JPH08321065A

JPH08321065A - 光ディスク装置

Info

Publication number: JPH08321065A
Application number: JP7123385A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Minemura; 浩行峯邑; Takeshi Shimano; 健島野
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1995-05-23
Filing date: 1995-05-23
Publication date: 1996-12-03

Abstract

(57)【要約】【目的】基板厚さのことなる光ディスク間での再生互換
を高効率の光学系で実現すること。【構成】光ディスク１００の基板厚さを検出し、その結
果に基づいて光ビームの開口の大きさをシャッタ１２０
で変化させることによって球面収差を最小化し、光スポ
ットの分解能を向上する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】光学的に情報を記録もしくは再生
する装置に係り、特にディスク状の媒体で基板の厚さの
異なる媒体の再生互換を可能とする光デイスク装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスクとして代表的なものにコンパ
クトディスク（ＣＤ）があり、音楽用途の他に動画やＣ
Ｄ−ＲＯＭとしてコンピュータの外部記憶装置としても
広く普及している。コンパクトディスクを始めとして現
在製品化されている光ディスクは１．２ｍｍの透明基板
の上に情報記録面をもつ。光ディスクへの信号の記録も
しくは再生方法時には基板越しに光ビームを照射するこ
とにより、基板のゴミやキズ等の影響を受けず非接触に
大容量の情報にアクセスすることができる。光ディスク
の高密度化には光源の短波長化とともに対物レンズの開
口数の増大が有効である。

【０００３】しかしながら、開口数を大きくすると光デ
ィスクの基板の傾きのよって生じる収差、主にコマ収差
が大きくなり、再生スポットの強度分布が乱れるので、
開口数をあまり大きくすることができない。現在実用化
されている光ディスクの対物レンズの開口数はおおむね
０．４５から０．５５である。よく知られているように
基板の傾きによって生じる収差は基板の厚さに比例する
ので、収差の許容値が同じであれば、薄い基板を使用し
た光ディスクの方が開口数を大きくでき高密度化に有利
である。従って、世代が進むにつれて光ディスクの基板
は薄型化されることが予想される。この場合、基板の厚
さの異なる光ディスクから信号を良好に再生する技術が
必須となる。具体的には、短波長、大開口数、薄板基板
対応の光学系で長波長、小開口数、厚板基板の媒体を少
なくとも再生する必要がある。これには、以下に示すよ
うに開口制限と基板厚の差に起因する球面収差補正の技
術が必要になる。

【０００４】こうした光学系の例として（１）Yoshiaki
KommaらのDual Focus Optical Head for 0.6mm and 1.
2mm Disks, Optical Review,Vol.1, No.1(1994) 27-29
がある。これはホログラム素子を用いて開口制限と球面
収差補正を同時に行うもので、１．２ｍｍ厚基板の媒体
にはホログラム素子の１次回折光を用い、０．６ｍｍ基
板の媒体の対しては０次回折光（透過光）を用いるもの
である。また、基板厚さの変化には直接言及していない
が短波長、大開口数対応の媒体の光学系で、長波長、小
開口数対応の媒体に対応する技術の例としては、（２）
特開平５−３４２６２３号公報に記載のものがある。こ
れは機械的なシャッター機構を用いて対物レンズの開口
数を変化させるものである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術のうち
（１）に関しては、光利用効率と迷光対策に改善の余地
がある。ホログラム素子は受動素子であって基本的にビ
ームを分離する機能だけを持つため、前述した０次と１
次の回折光の効率はブレーズ化等を行ってもともに４０
％程度が上限である。光ビームはホログラム素子を往復
するので、検出可能な光量がホログラム素子を使わない
通常の光学系に比較して４０％ｘ４０％＝１６％程度ま
で低下してしまう。検出光量が大きければ比較的安価な
信号処理回路で対応できるが、検出光量が少ないと信号
量が低下し、回路系や検出器の低ノイズ化が必要となり
コストの増加を伴ってしまう。

【０００６】また、０次光と１次光が常に存在するた
め、どちらを検出してももう片方の光が迷光としてサー
ボ系や信号系にノイズとなって影響を及ぼすことが避け
られない。また、通常の光学系がほぼ一様な強度分布の
レーザ光を対物レンズで集光するのに対して、本例のホ
ログラム素子は透過率にが不均一のため、集光スポット
が理論的な分布からずれることも避けられない。

【０００７】従来の技術（２）に関しては、基本的に基
板の厚さが等しく、波長と開口数が異なる世代型の光デ
ィスク間で再生互換性を実現するものである。従って、
長波長、小開口数対応の光ディスク媒体に照射する光の
スポットが旧型の装置と同じになるように、新型の装置
の対物レンズの開口数を機械式シャッター等で変化させ
るものである。基板の厚さの差による球面収差の低減方
法が開示されておらず、このままでは基板厚さの異なる
世代型の光ディスク間での再生互換性は実現できない。

【０００８】本発明の目的は基板厚さの異なる世代型の
光ディスク間での再生互換性を実現すると同時に、従来
例（１）に比較して検出光量の増加と迷光対策を施すこ
とにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに、本発明では制限開口を用いその値の最適化するこ
とで光学系の分解能を最大とし、かつ残留球面収差の影
響を低減するため再生波形等化をおこなう。以下にその
方法を示す。

【００１０】基板厚さの変化に対する球面収差量W40は
以下の様に表される。

【００１１】W40=δ(n^2-1)NA^4/(8 n^3) （式１）ここで、δは基板厚さの変化量、nは基板の屈折率、NA
は対物レンズの開口数であり、^はべき乗を示す。この
式からも球面収差は対物レンズの開口数の４乗に比例し
て大きくなるので、光ビームの周辺部を遮光して対物レ
ンズの開口数を実効的に小さくすることによって収差を
大幅に低減できる。

【００１２】図１は対物レンズの開口数と球面収差の関
係を表す。ここでは、再生波長を６５０ｎｍとし基板の
厚さずれ０．４，０．６，０．８ｍｍの場合について示
した。通常の光ディスクの基板厚さは１．２ｍｍである
のでこれらはそれぞれ０．８，０．６，０．４ｍｍの薄
板基板のディスクに対応する。

【００１３】収差量が大きいと集光スポットの中心強度
（ストレール強度）が低下する。ストレール強度をＩｓ
ｔ、収差のｒｍｓ値をＷｒｍｓとしたとき、両者には以
下のよく知られた関係がある。

【００１４】Ist=1-(2πWrms)^2 （式２） Wrms=W40/6/Sqrt(5) （式３）図中に破線で示したマーシャルの基準値はストレール強
度が０．８となるときの収差量（Ｗ４０＝０．９４λ）
を表し、光ディスクから信号を再生するには収差量をこ
の値以下にする必要がある。

【００１５】開口数を小さくすることによって、球面収
差を小さくすることが可能であるが、集光スポットの大
きさがλ／ＮＡで表されるために、開口数を小さくする
と集光スポットがディスク上の信号マークに比較して大
きくなりすぎて良好な再生信号をえられなくなってしま
う。この関係を考えるため、集光スポット径の効果を考
慮した相対ストレール強度Ｉｓｔ’を以下のように導入
する。

【００１６】Ist'=Ist / (λ/NA)^2 （式４）（式４）の分子は球面収差による中心強度の減少を表
し、分母は集光スポットの面積に対応する項を表すた
め、Ｉｓｔ’は一定の強度の光ビームを集光した場合の
スポット中心の光強度を相対的に表したものである。従
って、Ｉｓｔ’が最大にするように開口数を選ぶことに
よって最も高い分解能の集光スポットが得られる。

【００１７】図２は相対ストレール強度と開口数の関係
を示したものである。ここでは、コンパクトディスク
（基板厚１．２ｍｍ、再生波長７８０ｎｍ、開口数０．
４５）を波長６５０ｎｍの薄板基板対応の光学系で再生
することを検討した。図中、の相対ストレール強度はコ
ンパクトディスクの光学系のスポット中心強度を１とし
て規格化したものである。図に見られるように相対スト
レール強度が最大となる開口数が存在することがわか
る。これを開口数の最適値とすると、基板厚さのずれ量
０．４，０．６，０．８ｍｍに対してそれぞれ０．３
５，０．３９，０．４３となる。マーシャルの基準値の
考え方に従って、相対ストレール強度が０．８以上とな
る条件は、基板の厚さのずれが０．８ｍｍになると存在
しないが、０．４，０．６ｍｍならば存在することがわ
かる。この条件を満たすとき、光ビームの周辺部を遮光
する等によって開口数を適正な値にすれば、薄板基板対
応の光学系で厚板基板のディスクを再生できることがわ
かる。

【００１８】図３は遮光部材として液晶シャッタを用い
た場合の光学系の構成を模式的に示したものである。図
中、１００は光ディスク媒体、１１０は対物レンズ、１
２０は液晶シャッタをそれぞれ表す。対物レンズは薄板
基板のディスクに対して球面収差が最小になるように設
定されているものとする。図４左側に示すように薄板基
板のディスクから信号を再生または記録する場合には、
液晶シャッタ１２０は光ビーム１０を全て透過する。こ
れは通常の光ディスクの光学系と同様である。次に、図
４右側に示すように、この光学系で板厚が厚いディスク
から信号を再生または記録する場合には、液晶シャッタ
１２０によって光ビーム１０の周辺部を遮光することに
よって、対物レンズの開口数を実効的に上に示した最適
値に設定する。これによって、基板厚さが異なるディス
クに対しても光スポットの分解能が向上し信号の再生ま
たは記録が可能になる。遮光手段としてはここに示した
液晶シャッタの他に機械的なシャッタ機構を用いること
もできる。

【００１９】ディスクの種類の判定には種々の方法が考
えられるが、例えばカートリッジやディスクに物理的な
識別子を付加する方法や、光スポットで再生を試みてサ
ーボや再生信号の状態を検出して判別する方法など、ど
の方法を用いても良い。この判別結果に基づいて、液晶
シャッタをｏｎ／ｏｆｆすることが本発明の主旨であ
る。

【００２０】

【作用】上に示したように本発明によれば、基板厚さの
異なる光ディスクを１つの装置で再生または記録するこ
とができる。同時に従来例（１）のようなホログラム素
子を用いて光ビームを分離していないため、迷光の影響
がなく、また光利用効率を高めることも可能でになっ
た。

【００２１】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。

【００２２】図４は本発明の光ディスク装置の光学系の
構成を示す１実施例である。図３では光学系の１部を示
したが、ここでは光源及び検出系も含めた形でその動作
を説明する。半導体レーザ１３０から出射した直線偏光
の光ビーム１０はコリメートレンズ１４０で平行ビーム
に変換され液晶シャッタ１２０、ＰＢＳ１４０を透過
し、立上げミラ１５０で方向を変え１／４波長板１６０
を透過して円偏光となり対物レンズ１００で集光され
て、光ディスク１００の情報記録面にスポットを結ぶ。
光ディスク１００からの反射光は、対物レンズで平行ビ
ームになり、１／４波長板１６０で入射光と直行する直
線偏光に変換され、立上げミラ１５０を経てＰＢＳ１４
０で反射される。この光ビームの一部はビームスプリッ
タ１７０で分離されて、検出レンズ１８０によりｒｆ検
出器２００に導かれる。ビームスプリッタ１７０を透過
した光ビームは検出レンズ１８１で集光され、一部はビ
ームスプリッタ１７１を透過し、シリンドリカルレンズ
１９０を経て、フォーカス誤差検出器２０２に導かれ
る。ビームスプリッタ１７１で反射された光ビームはト
ラック誤差検出器２０１に導かれる。

【００２３】こうした光学系において、ディスクからの
再生信号はｒｆ検出器２００で、フォーカス誤差信号は
非点収差法によってフォーカス誤差検出器２０２で、ト
ラック誤差信号はプッシュプル法によってトラック誤差
検出器でそれぞれ検出することができる。本光学系にお
いて、液晶シャッタ１２０は、厚板基板のディスクの再
生または記録のときに光ビームの周辺部を遮光して再生
分解能を高めることができる。試作した光学系では対物
レンズとして有効径４ｍｍ、開口数０．６、基板厚さ
０．６ｍｍに対応したものを用い、光源として波長６７
５ｎｍの半導体レーザを用いた。

【００２４】図５は液晶シャッタの構成を示す。ここで
用いる液晶シャッタはツイステッド・ネマチック（Ｔ
Ｎ）液晶素子である。この方式の素子は現在表示素子と
して最も広く用いられている。素子の構成は液晶１２２
の両側に透明電極１２３、１２４を形成し、さらに偏向
板１２５、１２６で挟み込んだ構成である。透明電極は
遮光領域１２８、及び透過領域１２９に対応して独立に
電圧を印加できるようにパターニングする。偏向板１２
５と１２６は偏光方向が直行するように配置してある。
素子に電圧が印加されると、液晶の旋光性によって素子
に垂直に入射した光の偏光面が９０度回転するので素子
を透過する。一方、素子に電圧が印加されると電界に沿
って液晶分子が配向するので旋光性が消失し入射光は遮
光される。図では液晶駆動回路２１０から遮光領域１２
８に交流電圧を印加した状態を示しており、光ビームの
周辺部を遮光するシャッタ、すなわち制限開口が形成さ
れる。電圧を印加しない状態においては入射光は全て透
過する。試作した素子は外形３０ｍｍｘ３０ｍｍ、制限
開口の大きさは対物レンズの有効径４ｍｍに合わせて、
実効開口数が０．３９になるようにした。液晶の厚さは
５．５μｍ、厚さのむらは１０インチサイズで０．３μ
ｍ以内のプロセスで同時に作製し、制限開口内において
は０．０１μｍ程度にした。従って液晶シャッタによる
レーザ波面の乱れは十分に小さいものである。

【００２５】図６は液晶シャッタの動作特性を示す。動
作しきい値電圧は約４Ｖ、６Ｖ以上で約７０％の透過率
を得た。これは安価な駆動回路での動作を可能にするも
のである。通常の表示素子に比較して透過率が大幅に改
善している理由は、表示素子が白色光を光源に用いるの
に対して、ここでは直線偏光の半導体レーザを光源とし
て用いたことによる。この光利用効率はホログラム素子
の４０％程度に比較して十分大きなものである。光学系
の効率向上により低出力の光源が使用可能になり、ある
いは検出光量の増加及び迷光の減少によって検出信号の
品質が向上する。液晶材料自身は透明であるため、今
後、無反射コートの採用や液晶材料およびその厚さの最
適化によって光利用効率を９０％程度まで向上できる見
込みがある。

【００２６】今回は素子単体の特性評価のために図５の
構造としたが、液晶シャッタを図４の光学系に用いる場
合、半導体レーザが直線偏光なので入射側の偏向板を省
くことができ、また出射側の偏向板はＰＢＳをその機能
の代用とすることができるため、これも省略することが
できる。従って、液晶シャッタ自体はシンプルな構成で
よく、コスト的にも他の光学部品と同等レベルに低く抑
えることが可能である。

【００２７】図７は本発明の光ディスク装置の構成を示
す１実施例である。光ヘッド１４０３としては例えば図
４に示した光学系を搭載し、これはコースアクチュエー
タ１４０４によって光ディスク１００の半径方向に移動
可能である。光ディスク１００はスピンドルモータ１４
０２によって回転される。光ディスクからの再生信号は
プリアンプ１４０８によって増幅される。ここでは光デ
ィスク１００の１部、例えば内周のリードイン領域に十
分低い記録密度で媒体の種類の判別符号が記録してある
ことを仮定する。この情報は記録密度が十分低いので、
たとえ基板の厚さが設定と違っていても判読できるもの
である。

【００２８】媒体判別部１４４３はこの情報から媒体の
種類を判別しこれに従って液晶駆動回路２１０に指令を
出し、上に述べた方法によって光ディスクに合わせて開
口制限の量を適正に設定する。サーボエラー検出１４１
１では光ヘッドから得られたフォーカス及びトラック誤
差信号を抽出して、制御器１４１８、機構系ドライバ１
４０９を介して所定のトラックに光スポットを追従させ
る。これに必要な対物レンズの駆動機構としては例えば
２次元アクチュエータを用いればよい。アドレス検出１
４１２は再生信号から定められたアドレス情報を抽出す
る。アドレス管理部１４４３は抽出されたアドレス情報
を読みとるとともに所定のアドレスに光スポットを移動
するように機構系ドライバに指令を与える。

【００２９】また、再生信号の一部は分岐されて波形等
化器１４１５により整形される。このときの等化定数は
媒体判別部で判別した媒体によって的確な値を選択する
必要がある。例えば、厚板ディスクを再生するときには
残留球面収差量に応じて光スポットの輪帯として現れる
サイドローブの影響を相殺する様に等化することが望ま
しい。タップ数は変調方式に応じて適正な値を選ぶ必要
があるが、最短マークの長さが２Ｔｗ（Ｔｗ：検出窓
幅）以下である１−７変調エッジ記録や２−７変調ポジ
ション記録方式ならば３タップでよい。最短マークの長
が３ＴｗをこえるＥＦＭあるいは２−７変調ならば５タ
ップが望ましいが、これらに３タップの波形等化器を適
応することもできる。タップ間隔は１Ｔｗが基本であ
り、再生系の周波数特性などに応じて１Ｔｗ以外の値が
最適値となることもある。ゲインについてはあまり大き
くすると波形の歪みがおおきくなる。

【００３０】波形等化器１４１５の出力は復調器１４２
１によって復調されエラー訂正器１４２６によってエラ
ーの訂正が行われて、インターフェース制御部を通じ
て、ホストコンピュータ（図示せず）等にデータが転送
される。インターフェース制御部を通じて転送されたデ
ータを光ディスク１００に記録する場合には、データは
エラー訂正器１４２６によって、エラー訂正コードが付
加され、変調器１４１６によって変調されて、このデー
タ列に基づいて、記録／再生条件管理部１４４２で適切
に選択された記録条件に従ってレーザドライバにより光
ヘッド１４０３内の半導体レーザの発光パワーを変調し
て光ディスク媒体１００にデータを記録する。データの
記録が可能な光ディスク媒体としては光磁気型、相変化
型、有機色素系の穴あけ型等が実現可能である。本実施
例の装置は光パワー変調だけでデータの記録ができる相
変化型、有機色素系の穴あけ型に対応している。光磁気
型の媒体に対応するには磁界の印加手段と光ヘッド内に
光磁気信号の検出系を設ければよい。ここで、述べたよ
うに記録／再生条件管理部１４４２では媒体への記録条
件を選択する機能の他に、波形等化器等のパラメータ等
を指定する機能がある。

【００３１】本装置を用いてコンパクトディスク（基板
厚さ１．２ｍｍ）からジッタ量／検出窓幅はシグマ値で
８％と十分信号の再生が可能な結果を得た。波形等化は
３タップで行い、タップ間隔は１．５Ｔｗ、各タップの
ゲインは−１、０、＋１の各タップに対してそれぞれ−
０．２，１，−０．２とした。

【００３２】次に本発明の光学系で残留した収差の低減
方法を示す。これには光ビームに残留した収差を打ち消
す方向に位相制御を施すのが良い。液晶材料は屈折率に
異方性があるため、例えば、上に述べた図５の素子の屈
折率は平均約１．５に対して電圧の印加する場合としな
い場合で約８％変化する。従って、適当なパターンの素
子を用いれば光ビームの位相変調が可能である。

【００３３】図８はシャッタに用いた液晶素子と、位相
変調に用いる液晶素子の違いについて表していている。
シャッタの場合には液晶の配向を素子の垂直方向に９０
度ねじった構成として素子に旋光性をもたせた。これに
より入射光の偏光方向が９０度回転する構成とすること
ができ、電圧を印加しない状態で透過率が最大となるよ
うにした。ところが、位相変調の場合には光ビームの偏
光方向を回転すると干渉性が低下して光スポットが大き
くなるので、（ｂ）に示すように液晶分子がねじられて
いない状態の素子とした。これによって、電圧印加時に
透過率を一定に保ったまま光ビームの位相だけを変化さ
せることができる。

【００３４】図９は本発明の位相変調素子を用いた残留
収差の低減方法の１実施例である。上の素子を用いれば
光ビームの位相を変化させることができる。ここでは、
（ａ）がシャッタのみを用いた場合の光学系の構成と波
面収差、（ｂ）はシャッタと位相変調素子を併用した場
合の光学系の構成と波面収差をそれぞれ表したものであ
る。基板の厚さの違いによる球面収差は光軸に対して回
転対称な関数となるので、光ビームの一部の位相を例え
ばＰ−Ｖ値の１／２だけシフトすれば収差のＰ−Ｖ値を
１／２にすることができる。同様にして、位相シフトを
同心円上の領域に対して複数施せば、ホログラムと同じ
効果が得られ、残留収差をほぼゼロにすることもでき
る。しかしながら、位相変調素子を多段に用いると光学
系の透過率が低下することもあるので実際には１から４
段程度で用いるのが適当である。

【００３５】

【発明の効果】本発明では、光ディスクの高密度化に伴
う基板の薄型化に対応して、基板厚のことなるディスク
間で少なくとも信号の再生を可能とする光学系および装
置を開示した。これにより、従来に比較して光利用効率
を向上し、迷光の影響を排除することができた。

【００３６】

【図面の簡単な説明】

【図１】対物レンズの開口数と球面収差の関係のグラフ
図。

【図２】相対ストレール強度と開口数の関係グラフ図。

【図３】遮光部材として液晶シャッタを用いた場合の光
学系の構成図。

【図４】本発明の光ディスク装置の光学系の構成図。

【図５】液晶シャッタの構成図。

【図６】再生光のパルスのデューティと記録膜の温度分
布の関係を表すグラフ図。

【図７】本発明の光ディスク装置の構成ブロック図。

【図８】シャッタに用いた液晶素子と、位相変調に用い
る液晶素子の違いを示す原理図。

【図９】本発明の位相変調素子を用いた残留収差の低減
方法を説明する原理図。

【符号の説明】

１００光ディスク、１１０対物レンズ、１２０液
晶シャッタ。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レーザ光源より出射された光ビームを対物
レンズで光ディスク媒体上に集光して、少なくとも情報
の再生をする光ディスク装置であって、前記レーザ光源と対物レンズとの間に配置された前記光
ビームの一部を遮光可能な遮光手段と、前記光ディスク媒体の基板の厚さを判定する媒体判別手
段と、を備え、該媒体判別手段によって判別された光ディスク媒体の基
板厚に応じて、前記遮光手段により前記光ビームの一部
を遮光することにより、基板厚の異なる２種類以上の光
ディスク媒体に対応して、少なくとも情報の再生を可能
にしたことを特徴とする光ディスク装置。
【請求項２】レーザ光源より出射された光ビームを対物
レンズで光ディスク媒体上に集光して、少なくとも情報
の再生をする光ディスク装置であって、前記レーザ光源と対物レンズとの間に配置された前記光
ビームの一部を遮光可能な遮光手段と、前記光ディスク媒体が（１）基板が略1.2mmの媒体-1で
あるか（２）該媒体-1に比較して基板が薄く、かつの記
録密度の高い媒体-2であるかを判定する媒体判別手段
と、を備え、該媒体判別手段によって判別された媒体が媒体-1の場合
には前記遮光手段により前記光ビームの１部を遮光し、
媒体-2の場合には前記遮光手段により前記光ビームを全
て透過することにより、基板厚の異なる２種類以上の光
ディスク媒体に対応して、少なくとも情報の再生を可能
にしたことを特徴とする光ディスク装置。
【請求項３】請求項第１項または第２項に記載の光ディ
スク装置であって、前記遮光手段が、液晶シャッタであ
ることを特徴とする光ディスク装置。
【請求項４】請求項第３項に記載の光ディスク装置であ
って、前記液晶シャッタが円形もしくは同心円上にパタ
ーニングされており、該液晶シャッタに電圧を印加しな
い状態において前記光ビームが透過するようにしたこと
を特徴とする光ディスク装置。
【請求項５】請求項第１項または第２項に記載の光ディ
スク装置であって、前記遮光手段が、ピンホールを機械
的に光路上に挿入あるいは光路上から排出することによ
って形成されたことを特徴とする光ディスク装置。
【請求項６】請求項第１項から第５項のうちいずれかに
記載の光ディスク装置であって、以下の定義１に示す相
対ストレール強度が最大となる開口数の値に、前記対物
レンズの開口数を実効的に設定するように、前記遮光手
段によって前記光ビームの周辺部を遮光可能なことを特
徴とする光ディスク装置。定義：相対ストレール強度＝ストレール強度ｘ開口数の
２乗
【請求項７】レーザ光源より出射された光ビームを対物
レンズで光ディスク媒体上に集光して、少なくとも情報
の再生をする光ディスク装置であって、前記レーザ光源と対物レンズとの間に配置された前記光
ビームの一部を遮光可能な遮光手段と、前記光ビームの一部の位相を変化させる位相変化手段
と、前記光ディスク媒体の基板の厚さを判定する媒体判別手
段と、を備え、該媒体判別手段によって判別された光ディスク媒体の基
板厚に応じて、前記遮光手段により前記光ビームの一部
を遮光し、かつ前記位相変化手段により、前記光ビーム
の一部の位相を変化させることによって、基板厚の異な
る２種類以上の光ディスク媒体に対応して、少なくとも
情報の再生を可能にしたことを特徴とする光ディスク装
置。
【請求項８】レーザ光源より出射された光ビームを対物
レンズで光ディスク媒体上に集光して、少なくとも情報
の再生をする光ディスク装置であって、前記レーザ光源と対物レンズとの間に配置された前記光
ビームの一部を遮光可能な液晶シャッタからなる遮光手
段と、前記光ディスク媒体が（１）基板が略1.2mmの媒体-1で
あるか（２）該媒体-1に比較して基板が薄く、かつの記
録密度の高い媒体-2であるかを判定する媒体判別手段
と、前記光ディスク媒体からの再生信号の波形等化手段と、を備え、前記対物レンズは基板が相対的に薄い前記媒体-2に対し
て波面収差が最小になるように設定されており、該媒体判別手段によって判別された媒体が媒体-2の場合
には前記遮光手段は前記光ビームを透過し、媒体-1の場
合には前記遮光手段によって前記光ビームの周辺部を遮
光することによって、基板の厚さが対物レンズの設定値
からずれたことによって生じる球面収差に起因する再生
信号の分解能の低下を最小にするとともに、残留した球
面収差によって光スポットに生じたサイドローブによる
再生信号の歪みを前記波形等化手段によって改善するこ
とによって、基板厚の異なる２種類以上の光ディスク媒
体に対応して、少なくとも情報の再生を可能にしたこと
を特徴とする光ディスク装置。