JPH08313543A - トンネル電流乃至は原子間力等を検知するプローブ及びその製造方法、並びに該プローブを用いた走査型プローブ顕微鏡又は情報処理装置 - Google Patents
トンネル電流乃至は原子間力等を検知するプローブ及びその製造方法、並びに該プローブを用いた走査型プローブ顕微鏡又は情報処理装置Info
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- JPH08313543A JPH08313543A JP14406095A JP14406095A JPH08313543A JP H08313543 A JPH08313543 A JP H08313543A JP 14406095 A JP14406095 A JP 14406095A JP 14406095 A JP14406095 A JP 14406095A JP H08313543 A JPH08313543 A JP H08313543A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、十分な導電性を有しないZnO針状
結晶ティップの導電性を向上させ、低い電気抵抗の試料
の観察を可能としたプローブと該プローブを用いた走査
型プローブ顕微鏡又は情報処理装置を提供すると共に、
そのティップを容易にプローブ構成部材の所定の位置に
接合することのできるプローブの製造方法を提供するこ
とを目的とするものである。 【構成】本発明は上記目的を達成するために、トンネル
電流乃至は原子間力等を検知するプローブにおいて、十
分な導電性を有しない酸化亜鉛を主体とした針状結晶の
テイップを、5mol%以下の3価の金属イオンを含有
させた構成とするか、またはその表面に導電性の材料を
堆積した構成とすることによって、導電性の高いティッ
プを形成し、電気抵抗が低抵抗な試料においても観察を
行えるようにしたものである。
結晶ティップの導電性を向上させ、低い電気抵抗の試料
の観察を可能としたプローブと該プローブを用いた走査
型プローブ顕微鏡又は情報処理装置を提供すると共に、
そのティップを容易にプローブ構成部材の所定の位置に
接合することのできるプローブの製造方法を提供するこ
とを目的とするものである。 【構成】本発明は上記目的を達成するために、トンネル
電流乃至は原子間力等を検知するプローブにおいて、十
分な導電性を有しない酸化亜鉛を主体とした針状結晶の
テイップを、5mol%以下の3価の金属イオンを含有
させた構成とするか、またはその表面に導電性の材料を
堆積した構成とすることによって、導電性の高いティッ
プを形成し、電気抵抗が低抵抗な試料においても観察を
行えるようにしたものである。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ティップと試料間に発
生するトンネル電流または原子間力等を利用して試料表
面を観察する装置(Scanning Probe M
icroscop.以下SPMという)またはSPMを
応用した情報処理装置に係り、特に、トンネル電流乃至
は原子間力等を検知するプローブ及びその製造方法、並
びに該プローブを用いた走査型プローブ顕微鏡又は情報
処理装置に関するものである。
生するトンネル電流または原子間力等を利用して試料表
面を観察する装置(Scanning Probe M
icroscop.以下SPMという)またはSPMを
応用した情報処理装置に係り、特に、トンネル電流乃至
は原子間力等を検知するプローブ及びその製造方法、並
びに該プローブを用いた走査型プローブ顕微鏡又は情報
処理装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】SPMは、導体の表面原子・電子構造を
直接観察できる走査型トンネル顕微鏡(Scannin
g Tunneling Microscop:ST
M)や、原子間力顕微鏡(AFM)の総称であり、これ
らは物質の表面を原子オーダーの分解能で観察でき、こ
れらの装置を用いることより金属、半導体、有機物質な
どの表面形状が観測される。さらに最近では単に表面形
状を観測するのみならず、ティップに電圧をかけて流れ
る電流電圧特性を測定したり、電圧印加により表面の電
気的特性を変化させたり、機械的に変化させるという技
術も発達している。例えばAFM(原子間力顕微鏡)の
ティップに導電物質をコートし、AFMの動作によりナ
ノスケールで位置を決定した後に、試料とティップとの
間に電圧を印加して電流を測定することにより、STM
(走査型トンネル顕微鏡)と同様に局所的な電流電圧測
定を行えることが特開平3−210465号公報に開示
されている。また、AFM動作により像を得ると同時
に、ティップに電圧をかけた際に流れる電流をAFM像
と同時に画像化すれば表面形状とそれに対応した導電率
の情報を得ることが特開平3−277903号公報に開
示されている。また、AFM動作により位置を確定した
後、電圧を印加することにより媒体に情報を記録し、そ
こでの電流特性により記録を読み出す手法も考案されて
いる。一方、AFMのティップとして、針状結晶を用い
ることが特開平5−79835号公報に開示されている
(図7参照)。針状結晶は結晶の面方位に依存した一定
の形状を持つ先端が得られる。結晶が鋭利な先端曲率半
径を有する場合は、凹凸の多い表面の観察や、高分解能
の測定に有利である。特に3次元構造を持った酸化亜鉛
(ZnO)のテトラポッド型結晶は平面上に取りつける
ことが容易であるという優れた応用特性を持っている。
そこで、このZnOのテトラポッド型結晶をティップ原
子間力の測定に用いるとともに、トンネル電流も測定す
る利用方法が考えられる。
直接観察できる走査型トンネル顕微鏡(Scannin
g Tunneling Microscop:ST
M)や、原子間力顕微鏡(AFM)の総称であり、これ
らは物質の表面を原子オーダーの分解能で観察でき、こ
れらの装置を用いることより金属、半導体、有機物質な
どの表面形状が観測される。さらに最近では単に表面形
状を観測するのみならず、ティップに電圧をかけて流れ
る電流電圧特性を測定したり、電圧印加により表面の電
気的特性を変化させたり、機械的に変化させるという技
術も発達している。例えばAFM(原子間力顕微鏡)の
ティップに導電物質をコートし、AFMの動作によりナ
ノスケールで位置を決定した後に、試料とティップとの
間に電圧を印加して電流を測定することにより、STM
(走査型トンネル顕微鏡)と同様に局所的な電流電圧測
定を行えることが特開平3−210465号公報に開示
されている。また、AFM動作により像を得ると同時
に、ティップに電圧をかけた際に流れる電流をAFM像
と同時に画像化すれば表面形状とそれに対応した導電率
の情報を得ることが特開平3−277903号公報に開
示されている。また、AFM動作により位置を確定した
後、電圧を印加することにより媒体に情報を記録し、そ
こでの電流特性により記録を読み出す手法も考案されて
いる。一方、AFMのティップとして、針状結晶を用い
ることが特開平5−79835号公報に開示されている
(図7参照)。針状結晶は結晶の面方位に依存した一定
の形状を持つ先端が得られる。結晶が鋭利な先端曲率半
径を有する場合は、凹凸の多い表面の観察や、高分解能
の測定に有利である。特に3次元構造を持った酸化亜鉛
(ZnO)のテトラポッド型結晶は平面上に取りつける
ことが容易であるという優れた応用特性を持っている。
そこで、このZnOのテトラポッド型結晶をティップ原
子間力の測定に用いるとともに、トンネル電流も測定す
る利用方法が考えられる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来のテトラ
ポッド型ZnO結晶を弾性体上に搭載したAFM装置を
用いて、ティップと試料の間を流れる電流を観察するS
TM観察を行う場合、ZnOは十分な導電性を有さない
ためにつぎのような点に問題がある。それは、まず第一
に、探針の抵抗よりも抵抗の小さい試料の正確な電流測
定ができないということである。そして、第二に、記録
媒体に対して電庄印加を行う際や、試料の交流測定を行
う際に、探針付近の容量成分および探針の抵抗成分によ
り所望の波形を持った電圧が印加できないということで
ある。さらにまた、上記のようなプローブの製造方法に
おいても、ティップを弾性体の所定の位置に接合するの
は困難であり、特に複数のプローブを同一基板上に形成
するのに適していないとう点に問題がある。
ポッド型ZnO結晶を弾性体上に搭載したAFM装置を
用いて、ティップと試料の間を流れる電流を観察するS
TM観察を行う場合、ZnOは十分な導電性を有さない
ためにつぎのような点に問題がある。それは、まず第一
に、探針の抵抗よりも抵抗の小さい試料の正確な電流測
定ができないということである。そして、第二に、記録
媒体に対して電庄印加を行う際や、試料の交流測定を行
う際に、探針付近の容量成分および探針の抵抗成分によ
り所望の波形を持った電圧が印加できないということで
ある。さらにまた、上記のようなプローブの製造方法に
おいても、ティップを弾性体の所定の位置に接合するの
は困難であり、特に複数のプローブを同一基板上に形成
するのに適していないとう点に問題がある。
【0004】そこで、本発明は上記した問題を解決し、
十分な導電性を有しないZnO針状結晶ティップの導電
性を向上させ、低い電気抵抗の試料の観察を可能とした
プローブと該プローブを用いた走査型プローブ顕微鏡又
は情報処理装置を提供すると共に、そのティップを容易
にプローブ構成部材の所定の位置に接合することのでき
るプローブの製造方法を提供することにある。
十分な導電性を有しないZnO針状結晶ティップの導電
性を向上させ、低い電気抵抗の試料の観察を可能とした
プローブと該プローブを用いた走査型プローブ顕微鏡又
は情報処理装置を提供すると共に、そのティップを容易
にプローブ構成部材の所定の位置に接合することのでき
るプローブの製造方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、トンネル電流乃至は原子間力等を検知す
るプローブにおいて、十分な導電性を有しない酸化亜鉛
を主体とした針状結晶のテイップを、5mol%以下の
3価の金属イオンを含有させた構成とするか、またはそ
の表面に導電性の材料を堆積した構成とすることによっ
て、導電性の高いティップを形成し、電気抵抗が低抵抗
な試料においても観察を行えるようにしたものである。
本発明のテイップは、弾性体上に設けられ、テイップを
構成する前記3価の金属はアルミニウムによることが好
ましい。また、本発明における請求項1〜請求項4のい
ずれか1項に記載のプローブは、基板上にプローブの弾
性体を形成する工程と、ティップ構成用の針状結晶を作
製する工程と、該基板上に該弾性体と該針状結晶とを接
合するための接着用材料を堆積しパターニングする工程
と、該針状結晶を該基板上に散布し該弾性体の所定の部
分に該針状結晶を接合する工程とを含むプローブの製造
方法により、製造することができる。そしてまた、この
プローブによって、試料の表面観察を行う走査型プロー
ブ顕微鏡、または記録媒に対して情報の記録再生等を行
う情報処理装置を構成することができる。
成するために、トンネル電流乃至は原子間力等を検知す
るプローブにおいて、十分な導電性を有しない酸化亜鉛
を主体とした針状結晶のテイップを、5mol%以下の
3価の金属イオンを含有させた構成とするか、またはそ
の表面に導電性の材料を堆積した構成とすることによっ
て、導電性の高いティップを形成し、電気抵抗が低抵抗
な試料においても観察を行えるようにしたものである。
本発明のテイップは、弾性体上に設けられ、テイップを
構成する前記3価の金属はアルミニウムによることが好
ましい。また、本発明における請求項1〜請求項4のい
ずれか1項に記載のプローブは、基板上にプローブの弾
性体を形成する工程と、ティップ構成用の針状結晶を作
製する工程と、該基板上に該弾性体と該針状結晶とを接
合するための接着用材料を堆積しパターニングする工程
と、該針状結晶を該基板上に散布し該弾性体の所定の部
分に該針状結晶を接合する工程とを含むプローブの製造
方法により、製造することができる。そしてまた、この
プローブによって、試料の表面観察を行う走査型プロー
ブ顕微鏡、または記録媒に対して情報の記録再生等を行
う情報処理装置を構成することができる。
【0006】
【作用】本発明は、上記したように十分な導電性を有し
ない酸化亜鉛を主体とした針状結晶のテイップを、5m
ol%以下の3価の金属イオンを含有させた構成とする
か、またはその表面に導電性の材料を堆積した構成とす
ることによって、導電性の高いティップとして、電気抵
抗が低抵抗な試料においても観察を行えるようにしたも
のである。本発明において、この針状結晶のテイップの
導電率の向上は、つぎのように行われる。すなわち、酸
化亜鉛(ZnO)を主成分とする針状結晶は、そのZn
Oはノンドープの状態では比抵抗ρがおよそ1×10Ω
cmのn型半導体であるが、本発明においては、これを
つぎの2つの方法でZnO針状結晶表面の電気抵抗を小
さくした。第一の方法は、針状結晶にドーピングする方
法である。ZnOはアルミニウム(Al)やクロム(C
r)等の3価の金属をドーピングすることにより抵抗率
が小さくなることが知られている。特にAlの場合、2
〜3mol%の濃度でおよそlΩcmにまでなる。ドー
ピングの方法としては針状結晶を成長させる工程で有機
Alガスを混入する方法や、既知の方法で針状結晶を成
長させた後にイオンインプランテーションによりAlを
ドープする方法がある。第二の方法は、針状結晶の表面
に白金(Pt),金(Au)等の金属材料をコーティン
グする方法である。金属材料の成膜には真空蒸着法、ス
パッタリング法などが用いられる。本発明においては第
一の方法及び第二の方法のいずれの方法を用いても良
い。
ない酸化亜鉛を主体とした針状結晶のテイップを、5m
ol%以下の3価の金属イオンを含有させた構成とする
か、またはその表面に導電性の材料を堆積した構成とす
ることによって、導電性の高いティップとして、電気抵
抗が低抵抗な試料においても観察を行えるようにしたも
のである。本発明において、この針状結晶のテイップの
導電率の向上は、つぎのように行われる。すなわち、酸
化亜鉛(ZnO)を主成分とする針状結晶は、そのZn
Oはノンドープの状態では比抵抗ρがおよそ1×10Ω
cmのn型半導体であるが、本発明においては、これを
つぎの2つの方法でZnO針状結晶表面の電気抵抗を小
さくした。第一の方法は、針状結晶にドーピングする方
法である。ZnOはアルミニウム(Al)やクロム(C
r)等の3価の金属をドーピングすることにより抵抗率
が小さくなることが知られている。特にAlの場合、2
〜3mol%の濃度でおよそlΩcmにまでなる。ドー
ピングの方法としては針状結晶を成長させる工程で有機
Alガスを混入する方法や、既知の方法で針状結晶を成
長させた後にイオンインプランテーションによりAlを
ドープする方法がある。第二の方法は、針状結晶の表面
に白金(Pt),金(Au)等の金属材料をコーティン
グする方法である。金属材料の成膜には真空蒸着法、ス
パッタリング法などが用いられる。本発明においては第
一の方法及び第二の方法のいずれの方法を用いても良
い。
【0007】また、本発明は、以下のような手法によっ
て上記したティップを弾性体上の所定の位置に接着する
プローブの製造方法を構成するものである。すなわち、
この製造方法は、針状結晶を所定の位置にのみ接着する
ために、まず基板上にレジストを塗布して所定の位置の
みパターニング除去し、次に導電性を有する接着層を成
膜し、次に針状結晶を表面に散布し、次に、接着層と針
状結晶を接着させ、最後にレジストを除去することによ
り行われる。弾性体としては、基板上に作製された片持
ち梁(カンチレバー)、両持ち梁、膜(メンブレン)、
バネ等が用いられ、その形状は本発明においては、特に
制限されるものではない。また、本発明に用いられる弾
性体はアクチュエータとしての機能を有していても良
い。
て上記したティップを弾性体上の所定の位置に接着する
プローブの製造方法を構成するものである。すなわち、
この製造方法は、針状結晶を所定の位置にのみ接着する
ために、まず基板上にレジストを塗布して所定の位置の
みパターニング除去し、次に導電性を有する接着層を成
膜し、次に針状結晶を表面に散布し、次に、接着層と針
状結晶を接着させ、最後にレジストを除去することによ
り行われる。弾性体としては、基板上に作製された片持
ち梁(カンチレバー)、両持ち梁、膜(メンブレン)、
バネ等が用いられ、その形状は本発明においては、特に
制限されるものではない。また、本発明に用いられる弾
性体はアクチュエータとしての機能を有していても良
い。
【0008】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。 [実施例1]図1は、本発明の実施例1によるトンネル
電流乃至は原子間力等を検知するプローブを示すもので
ある。同図において、半導体基板3を加工して作製され
た弾性体2の先端部分にアルミニウムを含有した酸化亜
鉛の針状結晶からなるティップ1が搭載されている。針
状結晶は電流検出用配線を経て半導体基板上の信号処理
回路に接続されている。本実施例によるプローブの製造
方法を、図2に基づいて以下に説明する。まず、既知の
半導体プロセス技術を用いて単結晶シリコン基板3に信
号処理回路17を作製した。次に基板3の両面に窒化シ
リコン18を300nm堆積し、裏面をフォトリソグラ
フの方法を用いてドライエッチングによりパターニング
した。次に、加熱した水酸化カリウム(KOH)水溶液
にてシリコン基板3を30μm残すように裏面からエッ
チングした(図2(a)参照)。次に、基板3表面をフ
ォトリソグラフの方法を用いてドライエッチングにより
パターニングし、弾性体となる部分、及びコンタクトホ
ールを形成した。次に、シリコン基板3の表面にクロム
を2nm、金を100nm堆積し、フォトリソグラフの
方法を用いてウェットエッチングにより配線16の形状
にパターニングした(図2(b)参照)。次に、基板3
表面にレジスト19を塗布・パターニングした後、イン
ジウムよりなる接着層20をスパッタリング法にて10
00nm堆積した。次に酸化亜鉛の針状結晶を作製す
る。亜鉛粉末をアルゴン及び酸素雰囲気中で1000℃
に加熱し、更にトリメチルアルミニウムガスを混入し、
テトラポッド形状の結晶を作製した。この方法によりZ
nO中に2mol%のアルミニウムを含有させることが
できた。次に、上記針状結晶を基板3表面に散布した
後、200℃に加熱して接着層20を溶解させることに
より、針状結晶と弾性体を接着しティップ1とした(図
2(c)参照)。次に、レジスト19をアセトンで溶解
し除去した。次に、SF6を用いたドライエッチングに
より、シリコン基板3を裏面から再びエッチングし、貫
通させることにより弾性体2を形成した(図2(d)参
照)。弾性体2の長さは200μmである。このように
して作製したプローブを用いて清浄なAu表面の導電性
を観察したところ、安定な電流信号を得ることができ
た。
する。 [実施例1]図1は、本発明の実施例1によるトンネル
電流乃至は原子間力等を検知するプローブを示すもので
ある。同図において、半導体基板3を加工して作製され
た弾性体2の先端部分にアルミニウムを含有した酸化亜
鉛の針状結晶からなるティップ1が搭載されている。針
状結晶は電流検出用配線を経て半導体基板上の信号処理
回路に接続されている。本実施例によるプローブの製造
方法を、図2に基づいて以下に説明する。まず、既知の
半導体プロセス技術を用いて単結晶シリコン基板3に信
号処理回路17を作製した。次に基板3の両面に窒化シ
リコン18を300nm堆積し、裏面をフォトリソグラ
フの方法を用いてドライエッチングによりパターニング
した。次に、加熱した水酸化カリウム(KOH)水溶液
にてシリコン基板3を30μm残すように裏面からエッ
チングした(図2(a)参照)。次に、基板3表面をフ
ォトリソグラフの方法を用いてドライエッチングにより
パターニングし、弾性体となる部分、及びコンタクトホ
ールを形成した。次に、シリコン基板3の表面にクロム
を2nm、金を100nm堆積し、フォトリソグラフの
方法を用いてウェットエッチングにより配線16の形状
にパターニングした(図2(b)参照)。次に、基板3
表面にレジスト19を塗布・パターニングした後、イン
ジウムよりなる接着層20をスパッタリング法にて10
00nm堆積した。次に酸化亜鉛の針状結晶を作製す
る。亜鉛粉末をアルゴン及び酸素雰囲気中で1000℃
に加熱し、更にトリメチルアルミニウムガスを混入し、
テトラポッド形状の結晶を作製した。この方法によりZ
nO中に2mol%のアルミニウムを含有させることが
できた。次に、上記針状結晶を基板3表面に散布した
後、200℃に加熱して接着層20を溶解させることに
より、針状結晶と弾性体を接着しティップ1とした(図
2(c)参照)。次に、レジスト19をアセトンで溶解
し除去した。次に、SF6を用いたドライエッチングに
より、シリコン基板3を裏面から再びエッチングし、貫
通させることにより弾性体2を形成した(図2(d)参
照)。弾性体2の長さは200μmである。このように
して作製したプローブを用いて清浄なAu表面の導電性
を観察したところ、安定な電流信号を得ることができ
た。
【0009】[実施例2]図3に、本発明の実施例2に
よるトンネル電流乃至は原子間力等を検知するプローブ
の断面図を示す。同図において、半導体基板3を加工し
て作製された弾性体2の先端部分に酸化亜鉛の針状結晶
に白金コーティング層21を堆積したZnOティップ5
1が搭載されている。針状結晶は電流検出用配線16を
経て半導体基板3上の信号処理回路17に接続されてい
る。本実施例による弾性体2は実施例1と同様の方法で
作製した。ここでは実施例1と異なる部分のみを示す。
まず、針状結晶の製造方法において、亜鉛(Zn)粉末
をアルゴン及び酸素雰囲気中で1000℃に加熱し、テ
トラポッド形状の結晶を作製した。次に、作製した針状
結晶を採集し、弾性体2の先端の接着層20を200℃
に加熱して接着し、ZnOティップ51とした。次に、
レジストを塗布し、針状結晶の部分のみパターニング除
去した後、スパッタリング法を用いてPtを300nm
堆積し、レジストを除去することによりコーティング層
21とした。最後に、実施例1と同様の方法により弾性
体を形成した。このようにして作製したプローブを用い
て清浄なPt表面の導電性を観察したところ、安定な電
流信号を得ることができた。
よるトンネル電流乃至は原子間力等を検知するプローブ
の断面図を示す。同図において、半導体基板3を加工し
て作製された弾性体2の先端部分に酸化亜鉛の針状結晶
に白金コーティング層21を堆積したZnOティップ5
1が搭載されている。針状結晶は電流検出用配線16を
経て半導体基板3上の信号処理回路17に接続されてい
る。本実施例による弾性体2は実施例1と同様の方法で
作製した。ここでは実施例1と異なる部分のみを示す。
まず、針状結晶の製造方法において、亜鉛(Zn)粉末
をアルゴン及び酸素雰囲気中で1000℃に加熱し、テ
トラポッド形状の結晶を作製した。次に、作製した針状
結晶を採集し、弾性体2の先端の接着層20を200℃
に加熱して接着し、ZnOティップ51とした。次に、
レジストを塗布し、針状結晶の部分のみパターニング除
去した後、スパッタリング法を用いてPtを300nm
堆積し、レジストを除去することによりコーティング層
21とした。最後に、実施例1と同様の方法により弾性
体を形成した。このようにして作製したプローブを用い
て清浄なPt表面の導電性を観察したところ、安定な電
流信号を得ることができた。
【0010】[実施例3]図4に、本発明の実施例3と
して、実施例1によるプローブを用いた、AFMおよび
STMの機能を有する走査型プローブ顕微鏡のブロック
図を示す。つぎの本実施例の説明において、試料表面と
平行な面内方向をX−Y方向、試料表面と垂直な方向を
Z方向として説明する。図4において、実施例1による
プローブは先端にティップ1を有する弾性体2、および
弾性体2を支持する基板3からなる。ティップ1は観察
が行われる試料4に対向して配置される。試料4は電圧
を印加するための下地電極6上にカーボンペースト等を
用いて接着される。試料4および下地電極6はステージ
7上に載置されている。ステージ7はピエゾ素子8上に
設けられており、該ピエゾ素子8は、Z方向駆動回路9
およびX−Y方向駆動回路10が出力する駆動用電圧に
よって変位してステージ7を移動させる。XY方向駆動
回路10およびZ方向駆動回路9は制御回路11からの
信号により、ピエゾ素子8を駆動させることによりステ
ージ7をXYZ方向に移動させることが可能である。電
圧印加回路12は制御回路11からの信号により、下地
電極6を通してティップ1−試料4間に印加する電圧を
発生する。電流検出回路13は、ティップ1−試料4間
に流れる電流を検出し、制御回路11に出力する。たわ
み量検出装置14は光てこ方式によるものである。この
たわみ量検出装置14で検出される量は、ティップ1を
支持している弾性体2の曲がり角であり、この量から検
出したティップ1の先端位置を制御回路11に出力す
る。
して、実施例1によるプローブを用いた、AFMおよび
STMの機能を有する走査型プローブ顕微鏡のブロック
図を示す。つぎの本実施例の説明において、試料表面と
平行な面内方向をX−Y方向、試料表面と垂直な方向を
Z方向として説明する。図4において、実施例1による
プローブは先端にティップ1を有する弾性体2、および
弾性体2を支持する基板3からなる。ティップ1は観察
が行われる試料4に対向して配置される。試料4は電圧
を印加するための下地電極6上にカーボンペースト等を
用いて接着される。試料4および下地電極6はステージ
7上に載置されている。ステージ7はピエゾ素子8上に
設けられており、該ピエゾ素子8は、Z方向駆動回路9
およびX−Y方向駆動回路10が出力する駆動用電圧に
よって変位してステージ7を移動させる。XY方向駆動
回路10およびZ方向駆動回路9は制御回路11からの
信号により、ピエゾ素子8を駆動させることによりステ
ージ7をXYZ方向に移動させることが可能である。電
圧印加回路12は制御回路11からの信号により、下地
電極6を通してティップ1−試料4間に印加する電圧を
発生する。電流検出回路13は、ティップ1−試料4間
に流れる電流を検出し、制御回路11に出力する。たわ
み量検出装置14は光てこ方式によるものである。この
たわみ量検出装置14で検出される量は、ティップ1を
支持している弾性体2の曲がり角であり、この量から検
出したティップ1の先端位置を制御回路11に出力す
る。
【0011】次に本発明による走査型プローブ顕微鏡の
観察方法を説明する。まず、Z方向駆動回路9によりピ
エゾ素子8を駆動させて、ティップ1と試料4を原子間
力が働くほど接近させ、たわみ量検出装置14により検
出されるたわみ量が一定の値となるようにする。その状
態でXY方向駆動回路10によりピエゾ素子をX−Y方
向に走査することにより表面観察が行われる。AFM観
察においては、ティップ1のZ方向に加わる力を弾性体
2のたわみとしてたわみ量検出装置14によって検出
し、ある基準値との差分を出力することにより試料表面
の微小な凹凸により変化したAFM信号を得る。STM
観察においては、電圧印加回路12を通してティップ1
−試料4間に電圧を印加し、電流検出装置13により試
料−ティップ間に流れる電流を検出することによりST
M信号を得る。上記のAFM信号及びSTM信号を制御
回路11に取り込み、XY走査信号に同期して処理すれ
ばAFM像およびSTM像が得られる。AFM像および
STM像は、画像処理、たとえば2次元FFT(高速フ
ーリエ変換)などの処理をしてディスプレイ15に表示
される。本実施例の走査型プローブ顕微鏡を用いて清浄
なPt表面の導電性を観察したところ、安定なSTM像
を得ることができた。
観察方法を説明する。まず、Z方向駆動回路9によりピ
エゾ素子8を駆動させて、ティップ1と試料4を原子間
力が働くほど接近させ、たわみ量検出装置14により検
出されるたわみ量が一定の値となるようにする。その状
態でXY方向駆動回路10によりピエゾ素子をX−Y方
向に走査することにより表面観察が行われる。AFM観
察においては、ティップ1のZ方向に加わる力を弾性体
2のたわみとしてたわみ量検出装置14によって検出
し、ある基準値との差分を出力することにより試料表面
の微小な凹凸により変化したAFM信号を得る。STM
観察においては、電圧印加回路12を通してティップ1
−試料4間に電圧を印加し、電流検出装置13により試
料−ティップ間に流れる電流を検出することによりST
M信号を得る。上記のAFM信号及びSTM信号を制御
回路11に取り込み、XY走査信号に同期して処理すれ
ばAFM像およびSTM像が得られる。AFM像および
STM像は、画像処理、たとえば2次元FFT(高速フ
ーリエ変換)などの処理をしてディスプレイ15に表示
される。本実施例の走査型プローブ顕微鏡を用いて清浄
なPt表面の導電性を観察したところ、安定なSTM像
を得ることができた。
【0012】[実施例4]図5に、本発明の実施例4と
して、情報処理装置の一態様である記録再生装置のブロ
ック図を示す。本実施例の記録再生装置は、図6に示す
マルチプローブが用いられる。このマルチプローブは実
施例1の方法によリプローブを同一基板内に複数作製し
たものである。本発明の作製方法においては、パターニ
ングにより針状結晶の位置を正確に決定することができ
るため、図のように同一基板内に複数のプローブを作製
する際に有利である。つぎの、本実施例の説明におい
て、記録媒体表面と平行な面内方向をX−Y方向、記録
媒体表面と垂直な方向をZ方向として説明する。本実施
例は実施例1による複数のプローブを用いて記録媒体5
に対して、書き込み、読み込み動作を行うものである。
該書き込み、読み込み動作の制御は制御回路11によっ
てなされる。ティップ1は記録媒体5に対向して配置さ
れる。記録媒体5は実施例1の試料4と同様に下地電極
6上に形成され、下地電極6はステージ7上に載置され
ている。弾性体2、基板3、ピエゾ素子8、Z方向駆動
回路9、X−Y方向駆動回路10、電圧印加回路12、
電流検出回路13、たわみ量検出装置14、の機能は、
実施例3と同様である。記録媒体5は、ティップ1から
発生する電圧や電流により記録媒体表面の形状を凸型
(Staufer,Appl.Phys.Letter
s,51(4),27,July,1987,p244
参照)または凹型(Heinzelmann,App
l.Phys.Letters,Vol.53,No.
24Dec.,1988.p2447参照)に変形する
ことが可能な金属、半導体、酸化物、有機薄膜、あるい
は電圧や電流により電気的性質が変化(たとえば電気的
メモリー効果を生ずる)する有機薄膜等よりなる。電気
特性が変化する有機薄膜としては、特開昭63−161
552号公報に記載された材料が使用され、ラングミュ
ア・ブロジェット膜よりなるものが好ましい。本実施例
においては石英ガラス基板の上に下地電極6として真空
蒸着法によってCrを5nm堆積させ、さらにその上に
Auを30nm同法により蒸着したものを用い、その上
にラングミュア・ブロジェット法によってSOAZ(ス
クアリリウム−ビス−6−オクチルアズレン)を4層積
層したものを用いた。
して、情報処理装置の一態様である記録再生装置のブロ
ック図を示す。本実施例の記録再生装置は、図6に示す
マルチプローブが用いられる。このマルチプローブは実
施例1の方法によリプローブを同一基板内に複数作製し
たものである。本発明の作製方法においては、パターニ
ングにより針状結晶の位置を正確に決定することができ
るため、図のように同一基板内に複数のプローブを作製
する際に有利である。つぎの、本実施例の説明におい
て、記録媒体表面と平行な面内方向をX−Y方向、記録
媒体表面と垂直な方向をZ方向として説明する。本実施
例は実施例1による複数のプローブを用いて記録媒体5
に対して、書き込み、読み込み動作を行うものである。
該書き込み、読み込み動作の制御は制御回路11によっ
てなされる。ティップ1は記録媒体5に対向して配置さ
れる。記録媒体5は実施例1の試料4と同様に下地電極
6上に形成され、下地電極6はステージ7上に載置され
ている。弾性体2、基板3、ピエゾ素子8、Z方向駆動
回路9、X−Y方向駆動回路10、電圧印加回路12、
電流検出回路13、たわみ量検出装置14、の機能は、
実施例3と同様である。記録媒体5は、ティップ1から
発生する電圧や電流により記録媒体表面の形状を凸型
(Staufer,Appl.Phys.Letter
s,51(4),27,July,1987,p244
参照)または凹型(Heinzelmann,App
l.Phys.Letters,Vol.53,No.
24Dec.,1988.p2447参照)に変形する
ことが可能な金属、半導体、酸化物、有機薄膜、あるい
は電圧や電流により電気的性質が変化(たとえば電気的
メモリー効果を生ずる)する有機薄膜等よりなる。電気
特性が変化する有機薄膜としては、特開昭63−161
552号公報に記載された材料が使用され、ラングミュ
ア・ブロジェット膜よりなるものが好ましい。本実施例
においては石英ガラス基板の上に下地電極6として真空
蒸着法によってCrを5nm堆積させ、さらにその上に
Auを30nm同法により蒸着したものを用い、その上
にラングミュア・ブロジェット法によってSOAZ(ス
クアリリウム−ビス−6−オクチルアズレン)を4層積
層したものを用いた。
【0013】本実施例による記録再生装置の操作手順を
以下に示す。まず、Z方向駆動回路9によりピエゾ素子
を駆動させて、ティップと記録媒体を原子間力が働くほ
ど接近させ、たわみ量検出装置14により検出されるた
わみ量が一定の値となるようにする。その状態でX−Y
方向駆動回路10によりピエゾ素子をX−Y方向に走査
することにより記録及び再生が行われる。この状態で制
御回路11の指示により電圧印加回路12が記録に必要
な波形、パルス幅、及び波高値を持った電圧信号をティ
ップ1−記録媒体5間に印加することにより情報の記録
が行われる。また、電圧印加回路11を通してティップ
1−記録媒体5間にバイアス電圧を印加して電流検出装
置13によりティップ1−記録媒体5間に流れる電流を
検出することにより情報の再生が行われる。本実施例の
情報処理装置を用いることによりパルス幅の短いパルス
電圧による情報の記録再生を安定におこなうことができ
た。
以下に示す。まず、Z方向駆動回路9によりピエゾ素子
を駆動させて、ティップと記録媒体を原子間力が働くほ
ど接近させ、たわみ量検出装置14により検出されるた
わみ量が一定の値となるようにする。その状態でX−Y
方向駆動回路10によりピエゾ素子をX−Y方向に走査
することにより記録及び再生が行われる。この状態で制
御回路11の指示により電圧印加回路12が記録に必要
な波形、パルス幅、及び波高値を持った電圧信号をティ
ップ1−記録媒体5間に印加することにより情報の記録
が行われる。また、電圧印加回路11を通してティップ
1−記録媒体5間にバイアス電圧を印加して電流検出装
置13によりティップ1−記録媒体5間に流れる電流を
検出することにより情報の再生が行われる。本実施例の
情報処理装置を用いることによりパルス幅の短いパルス
電圧による情報の記録再生を安定におこなうことができ
た。
【0014】
【発明の効果】本発明は、以上のように十分な導電性を
有しない酸化亜鉛を主体とした針状結晶のテイップを、
5mol%以下の3価の金属イオンを含有させた構成と
するか、またはその表面に導電性の材料を堆積した構成
とすることによって、ティップの導電性を大きくするこ
とができるから、このテイップを用いて走査型プローブ
顕微鏡を構成することにより、電気抵抗が低抵抗な試料
においても安定した観察を行うことができ、また、この
テイップを用いて情報記録装置を構成することにより、
短いパルス電圧印加による情報記録を安定して行うこと
ができる。さらに、本発明のプローブの製造方法による
と、ティップを弾性体上の所望の位置に接着することが
でき、特に、同一基板上に複数のプローブを基板上に容
易に形成することができる。
有しない酸化亜鉛を主体とした針状結晶のテイップを、
5mol%以下の3価の金属イオンを含有させた構成と
するか、またはその表面に導電性の材料を堆積した構成
とすることによって、ティップの導電性を大きくするこ
とができるから、このテイップを用いて走査型プローブ
顕微鏡を構成することにより、電気抵抗が低抵抗な試料
においても安定した観察を行うことができ、また、この
テイップを用いて情報記録装置を構成することにより、
短いパルス電圧印加による情報記録を安定して行うこと
ができる。さらに、本発明のプローブの製造方法による
と、ティップを弾性体上の所望の位置に接着することが
でき、特に、同一基板上に複数のプローブを基板上に容
易に形成することができる。
【図1】本発明の実施例1によるプローブを示す図であ
る。
る。
【図2】実施例1によるプローブの製造工程を示す図で
ある。
ある。
【図3】本発明の実施例2によるプローブを示す断面図
である。
である。
【図4】本発明の実施例3による走査型プローブ顕微鏡
を示すブロック図である。
を示すブロック図である。
【図5】本発明の実施例4による情報処理装置を示すブ
ロック図である。
ロック図である。
【図6】本発明の実施例4に用いられるマルチプローブ
を示す図である。
を示す図である。
【図7】従来例によるプローブを示す図である。
1・・Alを含むZnOティップ 2・・カンチレバー 3・・基板 4・・試料 5・・記録媒体 6・・下地電極 7・・ステージ 8・・ピエゾ素子 9・・Z方向駆動回路 10・・X−Y方向駆動回路 11・・制御回路 12・・電圧印加回路 13・・電流検出装置 14・・たわみ量検出装置 15・・ディスプレイ 16・・配線 17・・信号処理回路 18・・窒化シリコン 19・・レジスト 20・・接着層 21・・コーティング層 51・・ZnOティップ
Claims (7)
- 【請求項1】 トンネル電流乃至は原子間力等を検知す
るプローブにおいて、5mol%以下の3価の金属イオ
ンを含有する酸化亜鉛を主体とした針状結晶で構成した
ティップを有することを特徴とするプローブ。 - 【請求項2】 前記3価の金属が、アルミニウムである
ことを特徴とする請求項1に記載のプローブ。 - 【請求項3】 トンネル電流乃至は原子間力等を検知す
るプローブにおいて、表面に導電性の材料を堆積した酸
化亜鉛を主体とする針状結晶で構成したティップを有す
ることを特徴とするプローブ。 - 【請求項4】 前記テイップが弾性体上に設けられてい
ることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項
に記載のプローブ。 - 【請求項5】 請求項1〜請求項4のいずれか1項に記
載のプローブを製造する方法であって、基板上にプロー
ブの弾性体を形成する工程と、ティップ構成用の針状結
晶を作製する工程と、該基板上に該弾性体と該針状結晶
とを接合するための接着用材料を堆積しパターニングす
る工程と、該針状結晶を該基板上に散布し該弾性体の所
定の部分に該針状結晶を接合する工程とを含むことを特
徴とするプローブの製造方法。 - 【請求項6】 請求項1〜請求項4のいずれか1項に記
載のプローブによって、試料の表面観察を行う走査型プ
ローブ顕微鏡を構成したことを特徴とする走査型プロー
ブ顕微鏡。 - 【請求項7】 請求項1〜請求項4のいずれか1項に記
載のプローブによって、記録媒に対して情報の記録再生
等を行う情報処理装置を構成したことを特徴とする情報
処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14406095A JPH08313543A (ja) | 1995-05-18 | 1995-05-18 | トンネル電流乃至は原子間力等を検知するプローブ及びその製造方法、並びに該プローブを用いた走査型プローブ顕微鏡又は情報処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14406095A JPH08313543A (ja) | 1995-05-18 | 1995-05-18 | トンネル電流乃至は原子間力等を検知するプローブ及びその製造方法、並びに該プローブを用いた走査型プローブ顕微鏡又は情報処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08313543A true JPH08313543A (ja) | 1996-11-29 |
Family
ID=15353382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14406095A Pending JPH08313543A (ja) | 1995-05-18 | 1995-05-18 | トンネル電流乃至は原子間力等を検知するプローブ及びその製造方法、並びに該プローブを用いた走査型プローブ顕微鏡又は情報処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08313543A (ja) |
-
1995
- 1995-05-18 JP JP14406095A patent/JPH08313543A/ja active Pending
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