JPH08313842A - 照明光学系および該光学系を備えた露光装置 - Google Patents

照明光学系および該光学系を備えた露光装置

Info

Publication number
JPH08313842A
JPH08313842A JP7139936A JP13993695A JPH08313842A JP H08313842 A JPH08313842 A JP H08313842A JP 7139936 A JP7139936 A JP 7139936A JP 13993695 A JP13993695 A JP 13993695A JP H08313842 A JPH08313842 A JP H08313842A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical system
light source
light
illumination
exposure apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7139936A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenichi Yamamuro
研一 山室
Kazuya Okamoto
和也 岡本
Yutaka Iwasaki
豊 岩崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP7139936A priority Critical patent/JPH08313842A/ja
Publication of JPH08313842A publication Critical patent/JPH08313842A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70066—Size and form of the illuminated area in the mask plane, e.g. reticle masking blades or blinds
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10—Processes of additive manufacturing
    • B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
    • B29C64/124—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
    • B29C64/129—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 被照射面上において均一な照度分布を得るこ
とのできる、コンパクトで軽量な照明光学系および該光
学系を備えた露光装置を提供すること。 【構成】 所定の物体面をほぼ均一に照明する照明光学
系において、ほぼ平行な照明光束を供給するための光源
手段と、互いに独立に向きを変化させることのできる多
数の微小反射面を有し、該多数の微小反射面の各々によ
り前記光源手段からの照明光束を反射して偏向するため
の光偏向手段と、前記光偏向手段で反射された照明光束
に基づいて複数の光源像を形成するための多光源像形成
手段と、前記多光源像形成手段からの光束を集光して前
記物体面上を重畳的に照明するコンデンサ光学系と、を
備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は照明光学系および該光学
系を備えた露光装置に関し、特に半導体素子または液晶
表示素子等を製造するための露光装置において転写用の
パターンが形成されたマスクやレチクル等を均一な照度
で照明するための照明光学系に関する。
【０００２】
【従来の技術】高集積半導体素子等を製造するための露
光装置に使用される照明光学系では、被照明物体面上に
おける優れた照度均一性が要求される。このため、従来
のこの種の照明光学系では、オプティカルインテグレー
タのような多光源像形成手段を介して被照射面を重畳的
に照明する構成が採用されている。
【０００３】図５は、従来の露光装置の構成を概略的に
示す図である。図示の装置は、たとえば照明光を供給す
るための光源５１を備えている。光源５１から射出され
た照明光束は、楕円鏡５２を介して一旦集光された後、
ミラー５４に入射する。ミラー５４によって図中右側に
反射された照明光は、コリメートレンズ５５によって平
行光束に変換された後、オプティカルインテグレータと
してのフライアイレンズ５７に入射する。
【０００４】フライアイレンズ５７を通過した照明光
は、ミラー５８およびコンデンサレンズ５９を介した
後、パターンが形成されたレチクル（すなわちマスク）
６０を重畳的に照明する。マスク６０を透過した光は、
投影光学系６１を介して感光基板であるウエハ６２に達
する。こうして、ウエハ６２上には、レチクル６０のパ
ターン像が形成される。なお、光源５１とミラー５４と
の間の光路中にはシャッター５３が設けられている。ま
た、コリメートレンズ５５とフライアイレンズ５７との
間の平行光路中には、レチクルブラインド５６が設けら
れている。
【０００５】図６は、従来の露光装置におけるシャッタ
ーの構成を概略的に示す斜視図である。図６に示すよう
に、従来のシャッターは機械羽根回転方式であり、シャ
ッター基板６７と、モーター６８の出力軸に連結された
回転羽根６６とを備えている。シャッター基板６７に
は、光源５１からの照明光６５を通過させてミラー５４
に導くための開口部６９が形成されている。この開口部
６９は、モーター６８に駆動された回転羽根６６の回転
により随時遮蔽されるようになっている。そして、開口
部６９が回転羽根６６により遮蔽された状態では、光源
５１からの照明光６５は回転羽根６６で反射され、たと
えばアライメント光学系のような他の適当な光学系に導
かれる。
【０００６】一方、図７は、従来の露光装置におけるレ
チクルブラインドの構成を概略的に示す図である。な
お、図７は、図５の光軸ＡＸに垂直な面におけるレチク
ルブラインドの構成を示している。図７に示すように、
従来のレチクルブラインドは一対のＬ字型ブラインド羽
根７１および７２を備えている。ブラインド羽根７１
は、駆動モータ７３によって図中水平方向に駆動モータ
７４によって鉛直方向にそれぞれガイドレール（不図
示）に沿ってスライド駆動される。
【０００７】また、ブラインド羽根７２は、駆動モータ
７５によって図中水平方向に駆動モータ７６によって鉛
直方向にそれぞれガイドレール（不図示）に沿ってスラ
イド駆動される。こうして、一対のＬ字型ブラインド羽
根７１および７２によって形成される開口部７７を、所
望の矩形状にすることができる。このように、レチクル
ブラインド５６は開口部が可変の視野絞りであって、そ
の開口部の形状を適宜変化させることによってレチクル
６０上において所望形状の照明領域を得ることができ
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような従来の露光装置の照明光学系では、シャッター５
３、ミラー５４およびレチクルブラインド５６の各部品
がそれぞれ別体に構成されている。したがって、光学系
全体として部品点数が多く、コストダウンが困難であっ
た。また、多くの部品点数分のスペースが必要となり、
装置のコンパクト化および軽量化が困難であった。しか
も、光学系の組立時において、シャッター５３、ミラー
５４およびレチクルブラインド５６の各部品の位置決め
調整が難しく、被照射面であるレチクル６０やウエハ６
２上において均一な照度分布を得ることが困難であっ
た。
【０００９】露光装置の照明光学系では、最近の超ＬＳ
Ｉの一層の高集積度化に伴って、照明の均一性には一段
と厳しい仕様が要求されるようになっている。しかしな
がら、上述の構成を有する照明光学系では、たとえば光
源のシフトに起因して照明の均一性が時間の経過ととも
に変化する、いわゆる照明の均一性の経時的変化が発生
する。また、フライアイレンズ等に起因して照明の均一
性が時間の経過とは無関係に損なわれるという、いわゆ
る照明の固定的不均一性が存在する。従来の照明光学系
では、上述のような照明の均一性の経時的変化および照
明の固定的不均一性を補正する手段を備えていなかっ
た。
【００１０】本発明は、前述の課題に鑑みてなされたも
のであり、被照射面上において均一な照度分布を得るこ
とのできる、コンパクトで軽量な照明光学系および該光
学系を備えた露光装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、第１の発明においては、所定の物体面をほぼ均一に
照明する照明光学系において、ほぼ平行な照明光束を供
給するための光源手段と、互いに独立に向きを変化させ
ることのできる多数の微小反射面を有し、該多数の微小
反射面の各々により前記光源手段からの照明光束を反射
して偏向するための光偏向手段と、前記光偏向手段で反
射された照明光束に基づいて複数の光源像を形成するた
めの多光源像形成手段と、前記多光源像形成手段からの
光束を集光して前記物体面上を重畳的に照明するコンデ
ンサ光学系と、を備えていることを特徴とする照明光学
系を提供する。
【００１２】第１の発明の好ましい態様によれば、前記
物体面上の照度分布を検出するための検出手段と、前記
物体面上の照度分布がほぼ均一になるように、前記検出
手段の出力に基づいて前記光偏向手段の多数の微小反射
面の各々の向きを制御するための制御手段と、をさらに
備えている。
【００１３】また、前記課題を解決するために、第２の
発明においては、所定のパターンが形成されたマスクを
照明するための照明光学系と、前記マスクのパターンの
像を感光基板上に形成するための投影光学系とを備えた
露光装置において、前記照明光学系は、ほぼ平行な照明
光束を供給するための光源手段と、互いに独立に向きを
変化させることのできる多数の微小反射面を有し、該多
数の微小反射面の各々により前記光源手段からの照明光
束を反射して偏向するための光偏向手段と、前記光偏向
手段で反射された照明光束に基づいて複数の光源像を形
成するための多光源像形成手段と、前記多光源像形成手
段からの光束を集光して前記物体面上を重畳的に照明す
るコンデンサ光学系と、を備えていることを特徴とする
露光装置を提供する。
【００１４】第２の発明の好ましい態様によれば、前記
感光基板上の照度分布を検出するための検出手段と、前
記感光基板上の照度分布がほぼ均一になるように、前記
検出手段の出力に基づいて前記光偏向手段の多数の微小
反射面の各々の向きを制御するための制御手段と、をさ
らに備えている。
【００１５】
【作用】本発明では、互いに独立に向きを変化させるこ
とのできる多数の微小反射面を有する光偏向手段を備
え、この多数の微小反射面の各々により光源手段からの
照明光を反射して偏向する。このような光偏向手段とし
て、例えばＤＭＤ（Digital Micromirror Deviceまたは
Deformable Micromirror Device）を使用することがで
きる
【００１６】ＤＭＤは、近年新たに提案されているマイ
クロディバイスである。たとえばソリッド ステイト
テクノロジ（Solid State Technology）の１９９４年７
月号の第６３頁乃至第６８頁、エス アイ ディー（SI
D)１９９３年ダイジェスト版の第１０１２頁乃至第１０
１５頁、エス ピー アイ イー クリティカル レヴ
ューズ シリーズ（SPIE Critical Reviews Series）第
１１５０巻の第８６頁乃至第１０２頁等に開示されてい
るように、ＤＭＤは碁盤の目状に配列された多数のマイ
クロミラー（微小反射ミラー）からなる。
【００１７】このように、ＤＭＤは微小なマイクロミラ
ーを集積化したものであり、各マイクロミラー毎に設け
られた電極とマイクロミラーとの間の静電引力によって
マイクロミラーの角度（すなわち向き）が変化する。す
なわち、各マイクロミラーの向きは、それぞれ個別に駆
動制御されるように構成されている。ちなみに、各マイ
クロミラーはたとえば約２０μｍ×２０μｍの正方形状
であり、１つのＤＭＤはたとえば数十万乃至数百万個の
マイクロミラーからなっている。
【００１８】本発明において、ＤＭＤの各マイクロミラ
ーは、光源からの照明光を反射してフライアイレンズの
ような多光源像形成手段に導くＯＮ状態と、照明光を反
射してフライアイレンズには入射させないＯＦＦ状態と
の間で、それぞれ個別に駆動制御される。したがって、
ＤＭＤを構成するすべてのマイクロミラーをＯＮ状態に
することにより光源からの照明光を被照射面に導き、す
べてのマイクロミラーをＯＦＦ状態にすることにより光
源からの照明光をアライメント系のような他の光学系に
導くことができる。すなわち、ＤＭＤは、従来の露光装
置の照明光学系におけるシャッターおよびミラーの機能
を果たすことができる。
【００１９】また、ＤＭＤを構成するマイクロミラーの
うち特定の領域のマイクロミラーだけをＯＮ状態にする
ことにより、フライアイレンズに入射する平行光束の断
面形状をひいては被照射面上の照明領域を規定すること
ができる。すなわち、ＤＭＤは、従来の露光装置の照明
光学系におけるレチクルブラインドの機能を果たすこと
ができる。このように、本発明によれば、１つの光学部
品であるＤＭＤの使用により、従来技術におけるシャッ
ター、ミラーおよびレチクルブラインドの機能を果たす
ことができる。その結果、シャッター、ミラーおよびレ
チクルブラインドの各部品の位置決め調整が不要とな
り、被照射面上において均一な照度分布を得ることがで
きる。また、コンパクトで軽量な照明光学系および該光
学系を備えた露光装置を実現することができる。
【００２０】さらに、被照射面上の照度分布を検出し、
その結果に基づいてＤＭＤの各マイクロミラーの向きを
適宜制御することによって、被照射面上の照度分布をほ
ぼ均一に随時補正することができる。すなわち、前述し
た照明の均一性の経時的変化や照明の固定的不均一性を
随時補正することによって、被照射面上の照度分布の均
一性をさらに向上させることができる。なお、ＤＭＤの
各マイクロミラーの許容駆動回数は１．２×１０10程度
であり、従来技術におけるレチクルブラインドと比較し
てはるかに高い耐久性を有する。
【００２１】
【実施例】本発明の実施例を、添付図面に基づいて説明
する。図１は、本発明の実施例にかかる照明光学系およ
び該光学系を備えた露光装置の構成を概略的に示す図で
ある。図示の露光装置は、たとえば超高圧水銀ランプか
らなる光源１を備えている。光源１は、楕円鏡２の第１
焦点位置に位置決めされている。光源１から射出された
照明光束は楕円鏡２の第２焦点位置に向かって集光され
る途中で、コリメートレンズ３に入射する。そして、コ
リメートレンズ３によって平行光束に変換された照明光
束は、ＤＭＤ４に入射する。
【００２２】ＤＭＤ４を構成する各マイクロミラーは、
制御系１４によってＯＮ状態とＯＦＦ状態との間でそれ
ぞれ個別に駆動制御されるようになっている。そして、
ＯＮ状態のマイクロミラーによって反射された光束が図
中右側水平方向に、ＯＦＦ状態のマイクロミラーによっ
て反射された光束が図中破線Ａで示す方向にそれぞれ導
かれる。ＤＭＤ４で図中破線Ａで示す方向に反射された
光は、たとえばアライメント系のような他の適当な光学
系（不図示）に導かれる。一方、ＤＭＤ４で図中水平方
向に反射された光は、フライアイレンズ５に入射する。
【００２３】フライアイレンズ５に入射した光束は、フ
ライアイレンズ５を構成する複数のレンズエレメントに
より二次元的に分割され、フライアイレンズ５の後側焦
点位置に複数の光源像を形成する。このように、フライ
アイレンズ５は、ＤＭＤ４からの光束に基づいて複数の
光源像を形成する多光源形成手段を構成している。
【００２４】複数の光源像からの光束は、図示を省略し
た開口絞りにより制限された後、折り曲げミラー６で図
中下方に反射される。折り曲げミラー６で反射された光
束は、コンデンサーレンズ７により集光され、レチクル
のようなマスク８を重畳的に照明する。このように、光
源１、楕円鏡２、コリメートレンズ３、ＤＭＤ４、フラ
イアイレンズ５、折り曲げミラー６およびコンデンサー
レンズ７は、マスク８を均一に照明するための照明光学
系を構成している。
【００２５】マスク８を透過した光束は、投影光学系９
を介して、感光基板であるウエハ１０に達する。こうし
て、ウエハ１０上には、マスク８のパターン像が形成さ
れる。ウエハ１０は、投影光学系９の光軸に対して垂直
な平面内において二次元的に移動可能なウエハステージ
１１上に支持されている。ウエハステージ１１は、さら
に定盤１２上に支持されている。したがって、ウエハ１
０を二次元的に移動させながら露光を行うことにより、
ウエハ１０の各露光領域にマスク８のパターンを逐次転
写することができる。
【００２６】図１の露光装置は、ウエハ１０の露光表面
すなわち投影光学系９の像面における照度分布を検出す
るための検出手段として照度センサー１３を備えてい
る。照度センサー１３は、ウエハ１０を保持して二次元
移動可能なウエハステージ１１上に設けられている。照
度センサー１３において検出された照度分布は、制御手
段１４に送られる。
【００２７】本実施例では、ＤＭＤ４の各マイクロミラ
ーは、制御手段１４により、光源１からの照明光を反射
してフライアイレンズ５に導くＯＮ状態と、照明光を反
射してフライアイレンズ５には入射させないＯＦＦ状態
との間で、それぞれ個別に駆動制御される。したがっ
て、ＤＭＤ４を構成するすべてのマイクロミラーをＯＮ
状態にすることにより光源１からの照明光を被照射面で
あるマスク８やウエハ１０に導き、マイクロミラーをＯ
ＦＦ状態にすることにより光源１からの照明光をアライ
メント系のような他の光学系に導くことができる。すな
わち、ＤＭＤ４は、従来の露光装置の照明光学系におけ
るシャッターおよびミラーの機能を果たしている。
【００２８】また、制御手段１４により、ＤＭＤ４を構
成するマイクロミラーのうち特定の領域のマイクロミラ
ーだけをＯＮ状態にすることにより、フライアイレンズ
５に入射する平行光束の断面形状をひいてはマスク７や
ウエハ１０上の照明領域を規定することができる。すな
わち、ＤＭＤ４は、従来の露光装置の照明光学系におけ
るレチクルブラインドの機能を果たしている。このよう
に、本実施例によれば、ＤＭＤ４のような光偏向手段の
使用により、従来技術におけるシャッター、ミラーおよ
びレチクルブラインドの機能を果たすことができる。そ
の結果、これらの部品の位置決め調整が不要となり、マ
スク７やウエハ１０上の照明領域において均一な照度分
布を得ることができる。また、照明光学系のコンパクト
化および軽量化が可能になる。
【００２９】図２は、ＤＭＤの各マイクロミラーの構成
を概略的に示す斜視図である。また、図３は、図２に対
応する図であって、ＤＭＤ基板上に並んで形成された各
マイクロミラーの構成を概略的に示す断面図である。図
２および図３に示すように、図中上面が反射面（鏡面）
に形成されたマイクロミラー２１がヒンジ部材２２によ
って支持されている。ヒンジ部材２２の両端は、一対の
支柱部材２３の上端において揺動可能に支持されてい
る。
【００３０】この場合、揺動軸線はヒンジ部材２２の長
手方向と一致しており、長手方向と直交し且つ反射面に
平行な方向に沿ってヒンジ部材２２から４つの電極２４
が突出するように形成されている。また、ＤＭＤ基板２
５上において４つの電極２４にそれぞれ対応する位置に
は４つの電極２６が形成されている。こうして、対応す
る電極２４と２６との間に電位差を付与し、電極間の電
位差に基づいて作用する静電力によって、ヒンジ部材２
２をひいてはマイクロミラー２１をＯＮ状態とＯＦＦ状
態との間で適宜揺動させることができる。
【００３１】図２および図３に示すＤＭＤでは、各マイ
クロミラーが縦横に互いに近接するように配置されてい
る。したがって、ＤＭＤ全体として高い均一な反射率を
確保することができる。また、各ヒンジ部材が対応する
マイクロミラーによって遮蔽されるようになっているの
で、マイクロミラーに対するエネルギ照射によるヒンジ
部材の損傷を最小限に抑えることができる。このよう
に、図２および図３に示すＤＭＤの構成は、本実施例の
ような照明光学系および該光学系を備えた露光装置に最
適である。
【００３２】上述したように、ＤＭＤ４は多数のマイク
ロミラーを有する。そして、ＤＭＤ４上の反射領域の一
部分である１つの分割反射領域に含まれるマイクロミラ
ー群によって反射された照明光が、投影光学系９の像面
上の照明領域の一部分である１つの分割照明領域に対応
している。したがって、照度センサーによって検出され
た照度分布を参照し、照度が高い特定の分割照明領域に
対応するＤＭＤ４のマイクロミラー群において所定数の
マイクロミラーを所定の分布でＯＦＦ状態にすることに
より、照度を所望の値まで低下させることができる。
【００３３】換言すれば、各分割照明領域に対応する各
マイクロミラー群のうちＯＦＦ状態にあるマイクロミラ
ーの数をそれぞれ制御することにより、投影光学系９の
像面上の照明領域の全体に亘って照度分布を均一にする
ことができる。すなわち、本実施例では、投影光学系９
の像面における照度分布を検出することによって、光源
のシフトに起因する照明の均一性の経時的変化やフライ
アイレンズ等に起因する照明の固定的不均一性を随時補
正することができる。その結果、ウエハ１０上の照明領
域における照度分布の均一性をさらに向上させることが
できる。
【００３４】また、前述したように、ＤＭＤ４は互いに
独立に向きを制御することが可能な多数のマイクロミラ
ーからなる。したがって、ＤＭＤ４の特定のマイクロミ
ラーをＯＦＦ状態にすることにより、ウエハ面において
遮光部を形成することにより、図４に示すような数字や
文字やパターンを付加的に露光することができる。な
お、ウエハ１０に形成された数字や文字やパターンを、
製品のロット番号等の表示として利用することができ
る。この場合、ウエハ１０上においてシャープな（解像
力の高い）数字や文字やパターンを得るために、ウエハ
１０と光学的に共役な位置、すなわちフライアイレンズ
５の入射面の近傍にＤＭＤ４を位置決めするのが好まし
い。
【００３５】なお、上述の実施例では、超高圧水銀ラン
プを光源とする露光装置に本発明を適用した例を示した
が、たとえばエキシマレーザー等の他の光源を使用した
一般の露光装置に本発明を適用することができる。ま
た、上述の実施例では、投影光学系の像面において照度
分布を検出しているが、本発明を一般の照明光学系に適
用する場合にはマスク面に対応する面において照度分布
を検出して照度分布の均一化を図ることができる。
【００３６】
【効果】以上説明したように、本発明によれば、光偏向
手段としてＤＭＤを使用することにより、従来技術にお
けるシャッター、ミラーおよびレチクルブラインドが不
要となる。したがって、被照射面上において均一な照度
分布を得ることのできる、コンパクトで軽量な照明光学
系および該光学系を備えた露光装置を実現することがで
きる。さらに、被照射面上における照度分布を検出し、
検出結果に基づいてＤＭＤの各マイクロミラーの向きを
適宜制御することによって、被照射面上の照度分布をほ
ぼ均一に随時補正することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例にかかる照明光学系および該光
学系を備えた露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図１のＤＭＤの各マイクロミラーの構成を概略
的に示す斜視図である。
【図３】図２に対応する図であって、ＤＭＤ基板上に並
んで形成された各マイクロミラーの構成を概略的に示す
断面図である。
【図４】ＤＭＤの作用によりウエハ上に形成された数字
や文字やパターンを示す図である。
【図５】従来の露光装置の構成を概略的に示す図であ
る。
【図６】従来の露光装置におけるシャッターの構成を概
略的に示す斜視図である。
【図７】従来の露光装置におけるレチクルブラインドの
構成を概略的に示す図である。
【符号の説明】
１ 光源 ２ 楕円鏡 ３ コリメートレンズ ４ ＤＭＤ ５ フライアイレンズ ６ 折り曲げミラー ７ コンデンサレンズ ８ マスク ９ 投影光学系 １０ ウエハ １１ ウエハステージ １２ 定盤 １３ 照度センサー １４ 制御系

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 所定の物体面をほぼ均一に照明する照明
    光学系において、 ほぼ平行な照明光束を供給するための光源手段と、 互いに独立に向きを変化させることのできる多数の微小
    反射面を有し、該多数の微小反射面の各々により前記光
    源手段からの照明光束を反射して偏向するための光偏向
    手段と、 前記光偏向手段で反射された照明光束に基づいて複数の
    光源像を形成するための多光源像形成手段と、 前記多光源像形成手段からの光束を集光して前記物体面
    上を重畳的に照明するコンデンサ光学系と、 を備えていることを特徴とする照明光学系。
  2. 【請求項２】 前記物体面上の照度分布を検出するため
    の検出手段と、 前記物体面上の照度分布がほぼ均一になるように、前記
    検出手段の出力に基づいて前記光偏向手段の多数の微小
    反射面の各々の向きを制御するための制御手段と、 をさらに備えていることを特徴とする請求項１に記載の
    照明光学系。
  3. 【請求項３】 前記光偏向手段はＤＭＤであり、該ＤＭ
    Ｄは前記多光源像形成手段の近傍に位置決めされている
    ことを特徴とする請求項１または２に記載の照明光学
    系。
  4. 【請求項４】 所定のパターンが形成されたマスクを照
    明するための照明光学系と、前記マスクのパターンの像
    を感光基板上に形成するための投影光学系とを備えた露
    光装置において、 前記照明光学系は、 ほぼ平行な照明光束を供給するための光源手段と、 互いに独立に向きを変化させることのできる多数の微小
    反射面を有し、該多数の微小反射面の各々により前記光
    源手段からの照明光束を反射して偏向するための光偏向
    手段と、 前記光偏向手段で反射された照明光束に基づいて複数の
    光源像を形成するための多光源像形成手段と、 前記多光源像形成手段からの光束を集光して前記物体面
    上を重畳的に照明するコンデンサ光学系と、 を備えていることを特徴とする露光装置。
  5. 【請求項５】 前記感光基板上の照度分布を検出するた
    めの検出手段と、 前記感光基板上の照度分布がほぼ均一になるように、前
    記検出手段の出力に基づいて前記光偏向手段の多数の微
    小反射面の各々の向きを制御するための制御手段と、 をさらに備えていることを特徴とする請求項４に記載の
    露光装置。
  6. 【請求項６】 前記光偏向手段はＤＭＤであり、該ＤＭ
    Ｄは前記多光源像形成手段の近傍に位置決めされている
    ことを特徴とする請求項４または５に記載の露光装置。
JP7139936A 1995-05-15 1995-05-15 照明光学系および該光学系を備えた露光装置 Pending JPH08313842A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7139936A JPH08313842A (ja) 1995-05-15 1995-05-15 照明光学系および該光学系を備えた露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7139936A JPH08313842A (ja) 1995-05-15 1995-05-15 照明光学系および該光学系を備えた露光装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH08313842A true JPH08313842A (ja) 1996-11-29

Family

ID=15257126

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7139936A Pending JPH08313842A (ja) 1995-05-15 1995-05-15 照明光学系および該光学系を備えた露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH08313842A (ja)

Cited By (57)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0775570A3 (en) * 1995-11-21 1997-08-20 Cmet Inc Photosolidification modeling device with homogeneous intensity exposure on the exposed surface
US6288830B1 (en) * 1998-05-13 2001-09-11 Ricoh Microelectronics Company, Ltd. Optical image forming method and device, image forming apparatus and aligner for lithography
JP2002119468A (ja) * 2000-10-13 2002-04-23 Olympus Optical Co Ltd 内視鏡装置
EP1262836A1 (en) * 2001-06-01 2002-12-04 Asml Lithographic apparatus
JP2003515930A (ja) * 1999-11-24 2003-05-07 マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット 半導体の個別化を行う方法および装置
US7015491B2 (en) 2001-06-01 2006-03-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby, control system
WO2006085626A1 (ja) * 2005-02-14 2006-08-17 Nikon Corporation 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP2006216951A (ja) * 2005-01-31 2006-08-17 Asml Holding Nv カスタマイズされた最適な瞳フィールドおよび照明モードを計算することによってイメージング強調を行うためのシステムおよび方法
WO2007066679A1 (ja) 2005-12-06 2007-06-14 Nikon Corporation 露光装置、露光方法、投影光学系及びデバイス製造方法
WO2007077875A1 (ja) 2005-12-28 2007-07-12 Nikon Corporation 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
WO2007094470A1 (ja) 2006-02-16 2007-08-23 Nikon Corporation 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
WO2007094414A1 (ja) 2006-02-16 2007-08-23 Nikon Corporation 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
WO2007094407A1 (ja) 2006-02-16 2007-08-23 Nikon Corporation 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
WO2007094431A1 (ja) 2006-02-16 2007-08-23 Nikon Corporation 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
WO2007100087A1 (ja) 2006-03-03 2007-09-07 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
WO2007108414A1 (ja) 2006-03-17 2007-09-27 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
WO2007108415A1 (ja) 2006-03-17 2007-09-27 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
WO2007114024A1 (ja) 2006-04-03 2007-10-11 Nikon Corporation 投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
WO2007116752A1 (ja) 2006-04-05 2007-10-18 Nikon Corporation ステージ装置、露光装置、ステージ制御方法、露光方法、およびデバイス製造方法
WO2007119501A1 (ja) 2006-03-23 2007-10-25 Nikon Corporation 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
WO2007129753A1 (ja) 2006-05-10 2007-11-15 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
WO2007136089A1 (ja) 2006-05-23 2007-11-29 Nikon Corporation メンテナンス方法、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
WO2007136052A1 (ja) 2006-05-22 2007-11-29 Nikon Corporation 露光方法及び装置、メンテナンス方法、並びにデバイス製造方法
WO2007135990A1 (ja) 2006-05-18 2007-11-29 Nikon Corporation 露光方法及び装置、メンテナンス方法、並びにデバイス製造方法
WO2007138834A1 (ja) 2006-05-31 2007-12-06 Nikon Corporation 露光装置及び露光方法
WO2008001871A1 (en) 2006-06-30 2008-01-03 Nikon Corporation Maintenance method, exposure method and apparatus and device manufacturing method
WO2008007632A1 (en) 2006-07-12 2008-01-17 Nikon Corporation Illuminating optical apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method
WO2008007633A1 (en) 2006-07-12 2008-01-17 Nikon Corporation Illuminating optical apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method
JP2008118131A (ja) * 2006-10-31 2008-05-22 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置および方法
WO2009026947A1 (en) * 2007-08-30 2009-03-05 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic projection exposure apparatus
JP2009093175A (ja) * 2007-10-03 2009-04-30 Nikon Corp 空間光変調ユニット、照明装置、露光装置、及びデバイスの製造方法
JP2009105378A (ja) * 2007-08-17 2009-05-14 Asml Holding Nv テレセントリック性のリアルタイム測定
WO2009078224A1 (ja) * 2007-12-17 2009-06-25 Nikon Corporation 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
US7557997B2 (en) 2006-09-28 2009-07-07 Nikon Corporation Immersion objective optical system, exposure apparatus, device fabrication method, and boundary optical element
US20100102487A1 (en) * 2008-10-28 2010-04-29 Molecular Imprints, Inc. Optical System for Use in Stage Control
US7782442B2 (en) 2005-12-06 2010-08-24 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, projection optical system and device producing method
KR20100095566A (ko) * 2007-11-06 2010-08-31 가부시키가이샤 니콘 조명 장치, 조명 방법, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법
JP2010272640A (ja) * 2009-05-20 2010-12-02 Nikon Corp 照明装置、露光装置、及びデバイス製造方法
JP2010271685A (ja) * 2009-04-25 2010-12-02 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 高均一照度が得られる照明装置及び照明方法
US7875418B2 (en) 2004-03-16 2011-01-25 Carl Zeiss Smt Ag Method for a multiple exposure, microlithography projection exposure installation and a projection system
JP2011138048A (ja) * 2009-12-28 2011-07-14 Nikon Corp 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法
JP2011528856A (ja) * 2008-07-22 2011-11-24 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置における偏光分布を修正する方法及びマイクロリソグラフィ投影露光装置
US8094290B2 (en) 2007-11-06 2012-01-10 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8125613B2 (en) 2006-04-21 2012-02-28 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8144308B2 (en) 2007-11-08 2012-03-27 Nikon Corporation Spatial light modulation unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8164736B2 (en) 2007-05-29 2012-04-24 Nikon Corporation Exposure method, exposure apparatus, and method for producing device
US20130050796A1 (en) * 1997-05-12 2013-02-28 Light And Sound Design Ltd. Electronically Controlled Stage Lighting System
US8665418B2 (en) 2007-04-18 2014-03-04 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2014110408A (ja) * 2012-12-04 2014-06-12 Canon Inc 露光方法、露光装置および物品の製造方法
US8792081B2 (en) 2007-11-06 2014-07-29 Nikon Corporation Controller for optical device, exposure method and apparatus, and method for manufacturing device
US8891056B2 (en) 2006-07-14 2014-11-18 Nikon Corporation Stage apparatus and exposure apparatus
US9097981B2 (en) 2007-10-12 2015-08-04 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9195069B2 (en) 2006-04-17 2015-11-24 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9235127B2 (en) 2010-03-05 2016-01-12 Mycronic AB Method and apparatus for merging multiple geometrical pixel images and generating a single modulator pixel image
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2020112419A (ja) * 2019-01-10 2020-07-27 株式会社エスケーエレクトロニクス 空間光変調素子の検査装置及び検査方法
JPWO2022215692A1 (ja) * 2021-04-09 2022-10-13

Cited By (88)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0775570A3 (en) * 1995-11-21 1997-08-20 Cmet Inc Photosolidification modeling device with homogeneous intensity exposure on the exposed surface
US9036245B2 (en) * 1997-05-12 2015-05-19 Production Resource Group, Llc Electronically controlled stage lighting system
US20130050796A1 (en) * 1997-05-12 2013-02-28 Light And Sound Design Ltd. Electronically Controlled Stage Lighting System
US6288830B1 (en) * 1998-05-13 2001-09-11 Ricoh Microelectronics Company, Ltd. Optical image forming method and device, image forming apparatus and aligner for lithography
JP2003515930A (ja) * 1999-11-24 2003-05-07 マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット 半導体の個別化を行う方法および装置
US7842525B2 (en) 1999-11-24 2010-11-30 Micronic Mydata AB Method and apparatus for personalization of semiconductor
JP2002119468A (ja) * 2000-10-13 2002-04-23 Olympus Optical Co Ltd 内視鏡装置
US6737662B2 (en) 2001-06-01 2004-05-18 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, device manufactured thereby, control system, computer program, and computer program product
US7015491B2 (en) 2001-06-01 2006-03-21 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby, control system
EP1262836A1 (en) * 2001-06-01 2002-12-04 Asml Lithographic apparatus
US7875418B2 (en) 2004-03-16 2011-01-25 Carl Zeiss Smt Ag Method for a multiple exposure, microlithography projection exposure installation and a projection system
US8634060B2 (en) 2004-03-16 2014-01-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Method for a multiple exposure, microlithography projection exposure installation and a projection system
JP2006216951A (ja) * 2005-01-31 2006-08-17 Asml Holding Nv カスタマイズされた最適な瞳フィールドおよび照明モードを計算することによってイメージング強調を行うためのシステムおよび方法
WO2006085626A1 (ja) * 2005-02-14 2006-08-17 Nikon Corporation 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
WO2007066679A1 (ja) 2005-12-06 2007-06-14 Nikon Corporation 露光装置、露光方法、投影光学系及びデバイス製造方法
US7782442B2 (en) 2005-12-06 2010-08-24 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, projection optical system and device producing method
WO2007077875A1 (ja) 2005-12-28 2007-07-12 Nikon Corporation 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
US7714982B2 (en) 2006-02-16 2010-05-11 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
WO2007094414A1 (ja) 2006-02-16 2007-08-23 Nikon Corporation 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
WO2007094431A1 (ja) 2006-02-16 2007-08-23 Nikon Corporation 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
WO2007094407A1 (ja) 2006-02-16 2007-08-23 Nikon Corporation 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
US8390779B2 (en) 2006-02-16 2013-03-05 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device
US8027020B2 (en) 2006-02-16 2011-09-27 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device
WO2007094470A1 (ja) 2006-02-16 2007-08-23 Nikon Corporation 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
WO2007100087A1 (ja) 2006-03-03 2007-09-07 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
US7916270B2 (en) 2006-03-03 2011-03-29 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
WO2007108415A1 (ja) 2006-03-17 2007-09-27 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
WO2007108414A1 (ja) 2006-03-17 2007-09-27 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
US8982322B2 (en) 2006-03-17 2015-03-17 Nikon Corporation Exposure apparatus and device manufacturing method
WO2007119501A1 (ja) 2006-03-23 2007-10-25 Nikon Corporation 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
WO2007114024A1 (ja) 2006-04-03 2007-10-11 Nikon Corporation 投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
WO2007116752A1 (ja) 2006-04-05 2007-10-18 Nikon Corporation ステージ装置、露光装置、ステージ制御方法、露光方法、およびデバイス製造方法
US9195069B2 (en) 2006-04-17 2015-11-24 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8125613B2 (en) 2006-04-21 2012-02-28 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
US8477283B2 (en) 2006-05-10 2013-07-02 Nikon Corporation Exposure apparatus and device manufacturing method
WO2007129753A1 (ja) 2006-05-10 2007-11-15 Nikon Corporation 露光装置及びデバイス製造方法
WO2007135990A1 (ja) 2006-05-18 2007-11-29 Nikon Corporation 露光方法及び装置、メンテナンス方法、並びにデバイス製造方法
US8514366B2 (en) 2006-05-18 2013-08-20 Nikon Corporation Exposure method and apparatus, maintenance method and device manufacturing method
WO2007136052A1 (ja) 2006-05-22 2007-11-29 Nikon Corporation 露光方法及び装置、メンテナンス方法、並びにデバイス製造方法
WO2007136089A1 (ja) 2006-05-23 2007-11-29 Nikon Corporation メンテナンス方法、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
WO2007138834A1 (ja) 2006-05-31 2007-12-06 Nikon Corporation 露光装置及び露光方法
WO2008001871A1 (en) 2006-06-30 2008-01-03 Nikon Corporation Maintenance method, exposure method and apparatus and device manufacturing method
WO2008007633A1 (en) 2006-07-12 2008-01-17 Nikon Corporation Illuminating optical apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method
US8325324B2 (en) 2006-07-12 2012-12-04 Nikon Corporation Illuminating optical apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method
WO2008007632A1 (en) 2006-07-12 2008-01-17 Nikon Corporation Illuminating optical apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method
US8891056B2 (en) 2006-07-14 2014-11-18 Nikon Corporation Stage apparatus and exposure apparatus
US7557997B2 (en) 2006-09-28 2009-07-07 Nikon Corporation Immersion objective optical system, exposure apparatus, device fabrication method, and boundary optical element
JP2008118131A (ja) * 2006-10-31 2008-05-22 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置および方法
US8665418B2 (en) 2007-04-18 2014-03-04 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8164736B2 (en) 2007-05-29 2012-04-24 Nikon Corporation Exposure method, exposure apparatus, and method for producing device
US7999939B2 (en) 2007-08-17 2011-08-16 Asml Holding N.V. Real time telecentricity measurement
JP2009105378A (ja) * 2007-08-17 2009-05-14 Asml Holding Nv テレセントリック性のリアルタイム測定
US10241416B2 (en) 2007-08-30 2019-03-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination system having a beam deflection array for illuminating a mask in a microlithographic projection exposure apparatus
WO2009026947A1 (en) * 2007-08-30 2009-03-05 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic projection exposure apparatus
US9007563B2 (en) 2007-08-30 2015-04-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Illumination system having a beam deflection array for illuminating a mask in a microlithographic projection exposure apparatus
JP2009093175A (ja) * 2007-10-03 2009-04-30 Nikon Corp 空間光変調ユニット、照明装置、露光装置、及びデバイスの製造方法
US10101666B2 (en) 2007-10-12 2018-10-16 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9097981B2 (en) 2007-10-12 2015-08-04 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9857599B2 (en) 2007-10-24 2018-01-02 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9116346B2 (en) 2007-11-06 2015-08-25 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8792081B2 (en) 2007-11-06 2014-07-29 Nikon Corporation Controller for optical device, exposure method and apparatus, and method for manufacturing device
US9268235B2 (en) 2007-11-06 2016-02-23 Nikon Corporation Controller for optical device, exposure method and apparatus, and method for manufacturing device
US9551942B2 (en) 2007-11-06 2017-01-24 Nikon Corporation Controller for optical device, exposure method and apparatus, and method for manufacturing device
US10261421B2 (en) 2007-11-06 2019-04-16 Nikon Corporation Controller for optical device, exposure method and apparatus, and method for manufacturing device
KR20150032755A (ko) * 2007-11-06 2015-03-27 가부시키가이샤 니콘 조명 장치, 조명 방법, 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법
KR20100095566A (ko) * 2007-11-06 2010-08-31 가부시키가이샤 니콘 조명 장치, 조명 방법, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법
US8094290B2 (en) 2007-11-06 2012-01-10 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9946162B2 (en) 2007-11-06 2018-04-17 Nikon Corporation Controller for optical device, exposure method and apparatus, and method for manufacturing device
KR20160090916A (ko) * 2007-11-06 2016-08-01 가부시키가이샤 니콘 조명 장치, 조명 방법, 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법
US8144308B2 (en) 2007-11-08 2012-03-27 Nikon Corporation Spatial light modulation unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US8953147B2 (en) 2007-11-08 2015-02-10 Nikon Corporation Spatial light modulation unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
WO2009078224A1 (ja) * 2007-12-17 2009-06-25 Nikon Corporation 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
US9128389B2 (en) 2008-07-22 2015-09-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Method for modifying a polarization distribution in microlithographic projection exposure apparatus, and microlithographic projection exposure apparatus
JP2011528856A (ja) * 2008-07-22 2011-11-24 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置における偏光分布を修正する方法及びマイクロリソグラフィ投影露光装置
US8345242B2 (en) * 2008-10-28 2013-01-01 Molecular Imprints, Inc. Optical system for use in stage control
JP2012507173A (ja) * 2008-10-28 2012-03-22 モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド ステージ制御用光学システム
US20100102487A1 (en) * 2008-10-28 2010-04-29 Molecular Imprints, Inc. Optical System for Use in Stage Control
JP2010271685A (ja) * 2009-04-25 2010-12-02 National Institute Of Advanced Industrial Science & Technology 高均一照度が得られる照明装置及び照明方法
JP2010272640A (ja) * 2009-05-20 2010-12-02 Nikon Corp 照明装置、露光装置、及びデバイス製造方法
JP2011138048A (ja) * 2009-12-28 2011-07-14 Nikon Corp 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法
US9235127B2 (en) 2010-03-05 2016-01-12 Mycronic AB Method and apparatus for merging multiple geometrical pixel images and generating a single modulator pixel image
JP2014110408A (ja) * 2012-12-04 2014-06-12 Canon Inc 露光方法、露光装置および物品の製造方法
JP2020112419A (ja) * 2019-01-10 2020-07-27 株式会社エスケーエレクトロニクス 空間光変調素子の検査装置及び検査方法
JPWO2022215692A1 (ja) * 2021-04-09 2022-10-13
WO2022215692A1 (ja) * 2021-04-09 2022-10-13 株式会社ニコン 露光装置、デバイス製造方法、フラットパネルディスプレイの製造方法および露光方法
US12493240B2 (en) 2021-04-09 2025-12-09 Nikon Corporation Exposure apparatus, method for manufacturing device, method for manufacturing flat panel display, and exposure method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3559330B2 (ja) レチクルマスキングシステムを有する光学系の照明手段
KR101662330B1 (ko) 조명광학계, 조명 광학 장치, 노광 장치, 및 디바이스 제조 방법
US5739899A (en) Projection exposure apparatus correcting tilt of telecentricity
JP3158691B2 (ja) 露光装置及び方法、並びに照明光学装置
US5581075A (en) Multi-beam scanning projection exposure apparatus and method with beam monitoring and control for uniform exposure of large area
US20050174650A1 (en) Lighting system, particularly for use in extreme ultraviolet (euv) lithography
JP2016541021A (ja) マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系
JP2018197889A (ja) 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
US5798824A (en) Exposure apparatus correcting illuminance distribution
KR100485314B1 (ko) 투영노광장치와 이것을 사용한 디바이스제조방법
KR19980703208A (ko) 이중 통과 와인-다이슨 광학계를 갖춘 스캐닝 리소그래피 시스템
KR19980703209A (ko) 소 필드 스캐닝을 위한 배율 조정
JP3743576B2 (ja) 投影露光装置、及びそれを用いた半導体素子又は液晶表示素子の製造方法
JPH097933A (ja) 投影露光装置及び投影露光方法
JP5700272B2 (ja) 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
KR19980703210A (ko) 역운동을 갖는 스캐닝 리소그래피 시스템
JP5397748B2 (ja) 露光装置、走査露光方法、およびデバイス製造方法
JP5360379B2 (ja) 投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2020052246A (ja) 露光装置
JPH08139009A (ja) 照明光学装置
JP5515323B2 (ja) 投影光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
US7528932B2 (en) SLM direct writer
JP2011114041A (ja) 光束分割装置、空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP4505666B2 (ja) 露光装置、照明装置及びマイクロデバイスの製造方法
JP2011222841A (ja) 空間光変調ユニット、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法