JPH0330492B2 - - Google Patents
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- JPH0330492B2 JPH0330492B2 JP57225787A JP22578782A JPH0330492B2 JP H0330492 B2 JPH0330492 B2 JP H0330492B2 JP 57225787 A JP57225787 A JP 57225787A JP 22578782 A JP22578782 A JP 22578782A JP H0330492 B2 JPH0330492 B2 JP H0330492B2
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- coating film
- glass
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- compound
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
本発明はガルス又は透明プラスチツクなどの透
明基体の表面に処理して、該基体の表面反射を低
下させるような用途に用いる多層構造からなる低
反射率塗膜に関するものである。 建築物，車輌などの窓、ドアーあるいはシヨー
ウインド，シヨーケース，光学レンズなどはガラ
ス又は透明プラスチツクなどの透明材料が好適に
用いられる。しかしながら、かかる材料表面は太
陽光，照明光の反射によるギラツキや眩しさを生
ずるという欠点があり、さらに周囲の景観が映る
ことにより、材料に特有な透明性や透視性が損な
われ易い。 又、近年、省エネルギー政策から太陽光の利用
が進められ、太陽光集光器が開発されているが、
集熱効率を向上させるには集光部に用いるガラス
又は透明プラスチツクなどの透明材料の表面から
の反射損失を除去あるいは低減せしめ、大量のエ
ネルギー通過させることが必要となつている。 従来から、ガラス又は透明プラスチツクなどの
透明基体の表面の反射防止法は光学部品を中心に
開発が進められていて、例えばガラス表面に金属
酸化物，金属フツ化物，金属窒化物などの薄膜を
形成せしめる真空蒸着法あるいはスパツタリング
法が光学レンズ，メガネレンズ，フイルターなど
に実用化されている。又、ガラスあるいは透明プ
ラスチツクなどの透明基体の表面に、高分子物質
からなる低反射処理剤を塗布、吹付け、あるいは
処理剤中に浸漬することにより、低反射性の塗膜
を形成するための処理方法あるいは低反射処理剤
が提案されている。 しかしながら、前記方法において、真空蒸着法
あるいはスパツタリング法は装置の機構上及びコ
スト面から適応物品は小型精密光学部品に限定さ
れ、更に連続的生産には適していない。低反射処
理剤の塗膜を塗布、吹付け、あるいは浸漬などの
方法により形成する方法では、形成された低反射
性塗膜は、汚染などに対する洗浄作業によつて損
傷を受け、剥離するなど硬度や耐久性に欠点があ
る。 本発明者は上記の如き問題点の認識に基づい
て、ガラス又は透明プラスチツクなどの透明基体
の透明性、透視性を損なうことなく、該基体の表
面上に塗布、吹付け、あるいは浸漬などの既知の
方法あるいは新規な方法によつて該基体の表面を
低反射性とし、且つ、その性能が長期にわたつて
持続する耐久性の良好な低反射率塗膜を提供すべ
く種々研究、検討を行なつた。 その結果、ポリフルオロ化基含有化合物はフツ
素原子の分極率が小さく、従つて屈折率も低く、
例えばC8F18の屈折率（25℃、以下同じ）は、
1.271、（C4F9）3Nは1.290、（CF2＝CF2／CF3OCF
＝CF2）の重合体は1.330であり、ガラス又は透明
プラスチツクなどの透明基体の表面に塗膜を形成
することにより低反射率化が可能となること、
又、ポリフルオロ化基含有化合物は基体への凝集
力は強いが、塗膜の硬度は膜厚に依存し、ある程
度の膜厚を必要とするが、低反射性能から薄膜で
あるのが好ましいこと、更にポリフルオロ化基含
有化合物の薄膜の硬度を向上せしめるには、透明
基体の表面上に接着力及び硬度の高い他の材料か
らなる透明塗膜を形成し、該塗膜上にポリフルオ
ロ化基含有化合物からなる薄膜を形成することに
より、低反射性能及び膜硬度の優れた塗膜が得ら
れるという知見が得られた。 本発明者はかかる知見から、ガラス又は透明プ
ラスチツクなどの透明基体の表面に形成する塗膜
（以下、下層塗膜という）は、透明基体に強固に
接着し、硬度が高く、透明性を有するものであつ
て、該塗膜上に形成するポリフルオロ化基含有化
合物との良好な接着性を有し、且つ屈折率が透明
基体と同程度か、それより大きいシラン化合物又
は透明性樹脂であるのが好ましく、更に該塗膜上
に形成する薄膜（以下、上層薄膜という）はポリ
フルオロ化基含有化合物からなつていて、重合体
の薄膜を形成するものが好ましく、このような多
層構造の塗膜とすることにより、薄膜であつても
硬度が大きく、しかも低反射性能の優れた塗膜と
なるという事実を見出し、本発明を完成したもの
である。 即ち、本発明はガラス又は透明プラスチツクな
どの透明基体の表面に処理する低反射率塗膜にお
いて、透明基体と同程度以上の屈折率を有するシ
ラン化合物、又は透明性樹脂の塗膜と、該塗膜上
にポリフルオロ化基含有化合物からなる厚さ0.2μ
以下の薄膜を形成してなることを特徴とする多層
構造の低反射率塗膜を提供するものである。 本発明における下層塗膜において透明基体と同
程度以上の屈折率を有するシラン化合物は、一般
式｛Ｘ（Ａ）C｝aSi（Ｚ）bY4-a-bで表わされるシラン
カツプリング剤が好ましい。前記一般式において
Ｘは
明基体の表面に処理して、該基体の表面反射を低
下させるような用途に用いる多層構造からなる低
反射率塗膜に関するものである。 建築物，車輌などの窓、ドアーあるいはシヨー
ウインド，シヨーケース，光学レンズなどはガラ
ス又は透明プラスチツクなどの透明材料が好適に
用いられる。しかしながら、かかる材料表面は太
陽光，照明光の反射によるギラツキや眩しさを生
ずるという欠点があり、さらに周囲の景観が映る
ことにより、材料に特有な透明性や透視性が損な
われ易い。 又、近年、省エネルギー政策から太陽光の利用
が進められ、太陽光集光器が開発されているが、
集熱効率を向上させるには集光部に用いるガラス
又は透明プラスチツクなどの透明材料の表面から
の反射損失を除去あるいは低減せしめ、大量のエ
ネルギー通過させることが必要となつている。 従来から、ガラス又は透明プラスチツクなどの
透明基体の表面の反射防止法は光学部品を中心に
開発が進められていて、例えばガラス表面に金属
酸化物，金属フツ化物，金属窒化物などの薄膜を
形成せしめる真空蒸着法あるいはスパツタリング
法が光学レンズ，メガネレンズ，フイルターなど
に実用化されている。又、ガラスあるいは透明プ
ラスチツクなどの透明基体の表面に、高分子物質
からなる低反射処理剤を塗布、吹付け、あるいは
処理剤中に浸漬することにより、低反射性の塗膜
を形成するための処理方法あるいは低反射処理剤
が提案されている。 しかしながら、前記方法において、真空蒸着法
あるいはスパツタリング法は装置の機構上及びコ
スト面から適応物品は小型精密光学部品に限定さ
れ、更に連続的生産には適していない。低反射処
理剤の塗膜を塗布、吹付け、あるいは浸漬などの
方法により形成する方法では、形成された低反射
性塗膜は、汚染などに対する洗浄作業によつて損
傷を受け、剥離するなど硬度や耐久性に欠点があ
る。 本発明者は上記の如き問題点の認識に基づい
て、ガラス又は透明プラスチツクなどの透明基体
の透明性、透視性を損なうことなく、該基体の表
面上に塗布、吹付け、あるいは浸漬などの既知の
方法あるいは新規な方法によつて該基体の表面を
低反射性とし、且つ、その性能が長期にわたつて
持続する耐久性の良好な低反射率塗膜を提供すべ
く種々研究、検討を行なつた。 その結果、ポリフルオロ化基含有化合物はフツ
素原子の分極率が小さく、従つて屈折率も低く、
例えばC8F18の屈折率（25℃、以下同じ）は、
1.271、（C4F9）3Nは1.290、（CF2＝CF2／CF3OCF
＝CF2）の重合体は1.330であり、ガラス又は透明
プラスチツクなどの透明基体の表面に塗膜を形成
することにより低反射率化が可能となること、
又、ポリフルオロ化基含有化合物は基体への凝集
力は強いが、塗膜の硬度は膜厚に依存し、ある程
度の膜厚を必要とするが、低反射性能から薄膜で
あるのが好ましいこと、更にポリフルオロ化基含
有化合物の薄膜の硬度を向上せしめるには、透明
基体の表面上に接着力及び硬度の高い他の材料か
らなる透明塗膜を形成し、該塗膜上にポリフルオ
ロ化基含有化合物からなる薄膜を形成することに
より、低反射性能及び膜硬度の優れた塗膜が得ら
れるという知見が得られた。 本発明者はかかる知見から、ガラス又は透明プ
ラスチツクなどの透明基体の表面に形成する塗膜
（以下、下層塗膜という）は、透明基体に強固に
接着し、硬度が高く、透明性を有するものであつ
て、該塗膜上に形成するポリフルオロ化基含有化
合物との良好な接着性を有し、且つ屈折率が透明
基体と同程度か、それより大きいシラン化合物又
は透明性樹脂であるのが好ましく、更に該塗膜上
に形成する薄膜（以下、上層薄膜という）はポリ
フルオロ化基含有化合物からなつていて、重合体
の薄膜を形成するものが好ましく、このような多
層構造の塗膜とすることにより、薄膜であつても
硬度が大きく、しかも低反射性能の優れた塗膜と
なるという事実を見出し、本発明を完成したもの
である。 即ち、本発明はガラス又は透明プラスチツクな
どの透明基体の表面に処理する低反射率塗膜にお
いて、透明基体と同程度以上の屈折率を有するシ
ラン化合物、又は透明性樹脂の塗膜と、該塗膜上
にポリフルオロ化基含有化合物からなる厚さ0.2μ
以下の薄膜を形成してなることを特徴とする多層
構造の低反射率塗膜を提供するものである。 本発明における下層塗膜において透明基体と同
程度以上の屈折率を有するシラン化合物は、一般
式｛Ｘ（Ａ）C｝aSi（Ｚ）bY4-a-bで表わされるシラン
カツプリング剤が好ましい。前記一般式において
Ｘは
【式】NH2−，
NH2CH2CH2NH−，HS−，Cl−，CH2＝CH
−，
−，
【式】，NCO−、Ａはアルキレン
基、Ｚは炭素数１〜４の低級アルキル基、Ｙはハ
ロゲン，アルコキシ基が選定され、ａは１〜３の
整数、ｂは０又は１〜２の整数、ｃは０又は１の
整数である。かかるシランカツプリング剤として
は、例えば
ロゲン，アルコキシ基が選定され、ａは１〜３の
整数、ｂは０又は１〜２の整数、ｃは０又は１の
整数である。かかるシランカツプリング剤として
は、例えば
【式】NH2
（CH2）2NH（CH2）3Si（OCH3）3，NH2（CH2）3Si
（OCH3）3，CH2＝CHSi（OCH3）3，CH2＝
CHSiCl3，
（OCH3）3，CH2＝CHSi（OCH3）3，CH2＝
CHSiCl3，
【式】，
HS（CH2）3Si（OCH3）3，NCO（CH2）3Si
（OC2H5）3，Cl（CH2）3Si（OCH3）3， ，
（OC2H5）3，Cl（CH2）3Si（OCH3）3， ，
【式】
が挙げられる。かかるシランカツプリング剤縮合
物の屈折率は1.47〜1.60であり、ガラス又はポリ
カーボネートなどの透明プラスチツクと同程度か
それより大きい。シラン化合物は２種以上の組合
せ物であつて好ましい結果が得られる。 透明基体と同程度以上の屈折率を有する透明性
樹脂は、例えばエポキシ樹脂系，メラミン樹脂
系，ウレタン樹脂系などが挙げられる。 下層塗膜は透明基体の屈折率に応じて適宜選択
されるが、透明基体より屈折率が0.1以上低いも
のを選択した場合は、性能の優れた低反射率塗膜
は得られない。 上層薄膜のポリフルオロ化基含有化合物は、下
層塗膜と反応する−OCH3，
物の屈折率は1.47〜1.60であり、ガラス又はポリ
カーボネートなどの透明プラスチツクと同程度か
それより大きい。シラン化合物は２種以上の組合
せ物であつて好ましい結果が得られる。 透明基体と同程度以上の屈折率を有する透明性
樹脂は、例えばエポキシ樹脂系，メラミン樹脂
系，ウレタン樹脂系などが挙げられる。 下層塗膜は透明基体の屈折率に応じて適宜選択
されるが、透明基体より屈折率が0.1以上低いも
のを選択した場合は、性能の優れた低反射率塗膜
は得られない。 上層薄膜のポリフルオロ化基含有化合物は、下
層塗膜と反応する−OCH3，
【式】，
【式】−COOH等の反応性基を有するポ
リフルオロ化基含有化合物であり、例えば
Rf（CH2）2SiCl3，Rf（CH2）2Si（CH3）Cl2，（Rf
CH2CH2）2SiCl2，Rf（CH2）2Si（CCH3）3，Rf
CONH（CH2）3Si（OC2H5）3， RfCONH（CH2）2NH（CH2）3Si（OC2H5）3， RfSO2N（CH3）（CH2）2CONH（CH2）3Si
（OC2H5）3， Rf（CH2）2OCO（CH2）2S（CH2）3Si（OCH3）3， Rf（CH2）2OCONH（CH2）3Si（OC2H5）3， Rf（CH2）2NH（CH2）2Si（OCH3）3， Rf（CH2）2NH（CH2）2Si（CCH2CH2CCH3）3， （但し、Rfは炭素数４〜16のポリフルオロア
ルキル基、ｍは１以上の整数） などのポリフルオロアルキル基含有シラン化合
物、ポリフルオロアルキル基がエーテル結合を有
するシラン化合物、かかるシラン化合物と他のシ
ラン化合物との混合物、 Cl3Si（CH2）2（CF2）o（CH2）2SiCl3， （H3CO）3Si（CH2）2（CF2）o（CH2）2Si
（OCH3）3， （但し、ｎは４〜16の整数、以下同じ） などのポリフルオロアルキレン基含有シラン化合
物、及び
CH2CH2）2SiCl2，Rf（CH2）2Si（CCH3）3，Rf
CONH（CH2）3Si（OC2H5）3， RfCONH（CH2）2NH（CH2）3Si（OC2H5）3， RfSO2N（CH3）（CH2）2CONH（CH2）3Si
（OC2H5）3， Rf（CH2）2OCO（CH2）2S（CH2）3Si（OCH3）3， Rf（CH2）2OCONH（CH2）3Si（OC2H5）3， Rf（CH2）2NH（CH2）2Si（OCH3）3， Rf（CH2）2NH（CH2）2Si（CCH2CH2CCH3）3， （但し、Rfは炭素数４〜16のポリフルオロア
ルキル基、ｍは１以上の整数） などのポリフルオロアルキル基含有シラン化合
物、ポリフルオロアルキル基がエーテル結合を有
するシラン化合物、かかるシラン化合物と他のシ
ラン化合物との混合物、 Cl3Si（CH2）2（CF2）o（CH2）2SiCl3， （H3CO）3Si（CH2）2（CF2）o（CH2）2Si
（OCH3）3， （但し、ｎは４〜16の整数、以下同じ） などのポリフルオロアルキレン基含有シラン化合
物、及び
【式】
などのポリフルオロアルキレン基含有ジエポキシ
化合物が挙げられる。 又、ポリフルオロアルキル基含有メタクリレー
トとメタクリル酸誘導体との共重合体、例えば ポリフルオロアルキル基含有アルコールとメラ
ミン誘導体との反応物、例えば Rf（CH2）2OHと などが挙げられる。 更に、C8F17CH＝CH，CF3−Ｃ≡Ｃ−CF3，
C8F18などのプラズマ重合性化合物を用いること
ができる。 本発明の低反射率塗膜は透明基体の表面上に下
層塗膜を形成し、該塗膜上に上層薄膜を形成した
多層構造からなるが、下層塗膜の厚さは少なくと
も0.1μ、特に0.5〜5μであるのが好ましい。塗膜
の厚さ0.1μ以下では塗膜材料の分子の絡み合いが
不十分となり、塗膜強度が保持されず、該塗膜上
に形成する上層薄膜の硬度の向上は得られない。
下層塗膜の厚さは厚いほど該塗膜上に形成する上
層薄膜の硬度は向上するが、光透過性への影響、
塗布の作業性及び経済性の点から必要以上に厚く
することは好ましくなく、上限は10μまでであ
る。 下層塗膜の透明基体表面上への形成方法は特に
限定されない。シラン化合物を用いる場合は、例
えばシラン化合物をアセトン，テトラヒドロフラ
ン，低級アルコールなどの有機溶剤に溶解し、５
〜50重量％、好ましくは15〜40重量％溶液として
塗布、吹付け、浸漬など既知の方法により行なわ
れる。塗布後は室温、あるいは必要に応じて100
℃程度の温度で30分〜１時間乾燥してシラン化合
物の架橋が部分的に進行した状態の塗膜とし、そ
の上に上層薄膜材料を塗布し薄膜を形成する。シ
ラン化合物は２種以上組合せてもよく、かかる場
合は２種以上のシラン化合物を混合撹拌して反応
させた後、有機溶剤を加えて粘度を調整し、前記
と同様に塗布及び処理して塗膜を形成する。透明
性樹脂を用いる場合は、例えばエポキシ樹脂とし
て“エピコート−1001”（商品名：油化シエル化
学社製品）、メラミン樹脂として“サイメル−
325”（商品名：三井東圧化学社製品）、ウレタン
樹脂として“オレスターM75−50E”（商品名：
三井東圧化学社製品）が好適に用いられる。エポ
キシ樹脂及びメラミン樹脂は架橋剤あるいは重合
開始剤を加えて透明基体の表面に塗布して部分架
橋を進めた後、上層薄膜材料を塗布して薄膜を形
成する。ウレタン樹脂は透明基体の表面に塗布
後、空気中の水分によつて部分的に重合硬化せし
めた後、上層薄膜材料を塗布して薄膜を形成す
る。かかる下層塗膜材料に帯電防止剤あるいは高
屈折率を付与する他の成分を含有せしめることも
できる。 下層塗膜上に形成するポリフルオロ化基含有化
合物からなる上層薄膜の形成方法は、既知の塗布
方法によつて行なうことができるが、該化合物の
塗布に好適な調製法は用いる化合物によつて異な
る。 即ち、前記ポリフルオロアルキル基含有シラン
化合物、ポリフルオロアルキル基がエーテル結合
を有するシラン化合物及びかかるシラン化合物と
他のシラン化合物との混合物あるいはポリフルオ
ロアルキレン基含有シラン化合物の場合は、該化
合物又は混合物をアセトン，テトラヒドロフラ
ン，塩素系あるいはフツ素系などの有機溶剤の１
種又は２種以上の混合溶剤に希釈して１〜15重量
％溶剤溶液、好ましくは３〜10重量％溶剤溶液と
して、下層塗膜上に塗布、吹付け、浸漬など既知
の方法により塗布する。塗布後は100℃以上の温
度で20分以上キユアリングすることによつて薄膜
を形成することができる。 ポリフルオロアルキレン基含有ジエポキシ化合
物の場合は、該化合物に、ポリフルオロアルキレ
ン基含有アミン化合物、他のアミン類、アミン類
のBF3塩、カルボン酸無水物から選ばれる１種の
硬化剤を硬化反応が進行するに十分な量を加え、
室温〜150℃にて５分〜３時間反応させて部分重
合物とする。硬化剤は硬化剤自身が低屈折率物で
あるものを用いるのが好ましく、この場合使用量
を増加しても低反射性能に影響を与えることはな
い。例えば、 H2N（CH2）2（CF2）6（CH2）2NH2は10〜50重量加
えることができる。 ポリフルオロアルキル基含有メタクリレートと
メタクリル酸誘導体との共重合は該化合物の混合
物に重合開始剤を加えて加熱して共重合物とす
る。ポリフルオロアルキレン基含有アルコールと
メラミン誘導体との反応物は固形成分に対して１
重量％のＰ−トルエンスルホン酸を触媒成分とし
て加え、加熱して反応生成物を得る。かかる共重
合体あるいは反応生成物は前記の化合物と同様に
溶剤に希釈して、下層塗膜上に塗布した後、キユ
アリングすることによつて薄膜を形成することが
できる。 プラズマ重合性化合物は下層塗膜上に、プラズ
マ重合装置を使用して装置内で重合を行なうこと
によつて薄膜を形成することができる。 かかる方法によつて形成される上層薄膜の厚さ
は0.2μ以下、特に0.08〜0.2μであるのが好ましい。
0.2μより厚い場合は低反射率塗膜としての性能は
著るしく劣つたものとなる。薄膜の厚さは塗布条
件によつて変化し、例えば浸漬法ではポリフルオ
ロ化基含有化合物の有機溶剤との希釈濃度と引上
速度の関係で決定される。 ポリフルオロ化基含有化合物からなる上層薄膜
材料には無機物フイラー、例えばシリカゲル，
Li2SiF6，MgF2，NaSiF6，MgSiF6などを添加し
て薄膜の硬度を更に向上せしめることができる。
又、上層薄膜材料の使用形態は常法に従つて、溶
剤溶液，溶媒分散液，乳濁液，エアゾールなど任
意の形態に調製すること、あるいは帯電防止剤，
架橋剤など適宜添加剤を添加することができる。 本発明の低反射率塗膜を形成した透明基体の可
視光における反射率は0.6〜1.4％であり、通常の
ソーダ石灰ガラスの反射率4.2％、メタアクリル
樹脂の反射率3.9％、ポリカーボネートの反射率
4.8％に対し優れた効果が認められる。更に塗膜
の硬度は鉛筆硬度Ｂ〜＞5Hであり、ポリフルオ
ロ化基含有化合物のみの塗膜の鉛筆硬度＞2Bに
対し顕著な向上が認められる。又、透明性あるい
は透視性を損なうことはない。 本発明の低反射率塗膜の用途に特に限定される
ことなく、例えば建築物の窓，車輛の窓，ドア
ー，シヨーウインド，シヨーケース，光学機器
類，メガネ類，太陽光集光部材などのガラス又は
透明プラスチツク材料を用いることができる。 本発明の低反射率塗膜の評価方法は次の通りで
ある。即ち、自記分光光度計反射光測定付属装置
（323型：日立製作所製）を使用して波長540ｍμ
の入射角5゜における反射率を測定することにより
行ない、塗膜の厚さは透明基体上に形成された膜
厚（下層塗膜と上層薄膜の合計）を“タリステツ
プ”（Rank Taylor Hobson社製）を使用して針
圧を測定することにより行ない、更に塗膜の硬度
は鉛筆引かき試験機（JIS−K5401）を使用して
鉛筆硬度を測定することにより行なつた。 以下に、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例のみに限定される
ものではない。 合成例 １ RfCH＝CH2（但し、Rf：CoF2o+1，ｎ：６，８，
10，12の混合物で平均値9.0）49.6ｇ（0.1モル）、
HSiCl3 15.9ｇ（0.12モル）、H2PtCl6・6H2Oの50
％イソプロパノール溶液0.2ｇを内容積100mlのガ
ラス製耐圧アンプルに入れ、振盪しながら85℃で
20時間反応させた。反応終了後、減圧蒸留をする
ことにより反応生成物を得た。反応生成物はガス
クロマトグラフイーで分析するとRf（CH2）2SiCl3
（b.P.85℃〜100℃／３〜５mmＨｇ）であり、それ
への転化率は95％であつた。 合成例 ２ 合成例１の反応生成物Rf（CH2）2SiCl3 50.3ｇ
（0.08モル）、メタノール15ｇを混合し、乾燥窒素
をバブリングして生成するHClを除去しながら反
応させた。この反応の終点は生成したHClを定量
して確認した。反応終了後、過剰のメタノールを
留去して反応生成物を得た。反応生成物はガスク
ロマトグラフイーで分析するとRf（CH2）2Si
（OCH3）3であり、それへの転化率は100％であつ
た。 合成例 ３ RfCOOCH（CH3）2（但し、Rf：CoF2o+1，ｎ：
６，８，10，12の混合物で平均値9.0）111.2ｇ
（0.2モル）、H2N（CH2）3Si（OC2H5）3 44.2ｇ（0.2
モル）、乾燥テトラヒドロフラン150ｇを温度計、
撹拌機、冷却管を装着した内容積300mlの四つ口
フラスコに入れ、乾燥窒素気流下にゆつくり撹拌
しながら還流温度（約80℃）で５時間反応させ
た。テトラヒドロフランを留去し反応生成物を得
た。反応生成物はガスクロマトグラフイーで分析
するとRfCONH（CH2）3Si（OC2H5）3であり、それ
への転化率は100℃であつた。 合成例 ４ 69.0ｇ（0.1モル）、H2N（CH2）3Si（OC2H5）3 22.1
ｇ（0.1モル）、乾燥テトラヒドロフラン150ｇを
合成例３と同様の方法で反応させた。反応生成物
はガスクロマトグラフで分析すると であり、それへの転化率は100％であつた。 合成例 ５ CH2≡CHC6F12CH＝CH2 22.6ｇ（0.06モル）、
HSiCl3 25.9（0.19モル）、H2PtCl6・6H2Oの50％
イソプロパノール溶液0.2ｇを内容積100mlのガラ
ス製耐圧アンプルに入れ振盪しながら85℃で20時
間反応させた。反応終了後、フロン（Ｒ−113：
旭硝子社製品）30ｇを加え、過し、液から低
沸点物を留去して反応生成物を得た。反応生成物
はガスクロマトグラフイーで分析するとCl3Si
（CH2）2C6F12（CH2）2SiCl3であり、それへの転化
率は97％であつた。 合成例 ６ 合成例５の反応生成物Cl3Si（CH2）2C6F12
（CH2）2SiCl3 35ｇ（0.056モル）、メタノール15ｇ
を混合し、合成例２と同様の方法で反応させ、反
応生成物を得た。反応生成物はガスクロマトグラ
フイーで分析すると（H3CO）3Si（CH2）2C6F12
（CH2）2Si（OCH3）3であり、それへの転化率は100
％であつた。 合成例 ７ IC6F12I 22.2ｇ（0.4モル）、CH2＝
CHCH2OH92.8ｇ（1.6モル）を温度計、撹拌機、
冷却管を装着した内容積500mlの四つ口フラスコ
に入れ、乾燥窒素気流下、撹拌しながら内温を80
℃に昇温した。これにα，α′−アゾビスイソブチ
ロニトリルを30分〜１時間毎に合計10.5ｇ添加
し、反応温度80℃〜95℃で12時間反応させた。反
応生成物はガスクロマトグラフイーで分析すると
HOCH2CHICH2C6F16CH2CHICH2OHであり、
それへの転化率は90℃であつた。次にこの反応生
成物61ｇ（0.1モル）、25％NaOH水溶液35ｇ
（0.22モル）を前記と同様なフラスコに入れ、50
℃〜60℃で30時間反応させ、反応混合物をエーテ
ルにて抽出し、エーテルを留去後、減圧蒸留する
ことにより、
化合物が挙げられる。 又、ポリフルオロアルキル基含有メタクリレー
トとメタクリル酸誘導体との共重合体、例えば ポリフルオロアルキル基含有アルコールとメラ
ミン誘導体との反応物、例えば Rf（CH2）2OHと などが挙げられる。 更に、C8F17CH＝CH，CF3−Ｃ≡Ｃ−CF3，
C8F18などのプラズマ重合性化合物を用いること
ができる。 本発明の低反射率塗膜は透明基体の表面上に下
層塗膜を形成し、該塗膜上に上層薄膜を形成した
多層構造からなるが、下層塗膜の厚さは少なくと
も0.1μ、特に0.5〜5μであるのが好ましい。塗膜
の厚さ0.1μ以下では塗膜材料の分子の絡み合いが
不十分となり、塗膜強度が保持されず、該塗膜上
に形成する上層薄膜の硬度の向上は得られない。
下層塗膜の厚さは厚いほど該塗膜上に形成する上
層薄膜の硬度は向上するが、光透過性への影響、
塗布の作業性及び経済性の点から必要以上に厚く
することは好ましくなく、上限は10μまでであ
る。 下層塗膜の透明基体表面上への形成方法は特に
限定されない。シラン化合物を用いる場合は、例
えばシラン化合物をアセトン，テトラヒドロフラ
ン，低級アルコールなどの有機溶剤に溶解し、５
〜50重量％、好ましくは15〜40重量％溶液として
塗布、吹付け、浸漬など既知の方法により行なわ
れる。塗布後は室温、あるいは必要に応じて100
℃程度の温度で30分〜１時間乾燥してシラン化合
物の架橋が部分的に進行した状態の塗膜とし、そ
の上に上層薄膜材料を塗布し薄膜を形成する。シ
ラン化合物は２種以上組合せてもよく、かかる場
合は２種以上のシラン化合物を混合撹拌して反応
させた後、有機溶剤を加えて粘度を調整し、前記
と同様に塗布及び処理して塗膜を形成する。透明
性樹脂を用いる場合は、例えばエポキシ樹脂とし
て“エピコート−1001”（商品名：油化シエル化
学社製品）、メラミン樹脂として“サイメル−
325”（商品名：三井東圧化学社製品）、ウレタン
樹脂として“オレスターM75−50E”（商品名：
三井東圧化学社製品）が好適に用いられる。エポ
キシ樹脂及びメラミン樹脂は架橋剤あるいは重合
開始剤を加えて透明基体の表面に塗布して部分架
橋を進めた後、上層薄膜材料を塗布して薄膜を形
成する。ウレタン樹脂は透明基体の表面に塗布
後、空気中の水分によつて部分的に重合硬化せし
めた後、上層薄膜材料を塗布して薄膜を形成す
る。かかる下層塗膜材料に帯電防止剤あるいは高
屈折率を付与する他の成分を含有せしめることも
できる。 下層塗膜上に形成するポリフルオロ化基含有化
合物からなる上層薄膜の形成方法は、既知の塗布
方法によつて行なうことができるが、該化合物の
塗布に好適な調製法は用いる化合物によつて異な
る。 即ち、前記ポリフルオロアルキル基含有シラン
化合物、ポリフルオロアルキル基がエーテル結合
を有するシラン化合物及びかかるシラン化合物と
他のシラン化合物との混合物あるいはポリフルオ
ロアルキレン基含有シラン化合物の場合は、該化
合物又は混合物をアセトン，テトラヒドロフラ
ン，塩素系あるいはフツ素系などの有機溶剤の１
種又は２種以上の混合溶剤に希釈して１〜15重量
％溶剤溶液、好ましくは３〜10重量％溶剤溶液と
して、下層塗膜上に塗布、吹付け、浸漬など既知
の方法により塗布する。塗布後は100℃以上の温
度で20分以上キユアリングすることによつて薄膜
を形成することができる。 ポリフルオロアルキレン基含有ジエポキシ化合
物の場合は、該化合物に、ポリフルオロアルキレ
ン基含有アミン化合物、他のアミン類、アミン類
のBF3塩、カルボン酸無水物から選ばれる１種の
硬化剤を硬化反応が進行するに十分な量を加え、
室温〜150℃にて５分〜３時間反応させて部分重
合物とする。硬化剤は硬化剤自身が低屈折率物で
あるものを用いるのが好ましく、この場合使用量
を増加しても低反射性能に影響を与えることはな
い。例えば、 H2N（CH2）2（CF2）6（CH2）2NH2は10〜50重量加
えることができる。 ポリフルオロアルキル基含有メタクリレートと
メタクリル酸誘導体との共重合は該化合物の混合
物に重合開始剤を加えて加熱して共重合物とす
る。ポリフルオロアルキレン基含有アルコールと
メラミン誘導体との反応物は固形成分に対して１
重量％のＰ−トルエンスルホン酸を触媒成分とし
て加え、加熱して反応生成物を得る。かかる共重
合体あるいは反応生成物は前記の化合物と同様に
溶剤に希釈して、下層塗膜上に塗布した後、キユ
アリングすることによつて薄膜を形成することが
できる。 プラズマ重合性化合物は下層塗膜上に、プラズ
マ重合装置を使用して装置内で重合を行なうこと
によつて薄膜を形成することができる。 かかる方法によつて形成される上層薄膜の厚さ
は0.2μ以下、特に0.08〜0.2μであるのが好ましい。
0.2μより厚い場合は低反射率塗膜としての性能は
著るしく劣つたものとなる。薄膜の厚さは塗布条
件によつて変化し、例えば浸漬法ではポリフルオ
ロ化基含有化合物の有機溶剤との希釈濃度と引上
速度の関係で決定される。 ポリフルオロ化基含有化合物からなる上層薄膜
材料には無機物フイラー、例えばシリカゲル，
Li2SiF6，MgF2，NaSiF6，MgSiF6などを添加し
て薄膜の硬度を更に向上せしめることができる。
又、上層薄膜材料の使用形態は常法に従つて、溶
剤溶液，溶媒分散液，乳濁液，エアゾールなど任
意の形態に調製すること、あるいは帯電防止剤，
架橋剤など適宜添加剤を添加することができる。 本発明の低反射率塗膜を形成した透明基体の可
視光における反射率は0.6〜1.4％であり、通常の
ソーダ石灰ガラスの反射率4.2％、メタアクリル
樹脂の反射率3.9％、ポリカーボネートの反射率
4.8％に対し優れた効果が認められる。更に塗膜
の硬度は鉛筆硬度Ｂ〜＞5Hであり、ポリフルオ
ロ化基含有化合物のみの塗膜の鉛筆硬度＞2Bに
対し顕著な向上が認められる。又、透明性あるい
は透視性を損なうことはない。 本発明の低反射率塗膜の用途に特に限定される
ことなく、例えば建築物の窓，車輛の窓，ドア
ー，シヨーウインド，シヨーケース，光学機器
類，メガネ類，太陽光集光部材などのガラス又は
透明プラスチツク材料を用いることができる。 本発明の低反射率塗膜の評価方法は次の通りで
ある。即ち、自記分光光度計反射光測定付属装置
（323型：日立製作所製）を使用して波長540ｍμ
の入射角5゜における反射率を測定することにより
行ない、塗膜の厚さは透明基体上に形成された膜
厚（下層塗膜と上層薄膜の合計）を“タリステツ
プ”（Rank Taylor Hobson社製）を使用して針
圧を測定することにより行ない、更に塗膜の硬度
は鉛筆引かき試験機（JIS−K5401）を使用して
鉛筆硬度を測定することにより行なつた。 以下に、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例のみに限定される
ものではない。 合成例 １ RfCH＝CH2（但し、Rf：CoF2o+1，ｎ：６，８，
10，12の混合物で平均値9.0）49.6ｇ（0.1モル）、
HSiCl3 15.9ｇ（0.12モル）、H2PtCl6・6H2Oの50
％イソプロパノール溶液0.2ｇを内容積100mlのガ
ラス製耐圧アンプルに入れ、振盪しながら85℃で
20時間反応させた。反応終了後、減圧蒸留をする
ことにより反応生成物を得た。反応生成物はガス
クロマトグラフイーで分析するとRf（CH2）2SiCl3
（b.P.85℃〜100℃／３〜５mmＨｇ）であり、それ
への転化率は95％であつた。 合成例 ２ 合成例１の反応生成物Rf（CH2）2SiCl3 50.3ｇ
（0.08モル）、メタノール15ｇを混合し、乾燥窒素
をバブリングして生成するHClを除去しながら反
応させた。この反応の終点は生成したHClを定量
して確認した。反応終了後、過剰のメタノールを
留去して反応生成物を得た。反応生成物はガスク
ロマトグラフイーで分析するとRf（CH2）2Si
（OCH3）3であり、それへの転化率は100％であつ
た。 合成例 ３ RfCOOCH（CH3）2（但し、Rf：CoF2o+1，ｎ：
６，８，10，12の混合物で平均値9.0）111.2ｇ
（0.2モル）、H2N（CH2）3Si（OC2H5）3 44.2ｇ（0.2
モル）、乾燥テトラヒドロフラン150ｇを温度計、
撹拌機、冷却管を装着した内容積300mlの四つ口
フラスコに入れ、乾燥窒素気流下にゆつくり撹拌
しながら還流温度（約80℃）で５時間反応させ
た。テトラヒドロフランを留去し反応生成物を得
た。反応生成物はガスクロマトグラフイーで分析
するとRfCONH（CH2）3Si（OC2H5）3であり、それ
への転化率は100℃であつた。 合成例 ４ 69.0ｇ（0.1モル）、H2N（CH2）3Si（OC2H5）3 22.1
ｇ（0.1モル）、乾燥テトラヒドロフラン150ｇを
合成例３と同様の方法で反応させた。反応生成物
はガスクロマトグラフで分析すると であり、それへの転化率は100％であつた。 合成例 ５ CH2≡CHC6F12CH＝CH2 22.6ｇ（0.06モル）、
HSiCl3 25.9（0.19モル）、H2PtCl6・6H2Oの50％
イソプロパノール溶液0.2ｇを内容積100mlのガラ
ス製耐圧アンプルに入れ振盪しながら85℃で20時
間反応させた。反応終了後、フロン（Ｒ−113：
旭硝子社製品）30ｇを加え、過し、液から低
沸点物を留去して反応生成物を得た。反応生成物
はガスクロマトグラフイーで分析するとCl3Si
（CH2）2C6F12（CH2）2SiCl3であり、それへの転化
率は97％であつた。 合成例 ６ 合成例５の反応生成物Cl3Si（CH2）2C6F12
（CH2）2SiCl3 35ｇ（0.056モル）、メタノール15ｇ
を混合し、合成例２と同様の方法で反応させ、反
応生成物を得た。反応生成物はガスクロマトグラ
フイーで分析すると（H3CO）3Si（CH2）2C6F12
（CH2）2Si（OCH3）3であり、それへの転化率は100
％であつた。 合成例 ７ IC6F12I 22.2ｇ（0.4モル）、CH2＝
CHCH2OH92.8ｇ（1.6モル）を温度計、撹拌機、
冷却管を装着した内容積500mlの四つ口フラスコ
に入れ、乾燥窒素気流下、撹拌しながら内温を80
℃に昇温した。これにα，α′−アゾビスイソブチ
ロニトリルを30分〜１時間毎に合計10.5ｇ添加
し、反応温度80℃〜95℃で12時間反応させた。反
応生成物はガスクロマトグラフイーで分析すると
HOCH2CHICH2C6F16CH2CHICH2OHであり、
それへの転化率は90℃であつた。次にこの反応生
成物61ｇ（0.1モル）、25％NaOH水溶液35ｇ
（0.22モル）を前記と同様なフラスコに入れ、50
℃〜60℃で30時間反応させ、反応混合物をエーテ
ルにて抽出し、エーテルを留去後、減圧蒸留する
ことにより、
【式】（b.p.125℃
〜129℃／３〜５mmＨｇ）を得た。
合成例 ８
【式】（但し、Rf：CoF2o+1，
ｎ：６，８，10，12の混合物で平均値9.0）10ｇ、
【式】 2.5ｇα，α′−
アゾビスイソブチロニトリル0.3ｇ、フロン（Ｒ
−113：旭硝子社製品）50ｇを100mlのガラス製耐
圧アンプルに入れ65℃で15時間反応して共重合体
を得た。 合成例 ９
−113：旭硝子社製品）50ｇを100mlのガラス製耐
圧アンプルに入れ65℃で15時間反応して共重合体
を得た。 合成例 ９
【式】（但し、Rf：Co
F2o+1，ｎ：６，８，10，12の混合物で平均値
9.0）10ｇ、
9.0）10ｇ、
【式】 25ｇ、α，α′−
アゾビスイソブチロニトリル0.3ｇ、フロン（Ｒ
−113，旭硝子社製品）30ｇ、テトラヒドロフラ
ン20ｇを100mlのガラス製耐圧アンプルに入れ65
℃で15時間反応して共重合体を得た。 合成例 10 13ｇ（0.33モル）、RfC2H4OH（但し、Rf：Co
F2o+1，ｎ：６，８，10，12の混合物で平均値
9.0）34.3ｇ（0.67モル）を100mlの三つ口フラス
コに入れ、120℃に加熱し、生成するメタノール
を留去しながら22時間反応させて、RfC2H4OHと
の反応物及びメラミンが部分的に縮合した混合物
を得た。 合成例 11
−113，旭硝子社製品）30ｇ、テトラヒドロフラ
ン20ｇを100mlのガラス製耐圧アンプルに入れ65
℃で15時間反応して共重合体を得た。 合成例 10 13ｇ（0.33モル）、RfC2H4OH（但し、Rf：Co
F2o+1，ｎ：６，８，10，12の混合物で平均値
9.0）34.3ｇ（0.67モル）を100mlの三つ口フラス
コに入れ、120℃に加熱し、生成するメタノール
を留去しながら22時間反応させて、RfC2H4OHと
の反応物及びメラミンが部分的に縮合した混合物
を得た。 合成例 11
【式】83.4ｇ、
H2N（CH2）2NH（CH2）3Si（OCH3）3 66.6ｇを温度
計、撹拌機、冷却管を装着した内容積500mlの四
つ口フラスコに入れ、80℃で２時間反応応させた
後、室温に冷却し、テトラヒドロフラン170ｇを
加えて、粘度6.7cpのシラン化合物溶液を調製し
た。 合成例 12
計、撹拌機、冷却管を装着した内容積500mlの四
つ口フラスコに入れ、80℃で２時間反応応させた
後、室温に冷却し、テトラヒドロフラン170ｇを
加えて、粘度6.7cpのシラン化合物溶液を調製し
た。 合成例 12
【式】 139ｇ、
0.1N−HCl27ｇを撹拌機を装着した内容積500ml
の四つ口フラスコに入れ、室温で48時間反応させ
た後、シリカゾルのメタノール30％溶液150ｇ、
メタノール51ｇを加えて、粘度3.5cpのシラン化
合物溶液を調製した。 実施例 １ 合成例２の反応生成物Rf（CH2）2Si（OCH3）3 25
ｇをフロン（Ｒ−113：旭硝子社製品）：アセトン
＝３：１重量比の混合溶媒で希釈して500ｇとし
たポリフルオロ化基含有化合物の溶液を調製し
た。別に洗剤で洗浄し、２％フツ酸溶液に浸漬し
て水洗後、乾燥したガラス板（ソーダ石灰ガラス
５×５cm）を用意し、合成例11のシラン化合物溶
液に浸漬し、引上速度9.0cm／分で引上げた後、
室温で30分乾燥した。次に、先きに調製したポリ
フルオロ化基含有化合物溶液に浸漬し、引上速度
4.5cm／分で引上げた後、160℃でキユアリングし
た。処理後のガラス表面に形成された塗膜の厚さ
は2.1μ、塗膜の鉛筆硬度はＢ、反射率は0.6％で
あつた。 実施例 ２〜４ 実施例１のポリフルオロ化基含有化合物を合成
例１の反応生成物Rf（CH2）2SiCl3、合成例３の反
応生成物RfCONH（CH2）3Si（OC2H5）3、及び合成
例４の反応生成物 に変えた他は実施例１と同様の方法でガラス板に
処理し、塗膜の厚さ、鉛筆硬度及び反射率を測定
した。 測定結果を第１表に示した。
の四つ口フラスコに入れ、室温で48時間反応させ
た後、シリカゾルのメタノール30％溶液150ｇ、
メタノール51ｇを加えて、粘度3.5cpのシラン化
合物溶液を調製した。 実施例 １ 合成例２の反応生成物Rf（CH2）2Si（OCH3）3 25
ｇをフロン（Ｒ−113：旭硝子社製品）：アセトン
＝３：１重量比の混合溶媒で希釈して500ｇとし
たポリフルオロ化基含有化合物の溶液を調製し
た。別に洗剤で洗浄し、２％フツ酸溶液に浸漬し
て水洗後、乾燥したガラス板（ソーダ石灰ガラス
５×５cm）を用意し、合成例11のシラン化合物溶
液に浸漬し、引上速度9.0cm／分で引上げた後、
室温で30分乾燥した。次に、先きに調製したポリ
フルオロ化基含有化合物溶液に浸漬し、引上速度
4.5cm／分で引上げた後、160℃でキユアリングし
た。処理後のガラス表面に形成された塗膜の厚さ
は2.1μ、塗膜の鉛筆硬度はＢ、反射率は0.6％で
あつた。 実施例 ２〜４ 実施例１のポリフルオロ化基含有化合物を合成
例１の反応生成物Rf（CH2）2SiCl3、合成例３の反
応生成物RfCONH（CH2）3Si（OC2H5）3、及び合成
例４の反応生成物 に変えた他は実施例１と同様の方法でガラス板に
処理し、塗膜の厚さ、鉛筆硬度及び反射率を測定
した。 測定結果を第１表に示した。
【表】
実施例 ５
合成例６の反応生成物（H3CO）3Si
（CH2）2C6F12（CH2）2Si（OCH3）3 21.2ｇ、アセト
ン150ｇ、フロン（Ｒ−113旭硝子社製品）128ｇ、
１％酢酸水溶液0.6ｇを室温で12時間撹拌してポ
リフルオロ化基含有化合物溶液を調製した。別に
実施例１と同様の方法でシラン化合物を処理した
ガラス板を用意し、あらかじめ調製した前記溶液
に浸漬し、実施例１と同様の方法でガラス板に処
理した。処理後のガラス表面に形成された塗膜の
厚さは1.6μ、鉛筆硬度は5H、反射率は1.3％であ
つた。 実施例 ６ 合成例５の反応生成物Cl3Si（CH2）2C6F12
（CH2）2SiCl3を用いた他の実施例５と同様の方法
で処理した後、塗膜の厚さ、鉛筆硬度及び反射率
を測定した。 測定結果を第２表に示した。 実施例 ７ 合成例６の反応生成物（H3CO）3Si（CH2）
C6F12（CH2）2Si（OCH3）3 17.0ｇ、Rf（CH2）2Si
（OCH3）3 3.4ｇ（但し、RfはCoF2o+1，ｎは６，
８，10，12の混合物で平均値9.0）、アセトン15.0
ｇ、フロン（Ｒ−113：旭硝子社製品）129ｇ、１
％酢酸水溶液0.6ｇを室温で12時間撹拌してポリ
フルオロ化基含有化合物溶液を調製した。この溶
液を実施例５と同様の方法で処理した後、塗膜の
厚さ、鉛筆硬度及び反射率を測定した。 結果を第２表に示した。 実施例 ８ 合成例６の反応生成物（H3CO）3Si
（CH2）2C6F12（CH2）2Si（OCH3）3 19.0ｇ、
（CH2）2C6F12（CH2）2Si（OCH3）3 21.2ｇ、アセト
ン150ｇ、フロン（Ｒ−113旭硝子社製品）128ｇ、
１％酢酸水溶液0.6ｇを室温で12時間撹拌してポ
リフルオロ化基含有化合物溶液を調製した。別に
実施例１と同様の方法でシラン化合物を処理した
ガラス板を用意し、あらかじめ調製した前記溶液
に浸漬し、実施例１と同様の方法でガラス板に処
理した。処理後のガラス表面に形成された塗膜の
厚さは1.6μ、鉛筆硬度は5H、反射率は1.3％であ
つた。 実施例 ６ 合成例５の反応生成物Cl3Si（CH2）2C6F12
（CH2）2SiCl3を用いた他の実施例５と同様の方法
で処理した後、塗膜の厚さ、鉛筆硬度及び反射率
を測定した。 測定結果を第２表に示した。 実施例 ７ 合成例６の反応生成物（H3CO）3Si（CH2）
C6F12（CH2）2Si（OCH3）3 17.0ｇ、Rf（CH2）2Si
（OCH3）3 3.4ｇ（但し、RfはCoF2o+1，ｎは６，
８，10，12の混合物で平均値9.0）、アセトン15.0
ｇ、フロン（Ｒ−113：旭硝子社製品）129ｇ、１
％酢酸水溶液0.6ｇを室温で12時間撹拌してポリ
フルオロ化基含有化合物溶液を調製した。この溶
液を実施例５と同様の方法で処理した後、塗膜の
厚さ、鉛筆硬度及び反射率を測定した。 結果を第２表に示した。 実施例 ８ 合成例６の反応生成物（H3CO）3Si
（CH2）2C6F12（CH2）2Si（OCH3）3 19.0ｇ、
【式】 2.5ｇ、
アセトン150ｇ、フロン（Ｒ−113：旭硝子社製
品）128ｇ、１％酢酸水溶液0.75ｇを実施例７と
同様の方法で撹拌してポリフルオロ化基含有化合
物を調製した。この溶液を実施例５と同様の方法
で処理した後、塗膜の厚さ、鉛筆硬度及び反射率
を測定した。 測定結果を第２表に示した。
品）128ｇ、１％酢酸水溶液0.75ｇを実施例７と
同様の方法で撹拌してポリフルオロ化基含有化合
物を調製した。この溶液を実施例５と同様の方法
で処理した後、塗膜の厚さ、鉛筆硬度及び反射率
を測定した。 測定結果を第２表に示した。
【表】
実施例 ９
合成例７の反応生成物
【式】 12.06ｇ、
H2N（CH2）2C4F8（CH2）2NH2 4.2ｇを120℃で３
時間反応後、アセトン：フロン（Ｒ：113：旭硝
子社製品）＝206ｇ：103ｇの混合溶媒で希釈しポ
リフルオロ化基含有化合物の溶液を調製した。別
に実施例１と同様の方法でシラン化合物を処理し
たガラス板を用意し、あらかじめ調製した前記溶
液に浸漬し、引上速度8.8cm／分で引上後、160℃
でキユアリングした。処理後のガラス表面に形成
された塗膜の厚さは21μ、塗膜の鉛筆硬度は3H、
反射率は1.4％であつた。 実施例 10〜12 合成例８，９の共重合体及び合成例10の混合物
それぞれに対し、１％のｐ−トルエンスルホン酸
を加え、それぞれをフロン（Ｒ−113：旭硝子社
製品）：アセトン＝３：１重量比の混合溶媒で希
釈して５％溶液を調製した。別に実施例１と同様
の方法でシラン化合物を処理したガラス板を用意
し、あらかじめ調製した前記溶液に浸漬し、実施
例１と同様の方法で処理した後、塗膜の厚さ、鉛
筆硬度及び反射率を測定した。 測定結果を第３表に示した。
時間反応後、アセトン：フロン（Ｒ：113：旭硝
子社製品）＝206ｇ：103ｇの混合溶媒で希釈しポ
リフルオロ化基含有化合物の溶液を調製した。別
に実施例１と同様の方法でシラン化合物を処理し
たガラス板を用意し、あらかじめ調製した前記溶
液に浸漬し、引上速度8.8cm／分で引上後、160℃
でキユアリングした。処理後のガラス表面に形成
された塗膜の厚さは21μ、塗膜の鉛筆硬度は3H、
反射率は1.4％であつた。 実施例 10〜12 合成例８，９の共重合体及び合成例10の混合物
それぞれに対し、１％のｐ−トルエンスルホン酸
を加え、それぞれをフロン（Ｒ−113：旭硝子社
製品）：アセトン＝３：１重量比の混合溶媒で希
釈して５％溶液を調製した。別に実施例１と同様
の方法でシラン化合物を処理したガラス板を用意
し、あらかじめ調製した前記溶液に浸漬し、実施
例１と同様の方法で処理した後、塗膜の厚さ、鉛
筆硬度及び反射率を測定した。 測定結果を第３表に示した。
【表】
実施例 13〜15
実施例１と同様の方法でシラン化合物を処理し
たガラス板を用意し、CF3−Ｃ≡Ｃ−CF3、
C8F17CH＝CH、C8F18をそれぞれアルゴンで希
釈した気体により表面にプラズマ重合薄膜を作成
し、塗膜の厚さ、鉛筆硬度及び反射率を測定し
た。 測定結果を第４表に示した。
たガラス板を用意し、CF3−Ｃ≡Ｃ−CF3、
C8F17CH＝CH、C8F18をそれぞれアルゴンで希
釈した気体により表面にプラズマ重合薄膜を作成
し、塗膜の厚さ、鉛筆硬度及び反射率を測定し
た。 測定結果を第４表に示した。
【表】
実施例 16〜25
実施例１〜６、及び９〜12におけるガラス板に
処理したシラン化合物を合成例12のシラン化合物
に変え、浸漬、引上後100℃で10分間乾燥した他
は実施例１〜６及び９〜12と同様の方法で処理し
た後、塗膜の厚さ、鉛筆硬度及び反射率を測定し
た。 測定結果を第５表に示した。
処理したシラン化合物を合成例12のシラン化合物
に変え、浸漬、引上後100℃で10分間乾燥した他
は実施例１〜６及び９〜12と同様の方法で処理し
た後、塗膜の厚さ、鉛筆硬度及び反射率を測定し
た。 測定結果を第５表に示した。
【表】
実施例 26〜30
実施例５におけるガラス板に処理したシラン化
合物を第６表のシラン化合物に変え、それぞれ75
ｇをテトラヒドロフランに希釈して500ｇとして
溶液を用いた他は実施例５と同様の方法で処理し
た後、塗膜の厚さ、鉛筆硬度、及び反射率を測定
した。 測定結果を第６表に示した。
合物を第６表のシラン化合物に変え、それぞれ75
ｇをテトラヒドロフランに希釈して500ｇとして
溶液を用いた他は実施例５と同様の方法で処理し
た後、塗膜の厚さ、鉛筆硬度、及び反射率を測定
した。 測定結果を第６表に示した。
【表】
実施例 31〜32
実施例１におけるガラス板に処理したシラン化
合物をエポキシ樹脂“エピコート−1001”（商品
名：油化シエル社製品）：トリエチレンテトラミ
ン＝90：10（重量比）、メラミン樹脂“サイメル−
325”（商品名：三井東圧化学社製品）：“キヤタリ
スト6000”（商品名：三井東圧化学社製品）＝99：
１（重量比）を100℃にて10分間加熱した部分重合
体75ｇをテトラヒドロフランに希釈して500ｇと
した溶液に変えた他は実施例５と同様の方法で処
理した後、塗膜の厚さ、鉛筆硬度及び反射率を測
定した。 測定結果を第７表に示した。 実施例 33 実施例５におけるガラス板に処理したシラン化
合物をウレタン樹脂“オレスターM75−50E”
（商品名：三井東圧化学製品）75ｇをテトラヒド
ロフランに希釈して500ｇとした溶液に変えた他
は実施例５と同様の方法で処理した後、塗膜の厚
さ、鉛筆硬度及び反射率を測定した。 測定結果を第７表に示した。
合物をエポキシ樹脂“エピコート−1001”（商品
名：油化シエル社製品）：トリエチレンテトラミ
ン＝90：10（重量比）、メラミン樹脂“サイメル−
325”（商品名：三井東圧化学社製品）：“キヤタリ
スト6000”（商品名：三井東圧化学社製品）＝99：
１（重量比）を100℃にて10分間加熱した部分重合
体75ｇをテトラヒドロフランに希釈して500ｇと
した溶液に変えた他は実施例５と同様の方法で処
理した後、塗膜の厚さ、鉛筆硬度及び反射率を測
定した。 測定結果を第７表に示した。 実施例 33 実施例５におけるガラス板に処理したシラン化
合物をウレタン樹脂“オレスターM75−50E”
（商品名：三井東圧化学製品）75ｇをテトラヒド
ロフランに希釈して500ｇとした溶液に変えた他
は実施例５と同様の方法で処理した後、塗膜の厚
さ、鉛筆硬度及び反射率を測定した。 測定結果を第７表に示した。
【表】
実施例 34〜46
実施例における透明基体のガラス板をポリカー
ボネート板（旭硝子社製品）に変え、キユアリン
グ温度を100℃とした他は実施例１〜６，９〜10，
13，21，26，27及び31と同様の方法で処理した
後、塗膜の厚さ、鉛筆硬度及び反射率を測定し
た。 測定結果を第８表に示した。
ボネート板（旭硝子社製品）に変え、キユアリン
グ温度を100℃とした他は実施例１〜６，９〜10，
13，21，26，27及び31と同様の方法で処理した
後、塗膜の厚さ、鉛筆硬度及び反射率を測定し
た。 測定結果を第８表に示した。
【表】
実施例 47〜60
実施例における透明基体のガラス板をポリメチ
ルメタクリレート板（三菱レイヨン社製品）又は
ポリスチレン板（ダウケミカル社製ペレツトを板
に成形）に、キユアリング温度を100℃に変えた
他は実施例１，５，９，10，13，21及び31と同様
の方法で処理した後、塗膜の厚さ、鉛筆硬度及び
反射率を測定した。 測定結果を第９表に示した。 比較例 １〜12 実施例に使用したと同様のガラス板、ポリカー
ボネート板、ポリメチルメタクリレート板、ポリ
スチレン板の反射率の測定結果を第10表に示し
た。 実施例１，10，13及び34において、シラン化合
物の処理を行なわない他は同様の方法で処理した
後（ポリフルオロ化基化合物の薄膜のみ）の、塗
膜の厚さ、鉛筆硬度及び反射率の測定結果を第10
表に示した。 実施例１，16，26及び31において、ポリフルオ
ロ化基化合物の薄膜形成処理を行なわない他は同
様の方法で処理した後（下層塗膜のみ）の塗膜の
厚さ、鉛筆硬度及び反射率の測定結果を第10表に
示した。
ルメタクリレート板（三菱レイヨン社製品）又は
ポリスチレン板（ダウケミカル社製ペレツトを板
に成形）に、キユアリング温度を100℃に変えた
他は実施例１，５，９，10，13，21及び31と同様
の方法で処理した後、塗膜の厚さ、鉛筆硬度及び
反射率を測定した。 測定結果を第９表に示した。 比較例 １〜12 実施例に使用したと同様のガラス板、ポリカー
ボネート板、ポリメチルメタクリレート板、ポリ
スチレン板の反射率の測定結果を第10表に示し
た。 実施例１，10，13及び34において、シラン化合
物の処理を行なわない他は同様の方法で処理した
後（ポリフルオロ化基化合物の薄膜のみ）の、塗
膜の厚さ、鉛筆硬度及び反射率の測定結果を第10
表に示した。 実施例１，16，26及び31において、ポリフルオ
ロ化基化合物の薄膜形成処理を行なわない他は同
様の方法で処理した後（下層塗膜のみ）の塗膜の
厚さ、鉛筆硬度及び反射率の測定結果を第10表に
示した。
【表】
【表】
【表】
比較例 13〜16
実施例１において、ガラス板にシラン化合物を
刷毛で塗膜厚さが10μ以上になるように塗布、塗
膜を形成し、該塗膜上にポリフルオロ化基含有化
合物の調製液を流延して、160℃でキユアリング
した後、形成された塗膜の厚さ、塗膜の鉛筆硬度
及び反射率を測定した。 又、実施例１，５及び34において、ガラス板又
はポリカーボネート板にシラン化合物の処理を行
なわず、直接ポリフルオロ化基化合物の調製液を
厚さ0.5以上になるように流延して、ガラス板は
160℃、ポリカーボネート板は100℃でキユアリン
グした後、形成された塗膜の厚さ、塗膜の鉛筆硬
度及び反射率を測定した。 測定結果を第11表に示した。
刷毛で塗膜厚さが10μ以上になるように塗布、塗
膜を形成し、該塗膜上にポリフルオロ化基含有化
合物の調製液を流延して、160℃でキユアリング
した後、形成された塗膜の厚さ、塗膜の鉛筆硬度
及び反射率を測定した。 又、実施例１，５及び34において、ガラス板又
はポリカーボネート板にシラン化合物の処理を行
なわず、直接ポリフルオロ化基化合物の調製液を
厚さ0.5以上になるように流延して、ガラス板は
160℃、ポリカーボネート板は100℃でキユアリン
グした後、形成された塗膜の厚さ、塗膜の鉛筆硬
度及び反射率を測定した。 測定結果を第11表に示した。
【表】
Claims (1)
- １ 透明基体の表面に処理する低反射率塗膜にお
いて、透明基体と同程度以上の屈折率を有するシ
ラン化合物又は透明性樹脂からなり、透明基体上
に形成する塗膜と、該塗膜上に形成し、前記シラ
ン化合物又は透明性樹脂と反応する反応性基を有
するポリフルオロ化基含有化合物からなる0.2μ以
下の薄膜とからなることを特徴とする多層構造の
低反射率塗膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57225787A JPS59115840A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | 低反射率塗膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57225787A JPS59115840A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | 低反射率塗膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59115840A JPS59115840A (ja) | 1984-07-04 |
| JPH0330492B2 true JPH0330492B2 (ja) | 1991-04-30 |
Family
ID=16834767
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57225787A Granted JPS59115840A (ja) | 1982-12-24 | 1982-12-24 | 低反射率塗膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59115840A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0745586B2 (ja) * | 1986-11-28 | 1995-05-17 | 旭硝子株式会社 | 撥水撥油性プラスチック成形体の製造方法 |
| JPS63228101A (ja) * | 1987-03-17 | 1988-09-22 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 防汚性を有する帯電防止無反射板 |
| JPH0781024B2 (ja) * | 1989-03-22 | 1995-08-30 | 旭硝子株式会社 | 撥水性．防汚性を有する透明基材およびそれを装着した構造物 |
| US4983459A (en) * | 1990-04-03 | 1991-01-08 | Ppg Industries, Inc. | Chemically reacted glass surface |
| US5328768A (en) * | 1990-04-03 | 1994-07-12 | Ppg Industries, Inc. | Durable water repellant glass surface |
| US5851674A (en) * | 1997-07-30 | 1998-12-22 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
| US6277485B1 (en) | 1998-01-27 | 2001-08-21 | 3M Innovative Properties Company | Antisoiling coatings for antireflective surfaces and methods of preparation |
| KR100901544B1 (ko) * | 2005-03-02 | 2009-06-08 | 파나소닉 전공 주식회사 | 코팅재 조성물 및 도장품 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5698166A (en) * | 1979-12-29 | 1981-08-07 | Nitto Electric Ind Co | Complex of polytetrafluoroethylene and glass |
-
1982
- 1982-12-24 JP JP57225787A patent/JPS59115840A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59115840A (ja) | 1984-07-04 |
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