JPH11265571A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH11265571A
JPH11265571A JP10084929A JP8492998A JPH11265571A JP H11265571 A JPH11265571 A JP H11265571A JP 10084929 A JP10084929 A JP 10084929A JP 8492998 A JP8492998 A JP 8492998A JP H11265571 A JPH11265571 A JP H11265571A
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JP
Japan
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boost
sense amplifier
potential
complementary bit
sense
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JP10084929A
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Yutaka Ito
伊藤  豊
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Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 そのコスト上昇を抑えつつ、ブーストセンス
方式をとるダイナミック型RAM等の高速化を図る。 【解決手段】 ブーストセンス方式をとりかつシェアド
センス方式をとるダイナミック型RAM等において、ブ
ーストセンスのためのブースト容量C1〜C4をセンス
アンプSA内に設けずメモリアレイARYL及びARY
R内に設け、これらのブースト容量を、メモリアレイの
ダイナミック型メモリセルを構成するアドレス選択MO
SFETと基本的に同一の素子構造とされるMOSFE
Tをもとに構成する。また、ブースト容量による相補ビ
ット線の電位押し上げ動作が行われる間、センスアンプ
SAの例えば選択メモリアレイARYL側のシェアドM
OSFETN4及びN5をオン状態のままとするととも
に、センスアンプSAをオーバードライブセンス方式と
し、高電位側コモンソース線CSPの電位を、駆動当初
の所定期間だけ各単位増幅回路の非反転又は反転入出力
ノードにおける最終的なハイレベルVDLより高い電位
VCCにオーバードライブする。
(57) [Summary] [PROBLEMS] To increase the speed of a dynamic RAM or the like using a boost sense system while suppressing the increase in cost. SOLUTION: In a dynamic RAM or the like employing a boost sense system and a shared sense system, boost capacitors C1 to C4 for boost sense are not provided in a sense amplifier SA and memory arrays ARY and ARY are provided.
R, and these boost capacities are adjusted by an address selection MO constituting a dynamic memory cell of the memory array.
MOSFE having the same element structure as SFET
It is configured based on T. Also, during the operation of boosting the potential of the complementary bit line by the boost capacitance, the shared amplifier M of the sense amplifier SA, for example, on the selected memory array ARYL side
The OSFETs N4 and N5 are kept on, the sense amplifier SA is of an overdrive sense type, and the potential of the high-potential side common source line CSP is set to the non-inverted or inverted input / output of each unit amplifier circuit for a predetermined period at the beginning of driving. Overdrive to a potential VCC higher than the final high level VDL at the node.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は半導体記憶装置に
関し、例えば、ブーストセンス方式をとるダイナミック
型RAM(ランダムアクセスメモリ)ならびにその高速
化及び低消費電力化に利用して特に有効な技術に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a dynamic RAM (random access memory) employing a boost sense system and a technique particularly effective when used for speeding up and reducing power consumption. is there.

【0002】[0002]

【従来の技術】直交して配置されるワード線及び相補ビ
ット線ならびにこれらのワード線及び相補ビット線の交
点に格子配列されるダイナミック型メモリセルを含むメ
モリアレイと、メモリアレイの各相補ビット線に対応し
て設けられる単位増幅回路を含むセンスアンプとを備え
るダイナミック型RAM等の半導体記憶装置がある。ま
た、このようなダイナミック型RAM等において、セン
スアンプを構成する各単位増幅回路の非反転及び反転入
出力ノードとブースト制御信号線との間に一対のブース
ト容量を設け、メモリアレイの選択ワード線に結合され
たメモリセルの微小読み出し信号が対応する相補ビット
線に出力された後、各単位増幅回路の非反転及び反転入
出力ノードの電位を押し上げることで、ダイナミック型
RAM等の低電圧化を推進し、その読み出し動作を高速
化しうるいわゆるCABS方式(Charge Amp
lifying−Boosted Sensing S
cheme)等のブーストセンス方式が、例えば、19
97年5月、アイ・イー・イー・イー(IEEE) ジ
ャーナル オブ ソリッド・ステート サーキッツ(J
OURNAL OF SOLID−STATE CIR
CUITS),VOL.32,No.5,第642頁〜
第648頁に記載されている。
2. Description of the Related Art A memory array including word lines and complementary bit lines arranged orthogonally, dynamic memory cells arranged in a lattice at the intersections of these word lines and complementary bit lines, and each complementary bit line of the memory array There is a semiconductor memory device such as a dynamic RAM including a sense amplifier including a unit amplifier circuit provided corresponding to the above. In such a dynamic RAM or the like, a pair of boost capacitors are provided between the non-inverting and inverting input / output nodes of each unit amplifier circuit constituting the sense amplifier and the boost control signal line, and the selected word line of the memory array is provided. After the minute read signal of the memory cell coupled to the corresponding complementary bit line is output, the potential of the non-inverting and inverting input / output nodes of each unit amplifier circuit is raised to reduce the voltage of the dynamic RAM or the like. So-called CABS method (Charge Amp) which can accelerate the read operation.
living-Boosted Sensing S
scheme), for example, 19
May 1997, IEE Journal of Solid State Circuits (J
OURRNAL OF SOLID-STATE CIR
CUITS), VOL. 32, no. 5, from page 642
Page 648.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本願発明者等は、この
発明に先立って、上記CABS方式をとるダイナミック
型RAMの研究を進める中、次のような問題点に気付い
た。すなわち、CABS方式のダイナミック型RAM
は、図5に例示されるように、メモリアレイARYL及
びARYRの相補ビット線BL0*〜BLn*ならびに
BR0*〜BRn*に対応して設けられるn+1個の単
位回路を含むセンスアンプSAを備え、これらの単位回
路のそれぞれは、一対のCMOS(相補型MOS)イン
バータが交差結合されてなる単位増幅回路UAを含む。
センスアンプSAの各単位増幅回路UAの非反転入出力
ノードS0T〜SnT(ここで、それが有効とされると
き選択的にハイレベルとされるいわゆる非反転信号等に
ついては、その名称の末尾にTを付して表す。以下同
様)ならびに反転入出力ノードS0B〜SnB(ここ
で、それが有効とされるとき選択的にロウレベルとされ
るいわゆる反転信号等については、その名称の末尾にB
を付して表す。以下同様)とブースト制御信号線BST
との間には、一対のブースト容量C5及びC6が設けら
れる。
Prior to the present invention, the inventors of the present invention have noticed the following problems while studying the dynamic RAM employing the CABS method. That is, a CABS dynamic RAM
Includes a sense amplifier SA including n + 1 unit circuits provided corresponding to the complementary bit lines BL0 * to BLn * and BR0 * to BRn * of the memory arrays ARYL and ARYR, as illustrated in FIG. Each of these unit circuits includes a unit amplifier circuit UA in which a pair of CMOS (complementary MOS) inverters are cross-coupled.
The non-inverting input / output nodes S0T to SnT of each unit amplifier circuit UA of the sense amplifier SA (here, a so-called non-inverting signal or the like which is selectively set to a high level when it is enabled is added to the end of its name. T. The same applies to the following, and inverted input / output nodes S0B to SnB (here, a so-called inverted signal or the like which is selectively set to a low level when it is enabled is suffixed with B at the end of its name).
And is represented by The same applies to the following) and the boost control signal line BST
Are provided with a pair of boost capacitors C5 and C6.

【0004】センスアンプSAの各単位回路を構成する
ブースト容量C5及びC6のドレイン・ソース側電極が
結合されるブースト制御信号線BSTは、図6に例示さ
れるように、通常接地電位VSSのようなロウレベルと
され、例えばメモリアレイARYLの選択ワード線WL
0に結合されたn+1個のメモリセルの保持データに応
じた微小読み出し信号が対応する相補ビット線BL0*
〜BLn*(ここで、例えば非反転ビット線BL0T及
び反転ビット線BL0Bを、合わせて相補ビット線BL
0*のように*を付して表す。以下同様)つまりセンス
アンプSAの対応する単位増幅回路UAの相補入出力ノ
ードS0*〜Sn*に出力され、しかもこれらの相補入
出力ノードと両側のメモリアレイARYL及びARYR
の相補ビット線BL0*及びBR0*〜BRn*との間
に設けられたシェアドMOSFETN4及びN5ならび
にNB及びNCがすべてオフ状態とされた時点で、電源
電圧VCCのようなハイレベルとされる。ブースト容量
C5及びC6は、このブースト制御信号BSTのハイレ
ベルへの立ち上がりを受けて、各単位増幅回路UAの非
反転入出力ノードS0T〜SnTならびに反転入出力ノ
ードS0B〜SnBの電位を一斉に押し上げ、そのレベ
ル差を少し拡大させる。
The boost control signal line BST to which the drain-source electrodes of the boost capacitors C5 and C6 constituting each unit circuit of the sense amplifier SA are coupled has, as illustrated in FIG. 6, a normal ground potential VSS. And the selected word line WL of the memory array ARYL, for example.
The complementary bit line BL0 * to which the minute read signal corresponding to the data held in the (n + 1) memory cells coupled to 0 corresponds
To BLn * (here, for example, the non-inverted bit line BL0T and the inverted bit line BL0B
It is represented by adding * like 0 *. The same applies to the following), that is, the signals are output to the complementary input / output nodes S0 * to Sn * of the corresponding unit amplifier circuit UA of the sense amplifier SA, and these complementary input / output nodes and the memory arrays ARYL and ARYR on both sides are output.
When the shared MOSFETs N4 and N5 and NB and NC provided between the complementary bit lines BL0 * and BR0 * to BRn * are all turned off, the power supply voltage is set to a high level like the power supply voltage VCC. In response to the rise of the boost control signal BST to a high level, the boost capacitors C5 and C6 simultaneously boost the potentials of the non-inverting input / output nodes S0T to SnT and the inverting input / output nodes S0B to SnB of each unit amplifier circuit UA. , To increase the level difference a little.

【0005】これにより、単位増幅回路UAの増幅動作
は高速化されるが、例えばメモリアレイARYLのワー
ド線WL0が選択されてからブースト制御信号BSTが
ハイレベルとされるまでには、選択ワード線WL0に結
合されるn+1個のメモリセルの微小読み出し信号の信
号量が、メモリアレイARYLの相補ビット線BL0*
〜BLn*つまりセンスアンプSAの相補入出力ノード
S0*〜Sn*において充分となり、かつメモリアレイ
ARYLに対応するシェアドMOSFETN4及びN5
がすべてオフ状態となるための比較的長い時間をおく必
要があり、これによってダイナミック型RAMの動作が
思うように高速化されない。
[0005] As a result, the amplification operation of the unit amplifier circuit UA is accelerated, but, for example, after the word line WL0 of the memory array ARYL is selected and before the boost control signal BST is set to the high level, the selected word line is changed. The signal amount of the minute read signal of the (n + 1) memory cells coupled to WL0 is equal to the complementary bit line BL0 * of the memory array ARYL.
To BLn *, ie, the complementary input / output nodes S0 * to Sn * of the sense amplifier SA, and are shared MOSFETs N4 and N5 corresponding to the memory array ARYL.
It is necessary to allow a relatively long time for all the devices to be turned off, and this does not speed up the operation of the dynamic RAM as desired.

【0006】この発明の目的は、そのコスト上昇を抑え
つつ、ブーストセンス方式をとるダイナミック型RAM
等の高速化を図ることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a dynamic RAM employing a boost sense system while suppressing an increase in cost.
And to speed up the operation.

【0007】この発明の前記ならびにその他の目的と新
規な特徴は、この明細書の記述及び添付図面から明らか
になるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次
の通りである。すなわち、ブーストセンス方式をとりか
つシェアドセンス方式をとるダイナミック型RAM等に
おいて、ブーストセンスのためのブースト容量をセンス
アンプ内に設けずメモリアレイ内に設け、これらのブー
スト容量を、メモリアレイのダイナミック型メモリセル
を構成するアドレス選択MOSFETと基本的に同一の
素子構造とされるMOSFETをもとに構成する。ま
た、ブースト容量による相補ビット線の電位押し上げ動
作が行われる間、センスアンプの選択メモリアレイ側の
シェアドMOSFETをオン状態のままとするととも
に、センスアンプをオーバードライブセンス方式とし、
高電位側コモンソース線の電位を、駆動当初の所定期間
だけ、各単位増幅回路の非反転又は反転入出力ノードに
おける最終的なハイレベルより高い電位にオーバードラ
イブする。
The following is a brief description of an outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application. That is, in a dynamic RAM or the like that employs a boost sense system and a shared sense system, a boost capacitance for boost sense is provided in a memory array without being provided in a sense amplifier, and these boost capacitances are provided by the dynamic type of the memory array. It is constructed based on MOSFETs having basically the same element structure as the address selection MOSFETs constituting the memory cell. In addition, while the potential boosting operation of the complementary bit line by the boost capacitance is performed, the shared MOSFET on the selected memory array side of the sense amplifier is kept on, and the sense amplifier is set to the overdrive sense method,
The potential of the high-potential-side common source line is overdriven to a potential higher than the final high level at the non-inverted or inverted input / output node of each unit amplifier circuit for a predetermined period at the beginning of driving.

【0009】上記手段によれば、ブーストセンス用のブ
ースト容量が設けられることによるチップサイズの増大
を抑えつつ、これらのブースト容量による相補ビット線
の電位押し上げ動作を早期に開始できるとともに、オー
バードライブによって各相補ビット線の非反転又は反転
信号線のハイレベルを高め、プルアップ用MOSFET
のドレイン・ソース間電圧を大きくして、その増幅動作
を高速化することができる。この結果、ダイナミック型
RAMのコスト上昇を抑えつつ、その動作を高速化する
ことができるとともに、ダイナミック型RAM等の動作
電源を充分に低電圧化し、そのチップ温度の上昇を抑え
て、ダイナミック型RAM等としてのリフレッシュ特性
を大幅に改善することができる。
According to the above means, the boosting of the potential of the complementary bit line by these boost capacitors can be started at an early stage while suppressing the increase in the chip size due to the provision of the boost capacitors for the boost sense. Increase the high level of the non-inverted or inverted signal line of each complementary bit line, and pull-up MOSFET
The voltage between the drain and the source can be increased to speed up the amplification operation. As a result, the operation of the dynamic RAM can be sped up while suppressing the cost increase of the dynamic RAM, and the operating power supply of the dynamic RAM or the like is sufficiently lowered to suppress the rise of the chip temperature. The refresh characteristics as described above can be greatly improved.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】図1には、この発明が適用された
ダイナミック型RAM(半導体記憶装置)の一実施例の
ブロック図が示されている。同図をもとに、まずこの実
施例のダイナミック型RAMの構成及び動作の概要につ
いて説明する。なお、図1の各ブロックを構成する回路
素子は、特に制限されないが、公知のMOSFET(金
属酸化物半導体型電界効果トランジスタ。この明細書で
は、MOSFETをして絶縁ゲート型電界効果トランジ
スタの総称とする)集積回路の製造技術により、単結晶
シリコンのような1個の半導体基板面上に形成される。
FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of a dynamic RAM (semiconductor memory device) to which the present invention is applied. First, an outline of the configuration and operation of the dynamic RAM according to this embodiment will be described with reference to FIG. Although the circuit elements constituting each block in FIG. 1 are not particularly limited, a well-known MOSFET (metal oxide semiconductor type field effect transistor. In this specification, a MOSFET is a generic name of an insulated gate type field effect transistor). Is formed on one semiconductor substrate surface, such as single crystal silicon, by an integrated circuit manufacturing technique.

【0011】図1において、この実施例のダイナミック
型RAMは、特に制限されないが、8個のメモリマット
MAT0〜MAT7を備える。また、ダイナミック型R
AMはシェアドセンス方式を採り、メモリマットMAT
0〜MAT7のそれぞれは、メモリマットMAT0に代
表して示されるように、センスアンプSAを挟む一対の
メモリアレイARYL及びARYRと、各メモリアレイ
に対応して設けられる一対のXアドレスデコーダXDL
及びXDRとを備える。メモリマットMAT0〜MAT
7は、さらに両メモリアレイに共通に設けられるYアド
レスデコーダYDと、ライトアンプWA及びメインアン
プMAとを備える。
In FIG. 1, the dynamic RAM of this embodiment includes, but is not limited to, eight memory mats MAT0 to MAT7. Dynamic type R
AM adopts a shared sense system and uses a memory mat MAT.
0 to MAT7, as represented by the memory mat MAT0, a pair of memory arrays ARYL and ARYR sandwiching the sense amplifier SA, and a pair of X address decoders XDL provided corresponding to each memory array.
And XDR. Memory mats MAT0-MAT
7 further includes a Y address decoder YD provided commonly to both memory arrays, a write amplifier WA and a main amplifier MA.

【0012】メモリマットMAT0〜MAT7のメモリ
アレイARYL及びARYRは、図の垂直方向に平行し
て配置される所定数のワード線と、水平方向に平行して
配置される所定数組の相補ビット線とをそれぞれ含む。
これらのワード線及び相補ビット線の交点には、情報蓄
積キャパシタ及びアドレス選択MOSFETからなる多
数のダイナミック型メモリセルが格子状に配置される。
メモリアレイARYLには、タイミング発生回路TGか
らブースト制御信号BSTLが供給され、メモリアレイ
ARYRにはブースト制御信号BSTRが供給される。
The memory arrays ARYL and ARYR of the memory mats MAT0 to MAT7 have a predetermined number of word lines arranged in parallel in the vertical direction and a predetermined number of complementary bit lines arranged in parallel in the horizontal direction. And respectively.
At the intersections of these word lines and complementary bit lines, a large number of dynamic memory cells composed of information storage capacitors and address selection MOSFETs are arranged in a grid.
The boost control signal BSTL is supplied from the timing generation circuit TG to the memory array ARYL, and the boost control signal BSTR is supplied to the memory array ARYR.

【0013】この実施例において、ダイナミック型RA
Mはブーストセンス方式をとり、ブーストセンスに必要
なブースト容量は、センスアンプSA内ではなく、メモ
リアレイARYL及びARYRの所定位置にそれぞれ設
けられる。また、これらのブースト容量は、メモリアレ
イARYL及びARYRの各メモリセルを構成するアド
レス選択MOSFETと基本的に同一の素子構造とされ
るMOSFETからなり、選択メモリセルの微小読み出
し信号が対応する相補ビット線の非反転又は反転信号線
に出力された時点で、ブースト制御信号BSTL又はB
STRが接地電位VSSのようなロウレベルから電源電
圧VCCのようなハイレベルとされることにより、対応
する相補ビット線の電位をそれぞれ押し上げる。ブース
ト容量を含むメモリアレイARYL及びARYRの具体
的構成及びブーストセンス時の具体的動作ならびにその
特徴等については、後で詳細に説明する。
In this embodiment, a dynamic RA
M employs a boost sensing method. Boost capacitances required for boost sensing are provided not at the sense amplifier SA but at predetermined positions of the memory arrays ARYL and ARYR. These boost capacitances are composed of MOSFETs having basically the same element structure as the address selection MOSFETs constituting the memory cells of the memory arrays ARYL and ARYR. When the boost control signal BSTL or BTL is output to the non-inversion or inversion signal line of the line,
When STR is changed from a low level such as the ground potential VSS to a high level such as the power supply voltage VCC, the potentials of the corresponding complementary bit lines are boosted. The specific configuration of the memory arrays ARYL and ARYR including the boost capacitance, the specific operation at the time of boost sensing, and the characteristics thereof will be described later in detail.

【0014】メモリマットMAT0〜MAT7のメモリ
アレイARYL及びARYRを構成するワード線は、そ
の下方において対応するXアドレスデコーダXDL又は
XDRに結合され、それぞれ択一的に選択状態とされ
る。メモリマットMAT0〜MAT7のXアドレスデコ
ーダXDL及びXDRには、XアドレスバッファXBか
らi+1ビットの内部アドレス信号X0〜Xiが共通に
供給されるとともに、タイミング発生回路TGから図示
されない内部制御信号XGが共通に供給される。また、
XアドレスバッファXBには、外部のアクセス装置から
アドレス入力端子A0〜Aiを介してXアドレス信号A
X0〜AXiが時分割的に供給され、タイミング発生回
路TGから内部制御信号XLが供給される。
The word lines constituting the memory arrays ARYL and ARYR of the memory mats MAT0 to MAT7 are coupled to corresponding X address decoders XDL or XDR below them, and each of them is alternatively selected. To the X address decoders XDL and XDR of the memory mats MAT0 to MAT7, the i + 1-bit internal address signals X0 to Xi are commonly supplied from the X address buffer XB, and the internal control signal XG (not shown) is commonly supplied from the timing generation circuit TG. Supplied to Also,
The X address buffer XB receives an X address signal A from an external access device through address input terminals A0 to Ai.
X0 to AXi are supplied in a time-division manner, and an internal control signal XL is supplied from the timing generation circuit TG.

【0015】XアドレスバッファXBは、アドレス入力
端子A0〜Aiを介して供給されるXアドレス信号AX
0〜AXiを内部制御信号XLに従って取り込み、保持
するとともに、これらのXアドレス信号をもとに内部ア
ドレス信号X0〜Xiを形成して、メモリマットMAT
0〜MAT7のXアドレスデコーダXDL及びXDRに
供給する。このとき、メモリマットMAT0〜MAT7
のXアドレスデコーダXDL及びXDRは、内部制御信
号XGがハイレベルとされかつ例えば最上位ビットの内
部アドレス信号Xiがロウレベル又はハイレベルとされ
ることでそれぞれ選択的に動作状態となり、Xアドレス
バッファXBから供給される内部アドレス信号X0〜X
iをデコードして、メモリアレイARYL又はARYR
の指定されたワード線を択一的に内部電圧VPPのよう
な選択レベルとする。なお、XアドレスバッファXBか
ら出力される最上位ビットの内部アドレス信号Xiは、
後述するタイミング発生回路TGにも供給される。
An X address buffer XB is provided with an X address signal AX supplied through address input terminals A0 to Ai.
0 to AXi are taken in according to the internal control signal XL, held, and based on these X address signals, internal address signals X0 to Xi are formed to generate a memory mat MAT.
0 to MAT7 to the X address decoders XDL and XDR. At this time, the memory mats MAT0 to MAT7
The X address decoders XDL and XDR selectively operate when the internal control signal XG is set to the high level and the internal address signal Xi of the most significant bit is set to the low level or the high level, for example. Address signals X0 to X supplied from
i to decode the memory array ARYL or ARYR
Is alternatively set to a selected level such as the internal voltage VPP. Note that the internal address signal Xi of the most significant bit output from the X address buffer XB is
It is also supplied to a timing generation circuit TG described later.

【0016】次に、メモリマットMAT0〜MAT7の
メモリアレイARYL及びARYRを構成する相補ビッ
ト線は、その内側においてセンスアンプSAの対応する
単位回路にそれぞれ結合される。センスアンプSAに
は、YアドレスデコーダYDから図示されないn+1ビ
ットのビット線選択信号YS0〜YSnが供給されると
ともに、タイミング発生回路TGからシェアド制御信号
SHL及びSHR,プリチャージ制御信号PC,センス
アンプ駆動信号PA1,PA2BならびにPA3が供給
される。また、YアドレスデコーダYDには、Yアドレ
スバッファYBからi+1ビットの内部アドレス信号Y
0〜Yiが供給されるとともに、タイミング発生回路T
Gから図示されない内部制御信号YGが供給される。Y
アドレスバッファYBには、外部のアクセス装置からア
ドレス入力端子A0〜Aiを介してi+1ビットのYア
ドレス信号AY0〜AYiが時分割的に供給され、タイ
ミング発生回路TGから内部制御信号YLが供給され
る。
Next, the complementary bit lines forming the memory arrays ARYL and ARYR of the memory mats MAT0 to MAT7 are respectively connected to corresponding unit circuits of the sense amplifier SA on the inside. The sense amplifier SA is supplied with n + 1-bit bit line selection signals YS0 to YSn (not shown) from the Y address decoder YD, and shared control signals SHL and SHR, a precharge control signal PC, and a sense amplifier drive from the timing generation circuit TG. Signals PA1, PA2B and PA3 are provided. The Y address decoder YD supplies the i + 1 bit internal address signal Y from the Y address buffer YB.
0 to Yi, and the timing generation circuit T
G supplies an internal control signal YG (not shown). Y
Address buffer YB is supplied with i + 1-bit Y address signals AY0 to AYi in a time-sharing manner from an external access device via address input terminals A0 to Ai, and is supplied with an internal control signal YL from timing generation circuit TG. .

【0017】YアドレスバッファYBは、アドレス入力
端子A0〜Aiを介して供給されるYアドレス信号AY
0〜AYiを内部制御信号YLに従って取り込み、保持
するとともに、これらのYアドレス信号をもとに内部ア
ドレス信号Y0〜Yiを形成して、メモリマットMAT
0〜MAT7のYアドレスデコーダYDに供給する。こ
のとき、メモリマットMAT0〜MAT7のYアドレス
デコーダYDは、内部制御信号YGのハイレベルを受け
て選択的に動作状態となり、内部アドレス信号Y0〜Y
iをデコードして、センスアンプSAに対するビット線
選択信号YS0〜YSnの対応するビットを択一的にハ
イレベルとする。
The Y address buffer YB is provided with a Y address signal AY supplied via address input terminals A0 to Ai.
0 to AYi in accordance with the internal control signal YL and hold the same, and form the internal address signals Y0 to Yi based on these Y address signals to obtain the memory mat MAT.
0 to MAT7 to the Y address decoder YD. At this time, the Y address decoders YD of the memory mats MAT0 to MAT7 are selectively activated by receiving the high level of the internal control signal YG, and the internal address signals Y0 to Y
i, and the corresponding bits of the bit line selection signals YS0 to YSn for the sense amplifier SA are alternatively set to the high level.

【0018】メモリマットMAT0〜MAT7の各セン
スアンプSAは、メモリアレイARYL及びARYRの
各相補ビット線に対応して設けられる所定数の単位回路
を含み、これらの単位回路のそれぞれは、一対のCMO
Sインバータが交差結合されてなる単位増幅回路と、N
チャンネル型の3個のプリチャージMOSFETが直並
列結合されてなるビット線プリチャージ回路と、Nチャ
ンネル型の一対のスイッチMOSFETとを含む。セン
スアンプの各単位回路つまり各単位増幅回路の相補入出
力ノードは、その左側において、シェアド制御信号SH
Lを共通に受けるNチャンネル型のシェアドMOSFE
Tを介してメモリアレイARYLの対応する相補ビット
線にそれぞれ結合され、その右側において、シェアド制
御信号SHRを共通に受けるNチャンネル型の他のシェ
アドMOSFETを介してメモリアレイARYRの対応
する相補ビット線にそれぞれ結合される。
Each of the sense amplifiers SA of the memory mats MAT0 to MAT7 includes a predetermined number of unit circuits provided corresponding to respective complementary bit lines of the memory arrays ARYL and ARYR. Each of these unit circuits is a pair of CMOs.
A unit amplifier circuit having S inverters cross-coupled;
It includes a bit line precharge circuit in which three channel type precharge MOSFETs are connected in series and parallel, and a pair of N channel type switch MOSFETs. Each unit circuit of the sense amplifier, that is, the complementary input / output node of each unit amplifier circuit has a shared control signal SH
N-channel type shared MOSFET receiving L in common
A corresponding complementary bit line of the memory array ARYR is coupled to the corresponding complementary bit line of the memory array ARYL via a T and another N-channel type shared MOSFET receiving the shared control signal SHR in common on the right side thereof. Respectively.

【0019】なお、シェアド制御信号SHL及びSHR
は、後述するように、ダイナミック型RAMが非選択状
態とされるときともに所定のハイレベルとされ、ダイナ
ミック型RAMが選択状態とされるときには、例えば最
上位ビットの内部アドレス信号Xiに従ってそのいずれ
か一方が選択的に所定のロウレベルとされる。これによ
り、センスアンプSAの各単位回路の相補入出力ノード
は、ダイナミック型RAMが非選択状態とされるとき、
ともに対応するシェアドMOSFETを介してメモリア
レイARYL及びARYRの対応する相補ビット線にそ
れぞれ接続状態され、ダイナミック型RAMが選択状態
とされるときには、内部アドレス信号Xiに従ってその
いずれか一方のみと選択的に接続状態とされる。
The shared control signals SHL and SHR
As described later, when the dynamic RAM is set to the non-selected state, it is set to a predetermined high level. When the dynamic RAM is set to the selected state, one of them is set according to, for example, the internal address signal Xi of the most significant bit. One of them is selectively set to a predetermined low level. Thereby, the complementary input / output node of each unit circuit of the sense amplifier SA is connected to the non-selected state of the dynamic RAM.
Both are connected to the corresponding complementary bit lines of the memory arrays ARYL and ARYR via the corresponding shared MOSFETs, respectively. When the dynamic RAM is selected, only one of them is selectively selected according to the internal address signal Xi. Connected.

【0020】センスアンプSAの各単位回路のビット線
プリチャージ回路を構成するプリチャージMOSFET
は、ダイナミック型RAMが非選択状態とされるときプ
リチャージ制御信号PCのハイレベルを受けて選択的に
かつ一斉にオン状態となり、対応する単位回路の非反転
及び反転入出力ノードつまりはメモリアレイARYL及
びARYRの各相補ビット線の非反転及び反転信号線を
内部電圧VDL及び接地電位VSS間の中間電圧HVに
プリチャージする。
A precharge MOSFET constituting a bit line precharge circuit of each unit circuit of the sense amplifier SA
When the dynamic RAM is set to the non-selection state, it receives the high level of the precharge control signal PC and is selectively and simultaneously turned on, and the non-inverting and inverting input / output nodes of the corresponding unit circuit, that is, the memory array The non-inverted and inverted signal lines of the complementary bit lines of ARYL and ARYR are precharged to the intermediate voltage HV between the internal voltage VDL and the ground potential VSS.

【0021】一方、センスアンプSAの各単位回路の単
位増幅回路は、センスアンプ駆動信号PA1及びPA3
のハイレベルならびにセンスアンプ駆動信号PA2Bの
ロウレベルを受けて選択的にかつ一斉に動作状態とさ
れ、メモリアレイARYL又はARYRの選択されたワ
ード線に結合される所定数のメモリセルから対応する相
補ビット線を介して出力される微小読み出し信号をそれ
ぞれ増幅して、内部電圧VDLを最終的なハイレベルと
し接地電位VSSをロウレベルとする2値読み出し信号
とする。また、各単位回路のスイッチMOSFETは、
YアドレスデコーダYDから供給されるビット線選択信
号YS0〜YSnのハイレベルを受けて択一的にオン状
態となり、センスアンプSAの対応する単位増幅回路の
相補入出力ノードと相補共通データ線CD*との間を選
択的に接続状態とする。
On the other hand, the unit amplifier circuit of each unit circuit of the sense amplifier SA includes sense amplifier drive signals PA1 and PA3.
Of the memory array ARYL or ARYR and the corresponding complementary bit from a predetermined number of memory cells coupled to the selected word line of the memory array ARYL or ARYR. The small read signals output via the lines are respectively amplified to obtain a binary read signal in which the internal voltage VDL is finally set to a high level and the ground potential VSS is set to a low level. The switch MOSFET of each unit circuit is
In response to the high level of the bit line selection signals YS0 to YSn supplied from the Y address decoder YD, they are selectively turned on, and the complementary input / output nodes of the corresponding unit amplifier circuits of the sense amplifier SA and the complementary common data lines CD * Are selectively connected.

【0022】この実施例において、ダイナミック型RA
Mは、前述のように、ブーストセンス方式をとり、メモ
リアレイARYL及びARYRの各相補ビット線に対応
して設けられたブースト容量は、センスアンプSAの各
単位増幅回路が動作状態とされる直前に対応する相補ビ
ット線の非反転及び反転信号線の電位を押し上げる。ま
た、この実施例のダイナミック型RAMは、オーバード
ライブセンス方式をとり、単位増幅回路に高電位側動作
電源を供給するコモンソース線には、駆動当初の所定期
間、各単位増幅回路の非反転又は反転入出力ノードにお
ける最終的なハイレベルつまり内部電圧VDLより高い
電源電圧VCCが一時的に供給される。これにより、ダ
イナミック型RAMの動作が高速化されるが、このこと
を含め、センスアンプSAの具体的構成及びオーバード
ライブセンス動作の具体的内容ならびにその特徴等につ
いては、後で詳細に説明する。
In this embodiment, a dynamic RA
M employs the boost sensing method as described above, and the boost capacitance provided corresponding to each complementary bit line of the memory arrays ARYL and ARYR is set immediately before each unit amplifier circuit of the sense amplifier SA is brought into the operating state. , The potential of the non-inverting and inverting signal lines of the complementary bit line corresponding to is raised. Further, the dynamic RAM of this embodiment employs an overdrive sense system, and a common source line for supplying high-potential-side operation power to the unit amplifier circuit is provided with a non-inverted or non-inverted A final high level at the inverting input / output node, that is, a power supply voltage VCC higher than the internal voltage VDL is temporarily supplied. This speeds up the operation of the dynamic RAM. The specific configuration of the sense amplifier SA, the specific contents of the overdrive sensing operation, and the features thereof, including this, will be described later in detail.

【0023】メモリマットMAT0〜MAT7の相補共
通データ線CD*は、対応するライトアンプWAの出力
端子及びメインアンプMAの入力端子にそれぞれ共通結
合される。各メモリマットのライトアンプWAの入力端
子は、書き込みデータバスWDB0〜WDB7の対応す
るビットを介してデータ入力バッファIBの対応する単
位回路の出力端子に結合され、各メモリマットのメイン
アンプMAの出力端子は、読み出しデータバスRDB0
〜RDB7の対応するビットを介してデータ出力バッフ
ァOBの対応する単位回路の入力端子に結合される。デ
ータ入力バッファIBの各単位回路の入力端子ならびに
データ出力バッファOBの各単位回路の出力端子は、対
応するデータ入出力端子D0〜D7にそれぞれ共通結合
される。メモリマットMAT0〜MAT7のライトアン
プWAには、タイミング発生回路TGから図示されない
内部制御信号WPが共通に供給され、データ出力バッフ
ァOBの各単位回路には、内部制御信号OCが共通に供
給される。
The complementary common data lines CD * of the memory mats MAT0 to MAT7 are commonly connected to the output terminal of the corresponding write amplifier WA and the input terminal of the main amplifier MA, respectively. The input terminal of the write amplifier WA of each memory mat is coupled to the output terminal of the corresponding unit circuit of the data input buffer IB via the corresponding bit of the write data bus WDB0-WDB7, and the output terminal of the main amplifier MA of each memory mat. The terminal is connected to the read data bus RDB0.
RDB7 to the input terminal of the corresponding unit circuit of the data output buffer OB via the corresponding bit. An input terminal of each unit circuit of the data input buffer IB and an output terminal of each unit circuit of the data output buffer OB are commonly coupled to corresponding data input / output terminals D0 to D7, respectively. An internal control signal WP (not shown) is commonly supplied from a timing generation circuit TG to the write amplifiers WA of the memory mats MAT0 to MAT7, and an internal control signal OC is commonly supplied to each unit circuit of the data output buffer OB. .

【0024】データ入力バッファIBの各単位回路は、
ダイナミック型RAMが書き込みモードで選択状態とさ
れるとき、データ入出力端子D0〜D7を介して入力さ
れる8ビットの書き込みデータを取り込み、保持すると
ともに、書き込みデータバスWDB0〜WDB7を介し
て対応するメモリマットMAT0〜MAT7のライトア
ンプWAに伝達する。このとき、各メモリマットのライ
トアンプWAは、内部制御信号WPのハイレベルを受け
て選択的に動作状態とされ、データ入力バッファIBの
対応する単位回路から書き込みデータバスWDB0〜W
DB7を介して伝達される書き込みデータを所定の相補
書き込み信号とした後、相補共通データ線CD*からセ
ンスアンプSAを介して対応するメモリアレイARYL
又はARYRの選択された1個、合計8個のメモリセル
に書き込む。
Each unit circuit of the data input buffer IB includes:
When the dynamic RAM is set to the selected state in the write mode, 8-bit write data input through the data input / output terminals D0 to D7 is fetched and held, and the corresponding data is written via the write data buses WDB0 to WDB7. The signal is transmitted to the write amplifiers WA of the memory mats MAT0 to MAT7. At this time, the write amplifier WA of each memory mat is selectively activated in response to the high level of the internal control signal WP, and the write data buses WDB0 to WDB0 to WDB0 to WDB0 to
After the write data transmitted via DB7 is converted into a predetermined complementary write signal, the corresponding memory array ARYL is supplied from complementary common data line CD * via sense amplifier SA.
Alternatively, data is written into a selected one of ARYR, that is, a total of eight memory cells.

【0025】一方、メモリマットMAT0〜MAT7メ
インアンプMAは、ダイナミック型RAMが読み出しモ
ードとされるとき、対応するメモリアレイARYL又は
ARYRの選択された1個、合計8個のメモリセルから
相補共通データ線CD*を介して出力される2値読み出
し信号をさらに増幅し、読み出しデータバスRDB0〜
RDB7を介してデータ出力バッファOBの対応する単
位回路に伝達する。このとき、データ出力バッファOB
の各単位回路は、内部制御信号OCのハイレベルを受け
て選択的に動作状態とされ、対応するメインアンプMA
から伝達される読み出し信号をデータ入出力端子D0〜
D7を介して出力する。
On the other hand, when the dynamic RAM is set to the read mode, the memory mats MAT0 to MAT7 supply complementary common data from a total of eight selected memory cells of the corresponding memory array ARYL or ARYR. The binary read signal output via the line CD * is further amplified and read data buses RDB0 to RDB0
The data is transmitted to the corresponding unit circuit of the data output buffer OB via the RDB 7. At this time, the data output buffer OB
Are selectively operated in response to the high level of the internal control signal OC, and the corresponding main amplifier MA
Read signals transmitted from the data input / output terminals D0 to D0
Output via D7.

【0026】タイミング発生回路TGは、外部のアクセ
ス装置から起動制御信号として供給されるロウアドレス
ストローブ信号RASB,カラムアドレスストローブ信
号CASBならびにライトイネーブル信号WEBと、X
アドレスバッファXBから供給される最上位ビットの内
部アドレス信号Xiとをもとに、上記各種の内部制御信
号等を選択的に形成し、ダイナミック型RAMの各部に
供給する。
The timing generation circuit TG includes a row address strobe signal RASB, a column address strobe signal CASB, and a write enable signal WEB supplied as a start control signal from an external access device.
Based on the most significant bit internal address signal Xi supplied from the address buffer XB, the above-mentioned various internal control signals and the like are selectively formed and supplied to each section of the dynamic RAM.

【0027】なお、図1には示されていないが、ダイナ
ミック型RAMは、所定の外部端子を介して供給される
電源電圧VCC及び接地電位VSSをもとに内部電圧V
PP及びVDLならびに中間電圧HVを生成する内部電
圧発生回路を備える。このうち、内部電圧VPPは、主
にメモリアレイARYL及びARYRを構成するワード
線の選択レベルとして供され、内部電圧VDLは、主に
メモリアレイARYL及びARYRならびにその直接周
辺回路の動作電源として供される。特に制限されない
が、電源電圧VCCは、例えば2.5V(ボルト)のよ
うな正電位とされる。また、内部電圧VPPは、例えば
4.0Vとされ、内部電圧VDL及び中間電圧HVは、
それぞれ1.5V及び0.75Vとされる。
Although not shown in FIG. 1, the dynamic RAM has an internal voltage V based on a power supply voltage VCC and a ground potential VSS supplied through predetermined external terminals.
An internal voltage generation circuit for generating the PP and VDL and the intermediate voltage HV is provided. Among them, the internal voltage VPP is mainly used as a selection level of a word line constituting the memory arrays ARYL and ARYR, and the internal voltage VDL is mainly used as an operation power supply of the memory arrays ARYL and ARYR and its direct peripheral circuits. You. Although not particularly limited, the power supply voltage VCC is set to a positive potential, for example, 2.5 V (volt). The internal voltage VPP is, for example, 4.0 V, and the internal voltage VDL and the intermediate voltage HV are:
They are 1.5V and 0.75V, respectively.

【0028】図2には、図1のダイナミック型RAMに
含まれるメモリマットMAT0〜MAT7のメモリアレ
イARYL及びARYRならびにセンスアンプSAの一
実施例の部分的なブロック図が示されている。また、図
3には、図2のメモリアレイARYL及びARYRなら
びにセンスアンプSAの一実施例の部分的な回路図が示
され、図4には、その一実施例の信号波形図が示されて
いる。これらの図をもとに、この実施例のダイナミック
型RAMのメモリマットMAT0〜MAT7を構成する
メモリアレイARYL及びARYRならびにセンスアン
プSAの具体的構成及び動作ならびにその特徴について
説明する。
FIG. 2 is a partial block diagram of one embodiment of the memory arrays ARY and ARYR of the memory mats MAT0 to MAT7 included in the dynamic RAM of FIG. 1 and the sense amplifier SA. FIG. 3 is a partial circuit diagram of an embodiment of the memory arrays ARYL and ARYR and the sense amplifier SA of FIG. 2, and FIG. 4 is a signal waveform diagram of the embodiment. I have. With reference to these figures, the specific configurations and operations of the memory arrays ARYL and ARYR and the sense amplifiers SA constituting the memory mats MAT0 to MAT7 of the dynamic RAM of this embodiment will be described.

【0029】なお、図2では、一組のメモリアレイAR
YL及びARYRならびにセンスアンプSAを例にブロ
ック構成の説明が進められ、図3では、センスアンプS
A及びその左側に配置されたメモリアレイARYLを例
に具体的構成の説明を進められるが、メモリアレイAR
YRは、メモリアレイARYLと対称的構成とされ、メ
モリマットMAT0〜MAT7には、同様な構成のメモ
リアレイARYL及びARYRならびにセンスアンプS
Aがそれぞれ設けられる。また、図4では、センスアン
プSAの左側に設けられるメモリアレイARYLのワー
ド線WL0が択一的に選択状態とされる場合が例示さ
れ、このワード線WL0と相補ビット線B0*の交点に
配置されかつ論理“1”のデータを保持するメモリセル
に着目して動作の説明が進められる。以下の回路図にお
いて、そのチャネル(バックゲート)部に矢印が付され
るMOSFETはPチャンネルMOSFETであって、
矢印の付されないNチャンネルMOSFETと区別して
示される。
In FIG. 2, a set of memory arrays AR
The block configuration will be described with reference to the YL and ARYR and the sense amplifier SA as an example.
A and the memory array ARYL disposed on the left side thereof will be used as an example to explain the specific configuration.
YR has a symmetric configuration with the memory array ARYL, and the memory mats MAT0 to MAT7 have memory arrays ARYL and ARYR and a sense amplifier S
A is provided. FIG. 4 illustrates a case where the word line WL0 of the memory array ARYL provided on the left side of the sense amplifier SA is alternatively selected, and is arranged at the intersection of the word line WL0 and the complementary bit line B0 *. The description of the operation proceeds with a focus on the memory cell that holds the data of logic "1". In the following circuit diagram, the MOSFET with an arrow at its channel (back gate) portion is a P-channel MOSFET,
It is shown differently from an N-channel MOSFET without an arrow.

【0030】図2において、メモリアレイARYLは、
平行して配置されるm+1本のワード線WL0〜WLm
と、これらのワード線に直交しかつ互いに平行して配置
されるn+1組の相補ビット線BL0*〜BLn*とを
含む。これらのワード線及び相補ビット線の交点には、
図3に例示されるように、情報蓄積キャパシタCs及び
アドレス選択MOSFETQaからなる(m+1)×
(n+1)個のダイナミック型メモリセルが格子配列さ
れる。メモリアレイARYLの同一列に配置されるm+
1個のメモリセルの情報蓄積キャパシタCsの一方の電
極は、対応するアドレス選択MOSFETQaを介して
相補ビット線BL0*〜BLn*の非反転又は反転信号
線に所定の規則性をもって交互に結合され、同一行に配
置されるn+1個のメモリセルのアドレス選択MOSF
ETQaのゲートは、対応するワード線WL0〜WLm
にそれぞれ共通結合される。メモリアレイARYLを構
成するすべてのメモリセルの情報蓄積キャパシタCsの
他方の電極には、プレート電圧として上記0.75Vの
中間電圧HVが共通に供給される。
In FIG. 2, the memory array ARYL is
M + 1 word lines WL0 to WLm arranged in parallel
And n + 1 sets of complementary bit lines BL0 * to BLn * arranged orthogonal to these word lines and parallel to each other. At the intersection of these word lines and complementary bit lines,
As exemplified in FIG. 3, (m + 1) × comprising an information storage capacitor Cs and an address selection MOSFET Qa.
(N + 1) dynamic memory cells are arranged in a lattice. M + arranged in the same column of the memory array ARYL
One electrode of the information storage capacitor Cs of one memory cell is alternately coupled to the non-inverted or inverted signal lines of the complementary bit lines BL0 * to BLn * through a corresponding address selection MOSFET Qa with a predetermined regularity, Address selection MOSF of n + 1 memory cells arranged on the same row
The gates of ETQa are connected to corresponding word lines WL0 to WLm.
Are commonly connected to each other. The intermediate voltage HV of 0.75 V is commonly supplied as a plate voltage to the other electrodes of the information storage capacitors Cs of all the memory cells constituting the memory array ARYL.

【0031】同様に、メモリアレイARYRは、平行し
て配置されるm+1本のワード線WR0〜WRmと、直
交しかつ互いに平行して配置されるn+1組の相補ビッ
ト線BR0*〜BRn*とを含む。これらのワード線及
び相補ビット線の交点には、情報蓄積キャパシタCs及
びアドレス選択MOSFETQaからなる(m+1)×
(n+1)個のダイナミック型メモリセルが格子配列さ
れる。メモリアレイARYRの同一列に配置されるm+
1個のメモリセルの情報蓄積キャパシタCsの一方の電
極は、対応するアドレス選択MOSFETQaを介して
相補ビット線BR0*〜BRn*の非反転又は反転信号
線に所定の規則性をもって交互に結合され、同一行に配
置されるn+1個のメモリセルのアドレス選択MOSF
ETQaのゲートは、対応するワード線WR0〜WRm
にそれぞれ共通結合される。メモリアレイARYRを構
成するすべてのメモリセルの情報蓄積キャパシタCsの
他方の電極には、プレート電圧として中間電圧HVが共
通に供給される。
Similarly, the memory array ARYR includes (m + 1) word lines WR0-WRm arranged in parallel and (n + 1) sets of complementary bit lines BR0 * -BRn * arranged orthogonally and in parallel with each other. Including. At the intersection of these word lines and complementary bit lines, an (m + 1) × comprising an information storage capacitor Cs and an address selection MOSFET Qa
(N + 1) dynamic memory cells are arranged in a lattice. M + arranged in the same column of the memory array ARYR
One electrode of the information storage capacitor Cs of one memory cell is alternately coupled to the non-inverted or inverted signal lines of the complementary bit lines BR0 * to BRn * through a corresponding address selection MOSFET Qa with a predetermined regularity, Address selection MOSF of n + 1 memory cells arranged on the same row
The gates of ETQa are connected to corresponding word lines WR0-WRm.
Are commonly connected to each other. An intermediate voltage HV is commonly supplied as a plate voltage to the other electrodes of the information storage capacitors Cs of all the memory cells constituting the memory array ARYR.

【0032】この実施例において、メモリマットMAT
0〜MAT7のメモリアレイARYL及びARYRは、
さらに、相補ビット線BL0*〜BLn*ならびにBR
0*〜BRn*に対応して設けられ、ビット線延長方向
のほぼ中間に配置されるn+1対のブースト容量C1及
びC2ならびにC3及びC4をそれぞれ含む。これらの
ブースト容量は、ダイナミック型メモリセルのアドレス
選択MOSFETQaとして形成されるものを一部修正
してなるいわゆるMOSFET容量であって、そのサイ
ズ及びレイアウトピッチは通常のアドレス選択MOSF
ETQaと同一とされる。ブースト容量C1及びC2な
らびにC3及びC4のゲート側電極は、相補ビット線B
L0*〜BLn*あるいはBR0*〜BRn*の非反転
及び反転信号線にそれぞれ結合され、そのソース・ドレ
イン側電極は、ブースト制御信号BSTL又はBSTR
にそれぞれ共通結合される。
In this embodiment, the memory mat MAT
0 to MAT7 memory arrays ARYL and ARYR are:
Further, complementary bit lines BL0 * to BLn * and BR
It includes n + 1 pairs of boost capacitors C1 and C2 and C3 and C4 provided corresponding to 0 * to BRn * and arranged substantially at the center of the bit line extension direction. These boost capacitances are so-called MOSFET capacitances obtained by partially modifying those formed as the address selection MOSFET Qa of the dynamic memory cell, and the size and layout pitch thereof are the same as those of the normal address selection MOSFET.
It is the same as ETQa. The gate electrodes of the boost capacitors C1 and C2 and C3 and C4 are connected to the complementary bit lines B
L0 * -BLn * or BR0 * -BRn * are respectively coupled to non-inverted and inverted signal lines, and their source / drain side electrodes are connected to a boost control signal BSTL or BSTR.
Are commonly connected to each other.

【0033】次に、センスアンプSAは、メモリアレイ
ARYL及びARYRの相補ビット線BL0*〜BLn
*ならびにBR0*〜BRn*に対応して設けられるn
+1個の単位回路を備え、これらの単位回路のそれぞれ
は、PチャンネルMOSFETP2及びNチャンネルM
OSFETN2ならびにPチャンネルMOSFETP3
及びNチャンネルMOSFETN3からなる一対のCM
OSインバータが交差結合されてなる単位増幅回路UA
をその基本構成要素とする。センスアンプSAの各単位
回路は、さらに、Nチャンネル型の3個のプリチャージ
MOSFETN6〜N8が直並列結合されてなるビット
線プリチャージ回路と、Nチャンネル型の一対のスイッ
チMOSFETN9及びNAと、Nチャンネル型の2組
のシェアドMOSFETN4及びN5ならびにNB及び
NCとをそれぞれ含む。
Next, the sense amplifiers SA are connected to the complementary bit lines BL0 * to BLn of the memory arrays ARYL and ARYR.
* And n provided corresponding to BR0 * to BRn *
+1 unit circuits, each of which comprises a P-channel MOSFET P2 and an N-channel M
OSFET N2 and P-channel MOSFET P3
And a pair of CMs comprising an N-channel MOSFET N3
Unit amplifier circuit UA in which OS inverters are cross-coupled
Is the basic component. Each unit circuit of the sense amplifier SA further includes a bit line precharge circuit in which three N-channel type precharge MOSFETs N6 to N8 are connected in series and parallel, a pair of N-channel type switch MOSFETs N9 and NA, and N It includes two sets of channel type shared MOSFETs N4 and N5 and NB and NC, respectively.

【0034】センスアンプSAの各単位回路のビット線
プリチャージ回路を構成するプリチャージMOSFET
N6〜N8のゲートには、タイミング発生回路TGから
プリチャージ制御信号PCが共通に供給され、プリチャ
ージMOSFETN7及びN8の共通結合されたソース
には、中間電圧HVが供給される。また、各単位増幅回
路を構成するPチャンネルMOSFETP2及びP3の
ソースは、コモンソース線CSP(第1のコモンソース
線)に共通結合され、NチャンネルMOSFETN2及
びN3のソースは、コモンソース線CSN(第2のコモ
ンソース線)に共通結合される。コモンソース線CSP
は、そのゲートにセンスアンプ駆動信号PA2Bを受け
るPチャンネル型の駆動MOSFETP1を介して電源
電圧VCCに結合されるとともに、センスアンプ駆動信
号PA3を受けるNチャンネル型の駆動MOSFETN
1を介して内部電圧VDLに結合される。コモンソース
線CSNは、そのゲートにセンスアンプ駆動信号PA1
を受けるNチャンネル型の駆動MOSFETN2を介し
て接地電位VSSに結合される。
Precharge MOSFET constituting bit line precharge circuit of each unit circuit of sense amplifier SA
A precharge control signal PC is commonly supplied from the timing generation circuit TG to the gates of N6 to N8, and an intermediate voltage HV is supplied to the commonly coupled sources of the precharge MOSFETs N7 and N8. The sources of the P-channel MOSFETs P2 and P3 forming each unit amplifier circuit are commonly coupled to a common source line CSP (first common source line), and the sources of the N-channel MOSFETs N2 and N3 are connected to a common source line CSN (first common source line CSN). 2 common source lines). Common source line CSP
Is coupled to power supply voltage VCC via a P-channel type drive MOSFET P1 receiving a sense amplifier drive signal PA2B at its gate, and is an N-channel type drive MOSFET N receiving a sense amplifier drive signal PA3.
1 to internal voltage VDL. The common source line CSN has a sense amplifier drive signal PA1 at its gate.
, And is coupled to ground potential VSS via an N-channel type drive MOSFET N2.

【0035】さらに、センスアンプSAの各単位回路の
スイッチMOSFETN9及びNAの一方は、メモリア
レイARYL及びARYRの対応する相補ビット線BL
0*〜BLn*ならびにBR0*〜BRn*にそれぞれ
結合され、その他方は、相補共通データ線CD*の非反
転又は反転信号線にそれぞれ共通結合される。また、各
スイッチMOSFETの共通結合されたゲートには、Y
アドレスデコーダYDから対応するビット線選択信号Y
S0〜YSnがそれぞれ供給される。各単位回路のシェ
アドMOSFETN4及びN5のゲートには、タイミン
グ発生回路TGからシェアド制御信号SHLが共通に供
給され、シェアドMOSFETNB及びNCのゲートに
は、シェアド制御信号SHRが共通に供給される。
Further, one of the switch MOSFETs N9 and NA of each unit circuit of the sense amplifier SA is connected to the corresponding complementary bit line BL of the memory arrays ARYL and ARYR.
0 * to BLn * and BR0 * to BRn *, respectively, and the other is commonly coupled to a non-inverted or inverted signal line of the complementary common data line CD *. In addition, a common-coupled gate of each switch MOSFET has Y
The corresponding bit line selection signal Y from the address decoder YD
S0 to YSn are supplied, respectively. The shared control signal SHL is commonly supplied from the timing generation circuit TG to the gates of the shared MOSFETs N4 and N5 of each unit circuit, and the shared control signal SHR is commonly supplied to the gates of the shared MOSFETs NB and NC.

【0036】ここで、プリチャージ制御信号PCは、特
に制限されないが、図4に示されるように、通常つまり
ダイナミック型RAMが非選択状態とされるとき電源電
圧VCCのようなハイレベルとされ、ダイナミック型R
AMが選択状態とされると所定のタイミングで接地電位
VSSのようなロウレベルとされる。また、シェアド制
御信号SHL及びSHRは、通常ともに電源電圧VCC
のようなハイレベルとされ、ダイナミック型RAMが選
択状態とされると、まず最上位ビットの内部アドレス信
号Xiに従ってそのいずれか一方、つまり例えばシェア
ド制御信号SHRが接地電位VSSのようなロウレベル
とされる。また、ハイレベルのまま残されたその他方、
つまり例えばシェアド制御信号SHLは、センスアンプ
SAの増幅動作が終了した時点で内部電圧VPPのよう
な高電位とされた後、ダイナミック型RAMが非選択状
態とされた時点で、シェアド制御信号SHRとともに電
源電圧VCCのような通常のハイレベルに戻される。
Here, the precharge control signal PC is not particularly limited, but as shown in FIG. 4, is normally at a high level like the power supply voltage VCC when the dynamic RAM is in the non-selected state. Dynamic type R
When AM is selected, it is set to a low level such as the ground potential VSS at a predetermined timing. In addition, shared control signals SHL and SHR are usually supplied with power supply voltage VCC.
When the dynamic RAM is set to the selected state, one of them, that is, for example, the shared control signal SHR is set to a low level such as the ground potential VSS according to the internal address signal Xi of the most significant bit. You. In addition, the other who was left at a high level,
That is, for example, the shared control signal SHL is set to a high potential such as the internal voltage VPP at the time when the amplification operation of the sense amplifier SA is completed, and then together with the shared control signal SHR at the time when the dynamic RAM is set to the non-selection state. It is returned to a normal high level such as the power supply voltage VCC.

【0037】一方、メモリアレイARYL及びARYR
のワード線WL0〜WLmならびにWR0〜WRmは、
通常接地電位VSSのような非選択レベルとされ、ダイ
ナミック型RAMが選択状態とされると内部アドレス信
号X0〜Xiに従って択一的に内部電圧VPPのような
選択レベルとされる。また、ブースト制御信号BSTL
及びBSTRは、ダイナミック型RAMが非選択状態と
されるとき接地電位VSSのようなロウレベルとされ、
ダイナミック型RAMが選択状態とされると、選択ワー
ド線に結合されたn+1個のメモリセルの微小読み出し
信号が相補ビット線BL0*〜BLn*あるいはBR0
*〜BRn*に出力され終わった比較的早い時点で択一
的に電源電圧VCCのようなハイレベルとされる。
On the other hand, memory arrays ARYL and ARYR
Word lines WL0-WLm and WR0-WRm are
Normally, it is set to a non-selection level such as the ground potential VSS, and when the dynamic RAM is set to the selected state, it is selectively set to the selection level such as the internal voltage VPP according to the internal address signals X0 to Xi. Also, the boost control signal BSTL
And BSTR are set to the low level such as the ground potential VSS when the dynamic RAM is set to the non-selected state,
When the dynamic RAM is set to the selected state, the minute read signal of n + 1 memory cells coupled to the selected word line is supplied to the complementary bit lines BL0 * to BLn * or BR0.
At a relatively early point in time when the output to * to BRn * is completed, it is alternatively set to a high level like the power supply voltage VCC.

【0038】センスアンプ駆動信号PA1は、通常接地
電位VSSのようなロウレベルとされ、ダイナミック型
RAMが選択状態とされるとブースト容量C1及びC2
あるいはC3及びC4によるブースト動作が終了する時
点で電源電圧VCCのようなハイレベルとされる。ま
た、センスアンプ駆動信号PA2Bは、通常電源電圧V
CCのようなハイレベルとされ、ダイナミック型RAM
が選択状態とされるとセンスアンプ駆動信号PA1の立
ち上がりに同期してかつ所定期間だけ一時的に接地電位
VSSのようなロウレベルとされる。さらに、センスア
ンプ駆動信号PA3は、通常接地電位VSSのようなロ
ウレベルとされ、ダイナミック型RAMが選択状態とさ
れるとセンスアンプ駆動信号PA2Bがハイレベルに戻
されるのと同時に内部電圧VPPのような高電位のハイ
レベルとされる。
The sense amplifier drive signal PA1 is normally set at a low level such as the ground potential VSS, and when the dynamic RAM is selected, the boost capacitors C1 and C2 are set.
Alternatively, when the boost operation by C3 and C4 ends, the power supply voltage is set to a high level like the power supply voltage VCC. Further, the sense amplifier drive signal PA2B has the normal power supply voltage V
Dynamic RAM with high level like CC
Is set to the selected state, it is temporarily set to the low level such as the ground potential VSS in synchronization with the rise of the sense amplifier drive signal PA1 and for a predetermined period. Further, the sense amplifier drive signal PA3 is normally set to a low level such as the ground potential VSS. When the dynamic RAM is set to the selected state, the sense amplifier drive signal PA2B is returned to the high level and at the same time as the internal voltage VPP. It is set to a high potential high level.

【0039】ダイナミック型RAMが非選択状態とされ
シェアド制御信号SHL及びSHRが電源電圧VCCの
ようなハイレベルとされるとき、センスアンプSAで
は、全単位回路のシェアドMOSFETN4及びN5な
らびにNB及びNCが一斉にオン状態となる。このと
き、プリチャージ制御信号PCは電源電圧VCCのよう
なハイレベルとされ、これを受けて各単位回路のビット
線プリチャージ回路を構成するプリチャージMOSFE
TN6〜N8が一斉にオン状態となる。
When the dynamic RAM is deselected and the shared control signals SHL and SHR are at a high level such as the power supply voltage VCC, in the sense amplifier SA, the shared MOSFETs N4 and N5 and NB and NC of all unit circuits are They are simultaneously turned on. At this time, the precharge control signal PC is set to a high level such as the power supply voltage VCC, and in response to this, the precharge MOSFE configuring the bit line precharge circuit of each unit circuit.
TN6 to TN8 are simultaneously turned on.

【0040】これにより、センスアンプSAの各単位回
路の相補入出力ノードS0*〜Sn*の非反転及び反転
入出力ノードと、メモリアレイARYL及びARYRの
相補ビット線BL0*〜BLn*ならびにBR0*〜B
Rn*の非反転及び反転信号線は、すべて中間電圧HV
にプリチャージされる。また、センスアンプSAの駆動
MOSFETN1及びN2ならびにP1は、センスアン
プ駆動信号PA1及びPA3のロウレベルならびにセン
スアンプ駆動信号PA2Bのハイレベルを受けてすべて
オフ状態となり、コモンソース線CSP及びCSNは、
図示されないコモンソース線プリチャージ回路を介して
中間電圧HVにプリチャージされる。メモリアレイAR
YL及びARYRのブースト容量C1及びC2ならびに
C3及びC4のドレイン・ソース側電極は、ブースト制
御信号BSTL及びBSTRのロウレベルを受けて接地
電位VSSにチャージされる。
As a result, the non-inverting and inverting input / output nodes of the complementary input / output nodes S0 * to Sn * of each unit circuit of the sense amplifier SA, and the complementary bit lines BL0 * to BLn * and BR0 * of the memory arrays ARYL and ARYR. ~ B
The non-inverted and inverted signal lines of Rn * are all intermediate voltage HV
Precharged. The drive MOSFETs N1 and N2 and P1 of the sense amplifier SA are all turned off in response to the low level of the sense amplifier drive signals PA1 and PA3 and the high level of the sense amplifier drive signal PA2B, and the common source lines CSP and CSN are
It is precharged to an intermediate voltage HV via a common source line precharge circuit (not shown). Memory array AR
The drain-source electrodes of the boost capacitors C1 and C2 and C3 and C4 of YL and ARYR receive the low level of the boost control signals BSTL and BSTR, and are charged to the ground potential VSS.

【0041】ダイナミック型RAMが選択状態とされる
と、まずプリチャージ制御信号PCが所定のタイミング
で接地電位VSSのようなロウレベルとされ、センスア
ンプSAの各単位回路のビット線プリチャージ回路によ
るプリチャージ動作が停止される。また、続いて例えば
指定ワード線WL0を含まない非選択メモリアレイAR
YRに対応するシェアド制御信号SHRが接地電位VS
Sのようなロウレベルとされ、センスアンプSAの各単
位回路のシェアドMOSFETNB及びNCが一斉にオ
フ状態となって、相補入出力ノードS0*〜Sn*とメ
モリアレイARYRの相補ビット線BR0*〜BRn*
との間の接続が断たれる。
When the dynamic RAM is set to the selected state, the precharge control signal PC is first set to a low level such as the ground potential VSS at a predetermined timing, and the precharge control signal PC is precharged by the bit line precharge circuit of each unit circuit of the sense amplifier SA. The charging operation is stopped. Subsequently, for example, the unselected memory array AR not including the designated word line WL0
Shared control signal SHR corresponding to YR is at ground potential VS
S, the shared MOSFETs NB and NC of each unit circuit of the sense amplifier SA are simultaneously turned off, and the complementary input / output nodes S0 * to Sn * and the complementary bit lines BR0 * to BRn of the memory array ARYR are turned off. *
The connection to is broken.

【0042】メモリアレイARYLでは、Xアドレスデ
コーダXDのデコード動作が終了した時点で、指定され
たワード線WL0が択一的に内部電圧VPPのような高
電位の選択レベルとされ、その他のワード線WL1〜W
Lmはすべて接地電位VSSのような非選択レベルのま
まとされる。これにより、メモリアレイARYLの相補
ビット線B0*〜Bn*つまりセンスアンプSAの相補
入出力ノードS0*〜Sn*には、選択ワード線WL0
に結合されるn+1個のメモリセルの保持データに対応
した微小読み出し信号がそれぞれ出力される。したがっ
て、例えば論理“1”のデータを保持するメモリセルが
結合された相補ビット線B0*つまりセンスアンプSA
の相補入出力ノードS0*では、その非反転信号線B0
Tつまり非反転入出力ノードS0Tの電位がわずかに上
昇し、対応する反転信号線B0Bつまり反転入出力ノー
ドS0Bの電位よりやや高くなる。
In the memory array ARYL, when the decoding operation of the X address decoder XD is completed, the designated word line WL0 is alternatively set to a high potential selection level such as the internal voltage VPP, and the other word lines WL0 are selected. WL1 to W
All Lm are kept at a non-selected level such as the ground potential VSS. Thus, the selected word line WL0 is connected to the complementary bit lines B0 * to Bn * of the memory array ARYL, that is, the complementary input / output nodes S0 * to Sn * of the sense amplifier SA.
, A minute read signal corresponding to the data held in the (n + 1) memory cells is output. Therefore, for example, the complementary bit line B0 * to which the memory cell holding the data of logic "1" is coupled, that is, the sense amplifier SA
Of the non-inverted signal line B0
T, that is, the potential of the non-inverted input / output node S0T slightly increases, and becomes slightly higher than the potential of the corresponding inverted signal line B0B, that is, the inverted input / output node S0B.

【0043】ワード線選択動作が終了し、例えばメモリ
アレイARYLの相補ビット線BL0*〜BLn*に選
択ワード線WL0に結合されたn+1個のメモリセルの
微小読み出し信号が出力され終わると、まだセンスアン
プSAの相補入出力ノードS0*〜Sn*に微小読み出
し信号による充分な信号量が得られない比較的早い時点
で、しかも選択ワード線WL0を含むメモリアレイAR
YLに対応したシェアドMOSFETN4及びN5がオ
フ状態となるのを待つことなく、ブースト制御信号BS
TLが択一的に電源電圧VCCのようなハイレベルとさ
れる。また、やや遅れてセンスアンプ駆動信号PA1が
電源電圧VCCのようなハイレベルとされ、同時にセン
スアンプ駆動信号PA2Bが一時的に接地電位VSSの
ようなロウレベルとされる。そして、所定時間が経過し
た時点でセンスアンプ駆動信号PA2Bが電源電圧VC
Cのようなハイレベルに戻されると同時に、センスアン
プ駆動信号PA3が内部電圧VPPのようなハイレベル
とされる。
When the word line selection operation is completed and, for example, the minute read signal of the (n + 1) memory cells coupled to the selected word line WL0 is output to the complementary bit lines BL0 * to BLn * of the memory array ARYL, sense is still performed. The memory array AR including the selected word line WL0 at a relatively early point in time when a sufficient amount of a small read signal cannot be obtained at the complementary input / output nodes S0 * to Sn * of the amplifier SA.
Without waiting for shared MOSFETs N4 and N5 corresponding to YL to be turned off, boost control signal BS
TL is alternatively set to a high level like the power supply voltage VCC. With a slight delay, the sense amplifier drive signal PA1 is set to a high level such as the power supply voltage VCC, and at the same time, the sense amplifier drive signal PA2B is temporarily set to a low level such as the ground potential VSS. Then, when a predetermined time has elapsed, the sense amplifier drive signal PA2B changes to the power supply voltage VC.
At the same time as returning to a high level such as C, the sense amplifier drive signal PA3 is set to a high level such as the internal voltage VPP.

【0044】選択ワード線WL0を含むメモリアレイA
RYLでは、ブースト制御信号BSTLのハイレベルを
受けてブースト容量C1及びC2のドレイン・ソース側
電極が電源電圧VCCにブーストされ、これを受けて相
補ビット線BL0*〜BLn*の非反転及び反転信号線
ならびにセンスアンプSAの相補入出力ノードS0*〜
Sn*の非反転及び反転入出力ノードの電位がブースト
容量C1及びC2の容量と各相補ビット線の寄生容量と
のチャージシェアに相当する分だけ押し上げられる。こ
のとき、ブースト容量C1及びC2の容量値は、ドレイ
ン・ソース側電位がゲート電位より高い逆バイアス状態
となるために小さくなり、相応して両電極間の電圧が大
きくなって、対応する相補ビット線BL0*〜BLn*
の非反転及び反転信号線ならびにセンスアンプSAの相
補入出力ノードS0*〜Sn*の非反転及び反転入出力
ノード間の電位差をやや拡大させようとする。
Memory array A including selected word line WL0
In RYL, the drain-source electrodes of the boost capacitors C1 and C2 are boosted to the power supply voltage VCC in response to the high level of the boost control signal BSTL. In response to this, the non-inverted and inverted signals of the complementary bit lines BL0 * to BLn * are received. Line and complementary input / output nodes S0 * to of sense amplifier SA
The potential of the non-inverting and inverting input / output nodes of Sn * is boosted by an amount corresponding to the charge share between the capacitances of the boost capacitors C1 and C2 and the parasitic capacitance of each complementary bit line. At this time, the capacitance values of the boost capacitors C1 and C2 decrease because the drain / source side potential is higher than the gate potential in a reverse bias state, and the voltage between both electrodes increases accordingly, and the corresponding complementary bit increases. Lines BL0 * to BLn *
And the potential difference between the non-inverted and inverted input / output nodes of the sense amplifier SA and the complementary input / output nodes S0 * to Sn * of the sense amplifier SA.

【0045】しかし、この実施例の場合、従来のCAB
S方式とは異なり、ブースト容量C1及びC2がメモリ
アレイARYL内に設けられしかもシェアドMOSFE
TN4及びN5がオン状態のままとされて、相補ビット
線BL0*〜BLn*ならびに相補入出力ノードS0*
〜Sn*の比較的大きな寄生容量が結合されるため、ブ
ースト容量C1及びC2のブースト動作による信号量の
増加は少ない。
However, in this embodiment, the conventional CAB
Unlike the S type, the boost capacitors C1 and C2 are provided in the memory array ARYL and the shared MOSFE
TN4 and N5 are kept on, and complementary bit lines BL0 * to BLn * and complementary input / output node S0 * are set.
Since a relatively large parasitic capacitance of .about.Sn * is coupled, an increase in the signal amount due to the boost operation of the boost capacitances C1 and C2 is small.

【0046】センスアンプSAでは、センスアンプ駆動
信号PA1のハイレベルを受けて駆動MOSFETN2
がオン状態となり、コモンソース線CSNに低電圧側動
作電源つまり接地電位VSSが供給されるとともに、セ
ンスアンプ駆動信号PA2Bのロウレベルを受けて駆動
MOSFETP1がオン状態となり、コモンソース線C
SPには、通常の高電位側動作電源より絶対値の大きな
電源電圧VCCが供給される。これにより、センスアン
プSAの各単位増幅回路はいわゆるオーバードライブ状
態となり、相補入出力ノードS0*〜Sn*の非反転及
び反転入出力ノード間の電位差を急速に拡大すべく増幅
動作を開始する。このため、例えば非反転入出力ノード
S0Tの電位は電源電圧VCCに向かって急速に上昇
し、反転入出力ノードS0Bの電位は接地電位VSSに
向かって低下する。しかし、センスアンプ駆動信号PA
2Bは、前述のように、所定期間後にはハイレベルに戻
されるため、非反転入出力ノードS0Tの電位上昇は途
中で停止され、センスアンプ駆動信号PA3のハイレベ
ルを受けて駆動MOSFETN1がオン状態とされた後
は、内部電圧VDLを目標電位として少し低下する。
The sense amplifier SA receives the high level of the sense amplifier drive signal PA1 and receives the drive MOSFET N2
Is turned on, the low-voltage side operation power supply, that is, the ground potential VSS is supplied to the common source line CSN, and the drive MOSFET P1 is turned on in response to the low level of the sense amplifier drive signal PA2B, and the common source line CSN is turned on.
The power supply voltage VCC having an absolute value larger than that of the normal high-potential-side operation power supply is supplied to the SP. As a result, each unit amplifier circuit of the sense amplifier SA enters a so-called overdrive state, and starts an amplification operation in order to rapidly increase the potential difference between the non-inverting and inverting input / output nodes of the complementary input / output nodes S0 * to Sn *. Therefore, for example, the potential of the non-inverting input / output node S0T rapidly increases toward the power supply voltage VCC, and the potential of the inverting input / output node S0B decreases toward the ground potential VSS. However, the sense amplifier drive signal PA
2B, as described above, returns to the high level after the predetermined period, so that the potential rise of the non-inverting input / output node S0T is stopped halfway, and the drive MOSFET N1 is turned on in response to the high level of the sense amplifier drive signal PA3. After that, the internal voltage VDL is slightly reduced with the target potential.

【0047】上記したように、この実施例の場合、ブー
スト容量C1及びC2のブースト動作にともなう相補ビ
ット線BL0*〜BLn*上の微小読み出し信号の信号
量増加は少ない。ところが、この実施例では、上記ブー
スト容量によるブースト動作が、メモリアレイARYL
の相補ビット線BL0*〜BLn*に微小読み出し信号
が出力され終わった直後、センスアンプSAの相補入出
力ノードS0*〜Sn*にまだ充分な信号量が得られな
い比較的早い時点で、しかも選択メモリアレイARYL
側のシェアドMOSFETN4及びN5がオフ状態とな
るのを待つことなく、早期に開始されるとともに、オー
バードライブにより、例えば論理“1”のデータを保持
するメモリセルに対応した非反転ビット線B0T及び非
反転入出力ノードS0Tのハイレベルが一時的に内部電
圧VDLを超えて高くされる。このため、各単位増幅回
路UAのプルダウン側のMOSFETN2及びN3のド
レイン・ソース間電圧が大きくなり、その増幅動作が高
速化されるとともに、プルアップ側のMOSFETP2
及びP3のドレイン・ソース間電圧も大きくなり、その
増幅動作が高速化される。この結果、上記タイミング的
な効果もあってセンスアンプSAの各単位増幅回路UA
の増幅動作が高速化される。
As described above, in the case of this embodiment, the signal amount of the minute read signal on the complementary bit lines BL0 * to BLn * due to the boost operation of the boost capacitors C1 and C2 is small. However, in this embodiment, the boost operation by the boost capacity is performed by the memory array ARYL.
Immediately after the output of the minute read signal to the complementary bit lines BL0 * to BLn * of the sense amplifier SA, at a relatively early point in time when a sufficient signal amount cannot be obtained yet at the complementary input / output nodes S0 * to Sn * of the sense amplifier SA. Selected memory array ARYL
Without waiting for the shared MOSFETs N4 and N5 on the side to be turned off, the operation is started early, and the non-inverting bit line B0T and the non-inverted bit line B0T corresponding to the memory cell holding the data of logic "1" are overdriven. The high level of the inverting input / output node SOT is temporarily raised to exceed the internal voltage VDL. For this reason, the voltage between the drain and source of the MOSFETs N2 and N3 on the pull-down side of each unit amplifier circuit UA increases, so that the amplification operation is accelerated and the MOSFET P2 on the pull-up side is increased.
And the voltage between the drain and source of P3 also increases, and the amplification operation is accelerated. As a result, each unit amplifier circuit UA of the sense amplifier SA has the timing effect.
Is speeded up.

【0048】一方、この実施例の場合、ブースト容量C
1及びC2がメモリアレイARYL内に設けられ、しか
もダイナミック型メモリセルを構成するアドレス選択M
OSFETと基本的に同一の素子構造とされるため、こ
れらのブースト容量が設けられることによるダイナミッ
ク型RAMのチップサイズの増大は少ない。以上の結
果、この実施例では、ブーストセンス方式をとるダイナ
ミック型RAMのコスト上昇を抑えつつ、その動作を高
速化できるとともに、ダイナミック型RAMの動作電源
を充分に低電圧化し、そのチップ温度の上昇を抑えて、
ダイナミック型RAMとしてのリフレッシュ特性を大幅
に改善できるものである。
On the other hand, in this embodiment, the boost capacitance C
1 and C2 are provided in the memory array ARYL, and the address selection M which constitutes a dynamic memory cell.
Since the element structure is basically the same as that of the OSFET, the increase in the chip size of the dynamic RAM due to the provision of these boost capacitors is small. As a result, in this embodiment, the operation of the dynamic RAM using the boost sense method can be sped up while suppressing the cost increase, and the operating power supply of the dynamic RAM can be sufficiently lowered to increase the chip temperature. Hold down
The refresh characteristics of the dynamic RAM can be greatly improved.

【0049】以上の実施例から得られる作用効果は、下
記の通りである。すなわち、 (1)ブーストセンス方式をとりかつシェアドセンス方
式をとるダイナミック型RAM等において、ブーストセ
ンスのためのブースト容量をセンスアンプ内に設けずメ
モリアレイ内に設けるとともに、ブースト容量による相
補ビット線の電位押し上げ動作が行われる間、センスア
ンプの選択メモリアレイ側のシェアドMOSFETをオ
ン状態のままとすることで、ブースト容量による電位押
し上げ動作を、選択メモリアレイ側の相補ビット線に微
小読み出し信号が出力され終わった直後、センスアンプ
の相補入出力ノードにまだ充分な信号量が得られない比
較的早い時点で、しかも選択メモリアレイ側のシェアド
MOSFETがオフ状態となるのを待つことなく、早期
に開始できるという効果が得られる。
The operation and effect obtained from the above embodiment are as follows. (1) In a dynamic RAM or the like that uses a boost sense method and a shared sense method, a boost capacitance for boost sense is provided not in a sense amplifier but in a memory array, and a complementary bit line by a boost capacitance is provided. By keeping the shared MOSFET on the selected memory array side of the sense amplifier ON while the potential boosting operation is performed, the potential boosting operation by the boost capacitance is output to the complementary bit line on the selected memory array by a minute read signal. Immediately after the operation is completed, at a relatively early time when a sufficient signal amount cannot be obtained at the complementary input / output node of the sense amplifier, and without delay until the shared MOSFET on the selected memory array is turned off, the operation is started early. The effect that it can be obtained is obtained.

【0050】(2)上記(1)項において、センスアン
プをオーバードライブセンス方式として、高電位側コモ
ンソース線の電位を、駆動当初の所定期間だけ、各単位
増幅回路の非反転又は反転入出力ノードにおける最終的
なハイレベルより高い電位にオーバードライブすること
で、各相補ビット線の非反転又は反転信号線のハイレベ
ルを高め、プルアップ用MOSFETのドレイン・ソー
ス間電圧を大きくして、その増幅動作を高速化できると
いう効果が得られる。 (3)上記(1)項及び(2)項により、センスアンプ
による読み出し信号の増幅動作を高速化できるという効
果が得られる。 (4)上記(1)項ないし(3)項において、ブースト
容量を、メモリアレイのアドレス選択MOSFETと基
本的に同一の素子構造とされるMOSFETをもとに構
成することで、ブーストセンス用のブースト容量が設け
られることによるチップサイズの増大を抑えることがで
きるという効果が得られる。
(2) In the above item (1), the sense amplifier is set to the overdrive sense system, and the potential of the high-potential side common source line is set to the non-inverted or inverted input / output of each unit amplifier circuit for a predetermined period at the beginning of driving. By overdriving the potential higher than the final high level at the node, the high level of the non-inverted or inverted signal line of each complementary bit line is increased, and the drain-source voltage of the pull-up MOSFET is increased. The advantage is that the speed of the amplification operation can be increased. (3) According to the above items (1) and (2), the effect of increasing the speed of the read signal amplification operation by the sense amplifier can be obtained. (4) In the above items (1) to (3), the boost capacitance is configured based on a MOSFET having basically the same element structure as the address selection MOSFET of the memory array, so that the boost capacitance is used for boost sensing. The effect that the increase in the chip size due to the provision of the boost capacitance can be suppressed can be obtained.

【0051】(5)上記(1)項ないし(4)項によ
り、ダイナミック型RAMのコスト上昇を抑えつつ、そ
の動作を高速化できるという効果が得られる。 (6)上記(5)項により、ダイナミック型RAM等の
動作電源を充分に低電圧化し、そのチップ温度の上昇を
抑えて、ダイナミック型RAM等としてのリフレッシュ
特性を大幅に改善できるという効果が得られる。
(5) According to the above items (1) to (4), it is possible to obtain an effect that the operation of the dynamic RAM can be sped up while suppressing an increase in cost. (6) According to the above item (5), it is possible to obtain an effect that the operating power supply of the dynamic RAM or the like is sufficiently reduced in voltage, the chip temperature is prevented from rising, and the refresh characteristics of the dynamic RAM or the like can be greatly improved. Can be

【0052】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、この発明は、上記実
施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない
範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。例え
ば、図1において、ダイナミック型RAMは、任意数の
メモリマットを備えることができるし、各メモリマット
を構成するメモリアレイARYL及びARYRは、その
直接周辺部を含めて複数のサブアレイに分割することが
できる。ダイナミック型RAMは、×1ビット又は×1
6ビット等、任意のビット線構成を採りうるし、シェア
ドセンス方式を採ることを必須条件ともしない。Yアド
レスデコーダYDは、すべて又は所定数のメモリマット
に共通に設けてもよい。ダイナミック型RAMは、任意
のブロック構成を採りうるし、起動制御信号の名称及び
組み合わせならびに電源電圧及び各内部電圧の極性及び
絶対値等は、種々の実施形態を採りうる。
As described above, the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiment. However, the invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say, there is. For example, in FIG. 1, the dynamic RAM can have an arbitrary number of memory mats, and the memory arrays ARYL and ARYR constituting each memory mat are divided into a plurality of sub-arrays including their immediate peripheral portions. Can be. A dynamic RAM is a × 1 bit or × 1 bit.
An arbitrary bit line configuration such as 6 bits can be adopted, and adopting a shared sense system is not an essential condition. The Y address decoder YD may be provided commonly to all or a predetermined number of memory mats. The dynamic RAM can take an arbitrary block configuration, and the name and combination of the start control signal, the polarity and the absolute value of the power supply voltage and each internal voltage, and the like can take various embodiments.

【0053】図2及び図3において、メモリアレイAR
YL及びARYRならびにセンスアンプSAは、所定数
の冗長素子を含むことができる。また、メモリアレイA
RYL及びARYRは、メインワード線及びサブワード
線を階層的に用いたいわゆるワード線分割方式をとるこ
とができる。メモリアレイARYL及びARYRに設け
られるブースト容量C1及びC2ならびにC3及びC4
は、それぞれ複数のMOSFETにより構成できる。ま
た、その配置位置は、例えば各メモリアレイのセンスア
ンプの近端側又は遠端側に置き換えることができるし、
各メモリアレイの複数位置に設けてもよい。ダイナミッ
ク型RAMは、メモリアレイARYL及びARYR内に
設けられるブースト容量とあわせて、センスアンプ内に
設けられる同様なブースト容量を備えることができる。
センスアンプSAの駆動MOSFETP1ならびにN1
及びN2は、それぞれ並列形態とされる複数の駆動MO
SFETからなるものであってもよいし、複数の駆動M
OSFETを時系列的にシフトしながらオン状態とする
ものであってもよい。さらに、メモリアレイARYL及
びARYRならびにセンスアンプSAの具体的構成及び
MOSFETの導電型等は、種々の実施形態を採ること
ができる。図4において、各信号の絶対的な電位及び時
間関係は、本発明の主旨に影響を与えない。
In FIGS. 2 and 3, the memory array AR
YL and ARYR and the sense amplifier SA can include a predetermined number of redundant elements. Also, the memory array A
RYL and ARYR can adopt a so-called word line division system in which main word lines and sub word lines are hierarchically used. Boost capacitances C1 and C2 and C3 and C4 provided in memory arrays ARYL and ARYR
Can be constituted by a plurality of MOSFETs, respectively. Further, the arrangement position can be replaced with, for example, the near end side or the far end side of the sense amplifier of each memory array,
It may be provided at a plurality of positions in each memory array. The dynamic RAM can have the same boost capacitance provided in the sense amplifier together with the boost capacitance provided in the memory arrays ARYL and ARYR.
Drive MOSFETs P1 and N1 of sense amplifier SA
And N2 are a plurality of drive MOs each in a parallel form.
It may be composed of an SFET or a plurality of driving M
The OSFET may be turned on while shifting in time series. Furthermore, various embodiments can be adopted for the specific configuration of the memory arrays ARYL and ARYR, the sense amplifier SA, the conductivity type of the MOSFET, and the like. In FIG. 4, the absolute potential and time relationship of each signal does not affect the gist of the present invention.

【0054】以上の説明では、主として本発明者によっ
てなされた発明をその背景となった利用分野であるダイ
ナミック型RAMに適用した場合について説明したが、
それに限定されるものではなく、例えば、ダイナミック
型RAMを基本構成とする各種メモリ集積回路装置やこ
のようなメモリ集積回路装置を含む論理集積回路装置等
にも適用できる。この発明は、少なくともブーストセン
ス方式をとる半導体記憶装置ならびにこれを含む装置又
はシステムに広く適用できる。
In the above description, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to the dynamic RAM, which is the application field of the background, has been described.
The present invention is not limited to this, and can be applied to, for example, various memory integrated circuit devices having a dynamic RAM as a basic configuration, and logic integrated circuit devices including such a memory integrated circuit device. INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be widely applied to at least a semiconductor memory device employing a boost sense method and a device or system including the same.

【0055】[0055]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、ブーストセンス方式をとり
かつシェアドセンス方式をとるダイナミック型RAM等
において、ブーストセンスのためのブースト容量をセン
スアンプ内に設けずメモリアレイ内に設け、これらのブ
ースト容量を、メモリアレイのダイナミック型メモリセ
ルを構成するアドレス選択MOSFETと基本的に同一
の素子構造とされるMOSFETをもとに構成する。ま
た、ブースト容量による相補ビット線の電位押し上げ動
作が行われる間、センスアンプの選択メモリアレイ側の
シェアドMOSFETをオン状態のままとするととも
に、センスアンプをオーバードライブセンス方式とし、
高電位側コモンソース線の電位を、駆動当初の所定期間
だけ、各単位増幅回路の非反転又は反転入出力ノードに
おける最終的なハイレベルより高い電位にオーバードラ
イブする。これにより、ブーストセンスのためのブース
ト容量が設けられることによるチップサイズの増大を抑
えつつ、これらのブースト容量による相補ビット線の電
位押し上げ動作を早期に開始できるとともに、オーバー
ドライブによって各相補ビット線の非反転又は反転信号
線のハイレベルを高め、プルアップ用MOSFETのド
レイン・ソース間電圧を大きくして、その増幅動作を高
速化することができる。この結果、ダイナミック型RA
Mのコスト上昇を抑えつつ、その動作を高速化すること
ができるとともに、ダイナミック型RAM等の動作電源
を充分に低電圧化し、そのチップ温度の上昇を抑えて、
ダイナミック型RAM等としてのリフレッシュ特性を大
幅に改善することができる。
The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, in a dynamic RAM or the like that employs a boost sense system and a shared sense system, a boost capacitance for boost sense is provided in a memory array without being provided in a sense amplifier, and these boost capacitances are provided by the dynamic type of the memory array. It is constructed based on MOSFETs having basically the same element structure as the address selection MOSFETs constituting the memory cell. In addition, while the potential boosting operation of the complementary bit line by the boost capacitance is performed, the shared MOSFET on the selected memory array side of the sense amplifier is kept on, and the sense amplifier is set to the overdrive sense method,
The potential of the high-potential-side common source line is overdriven to a potential higher than the final high level at the non-inverted or inverted input / output node of each unit amplifier circuit for a predetermined period at the beginning of driving. This makes it possible to start the potential boosting operation of the complementary bit lines by these boost capacitors at an early stage while suppressing an increase in the chip size due to the provision of the boost capacitors for the boost sense, and to overdrive each complementary bit line. By increasing the high level of the non-inverting or inverting signal line and increasing the drain-source voltage of the pull-up MOSFET, the speed of the amplification operation can be increased. As a result, the dynamic RA
The operation speed can be increased while suppressing the increase in the cost of M, and the operating power supply such as a dynamic RAM is sufficiently lowered to suppress the rise in the chip temperature.
Refresh characteristics as a dynamic RAM or the like can be greatly improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明が適用されたダイナミック型RAMの
一実施例を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing one embodiment of a dynamic RAM to which the present invention is applied.

【図2】図1のダイナミック型RAMに含まれるメモリ
アレイ及びセンスアンプの一実施例を示す部分的なブロ
ック図である。
FIG. 2 is a partial block diagram showing one embodiment of a memory array and a sense amplifier included in the dynamic RAM of FIG. 1;

【図3】図2のメモリアレイ及びセンスアンプの一実施
例を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing one embodiment of a memory array and a sense amplifier of FIG. 2;

【図4】図2のメモリアレイ及びセンスアンプの一実施
例を示す信号波形図である。
FIG. 4 is a signal waveform diagram showing one embodiment of the memory array and the sense amplifier of FIG. 2;

【図5】この発明に先立って本願発明者等が検討したダ
イナミック型RAMに含まれるメモリアレイ及びセンス
アンプの一例を示す部分的なブロック図である。
FIG. 5 is a partial block diagram showing an example of a memory array and a sense amplifier included in a dynamic RAM examined by the present inventors prior to the present invention.

【図6】図5のメモリアレイ及びセンスアンプの一例を
示す信号波形図である。
FIG. 6 is a signal waveform diagram illustrating an example of a memory array and a sense amplifier in FIG. 5;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

MAT0〜MAT7……メモリマット、ARYL,AR
YR………メモリアレイ、XDL,XDR……Xアドレ
スデコーダ、XB……Xアドレスバッファ、SA……セ
ンスアンプ、YD……Yアドレスデコーダ、YB……Y
アドレスバッファ、WA……ライトアンプ、MA……メ
インアンプ、IB……データ入力バッファ、OB……デ
ータ出力バッファ、TG……タイミング発生回路。D0
〜D7……入出力データ又はその入出力端子、RASB
……ロウアドレスストローブ信号又はその入力端子、C
ASB……カラムアドレスストローブ信号又はその入力
端子、WEB……ライトイネーブル信号又はその入力端
子、A0〜Ai……アドレス信号又はその入力端子。W
L0〜WLm,WR0〜WRm……ワード線、BL0*
〜BLn*,BR0*〜BRn*……相補ビット線、U
A……単位増幅回路、C1〜C4……ブースト容量、C
SP,CSN……コモンソース線、SHL,SHR……
シェアド制御信号、PA1,PA2B,PA3,PA,
PAB……センスアンプ駆動信号、BSTL,BST
R,BST……ブースト制御信号。Qa……アドレス選
択MOSFET、Cs……情報蓄積キャパシタ、S0*
〜Sn*……センスアンプ相補入出力ノード、CD*…
…相補共通データ線、PC……プリチャージ制御信号、
YS0〜YSn……ビット線選択信、P1〜P4……P
チャンネルMOSFET、N1〜NE……Nチャンネル
MOSFET。VCC……電源電圧、VSS……接地電
位、VPP,VDL……内部電圧、HV……中間電圧。
MAT0 to MAT7: Memory mat, ARYL, AR
YR memory array, XDL, XDR X address decoder, XB X address buffer, SA sense amplifier, YD Y address decoder, YB Y
Address buffer, WA: Write amplifier, MA: Main amplifier, IB: Data input buffer, OB: Data output buffer, TG: Timing generation circuit. D0
~ D7 ... I / O data or its I / O terminal, RASB
... Row address strobe signal or its input terminal, C
ASB: a column address strobe signal or its input terminal; WEB: a write enable signal or its input terminal; A0 to Ai: an address signal or its input terminal. W
L0 to WLm, WR0 to WRm ... word line, BL0 *
To BLn *, BR0 * to BRn *... Complementary bit line, U
A: Unit amplification circuit, C1 to C4: Boost capacity, C
SP, CSN ... common source line, SHL, SHR ...
Shared control signals, PA1, PA2B, PA3, PA,
PAB: Sense amplifier drive signal, BSTL, BST
R, BST ... boost control signal. Qa: Address selection MOSFET, Cs: Information storage capacitor, S0 *
... Sn * ... sense amplifier complementary input / output node, CD * ...
... Complementary common data line, PC ... Precharge control signal,
YS0 to YSn ... bit line selection signal, P1 to P4 ... P
Channel MOSFETs, N1 to NE ... N-channel MOSFETs. VCC: power supply voltage, VSS: ground potential, VPP, VDL: internal voltage, HV: intermediate voltage.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ワード線及び相補ビット線と、上記ワー
ド線及び相補ビット線の交点に格子配列され情報蓄積キ
ャパシタ及びアドレス選択MOSFETをそれぞれ含む
ダイナミック型メモリセルとを含むメモリアレイと、 上記メモリアレイ内にあって、上記相補ビット線の非反
転及び反転信号線とブースト制御信号線との間にそれぞ
れ設けられ選択ワード線に結合されるメモリセルの微小
読み出し信号が対応する相補ビット線に出力された時点
で対応する相補ビット線の非反転及び反転信号線の電位
を押し上げるブースト容量と、 上記相補ビット線に対応して設けられる単位増幅回路を
含むセンスアンプとを具備することを特徴とする半導体
記憶装置。
1. A memory array comprising: a word line and a complementary bit line; and a dynamic memory cell lattice-arranged at an intersection of the word line and the complementary bit line and each including an information storage capacitor and an address selection MOSFET; A small read signal of a memory cell provided between the non-inverted and inverted signal line of the complementary bit line and the boost control signal line and coupled to the selected word line is output to the corresponding complementary bit line. And a sense amplifier including a unit amplifier circuit provided corresponding to the complementary bit line, and a boost capacitor for boosting the potential of the non-inverting and inverting signal lines of the corresponding complementary bit line at a time point. Storage device.
【請求項2】 請求項1において、 上記ブースト容量は、上記メモリアレイのダイナミック
型メモリセルを構成するアドレス選択MOSFETと基
本的に同一の素子構造とされるMOSFETからなるも
のであることを特徴とする半導体記憶装置。
2. The device according to claim 1, wherein the boost capacitance is constituted by a MOSFET having an element structure basically the same as an address selection MOSFET constituting a dynamic memory cell of the memory array. Semiconductor storage device.
【請求項3】 請求項1又は請求項2において、 上記ブースト容量は、それが上記センスアンプ内に設け
られる場合に比較して早い時点で対応する上記相補ビッ
ト線の非反転及び反転信号線の電位を押し上げるべく制
御されるものであることを特徴とする半導体記憶装置。
3. The non-inverting and inverting signal line of the complementary bit line corresponding to the boost capacitor at an earlier point in time as compared with the case where the boost capacitor is provided in the sense amplifier. A semiconductor memory device which is controlled to increase a potential.
【請求項4】 請求項1,請求項2又は請求項3におい
て、 上記半導体記憶装置は、シェアドセンス方式をとるもの
であり、 上記メモリアレイは、対をなすべく上記センスアンプの
両側に設けられるものであり、上記センスアンプは、上
記単位増幅回路の相補入出力ノードと上記対をなすメモ
リアレイの対応する相補ビット線との間にそれぞれ設け
られる2組のシェアドMOSFETを含むものであっ
て、 上記ブースト容量は、上記対をなすメモリアレイの各相
補ビット線に対応してそれぞれ設けられ、かつこれらの
ブースト容量による相補ビット線の電位押し上げ動作が
行われる間、対応する上記シェアドMOSFETはオン
状態のままとされるものであることを特徴とする半導体
記憶装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the semiconductor memory device employs a shared sense system, and the memory arrays are provided on both sides of the sense amplifier so as to form a pair. Wherein the sense amplifier includes two sets of shared MOSFETs respectively provided between a complementary input / output node of the unit amplifier circuit and a corresponding complementary bit line of the memory array forming the pair. The boost capacitors are provided corresponding to the respective complementary bit lines of the paired memory arrays, and the corresponding shared MOSFET is turned on while the boosting of the potential of the complementary bit lines by the boost capacitors is performed. A semiconductor memory device characterized by being left as it is.
【請求項5】 上記センスアンプを構成する単位増幅回
路には、第1及び第2のコモンソース線を介して高電位
側動作電源及び低電位側動作電源がそれぞれ選択的に供
給されるものであって、 上記高電位側動作電源の電位は、センスアンプ駆動時の
初期の所定期間において、上記単位増幅回路の非反転又
は反転入出力ノードにおける増幅後の最終的なハイレベ
ルより高い電位となるべく一時的にオーバードライブさ
れるものであることを特徴とする半導体記憶装置。
5. A high-potential-side operation power supply and a low-potential-side operation power supply are selectively supplied to a unit amplifier circuit constituting the sense amplifier via first and second common source lines. The potential of the high-potential-side operation power supply should be higher than the final high level after amplification at the non-inverting or inverting input / output node of the unit amplifier circuit during an initial predetermined period when the sense amplifier is driven. A semiconductor memory device which is temporarily overdriven.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7042781B2 (en) 2003-10-31 2006-05-09 Hynix Semiconductor Inc. Semiconductor memory device for reducing write recovery time
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