIOマスクに関する以下の詳細な説明
は、データ入出力端子D0つまりメモリブロックMB0
とその関連部を例に進めていく。
FIG. 6 shows a signal waveform diagram of an embodiment of the block write mode of the synchronous DRAM of FIG. Based on the figure, the synchronous DR of this embodiment
The details and features of the AM block write mode will be described. The block write mode of the synchronous DRAM of this embodiment has two special mode register set cycles for setting color data in the color register and IO mask data in the mask register, and a memory cell to be written. A row active command cycle for designating a row address and starting a selection operation of the word lines W0 to Wm, and a write command cycle for designating a column address of a memory cell to be written and executing a substantial block write. However, only the write command cycle is shown in FIG. Further, in FIG. 4, a cycle A without an IO mask and a cycle B with an IO mask are consecutively shown, but in practice, a special mode for rewriting a mask register is provided between these cycles. It goes without saying that a register set cycle is required. Further, in this embodiment, the memory block MB
8 memory mats MAT0 to M that compose 0 to MBF
The memory mat MAT0 corresponding to the mat select signal MS0 is selected from AT7 and is coupled to the complementary bit lines B0 * to B7 * of the unit memory array UMA0 forming each memory mat MAT0 as a target of the block write mode. Each memory cell is selected. The following detailed description of the IO mask in the block write mode will be given in the data input / output terminal D0, that is, the memory block MB0
And its related parts as an example.

【0045】図6において、シンクロナスDRAMは、
特に制限されないが、クロック信号CLKの立ち上がり
エッジで図示されないロウアドレスストローブ信号RA
SBがハイレベルとされかつチップ選択信号CSB,カ
ラムアドレスストローブ信号CASB及びライトイネー
ブル信号WEBがロウレベルとされることによってライ
トコマンドサイクルとされ、このクロック信号CLKの
立ち上がりエッジでスペシャルファンクション信号DS
Fがハイレベルとされることによってブロックライトモ
ードが指定される。アドレス入力端子A0〜Aiには、
クロック信号CLKの立ち上がりに先立って、下位3ビ
ットを除くYアドレス信号AYつまりAY3〜AYiが
相補ビット線の先頭ブロックBWS0を指定する組み合
わせで供給され、データ入出力端子D0〜DFには、カ
ラム方向のライトマスクを選択的に行うためのアドレス
マスクデータが供給される。なお、アドレスマスクにつ
いては、この発明に直接関係がないため、詳細な説明を
割愛する。
In FIG. 6, the synchronous DRAM is
Although not particularly limited, the row address strobe signal RA (not shown) is not shown at the rising edge of the clock signal CLK.
When the SB is set to the high level and the chip selection signal CSB, the column address strobe signal CASB and the write enable signal WEB are set to the low level, the write command cycle is started, and the special function signal DS is generated at the rising edge of the clock signal CLK.
The block write mode is designated by setting F to the high level. The address input terminals A0 to Ai are
Prior to the rise of the clock signal CLK, the Y address signals AY except the lower 3 bits, that is, AY3 to AYi are supplied in a combination designating the first block BWS0 of the complementary bit lines, and the data input / output terminals D0 to DF are supplied in the column direction. The address mask data for selectively performing the write mask of is supplied. Since the address mask has no direct relation to the present invention, detailed description thereof will be omitted.

【0046】シンクロナスDRAMのメモリブロックM
B0では、直前に実行されたロウアクティブコマンドサ
イクルにおいて、マット選択信号MS0が択一的にハイ
レベルとされる。また、マット選択信号MS0のハイレ
ベルを受けて、メモリマットMAT0の単位ロウアドレ
スデコーダURD0が動作状態とされ、単位メモリアレ
イUMA0の指定されたワード線Wsが択一的にハイレ
ベルの選択状態とされるとともに、単位センスアンプU
S0によって対応するマット内相補共通データ線AC0
*がマット間相補共通データ線IC00*に接続され
る。単位センスアンプUS0では、ワード線Wsの選択
動作が完了した時点で内部制御信号PAがハイレベルと
され、単位メモリアレイUMA0の相補ビット線B0*
〜B7*等には、ワード線Wsに結合されたメモリセル
の保持データに従った2値読み出し信号が確立されてい
る。また、データ入出力回路IOでは、バンク選択信号
BS0のハイレベルを受けてトランスファゲートT3及
びT5がオン状態となり、マット間相補共通データ線I
C00*とライトアンプWA0との間が接続される。ラ
イトコマンドサイクルが実行される直前には、内部制御
信号WT及びRDがロウレベルとされるとともに、ビッ
ト線選択信号YS0〜YSnがすべてロウレベルとされ
るため、データ入出力回路IOのライトアンプWA0の
プリチャージMOSFETP2〜P4がオン状態とな
り、マット間相補共通データ線IC00*及びマット内
相補共通データ線AC0*の非反転及び反転信号線はと
もに回路の電源電圧のようなハイレベルにプリチャージ
される。
Memory block M of the synchronous DRAM
In B0, the mat select signal MS0 is alternatively set to the high level in the row active command cycle executed immediately before. Further, in response to the high level of the mat selection signal MS0, the unit row address decoder URD0 of the memory mat MAT0 is activated, and the designated word line Ws of the unit memory array UMA0 is selectively set to the high level. Unit sense amplifier U
In-mat complementary common data line AC0 corresponding to S0
* Is connected to the inter-mat complementary common data line IC00 *. In the unit sense amplifier US0, the internal control signal PA is set to the high level when the selecting operation of the word line Ws is completed, and the complementary bit line B0 * of the unit memory array UMA0 is set.
A binary read signal according to the data held in the memory cells coupled to the word line Ws is established in the memory cells B7 * to B7 *. In the data input / output circuit IO, the transfer gates T3 and T5 are turned on in response to the high level of the bank selection signal BS0, and the inter-mat complementary common data line I
The C00 * and the write amplifier WA0 are connected. Immediately before the write command cycle is executed, the internal control signals WT and RD are set to the low level, and the bit line selection signals YS0 to YSn are all set to the low level. Therefore, the preamplifier of the write amplifier WA0 of the data input / output circuit IO is set. The charge MOSFETs P2 to P4 are turned on, and the non-inverted and inverted signal lines of the inter-mat complementary common data line IC00 * and the in-mat complementary common data line AC0 * are both precharged to a high level like the power supply voltage of the circuit.

【0047】サイクルAの開始でブロックライトモード
によるライトコマンドサイクルが識別されたシンクロナ
スDRAMでは、まず内部制御信号BWがハイレベルと
されるとともに、マスクレジスタの出力に従ってIOマ
スク制御信号MIO0〜MIOFが選択的にハイレベル
とされる。なお、これらのIOマスク制御信号MIO0
〜MIOFは、対応するビットがIOマスクの対象とな
るときハイレベルとされ、対象とならないときにロウレ
ベルとされる。したがって、カラーデータの先頭ビット
に対するIOマスクが行われないサイクルAでは、IO
マスク制御信号MIO0はロウレベルとされる。シンク
ロナスDRAMでは、さらにやや遅れて内部制御信号W
Tがハイレベルとされ、この内部制御信号WTのハイレ
ベルとされる間の所定のタイミングでブロック選択信号
BWS0に対応する8ビットのビット線選択信号YS0
〜YS7が同時にハイレベルとされる。
In the synchronous DRAM in which the write command cycle in the block write mode is identified at the start of cycle A, the internal control signal BW is first set to the high level and the IO mask control signals MIO0 to MIOF are set in accordance with the output of the mask register. Selectively set to high level. Incidentally, these IO mask control signals MIO0
~ MIOF is set to a high level when the corresponding bit is a target of the IO mask, and is a low level when the corresponding bit is not a target of the IO mask. Therefore, in the cycle A in which the IO mask for the first bit of the color data is not performed, the IO
The mask control signal MIO0 is at low level. In the synchronous DRAM, the internal control signal W
T is set to the high level, and the 8-bit bit line selection signal YS0 corresponding to the block selection signal BWS0 is set at a predetermined timing while the internal control signal WT is set to the high level.
~ YS7 are simultaneously set to high level.

【0048】これにより、まずデータ入出力回路IOで
は、ライトアンプWA0〜WAFが内部制御信号WTの
ハイレベルを受けて一斉に動作状態とされ、対応するI
Oマスク制御信号MIO0〜MIOFがロウレベルであ
ることを条件に、MOSFETN7及びN8がカラーデ
ータの対応するビットつまり内部入力データDI0〜D
IFに従って選択的にオン状態となる。このとき、IO
マスクの対象となっていないマット間相補共通データ線
IC00*では、カラーデータの先頭ビットつまり内部
入力データDI0に応じてその非反転及び反転信号線が
選択的に回路の接地電位のようなロウレベルとされ、相
補書き込み信号が出力される。この相補書き込み信号
は、マット内相補共通データ線AC0*を介して単位メ
モリアレイUMA0の選択された8組の相補ビット線B
0*〜B7*に伝達され、必要に応じてその2値読み出
し信号のレベルを反転させる。この結果、単位メモリア
レイUMA0のワード線Wsと相補ビット線B0*〜B
7*との交点に配置された8個のメモリセルに対して、
同一データの書き込みが実現される。
As a result, first, in the data input / output circuit IO, the write amplifiers WA0-WAF are activated simultaneously upon receiving the high level of the internal control signal WT, and the corresponding I
On condition that the O mask control signals MIO0 to MIOF are at the low level, the MOSFETs N7 and N8 have corresponding bits of the color data, that is, the internal input data DI0 to D0.
It is selectively turned on according to IF. At this time, IO
In the inter-mat complementary common data line IC00 * which is not the object of masking, the non-inverted and inverted signal lines are selectively set to a low level like the ground potential of the circuit according to the first bit of the color data, that is, the internal input data DI0. Then, a complementary write signal is output. This complementary write signal is supplied to the selected eight complementary bit lines B of the unit memory array UMA0 via the complementary common data line AC0 * in the mat.
0 * to B7 * are transmitted, and the level of the binary read signal is inverted if necessary. As a result, the word line Ws of the unit memory array UMA0 and the complementary bit lines B0 * to B0
For 8 memory cells located at the intersection with 7 *,
Writing of the same data is realized.

【0049】一方、サイクルBでは、カラーデータの先
頭ビットに対するIOマスクが行われることから、内部
制御信号BWのハイレベルに続いてIOマスク制御信号
MIO0がハイレベルとされる。このため、データ入出
力回路IOのライトアンプWA0では、IOマスク制御
信号MIO0のハイレベルを受けて出力MOSFETN
7及びN8はオフ状態のままとされ、代わってプリチャ
ージMOSFETP2〜P4がオン状態とされる。した
がって、マット間相補共通データ線IC00*の非反転
及び反転信号線は、これらのMOSFETを介してとも
に回路の電源電圧のようなハイレベルとされ、対応する
マット内相補共通データ線AC0*の非反転及び反転信
号線もともにハイレベルとされる。
On the other hand, in cycle B, the IO mask for the first bit of the color data is performed, so that the IO mask control signal MIO0 is set to the high level following the high level of the internal control signal BW. Therefore, the write amplifier WA0 of the data input / output circuit IO receives the high level of the IO mask control signal MIO0 and outputs the output MOSFETN.
7 and N8 remain in the off state, and instead the precharge MOSFETs P2 to P4 are turned on. Therefore, the non-inverted and inverted signal lines of the inter-mat complementary common data line IC00 * are both brought to a high level like the power supply voltage of the circuit via these MOSFETs, and the non-inverted mat common data line AC0 * of the corresponding in-mat complementary common data line AC0 * is not set. Both the inversion and the inversion signal line are set to the high level.

【0050】ところで、この実施例のシンクロナスDR
AMでは、前述のように、カラムアドレスデコーダCD
0又はCD1から出力されるビット線選択信号YS0〜
YSnが対応する8個のメモリブロックMB0〜MB7
あるいはMB8〜MBFによって共有され、IOマスク
に関係なく形成される。このため、カラーデータの先頭
ビットがIOマスクの対象となるサイクルBにおいて
も、ビット線選択信号YS0〜YS7は所定のタイミン
グでハイレベルとされ、単位メモリアレイUMA0の相
補ビット線B0*〜B7*とマット内相補共通データ線
AC0*との間の接続が行われる。したがって、マット
内相補共通データ線AC0*の非反転及び反転信号線の
レベルは、選択された8組の相補ビット線B0*〜B7
*上の2値読み出し信号に応じて変化しようとする。と
ころが、この実施例のシンクロナスDRAMでは、前述
のように、カラーデータの対応するビットがIOマスク
の対象となり対応するIOマスク制御信号MIO0〜M
IOFがハイレベルとされるとき、データ入出力回路I
OのライトアンプWA0〜WAFのプリチャージMOS
FETP2〜P4がオン状態とされるため、マット内相
補共通データ線AC0*の非反転及び反転信号線のレベ
ル変化が抑制される。この結果、相補ビット線B0*〜
B7*上の2値読み出し信号の論理レベルに偏りがある
場合でも、少数派の読み出しデータの再書き込み後にお
けるレベル反転は無くなり、これによってシンクロナス
DRAMの信頼性を高めることができるものである。
By the way, the synchronous DR of this embodiment
In the AM, as described above, the column address decoder CD
0 or the bit line selection signal YS0 output from CD1
Eight memory blocks MB0 to MB7 corresponding to YSn
Alternatively, it is shared by MB8 to MBF and is formed regardless of the IO mask. Therefore, even in the cycle B in which the first bit of the color data is the target of the IO mask, the bit line selection signals YS0 to YS7 are set to the high level at a predetermined timing, and the complementary bit lines B0 * to B7 * of the unit memory array UMA0. And the complementary common data line AC0 * in the mat are connected. Therefore, the levels of the non-inverted and inverted signal lines of the complementary common data line AC0 * in the mat are set to the eight complementary bit lines B0 * to B7 selected.
* Attempts to change according to the binary read signal above. However, in the synchronous DRAM of this embodiment, as described above, the corresponding bits of the color data are the targets of the IO mask and the corresponding IO mask control signals MIO0 to M0.
When the IOF is high level, the data input / output circuit I
Precharge MOS of O write amplifiers WA0 to WAF
Since the FETs P2 to P4 are turned on, the level changes of the non-inverted and inverted signal lines of the in-mat complementary common data line AC0 * are suppressed. As a result, the complementary bit lines B0 * to
Even if the logical level of the binary read signal on B7 * is biased, the level inversion after rewriting the minority read data is eliminated, and thereby the reliability of the synchronous DRAM can be improved.

【0051】図7には、図1のシンクロナスDRAMを
応用したコンピュータシステムの一実施例のブロック図
が示されている。また、図8には、図7のコンピュータ
システムにおけるシンクロナスDRAMのブロックライ
トモードの応用例とその概念図が示されている。これら
の図をもとに、この実施例のシンクロナスDRAM及び
そのブロックライトモードの応用例とその特徴について
説明する。
FIG. 7 is a block diagram of an embodiment of a computer system to which the synchronous DRAM of FIG. 1 is applied. Further, FIG. 8 shows an application example of the block write mode of the synchronous DRAM in the computer system of FIG. 7 and its conceptual diagram. Based on these figures, an application example of the synchronous DRAM of this embodiment and its block write mode and its features will be described.

【0052】図7において、この実施例のシンクロナス
DRAMは、いわゆるストアドプログラム方式の中央処
理装置CPUをその基本構成要素とする。中央処理装置
CPUには、システムバスSBUSを介して通常のスタ
ティック型RAMからなるランダムアクセスメモリRA
M1とこの発明が適用されたシンクロナスDRAMから
なるランダムアクセスメモリRAM2とが結合される。
システムバスSBUSには、さらにマスクROM等から
なるリードオンリーメモリROMと、ディスプレイ制御
装置DPYC及び周辺装置コントローラPERCが結合
される。なお、ディスプレイ制御装置DPYCは、この
発明が適用されたシンクロナスDRAMからなる画像メ
モリVRAMを含む。また、このディスプレイ制御装置
DPYCにはディスプレイ装置DPYが結合され、周辺
装置コントローラPERCにはキーボードKBD及び外
部記憶装置EXMが結合される。
In FIG. 7, the synchronous DRAM of this embodiment has a so-called stored program type central processing unit CPU as its basic constituent element. The central processing unit CPU is provided with a random access memory RA composed of an ordinary static RAM via a system bus SBUS.
M1 and random access memory RAM2, which is a synchronous DRAM to which the present invention is applied, are coupled.
The system bus SBUS is further coupled with a read-only memory ROM including a mask ROM and the like, a display control device DPYC and a peripheral device controller PERC. The display control device DPYC includes an image memory VRAM including a synchronous DRAM to which the present invention is applied. A display device DPY is connected to the display control device DPYC, and a keyboard KBD and an external storage device EXM are connected to the peripheral device controller PERC.

【0053】中央処理装置CPUは、予めリードオンリ
ーメモリROMに格納された制御プログラムに従ってス
テップ動作し、コンピュータシステムの各部を制御・統
轄する。また、ランダムアクセスメモリRAM1は、例
えばキャッシュメモリ等として使用され、ランダムアク
セスメモリRAM2は、例えばリードオンリーメモリR
OMから中央処理装置CPUに伝達される制御プログラ
ムや演算データ等を一時的に格納し、中継するバッファ
メモリとして使用される。さらに、ディスプレイ制御装
置DPYCは、ディスプレイ装置DPYの表示制御に供
され、周辺装置コントローラPERCは、キーボードK
BD及び外部記憶装置EXM等の各種周辺装置を制御・
統轄する。コンピュータシステムは、電源装置POWS
を備え、この電源装置POWSは、所定の入力交流電圧
をもとに安定した所定の直流電源電圧を形成してコンピ
ュータシステムの各部に供給する。
The central processing unit CPU performs step operations according to a control program stored in advance in the read-only memory ROM, and controls / controls each unit of the computer system. The random access memory RAM1 is used as, for example, a cache memory, and the random access memory RAM2 is, for example, a read-only memory R.
It is used as a buffer memory for temporarily storing and relaying control programs, operation data, etc. transmitted from the OM to the central processing unit CPU. Further, the display control device DPYC is used for display control of the display device DPY, and the peripheral device controller PERC controls the keyboard K.
Controls various peripheral devices such as BD and external storage device EXM
Govern. The computer system is a power supply POWS
This power supply device POWS forms a stable predetermined DC power supply voltage based on a predetermined input AC voltage and supplies it to each unit of the computer system.

【0054】この実施例において、ランダムアクセスメ
モリRAM2及びディスプレイ制御装置DPYCの画像
メモリVRAMを構成するシンクロナスDRAMは、前
述のように、IOマスク可能なブロックライトモードを
有し、かつそのデータ入出力回路IOを構成するライト
アンプWA0〜WAFは、入力データの対応するビット
がIOマスクの対象とされるとき選択的にオン状態とな
るプリチャージMOSFETP2〜P4を含むため、同
時接続される8組の相補ビット線上の2値読み出し信号
の論理レベルが偏ってもIOマスク時における少数派デ
ータの再書き込み後におけるレベル反転はなく、高い信
頼性を有する。この結果、その低コスト化を阻害するこ
となく、ランダムアクセスメモリRAM2及び画像メモ
リVRAMの信頼性が高められ、コンピュータシステム
の信頼性が高められる。
In this embodiment, the synchronous DRAM constituting the random access memory RAM2 and the image memory VRAM of the display control device DPYC has the IO maskable block write mode as described above, and its data input / output. Since the write amplifiers WA0 to WAF configuring the circuit IO include precharge MOSFETs P2 to P4 which are selectively turned on when the corresponding bits of the input data are targeted for the IO mask, eight sets of simultaneously connected sets. Even if the logical levels of the binary read signals on the complementary bit lines are biased, there is no level inversion after the rewriting of the minority data at the time of IO masking, and there is high reliability. As a result, the reliability of the random access memory RAM2 and the image memory VRAM is improved without impairing the cost reduction, and the reliability of the computer system is improved.

【0055】なお、シンクロナスDRAMのブロックラ
イトモードは、図8の画像メモリVRAMへの応用例で
示されるように、例えば、画面の初期化や背景着色時、
ディスプレイ装置DPYの表示画面を8画素単位で高速
裏に書き換えるために利用される。また、そのアドレス
マスクは、ブロックライトモードの対象となるカラムア
ドレス方向のカラーデータC0〜C7の書き換えをカラ
ムアドレスごとに選択的に停止するために利用され、そ
のIOマスクは、各画素のカラーデータ方向の書き換え
をビットごとに選択的に停止するために利用される。
In the block write mode of the synchronous DRAM, as shown in the application example to the image memory VRAM in FIG. 8, for example, at the time of screen initialization or background coloring,
It is used to rewrite the display screen of the display device DPY at a high speed in units of 8 pixels. The address mask is used to selectively stop the rewriting of the color data C0 to C7 in the column address direction, which is the target of the block write mode, for each column address, and the IO mask is the color data of each pixel. It is used to selectively stop direction rewriting bit by bit.

【0056】以上の本実施例により得られる作用効果は
下記の通りである。すなわち、 (1)IOマスク可能なブロックライトモードを有する
シンクロナスDRAM等において、例えば回路の電源電
圧と相補共通データ線の非反転及び反転信号線との間
に、非選択時選択的にオン状態とされることで相補共通
データ線の非反転及び反転信号線をハイレベルにプリチ
ャージするためのPチャンネルMOSFETをそれぞれ
設け、これらのMOSFETをブロックライトモードの
IOマスク時にもオン状態とすることで、ビット線ごと
にIOマスク制御のためのスイッチMOSFETを設け
ることなく、IOマスクされる相補共通データ線の非反
転及び反転信号線のレベルを充分に高くすることができ
るため、同時選択された複数の相補ビット線の読み出し
データの論理レベルが偏った場合でも、少数派データの
再書き込み後におけるレベル反転を防止できるという効
果が得られる。
The operational effects obtained by the above embodiment are as follows. That is, (1) In a synchronous DRAM or the like having a block write mode capable of IO masking, for example, between the power supply voltage of the circuit and the non-inverted and inverted signal lines of the complementary common data line is selectively turned on when not selected. Therefore, P-channel MOSFETs for precharging the non-inverted and inverted signal lines of the complementary common data line to the high level are provided respectively, and these MOSFETs are turned on even during IO mask in the block write mode. , It is possible to sufficiently increase the levels of the non-inverted and inverted signal lines of the complementary common data line to be IO masked without providing a switch MOSFET for controlling the IO mask for each bit line. Even if the logic level of the read data of the complementary bit line of B is biased, rewriting of the minority data It is possible to obtain an effect that it is possible to prevent the level inversion after the completion.

【0057】(2)上記(1)項により、その低コスト
化を阻害することなく、シンクロナスDRAM等の信頼
性を高めることができるという効果が得られる。 (3)上記(1)項〜(2)項のシンクロナスDRAM
を、コンピュータシステムを構成するバッファメモリ又
は画像メモリに用いることで、バッファメモリ及び画像
メモリひいてはこれを含むコンピュータシステム等の低
コスト化を図りつつ、その信頼性を高めることができる
という効果が得られる。
(2) According to the above item (1), the reliability of the synchronous DRAM or the like can be improved without impeding cost reduction. (3) Synchronous DRAM according to the above items (1) and (2)
Is used as a buffer memory or an image memory that configures a computer system, an effect is obtained that the cost of the buffer memory and the image memory, and eventually the computer system including the same can be reduced, and the reliability thereof can be improved. .

【0058】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、この発明は、上記実
施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。例え
ば、図1において、シンクロナスDRAMは、いわゆる
×1ビット又は×8ビット構成等、任意のビット構成を
採ることができるし、任意数のバンクを備えることがで
きる。また、マット間相補共通データ線IC00*〜I
C0F*ならびにIC10*〜IC1F*は、書き込み
用及び読み出し用として用途別に分離できるし、データ
入出力端子D0〜DFも、データ入力端子及びデータ出
力端子として用途別に分離することができる。さらに、
シンクロナスDRAMのブロック構成や起動制御信号及
び内部制御信号の組み合わせ及び論理レベル等は、種々
の実施形態を採りうる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say. For example, in FIG. 1, the synchronous DRAM can have an arbitrary bit configuration such as a so-called x1 bit configuration or x8 bit configuration, and can have an arbitrary number of banks. In addition, complementary common data lines IC00 * to I between mats
C0F * and IC10 * to IC1F * can be separated for writing and reading by use, and the data input / output terminals D0 to DF can also be separated for use as data input terminals and data output terminals. further,
Various embodiments can be adopted for the block configuration of the synchronous DRAM, the combination of the activation control signal and the internal control signal, the logic level, and the like.

【0059】図2において、カラムアドレスデコーダと
メモリブロックMB0〜MBFとの間の対応は、この実
施例による制約を受けない。図3において、メモリブロ
ックMB0〜MBFは、任意数のメモリマットを備える
ことができる。また、1個の単位センスアンプと2組以
上のマット内相補共通データ線を対応させることができ
るし、単位メモリアレイを各単位センスアンプの両側に
配置してシェアドセンス方式とすることもできる。図4
及び図5において、IOマスク時にマット内相補共通デ
ータ線AC0*等のレベルをハイレベルに保持するため
のMOSFETP2〜P4は、単位メモリアレイUMA
0等のトランスファゲートT1及びT2の内側つまりマ
ット内相補共通データ線AC0*側に設けることもでき
る。この場合、IOマスク制御信号MIO0等はマット
選択信号MS0等との論理積をとる必要がある。マット
内相補共通データ線AC0*等とマット間相補共通デー
タ線IC00*等は1対1で対応させてもよいし、単位
メモリアレイUMA0等,単位センスアンプUS0等な
らびにライトアンプWA0等の具体的構成や電源電圧の
極性及び絶対値ならびにMOSFETの導電型等は、種
々の実施形態を採りうる。図6において、起動制御信号
及び内部制御信号の論理レベルやその組み合わせは、こ
の実施例による制約を受けない。図7において、コンピ
ュータシステムのブロック構成は、種々の実施形態を採
りうるし、この実施例のシンクロナスDRAMの応用範
囲も、この実施例による制約を受けない。
In FIG. 2, the correspondence between the column address decoder and the memory blocks MB0 to MBF is not restricted by this embodiment. In FIG. 3, the memory blocks MB0 to MBF can include any number of memory mats. Further, one unit sense amplifier can be associated with two or more sets of complementary common data lines in the mat, and unit memory arrays can be arranged on both sides of each unit sense amplifier to adopt the shared sense system. FIG.
In FIG. 5, MOSFETs P2 to P4 for holding the level of the complementary common data line AC0 * in the mat at the high level during the IO mask are the unit memory array UMA.
It may be provided inside the transfer gates T1 and T2 such as 0, that is, on the complementary common data line AC0 * side in the mat. In this case, the IO mask control signal MIO0 and the like need to be ANDed with the mat select signal MS0 and the like. The in-mat complementary common data lines AC0 * and the like and the inter-mat complementary common data lines IC00 * and the like may correspond to each other in a one-to-one correspondence, and the unit memory array UMA0 and the like, the unit sense amplifier US0 and the write amplifier WA0 and the like Various embodiments can be adopted for the configuration, the polarity and absolute value of the power supply voltage, the conductivity type of the MOSFET, and the like. In FIG. 6, the logic levels of the start control signal and the internal control signal and the combination thereof are not restricted by this embodiment. In FIG. 7, the block configuration of the computer system can adopt various embodiments, and the application range of the synchronous DRAM of this embodiment is not restricted by this embodiment.

【0060】以上の説明では、主として本発明者によっ
てなされた発明をその背景となった利用分野であるシン
クロナスDRAMならびにこれを応用したコンピュータ
システムに適用した場合について説明したが、それに限
定されるものではなく、例えば、マルチポートビデオR
AM等の各種メモリ集積回路や同様なメモリ集積回路を
含む各種ディジタルシステムにも適用できる。この発明
は、少なくともIOマスク可能なブロックライトモード
を有する半導体記憶装置ならびにこのような半導体記憶
装置を含む装置及びシステムに広く適用できる。
In the above description, the case where the invention made by the present inventor is applied to the synchronous DRAM and the computer system to which the invention is applied, which is the background of the invention, has been mainly described. However, the invention is not limited thereto. Not, for example, multiport video R
It can be applied to various memory integrated circuits such as AM and various digital systems including similar memory integrated circuits. The present invention can be widely applied to at least a semiconductor memory device having an IO maskable block write mode, and a device and a system including such a semiconductor memory device.

【0061】[0061]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、IOマスク可能なブロック
ライトモードを有するシンクロナスDRAM等におい
て、例えば回路の電源電圧と書き込み信号を伝達する相
補共通データ線の非反転及び反転信号線との間に、非選
択時選択的にオン状態とされることで相補共通データ線
の非反転及び反転信号線をハイレベルにプリチャージす
るPチャンネルMOSFETを設け、これらのMOSF
ETをブロックライトモードのIOマスク時にもオン状
態とすることで、ビット線ごとにマスク制御のためのス
イッチMOSFETを設けることなく、IOマスクの対
象となる相補共通データ線の非反転及び反転信号線のレ
ベルを充分に高くして、同時選択された複数の相補ビッ
ト線の読み出しデータの競合を防止できるため、これら
の読み出しデータの論理レベルが偏った場合でも、少数
派データの再書き込み後におけるレベル反転を防止する
ことができる。この結果、その低コスト化を阻害するこ
となく、ブロックライトモードを有するシンクロナスD
RAM等の信頼性を高めることができる。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, in a synchronous DRAM or the like having an IO maskable block write mode, for example, between the power supply voltage of the circuit and the non-inverted and inverted signal lines of the complementary common data line for transmitting the write signal, when not selected, A P-channel MOSFET for precharging the non-inverted and inverted signal lines of the complementary common data line to a high level by being turned on is provided, and these MOSF
By keeping ET on during the IO mask in the block write mode, the non-inversion and inversion signal lines of the complementary common data line to be the IO mask are not provided without providing the switch MOSFET for mask control for each bit line. Since the read data of multiple complementary bit lines selected simultaneously can be prevented from conflicting with each other by sufficiently increasing the level of, even if the logical levels of these read data are biased, the level after rewriting the minority data Inversion can be prevented. As a result, the synchronous D having the block write mode can be realized without impeding the cost reduction.
The reliability of RAM and the like can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明が適用されたシンクロナスDRAMの
一実施例を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a synchronous DRAM to which the present invention is applied.

【図2】図1のシンクロナスDRAMに含まれるバンク
の一実施例を示すブロック図である。
2 is a block diagram showing an embodiment of a bank included in the synchronous DRAM of FIG.

【図3】図2のバンクに含まれるメモリブロックの一実
施例を示すブロック図である。
FIG. 3 is a block diagram showing an embodiment of a memory block included in the bank of FIG.

【図4】図3のメモリブロックの各メモリマットを構成
する単位メモリアレイ及び単位センスアンプの一実施例
を示す部分的な回路図である。
FIG. 4 is a partial circuit diagram showing an embodiment of a unit memory array and a unit sense amplifier which form each memory mat of the memory block of FIG.

【図5】図1のシンクロナスDRAMに含まれるデータ
入出力回路の一実施例を示す部分的な回路図である。
5 is a partial circuit diagram showing an embodiment of a data input / output circuit included in the synchronous DRAM of FIG.

【図6】図1のシンクロナスDRAMのブロックライト
モードの一実施例を示す信号波形図である。
6 is a signal waveform diagram showing an embodiment of a block write mode of the synchronous DRAM of FIG.

【図7】図1のシンクロナスDRAMを応用したコンピ
ュータシステムの一実施例を示すブロック図である。
7 is a block diagram showing an embodiment of a computer system to which the synchronous DRAM of FIG. 1 is applied.

【図8】図7のコンピュータシステムにおけるシンクロ
ナスDRAMのブロックライトモードの応用例とその概
念図である。
8 is an application example of a block write mode of a synchronous DRAM in the computer system of FIG. 7 and its conceptual diagram.

【図9】この発明に先立って本願発明者等が開発したシ
ンクロナスDRAMに含まれる単位メモリアレイ及び単
位センスアンプの一例を示す部分的な回路図である。
FIG. 9 is a partial circuit diagram showing an example of a unit memory array and a unit sense amplifier included in a synchronous DRAM developed by the inventors of the present application prior to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

BANK0〜BANK1・・・バンク、MARY・・・
メモリアレイ、RD・・・ロウアドレスデコーダ、SA
・・・センスアンプ、CD・・・カラムアドレスデコー
ダ、BS・・・バンク選択回路、MS・・・マット選択
回路、RB・・・ロウアドレスバッファ、CB・・・カ
ラムアドレスバッファ、IO・・・データ入出力回路、
TG・・・タイミング発生回路。MB0〜MBF・・・
メモリブロック、MARY0〜MARYF・・・メモリ
アレイ、RD0〜RDF・・・ロウアドレスデコーダ、
SA0〜SAF・・・センスアンプ、CD0〜CD1・
・・カラムアドレスデコーダ、IC00*〜IC0F
*,IC10*〜IC1F*・・・マット間相補共通デ
ータ線。MAT0〜MAT7・・・メモリマット、UM
A0〜UMA7・・・単位メモリアレイ、US0〜US
7・・・単位センスアンプ、URD0〜URD7・・・
単位ロウアドレスデコーダ。Cs・・・情報蓄積キャパ
シタ、Qa・・・アドレス選択MOSFET、W0〜W
m・・・ワード線、B0*〜Bn*・・・相補ビット
線、USA0〜USAn・・・単位増幅回路、YS0〜
YSn・・・ビット線選択信号、AC0*〜AC7*・
・・マット内相補共通データ線。WA0・・・ライトア
ンプ、MA0・・・メインアンプ。P1〜P4・・・P
チャンネルMOSFET、N1〜N10・・・Nチャン
ネルMOSFET、T1〜T6・・・トランスファゲー
ト、V1〜V9・・・インバータ、G1〜G11・・・
ナンド(NAND)ゲート。CPU・・・中央処理装
置、SBUS・・・システムバス、RAM0〜RAM2
・・・ランダムアクセスメモリ、ROM・・・・リード
オンリーメモリ、DPYC・・・ディスプレイ制御装
置、VRAM・・・画像メモリ、DPY・・・ディスプ
レイ装置、PERC・・・周辺装置コントローラ、KB
D・・・キーボード、EXM・・・外部記憶装置、PO
WS・・・電源装置。
BANK0-BANK1 ... Bank, MARY ...
Memory array, RD ... Row address decoder, SA
... Sense amplifier, CD ... Column address decoder, BS ... Bank selection circuit, MS ... Mat selection circuit, RB ... Row address buffer, CB ... Column address buffer, IO ... Data input / output circuit,
TG ... Timing generation circuit. MB0 to MBF ...
Memory block, MARY0 to MARYF ... Memory array, RD0 to RDF ... Row address decoder,
SA0-SAF ... sense amplifier, CD0-CD1
..Column address decoders, IC00 * to IC0F
*, IC10 * to IC1F * ... Complementary common data line between mats. MAT0 to MAT7 ... Memory mat, UM
A0 to UMA7 ... Unit memory array, US0 to US
7 ... Unit sense amplifier, URD0-URD7 ...
Unit row address decoder. Cs ... Information storage capacitor, Qa ... Address selection MOSFET, W0-W
m: word line, B0 * to Bn * ... complementary bit line, USA0 to USAn ... unit amplifier circuit, YS0 to
YSn ... bit line selection signal, AC0 * to AC7 *
..Complementary common data line in mat. WA0 ... write amplifier, MA0 ... main amplifier. P1-P4 ... P
Channel MOSFET, N1 to N10 ... N channel MOSFET, T1 to T6 ... Transfer gate, V1 to V9 ... Inverter, G1 to G11 ...
NAND gate. CPU ... Central processing unit, SBUS ... System bus, RAM0-RAM2
・ ・ ・ Random access memory, ROM ・ ・ ・ ・ Read only memory, DPYC ・ ・ ・ Display control device, VRAM ・ ・ ・ Image memory, DPY ・ ・ ・ Display device, PERC ・ ・ ・ Peripheral device controller, KB
D ... Keyboard, EXM ... External storage device, PO
WS: Power supply device.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 共通データ線のそれぞれに複数のビット
線を同時接続することで複数のアドレスに同一内容を書
き込むことができかつ上記複数のアドレスに対する同一
内容の書き込みを共通データ線ごとに選択的にマスクで
きるブロックライトモードを有し、上記共通データ線の
それぞれと所定の電位供給点との間に設けられ非選択時
及び上記ブロックライトモードのマスク時選択的にオン
状態とされるプリチャージ手段を具備することを特徴と
する半導体記憶装置。
1. The same content can be written to a plurality of addresses by simultaneously connecting a plurality of bit lines to each of the common data lines, and the writing of the same content to the plurality of addresses can be selectively performed for each common data line. Precharge means having a block write mode that can be masked, and is provided between each of the common data lines and a predetermined potential supply point and is selectively turned on during non-selection and during masking in the block write mode. A semiconductor memory device comprising:
【請求項2】 上記半導体記憶装置は、複数のメモリマ
ットと、上記メモリマットに対応して設けられ対応する
メモリマットの指定されたビット線が選択的に接続され
るマット内共通データ線と、指定された上記マット内共
通データ線が選択的に接続されるマット間共通データ線
と、その出力端子が対応する上記マット間共通データ線
に結合されるライトアンプとを具備するものであり、上
記電位供給点は、第1の電源電圧供給点であり、上記プ
リチャージ手段は、上記マット間共通データ線のそれぞ
れと第1の電源電圧供給点との間に設けられるPチャン
ネルMOSFETからなるものであって、上記ライトア
ンプは、上記マット間共通データ線のそれぞれと第2の
電源電圧供給点との間に設けられ書き込みデータの対応
するビットに従って選択的にオン状態とされるNチャン
ネルMOSFETを含むものであることを特徴とする請
求項1の半導体記憶装置。
2. The semiconductor memory device comprises: a plurality of memory mats; and an in-mat common data line which is provided corresponding to the memory mats and to which designated bit lines of the corresponding memory mats are selectively connected. An inter-mat common data line to which the designated in-mat common data line is selectively connected; and a write amplifier whose output terminal is coupled to the corresponding inter-mat common data line. The potential supply point is a first power supply voltage supply point, and the precharge means comprises a P-channel MOSFET provided between each of the mat common data lines and the first power supply voltage supply point. Therefore, the write amplifier is provided between each of the inter-mat common data lines and the second power supply voltage supply point, and according to the corresponding bit of the write data. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, including an N-channel MOSFET that is selectively turned on.
【請求項3】 上記半導体記憶装置は、シンクロナスD
RAMであって、上記マット内共通データ線のそれぞれ
に指定されたビット線を選択的に接続するためのビット
線選択信号は、上記複数のメモリマットによって共有さ
れるものであることを特徴とする請求項1又は請求項2
の半導体記憶装置。
3. The semiconductor memory device comprises a synchronous D
In the RAM, a bit line selection signal for selectively connecting a bit line designated to each of the common data lines in the mat is shared by the plurality of memory mats. Claim 1 or Claim 2
Semiconductor memory device.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09231740A (en) * 1996-02-21 1997-09-05 Nec Corp Semiconductor memory
US6418067B1 (en) 1999-07-12 2002-07-09 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device suitable for merging with logic

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