JPH08319191A - 酸化物単結晶の製造方法および装置 - Google Patents
酸化物単結晶の製造方法および装置Info
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Abstract
に際して、ルツボの大きさを大型化し、あるいは原料の
量を増大させても、良好な酸化物単結晶を連続的に引き
下げて形成できるようにすることである。 【解決手段】酸化物単結晶の原料をルツボ7内で溶融さ
せ、溶融物8に対して種結晶15を接触させる。μ引下
げ法によって、溶融物を引下げながら酸化物単結晶14
を育成する。ルツボ7と、ルツボ7から延びるノズル部
13とを備えており、ノズル部13の下端に単結晶育成
部35が設けられている製造装置を使用する。ルツボ7
と単結晶育成部35とを、互いに独立に温度制御する。
Description
法およびその装置に関するものである。
て、いわゆるμ引下げ法によって単結晶ファイバーを形
成する方法が注目を集めている。「電総研ニュース」1
993年7月号(522号)の4〜8頁、特開平4−2
80891号公報、特開平6−345588号公報に
は、この方法によってニオブ酸・カリウム・リチウム
(K3 Li2-2xNb5+x O15+x、以下、KLNと記載す
る。)等の単結晶ファイバーを育成した経緯が、開示さ
れている。
白金製のセルないしルツボに電力を供給し、抵抗加熱す
る。このセルの底部に、溶融液の引出し口を形成し、こ
の引出し口の中に、融液フィーダーと呼ばれる棒状体を
挿通し、これによって溶融液の引出し口への供給量と、
固相液相界面の状態とを共に制御する。溶融液引出し口
の口径、フィーダーの太さ、引出し口からのフィーダー
の突出長さ等を調整することによって、細径のKLN単
結晶ファイバーを連続的に形成している。このμ引下げ
法によれば、直径1mm以下の単結晶ファイバーを形成
でき、熱歪みの低減、溶融液内の対流の制御、単結晶フ
ァイバーの直径の制御を容易に行うことができ、特に青
色第二高調波発生用に適した小型の高品質単結晶を生産
できるという特徴を有している。
引下げ法によってKLN単結晶ファイバー等を量産する
ために、研究を重ねていた。量産技術として最も重要な
ことは、ルツボの規模を大きくして多量の溶融物を処理
すること、およびこのルツボから単結晶ファイバーを長
く連続的に引き下げるようにすることである。そこで、
本発明者は、ルツボに投入する粉末の量を5g程度にま
で増量し、これに合わせてルツボを大きくし、このルツ
ボに電力を供給して発熱させ、原料粉末をルツボ内で溶
融させて、マイクロ引下げ法を実施してみた。
くし、粉末の溶融量を増大させると、引出し口から溶融
物を引き下げて単結晶を形成することが、きわめて困難
であることが判明してきた。具体的には、ルツボを設置
している炉の温度を900℃以下に低く設定し、主とし
てルツボへの通電によってルツボ内の粉末を溶融させる
と、引出し口付近での結晶成長が良好には行われなかっ
た。即ち、ルツボに供給する電力を大きくすると、溶融
液が引出し口で溶融し、結晶化せず、この電力を小さく
すると、今度は引出し口付近で固体化してしまい、溶融
液を引き出せなくなった。
ると、今度はルツボの全体が、炉からの輻射熱のために
大きく加熱され、引出し口付近での温度勾配が非常に少
なくなるために、やはり連続的に結晶成長を行わせるこ
とはできなかった。
物単結晶を製造するのに際して、ルツボの大きさを大型
化し、あるいは原料の量を増大させても、良好な酸化物
単結晶を連続的に引き下げて形成できるようにすること
である。
晶の製造方法は、酸化物単結晶の原料をルツボ内で溶融
させ、この溶融物に対して種結晶を接触させ、溶融物を
下方へと向かって引下げながら酸化物単結晶を育成する
のに際して、ルツボと、ルツボから延びるノズル部とを
備えており、このノズル部の先端に下方向を向いた単結
晶育成部が設けられている製造装置を使用し、ルツボと
単結晶育成部とを互いに独立に温度制御することを特徴
とする。
置は、酸化物単結晶の原料をルツボ内で溶融させ、この
溶融物に対して種結晶を接触させ、溶融物を下方へと向
かって引下げながら酸化物単結晶を育成するのに際し
て、ルツボと、このルツボから延びるノズル部と、この
ノズル部の下端に設けられている単結晶育成部と、ルツ
ボと単結晶育成部とを互いに独立に温度制御する加熱機
構とを備えていることを特徴とする。
よる量産技術を確立するべく、ルツボを大型化するため
の研究を続けていたが、この過程で、ルツボを大型化す
ると共に、このルツボから延びるノズル部を別に備え、
このノズル部の下端に単結晶育成部を設け、ルツボと単
結晶育成部とを互いに独立に温度制御することに想到し
た。
g以上といった多量にし、これに合わせてルツボの容積
を大きくしても、酸化物単結晶を連続的に容易に引き下
げうることを見いだし、本発明に到達した。
らく、ルツボ自体に溶融物の引出し口を設けるのではな
く、ルツボにノズル部を設け、ノスル部の先端に単結晶
育成部を設けることによって、ルツボにおける溶融物が
発生する熱量の影響を単結晶育成部が直接受けにくいよ
うにし、これと同時に単結晶育成部とルツボとを別々に
温度制御することによって、単結晶育成部付近における
温度勾配を大きくすることができたからと、考えられ
る。
け、この引出し口から直接に溶融物を引き出すという形
態では、引出し口付近に対するルツボおよびその中の溶
融物の熱的影響によって、引出し口付近で良好な固相液
相界面を形成することができなかったものであろう。
を溶融させて、ノズル部の下端部から連続的に引き出す
ことができるというだけではない。本発明者は、従来の
単結晶製造装置を使用し、しかしそのルツボ内の粉末の
量は300〜500mg程度に抑えて、KLN単結晶フ
ァイバーを連続的に引き出した。そして、その組成を精
密に測定してみた。この結果、組成として1.0mol
%程度の変動が生じていたことを発見した。
ば、ルツボ内で溶融する原料粉末の量を30〜50g程
度にまで増大させた場合でも、KLN単結晶ファイバー
における組成の変動が、わずかに0.01mol%以下
という驚くべき精度にまで減少していたことを発見し
た。このように、本発明の製造方法および装置によれ
ば、単結晶の組成の均一性を向上させるという観点から
も、従来のμ引下げ法と比較しても、驚くべき高精度を
実現することができた。
置を使用して、単結晶育成部における溶融物の状態と単
結晶の物性について研究した。この結果、単結晶育成部
の環境に対して、重力よりも表面張力の方が支配的であ
る場合には、きわめて組成の変動の少ない良好な酸化物
単結晶を、連続的に引き出しうることを見いだした。こ
れによって、良好な固相液相界面が形成されるからと思
われる。
力の方が重力よりも支配的な条件を生じさせるために
は、ノズル部内の溶融物に加わる重力を減少させる機構
を設けることが有効である。
したが、特にノズル部の内径を0.5mm以下とするこ
とによって、ノズル部内において、溶融物に加わる重力
よりも表面張力の方が支配的な条件を生成でき、ノズル
部の先端開口において均一なメニスカスを形成できるこ
とを確認した。
m未満であると、単結晶の育成速度が小さくなりすぎる
ので、量産の観点からノズル部の内径を0.01mm以
上とすることが好ましい。ノズル部の最適な内径は、
0.01〜0.5mmの範囲内で、溶融物の粘性、表面
張力、比重、単結晶の育成速度等によって若干変動す
る。
た結果、次のような知見を得るに至った。即ち、従来の
μ引下げ法においては、ルツボの規模が小さいので、単
結晶ファイバーを連続的に引き下げることができたと考
えられるが、これは、ルツボ内の溶融物の量が少なく、
溶融物がルツボの壁面に対して、その表面張力によって
張りつくことから、引出し口へと加わる重力が相対的に
小さくなっていたために、ある程度は均質な固相液相界
面が形成されたものと推定できる。しかし、ルツボの寸
法を大きくすると、引出し口付近において表面張力が支
配的な条件が失われたものと推定される。
近において、ノズル部をその長さ方向に見たときの温度
勾配を大きくすることが容易である。これによって、ノ
ズル部内を流下してきた溶融物を急速に冷却できる。
る場合に、特に適している。固溶体単結晶においては、
平衡条件では組成比率が変動していく性質がある。従来
のμ引下げ法を使用した場合には、引出し口付近では平
衡条件なので、ちょっとした温度変化や固体化の速度の
変化によって、固溶体の組成が変動していたが、こうし
た原因によるものと考えられる。これに対して、本発明
の方法および装置によれば、単結晶育成部付近での急速
冷却が可能なので、溶融物の組成を保持することができ
る。
N、KLTN〔K3 Li 2-2x(Tay Nb1-y )5+x O
15+x〕、Ba1-X SrX Nb2 O6 を中心としたタング
ステンブロンズの構造やMn−Znフェライトを例示す
ることができる。
化物単結晶を製造することができる。例えば、LiNb
O3 に対してネオジムを固溶させる場合、その偏析係数
が1でないことによって、溶融物の組成におけるネオジ
ムの量よりも少ない量のネオジムしか単結晶中に入らな
い。例えば、溶融物内では1.0モル程度のネオジムが
含有されていても、単結晶中には0.3モル程度しか入
らない。しかし、本発明によれば、前記したように溶融
物をノズル部内で急速に冷却することによって、偏析を
招くことなく、溶融物の組成と同様の組成を有する単結
晶を製造することができる。これは、他のレーザー単結
晶、例えば、Nd、Er、Ybによって置換されたYA
G、Nd、Er、Ybによって置換されたYVO4 に対
しても、適用することができる。
知見を得た。即ち、種々の内径を有するノズル部を白金
によって形成し、実際にKLN等の単結晶の育成実験を
行った。この結果、ルツボ内の溶融物の量が多い場合に
は、ノズル部の先端面から溶融液の垂れが発生し、ファ
イバー等の育成が困難な場合があった。例えば、溶融物
の液面の高さ(ルツボの底面からの高さ)を30mm以
上、更には50mm以上に大きくした場合には、ノズル
部の内径を0.2〜0.5mmまで小さくしても、ノズ
ル部の先端面から液垂れが発生した。
増加させても、安定して酸化物単結晶を量産できるよう
にするためには、ルツボの側面にノズル部を設け、ノズ
ル部の一部を、ルツボとノズル部との結合部分よりも上
方向へと延びるように成形することができる。これによ
って、酸化物単結晶の引下げを最も安定して実施できる
ように、ノズル部の先端面の高さと溶融物の液面の高さ
との差を設定する。
高さとの差をどのように設定すれば最適な育成条件が得
られるかは、結晶の物性(粘性、融点等)、炉体構造
(温度分布等)、ルツボの構造(溶融部の形状、ノズル
部の形状)、育成温度、単結晶育成部の温度勾配等の多
数の因子によって決定される。しかし、例えばこの差を
大きくすると、育成速度が大きくなり、この差を小さく
すると、ノズル部の先端面の溶融物に加わる重力の影響
が一層少なくなり、液垂れが発生しにくくなる。このた
め、ノズル部の先端面の高さを0としたときの、ルツボ
内の溶融物の液面の高さを、−10mm以上、50mm
以下とすることが好ましい。ここで、溶融物の液面の高
さを50mm以下とすることによって、前記した育成状
態の制御が一層容易になる。一方、ノズル部の先端面の
高さがルツボ内の溶融物の液面の高さよりも高い場合に
も、この差が10mm以下であれば、ノズル部内の毛管
現象によって溶融液が連続的に供給される。なお、ノズ
ル部の先端面は、ルツボ内の溶融物の底面よりも低い位
置に設けることも可能である。
されている溶融炉と、単結晶育成部が設けられている育
成炉とを断熱する断熱壁を備え、この断熱壁に設けられ
た貫通穴にノズル部を挿通することができる。これによ
って、ルツボ内の溶融物を十分に高温で溶融させること
ができると共に、単結晶育成部の温度とルツボ内の溶融
物との温度差を自由に制御し、ノズル部を流れてきた溶
融物が単結晶育成部で急速に冷却されるようにすること
ができる。
熱方法は特に限定されない。しかし、単結晶製造装置の
周囲を囲むように、加熱炉を設けることが好ましい。ル
ツボの下方へと向かって延びるノズル部を設ける態様に
おいては、加熱炉を上側炉と下側炉とに分離し、ルツボ
を上側炉によって包囲し、この上側炉の方を相対的に高
温で発熱させて、ルツボ内の粉末の溶融を助けることが
好ましい。これに対してノズル部の周囲に下側炉を設置
し、この下側炉の方の温度を相対的に低くすることによ
って、ノズル部の下端部の単結晶育成部における温度勾
配を大きくすることが好ましい。
上させるためには、ルツボの外側の加熱炉のみによって
ルツボを加熱するよりも、ルツボ自体を導電性材料によ
って形成し、このルツボに電力を供給することによっ
て、ルツボを発熱させることが好ましい。更に、ノズル
部内を流れる溶融物の溶融状態を保持するためには、ノ
ズル部を導電製材料によって形成し、このノズル部に電
力を供給することによって発熱させることが好ましい。
または、ノズル部、ルツボ部の各温度を高周波加熱によ
って制御することもできる。
配を大きくするためには、ルツボの通電機構とノズル部
の通電機構とを分離し、独立に制御できるようにするこ
とが好ましい。
の観点から、白金、白金−金合金、白金−ロジウム合
金、白金−イリジウム合金、イリジウム等の材料が好ま
しい。
抵抗率が比較的に低いので、これに電力を供給して有効
に発熱させるためには、ノズル部の厚さを小さくするこ
とによって、その抵抗値をある程度以上大きくする必要
がある。例えば、白金によってノズル部を形成した場合
には、100〜200μm程度の薄膜によって形成する
必要があった。しかし、このように薄い膜によってノズ
ル部を形成すると、構造的に弱くなり、ノズル部が変形
して、安定した単結晶の生産が困難になる場合があっ
た。
熱材を設置し、抵抗発熱材に対して電力を供給すること
によってこの抵抗発熱材を発熱させることができる。こ
の場合には、ノズル部の方を上述のように耐食性金属に
よって形成し、これに通電して発熱させることもできる
が、電力を供給しなくともよい。このように、ノズル部
を包囲する抵抗発熱材の方に主要な加熱機能を付与すれ
ば、ノズル部に要求される発熱の負荷は小さくなり、ま
たノズル部は発熱させなくとも良くなるので、ノズル部
の方を厚くする(例えば300μm以上)ことによっ
て、ノズル部の機械的強度を向上させることができ、量
産に適した装置とすることができる。
に対して原料を連続的に、または間欠的に供給すること
ができる。なぜなら、ルツボに対して原料を供給する
と、その原料の溶解熱によって、ルツボ内の熱的状態に
変動が発生し、単結晶の組成の変動等がこれによって発
生する。しかし、本発明によれば、ルツボ内でこうした
熱的変動が発生しても、単結晶育成部への熱的影響は少
なく、かつ単結晶育成部では平衡状態ではなく、速度論
的状態なので、熱的変動の影響をますます受けにくい。
なく、単結晶からなる板状体ないしプレートの製造に対
しても、良好に適用することができる。具体的なプレー
トの形成方法は後述する。
を集めており、特に半導体レーザー用の青色光第二高調
波発生(SHG)素子用の単結晶として注目されてい
る。これは、390nmの紫外光領域まで発生すること
が可能であるので、こうした短波長の光を利用すること
で、光ディスクメモリー用、医学用、光化学用、各種光
計測用等の幅広い応用が可能である。また、KLN単結
晶は、電気光学効果も大きいのて、そのフォトリフラク
ティブ効果を利用した光記憶素子等にも適用できる。
明の実施例を説明する。図1は、単結晶育成用の製造装
置を示す概略断面図であり、図2(a)〜(c)は、そ
のノズル部の先端部分の状態を説明するための概念図で
ある。
る。ルツボ7およびその上側空間5を包囲するように、
上側炉1が設置されており、上側炉1内にはヒーター2
が埋設されている。ルツボ7の下端部から下方向へと向
かってノズル部13が延びており、ノズル部13の下端
部に開口13aが形成されている。ノズル部13および
その周囲の空間6を包囲するように下側炉3が設置され
ており、下側炉3の中にヒーター4が埋設されている。
ルツボ7およびノズル部13は、いずれも耐食性の導電
性材料によって形成されている。むろんこの加熱炉の形
態自体は、種々変更することができ、例えば図1におい
ては加熱炉を2ゾーンに分割しているが、加熱炉を3ゾ
ーン以上に分割することもできる。
方の電極が電線9によって接続されており、ルツボ7の
下端Bに対して、電源10の他方の電極が接続されてい
る。ノズル部13の位置Cに対して、電源10の一方の
電極が電線9によって接続されており、ノズル部13の
下端Dに対して他方の電極が接続されている。これらの
各通電機構は、共に分離されており、独立してその電圧
を制御できるように構成されている。
を置いて、空間6内にアフターヒーター12が設けられ
ている。ルツボ7内で、取り入れ管11が上方向へと向
かって延びており、この取り入れ管11の上端に取り入
れ口22が設けられている。この取り入れ口22は、溶
融物8の底部から若干突き出している。
ズル部分の温度勾配が最適化されている場合には、アフ
ターヒーター12は必ずしも必要ではない。
から突き出さないように、ルツボの底に形成することも
できる。この場合には、取り入れ管11は設けない。し
かし、長期間にわたってこのルツボを使用すると、溶融
物内の不純物が徐々にルツボの底部に溜まっていく場合
がある。本実施例におけるように、取り入れ管11の上
端に取り入れ口22を設けることによって、ルツボの底
部に不純物が溜まっても、取り入れ管11が底部から突
き出していることから、底部の不純物が取り入れ口に入
りにくい。
ー12を発熱させて空間5、6の温度分布を適切に定
め、溶融物の原料をルツボ7内に供給し、ルツボ7およ
びノズル部13に電力を供給して発熱させる。この状態
では、図2(a)に示すように、ノズル部13の下端部
にある単結晶育成部35では、開口13aから溶融物8
が僅かに突出し、その表面張力によって保持されて、比
較的に平坦な表面17が形成されている。
重力は、ノズル部13内の壁面に対する溶融物の接触に
よって大きく減少している。特に、ノズル部13の内径
を0.5mm以下とすることによって、前記したように
均一な固相液相界面を形成することができた。
うに上方向へと移動させ、種結晶15の端面15aを表
面17に対して接触させる。次いで、図2(b)で示す
ように、種結晶15を下方向へと引下げる。この際、種
結晶15の上端部と、ノズル部13から下方向へと引き
出されてくる溶融物8との間には、均一な固相液相界面
(メニスカス)19が形成される。
の上側に単結晶ファイバー14が連続的に形成され、下
方向へと向かって引き出されてくる。本実施例では、こ
の種結晶15および単結晶ファイバー14を、ローラー
16によって送っている。
投入する粉末の量を増加させた場合には、図2(c)に
示すように、ノズル部13の開口13aから下方向へと
向かって、溶融物8による膨張部分20が形成される。
この状態で種結晶15の端面15aを溶融物8に対して
接触させると、良好な固相液相界面が形成されない。
置とほぼ同一のものであるので、図1のものと同じ機能
部材に同じ符号を付け、その説明は図1における説明を
援用することにする。ただし、図3の製造装置において
は、図1の装置において、ルツボ7自体に対しては電力
を供給する機構を有していないので、ルツボ7自体を発
熱させることはしない。しかし、この場合でも、上側炉
1の温度を調整することによって、また必要に応じてル
ツボ7の周囲に、図示しない高周波発熱機構を設置する
ことによって、ルツボ7内の原料を良好に溶融させるこ
とができる。
概略的に示す概略断面図である。図1〜図3の装置と同
じ部分には同じ符号を付け、その説明は省略する。ま
た、図1、図3に示した上側炉、下側炉といった周辺部
分は、図4においては図示を省略した。図4の装置にお
いては、ルツボ7の上端Fと略中央部Gとに対して、電
源10Aの電極が接続されており、ルツボ7の略中央部
Gと下端部Hとに対して、電源10Bの電極が接続され
ており、ルツボ7の下端部Hとノズル部の上端部Iとに
対して、交流電源10Cの電極が接続されている。ノズ
ル部13に対しては、交流電源10が接続されている。
これらの各通電機構は、共に分離されており、独立して
その電圧を制御できるように構成されている。
おけるルツボの形態を概略的に示す概略断面図である。
ルツボ7の下端部からノズル部24が延びており、ノズ
ル部24の下端部に開口24aが形成されており、この
開口24aから単結晶ファイバーまたはプレート14が
引き出されている。ルツボ7内で、取り入れ管11が上
方向へと向かって延びており、この取り入れ管11の上
端に取り入れ口22が設けられている。
24は、いずれも耐食性の導電性材料によって形成され
ている。ルツボ7の上端Aと下端Bとに対して、電源1
0の電極が接続されている。ノズル部24の周囲を囲む
ように、円管形状の発熱体25が設置されている。発熱
体25の上端Cに対して、電源10の一方の電極が電線
9によって接続されており、発熱体25の下端Dに対し
て他方の電極が接続されている。これらの各通電機構
は、共に分離されており、独立してその電圧を制御でき
るように構成されている。
囲に、図示しない高周波発熱機構を設置し、これを精密
に制御することによって、単結晶育成を行うことも可能
であった。
続すると、イオン化した溶融物の電気分解によって気泡
が発生する場合がある。この場合には、ノズル部に対し
ては交流電源を接続する必要がある。しかし、本実施例
のように、ノズル部の周囲に円管形状の発熱体25を設
置した場合には、この発熱体25に対して直流電源を接
続することも可能になる。
するルツボ26を概略的に示す概略断面図である。この
ルツボ26の本体28の下端部から下方向へと向かって
ノズル部13が延びており、これと反対側に上方向へと
向かって、取り入れ管11Aが延びている。ルツボ26
の本体28内において、平面的に見て円形の隔壁27
が、本体28の外壁と取り入れ管11Aとの間に設置さ
れている。隔壁27は、図示しない部分で本体28の外
壁に対して固定することができるが、ルツボの外部の部
材に対して隔壁27を取りつけることもできる。
触しておらず、このため隔壁27と本体28との間に隙
間39が生じている。従って、隔壁27の外側の原料供
給口37から空間38へと原料を供給すると、この原料
は空間38内で溶融し、この溶融物が空間38から隙間
39を通過し、空間40を上昇し、取り入れ口22から
取り入れ管11A内へと入る。
とによって、内径0.2mm以下のノズル部を形成する
ことは、一般には困難であり、または高コストである。
そこで、本発明者はこうした内径0.2mm以下の微細
径ノズルについても、次の方法で形成できることを見い
だした。
らなる耐食性部材、好ましくは平板に溝を形成し、この
平板を他の耐食性部材、好ましくは平板と貼り合わせた
り、接合することによってノズル部を形成した。このノ
ズル部内では、前記の溝が、細長い微細径の溶融物流通
孔となる。
両方の平板を貼り合わせるときにこれらの溝を一体化さ
せることで、溶融物流通孔を形成することができる。ま
たは、一方の平板に前記の溝を形成し、他方の平板は平
坦なままに放置し、両方の平板を貼り合わせるときに、
一方の平板上に形成された前記溝によって、溶融物流通
孔を形成することができる。
溝によって各溶融物流通孔を形成し、各溶融物流通孔か
ら同時に溶融物を流しだすことによって、後述するよう
に単結晶プレートを形成することができた。
1mm〜0.5mmとすることが好ましく、各溝の間隔
は0.1〜10mmとすることが好ましい。また、溝の
断面形状は、四角形、V字形状、半円形等とすることが
できる。
長い平板41を準備し、図7(b)に示すように、この
平板41の長手方向に延びるように、細長い溝42を形
成する。こうした溝42を各平板41に形成し、図7
(c)に示すように、各平板41を貼り合わせて、ノズ
ル部43を形成し、ノズル部43の中に溶融物流通孔4
4を形成する。図7(d)に示すように、ルツボ45の
底部45aに、ノズル部43が接合されており、ノズル
部43の溶融物流通孔44内を溶融物が流下する。こう
した方法であれば、単結晶ファイバーを形成するための
内径0.2mm以下のノズル部を、容易に製造すること
ができる。むろん、このノズル部の内径を0.2mm以
上とすることもできる。
体的なノズル部の形態について説明する。本発明者は、
μ引下げ法において、ノズル部の先端に、単結晶プレー
トの横断面に対応する平面形状の平坦面を形成し、この
ノズル部に複数列の溶融物流通孔を形成し、各溶融物流
通孔から同時に溶融物を引き下げ、各流通孔から引き下
げられた溶融物を平坦面に沿って一体化することによっ
て単結晶プレートを形成できることを確認した。
板形状とすることができる。また、管状のノズル部の先
端に拡張部を設け、この拡張部の先端面を前記のような
平坦面とすることができる。または、ノズル部を複数の
管状部材によって構成し、各管状部材を互いに接合して
一体化し、各管状部材の先端面によって一体の平坦面を
形成することができる。
6に複数列の細長い溝47を、互いに平行となるように
形成する。図8(b)に示すように、各平板46を貼り
合わせて、平板形状のノズル部48を形成し、ノズル部
48の中に複数列の溶融物流通孔49を形成する。50
は継ぎ目である。
ボ52の底部に、ノズル部48が接合されている。この
ルツボ52内の溶融物は、ノズル部48の各溶融物流通
孔49内を流下し、各溶融物流通孔49から流れだす。
このとき、各溶融物流通孔から流れだした溶融物が、ノ
ズル部48の平坦面48a上で一体となって流れ、この
平坦面48aの直下で固相となるが、これによってプレ
ート状の単結晶53がノズル部48の下方へと向かって
引き出される。こうした方法であれば、単結晶プレート
を形成するための内径の小さなノズル部を、容易に製造
することができる。
ル部71を、複数の管状部材55によって形成した。各
管状部材55を一列に配列し、各管状部材55の外周面
が連続するように設置した。ただし、図9においては、
ルツボの部分は図示を省略したが、例えば図8(c)に
示すようなルツボを使用することができる。各管状部材
55の中には、溶融体の流通孔54が形成されており、
各流通孔54は各管状部材55の下端の底面55aに開
口している。
流通孔54内を流下し、各流通孔54から底面55aへ
と流れだす。このとき、各流通孔54から流れだした溶
融物は、管状部材の各底面からなる平坦面72上で一体
となって流れ、この平坦面72の直下で固相となる。こ
れによって、プレート状の単結晶53が、ノズル部71
の下方へと向かって引き出される。
とができる。即ち、ノズル部を白金等の高融点金属によ
って形成した場合に、ノズル部に通電して発熱させるた
めには、ノズル部の厚さを0.2mm以下とすることが
好ましい。また、ノズル部の内部の流通孔の直径にも上
限がある。このためにノズル部の外径には制限がある。
一方、ノズル部から引き下げられるファイバーの直径
は、通常はノズル部の外径以下である。この結果、ノズ
ル部の外径が、所望のファイバーの外径よりも小さくな
る場合があり、この場合にはファイバーを引き下げるこ
とができなくなる。この問題を解決する手段として、ノ
ズル部を、外径が相対的に小さい本体と、本体の先端に
設けられた外径が相対的に大きい拡径部とによって構成
することができる。
概略的に示す概略的断面図である。ルツボ7の下端部か
らノズル部58が延びている。ノズル部58は、ノズル
部の本体56と、本体56の下端部にある拡径部57と
を備えている。拡径部57内に単結晶育成部35が設け
られている。拡径部57の開口57aから単結晶ファイ
バー14が矢印Jのように引き出されている。ルツボ
7、取り入れ管11、ノズル部の本体56、拡径部57
は、いずれも耐食性の導電性材料によって形成されてい
る。ルツボ7の上端Aと下端Bとに対して、電源10の
電極が接続されている。また、ノズル部の本体56に
は、例えばCおよびDにおいて電源10からの電線9が
接続されている。
け、この拡張部の先端面を前記のような平坦面とし,こ
の平坦面に沿って単結晶プレートを引き下げる態様につ
いて例示する。図11は、この態様に係る装置を概略的
に示す概略的断面図である。ルツボ7の下端部からノズ
ル部が延びている。ノズル部の本体59の中には溶融物
の流通孔59aがあり、下端に開口59bが形成されて
いる。
る。拡張部60の外殻60aは略平板形状をしており、
外殻60aの中に図面において水平方向に広がる流通孔
60cが形成されている。また、多数の垂直方向に延び
る流通孔60bが外殻60aの中に形成されており、各
流通孔60bは互いに水平に、かつ所定間隔をもって規
則的に形成されている。各流通孔60bの先端側にそれ
ぞれ開口60dが形成されている。拡張部60の下側に
は平坦面61が形成されている。
9の流通孔59a内を流下し、流通孔60cを水平方向
に流れ、各流通孔60bを通り、開口60dから流れだ
す。各開口60dから流れだした溶融物が、平坦面61
上で一体となって流れ、この平坦面61の直下で固相と
なり、これによってプレート状の単結晶53がノズル部
の下方へと向かって引き出される。
結晶育成用の製造装置を示す概略断面図であり、図13
は、図12の装置を概略的に示す平面図である。溶融炉
66の内部に略円筒形状のルツボ63が設置されてお
り、ルツボ63を例えば3方向から包囲するように加熱
装置65A、65Bおよび65Cが設置されている。ル
ツボ63の中には溶融物8が収容されている。ルツボ6
3の位置Aに対して、電源10の一方の電極が電線9に
よって接続されており、ルツボ63の下端Bに対して、
電源10の他方の電極が接続されている。ルツボ63の
底壁63bの形態は本実施例では平板形状としたが、こ
の形態は種々変更できる。
は、断熱壁68によって育成炉に対して区切られてい
る。ルツボ63の側壁63aにノズル部64が設けられ
ている。ルツボおよびノズル部は、いずれも耐食性の導
電性材料によって形成されている。ノズル部64は、側
壁63aから水平方向に突出する水平部64a、この水
平部64aから垂直方向に延びる垂直部64b、断熱壁
68の貫通孔68a内に挿通されている挿通部64c、
および、挿通部64cの先端から下方向へと延びている
先端部64dを備えている。即ち、ノズル部64は、ノ
ズル部とルツボとの結合部分77から見て上方へと延び
る垂直部64bを備えている。ノズル部64の所定箇
所、例えばL、Mに電源10を接続し、ノズル部64を
発熱させうるようにしておく。
突出位置は、溶融物の液面30とルツボの底面73との
間で、両者の中間以下の高さに設けることが好ましい。
なぜなら、特にルツボ内に継続的に、または間欠的に原
料を供給する場合には、溶融物8の液面の近くでは、組
成の微小な変動が起こりやすく、酸化物単結晶の組成に
影響する可能性があるが、前記のノズル部の突出位置
を、溶融物の液面30とルツボの底面73との中間以下
の高さに設けることによって、この原料の供給に伴う組
成への影響を防止できるからである。
熱させ、かつルツボに通電して発熱させることによっ
て、ルツボ内の原料を溶融させる。ノズル部64に通電
してノズル部64内の温度分布を適切に定め、ノズル部
64内で溶融物が滞留しないようにする。これと共に、
断熱壁68の厚さおよび材質、ヒーター67の温度、ア
フターヒーター12の温度を適切に定めることによっ
て、特に単結晶育成部35の近辺の温度分布を最適化す
る。これによって、ノズル部64の開口76から単結晶
ファイバーまたはプレート14を引き下げる。本実施例
では、この種結晶15および単結晶ファイバー等14
を、ローラー16によって送る。
置においても、前記したように、少なくともノズル部の
先端に平坦面を設け、この平坦面に沿って単結晶プレー
トを引き下げるようにすることができる。この場合に
も、前記したように、板状のノズル部を使用することも
可能である。ただし、本態様においては、ノズル部それ
自体を屈曲させることによって、ノズル部の引出し口が
ルツボの底面よりも高い位置に位置するようにしてい
る。この際、板状のノズル部を、例えば図12、図13
に示すように屈曲させることも、製造上実施可能であ
る。
例えば図12に示すような管状とし、この管状のノズル
部本体の先端に拡張部を設け、この拡張部の先端面を前
記のような平坦面とし,この平坦面に沿って単結晶プレ
ートを引き下げることができる。この態様について、図
14を参照しつつ、例示する。
晶製造装置において、他のノズル部を使用した場合のノ
ズル部の先端部の周辺を、育成炉側から見たときの部分
断面図である。本実施例の製造装置のルツボ63、溶融
炉等については、図12、図13に示すものと同じであ
る。ノズル部の本体69は、貫通孔68aの外側では垂
直方向下向きに形成されており、本体69に拡張部60
が接合されている。本体69の中には流通孔69aがあ
り、下端に開口69bが形成されている。
と同じである。ルツボ7内の溶融物は、ノズル部の本体
69の流通孔内を流下し、流通孔60cを水平方向に流
れ、各流通孔60bを通り、開口60dから流れだす。
各開口60dから流れだした溶融物が、平坦面61上で
一体となって流れ、この平坦面61の直下で固相とな
り、これによってプレート状の単結晶53がノズル部の
下方へと向かって引き出される。
る。 (実施例1)図1に示すような単結晶製造装置を使用
し、本発明に従ってKLN単結晶ファイバーを製造し
た。ただし、ノズル部としては、図10に示す形態のノ
ズル部58を使用した。上側炉1と下側炉3とによって
炉内全体の温度を制御した。ノズル部58に対する電力
供給とアフターヒーター12の発熱とによって、単結晶
育成部35近辺の温度勾配を制御できるように構成し
た。単結晶ファイバーの引下げ機構としては、垂直方向
に2〜100mm/時間の範囲内で、引下げ速度を均一
に制御しながら、単結晶ファイバーを引き下げる機構を
搭載した。
オブを、30:20:50の組成比率で調合して原料粉
末を製造した。この原料粉末約50gを、白金製のルツ
ボ7内に供給し、このルツボ7を所定位置に設置した。
上側炉1内の空間5の温度を1100〜1200℃の範
囲に調整し、ルツボ7内の原料を融解させた。下側炉3
内の空間6の温度は、500〜1000℃に均一に制御
した。ルツボ7、ノズル部58およびアフターヒーター
12に対して所定の電力を供給し、単結晶成長を実施し
た。この際、単結晶育成部の温度を1050℃〜115
0℃とすることができ、単結晶育成部における温度勾配
を10〜150℃/mmに制御することができた。
形状は円形とした。このうち、本体56の外径は0.4
mmとし、内径は0.2mmとし、長さは20mmとし
た。拡径部57の外径は1.0mmとし、内径は0.2
mmとし、長さは2mmとした。ルツボ7の平面形状は
円形とし、その直径は30mmとし、その高さは30m
mとした。この状態で、20mm/時間の速度でa軸方
向に単結晶ファイバーを引き下げたところ、良好なKL
N単結晶ファイバーを引き下げうることが判明した。ま
た、これと同様にして、c軸方向にも単結晶ファイバー
を引き下げることができた。
mm、長さ100mmの単結晶ファイバーについて、こ
の単結晶ファイバーを長さ方向(育成した方向)に見た
ときの組成分布について検査した。具体的には、SHG
位相整合波長を単結晶ファイバーの長さ方向の各部分に
対して照射し、その出力光の波長を測定した。KLN単
結晶の組成が僅かでも変動すれば、その組成変動によっ
て、SHG位相整合波長に変化が生じてくる。
精度、即ち、組成に換算すると0.01mol%以下
の、KLN単結晶としてかつてない高い精度で、組成を
制御することができた。また、その波長変換効率も、ほ
ぼ±2%以下の測定誤差の範囲内で、理論値とほぼ同一
の測定値が得られた。
N単結晶ファイバーを育成した。ただし、ルツボ7へと
間欠的に原料を投入する原料供給機構を炉内に設けた。
また、炉の下に単結晶ファイバーを間欠的に所定長さで
切断する機構を設けることによって、連続的に単結晶フ
ァイバーを育成した。単結晶ファイバーの育成が進行し
てくるのにつれて、育成した単結晶の量およびルツボ7
から揮発した成分の量に相当する量の原料粉末を、ルツ
ボ7内へと供給した。こうして、長さほぼ10mの単結
晶ファイバーを連続的に形成し、その組成変動を、実施
例1と同様の方法で測定した。この結果、ほぼ10mの
長さの全長にわたって、その組成変動を0.01mol
%以下に抑制することに成功した。
およびルツボ52を使用し、厚さ1mm、幅30mmの
KLN単結晶プレートを引き下げることに成功した。た
だし、平板46としては寸法30mm×30mm×0.
6mmの白金板を使用した。この白金板に、ダイシング
加工によって溝47を形成した。ただし、溝47の間隔
は5mmとし、溝47の幅は0.1mmとした。2枚の
白金板を接合することによって、厚さ1.2mmの平板
形状のノズル部を形成した。図8(a)〜(c)を参照
しつつ説明したようにして、溶融物を各溶融物流通孔か
ら流した。単結晶プレートの内部でのSHG位相整合波
長と変換効率とを測定したところ、前記した単結晶ファ
イバーの場合と同様の値が得られた。
固溶させた単結晶を育成する方法に対して、本発明を適
用した。ただし、この系においては、例えばCZ法を使
用した場合には、ネオジムの固溶量は0.3mol%程
度である。
をmol比率で1:49:50の組成比率に調合し、原
料粉末を製造した。実施例1と同様の単結晶ファイバー
製造装置を使用した。上記の原料粉末約50gをルツボ
7内に収容した。上側炉1内の空間5の温度を1250
〜1350℃の範囲に調整し、ルツボ7内の原料を融解
させた。下側炉3内の空間6の温度は、500〜120
0℃に均一に制御した。ルツボ7、ノズル部13および
アフターヒーター12に対して所定の電力を供給し、単
結晶成長を実施した。
〜1300℃とし、単結晶育成部における温度勾配を1
0〜150℃/mmに制御した。この状態で、20mm
/時間の速度で単結晶ファイバーを引き下げたところ、
良好なNd─LiNbO3 単結晶ファイバーを引き下げ
うることが判明した。
mm、長さ100mmの単結晶ファイバーについて、こ
の単結晶ファイバーを長さ方向(育成した方向)に見た
ときの組成分布について、EPMAによって元素分析し
た。この結果、原料粉末における組成ではネオジムの比
率を1.0mol%にしたが、単結晶ファイバーでは、
1.0mol%に対して±2%の検出限界以下の精度
で、組成が制御されていたことが判明した。また、この
単結晶を用いて、Ndのレーザー発振実験を行ったとこ
ろ、CZ法によって製造した試料に比べて、3倍以上の
出力を得ることができ、その波長特性もシャープであっ
た。
うな単結晶製造装置を使用し、前述した方法に従ってK
LN単結晶ファイバーを製造した。炭酸カリウム、炭酸
リチウムおよび酸化ニオブを、30:20:50の組成
比率で調合して原料粉末を製造した。この原料粉末約5
0gを、白金製のルツボ63内に供給し、このルツボを
所定位置に設置した。加熱装置65A、65B、65C
によって溶融炉66内の温度を制御し、加熱装置67に
よって育成炉70側の温度を制御した。ノズル部64に
対する電力供給とアフターヒーター12の発熱とによっ
て、単結晶育成部35近辺の温度勾配を制御できるよう
に構成した。単結晶ファイバーの引下げ機構としては、
垂直方向に2〜100mm/時間の範囲内で、引下げ速
度を均一に制御しながら、単結晶ファイバーを引き下げ
る機構を搭載した。
制御し、ルツボ内の原料を融解させた。育成炉70の温
度は、500〜1000℃に均一に制御した。ルツボ6
3、ノズル部64およびアフターヒーター12に対して
所定の電力を供給し、各部分における温度勾配を最適化
し、単結晶の育成を実施した。この際、単結晶育成部3
5の温度を1050℃〜1150℃とし、単結晶育成部
における温度勾配を10〜150℃/mmに制御するこ
とができた。
いずれも円形とし、外径は1mmとし、内径は0.8m
mとし、長さは約50mmとした。ルツボ63の溶融物
の液面30と底面73との中間付近からノズル部64を
水平方向へと引き出した。ルツボ63の平面形状は円形
とし、その直径は30mmとし、その高さは30mmと
した。この状態で、20mm/時間の速度でa軸方向に
単結晶ファイバーを引き下げたところ、良好なKLN単
結晶ファイバーを引き下げうることが判明した。また、
これと同様にして、c軸方向にも単結晶ファイバーを引
き下げることができた。
mm、長さ100mmの単結晶ファイバーについて、こ
の単結晶ファイバーを長さ方向(育成した方向)に見た
ときの組成分布について、実施例1と同様にして試験し
た。この結果、1nm以下の精度、即ち、組成に換算す
ると0.01mol%以下の、KLN単結晶としてかつ
てない高い精度で、組成を制御することができた。ま
た、その波長変換効率も、ほぼ±2%以下の測定誤差の
範囲内で、理論値とほぼ同一の測定値が得られた。
N単結晶ファイバーを育成した。ただし、ルツボ63へ
と間欠的に原料を投入する原料供給機構を炉内に設け
た。また、アフターヒーターの下に、単結晶ファイバー
を間欠的に所定長さで切断する機構を設けることによっ
て、連続的に単結晶ファイバーを育成した。
につれて、ルツボ内の溶融物の量が減少してくる。ここ
で、溶融物の液面がノズル部の先端に対して0.5mm
±0.1mm程度高い位置に位置するように、原料粉末
をルツボ内へと供給した。こうして、長さほぼ10mの
単結晶ファイバーを連続的に形成し、その組成変動を、
実施例1と同様の方法で測定した。この結果、ほぼ10
mの長さの全長にわたって、その組成変動を0.01m
ol%以下に抑制することに成功した。
様にして実施し、図14に示すようなノズル部を使用
し、厚さ1mm、幅30mmのKLN単結晶プレートを
引き下げることに成功した。先端部60を、高さ3m
m、幅30mm、厚さ1mmの白金板によって形成し
た。各流通孔60bの間隔を3mmとし、各流通孔60
bの各幅は0.5mmとした。
つれて、ルツボ内の溶融物の量が減少してくる。ここ
で、溶融物の液面がノズル部の先端に対して2.0±
0.1mm程度高い位置に位置するように、原料粉末を
ルツボ内へと供給した。単結晶プレートの内部でのSH
G位相整合波長と変換効率とを測定したところ、前記し
た単結晶ファイバーの場合と同様の値が得られた。
固溶させた単結晶を育成する方法に対して、本発明を適
用した。実施例5と同様の方法でこの単結晶を育成し
た。ただし、酸化ネオジム、炭酸リチウム、酸化ニオブ
をmol比率で1:49:50の組成比率に調合し、原
料粉末を製造した。原料粉末約50gを白金ルツボ63
内に収容した。溶融炉の内部は1250℃〜1350℃
に制御し、ルツボ内の原料を融解させた。育成炉70の
温度は、500〜1200℃に均一に制御した。ルツボ
63、ノズル部64およびアフターヒーター12に対し
て所定の電力を供給し、各部分における温度勾配を最適
化し、単結晶の育成を実施した。この際、単結晶育成部
35の温度を1200℃〜1300℃とし、単結晶育成
部における温度勾配を10〜50℃/mmに制御した。
晶ファイバーを引き下げたところ、良好な単結晶ファイ
バーを引き下げうることが判明した。
mm、長さ100mmの単結晶ファイバーについて、こ
の単結晶ファイバーを長さ方向(育成した方向)に見た
ときの組成分布について、EPMAによって元素分析し
た。この結果、原料粉末における組成ではネオジムの比
率を1.0mol%にしたが、単結晶ファイバーでは、
1.0mol%に対して±2%の検出限界以下の精度
で、組成が制御されていたことが判明した。また、この
単結晶を用いて、Ndのレーザー発振実験を行ったとこ
ろ、CZ法によって製造した試料に比べて、3倍以上の
出力を得ることができ、その波長特性もシャープであっ
た。
用し、実験1と同様のKLN単結晶ファイバーを作成し
た。原料粉末の量は500mgとした。ルツボは白金に
よって作成した。上側炉と下側炉とによって炉内全体の
温度を制御した。上側炉内の空間の温度を1100〜1
200℃の範囲に調整し、ルツボ内の原料を融解させ
た。下側炉3内の空間6の温度は、500〜1000℃
に均一に制御した。ルツボに対して電力を供給し、これ
によって引出し口からの単結晶の育成、引出しを制御し
ようと試みた。この状態で、20mm/時間の速度で単
結晶ファイバーを引き下げたところ、KLN単結晶ファ
イバーを引き下げることができた。
長さ100mmの単結晶ファイバーについて、この単結
晶ファイバーを長さ方向(育成した方向)に見たときの
組成分布について、実験1と同様にして検査した。この
結果、出力光の波長に、50nmの変動があった。これ
は、組成に換算すると1.0mol%を越えており、S
HG素子用としては、実用上問題があるレベルであっ
た。
ボから引き出された成分およびルツボから蒸発した成分
の量に相当する量の原料粉末を、ルツボへと定期的に供
給し、連続的に単結晶ファイバーを育成することを試み
た。しかし、一度原料を供給すると、ルツボ内での熱平
衡状態が大きく崩れたため、単結晶ファイバーの育成の
継続は不可能になった。
ボの寸法を大きくし、ルツボに最初に投入する原料粉末
の量を5gにまで増加させた。上側炉と下側炉とによっ
て炉内全体の温度を制御し、ルツボに対して電力を供給
し、これによって引出し口からの単結晶の育成、引出し
を制御しようと試みた。
℃と低く調整すると、ルツボに対する電力供給量を多く
して、ルツボ内の原料粉末の融解を促進する必要がある
が、この出力を大きくすると溶融物が結晶化しなくなっ
た。一方ルツボへの供給電力を小さくしていくと、引出
し口から出る前に溶融物が固体化してしまった。このよ
うに、単結晶を引き出す条件を見いだすことはできなか
った。
と、炉体からの熱輻射によって、結晶成長点である引出
し口付近で、結晶化に必要な温度勾配を維持することは
できなくなり、やはり単結晶ファイバーを引き下げるこ
とはできなかった。
引下げ法によって酸化物単結晶を育成するのに際して、
多量の原料を処理して連続的に多量の酸化物単結晶を引
き下げて形成することができ、しかもこの酸化物単結晶
の組成の変動等を防止して、高品質の酸化物単結晶を製
造することができる。従って、本発明は、こうした酸化
物単結晶のファイバーやプレートを量産する上で、きわ
めて重要な技術である。
置を示す概略断面図である。
ノズル部13の先端部分の状態を説明するための概念図
である。
造装置を示す概略断面図である。
ルツボおよびその電力供給機構の構成を概略的に示す概
略断面図である。
ルツボおよびその電力供給機構の構成を概略的に示す概
略断面図である。
ルツボの構成を概略的に示す概略断面図である。
平面図であり、(b)は、この平板41に溝42を形成
した状態を示す平面図であり、(c)は、一対の平板4
1を接合することによって形成したノズル部43を示す
断面図であり、(d)は、このノズル部43を取り付け
たルツボ45を示す断面図である。
列の溝47を形成した状態を示す平面図であり、(b)
は、一対の平板46を接合することによって形成したノ
ズル部48を示す断面図であり、(c)は、このノズル
部48を取り付けたルツボ45を示す断面図である。
す破断斜視図である。
大きい拡径部57を設けたノズル部58およびルツボの
周辺を概略的に示す断面図である。
張部を設けた態様に係る装置を概略的に示す概略的断面
図である。
製造装置を示す概略断面図である。
おいて、他のノズル部を使用した場合のノズル部の先端
部の周辺を、貫通孔68aに対して平行な方向から見た
ときの部分断面図である。
炉、 5上側炉1内の空間、 6 下側炉3内の空間、
7,26,45,52,63ルツボ、 8 溶融物、
10 交流電源(通電機構)、 11 取り入れ管、
12 アフターヒーター、 13,24,43,48,
58,64 ノズル部、 14 単結晶ファイバーない
しプレート、 15 種結晶、 16 ローラー、 1
9 固相と液相との界面、 22 溶融物の取り入れ
口、 30 溶融物の表面、 35 単結晶育成部、
53 単結晶プレート、 56 ノズル部58の本体、
57 ノズル部58の拡径部、 59 ノズル部の本
体、 60拡張部、 65A,65B,65C,67
加熱装置、 48a,61,72平坦面、 66 溶融
炉、 68 断熱壁、 68a 断熱壁68の貫通孔、
70 育成炉、 73 ルツボの底面、 75 ノズル
部の先端面
Claims (19)
- 【請求項1】酸化物単結晶の原料をルツボ内で溶融さ
せ、この溶融物に対して種結晶を接触させ、前記溶融物
を下方へと向かって引下げながら前記酸化物単結晶を育
成する、酸化物単結晶の製造方法であって、 前記ルツボと、このルツボから延びるノズル部とを備え
ており、このノズル部の先端に下方向を向いた単結晶育
成部が設けられている製造装置を使用し、前記ルツボと
前記単結晶育成部とを互いに独立に温度制御することを
特徴とする、酸化物単結晶の製造方法。 - 【請求項2】前記単結晶育成部における前記溶融物の環
境に対して、重力よりも表面張力の方が支配的であるこ
とを特徴とする、請求項1記載の酸化物単結晶の製造方
法。 - 【請求項3】前記ルツボから前記ノズル部が下方向へと
向かって延びており、前記ノズル部の下端部に前記単結
晶育成部が設けられていることを特徴とする、請求項1
または2記載の酸化物単結晶の製造方法。 - 【請求項4】前記ルツボの側面に前記ノズル部が設けら
れており、かつ前記ノズル部の一部が前記ルツボと前記
ノズル部との結合部分よりも上方向へと延びていること
を特徴とする、請求項1または2記載の酸化物単結晶の
製造方法。 - 【請求項5】前記ノズル部の先端面の高さを0としたと
きの前記ルツボ内の前記溶融物の液面の高さを、−10
mm以上、50mm以下とすることを特徴とする、請求
項4記載の酸化物単結晶の製造方法。 - 【請求項6】前記ノズル部から連続的に前記溶融物を引
下げながら、前記ルツボに対して定期的または連続的に
前記原料を供給することによって、連続的に前記酸化物
単結晶を育成することを特徴とする、請求項1〜5のい
ずれか一つの請求項に記載の酸化物単結晶の製造方法。 - 【請求項7】前記ノズル部の先端に前記単結晶プレート
の横断面に対応する平面形状の平坦面を形成し、このノ
ズル部に複数列の溶融物流通孔を形成し、各溶融物流通
孔から同時に前記溶融物を引き下げ、各流通孔から引き
下げられた溶融物を前記平坦面に沿って一体化すること
によって前記単結晶プレートを形成することを特徴とす
る、請求項1〜6のいずれか一つの請求項に記載の酸化
物単結晶の製造方法。 - 【請求項8】前記酸化物単結晶が固溶体単結晶であるこ
とを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一つの請求項
に記載の酸化物単結晶の製造方法。 - 【請求項9】前記酸化物単結晶が、偏析のある酸化物単
結晶であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか
一つの請求項に記載の酸化物単結晶の製造方法。 - 【請求項10】酸化物単結晶の原料をルツボ内で溶融さ
せ、この溶融物に対して種結晶を接触させ、前記溶融物
を下方へと向かって引下げながら前記酸化物単結晶を育
成する、酸化物単結晶の製造装置であって、前記ルツボ
と、このルツボから延びるノズル部と、このノズル部の
下端に設けられている単結晶育成部と、前記ルツボと前
記単結晶育成部とを互いに独立に温度制御する加熱機構
とを備えていることを特徴とする、酸化物単結晶の製造
装置。 - 【請求項11】前記ルツボの側面に前記ノズル部が設け
られており、前記ノズル部の一部が前記ルツボと前記ノ
ズル部との結合部分よりも上方向へと延びていることを
特徴とする、請求項10記載の酸化物単結晶製造装置。 - 【請求項12】前記ルツボが収容されている溶融炉と、
前記単結晶育成部が設けられている育成炉とを断熱する
断熱壁を備えており、この断熱壁に設けられた貫通穴に
前記ノズル部が挿通されていることを特徴とする、請求
項11記載の酸化物単結晶の製造装置。 - 【請求項13】前記ノズル部の内径が0.5mm以下で
あることを特徴とする、請求項10〜12のいずれか一
つの請求項に記載の酸化物単結晶の製造装置。 - 【請求項14】前記ルツボおよび前記ノズル部が導電性
材料によって形成されており、前記ルツボに対して電力
を供給することによってこのルツボを発熱させる通電機
構と、前記ノズル部に対して電力を供給することによっ
てこのノズル部を発熱させる通電機構とを備えており、
前記ルツボの通電機構と前記ノズル部の通電機構とが分
離されていることを特徴とする、請求項10〜12のい
ずれか一つの請求項に記載の酸化物単結晶の製造装置。 - 【請求項15】前記ノズル部の通電機構としての交流電
源を備えていることを特徴とする、請求項14記載の酸
化物単結晶の製造装置。 - 【請求項16】前記ノズル部を高周波誘導によって発熱
させるための高周波加熱機構を備えていることを特徴と
する、請求項14記載の酸化物単結晶の製造装置。 - 【請求項17】前記ルツボが導電性材料によって形成さ
れており、前記ノズル部を包囲するように抵抗発熱材が
設置されており、前記ルツボに対して電力を供給するこ
とによって発熱させる通電機構と、前記抵抗発熱材に対
して電力を供給することによってこの抵抗発熱材を発熱
させる通電機構とを備えており、前記ルツボの通電機構
と前記抵抗発熱材の通電機構とが分離されていることを
特徴とする、請求項10〜13のいずれか一つの請求項
に記載の酸化物単結晶の製造装置。 - 【請求項18】前記ノズル部が、一対の耐食性部材の接
合体からなり、少なくとも一方の前記耐食性部材の表面
に溝が形成されており、この溝によって前記溶融物の流
通孔が形成されていることを特徴とする、請求項10〜
13のいずれか一つの請求項に記載の酸化物単結晶の製
造装置。 - 【請求項19】前記ノズル部の先端に前記単結晶プレー
トの横断面に対応する平面形状の平坦面が形成されてお
り、このノズル部に複数列の溶融物流通孔が形成されて
おり、各溶融物流通孔の各開口が前記平坦面に面してい
ることを特徴とする、請求項10〜13のいずれか一つ
の請求項に記載の酸化物単結晶の製造装置。
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