JPH08313704A - 反射防止膜用樹脂 - Google Patents
反射防止膜用樹脂Info
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- JPH08313704A JPH08313704A JP7121025A JP12102595A JPH08313704A JP H08313704 A JPH08313704 A JP H08313704A JP 7121025 A JP7121025 A JP 7121025A JP 12102595 A JP12102595 A JP 12102595A JP H08313704 A JPH08313704 A JP H08313704A
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Abstract
成され、光線の反射防止効果の優れた薄膜用の樹脂を提
供する。 【構成】1分子中にエポキシ基とフルオロアルキル基を
有する化合物と、1分子中にエポキシ基と加水分解性シ
リル基を有する化合物とをカチオン重合あるいはアニオ
ン重合して得られる共重合体を含むことを特徴としてお
り、主鎖がエーテル結合でできているため、耐薬品性に
優れ、かつ加水分解性シリル基の脱水縮合反応により硬
度が高く、基材との密着性に優れた膜を形成できるよう
になった。
Description
スチック等の基材の表面に塗工することにより、該基材
の表面反射を低下し、視認性の向上及び可視光線エネル
ギーの有効活用化に有用な、反射防止膜用樹脂に関する
ものである。本発明の反射防止膜用樹脂はテレビのブラ
ウン管、絵の前面硝子、ショーケース、硝子板、眼鏡レ
ンズ等に塗布され、生成する薄膜は太陽光、照明光の反
射によるギラツキや眩しさ、あるいは周囲の景観が映る
ことにより、透明性、視認性が損なわれることを防止す
るのに有効である。
蒸着により形成し、更に焼き付ける方法、及びチタン含
有有機金属化合物と、ケイ素含有有機化合物とを加水分
解して、TiO2膜とSiO2膜とからなる多層コートを形成す
る方法が知られている。しかしながらMgF2蒸着膜の場合
は、付着力が小さくかつ硬度及び耐擦傷性が低く、さら
に蒸着設備の制約を受けるため、大きな物品へのコート
ができないという難点があるため、ガラス製品では焼き
付けなければならず、またプラスチック製品では焼き付
けできないため、実用性のある塗膜とはならなかった。
の問題点を解決すべく、工業生産的に有利なコーティン
グによって形成され、しかも基材との密着性、耐久性に
優れた反射防止膜を作るために反射防止膜用樹脂を提供
することにある。本発明者は、フルオロアルキル基とア
ルコキシシリル基を側鎖に有するエポキシ重合体が、空
気中の水分で容易に架橋構造を形成して、密着性に優れ
た硬い塗膜となり、しかもその塗膜の屈折率が非常に低
いため、反射防止効果が高いことを見いだし、本発明を
完成するに至った。
ポキシ基とフルオロアルキル基を有する化合物と、1分
子中にエポキシ基と加水分解性シリル基を有する化合物
からなる混合物をカチオン、あるいはアニオン重合して
得られる共重合体を含むことを特徴とする反射防止膜用
樹脂組成物を提供する。
フルオロアルキル基を有する化合物の例として、3-パー
フルオロヘキシル-1、2エポキシプロパン、3-パーフルオ
ロオクチル-1、2-エポキシプロパン、3-パーフルオロデ
シル-1、2-エポキシプロパン、3-(パーフルオロ-5-メチ
ルヘキシル)-1、2-エポキシプロパン、3-(パーフルオ
ロ-7-メチルオクチル)-1、2-エポキシプロパン、3-(パ
ーフルオロ-9-メチルデシル)-1、2-エポキシプロパン、
3-(2、2、3、3-テトラフルオロプロポキシ)-1、2-エポキ
シプロパン、3-(1H,1H,5H-オクタフルオロペンチロキ
シ)-1、2-エポキシプロパン、3-(1H,1H,7H-ドデカフル
オロヘプチロキシ)-1、2-エポキシプロパン、3-(1H,1
H,9H-ヘキサデカフルオロノニロキシ)-1、2-エポキシプ
ロパン等が挙げられ、要求性能に応じてこれらの内から
1種類、あるいは2種類以上を混合して使用でき、本発明
を構成する他の化合物との共重合比率は50〜85重量部が
望ましい。
基を有する化合物の例としてはβ-(3、4-エポキシシクロ
ヘキシル)エチルトリメトキシシラン、β-(3、4-エポキ
シシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3-グリ
シドキシプロピルジメチルメトキシシラン、3-グリシド
キシプロピルジメチルエトキシシラン、(3-グリシドキ
シプロピル)トリメトキシシラン、3-グリシドキシプロ
ピル)トリエトキシメトキシシラン等が挙げられ、要求
性能に応じてこれらの内から1種類、あるいは2種類以上
を混合して使用でき、本発明を構成する他の化合物との
共重合比率は、十分な高度を持つ硬化膜を得るために15
〜50重量部が以上が望ましい。
フルオロアルキル基を有する化合物と、1分子中にエポ
キシ基と加水分解性シリル基を有する化合物と、共重合
可能な化合物の例としてはエチレンオキサイド、プロピ
レンオキサイド、スチレンオキサイド、2、3-エポキシブ
タン、1、2-エポキシブタン、イソブテンオキサイド、1、
2-エポキシヘキサデカン、クロルスチレンオキサイド、
エポキシドデカン、アリルグリシジルエーテル、シクロ
ヘキセンオキサイド、4-ビニルシクロヘキセンオキサイ
ド、ブタジエンモノオキサイド、ジペンテンオキサイ
ド、1、2-エポキシドデカン等が挙げられ、要求性能に応
じてこれらの内から1種類、あるいは2種類以上を混合し
て使用でき、本発明を構成する他の化合物との共重合比
率は、屈折率が低い硬化膜を得るために0〜35重量部以
上が望ましい。
はアニオン重合により共重合体となる。カチオン重合の
触媒として硫酸、塩酸、過塩素酸、トリクロロ酢酸等の
プロトン酸、トリフルオロボロン、トリクロロアルミニ
ウム、テトラクロロチタン、テトラブロモ錫、トリクロ
ロアンチモン、トリクロロ鉄等のルイス酸等があげられ
る。アニオン重合の触媒の例としてはアルキルナトリウ
ム、アルキルリチウム、アルキルマグネシウム、アルキ
ルアルミニウム等の有機金属化合物、ナトリウムアルコ
キシド、カリウムアルコキシド、マグネシウムアルコキ
シド、アルミニウムアルコキシド等の金属アルコキシ
ド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の強アルカ
リ、ピリジン、トリエチルアミン等のアミン類等があげ
られる。これらのエポキシ化合物の重合触媒は重合する
化合物により異なるが、エポキシ化合物に対して0.01〜
5重量部使用する。
の重合は、それ自体既知の方法、例えば溶液重合、バル
ク重合いずれの方法を採用することができ、溶液重合の
場合は用いる溶媒としては得られる重合体の良溶媒であ
りハロゲンを含まないもの、例えばエーテル、テトラヒ
ドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等の
エーテル系溶媒、あるいは炭化水素系溶媒等の使用も可
能である。もちろん適宜2種類以上を併用して溶媒とし
て用いることができる。溶液濃度は20〜100%である。
うにはドクターブレード、バーコーター、アプリケータ
ー等を用いた塗布、スプレーコート、スピンコート、デ
ィップコート等、通常のガラスコーティングで用いられ
る、どの方法も採用可能である。本発明において樹脂中
の加水分解性シリル基の加水分解、縮合反応を促進させ
る加水分解、縮合反応用触媒を必要に応じて用いること
ができる。
合用触媒の代表的なものとしてはブチルアミン、ジブチ
ルアミン、ヘキシルアミン、t-ブチルアミン、エチレン
ジアミン、トリエチルアミン、イソホロンジアミン、イ
ミダゾール、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、ナトリウムメチラートのごとき塩基性化合
物;テトラプロピルチタネート、オクチル酸錫、オクチ
ル酸鉛、オクチル酸コバルト、オクチル酸亜鉛、オクチ
ル酸カルシウム、ナフテン酸鉛、ナフテン酸コバルト、
ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクテート、ジ
ブチル錫ジラウレート、ジブチル錫マレート等含金属化
合物;ギ酸、酢酸、プロピオン酸、p-トルエンスルホン
酸、トリクロル酢酸、リン酸、モノアルキルリン酸、ジ
アルキルリン酸、βーヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レートのリン酸エステル、モノアルキル亜リン酸、ジア
ルキル亜リン酸等酸性化合物などが挙げられるが、特に
ジブチル錫ジアセテートジブチル錫ジオクテート、ジブ
チル錫ジラウレート、ジブチル錫ジマレート等の錫化合
物が望ましい。この触媒の使用量は樹脂100重量部に対
して、0.1〜10重量部、好ましくは0.2〜5重量部の範囲
である。
ッ素、塩素を含まない溶媒にも溶け、結晶性がないため
に、高い透明性を示し且つ高い光線透過率を示すもので
あり、屈折率が低いために反射防止効果に優れている。
またアルコキシシリル基を含むために、シリル基の加水
分解−縮合により基材との密着性に優れ、自己架橋して
硬い塗膜を与え、耐湿性、耐候性等に優れているものと
考えられる。
明する。なお実施例中の部数はすべて重量部を示してい
る。また樹脂合成はすべて窒素雰囲気下で行った。
管を備えた4つ口フラスコに、3-(1H,1H,7H-ドデカフル
オロヘプチロキシ)-1、2-エポキシプロパン80部、(3-グ
リシドキシプロピル)トリメトキシシラン20部をフラス
コに仕込み、室温でトリフルオロボロンジエチルエーテ
ル錯体1部を加えた。発熱が収まった後60度まで昇温し
て2時間撹拌して屈折率1.3753のポリマーを得た。 (合成例2)冷却管、攪拌装置、窒素導入管を備えた4
つ口フラスコに、3-(1H,1H,7H-ドデカフルオロヘプチロ
キシ)-1、2-エポキシプロパン70部、3-パーフルオロオク
チル-1,2-エポキシプロパン10部、(3-グリシドキシプロ
ピル)トリメトキシシラン20部をフラスコに仕込み、後
は合成例1と同様にして、屈折率1.3728のポリマーを得
た。
管を備えた4つ口フラスコに、3-(1H,1H,7H-ドデカフル
オロヘプチロキシ)-1、2-エポキシプロパン60部、3-パー
フルオロオクチル-1,2-エポキシプロパン20部、(3-グリ
シドキシプロピル)トリメトキシシラン20部をフラスコ
に仕込み、後は合成例1と同様にして、屈折率1.3712の
ポリマーを得た。こうしてえられたポリマー10部に、パ
ラトルエンスルホン酸0.1部、酢酸エチル490部を加えて
塗液を調整した。この塗液をガラス板に1milのアプリケ
ーターで塗布した後、200℃のオーブンで10分間焼き付
けした。このようにして形成された反射防止膜について
各種の試験を行った。試験項目と方法は以下の通りであ
る。
温で測定した。 剥離試験:クロスカットした後セロハンテープ剥離を行
い塗膜の剥離した%を示した。 耐水性 :塗膜を水のついたガーゼで10回擦った後の塗
膜の状態を5段階評価1(不良)---5(良好) 耐溶剤性:塗膜をメチルエチルケトンのついたガーゼで
10回擦った後の塗膜の状態を5段階評価 1(不良)---5
(良好) 反射率 :600nmにおける塗膜の反射率をUV-3100(島津
社製)で測定した。 その結果を表1に示す。 表1 反射防止膜の各種物性 ────────────────────────────────── 屈折率 硬度 剥離試験 耐水性 耐溶剤性 反射率 ────────────────────────────────── 合成例1 1.3753 5H 100/100 5 5 2.8 合成例2 1.3728 5H 100/100 5 5 2.8 合成例3 1.3712 5H 100/100 5 5 2.8 参考(ガラス板) 10.1 ──────────────────────────────────
性シリル基を含むことにより、基材との密着性も良く硬
度の高い膜を、コーティングと短時間の焼き付けにより
極めて簡単に形成できるため、特にブラウン管等の量産
する光学製品に有用である。
Claims (2)
- 【請求項1】1分子中にポキシ基とフルオロアルキル基
を有する化合物と、1分子中にエポキシ基と加水分解性
シリル基を有する化合物とをカチオン重合あるいはアニ
オン重合して得られる共重合体を含むことを特徴とする
反射防止膜用樹脂。 - 【請求項2】屈折率が1.4以下であることを特徴とする
請求項1記載の反射防止膜用樹脂。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7121025A JPH08313704A (ja) | 1995-05-19 | 1995-05-19 | 反射防止膜用樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7121025A JPH08313704A (ja) | 1995-05-19 | 1995-05-19 | 反射防止膜用樹脂 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08313704A true JPH08313704A (ja) | 1996-11-29 |
Family
ID=14800955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7121025A Pending JPH08313704A (ja) | 1995-05-19 | 1995-05-19 | 反射防止膜用樹脂 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08313704A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999048944A1 (en) * | 1998-03-25 | 1999-09-30 | Daikin Industries, Ltd. | Antireflection film and nonglare article |
| US7229686B2 (en) | 2002-09-25 | 2007-06-12 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Antireflection film and making method |
-
1995
- 1995-05-19 JP JP7121025A patent/JPH08313704A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999048944A1 (en) * | 1998-03-25 | 1999-09-30 | Daikin Industries, Ltd. | Antireflection film and nonglare article |
| US7229686B2 (en) | 2002-09-25 | 2007-06-12 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Antireflection film and making method |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060704 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070109 |