JPH0832559B2 - ペロブスカイト型化合物の無機微粉体の製造方法 - Google Patents
ペロブスカイト型化合物の無機微粉体の製造方法Info
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- JPH0832559B2 JPH0832559B2 JP7239487A JP7239487A JPH0832559B2 JP H0832559 B2 JPH0832559 B2 JP H0832559B2 JP 7239487 A JP7239487 A JP 7239487A JP 7239487 A JP7239487 A JP 7239487A JP H0832559 B2 JPH0832559 B2 JP H0832559B2
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 38
- 239000000843 powder Substances 0.000 title claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 27
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 13
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 claims description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 10
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 claims description 10
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 claims description 7
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 5
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000001354 calcination Methods 0.000 claims description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical group [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims 1
- UUCCCPNEFXQJEL-UHFFFAOYSA-L strontium dihydroxide Chemical group [OH-].[OH-].[Sr+2] UUCCCPNEFXQJEL-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 229910001866 strontium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 14
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 5
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 4
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003746 solid phase reaction Methods 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical group 0.000 description 1
- CPUJSIVIXCTVEI-UHFFFAOYSA-N barium(2+);propan-2-olate Chemical compound [Ba+2].CC(C)[O-].CC(C)[O-] CPUJSIVIXCTVEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000002468 ceramisation Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 239000003966 growth inhibitor Substances 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010299 mechanically pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 239000011268 mixed slurry Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 oxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910002077 partially stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J titanic acid Chemical compound O[Ti](O)(O)O LLZRNZOLAXHGLL-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
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- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はペロブスカイト化合物（以下「ABO3」と称す
る。）の無機微粉体の製造方法に関する。
る。）の無機微粉体の製造方法に関する。
該ABO3化合物をセラミックス化したセラミックスは優
れた誘電性、圧電性および半導性を有し、エレクトロニ
クス分野において非常に有用であり、コンデンサー、電
波フィルター，着火素子、サーミスター等として使用さ
れる。
れた誘電性、圧電性および半導性を有し、エレクトロニ
クス分野において非常に有用であり、コンデンサー、電
波フィルター，着火素子、サーミスター等として使用さ
れる。
従来技術 近年電子デバイスの小型軽量高性能化にともない、該
ABO3セラミックスもまた薄膜化、小型化が要求されてお
り、セラミックス化における配合、成形、焼結等の技術
面で薄膜化、小型化の検討がなされてきた。しかし従来
の固相反応で作られた粒径0.8μｍ以上の原料ではその
限界にきている。すなわち、従来の固相反応で作られた
ABO3原料とは、Mg,Ca,Sr,BaおよびPb（以下Ａ群元素と
称する）の少なくとも１種類以上の炭酸塩もしくは酸化
物と、Ti,Zr、HfおよびSn（以下Ｂ群元素と称する）の
少なくとも１種以上の酸化物とを混合し、これを1000℃
以上の高温で処理してABO3化合物となした後ボールミル
等で機械的に粉砕し、ロ過、乾燥して製造される。その
ため固相反応では0.8μｍ以上のABO3化合物しか得られ
ず、該ABO3化合物を使用するといかに配合、成形、焼結
技術を駆使しようともセラミックスの小型化、薄膜化に
は限界があった。
ABO3セラミックスもまた薄膜化、小型化が要求されてお
り、セラミックス化における配合、成形、焼結等の技術
面で薄膜化、小型化の検討がなされてきた。しかし従来
の固相反応で作られた粒径0.8μｍ以上の原料ではその
限界にきている。すなわち、従来の固相反応で作られた
ABO3原料とは、Mg,Ca,Sr,BaおよびPb（以下Ａ群元素と
称する）の少なくとも１種類以上の炭酸塩もしくは酸化
物と、Ti,Zr、HfおよびSn（以下Ｂ群元素と称する）の
少なくとも１種以上の酸化物とを混合し、これを1000℃
以上の高温で処理してABO3化合物となした後ボールミル
等で機械的に粉砕し、ロ過、乾燥して製造される。その
ため固相反応では0.8μｍ以上のABO3化合物しか得られ
ず、該ABO3化合物を使用するといかに配合、成形、焼結
技術を駆使しようともセラミックスの小型化、薄膜化に
は限界があった。
発明が解決しようとする問題点 特開昭59-39726,特開昭61-91016、特開昭60-90825お
よび特開昭61-31345には、ABO3化合物の微粒子原料が記
載されている。しかしながらこれらの方法では、ロ過、
水洗の工程を必要とするためA/Bモル比制御が非常に困
難となり、また経済的にも不利である。例えば、特開昭
59-39726,特開昭61-91016では、チタンまたはジルコニ
ウムの水酸化物とバリウム、ストロンチウム、カルシウ
ムの水溶性塩とを強アルカリ水溶液中で反応して微粒子
ABO3を得ているが、電気特性上好ましくないアルカリ金
属Na,K等を除く操作が必要となり、さらにそのためモル
比制御が困難となり、コスト高となる。また、特開昭61
-31345では、反応終了後、ロ過時の未反応水溶性Ａ元素
成分の流出のために生じるA/Bモル比のずれを防止する
ため、ロ過前に一度Ａ元素成分を不溶化させる工程を追
加し、A/Bモル比を制御しているが、いずれにしても、
ロ過、水洗工程が不可欠なためモル比制御の正確性に欠
け、工程を追加する分だけさらに経済的に不利である。
また、ABO3化合物のA/Bモル比因子はセラミックス化、
つまり、緻密化あるいはその焼結結晶粒径において非常
に影響を及ぼすことがわかっており、少なくとも少数点
以下３桁近くのA/Bモル比コントロールの正確さが要求
されている。
よび特開昭61-31345には、ABO3化合物の微粒子原料が記
載されている。しかしながらこれらの方法では、ロ過、
水洗の工程を必要とするためA/Bモル比制御が非常に困
難となり、また経済的にも不利である。例えば、特開昭
59-39726,特開昭61-91016では、チタンまたはジルコニ
ウムの水酸化物とバリウム、ストロンチウム、カルシウ
ムの水溶性塩とを強アルカリ水溶液中で反応して微粒子
ABO3を得ているが、電気特性上好ましくないアルカリ金
属Na,K等を除く操作が必要となり、さらにそのためモル
比制御が困難となり、コスト高となる。また、特開昭61
-31345では、反応終了後、ロ過時の未反応水溶性Ａ元素
成分の流出のために生じるA/Bモル比のずれを防止する
ため、ロ過前に一度Ａ元素成分を不溶化させる工程を追
加し、A/Bモル比を制御しているが、いずれにしても、
ロ過、水洗工程が不可欠なためモル比制御の正確性に欠
け、工程を追加する分だけさらに経済的に不利である。
また、ABO3化合物のA/Bモル比因子はセラミックス化、
つまり、緻密化あるいはその焼結結晶粒径において非常
に影響を及ぼすことがわかっており、少なくとも少数点
以下３桁近くのA/Bモル比コントロールの正確さが要求
されている。
そこで本発明者らは、Ａ群元素およびＢ群元素の化合
物の混合物水溶液を常圧加熱反応または水熱反応した
後、噴霧乾燥することにより、一般に行われているロ
過、水洗工程を省略することを可能にし、それらの工程
によって生じるA/Bモル比のずれおよび未反応Ａ元素成
分の偏在を解消することを可能にし、さらに工場スケー
ルで生産する場合、連続式で行えるメリットを見出し、
本発明に至った。
物の混合物水溶液を常圧加熱反応または水熱反応した
後、噴霧乾燥することにより、一般に行われているロ
過、水洗工程を省略することを可能にし、それらの工程
によって生じるA/Bモル比のずれおよび未反応Ａ元素成
分の偏在を解消することを可能にし、さらに工場スケー
ルで生産する場合、連続式で行えるメリットを見出し、
本発明に至った。
発明の構成 次に本発明方法を詳細に説明する。
Ａ群元素化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物
またはＢ群元素化合物から選ばれる少なくとも１種の化
合物は、市販品そのままを使用してもよく、また、通常
の合成法で調製しても良い。例えば、水酸化物、酸化
物、有機金属化合物、塩等が使用できる。ただし、該化
合物の陰イオン部が後のセラミックス化および該セラミ
ックスの電気特性上好ましくない影響を及ぼす場合は使
用できない。またＢ群元素の水酸化物あるいは酸化物を
用いる場合、本原料の粒径は0.3μｍ以下，好ましくは
0.1μｍ以下のものが良く、0.3μｍ以上であると反応が
困難になる。さらに、本原料の粒径は目的生成ABO3化合
物の粒径以下でなければならないことはいうまでもな
い。
またはＢ群元素化合物から選ばれる少なくとも１種の化
合物は、市販品そのままを使用してもよく、また、通常
の合成法で調製しても良い。例えば、水酸化物、酸化
物、有機金属化合物、塩等が使用できる。ただし、該化
合物の陰イオン部が後のセラミックス化および該セラミ
ックスの電気特性上好ましくない影響を及ぼす場合は使
用できない。またＢ群元素の水酸化物あるいは酸化物を
用いる場合、本原料の粒径は0.3μｍ以下，好ましくは
0.1μｍ以下のものが良く、0.3μｍ以上であると反応が
困難になる。さらに、本原料の粒径は目的生成ABO3化合
物の粒径以下でなければならないことはいうまでもな
い。
Ａ群元素化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物
と、Ｂ群元素化合物から選ばれる少なくとも１種の化合
物との混合物水溶液は、必要に応じてpH10以上に調節さ
れる。pH10以下では反応が進行しない場合がほとんどで
ある。
と、Ｂ群元素化合物から選ばれる少なくとも１種の化合
物との混合物水溶液は、必要に応じてpH10以上に調節さ
れる。pH10以下では反応が進行しない場合がほとんどで
ある。
こうして得られたアルカリ性混合物水溶液を常圧加熱
反応または水熱反応することにより、ABO3化合物を得
る。いうまでもなく常圧加熱反応とは常圧下で沸騰させ
て反応させる方法であり、水熱反応とは加圧下で通常11
0℃〜300℃付近の温度で反応する方法である。そしてこ
れらの反応条件として反応温度、反応圧、反応時間、混
合物水溶液の濃度等が挙げられる。反応温度は通常、90
℃以上であればABO3化合物は生成するが、反応速度を上
げるには高温にすれば良い。また反応時間については反
応温度100℃，常圧で３時間あれば十分であり、反応温
度および圧力と相関する。また、混合物水溶液の濃度は
生成ABO3の粒径に影響し、濃度が低ければ粒径が大きく
なる傾向がある。好ましい濃度としては0.2〜0.9モル/l
（ABO3換算）である。ただし、これらの諸条件について
は目的生成ABO3化合物、あるいはＡ元素の化合物の混合
物水溶液の調製方法によって多少違ってくる。
反応または水熱反応することにより、ABO3化合物を得
る。いうまでもなく常圧加熱反応とは常圧下で沸騰させ
て反応させる方法であり、水熱反応とは加圧下で通常11
0℃〜300℃付近の温度で反応する方法である。そしてこ
れらの反応条件として反応温度、反応圧、反応時間、混
合物水溶液の濃度等が挙げられる。反応温度は通常、90
℃以上であればABO3化合物は生成するが、反応速度を上
げるには高温にすれば良い。また反応時間については反
応温度100℃，常圧で３時間あれば十分であり、反応温
度および圧力と相関する。また、混合物水溶液の濃度は
生成ABO3の粒径に影響し、濃度が低ければ粒径が大きく
なる傾向がある。好ましい濃度としては0.2〜0.9モル/l
（ABO3換算）である。ただし、これらの諸条件について
は目的生成ABO3化合物、あるいはＡ元素の化合物の混合
物水溶液の調製方法によって多少違ってくる。
次に、生成したABO3化合物含有スラリーは噴霧乾燥さ
れる。該噴霧乾燥は通常スプレードライヤーで行われる
が、以下に示す条件を満足する装置であればスプレード
ライヤーに限らない。
れる。該噴霧乾燥は通常スプレードライヤーで行われる
が、以下に示す条件を満足する装置であればスプレード
ライヤーに限らない。
１） Ａ元素成分とＢ元素成分が系外に出ず、A/Bモル
比のズレを生じない。
比のズレを生じない。
２） 未反応Ａ元素成分およびＢ元素成分が乾燥時に偏
在せず、未反応Ａ元素成分とＢ元素成分および生成ABO3
が均一乾燥される。
在せず、未反応Ａ元素成分とＢ元素成分および生成ABO3
が均一乾燥される。
本発明の方法によって得られた粉は、未反応Ａ元素成
分及びＢ元素成分が存在しても、均一に存在しているた
め、本乾燥工程、仮焼工程、本焼成工程で容易に反応し
てABO3になる。
分及びＢ元素成分が存在しても、均一に存在しているた
め、本乾燥工程、仮焼工程、本焼成工程で容易に反応し
てABO3になる。
さらに、噴霧乾燥後得られたABO3無機微粉体は必要に
応じてカ焼される。そのカ焼温度は目的とされる該無機
微粉体の粒径および結晶形によって制限される。チタン
酸バリウムを例にとると、含水酸化チタン（粒径0.05μ
ｍ）と水酸化バリウムの常圧加熱反応で得たBa/Tiモル
比1.000のチタン酸バリウムは、乾燥後、諸条件によっ
て若干異なるが通常0.1μｍ以下の立方晶形の粉であ
る。そして本チタン酸バリウムは高温で処理されると粒
成長し、結晶形も変化する。具体的には1000℃で３時間
カ焼した本チタン酸バリウムは、平均粒径が0.5μｍで
あり、結晶形は正方晶である。従って0.5μｍ正方晶の
チタン酸バリウムが必要な場合、1000℃でカ焼し、0.15
μｍの立方晶のものが必要な場合850℃でカ焼すれば良
い。
応じてカ焼される。そのカ焼温度は目的とされる該無機
微粉体の粒径および結晶形によって制限される。チタン
酸バリウムを例にとると、含水酸化チタン（粒径0.05μ
ｍ）と水酸化バリウムの常圧加熱反応で得たBa/Tiモル
比1.000のチタン酸バリウムは、乾燥後、諸条件によっ
て若干異なるが通常0.1μｍ以下の立方晶形の粉であ
る。そして本チタン酸バリウムは高温で処理されると粒
成長し、結晶形も変化する。具体的には1000℃で３時間
カ焼した本チタン酸バリウムは、平均粒径が0.5μｍで
あり、結晶形は正方晶である。従って0.5μｍ正方晶の
チタン酸バリウムが必要な場合、1000℃でカ焼し、0.15
μｍの立方晶のものが必要な場合850℃でカ焼すれば良
い。
ABO3化合物の焼結に際しては、該焼結体の焼結性また
は電気特性を調節する目的で通常種々の添加剤が加えら
れる。例えば焼結性に関しては粒成長抑制剤、硬化剤等
があり、電気特性に関してはシフター，ディプレッサ
ー，還元剤，還元防止剤等がある。具体的にはB,Bi,Li,
Y,Dy,Ce,Sm,Mn,Co,Ni,Nb,Si等がある。そして必要があ
れば目的用途に応じて、これらの添加剤をABO3微粉体中
に含有させることが可能である。添加時期はＡ元素およ
びＢ元素の混合物水溶液の調製時、反応時、反応後、お
よび噴霧乾燥終了時のいずれでも良いが、均一に含有さ
せるには、噴霧乾燥前の工程で添加する方が好ましい。
は電気特性を調節する目的で通常種々の添加剤が加えら
れる。例えば焼結性に関しては粒成長抑制剤、硬化剤等
があり、電気特性に関してはシフター，ディプレッサ
ー，還元剤，還元防止剤等がある。具体的にはB,Bi,Li,
Y,Dy,Ce,Sm,Mn,Co,Ni,Nb,Si等がある。そして必要があ
れば目的用途に応じて、これらの添加剤をABO3微粉体中
に含有させることが可能である。添加時期はＡ元素およ
びＢ元素の混合物水溶液の調製時、反応時、反応後、お
よび噴霧乾燥終了時のいずれでも良いが、均一に含有さ
せるには、噴霧乾燥前の工程で添加する方が好ましい。
また、ABO3化合物の乾式成形に際しては通常成形カサ
密度を上げる等の目的でバインダーや可塑剤などの成形
助剤をABO3化合物原料粉に加えて造粒し、できた顆粒を
用いて成形される。本発明法では、ABO3化合物の反応生
成後成形助剤を加えて噴霧乾燥することによって成形用
顆粒原料として得ることも可能である。
密度を上げる等の目的でバインダーや可塑剤などの成形
助剤をABO3化合物原料粉に加えて造粒し、できた顆粒を
用いて成形される。本発明法では、ABO3化合物の反応生
成後成形助剤を加えて噴霧乾燥することによって成形用
顆粒原料として得ることも可能である。
実施例１ 大阪チタニウム（株）製の塩化チタン水溶液（Ti＝1
6.5重量％）200gに水1800mlを加え、５重量％アンモニ
ア水（林純薬工業（株）試薬１級）700mlを約１時間か
けて添加し、水酸化チタンスラリーとなし、ヌッチェで
水洗ロ過を行い、含水酸化チタンケーキとした。該ケー
キはTiO2の定量の結果、11.46重量％であった。
6.5重量％）200gに水1800mlを加え、５重量％アンモニ
ア水（林純薬工業（株）試薬１級）700mlを約１時間か
けて添加し、水酸化チタンスラリーとなし、ヌッチェで
水洗ロ過を行い、含水酸化チタンケーキとした。該ケー
キはTiO2の定量の結果、11.46重量％であった。
該含水酸化チタンケーキ240.2gに蒸留水を加えて、Ti
O260g/ｌスラリーに調整した後、反応系を窒素雰囲気に
し、Ba(OH)2・8H2O108.7gを加え、さらに蒸留水を加え
て0.7モル/l（BaTiO3換算）、Ba/Tiモル比1.000のスラ
リーに調整した。該スラリーを沸騰温度まで約１時間か
けて昇温し、沸騰温度で約３時間反応を行った。
O260g/ｌスラリーに調整した後、反応系を窒素雰囲気に
し、Ba(OH)2・8H2O108.7gを加え、さらに蒸留水を加え
て0.7モル/l（BaTiO3換算）、Ba/Tiモル比1.000のスラ
リーに調整した。該スラリーを沸騰温度まで約１時間か
けて昇温し、沸騰温度で約３時間反応を行った。
反応終了後、該スラリーを0.9モル/lまで濃縮し、大
川原化工機（株）製スプレードライヤー）を用いて入口
温度250℃，出口温度120℃、アトマイザー回転数25000
r.p.mで噴霧乾燥してチタン酸バリウム微粉体を得た。
川原化工機（株）製スプレードライヤー）を用いて入口
温度250℃，出口温度120℃、アトマイザー回転数25000
r.p.mで噴霧乾燥してチタン酸バリウム微粉体を得た。
生成チタン酸バリウム微粉体のＸ線回折および電子顕
微鏡写真から、生成チタン酸バリウム微粉体は、平均粒
径0.08μｍで、立方晶であることがわかった。また、螢
光Ｘ線にてBa/Tiモル比を測定したところ1.000であっ
た。
微鏡写真から、生成チタン酸バリウム微粉体は、平均粒
径0.08μｍで、立方晶であることがわかった。また、螢
光Ｘ線にてBa/Tiモル比を測定したところ1.000であっ
た。
実施例２ 実施例１と同様にして含水酸化チタン／Ba(OH)2・8H2
O混合スラリー0.7モル/l（BaTiO3換算）を調製した後、
該スラリーを耐熱性ニッケル合金製のオートクレーブ
（容量１）に500mlを仕込み、500r.p.mで攪拌しなが
ら100℃/hrで昇温し、250℃で２時間反応を行った。
O混合スラリー0.7モル/l（BaTiO3換算）を調製した後、
該スラリーを耐熱性ニッケル合金製のオートクレーブ
（容量１）に500mlを仕込み、500r.p.mで攪拌しなが
ら100℃/hrで昇温し、250℃で２時間反応を行った。
反応後実施例１と同様にスプードライヤーで噴霧乾燥
を行いチタン酸バリウム微粉体を得た。
を行いチタン酸バリウム微粉体を得た。
Ｘ線回折および電顕写真は実施例１のものと同様であ
った。また螢光Ｘ線によりBa/Tiモル比の定量を行った
結果1.000であった。
った。また螢光Ｘ線によりBa/Tiモル比の定量を行った
結果1.000であった。
実施例３ 純度99.99％のチタニウムイソプロポキシド（レアー
メタル（株）製）100gを150mlのイソプロピルアルコー
ル（林純薬（株）特級）に溶解し、２時間加熱還流し
た。窒素雰囲気化で、該チタニウムイソプロポキシド溶
液を、80℃に保った45重量％Ba(OH)2・8H2O水溶液246.6
gに１時間30分かけてローラーポンプで徐々に滴下し、
その後加水し、スラリー濃度0.7モル/l、Ba/Tiモル比1.
000に調整した。以下、実施例１または実施例２と同様
に常圧加熱反応または水熱反応を行った後、噴霧乾燥を
行い、チタン酸バリウム無機微粉体を得た。常温加熱反
応および水熱反応で得た組成物の両者とも、Ｘ線回折、
電顕写真および螢光Ｘ線のBa/Tiモル比の定量結果よ
り、粒径0.09μｍで、Ba/Tiモル比が1.000の立方晶形チ
タン酸バリウムであることがわかった。
メタル（株）製）100gを150mlのイソプロピルアルコー
ル（林純薬（株）特級）に溶解し、２時間加熱還流し
た。窒素雰囲気化で、該チタニウムイソプロポキシド溶
液を、80℃に保った45重量％Ba(OH)2・8H2O水溶液246.6
gに１時間30分かけてローラーポンプで徐々に滴下し、
その後加水し、スラリー濃度0.7モル/l、Ba/Tiモル比1.
000に調整した。以下、実施例１または実施例２と同様
に常圧加熱反応または水熱反応を行った後、噴霧乾燥を
行い、チタン酸バリウム無機微粉体を得た。常温加熱反
応および水熱反応で得た組成物の両者とも、Ｘ線回折、
電顕写真および螢光Ｘ線のBa/Tiモル比の定量結果よ
り、粒径0.09μｍで、Ba/Tiモル比が1.000の立方晶形チ
タン酸バリウムであることがわかった。
実施例４ 窒素雰囲気下で、純度99.99％バリウムイソプロポキ
シド（レアーメタル（株）製）75.83g（0.2970モル）と
純度99.99％チタニウムイソポロポキシド（レアーメタ
ル（株）製）85.17g（0.3000モル）とを350mlのイソプ
ロピルアルコールに溶解し、２時間加熱還流した。
シド（レアーメタル（株）製）75.83g（0.2970モル）と
純度99.99％チタニウムイソポロポキシド（レアーメタ
ル（株）製）85.17g（0.3000モル）とを350mlのイソプ
ロピルアルコールに溶解し、２時間加熱還流した。
該溶液に蒸留水65mlを１時間かけて滴下し、アルコラ
ートを加水分解し、一旦室温まで冷却し加水してスラリ
ー濃度を0.5モル/l（BaTiO3換算）、Ba/Tiモル比0.990
に調整した。
ートを加水分解し、一旦室温まで冷却し加水してスラリ
ー濃度を0.5モル/l（BaTiO3換算）、Ba/Tiモル比0.990
に調整した。
以下、実施例１または実施例２と同様に常温加熱反応
または水熱反応を行い、粒径0.07μｍでBa/Tiモル比0.9
90の立方晶チタン酸バリウムを得た。
または水熱反応を行い、粒径0.07μｍでBa/Tiモル比0.9
90の立方晶チタン酸バリウムを得た。
実施例５ 実施例１と同様にして得た含水酸化チタンケーキ（1
1.46重量％）200.0gに蒸留水を加えてスラリー濃度60g/
lに調整した。反応系を窒素雰囲気下にした後、Sr(OH)2
・8H2O76.24gを該スラリーに添加した。
1.46重量％）200.0gに蒸留水を加えてスラリー濃度60g/
lに調整した。反応系を窒素雰囲気下にした後、Sr(OH)2
・8H2O76.24gを該スラリーに添加した。
最終スラリー濃度を0.7モル/l（SrTiO3換算）に加水
調整した後、以下実施例１または実施例２と同様にして
チタン酸ストロンチウム微粉体を得た。螢光Ｘ線より該
チタン酸ストロンチウムのSr/Tiモル比を定量した結果
1.000であった。
調整した後、以下実施例１または実施例２と同様にして
チタン酸ストロンチウム微粉体を得た。螢光Ｘ線より該
チタン酸ストロンチウムのSr/Tiモル比を定量した結果
1.000であった。
実施例６ 実施例１で得たあらかじめTi含有量を測定した含水酸化
チタンスラリー（約TiO260g/l）中に、窒素雰囲気下でB
a0.9Sr0.1TiO3になるようあらかじめBaおよびSrのそれ
ぞれの含有量を定量しておいたBa(OH)2・8H2OおよびSr
(OH)2・8H2Oを添加し、その後加水してスラリー濃度を
0.7モル/l（Ba0.9Sr0.1TiO2換算）になるよう調整した
後、以下実施例１または実施例２と同様にして、Ba0.9S
r0.1TiO3微粉体を得た。螢光Ｘ線での定量により、Ba,S
rおよびTiのモル比は所定通りであった。
チタンスラリー（約TiO260g/l）中に、窒素雰囲気下でB
a0.9Sr0.1TiO3になるようあらかじめBaおよびSrのそれ
ぞれの含有量を定量しておいたBa(OH)2・8H2OおよびSr
(OH)2・8H2Oを添加し、その後加水してスラリー濃度を
0.7モル/l（Ba0.9Sr0.1TiO2換算）になるよう調整した
後、以下実施例１または実施例２と同様にして、Ba0.9S
r0.1TiO3微粉体を得た。螢光Ｘ線での定量により、Ba,S
rおよびTiのモル比は所定通りであった。
実施例７ 実施例１で得たBaTiO3組成物を850℃で３時間カ焼
し、部分安定化ジルコニアボールと樹脂製ポットを用い
て３時間湿式粉砕した後、ポリビニルアルコールおよび
ポリエチレングリコールをそれぞれBaTiO3に対して固型
分換算で1.0重量％および0.5重量％添加し、スプレード
ライヤーにて造粒した。造粒物を1500kg/cm2の圧力で乾
式成形した後600℃まで50℃/hr,所定温度まで250℃/hr
で昇温し、所定温度で２時間焼成した。
し、部分安定化ジルコニアボールと樹脂製ポットを用い
て３時間湿式粉砕した後、ポリビニルアルコールおよび
ポリエチレングリコールをそれぞれBaTiO3に対して固型
分換算で1.0重量％および0.5重量％添加し、スプレード
ライヤーにて造粒した。造粒物を1500kg/cm2の圧力で乾
式成形した後600℃まで50℃/hr,所定温度まで250℃/hr
で昇温し、所定温度で２時間焼成した。
比較品として、市販品チタン酸バリウム（平均粒径1.
0μｍ）も前記と同様に成形焼成した。得られた焼結体
について、カサ密度を化学天秤およびマイクロメータで
測定し、電気特性（20℃での誘電率;tanδおよびキュリ
ー点，キュリー点での誘電率）を横河ヒューレットパッ
カード社製LCRメーター4274Aで測定した結果を表１に示
す。
0μｍ）も前記と同様に成形焼成した。得られた焼結体
について、カサ密度を化学天秤およびマイクロメータで
測定し、電気特性（20℃での誘電率;tanδおよびキュリ
ー点，キュリー点での誘電率）を横河ヒューレットパッ
カード社製LCRメーター4274Aで測定した結果を表１に示
す。
発明の効果 以上のように、本発明方法ではＡ群元素およびＢ群元
素の出発原料の仕込み量、あるいは反応前のA/Bモル比
さえ厳密に調整すれば、所望のA/Bモル比に非常に精度
良く制御された微粒子ABO3化合物を容易かつ安価で得る
ことができ、さらに従来のロ過水洗乾燥工程により生ず
る未反応Ａ元素およびＢ元素成分の偏在がなく、生成し
たABO3化合物と未反応Ａ元素成分およびＢ元素成分とが
均一に混合している。さらに、通常セラミックス化にお
いて必要とされている添加剤や成形助剤を噴霧乾燥前に
加えることによって非常に合理的に成形用顆粒セラミッ
クス原料を得ることができる。
素の出発原料の仕込み量、あるいは反応前のA/Bモル比
さえ厳密に調整すれば、所望のA/Bモル比に非常に精度
良く制御された微粒子ABO3化合物を容易かつ安価で得る
ことができ、さらに従来のロ過水洗乾燥工程により生ず
る未反応Ａ元素およびＢ元素成分の偏在がなく、生成し
たABO3化合物と未反応Ａ元素成分およびＢ元素成分とが
均一に混合している。さらに、通常セラミックス化にお
いて必要とされている添加剤や成形助剤を噴霧乾燥前に
加えることによって非常に合理的に成形用顆粒セラミッ
クス原料を得ることができる。
Claims (7)
- 【請求項１】Mg,Ca,Sr,Ba等のアルカリ土類金属およびP
bよりなるＡ群元素化合物から選ばれる少なくとも一種
の化合物と、Ti,Zr,HfおよびSnよりなるＢ群元素化合物
から選ばれる少なくとも一種の化合物との所定のA/Bモ
ル比混合物水溶液を調製し、該混合物水溶液を常圧加熱
反応あるいは水熱反応させた後、反応混合物を噴霧乾燥
し、必要に応じてカ焼することを特徴とするペロブスカ
イト型化合物の無機微粉体の製造方法。 - 【請求項２】Ａ群元素の少なくとも一種の水酸化物及び
／又は酸化物と、Ｂ群元素の少なくとも一種の水酸化物
及び／又は酸化物とを混合して混合物水溶液を得る第１
項記載の無機微粉体の製造方法。 - 【請求項３】Ａ群元素の少なくとも一種の水酸化物及び
／又は酸化物と、Ｂ群元素の少なくとも一種の有機金属
化合物とを混合して、混合物水溶液を得る第１項記載の
無機微粉体の製造方法。 - 【請求項４】Ａ群元素の少なくとも１種の有機金属化合
物と、Ｂ群元素の少なくとも１種の水酸化物及び／又は
酸化物とを混合して混合物水溶液を得る第１項記載の無
機微粉体の製造方法。 - 【請求項５】Ａ群元素の少なくとも１種の有機金属化合
物と、Ｂ群元素の少なくとも１種の有機金属化合物とを
混合して、混合物水溶液を得る第１項記載の無機微粉体
の製造方法。 - 【請求項６】Ａ群元素の少なくとも１種の水酸化物及び
／又は酸化物が水酸化バリウムであり、Ｂ群元素の少な
くとも１種の水酸化物及び／又は酸化物が含水酸化チタ
ンであり、ペロブスカイト型化合物がチタン酸バリウム
である第２項記載の無機微粉体の製造方法。 - 【請求項７】Ａ群元素の少なくとも１種の水酸化物及び
／又は酸化物が水酸化ストロンチウムであり、Ｂ群元素
の少なくとも１種の水酸化物及び／又は酸化物が含水酸
化チタンであり、ペロブスカイト型化合物がチタン酸ス
トロンチウムである第２項記載の無機微粉体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7239487A JPH0832559B2 (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | ペロブスカイト型化合物の無機微粉体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7239487A JPH0832559B2 (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | ペロブスカイト型化合物の無機微粉体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63236713A JPS63236713A (ja) | 1988-10-03 |
| JPH0832559B2 true JPH0832559B2 (ja) | 1996-03-29 |
Family
ID=13488008
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7239487A Expired - Fee Related JPH0832559B2 (ja) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | ペロブスカイト型化合物の無機微粉体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0832559B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20180116727A (ko) * | 2017-04-14 | 2018-10-25 | 인하대학교 산학협력단 | 강유전체 세라믹 복합체의 제조방법 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2634290B2 (ja) * | 1990-05-01 | 1997-07-23 | 株式会社 村田製作所 | チタン酸バリウム粉末の製造方法 |
| JP2642876B2 (ja) * | 1994-08-11 | 1997-08-20 | 工業技術院長 | チタン酸鉛系誘電体薄膜 |
| WO2002020396A2 (en) * | 2000-09-05 | 2002-03-14 | Altair Nanomaterials Inc. | Method for producing mixed metal oxides and metal oxide compounds |
| TW200500320A (en) | 2003-04-25 | 2005-01-01 | Sumitomo Chemical Co | Barium titanate powder and fabricating method thereof |
| JP4252508B2 (ja) * | 2004-07-20 | 2009-04-08 | Ｔｄｋ株式会社 | チタン酸バリウム粉末の製造方法及びその粉末並びにそれを用いた積層セラミック電子部品 |
| JP4827011B2 (ja) * | 2006-03-10 | 2011-11-30 | Ｔｄｋ株式会社 | セラミック粉末及びこれを用いた誘電体ペースト、積層セラミック電子部品、その製造方法 |
| JP6065286B2 (ja) * | 2014-02-14 | 2017-01-25 | 富士フイルム株式会社 | チタン酸ストロンチウム微粒子の製造方法 |
-
1987
- 1987-03-25 JP JP7239487A patent/JPH0832559B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20180116727A (ko) * | 2017-04-14 | 2018-10-25 | 인하대학교 산학협력단 | 강유전체 세라믹 복합체의 제조방법 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63236713A (ja) | 1988-10-03 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |