JPH0831355A

JPH0831355A - ターゲット装置及びｘ線レーザ装置

Info

Publication number: JPH0831355A
Application number: JP6159798A
Authority: JP
Inventors: Tadashi Kitahara; 正北原; Katsuyoshi Fujita; 勝吉藤田; Jiyun Sasabe; 順佐々部
Original assignee: Hamamatsu Photonics KK
Current assignee: Hamamatsu Photonics KK
Priority date: 1994-07-12
Filing date: 1994-07-12
Publication date: 1996-02-02
Anticipated expiration: 2019-01-26
Also published as: JP3490770B2

Abstract

(57)【要約】【目的】供給される電気エネルギをＸ線に変換させる
効率を向上させる。【構成】Ｘ線レーザ装置は、真空容器３１内に、ター
ゲットベース３８、アノード３４及びカソード３５から
なるターゲット装置Ｔを配して構成する。ターゲット装
置Ｔのターゲット３９に対して、レーザ光源４３からレ
ーザ光を照射しガス状プラズマを一様に分布させ、アノ
ード３４−カソード３５間に放電電圧を印加すると放電
プラズマが発生し、ＺピンチされてＸ線が発生する。こ
のＸ線は、カソード３５のトンネル３６を通り、Ｘ線反
射ミラー３７で反射されてアノード３４側に戻るため、
放出されるＸ線の利得が向上し、レーザ発振を生じる。
発振したＸ線は出射窓４１を介して真空容器３１の外部
に取り出される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、Ｘ線発生用のターゲッ
ト装置、及び、放電とレーザアブレーションによりプラ
ズマ現象を起こしてＸ線を発生するＸ線レーザ装置に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種のＸ線発生装置としては、
図５に示す真空スパーク法を用いたＸ線発生装置があ
る。この装置においては、パワーサプライ１によってコ
ンデンサ２が充電されており、この充電によって発生す
る高電圧は真空容器３内の放電電極間に印加される。放
電電極はＣｕ−Ｗカソード４およびアノード５から構成
されており、真空容器３内はポンプによって１０^-5Ｔｏ
ｒｒ程度に真空排気されている。また、トリガ用のレー
ザ光がカソード４に開けられた穴を通してアノード５の
先端に照射される。このトリガ用レーザ光はＹＡＧレー
ザ（１００ｍＪ，１０ＭＷ，１．０６μｍ）であり、フ
ォーカスレンズ６によって集束され、ガラス窓７を介し
て真空容器３内に取り込まれる。電極間に高電圧が印加
された状態で、アノード５にレーザ光が集光されること
によって表面プラズマが発生し、この表面プラズマは電
極間に電子なだれを誘起させる。この結果、カソード４
およびアノード５間に放電が生じる。その後、アノード
５に集中した加速電子によってアノード電極金属材料が
蒸発し、この電極金属材料が主プラズマの構成原子にな
る。放電プラズマはＺピンチ効果によって自己集束し、
アノード電極金属の特性Ｘ線を放出する。このＸ線は、
１００μｍ厚のベリリウム窓８を通して真空容器３から
外部へ取り出され、所定の利用に供される。

【０００３】また、従来のＸ線レーザ装置としては、図
６に示す大出力レーザによるポンピングを基本としたも
のが多い。この装置は、ローレンス・リバモア国立研究
所で、慣性核融合実験に使われているＮＯＶＡの２ビー
ムを利用して、電子衝突励起と再結合プラズマの両スキ
ームによって、研究が進められているものである。ＮＯ
ＶＡの２ビーム（参照番号２１、２２）の第２高調波
（λ＝０．５３μｍ）は、幅３００μｍ、長さ数ｍｍか
ら数ｃｍのライン状に集光される。ビームのパルス幅
は、ＦＷＨＭで１００ピコ秒から数ナノ秒で、ピーク強
度は５ＴＷに達する。ターゲット２３には薄い金属の膜
を、プラスチック膜ではさんだ物が使われ、プラズマの
密度を上げる工夫がなされている。これによりＸ線が、
線状プラズマの軸方向に放出される。一方の軸方向に、
利得を上げるためにレーザ・キャビティとして多層膜ミ
ラー２４が置かれている。そしてもう一方の軸方向か
つ、Ｘ線レーザ光が取り出される。ターゲット２３に
は、ネオン用プラズマを使った実験には、Ｓｅ、Ｓｒ、
Ｙ、Ｍｏ等、また、ニッケル用には、Ｅｕ、Ｙｂ等が使
われており、これらのターゲットについて利得が観測さ
れている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た真空スパーク法を用いたＸ線発生装置においては、陽
極自身がレーザ光によって蒸発することによってＸ線を
発生させているため、アノード電極５の寿命が短かっ
た。従って、装置を高繰り返し動作をさせる時には頻繁
にアノード電極５を交換する必要があり、この交換作業
に非常に手間がかかっていた。また、陽極自身が蒸発す
ることによって陽極の形状が変形するため、カソードお
よびアノード間の電界分布が変化し、ガス状プラズマの
発生位置は変化した。このＸ線点源の位置の揺らぎは、
Ｘ線発生装置のＸ線顕微鏡等への応用に大きな制限がも
たらされた。

【０００５】また、真空スパーク法においては電極間に
放電を生じさせるスパークギャップスイッチが必要とさ
れない利点がある反面、電極間に金属原子を分布させる
タイミングおよび主放電を開始させるタイミングを制御
することは困難であった。このため、パワーサプライ１
から供給される電気エネルギをＸ線に変換させる効率は
低く、しかも、Ｘ線の光強度の再現性は悪かった。

【０００６】また、真空スパーク法における金属蒸気の
発生量は、主に主放電電源であるコンデンサ２の容量値
によって定まり、しかも、Ｘ線の発生強度もこの容量値
に依存している。このため、金属蒸気の発生量とＸ線の
発生強度とを個別に制御することは困難であった。さら
に、電極間における金属蒸気の空間分布は放電プラズマ
によって決定されるため、電極間に発生した金属蒸気の
空間分布を制御することは難しかった。

【０００７】また、従来のＸ線レーザ装置においては、
大出力レーザによるポンピングを基本としており、慣性
核融合用レーザの転用等設備の大がかりになることは避
け得なかった。この大がかりな設備は、実用的な応用に
大きな制限をもたらした。

【０００８】本発明は、このような課題を解決すべくな
されたものであり、その目的は、放電電極の寿命を延ば
し、電極交換作業の手間を軽減するターゲット装置を提
供することにある。

【０００９】また、ターゲットからの金属蒸気の発生量
を制御でき、また、供給される電気エネルギをＸ線に変
換させる効率を向上させるＸ線レーザ装置を提供するこ
とにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】そこで、本発明にかかる
ターゲット装置は、レーザ光を受けてガス状プラズマを
発生するターゲットを、レーザ光が照射される照射面に
備えた絶縁性のターゲット基板と、このターゲットを間
に配して相対するようにターゲット基板に固定され、こ
の間に所定の電圧が印加された際、ガス状プラズマの介
在のもとで放電を行い、放電プラズマを発生させる一対
の電極体とを備える。さらに、ターゲット基板の照射面
の裏面側には、この一対の電極体の配設方向に沿って延
び、所定の電位が与えれた制御導体を配設し、一対の電
極体のうち、一方の第１電極体には、この一対の電極体
間に発生するＸ線を外部に導くための第１貫通孔を備え
て構成する。

【００１１】一方、本発明にかかるＸ線レーザ装置は、
レーザ光源と、レーザ光源から出射されたレーザ光を内
部に導く入射窓を有する真空容器と、真空容器内に配設
され、レーザ光を受けてガス状プラズマを発生するター
ゲットを、このレーザ光が照射される照射面に備えた絶
縁性のターゲット基板と、ターゲットを間に配して相対
するようにターゲット基板に固定され、この間に所定の
放電電圧が印加された際、ガス状プラズマの介在のもと
で放電を行い、放電プラズマを発生させる一対の電極体
と、この一対の電極体間に放電電圧を印加する電源手段
とを備える。さらに、ターゲット基板の照射面の裏面側
には、この一対の電極体の配設方向に沿って延び、所定
の電位が与えれた制御導体を配設し、また、一対の電極
体のうち、一方の第１電極体は、この一対の電極体間に
発生するＸ線を外部に導くための第１貫通孔を有し、他
方の第２電極体は、この一対の電極体間に発生するＸ線
を通過させる第２貫通孔を有する。そして、この第２貫
通孔の終端付近には、第２貫通孔を通過したＸ線を、第
１電極体側に反射するＸ線反射体を配設して構成する。

【００１２】

【作用】本発明にかかるターゲット装置では、ターゲッ
ト基板の照射面に、外部から発せされたレーザ光を受
け、この部位に配したターゲットにレーザ光が照射され
ると、このターゲットを構成する金属元素が、両電極体
の間にガス状になって一様に分布する。この状態で、一
対の電極体間に所定の電圧を印加すると、この間に放電
プラズマを発生させることができ、発生したプラズマは
Ｚピンチを起こす。一方、ターゲット基板の裏面に配設
された制御導体に、例えば、接地電位などを与えること
で、この発生したプラズマは、この制御導体に沿って安
定して形成される。

【００１３】また、本発明にかかるＸ線レーザ装置で
は、このようなターゲット基板、各電極体などを真空容
器内に配設しており、同様にして発生したプラズマは、
Ｚピンチ効果によって、原子或いはイオンがよりイオン
化された細いプラズマとなり、Ｘ線が発生する。２つの
電極体の配設方向に沿って放出されたＸ線は、第２電極
体の第２貫通孔を通り、Ｘ線反射体で反射されて第１電
極体側に戻る。このため、第１電極体の第１貫通孔を介
して外部へ放出されるＸ線の利得が上げられ、レーザ発
振を生じる。

【００１４】

【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
説明する。

【００１５】図１にＸ線レーザ装置の概略を示す。Ｘ線
レーザ装置は、真空容器３１内に配設されたターゲット
装置Ｔ、このターゲット装置Ｔに向けてレーザ光を照射
するエキシマレーザ光源４３、後述する放電電圧を供給
するコンデンサバンク４９などを備えて構成する。

【００１６】ターゲット装置Ｔは、５×１５ｍｍの大き
さの絶縁体によって形成されたターゲットベース３８を
有し、この表面に１本のストライプ状のゲルマニウムが
ターゲット３９として蒸着されている。そして、このタ
ーゲット３９を挟んだ両側にはアノード３４およびカソ
ード３５が配置されおり、このアノード３４とカソード
３５との間の距離は１０ｍｍに設定され、ターゲットベ
ース３８に対して固定されている。

【００１７】また、図２、３などに拡大して示されるよ
うに、このアノード３４およびカソード３５の内部に
は、発生したＸ線が透過するためのトンネル３６がそれ
ぞれ設けられており、この各トンネル３６とターゲット
３９とは、略同一直線上に位置している。また、カソー
ド３５におけるトンネル３６の終端部付近には、Ｘ線の
利得を上げるためのＸ線反射ミラー３７が設けられてい
る。

【００１８】ターゲットベース３８の裏面中央部には、
アノード３４と電気的に接続された制御導体４０が設け
られている。この制御導体４０は、ターゲットベース３
８表面で生ずる放電の位置が安定するように制御するた
めのものであり、ターゲットベース３８は、裏面に放電
が回り込まないように、裏面の外縁部を枠状に突出させ
た形状に加工している。

【００１９】一方、このターゲット装置Ｔを内部に収容
する真空容器３１は、その上壁部に、アノード３４−カ
ソード３５間に生じたＸ線を真空容器の外部へ取り出す
ための出射窓４１、及び、エキシマレーザ光源４３から
出射されたレーザ光を真空容器３１内に入射させるため
の入射窓４２を設けている。なお、真空容器３１の内部
気圧は、ロータリーポンプ３２およびターボ分子ポンプ
３３によって１０^-7Ｔｏｒｒの高真空度に保たれてい
る。

【００２０】エキシマレーザ光源４３からはレーザパル
スが発生され、このレーザパルスは、ミラー４４、４５
によってその光路が変換され、レンズ４６によって集束
された後、入射窓４２に入射される。入射されたレーザ
パルスは真空容器３１内のターゲットベース３８上のタ
ーゲット３９に所定パターンになって照射される。この
レーザパルスは、トリガ信号発生装置４７からトリガ信
号が出力されるタイミングに応じ、レーザ光源４３から
出力される。

【００２１】真空容器３１の底部には、導電性の支持軸
５５を介して、カソード３５に電気的に接続される電流
導入端子４８が設けられており、この電流導入端子４８
はコンデンサバンク４９の内部に設けられた２２μＦの
コンデンサの一端に電気的に接続されている。また、ア
ノード３４は真空容器３１と同電位の接地電位に設定さ
れており、この真空容器３１はスパークギャップスイッ
チ５０の一端に接続されている。スパークギャップスイ
ッチ５０の他端は、コンデンサバンク４９内に設けられ
たコンデンサの他端に接続されている。このコンデンサ
は充電装置５１よって所定電圧にまで充電される。スパ
ークギャップスイッチ５０は高圧トリガ発生装置５２に
よってスイッチンッグされる。このスイッチングは、ト
リガ信号発生装置４７から遅延装置５３を介して入力さ
れるトリガ信号によって制御される。遅延装置５３はト
リガ信号発生装置４７から出力されるトリガ信号を一定
タイミングだけ遅延させ、高圧トリガ発生装置５２を作
動させる。なお、トリガ信号発生装置４７、遅延装置５
３、高圧トリガ発生装置５２およびスパークギャップス
イッチ５０は、放電制御部を構成する。

【００２２】このように構成するＸ線レーザ装置におい
て、Ｘ線の発生は次のように行われる。

【００２３】まず、トリガ信号発生装置４７により、レ
ーザ光源４３および遅延装置５３に対し、同時に図４
（ａ）のグラフに示すトリガ信号が出力される。このグ
ラフの横軸は時間ｔ、縦軸は信号電圧を示す。レーザ光
源４３はこのトリガ信号入力によって図４（ｂ）のグラ
フに示すようにレーザパルスを放射する。このグラフの
横軸は時間ｔ、縦軸はレーザ光強度を示す。このレーザ
出力は約１Ｊでパルス幅は１０ｎｓである。レーザ光源
４３から出射されたレーザパルスはミラー４４、４５で
反射され、レンズ４６によって集束され、ターゲット３
９上に、電極方向に平行な１本の１×１０ｍｍのストラ
イプ状のパターンとなって照射される。このターゲット
３９に照射された時のレーザ光強度は、約１ＧＷ／ｃｍ
²である。このレーザ光照射により、ターゲット３９を
構成する約１０¹⁸個／ｃｍ³の密度のゲルマニウム元素
が放電電極間のターゲット３９表面上にガス状になって
一様に分布する。

【００２４】一方、トリガ信号発生装置４７から遅延装
置５３に出力されたトリガ信号は、一定時間遅延された
後、高圧トリガ発生装置５２に入力される。高圧トリガ
発生装置５２は、この遅延したトリガ信号が入力される
タイミングに高圧パルスを発生し、スパークギャップス
イッチ５０へ出力する。スパークギャップスイッチ５０
はこの高圧パルスの入力によってそのスイッチを閉じ
る。コンデンサバンク４９内のコンデンサは充電装置５
１によって予め３０ｋｖの高電圧に充電されており、充
電エネルギは１０ｋＪになっている。スパークギャップ
スイッチ５０が閉じられることにより、コンデンサバン
ク４９に蓄積された電荷が放電し、図４（ｃ）のグラフ
に示す放電電流が生じる。同グラフの横軸は時間ｔ、縦
軸は放電電流値を示す。この放電電流によって真空容器
３１内のアノード３４とカソード３５との間に放電が生
じる。放電の開始は、遅延装置５３によって、トリガ信
号発生装置４７の出力するトリガ信号よりも図示の時間
Ｔだけ遅れている。

【００２５】アノード３４とカソード３５との間のター
ゲット３９表面上には、ターゲット３９から分離したガ
ス状プラズマがレーザ溶発になって一様に分布してい
る。このため、スパークギャップスイッチ５０が閉じて
この間に放電が生じると、ターゲット３９表面上には放
電プラズマが発生し、その放電プラズマはＺピンチを起
こす。そして、ターゲットベース３８裏面の制御導体４
０の作用によって、このＺピンチされた放電プラズマの
位置が制御導体４０に沿った位置に安定される。その結
果、ターゲット３９の構成元素であるネオン用Ｇｅイオ
ンの特性Ｘ線（波長２３０オングストローム）が発生す
る。このＸ線は図４（ｄ）のグラフに示され、同グラフ
の横軸は時間ｔ、縦軸はＸ線強度を示す。各トンネル３
６とターゲット３９とを結ぶ軸方向に放出されるＸ線
は、カソード３５のトンネル３６を通過してＸ線反射ミ
ラー３７に到達し、ここで反射される。反射されたＸ線
は、アノード３４側へ戻るため、この結果、放出される
Ｘ線の利得が向上し、レーザ発振を生じる。発振したＸ
線は出射窓４１を介して真空容器３１の外部に取り出さ
れる。

【００２６】本実施例においては、Ｘ線を発生させるた
めの金属蒸気は、放電電極となるアノード、カソードと
は別に設けられたレーザ溶発用のターゲット３９を発生
源としている。従って、陽極自身を金属蒸気の発生源と
する従来の真空スパーク法によるＸ線発生装置とは異な
り、放電電極が消耗することはなく、電極の寿命は長く
なる。このため、Ｘ線を繰り返し発生させても、電極交
換が必要とされる間隔は長くなり、電極交換作業の手間
は大幅に省ける。また、従来のように陽極が変形してＸ
線点源の位置が揺らぐことはなく、しかも、制御導体４
０の作用によって、プラズマの発生位置がより安定する
ため、安定したＸ線が得られる。

【００２７】また、放電制御装置により、アノード及び
カソードで構成される放電電極間にガス状プラズマが発
生した後、所定タイミングだけ遅延して、この放電電極
間に高電圧が印加され、プラズマピンチ現象が起こされ
てＸ線が発生する。つまり、ターゲット３９の構成元素
が放電電極間に分布した後に放電が発生させられ、しか
も、この放電タイミングは遅延装置５３によって放電に
最適な任意のタイミングに設定される。従って、レーザ
光源４３からのレーザパルス照射によって発生する金属
蒸気の発生タイミングと、コンデンサバンク４９に蓄積
された充電電荷が放電されて生じる主放電タイミングと
は適宜個別に制御される。このため、より効率良く、電
気エネルギをＸ線に変換することが可能になる。

【００２８】また、ターゲット３９からの金属蒸気の発
生量は、レーザ光源４３から出力されるレーザ光のエネ
ルギ、波長、ターゲット３９へのレーザ光の照射面積等
によって制御され、主放電電源となるコンデンサバンク
４９の容量値には依存しない。また、放電電極間におけ
る金属蒸気の空間分布は、ターゲット３９へのレーザ光
の照射パターンを変えることにより、ある程度制御され
る。この結果、金属蒸気の発生量とＸ線の発生強度とを
個別に制御することが可能になり、発生させるＸ線の光
強度の再現性は向上する。ここで、放電電極間における
ターゲット元素の最適な初期分布は、採用される個々の
ターゲット元素に対応した最適なレーザ光波長、レーザ
パルス幅、レーザエネルギー、レーザ照射分布、および
ターゲット３９自身の組成（薄膜、液状）などを適宜選
択することによって達成される。

【００２９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明にかかるタ
ーゲット装置では、ターゲット基板に設けたターゲット
をガス状プラズマの発生源とするので、従来のように、
放電を行う電極体自体が消耗することはなく、電極体の
寿命は長くなる。このため、Ｘ線を繰り返し発生させて
も、電極交換が必要とされる間隔は長くなり、電極交換
作業の手間は大幅に軽減できる。

【００３０】また、本発明にかかるＸ線レーザ装置で
は、最終的に放電が生じ、Ｚピンチされたプラズマが安
定する位置は、ターゲットベース裏面に設けられた制御
導体の位置によって決定される。このため、電気エネル
ギをＸ線に変換させる効率を向上させることが可能とな
り、また、発光源の揺らぎも少なくなる。

【００３１】加えて、一対の電極体の配設方向に沿って
放出されるＸ線は、第２電極体の第２貫通孔を通り、Ｘ
線反射体によって、第１電極体側へ反射されるため、第
１電極体を介して外部に放出されるＸ線の利得を上げら
れ、レーザ発振を生じさせることができる。これによ
り、極めて安定なプラズマ位置と強いＸ線強度が得られ
るＸ線レーザ装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施例にかかるＸ線レーザ装置の構成を概略
的に示す図である。

【図２】本実施例にかかるターゲット装置を示す縦断面
図である。

【図３】図２に示すターゲット装置を裏面側が見た斜視
図である。

【図４】（ａ）〜（ｂ）は、Ｘ線レーザ装置各部の信号
波形を示すグラフである。

【図５】従来の真空スパーク法を用いたＸ線発生装置を
示す断面図である。

【図６】従来のプラズマ現象を用いたＸ線レーザ装置の
概略を示す図である。

【符号の説明】

３１…真空ポンプ、３２…ロータリーポンプ、３３…タ
ーボ分子ポンプ、３４…アノード（第１電極体）、３５
…カソード（第２電極体）、３６…トンネル（貫通
孔）、３７…Ｘ線反射ミラー、３８…ターゲットベー
ス、３９…ターゲット、４０…導体（制御導体）、４１
…窓、４２…レーザ用窓、４３…ＹＡＧレーザ光源、４
４…ミラー、４５…ハーフミラー、４６…レンズ、４７
…トリガ信号発生装置、４８…電流導入端子、４９…コ
ンデンサバンク、５０…スパークギャップスイッチ、５
１…充電装置、５２…高圧トリガ発生装置、５３…遅延
装置。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レーザ光を受けてガス状プラズマを発生す
るターゲットを、レーザ光が照射される照射面に備えた
絶縁性のターゲット基板と、前記ターゲットを間に配して相対するように前記ターゲ
ット基板に固定され、この間に所定の電圧が印加された
際、前記ガス状プラズマの介在のもとで放電を行い、放
電プラズマを発生させる一対の電極体とを備え、前記ターゲット基板における前記照射面の裏面側には、
この一対の電極体の配設方向に沿って延び、所定の電位
が与えれた制御導体を配設しており、前記一対の電極体のうち、一方の第１電極体は、この一
対の電極体間に発生するＸ線を外部に導くための第１貫
通孔を有することを特徴とするターゲット装置。
【請求項２】前記一対の電極体のうち、他方の第２電極
体は、この一対の電極体間に発生するＸ線を通過させる
第２貫通孔を有しており、この第２貫通孔の終端付近には、この第２貫通孔を通過
したＸ線を、前記第１電極体側に反射するＸ線反射体を
配設してなる請求項１記載のターゲット装置。
【請求項３】前記制御導体は、前記第１及び第２電極体
のうち、アノードとなる一方の電極体と電気的に接続さ
れてなる請求項１または２記載のターゲット装置。
【請求項４】レーザ光源と、前記レーザ光源から出射されたレーザ光を内部に導く入
射窓を有する真空容器と、前記真空容器内に配設され、前記レーザ光を受けてガス
状プラズマを発生するターゲットを、このレーザ光が照
射される照射面に備えた絶縁性のターゲット基板と、前記ターゲットを間に配して相対するように前記ターゲ
ット基板に固定され、この間に所定の放電電圧が印加さ
れた際、前記ガス状プラズマの介在のもとで放電を行
い、放電プラズマを発生させる一対の電極体と、前記一対の電極体間に前記放電電圧を印加する電源手段
とを備え、前記ターゲット基板における前記照射面の裏面側には、
この一対の電極体の配設方向に沿って延び、所定の電位
が与えれた制御導体を配設しており、前記一対の電極体のうち、一方の第１電極体は、この一
対の電極体間に発生するＸ線を外部に導くための第１貫
通孔を有し、他方の第２電極体は、この一対の電極体間
に発生するＸ線を通過させる第２貫通孔を有しており、この第２貫通孔の終端付近には、この第２貫通孔を通過
したＸ線を、前記第１電極体側に反射するＸ線反射体を
配設してなるＸ線レーザ装置。
【請求項５】前記制御導体は、前記第１及び第２電極体
のうち、アノードとなる一方の電極体と電気的に接続さ
れてなる請求項４記載のＸ線レーザ装置。
【請求項６】前記電源手段から前記一対の電極体に印加
される前記放電電圧の印加タイミングと、前記レーザ光
源から前記ターゲットに照射されるレーザ光の照射タイ
ミングとの双方を制御する放電制御手段を備える請求項
４または５記載のＸ線レーザ装置。