JPH08327401A - 変位情報検出装置、駆動制御装置、及び変位情報検出用スケール - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 射出方位に応じた光量むら等の光量差を加味
した高精度な変位情報検出を実現する。 【構成】 スケールD上の第１パターン形成部に光束照
射を行った際の第１パターン形成部からの出射光を検出
して物体の相対変位情報に相当する信号を出力する受光
素子Su、Svと、スケールD上の第２パターン形成部に光
束照射を行った際の第２パターン形成部からの出射光を
検出して物体の相対変位情報に相当する信号を出力する
受光素子Sw、Szと、第１、第２パターン形成部それぞれ
にないしそれぞれの近傍部に設けられた光量モニタ用ト
ラックTref1、Tref2からの出射光をそれぞれ検出して、
第１、第２パターン形成部それぞれ付近の光量モニタを
行うための受光素子Sref1、Sref2とを有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、変位情報検出装置、駆
動制御装置、及び変位情報検出用スケールに関する。本
発明は、相対（回転）物体に取り付けられたスケールの
格子と符号パターンに光束を照射して、そこから得られ
る変調信号光を検出することで、スケールの位置、位置
ずれ量、位置ずれ方向、速度、加速度等を検出するエン
コーダや、上記検出情報に基づいて、ACモータ等の駆動
装置の電流量や方向を制御して、物体の回転移動をさせ
る装置（エンコーダ付モータ等）に良好に適用できるも
のである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、物体の位置情報（変位量、速
度、加速度等）を高精度に測定する目的に相対変位検出
用のインクリメンタルエンコーダが利用されていた。ま
た一方でACモータに代表されるブラシレスモータには、
回転を行わせるためにモータ内のロータの絶対回転位置
を検出するアブソリュートロータリーエンコーダが利用
されていた。

【０００３】そして、ACモータ等を利用した物体の回転
位置制御には、両方の信号が得られる複合型ロータリー
エンコーダが使われていた。

【０００４】ここで、従来の高精度なインクリメンタル
エンコーダは、例えば特公昭58-26002号公報等に示され
るように、ミクロンオーダの微細な格子をスケール上に
記録したものに、単色光束を照明し、そこで得られる回
折光のうち、少なくとも２つを取り出して干渉させるこ
とで、格子の移動にともなう光量の周期的変化を作り出
して、それを光電素子で検出することでインクリメンタ
ルエンコーダ信号を出力する構成にしていた。

【０００５】これに対しアブソリュートロータリーエン
コーダは、例えば米国特許第3591841号公報等に開示さ
れるように、回転ディスク上の半径の異なる周上に複数
の透過非透過（または反射非反射）のパターン（例えば
グレイコードパターン）を、１回転中に１つのコードの
組み合わせしかないように形成してあり、それぞれの周
の特定の位置における透過光（または反射光）を検出す
ることでディスクの回転絶対位置が出力される様になっ
ていた。特にモータ用のアブソリュートエンコーダは、
回転ディスク上の半径の異なる周上に複数の透過非透過
（または反射非反射）のパターン（例えばグレイコード
パターン）を、モータの構造（極数M）に応じてM個のコ
ードの組み合わせしかないように形成してあれば、それ
ぞれの周の特定の位置における透過光（または反射光）
を検出することでモータのロータ〜ステータ間の位置が
出力される。

【０００６】

【発明が解決しようとしている課題】さて、最近の動向
としてロータリーエンコーダの小型化（EX.Φ１０ミリ
のディスク）が求められているが、上記のように異なる
原理に基づく複合エンコーダを小型化するには、ディス
ク上に複数の信号を発生させるためのパターンをトラッ
ク幅を狭くして記録しておき、それら全トラックに光束
を均一に照射することが望ましい。

【０００７】一方この様な小型の変位情報測定装置用の
光源には小型の光源が望ましい。小型光源として、LED
等の発光素子が考えられる。

【０００８】図１にこの様なLED等の発光素子の発光状
態の説明図を示す。（ａ）はLED等の発光素子の各方位
への発光光量の分布を示す図、（ｂ）はLED等の発光素
子からの光をコリメータレンズで平行光束にした場合の
平行光束断面内での光量分布を示す図である。

【０００９】前述のような異なる原理に基づく複合エン
コーダの場合、LED等の光源LGTからの発散光をコリメー
タレンズLNSによって平行光束にする際に、全トラック
に照明するためにトラックの最内周〜最外周までの幅を
カバーするような光束径になるように、コリメータレン
ズの口径、焦点距離が選ばれる。

【００１０】一方、エンコーダの全体構成を小型化する
場合には、光学系も小型化するために焦点距離の短いレ
ンズを用いることが望ましい。

【００１１】しかし、平行光束の光束径をある程度大き
くしたまま焦点距離を短くするには、NAの大きな特殊な
レンズを光源の発光位置に近接して配置する必要があ
る。

【００１２】一般的にLED等の発光素子より射出される
光束は、図１の（ａ）に示されるように射出方位に応じ
て光量が変化するために、コリメータレンズによって得
られる平行光束は、図１の（ｂ）に示されるように中央
が強く周辺が弱くなる。このため一般にこうした光量む
らを後段の電気回路によって補正して、振幅オフセット
を補正していた。しかしこの様な光量むらは、光学系に
よってもばらつき、例えば光軸がずれると周辺部の光量
が一方は大きくなり、一方は小さくなる。このためこの
様な光量むらを固定した定数で補正すると、補正が不正
確になり、エラーが生じる畏れがある。

【００１３】本発明は、上述の従来例に鑑み、射出方位
に応じた光量むら等の光量差を加味した高精度な変位情
報検出が可能となる小型の複合型変位情報検出装置、及
びそれを用いた駆動制御装置、及びそれに用いられる変
位情報検出用スケールに関する。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上述目的を達するための
第１発明は、相対変位を検出すべき物体に設けられたス
ケール上の第１パターン形成部に光束照射を行って該第
１パターン形成部からの出射光を検出して前記物体の相
対変位情報に相当する信号を出力する第１検出手段と、
相対変位を検出すべき物体に設けられたスケール上の前
記第１パターン形成部とは異なる位置に設けられた第２
パターン形成部に光束照射を行って該第２パターン形成
部からの出射光を検出して前記物体の相対変位情報に相
当する信号を出力する第２検出手段と、前記第１、第２
パターン形成部それぞれにないしそれぞれの近傍部に設
けられた光量モニタ用エリアからの出射光をそれぞれ検
出して、前記第１、第２パターン形成部それぞれ付近の
光量モニタを行うための光量モニタ手段とを有すること
を特徴とする変位情報検出装置である。

【００１５】また、第２発明は更に、前記第１、第２パ
ターン形成部には複数のアブソリュート位置検出用パタ
ーンと原点位置検出用パターンとを２つに分けてそれぞ
れ配置してあることを特徴とする。

【００１６】また、上述目的を達するための第３発明
は、光源からの光束を、相対変位を検出すべき物体に設
けられたスケール上に設けられた位相型回折格子、及び
該位相型回折格子を挟む第１及び第２パターン形成部に
分けて設けられたアブソリュート位置検出用パターン及
び原点位置検出用パターンに照射して、該位相型回折格
子、該アブソリュート位置検出用パターン及び原点位置
検出用パターンから得られる変調光をそれぞれ対応する
受光素子上に投影して、相対変位に伴う周期的明暗信
号、アブソリュート位置符号信号、原点位置信号をそれ
ぞれ出力するように構成され、更に前記第１、第２パタ
ーン形成部それぞれにないしそれぞれの近傍部に設けら
れた光量モニタ用エリアからの出射光をそれぞれ検出し
て、前記第１、第２パターン形成部それぞれ付近の光量
モニタを行うための光量モニタ手段とを有することを特
徴とする変位情報検出装置である。

【００１７】また、第４発明は更に、前記光量モニタ手
段のモニタ結果に基づいて前記出力される信号の補正を
行う処理回路を有することを特徴とする。

【００１８】また、上述目的を達するための第５発明
は、上述の変位情報検出装置を設け、前記処理回路によ
って補正された信号に基づいて前記物体の駆動の制御を
行うことを特徴とする駆動制御装置である。

【００１９】また、上述目的を達するための第６発明
は、光束照射され、得られた変調光より相対変位情報検
出を形成するための、位相型回折格子、アブソリュート
位置検出用パターン及び原点位置検出用パターンを有
し、該アブソリュート位置検出用パターン及び原点位置
検出用パターンが該位相型回折格子を挟む第１及び第２
パターン形成部に分けて設けられ、さらに前記第１、第
２パターン形成部それぞれにないしそれぞれの近傍部に
光量モニタ用エリアが設けられていることを特徴とする
変位情報検出用スケールである。

【００２０】また、第７発明は更に、前記相対変位は相
対回転変位であることを特徴とする。

【００２１】

【実施例】図２は、本発明の第１の実施例のリニアエン
コーダの光学配置図である。

【００２２】図３は、本発明の第２の実施例のロータリ
ーエンコーダの光学配置図である。

【００２３】第１、第２実施例は、相対移動するスケー
ルD上の各パターンの配列が直線的か円周状かの差、ま
たスケールDの変位が直動か回動かの差、そして検出さ
れるのが直動変位情報か回転変位情報かの差はあるが、
他の点は概略同様なので、以下まとめて説明する。

【００２４】LED等の光源LGTより射出された光束は、多
重円環状回折格子によって形成されたコリメータレンズ
LNSによって平行光束にされ、相対移動（直動ないし回
動）するスケールD上に照明される。図２においてはス
ケールDを、光束照射部分付近以外を省略して表示して
ある。

【００２５】スケールD上にはガラスエッチングまたは
成形法により凹凸状透過型位相型回折格子が形成された
インクリメンタル信号用トラックGT１と、原点位置に部
分的に配置された凹凸状透過型位相型回折格子パターン
が形成されている原点トラックTzと、規則的配置された
凹凸状透過型位相型回折格子パターンが形成されたアブ
ソリュート符号トラックTu、Tv、Twが、変位検出方向に
沿って記録されている。

【００２６】これらの実施例では、インクリメンタル信
号用トラックGT１を中心にその両側にアブソリュート符
号トラックTu、Tvの組とアブソリュート符号トラックT
w、原点トラックTzの組とに分けて配置し、さらにその
各組のトラック間にはパターンを全く形成していない光
束透過トラックである光量モニタ用トラックTref1、Tre
f2を配置してある。

【００２７】位相型回折格子の断面形状はラメラ格子で
あり、凹凸の比率は1：1であり、構成材料の屈折率n、
光源の波長λとして、段差hはh=λ/(２×(n−1))を満た
すようにしてある。なお凹凸による透過光量は同一であ
る。

【００２８】まず、インクリメンタルトラックGT１（格
子ピッチP1μm）に照明された光束により透過回折光を
発生する。透過回折光束は、格子GT１から遠ざかるにつ
れて、回折現象によって、位相不連続部がなめらかに接
続し、かつ凹凸の両者からの光束同士の干渉が多くな
り、位相不連続部の上部に明瞭な光量低下部が規則的に
生じる。この明暗パターンの格子ピッチは、位相格子GT
１の格子ピッチP１の半分になる。即ちスケール面から
わずかに離れた空間に明暗パターン（明暗周期P2＝P1／
2μm）が発生する。

【００２９】そこに配置された振幅格子（スリット格
子）GT２（格子ピッチP2＝P1／2μm）により明暗パター
ンを選択することで透過光が明暗信号として射出する。

【００３０】スケールDの移動によって位相格子が１ピ
ッチ分移動すると、明暗のパターンが２ピッチ分ずれ、
透過光量が正弦波状に２周期変化する。

【００３１】ここで本実施例において振幅格子GT2は、
図２に示すように領域をGT2-a、GT2-b、GT2-aバー、GT2
-bバーの４つに分割されていて、各領域は互いの格子の
配列の位相を１／４ピッチ分ずつずらして形成してあ
る。

【００３２】各領域からの出射光の明暗の位相は互いに
１／４周期ずつずれている。

【００３３】この各領域からの出射光を夫々対応する受
光素子SA、SB、SAバー、SBバーに入射するので、受光素
子SA、SB、SAバー、SBバーからは正弦波状アナログ信号
電流が互いに１／４周期ずつずれて発生する。この４つ
の位相のずれた正弦波状アナログ信号を用いて、不図示
の信号処理回路でスケールDの相対的なインクリメンタ
ルな直動変位量（又は回転量）及び直動（又は回転）方
向が演算される。この演算についてはよく知られている
ので、説明は省略する。

【００３４】一方、原点トラックTzには、原点位置に位
相型回折格子がピッチをばらつかせて部分的に形成して
ある。原点トラックTzに照明された光束は、照明領域に
この位相型回折格子が形成してあるところがきたとき
に、回折光を発生してスケール面からわずかに離れた空
間に特定の明暗パターンを発生する。この明暗パターン
発生位置には、その明暗パターンと同一のパターンで形
成された原点用振幅格子（スリット格子）GTzが、振幅
格子GT2と同一基板上に形成されている。この原点用振
幅格子GTzを透過させる構成により、明暗パターンと原
点用振幅格子GTzとが完全に合致した瞬間に最小の透過
光量が得られることになる。よって、この透過光を受光
する位置に配置されている受光素子Szからは原点通過ご
とに１つのパルス状アナログ信号が発生する。このよう
なパルス信号は受光素子Sz出力を受ける不図示の信号処
理回路で発生させる。これによってスケールDの原点通
過が検出される。

【００３５】一方、アブソリュート符号パターントラッ
クTu、Tv、Twに照明された前述平行光束は、受光素子に
対応する部分に照射された光束部分が位相型回折格子に
かかっているか否か、即ちアブソリュート符号パターン
トラックの受光素子に対応する部分における光束透過非
透過に応じて、スケールDの直動ないし回転によって透
過光が受光素子Su、Sv、Sw上に間欠的に投影される。こ
こでは、照射位置にパターンがあるときは光束を回折さ
れて光路がずれて非透過状態となり、ないときにはその
まま直進して透過状態となる。

【００３６】受光素子Su、Sv、SwからはスケールDの現
在の直動ないし回転位置に応じたアブソリュート符号信
号群が出力され、その２値情報の組み合わせによって不
図示の信号処理回路でアブソリュート位置が特定され
る。このアブソリュート位置の特定の仕方はよく知られ
ているので、説明は省略する。

【００３７】光量モニタ用トラックTref1、Tref2に照明
された光束は、そのまま透過して受光素子Sref1、Sref2
に入射し、光量信号を出力する。

【００３８】このように構成すると、光束の中心に近い
変調光束を受光するSv、Szは外側の変調光束を受光する
Su、Swに比べて明レベルの出力が大きく、かつ両者の明
レベルの平均値と受光素子Sref1、Sref2からの出力がほ
ぼ一致するようになる（但し、明レベルとは位相格子非
形成部光束透過時の受光素子信号出力レベルである）。

【００３９】図４は、前述の各受光素子から不図示の信
号処理回路までの間に配置された、信号補正のための処
理回路を示す回路説明図である。

【００４０】受光素子SAとSAバーの出力は減算されてＡ
相信号として出力される。同様に受光素子SBとSBバーの
出力は減算されてＢ相信号として出力される。

【００４１】一方受光素子Su、Sv、Sw、Szそれぞれから
出力されるアナログ信号は、各出力の明暗レベルの平均
値が等しくなる様に各アナログ信号レベルをそれぞれ適
切な係数倍して振幅を規格化し、また光量モニタ受光素
子Sref1、Sref2それぞれから出力されるアナログ信号は
前述の明暗レベルの平均値の値と同じ値になる様に各ア
ナログ信号レベルをそれぞれ適切な係数倍する。受光素
子Su、Sv、Sw、Szからの信号のこの適切な係数倍したア
ナログ信号レベルから、光量モニタ受光素子Sref1、Sre
f2のうちの近接した側からの信号のこの適切な係数倍し
たアナログ信号レベルを引き算してオフセットを規格化
する。即ち受光素子Sv、Suからの信号の適切な係数倍し
たアナログ信号レベルは光量モニタ受光素子Sref1から
の信号の適切な係数倍したアナログ信号レベルを引き算
し、受光素子Sw、Szからの信号の適切な係数倍したアナ
ログ信号レベルは光量モニタ受光素子Sref2からの信号
の適切な係数倍したアナログ信号レベルを引き算する。
この様にしてオフセットおよび振幅を規格化した信号
Ｕ、Ｖ、Ｗ、Ｚを得る。この信号Ｕ、Ｖ、Ｗ、Ｚを不図
示の信号処理回路にて２値化した後各種処理を行う。

【００４２】これらの電子回路における係数倍の係数値
は、予め測定されている一般的光量分布より抵抗値を適
正設計された回路中の抵抗によって固定されている。

【００４３】この様な構成により、光源からの光量変動
があっても振幅及びオフセットを正確に補正できる。ま
た、この様な構成において、組立時に光軸が受光素子Sr
ef1側にずれたとすると、受光素子Sv、Sref1、Suの出力
振幅及びオフセットは大きくなり、受光素子Sz、Sref
2、Swの出力振幅及びオフセットは小さくなる。受光素
子Sv、Sref1、Suは近接しており、また受光素子Sz、Sre
f2、Swも近接しているため、各組内では光量の増減の方
向が一致しており、明レベルの出力の比率もそれほど変
化しない。よって上述の様に抵抗によって固定された係
数倍で振幅補正してもその誤差の影響は小さく、特に振
幅補正された各アナログ信号レベルの引き算によるオフ
セット補正の段階では補正エラーは極めて小さく済む。

【００４４】例えば仮にスケール上の１ヶ所のみに光量
モニタ用トラックを設けてそこから得られる出力を基に
振幅とオフセットを補正した場合を考えると、光源から
の光量変動があった場合には正確な補正が可能である
が、光軸ずれ等による光量変動の場合には、測定箇所に
よって必要な補正の方向が異なるのに一様にしか補正で
きないので、部分的に補正が過剰となったり不足したり
する事態が想定される。

【００４５】これに対して本装置は、上述の様に各組ご
とに各トラックに近接した光量モニタ用トラックを設け
て、それぞれから得られる信号に基づいて補正をする構
成により、光量むらに対して安定したアナログ信号Ｕ、
Ｖ、Ｗ、Ｚを得ることができる。

【００４６】このアナログ信号をもとに、不図示の信号
処理回路中の公知の２値化回路によってデジタル信号に
変換され、各種のエンコーダ信号を得る。

【００４７】以上のようなエンコーダ用パターンの記録
方法および信号処理回路によって、光学系部品の取り付
け誤差や発光素子の放射特性の片寄りによって各位置情
報信号光に予期しない光量むらが生じていても回路構成
を改めて調整し直すことなく、小型、小径、薄型であり
ながら位置情報信号を安定に出力できるエンコーダを実
現できる。

【００４８】図５は本発明の第３実施例にかかるモータ
ードライバーシステムの概略構成図である。図中、DHは
前述した第２実施例における光源LGTから各受光素子ま
でのスケールDをのぞく全光学構成と図４に示す回路構
成が配置された検出ヘッド、PUは図４に示す回路からの
各出力を信号処理して、インクリメンタルな回転量及び
回転方向測定、ディスクリートな回転位置測定、及び原
点検出を行い、制御信号を発生する信号処理回路、IMは
信号処理回路PUへ回転の指令入力を行う為の入力部、MD
は信号処理回路PUからの制御信号を受けてモータの駆動
制御を行うモータドライバー、MTはモータ、SFはモータ
に回転駆動され、不図示の被駆動部に駆動力を伝達する
シャフトである。

【００４９】信号処理回路PUは図４に示す回路構成から
の出力と、入力部からの指令入力情報に基づいて制御信
号を発生し、これによりモータMTによるシャフトSFの回
転駆動が制御される。

【００５０】前述のような構成により、光学系部品の取
り付け誤差や発光素子の放射特性の片寄りによって各位
置情報信号光に予期せぬ光量むらが生じていても回路構
成を改めて調整し直すことなく、小型、小径、薄型であ
りながら位置情報信号を安定に出力できるモータドライ
バシステムが実現されている。

【００５１】その他以下の変更が可能である。 （１）アブソリュート符号パターントラックTu、Tv、Tw
中のパターンをモータ制御用ではなく、通常のピュアバ
イナリーコード、グレイコード等に変更してもよい。 （２）アブソリュート符号パターントラックTu、Tv、Tw
中、原点トラックTz中のパターンを透過、非透過または
反射、非反射の膜で記録したものに変えてもよい。 （３）インクリメンタル位相差信号発生用振幅格子GT２
の分割数や位相ずらし量を変え（２分割にして、90度ず
らしたり、６分割にして60度ずつずらしたりすること
等）てもよい。 （４）光量モニタ用トラックTref1、Tref2は、アブソリ
ュート符号パターントラックTu、Tv、Tw、原点トラック
Tzの間ではなく、これらトラックが形成されている部分
の隣接部等の近傍に配置しても良い。

【００５２】

【発明の効果】以上説明したように、第１発明によれば
複数のパターン形成部間での光量むらをモニタでき、こ
の光量差に応じた適切な検出を行うことが可能になり、
結果として高精度な変位情報検出が可能となる小型の複
合型変位情報検出装置が実現される。

【００５３】また、第２発明によればアブソリュート位
置検出と原点検出とを光量むらによる光量差に応じて適
切に行うことが可能になり、結果として高精度な変位情
報検出が可能となる小型の複合型変位情報検出装置が実
現される。

【００５４】また、第３発明によれば、相対変位に伴う
周期的明暗検出を間に挟んでアブソリュート位置検出と
原点検出とを光量むらによる光量差に応じて適切に行う
ことが可能になり、結果として高精度な変位情報検出が
可能となる小型の複合型変位情報検出装置が実現され
る。

【００５５】また、第４発明によれば、複数のパターン
形成部間での光量むらに応じた適切な補正を行うことが
可能になり、結果として高精度な変位情報検出が可能と
なる小型の複合型変位情報検出装置が実現される。

【００５６】また第５発明によれば、この様な高精度な
変位情報検出が可能となる小型の複合型変位情報検出装
置による高精度な駆動制御が実現される。

【００５７】また第６発明によれば、複数のパターン形
成部間での光量むらを簡易にモニタ可能な変位情報検出
用のスケールが実現される。

【００５８】また第７発明は、この様な高精度な変位測
定、駆動制御等を回転変位において実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】光源射出光の光量分布の説明図

【図２】本発明の第１実施例を示す図

【図３】本発明の第２実施例を示す図

【図４】本実施例の処理回路を示す図

【図５】本発明の第３実施例を示す図

【符号の説明】

ＬＧＴ 光源 ＬＮＳ コリメータレンズ Ｄ スケール ＧＴ２ 振幅格子 ＧＴ１ 位相型回折格子 ＧＴｚ 原点用振幅格子 ＳＡ、ＳＡバー、ＳＢ、ＳＢバー 周期的明暗検出用受
光素子 ＳＺ 原点用受光素子 Ｓｕ、Ｓｖ、Ｓｗ アブソリュート信号用受光素子 Ｓｒｅｆ１、Ｓｒｅｆ２ 光量モニタ用受光素子 Ｔｚ 原点トラック Ｔｕ、Ｔｖ、Ｔｗ アブソリュート符号パターントラッ
ク Ｔｒｅｆ１、Ｔｒｅｆ２ 光量モニタ用トラック

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 相対変位を検出すべき物体に設けられた
   スケール上の第１パターン形成部に光束照射を行って該
   第１パターン形成部からの出射光を検出して前記物体の
   相対変位情報に相当する信号を出力する第１検出手段
   と、相対変位を検出すべき物体に設けられたスケール上
   の前記第１パターン形成部とは異なる位置に設けられた
   第２パターン形成部に光束照射を行って該第２パターン
   形成部からの出射光を検出して前記物体の相対変位情報
   に相当する信号を出力する第２検出手段と、前記第１、
   第２パターン形成部それぞれにないしそれぞれの近傍部
   に設けられた光量モニタ用エリアからの出射光をそれぞ
   れ検出して、前記第１、第２パターン形成部それぞれ付
   近の光量モニタを行うための光量モニタ手段とを有する
   ことを特徴とする変位情報検出装置。
2. 【請求項２】 前記第１、第２パターン形成部には複数
   のアブソリュート位置検出用パターンと原点位置検出用
   パターンとを２つに分けてそれぞれ配置してあることを
   特徴とする請求項１に記載の変位情報検出装置。
3. 【請求項３】 光源からの光束を、相対変位を検出すべ
   き物体に設けられたスケール上に設けられた位相型回折
   格子、及び該位相型回折格子を挟む第１及び第２パター
   ン形成部に分けて設けられたアブソリュート位置検出用
   パターン及び原点位置検出用パターンに照射して、該位
   相型回折格子、該アブソリュート位置検出用パターン及
   び原点位置検出用パターンから得られる変調光をそれぞ
   れ対応する受光素子上に投影して、相対変位に伴う周期
   的明暗信号、アブソリュート位置符号信号、原点位置信
   号をそれぞれ出力するように構成され、更に前記第１、
   第２パターン形成部それぞれにないしそれぞれの近傍部
   に設けられた光量モニタ用エリアからの出射光をそれぞ
   れ検出して、前記第１、第２パターン形成部それぞれ付
   近の光量モニタを行うための光量モニタ手段とを有する
   ことを特徴とする変位情報検出装置。
4. 【請求項４】 前記光量モニタ手段のモニタ結果に基づ
   いて前記出力される信号の補正を行う処理回路を有する
   ことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の変
   位情報検出装置。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の変位情報検出装置を設
   け、前記処理回路によって補正された信号に基づいて前
   記物体の駆動の制御を行うことを特徴とする駆動制御装
   置。
6. 【請求項６】 光束照射され、得られた変調光より相対
   変位情報検出を形成するための、位相型回折格子、アブ
   ソリュート位置検出用パターン及び原点位置検出用パタ
   ーンを有し、該アブソリュート位置検出用パターン及び
   原点位置検出用パターンが該位相型回折格子を挟む第１
   及び第２パターン形成部に分けて設けられ、さらに前記
   第１、第２パターン形成部それぞれにないしそれぞれの
   近傍部に光量モニタ用エリアが設けられていることを特
   徴とする変位情報検出用スケール。
7. 【請求項７】 前記相対変位は相対回転変位であること
   を特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の変位情
   報検出装置又は駆動制御装置又は変位情報検出用スケー
   ル。