JPH08330212A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH08330212A JPH08330212A JP7133789A JP13378995A JPH08330212A JP H08330212 A JPH08330212 A JP H08330212A JP 7133789 A JP7133789 A JP 7133789A JP 13378995 A JP13378995 A JP 13378995A JP H08330212 A JPH08330212 A JP H08330212A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light source
- light
- aperture stop
- source image
- aperture
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】露光面内における縦方向と横方向とでの解像度
の差を大幅に軽減する。 【構成】光を供給する光源手段(10)と、該光源手段から
の光を複数に分割して複数の光源像を形成する多光源像
形成手段(30,50) と、該多光源像形成手段からの光を集
光して所定パターンを有するマスク(M) を重畳的に照明
する集光光学系(6) とを有し、マスクのパターンを感光
性基板(W) に露光する露光装置であって、多光源像形成
手段により形成される光源像位置又は該光源像位置近傍
に開口絞り(AS1,AS2) を配置し、感光性基板上での所定
の第１方向(X方向) と該第１方向と垂直な第２方向(Y方
向) における解像度の差を補正するために、前記第１方
向に対応する前記開口絞りの開口部の長さと前記第２方
向に対応する前記開口絞りの開口部の長さとを異ならせ
しめる。
の差を大幅に軽減する。 【構成】光を供給する光源手段(10)と、該光源手段から
の光を複数に分割して複数の光源像を形成する多光源像
形成手段(30,50) と、該多光源像形成手段からの光を集
光して所定パターンを有するマスク(M) を重畳的に照明
する集光光学系(6) とを有し、マスクのパターンを感光
性基板(W) に露光する露光装置であって、多光源像形成
手段により形成される光源像位置又は該光源像位置近傍
に開口絞り(AS1,AS2) を配置し、感光性基板上での所定
の第１方向(X方向) と該第１方向と垂直な第２方向(Y方
向) における解像度の差を補正するために、前記第１方
向に対応する前記開口絞りの開口部の長さと前記第２方
向に対応する前記開口絞りの開口部の長さとを異ならせ
しめる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は被照明物体を均一に照明
する照明光学装置に関するものであり、特に、半導体素
子や液晶素子等の製造に好適な照明光学装置に関するも
のである。
する照明光学装置に関するものであり、特に、半導体素
子や液晶素子等の製造に好適な照明光学装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】従来においては、例えば、図７に示す如
き照明光学装置を半導体製造用の露光装置に応用したも
のが知られている。図７の（ａ）に示す如く、水銀アー
ク灯等の光源１からの光束は楕円鏡２により集光された
後、コリメータレンズ３により平行光束に変換される。
そして、この平行光束は、図７の（ｂ）に示す如く、断
面が四角形のレンズ素子４ａの集合体よりなるフライア
イレンズ４を通過することにより、これの射出側に複数
の光源像が形成される。この光源像位置には、円形状の
開口部を有する開口絞り５が設けられている。この複数
の光源像からの光束はコンデンサーレンズ６によって集
光され、被照射物体としてのマスクＭを重畳的に均一照
明する。
き照明光学装置を半導体製造用の露光装置に応用したも
のが知られている。図７の（ａ）に示す如く、水銀アー
ク灯等の光源１からの光束は楕円鏡２により集光された
後、コリメータレンズ３により平行光束に変換される。
そして、この平行光束は、図７の（ｂ）に示す如く、断
面が四角形のレンズ素子４ａの集合体よりなるフライア
イレンズ４を通過することにより、これの射出側に複数
の光源像が形成される。この光源像位置には、円形状の
開口部を有する開口絞り５が設けられている。この複数
の光源像からの光束はコンデンサーレンズ６によって集
光され、被照射物体としてのマスクＭを重畳的に均一照
明する。
【０００３】以上の照明光学装置によりマスクＭ上の回
路パターンは、レンズ７１及び７２よりなる投影光学系
７によって、ウエハＷ上に転写される。このウエハＷは
２次元的に移動するウエハステージＷＳ上に載置されて
おり、図１４の露光装置では、ウエハ上での１ショット
領域の露光が完了すると、次のショット領域への露光の
ために、順次、ウエハステージを２次元移動させる所謂
ステップアンドリピート方式の露光が行われる。
路パターンは、レンズ７１及び７２よりなる投影光学系
７によって、ウエハＷ上に転写される。このウエハＷは
２次元的に移動するウエハステージＷＳ上に載置されて
おり、図１４の露光装置では、ウエハ上での１ショット
領域の露光が完了すると、次のショット領域への露光の
ために、順次、ウエハステージを２次元移動させる所謂
ステップアンドリピート方式の露光が行われる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年におい
ては、マスクＭに対し長方形状又は円弧状の光束を照射
し、投影光学系に関して共役に配置されたマスクＭとウ
エハＷとを一定方向に走査することにより、高いスルー
プットのもとでマスクＭの回路パターンのウエハ上への
転写しようとする走査露光方式が提案されている。
ては、マスクＭに対し長方形状又は円弧状の光束を照射
し、投影光学系に関して共役に配置されたマスクＭとウ
エハＷとを一定方向に走査することにより、高いスルー
プットのもとでマスクＭの回路パターンのウエハ上への
転写しようとする走査露光方式が提案されている。
【０００５】ここで、図７に示す如き照明光学装置を応
用して走査露光方式とするには、例えば長方形状の光束
をレチクルに照明する必要があり、このため、例えば、
図７の（ｃ）に示す如く、フライアイレンズ４を構成す
ることが考えられる。即ち、フライアイレンズ４を構成
する個々のレンズ素子からの光束がマスクＭ上を長方形
状に重畳して照明させるために、図７の（ｃ）に示す如
く、フライアイレンズ４を構成するレンズ素子４ａの断
面を照射領域の形状と相似になるような長方形状に構成
し、マスクＭ上の照明領域に対する照明光学系の開口数
を等しくするために、この長方形状のレンズ断面を持つ
レンズ素子４ａを全体として開口絞り５の円形形状の開
口部が内接するように正方形に束ねて構成する。これに
より、高い照明効率のもとでマスクＭを長方形状に照明
することができる。
用して走査露光方式とするには、例えば長方形状の光束
をレチクルに照明する必要があり、このため、例えば、
図７の（ｃ）に示す如く、フライアイレンズ４を構成す
ることが考えられる。即ち、フライアイレンズ４を構成
する個々のレンズ素子からの光束がマスクＭ上を長方形
状に重畳して照明させるために、図７の（ｃ）に示す如
く、フライアイレンズ４を構成するレンズ素子４ａの断
面を照射領域の形状と相似になるような長方形状に構成
し、マスクＭ上の照明領域に対する照明光学系の開口数
を等しくするために、この長方形状のレンズ断面を持つ
レンズ素子４ａを全体として開口絞り５の円形形状の開
口部が内接するように正方形に束ねて構成する。これに
より、高い照明効率のもとでマスクＭを長方形状に照明
することができる。
【０００６】しかしながら、図７の（ｃ）に示す如き断
面形状を有するフライアイレンズ４では、レンズ素子４
ａの断面を長方形状とした事により、縦方向と横方向に
おいて配置されるレンズ素子の数が大きく異なる。これ
により、図７の（ｃ）に示す如く、開口絞り５の円形形
状の開口部５ａの内部では光源像が均一に分布しておら
ず、縦（Ｙ方向）と横（Ｘ方向）では光源像の光強度の
密度等に差が生ずるという問題がある。ここで、開口絞
りの形状は照明光学系系のコヒーレンスを決定するσ絞
りの役割を担っており、光源像の光強度の密度が各方向
において異なることは、σ値のばらつきの原因となる事
を意味する。従って、縦と横の方向の光源像の光強度の
密度差等が起因して縦と横の方向のσ値の違いが生ずる
事により、最終的には、露光装置自体の縦方向と横方向
とでの限界解像度が大きく異なるという問題がある。
面形状を有するフライアイレンズ４では、レンズ素子４
ａの断面を長方形状とした事により、縦方向と横方向に
おいて配置されるレンズ素子の数が大きく異なる。これ
により、図７の（ｃ）に示す如く、開口絞り５の円形形
状の開口部５ａの内部では光源像が均一に分布しておら
ず、縦（Ｙ方向）と横（Ｘ方向）では光源像の光強度の
密度等に差が生ずるという問題がある。ここで、開口絞
りの形状は照明光学系系のコヒーレンスを決定するσ絞
りの役割を担っており、光源像の光強度の密度が各方向
において異なることは、σ値のばらつきの原因となる事
を意味する。従って、縦と横の方向の光源像の光強度の
密度差等が起因して縦と横の方向のσ値の違いが生ずる
事により、最終的には、露光装置自体の縦方向と横方向
とでの限界解像度が大きく異なるという問題がある。
【０００７】そこで、本発明では、上記の問題を解決
し、露光面内における縦方向と横方向とでの解像度の
差、即ち各方向による解像度の差を大幅に軽減し得る高
性能な露光装置を提供することを目的としている。
し、露光面内における縦方向と横方向とでの解像度の
差、即ち各方向による解像度の差を大幅に軽減し得る高
性能な露光装置を提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、光を供給する光源手段と、該光源手段か
らの光を複数に分割して複数の光源像を形成する多光源
像形成手段と、該多光源像形成手段からの光を集光して
所定パターンを有するマスクを重畳的に照明する集光光
学系とを有し、前記マスクのパターンを感光性基板に露
光する露光装置において、前記多光源像形成手段により
形成される光源像位置又は該光源像位置近傍に開口絞り
を配置し、前記感光性基板上での所定の第１方向と該第
１方向と垂直な第２方向における解像度の差を補正する
ために、前記第１方向に対応する前記開口絞りの開口部
の長さと前記第２方向に対応する前記開口絞りの開口部
の長さとを異ならせしめた構成としたものである。
成するために、光を供給する光源手段と、該光源手段か
らの光を複数に分割して複数の光源像を形成する多光源
像形成手段と、該多光源像形成手段からの光を集光して
所定パターンを有するマスクを重畳的に照明する集光光
学系とを有し、前記マスクのパターンを感光性基板に露
光する露光装置において、前記多光源像形成手段により
形成される光源像位置又は該光源像位置近傍に開口絞り
を配置し、前記感光性基板上での所定の第１方向と該第
１方向と垂直な第２方向における解像度の差を補正する
ために、前記第１方向に対応する前記開口絞りの開口部
の長さと前記第２方向に対応する前記開口絞りの開口部
の長さとを異ならせしめた構成としたものである。
【０００９】そして、この場合、前記開口絞りの開口部
は、楕円形状を有する構成とすることが望ましい。ま
た、以上の構成に基づいて、前記マスクと前記感光性基
板との間に、前記マスクのパターン像を前記感光性基板
上に転写する投影光学系を配置した構成としても良い。
は、楕円形状を有する構成とすることが望ましい。ま
た、以上の構成に基づいて、前記マスクと前記感光性基
板との間に、前記マスクのパターン像を前記感光性基板
上に転写する投影光学系を配置した構成としても良い。
【００１０】
【作 用】本発明では、感光性基板上の露光面内におけ
る各方向による解像度のばらつきを軽減するために、露
光装置中の照明光学系における複数の光源像が形成され
る光強度分布、光強度の密度等の各方向でのばらつきを
開口絞りの開口部の形状を変形させることに着目したも
のである。
る各方向による解像度のばらつきを軽減するために、露
光装置中の照明光学系における複数の光源像が形成され
る光強度分布、光強度の密度等の各方向でのばらつきを
開口絞りの開口部の形状を変形させることに着目したも
のである。
【００１１】
【実施例】図１は本発明による第１実施例の照明光学装
置を半導体製造用の露光装置に応用した例を示すもので
ある。図１における（ａ）は第１実施例の装置を真上か
ら見た時の構成を示す図であり、（ｂ）は（ａ）の装置
を横方向から見た時の断面構成を示す図である。以下、
この図１を参照しながら第１実施例について詳述する。
置を半導体製造用の露光装置に応用した例を示すもので
ある。図１における（ａ）は第１実施例の装置を真上か
ら見た時の構成を示す図であり、（ｂ）は（ａ）の装置
を横方向から見た時の断面構成を示す図である。以下、
この図１を参照しながら第１実施例について詳述する。
【００１２】図１に示す如く、光束断面が長方形状の平
行光束を供給する光源手段は、平行光束供給部１０と光
束整形部２０とで構成されており、平行光束供給部とし
てエキシマレーザー等の光源１０からは、248nm(KrF)又
は192nm(ArF)の波長光の平行光束が出力され、この時の
平行光束の断面形状は矩形状となっている。この光源１
０からの平行光束は、所定の断面形状の光束に整形する
光束整形部としてのビーム整形光学系２０に入射する。
このビーム整形光学系２０は、図１の（ａ）の紙面と垂
直方向（図１の（ｂ）の紙面方向）に屈折力を持つ２つ
のシリンドリカルレンズ（２１，２２）で構成されてお
り、光源側のシリンドリカルレンズ２１は、正の屈折力
を有し、図１の（ｂ）の紙面方向の光束を集光する一
方、被照明面側のシリンドリカルレンズ２２は、負の屈
折力を有し、光源側のシリンドリカルレンズ２１からの
集光光束を発散させて平行光束に変換する。従って、ビ
ーム整形光学系２０を介した光源１からの平行光束は、
図１の（ｂ）の紙面方向の光束幅が縮小されて光束断面
が長方形状に整形される。なお、ビーム整形光学系２０
としては、正の屈折力を持つシリンドリカルレンズを組
み合わせたものでも良く、さらにはアナモルフィックプ
リズム等でも良い。
行光束を供給する光源手段は、平行光束供給部１０と光
束整形部２０とで構成されており、平行光束供給部とし
てエキシマレーザー等の光源１０からは、248nm(KrF)又
は192nm(ArF)の波長光の平行光束が出力され、この時の
平行光束の断面形状は矩形状となっている。この光源１
０からの平行光束は、所定の断面形状の光束に整形する
光束整形部としてのビーム整形光学系２０に入射する。
このビーム整形光学系２０は、図１の（ａ）の紙面と垂
直方向（図１の（ｂ）の紙面方向）に屈折力を持つ２つ
のシリンドリカルレンズ（２１，２２）で構成されてお
り、光源側のシリンドリカルレンズ２１は、正の屈折力
を有し、図１の（ｂ）の紙面方向の光束を集光する一
方、被照明面側のシリンドリカルレンズ２２は、負の屈
折力を有し、光源側のシリンドリカルレンズ２１からの
集光光束を発散させて平行光束に変換する。従って、ビ
ーム整形光学系２０を介した光源１からの平行光束は、
図１の（ｂ）の紙面方向の光束幅が縮小されて光束断面
が長方形状に整形される。なお、ビーム整形光学系２０
としては、正の屈折力を持つシリンドリカルレンズを組
み合わせたものでも良く、さらにはアナモルフィックプ
リズム等でも良い。
【００１３】さて、ビーム整形光学系２０からの整形さ
れた光束は、直線状に３列配列された複数の光源像を形
成する第１多光源像形成手段としてのオプティカルイン
テグレータ３０に入射する。このオプティカルインテグ
レータ３０は、図２（ａ）に示す如く、ほぼ正方形状の
レンズ断面を有する複数の両凸形状のレンズ素子３０ａ
が複数（３列×９行＝２７個）配置されて構成されてお
り、オプティカルインテグレータ３０全体としては長方
形状の断面を有している。そして、各々の両凸形状のレ
ンズ素子３０ａは、図１の（ａ）の紙面方向と図１の
（ｂ）の紙面方向とで互いに等しい曲率（屈折力）を有
している。
れた光束は、直線状に３列配列された複数の光源像を形
成する第１多光源像形成手段としてのオプティカルイン
テグレータ３０に入射する。このオプティカルインテグ
レータ３０は、図２（ａ）に示す如く、ほぼ正方形状の
レンズ断面を有する複数の両凸形状のレンズ素子３０ａ
が複数（３列×９行＝２７個）配置されて構成されてお
り、オプティカルインテグレータ３０全体としては長方
形状の断面を有している。そして、各々の両凸形状のレ
ンズ素子３０ａは、図１の（ａ）の紙面方向と図１の
（ｂ）の紙面方向とで互いに等しい曲率（屈折力）を有
している。
【００１４】このため、オプティカルインテグレータ３
０を構成する個々のレンズ素子３０ａを通過する平行光
束は、それぞれ集光されて、各レンズ素子３０ａの射出
側には光源像が形成される。従って、オプティカルイン
テグレータ３０の射出側位置Ａ1 には、レンズ素子３０
ａの数に相当する複数（３列×９行＝２７個）の光源像
が形成され、ここには実質的に２次光源が形成される。
０を構成する個々のレンズ素子３０ａを通過する平行光
束は、それぞれ集光されて、各レンズ素子３０ａの射出
側には光源像が形成される。従って、オプティカルイン
テグレータ３０の射出側位置Ａ1 には、レンズ素子３０
ａの数に相当する複数（３列×９行＝２７個）の光源像
が形成され、ここには実質的に２次光源が形成される。
【００１５】オプティカルインテグレータ３０によって
形成された複数の２次光源からの光束は、リレー光学系
４０によって集光されて、さらに複数の光源像を形成す
る第２多光源像形成手段としてのオプティカルインテグ
レータ５０に入射する。このオプティカルインテグレー
タ５０は、図２（ｂ）に示す如く、長方形状のレンズ断
面を有する複数の両凸形状のレンズ素子５０ａが複数
（９列×３行＝２７個）に配置されて構成されており、
このレンズ素子５０ａは、この素子５０ａの断面形状
（縦横比）がオプティカルインテグレータ３０の断面形
状（縦横比）と相似となるように構成されている。そし
て、オプティカルインテグレータ５０全体としては正方
形状の断面を有している。また、各々のレンズ素子５０
ａは、図１の（ａ）の紙面方向と図１の（ｂ）の紙面方
向とで互いに等しい曲率（屈折力）を有している。
形成された複数の２次光源からの光束は、リレー光学系
４０によって集光されて、さらに複数の光源像を形成す
る第２多光源像形成手段としてのオプティカルインテグ
レータ５０に入射する。このオプティカルインテグレー
タ５０は、図２（ｂ）に示す如く、長方形状のレンズ断
面を有する複数の両凸形状のレンズ素子５０ａが複数
（９列×３行＝２７個）に配置されて構成されており、
このレンズ素子５０ａは、この素子５０ａの断面形状
（縦横比）がオプティカルインテグレータ３０の断面形
状（縦横比）と相似となるように構成されている。そし
て、オプティカルインテグレータ５０全体としては正方
形状の断面を有している。また、各々のレンズ素子５０
ａは、図１の（ａ）の紙面方向と図１の（ｂ）の紙面方
向とで互いに等しい曲率（屈折力）を有している。
【００１６】このため、オプティカルインテグレータ５
０を構成する個々のレンズ素子５０ａを通過するオプテ
ィカルインテグレータ３０からの光束は、それぞれ集光
されて、各レンズ素子３０ａの射出側には光源像が形成
される。従って、オプティカルインテグレータ３０の射
出側位置Ａ2 には、正方形状に配列された複数の光源像
が形成され、ここには実質的に３次光源が形成される。
０を構成する個々のレンズ素子５０ａを通過するオプテ
ィカルインテグレータ３０からの光束は、それぞれ集光
されて、各レンズ素子３０ａの射出側には光源像が形成
される。従って、オプティカルインテグレータ３０の射
出側位置Ａ2 には、正方形状に配列された複数の光源像
が形成され、ここには実質的に３次光源が形成される。
【００１７】ここで、オプティカルインテグレータ５０
により形成される正方形状に配列された複数の光源像の
数は、オプティカルインテグレータ３０を構成するレン
ズ素子３０ａの数をＮ個とし、オプティカルインテグレ
ータ５０を構成するレンズ素子５０ａの数をＭ個とする
とき、Ｎ×Ｍ個形成される。すなわち、オプティカルイ
ンテグレータ３０により形成される複数の光源像が、リ
レー光学系４０によってオプティカルインテグレータ５
０を構成する各々のレンズ素子５０ａの光源像位置に形
成されるため、オプティカルインテグレータ５０の射出
側位置Ａ2 には、合計Ｎ×Ｍ個の光源像が形成される。
により形成される正方形状に配列された複数の光源像の
数は、オプティカルインテグレータ３０を構成するレン
ズ素子３０ａの数をＮ個とし、オプティカルインテグレ
ータ５０を構成するレンズ素子５０ａの数をＭ個とする
とき、Ｎ×Ｍ個形成される。すなわち、オプティカルイ
ンテグレータ３０により形成される複数の光源像が、リ
レー光学系４０によってオプティカルインテグレータ５
０を構成する各々のレンズ素子５０ａの光源像位置に形
成されるため、オプティカルインテグレータ５０の射出
側位置Ａ2 には、合計Ｎ×Ｍ個の光源像が形成される。
【００１８】なお、リレー光学系４０は、オプティカル
インテグレータ３０の入射面位置Ｂ 1 とオプティカルイ
ンテグレータ５０の入射面位置Ｂ2 とを共役にすると共
に、オプティカルインテグレータ３０の射出面位置Ａ1
とオプティカルインテグレータ５０の射出面位置Ａ2 と
を共役にしている。この３次光源が形成される位置Ａ2
もしくはその近傍位置には、後述する所定形状の開口部
を有する開口絞りＡＳ1 が設けられており、この開口絞
りＡＳ1 により円形状に形成された３次光源からの光束
は、集光光学系としてのコンデンサー光学系６０により
集光されて被照明物体としてのマスクＭ上をスリット状
（長辺と短辺を有する長方形状）に均一照明する。
インテグレータ３０の入射面位置Ｂ 1 とオプティカルイ
ンテグレータ５０の入射面位置Ｂ2 とを共役にすると共
に、オプティカルインテグレータ３０の射出面位置Ａ1
とオプティカルインテグレータ５０の射出面位置Ａ2 と
を共役にしている。この３次光源が形成される位置Ａ2
もしくはその近傍位置には、後述する所定形状の開口部
を有する開口絞りＡＳ1 が設けられており、この開口絞
りＡＳ1 により円形状に形成された３次光源からの光束
は、集光光学系としてのコンデンサー光学系６０により
集光されて被照明物体としてのマスクＭ上をスリット状
（長辺と短辺を有する長方形状）に均一照明する。
【００１９】マスクＭは、マスクステージＭＳに保持さ
れ、感光性基板としてのウエハＷはウエハステージに保
持されている。そして、マスクステージＭＳに保持され
たマスクＭとウエハステージＷＳに載置されたウエハＷ
とは投影光学系８０に関して共役に配置されており、ス
リット状に照明されたマスクＭの回路パターン部分が投
影光学系８０によってウエハＷ上に投影される。
れ、感光性基板としてのウエハＷはウエハステージに保
持されている。そして、マスクステージＭＳに保持され
たマスクＭとウエハステージＷＳに載置されたウエハＷ
とは投影光学系８０に関して共役に配置されており、ス
リット状に照明されたマスクＭの回路パターン部分が投
影光学系８０によってウエハＷ上に投影される。
【００２０】以上の構成による実際の露光においては、
マスクステージＭＳとウエハステージＷＳとは図１
（ｂ）に示す如く矢印方向へ互いに反対方向へ移動し
て、レチクル上の回路パターンがウエハＷ上に転写され
る。さて、次に、本実施例による開口絞りについて詳述
する。本実施例では、図１に示す第２オプティカルイン
テグレータにより形成される光源像位置Ａ2 もしくは、
図３（ａ）に示す如く、Ｘ方向での開口絞りＡＳ1 の開
口部ＡP1の長さΦX1とＸ方向と直交するＹ方向での開口
絞りＡＳ1 の開口部ＡP1の長さΦY1とが異なる（ΦX1＜
ΦY1）、あるいは、図３（ｂ）に示す如く、Ｘ方向での
開口絞りＡＳ 2 の開口部ＡP2の長さΦX2とＸ方向と直交
するＹ方向での開口絞りＡＳ2 の開口部ＡP2の長さΦY2
とが異なる（ΦX2＞ΦY2）、即ち楕円形状の開口部（Ａ
P1又はＡP2）を持つ開口絞り（ＡＳ1 又はＡＳ2 ）が設
けられている。
マスクステージＭＳとウエハステージＷＳとは図１
（ｂ）に示す如く矢印方向へ互いに反対方向へ移動し
て、レチクル上の回路パターンがウエハＷ上に転写され
る。さて、次に、本実施例による開口絞りについて詳述
する。本実施例では、図１に示す第２オプティカルイン
テグレータにより形成される光源像位置Ａ2 もしくは、
図３（ａ）に示す如く、Ｘ方向での開口絞りＡＳ1 の開
口部ＡP1の長さΦX1とＸ方向と直交するＹ方向での開口
絞りＡＳ1 の開口部ＡP1の長さΦY1とが異なる（ΦX1＜
ΦY1）、あるいは、図３（ｂ）に示す如く、Ｘ方向での
開口絞りＡＳ 2 の開口部ＡP2の長さΦX2とＸ方向と直交
するＹ方向での開口絞りＡＳ2 の開口部ＡP2の長さΦY2
とが異なる（ΦX2＞ΦY2）、即ち楕円形状の開口部（Ａ
P1又はＡP2）を持つ開口絞り（ＡＳ1 又はＡＳ2 ）が設
けられている。
【００２１】ここで、図４（ａ）は、第２オプティカル
インテグレータ５０により形成される光源像の位置に円
形開口部ＡP0を持つ開口絞りを配置した場合に、第２オ
プティカルインテグレータ５０の射出側から円形開口部
ＡP0を持つ開口絞りを見た時の各レンズエレメント５０
ａに形成される光源像Ｉ30の様子を示しており、図４
（ｂ）は、第２オプティカルインテグレータ５０により
形成される光源像の位置に図３（ａ）に示す楕円形状の
開口部ＡP1を持つ開口絞りＡＳ1 を配置した場合に、第
２オプティカルインテグレータ５０の射出側から楕円形
状の開口部ＡP1を持つ開口絞りＡＳ1 を見た時の各レン
ズエレメント５０ａに形成される光源像Ｉ 30の様子を示
している。また、図４（ｃ）は、第２オプティカルイン
テグレータ５０により形成される光源像の位置に図３
（ｂ）に示す楕円形状の開口部ＡP2を持つ開口絞りＡＳ
2 を配置した場合に、第２オプティカルインテグレータ
５０の射出側から楕円形状の開口部ＡP2を持つ開口絞り
ＡＳ2 を見た時の各レンズエレメント５０ａに形成され
る光源像Ｉ30の様子を示している。なお、図４におい
て、第２オプティカルインテグレータ５０の各レンズエ
レメント５０ａ中に示した斜線の光源像Ｉ30は、各レン
ズエレメント５０ａの射出側にて再結像される第１オプ
ティカルインテグレータ全体の光源像の様子を簡略的に
示している。
インテグレータ５０により形成される光源像の位置に円
形開口部ＡP0を持つ開口絞りを配置した場合に、第２オ
プティカルインテグレータ５０の射出側から円形開口部
ＡP0を持つ開口絞りを見た時の各レンズエレメント５０
ａに形成される光源像Ｉ30の様子を示しており、図４
（ｂ）は、第２オプティカルインテグレータ５０により
形成される光源像の位置に図３（ａ）に示す楕円形状の
開口部ＡP1を持つ開口絞りＡＳ1 を配置した場合に、第
２オプティカルインテグレータ５０の射出側から楕円形
状の開口部ＡP1を持つ開口絞りＡＳ1 を見た時の各レン
ズエレメント５０ａに形成される光源像Ｉ 30の様子を示
している。また、図４（ｃ）は、第２オプティカルイン
テグレータ５０により形成される光源像の位置に図３
（ｂ）に示す楕円形状の開口部ＡP2を持つ開口絞りＡＳ
2 を配置した場合に、第２オプティカルインテグレータ
５０の射出側から楕円形状の開口部ＡP2を持つ開口絞り
ＡＳ2 を見た時の各レンズエレメント５０ａに形成され
る光源像Ｉ30の様子を示している。なお、図４におい
て、第２オプティカルインテグレータ５０の各レンズエ
レメント５０ａ中に示した斜線の光源像Ｉ30は、各レン
ズエレメント５０ａの射出側にて再結像される第１オプ
ティカルインテグレータ全体の光源像の様子を簡略的に
示している。
【００２２】図４の（ａ）〜（ｃ）の比較より、図４
（ａ）ではＸ方向及びＹ方向で光源像Ｉ30の数の相違に
より、光源像の光強度分布又は光密度分布がＸ方向及び
Ｙ方向で違う事が解る。しかしながら、図４の（ｂ）及
び（ｃ）に示す如く、本実施例の楕円形状の開口部（Ａ
P1又はＡP2）を持つ開口絞り（ＡＳ1 又はＡＳ2 ）を配
置した場合には、Ｘ方向及びＹ方向で光源像Ｉ30の数の
相違に伴って楕円形状の開口部のＸ方向での長さΦX2と
Ｙ方向での長さΦY2とが異ならせしめているため、光源
像の光強度分布又は光密度分布をＸ方向とＹ方向とでほ
ぼ等しくできることが解る。
（ａ）ではＸ方向及びＹ方向で光源像Ｉ30の数の相違に
より、光源像の光強度分布又は光密度分布がＸ方向及び
Ｙ方向で違う事が解る。しかしながら、図４の（ｂ）及
び（ｃ）に示す如く、本実施例の楕円形状の開口部（Ａ
P1又はＡP2）を持つ開口絞り（ＡＳ1 又はＡＳ2 ）を配
置した場合には、Ｘ方向及びＹ方向で光源像Ｉ30の数の
相違に伴って楕円形状の開口部のＸ方向での長さΦX2と
Ｙ方向での長さΦY2とが異ならせしめているため、光源
像の光強度分布又は光密度分布をＸ方向とＹ方向とでほ
ぼ等しくできることが解る。
【００２３】この事を換言して説明すると、通常開口絞
り（σ絞り）の開口径Φは以下の式で求められる。 Φ＝２ｆ・σ・ＮＡ／β （１） ここで、ｆはコンデンサー光学系６０の焦点距離、ＮＡ
は投影光学系ＰＬの開口数、βは投影光学系ＰＬの倍率
である。なお、視野絞りをリレー光学系を用いてマスク
面に結像させる光学系においては上記（１）式にそのリ
レー光学系の倍率を乗じたものとなる。通常ＮＡは主光
線に対して軸対称であるから開口絞りは円になる。しか
し、開口絞りの内側で光源像の分布に違いがあればＮＡ
は軸対称ではなくなる。従って、図４（ａ）に示す図を
見ると明らかに光源像Ｉ30の分布が縦横で違う事が解
る。この光源像の密度の違いに伴って、開口内において
縦横で密度が同じになるような図３に示す開口絞り（Ａ
Ｓ1 又はＡＳ2 ）を図３に示すようにオプティカルイン
テグレータ５の光源像を形成する側Ａ2 に配置すること
によって、ウエハＷ上での露光面内における各方向によ
る解像度のばらつきを軽減することができる。なお、開
口絞り（ＡＳ1 又はＡＳ2 ）の開口部（ＡP1又はＡP2）
の最適形状は、σ値により光源像を切る位置により変化
する点、光源像Ｉ30が一様ではない点、及び照明光学系
の諸々の収差の影響を受ける点等を十分に考慮して決定
することが望ましいが、実際には、試し露光を行なう
か、あるいはシミュレーションを行なう事によって容易
に開口絞り（ＡＳ1 又はＡＳ2 ）のΦX1、ΦY1の最適な
値又はΦX2、ΦY2の最適な値を決定することができる。
り（σ絞り）の開口径Φは以下の式で求められる。 Φ＝２ｆ・σ・ＮＡ／β （１） ここで、ｆはコンデンサー光学系６０の焦点距離、ＮＡ
は投影光学系ＰＬの開口数、βは投影光学系ＰＬの倍率
である。なお、視野絞りをリレー光学系を用いてマスク
面に結像させる光学系においては上記（１）式にそのリ
レー光学系の倍率を乗じたものとなる。通常ＮＡは主光
線に対して軸対称であるから開口絞りは円になる。しか
し、開口絞りの内側で光源像の分布に違いがあればＮＡ
は軸対称ではなくなる。従って、図４（ａ）に示す図を
見ると明らかに光源像Ｉ30の分布が縦横で違う事が解
る。この光源像の密度の違いに伴って、開口内において
縦横で密度が同じになるような図３に示す開口絞り（Ａ
Ｓ1 又はＡＳ2 ）を図３に示すようにオプティカルイン
テグレータ５の光源像を形成する側Ａ2 に配置すること
によって、ウエハＷ上での露光面内における各方向によ
る解像度のばらつきを軽減することができる。なお、開
口絞り（ＡＳ1 又はＡＳ2 ）の開口部（ＡP1又はＡP2）
の最適形状は、σ値により光源像を切る位置により変化
する点、光源像Ｉ30が一様ではない点、及び照明光学系
の諸々の収差の影響を受ける点等を十分に考慮して決定
することが望ましいが、実際には、試し露光を行なう
か、あるいはシミュレーションを行なう事によって容易
に開口絞り（ＡＳ1 又はＡＳ2 ）のΦX1、ΦY1の最適な
値又はΦX2、ΦY2の最適な値を決定することができる。
【００２４】なお、図１に示す第１実施例では平行光束
供給部として平行光束を供給するエキシマレーザー等と
しているが、これに限るものではなく、例えば、ｇ線
（436nm)又はｉ線（365nm)等の波長光を出力する水銀ア
ーク灯とこの水銀アーク灯からの光を集光する楕円鏡と
この楕円鏡により集光された光束を平行光束に変換する
コリメータレンズ系とを用いて平行光束供給部を構成し
ても良い。また、本実施例での投影光学系８０は、屈折
型光学系、反射型光学系または反射屈折型光学系で構成
して良いことは言うまでもない。
供給部として平行光束を供給するエキシマレーザー等と
しているが、これに限るものではなく、例えば、ｇ線
（436nm)又はｉ線（365nm)等の波長光を出力する水銀ア
ーク灯とこの水銀アーク灯からの光を集光する楕円鏡と
この楕円鏡により集光された光束を平行光束に変換する
コリメータレンズ系とを用いて平行光束供給部を構成し
ても良い。また、本実施例での投影光学系８０は、屈折
型光学系、反射型光学系または反射屈折型光学系で構成
して良いことは言うまでもない。
【００２５】さて、次に図５及び図６を参照しながら第
２実施例について説明する。図５は図７（ａ）にて示し
た従来技術の構成と類似しているが、図５では図７
（ａ）とは、オプティカルインテグレータ４’の構成と
開口絞り（ＡＳ1 又はＡＳ2 ）との構成が異なる。ま
ず、図５でのオプティカルインテグレータ４’は、図６
に示す如く、長辺と短辺を有する長方形状のレンズ断面
を持つレンズエレメント４ａ’が５列×６行（３０個）
で配列され、オプティカルインテグレータ４’全体とし
て正方形となるように構成されている。この図５のオプ
ティカルインテグレータ４’では、レンズエレメント４
ａ’が正方形より若干ずれた縦横比を有し、全体の個数
は縦と横で異なっている。このため、開口絞りとして通
常の円形開口絞りを使用すると開口内部の光源像の分布
が縦と横で異なり、σ値ならびに投影レンズの開口数が
若干縦と横で異なることになり、解像力の差が生じる。
２実施例について説明する。図５は図７（ａ）にて示し
た従来技術の構成と類似しているが、図５では図７
（ａ）とは、オプティカルインテグレータ４’の構成と
開口絞り（ＡＳ1 又はＡＳ2 ）との構成が異なる。ま
ず、図５でのオプティカルインテグレータ４’は、図６
に示す如く、長辺と短辺を有する長方形状のレンズ断面
を持つレンズエレメント４ａ’が５列×６行（３０個）
で配列され、オプティカルインテグレータ４’全体とし
て正方形となるように構成されている。この図５のオプ
ティカルインテグレータ４’では、レンズエレメント４
ａ’が正方形より若干ずれた縦横比を有し、全体の個数
は縦と横で異なっている。このため、開口絞りとして通
常の円形開口絞りを使用すると開口内部の光源像の分布
が縦と横で異なり、σ値ならびに投影レンズの開口数が
若干縦と横で異なることになり、解像力の差が生じる。
【００２６】従って、図５に示す第２実施例において
も、オプティカルインテグレータ４’により形成される
光源像位置またはその近傍の位置には、図３（ａ）に示
した如く、Ｘ方向での開口絞りＡＳ1 の開口部ＡP1の長
さΦX1とＸ方向と直交するＹ方向での開口絞りＡＳ1 の
開口部ＡP1の長さΦY1とが異なる（ΦX1＜ΦY1）、ある
いは、図３（ｂ）に示した如く、Ｘ方向での開口絞りＡ
Ｓ2 の開口部ＡP2の長さΦX2とＸ方向と直交するＹ方向
での開口絞りＡＳ2 の開口部ＡP2の長さΦY2とが異なる
（ΦX2＞ΦY2）、即ち楕円形状の開口部（ＡP1又は
ＡP2）を持つ開口絞り（ＡＳ1 又はＡＳ2 ）が設けられ
ている。
も、オプティカルインテグレータ４’により形成される
光源像位置またはその近傍の位置には、図３（ａ）に示
した如く、Ｘ方向での開口絞りＡＳ1 の開口部ＡP1の長
さΦX1とＸ方向と直交するＹ方向での開口絞りＡＳ1 の
開口部ＡP1の長さΦY1とが異なる（ΦX1＜ΦY1）、ある
いは、図３（ｂ）に示した如く、Ｘ方向での開口絞りＡ
Ｓ2 の開口部ＡP2の長さΦX2とＸ方向と直交するＹ方向
での開口絞りＡＳ2 の開口部ＡP2の長さΦY2とが異なる
（ΦX2＞ΦY2）、即ち楕円形状の開口部（ＡP1又は
ＡP2）を持つ開口絞り（ＡＳ1 又はＡＳ2 ）が設けられ
ている。
【００２７】ここで、図６（ａ）は、図５のオプティカ
ルインテグレータ４’により形成される光源像の位置に
円形開口部ＡP0を持つ開口絞りを配置した場合に、オプ
ティカルインテグレータ４’の射出側から円形開口部Ａ
P0を持つ開口絞りを見た時の各レンズエレメント４ａ’
に形成される光源像Ｉ4a’の様子を示しており、図６
（ｂ）は、図５のオプティカルインテグレータ４’によ
り形成される光源像の位置に図３（ａ）に示す楕円形状
の開口部ＡP1を持つ開口絞りＡＳ1 を配置した場合に、
オプティカルインテグレータ４’の射出側から楕円形状
の開口部ＡP1を持つ開口絞りＡＳ1 を見た時の各レンズ
エレメント４ａ’に形成される光源像Ｉ4a’の様子を示
している。また、図６（ｃ）は、図５のオプティカルイ
ンテグレータ４’により形成される光源像の位置に図３
（ｂ）に示す楕円形状の開口部ＡP2を持つ開口絞りＡＳ
2 を配置した場合に、オプティカルインテグレータ４’
の射出側から楕円形状の開口部ＡP2を持つ開口絞りＡＳ
2 を見た時の各レンズエレメント４ａ’に形成される光
源像Ｉ30の様子を示している。
ルインテグレータ４’により形成される光源像の位置に
円形開口部ＡP0を持つ開口絞りを配置した場合に、オプ
ティカルインテグレータ４’の射出側から円形開口部Ａ
P0を持つ開口絞りを見た時の各レンズエレメント４ａ’
に形成される光源像Ｉ4a’の様子を示しており、図６
（ｂ）は、図５のオプティカルインテグレータ４’によ
り形成される光源像の位置に図３（ａ）に示す楕円形状
の開口部ＡP1を持つ開口絞りＡＳ1 を配置した場合に、
オプティカルインテグレータ４’の射出側から楕円形状
の開口部ＡP1を持つ開口絞りＡＳ1 を見た時の各レンズ
エレメント４ａ’に形成される光源像Ｉ4a’の様子を示
している。また、図６（ｃ）は、図５のオプティカルイ
ンテグレータ４’により形成される光源像の位置に図３
（ｂ）に示す楕円形状の開口部ＡP2を持つ開口絞りＡＳ
2 を配置した場合に、オプティカルインテグレータ４’
の射出側から楕円形状の開口部ＡP2を持つ開口絞りＡＳ
2 を見た時の各レンズエレメント４ａ’に形成される光
源像Ｉ30の様子を示している。
【００２８】図６の（ａ）〜（ｃ）の比較より、図６
（ａ）ではＸ方向及びＹ方向で光源像Ｉ4aの数の相違に
より、光源像の光強度分布又は光密度分布がＸ方向及び
Ｙ方向で違う事が解る。しかしながら、図６の（ｂ）及
び（ｃ）に示す如く、本実施例の楕円形状の開口部（Ａ
P1又はＡP2）を持つ開口絞り（ＡＳ1 又はＡＳ2 ）を配
置した場合には、Ｘ方向及びＹ方向で光源像Ｉ4aの数の
相違に伴って楕円形状の開口部のＸ方向での長さΦX2と
Ｙ方向での長さΦY2とが異ならせしめているため、光源
像の光強度分布又は光密度分布をＸ方向とＹ方向とでほ
ぼ等しくできることが解る。
（ａ）ではＸ方向及びＹ方向で光源像Ｉ4aの数の相違に
より、光源像の光強度分布又は光密度分布がＸ方向及び
Ｙ方向で違う事が解る。しかしながら、図６の（ｂ）及
び（ｃ）に示す如く、本実施例の楕円形状の開口部（Ａ
P1又はＡP2）を持つ開口絞り（ＡＳ1 又はＡＳ2 ）を配
置した場合には、Ｘ方向及びＹ方向で光源像Ｉ4aの数の
相違に伴って楕円形状の開口部のＸ方向での長さΦX2と
Ｙ方向での長さΦY2とが異ならせしめているため、光源
像の光強度分布又は光密度分布をＸ方向とＹ方向とでほ
ぼ等しくできることが解る。
【００２９】このように、正方形より若干ずれた縦横比
を有するレンズエレメント４ａ’を複数束ねられて構成
されたオプティカルインテグレータ４’を１つ用いた場
合においても、楕円開口絞り（ＡＳ1 又はＡＳ2 ）を用
いることにより、開口の内部の光源像の密度を縦と横で
一定にすることが出来る。
を有するレンズエレメント４ａ’を複数束ねられて構成
されたオプティカルインテグレータ４’を１つ用いた場
合においても、楕円開口絞り（ＡＳ1 又はＡＳ2 ）を用
いることにより、開口の内部の光源像の密度を縦と横で
一定にすることが出来る。
【００３０】
【発明の効果】以上の如く、本発明によれば、露光面内
における縦方向と横方向とでの解像度の差、即ち各方向
による解像度のばらつきを大幅に軽減することができ
る。従って、高性能な露光装置の実現が可能となる。
における縦方向と横方向とでの解像度の差、即ち各方向
による解像度のばらつきを大幅に軽減することができ
る。従って、高性能な露光装置の実現が可能となる。
【図１】（ａ）は本発明による第１実施例の露光装置の
構成を示す図であり、（ｂ）は（ａ）の露光装置を横方
向から見た時の構成を示す図である。
構成を示す図であり、（ｂ）は（ａ）の露光装置を横方
向から見た時の構成を示す図である。
【図２】（ａ）は図１の第１オプティカルインテグレー
タ３０の断面形状の様子を示す図であり、（ｂ）は図１
の第２オプティカルインテグレータ５０の断面形状の様
子を示す図である。
タ３０の断面形状の様子を示す図であり、（ｂ）は図１
の第２オプティカルインテグレータ５０の断面形状の様
子を示す図である。
【図３】（ａ）はＸ方向での開口部ＡP1の長さΦX1をＹ
方向での開口部ＡP1の長さΦY1よりも短くした時の楕円
形状の開口部を持つ開口絞りＡＳ1 を様子を示す平面図
であり、（ｂ）はＸ方向での開口部ＡP2の長さΦX2をＹ
方向での開口部ＡP2の長さΦY2よりも長くした時の楕円
形状の開口部を持つ開口絞りＡＳ2 を様子を示す平面図
である。
方向での開口部ＡP1の長さΦY1よりも短くした時の楕円
形状の開口部を持つ開口絞りＡＳ1 を様子を示す平面図
であり、（ｂ）はＸ方向での開口部ＡP2の長さΦX2をＹ
方向での開口部ＡP2の長さΦY2よりも長くした時の楕円
形状の開口部を持つ開口絞りＡＳ2 を様子を示す平面図
である。
【図４】図１に示した第２オプティカルインテグレータ
５０の射出側に各形状の開口絞りを配置した場合での光
源像分布と開口絞りの開口部との関係を示す図である。
５０の射出側に各形状の開口絞りを配置した場合での光
源像分布と開口絞りの開口部との関係を示す図である。
【図５】本発明による第１実施例の露光装置の構成を示
す図である。
す図である。
【図６】図５に示したオプティカルインテグレータ４’
の射出側に各形状の開口絞りを配置した場合での光源像
分布と開口絞りの開口部との関係を示す図である。
の射出側に各形状の開口絞りを配置した場合での光源像
分布と開口絞りの開口部との関係を示す図である。
【図７】従来の露光装置の構成を示す図である。
１０・・・・・ エキシマレーザー ２０・・・・・ ビーム整形光学系 ４’，３０，５０・・・・・ オプティカルインテグレータ ４０・・・・・ リレー光学系 ６０・・・・・ コンデンサー光学系 ＡＳ1 ，ＡＳ2 ・・・・・ 開口絞り ＰＬ・・・・・ 投影光学系
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１８
Claims (3)
- 【請求項１】光を供給する光源手段と、該光源手段から
の光を複数に分割して複数の光源像を形成する多光源像
形成手段と、該多光源像形成手段からの光を集光して所
定パターンを有するマスクを重畳的に照明する集光光学
系とを有し、前記マスクのパターンを感光性基板に露光
する露光装置において、 前記多光源像形成手段により形成される光源像位置又は
該光源像位置近傍に開口絞りを配置し、 前記感光性基板上での所定の第１方向と該第１方向と垂
直な第２方向における解像度の差を補正するために、前
記第１方向に対応する前記開口絞りの開口部の長さと前
記第２方向に対応する前記開口絞りの開口部の長さとを
異ならせしめたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】前記開口絞りの開口部は、楕円形状を有し
ていることを特徴とする請求項１記載の照明光学装置。 - 【請求項３】前記マスクと前記感光性基板との間に、前
記マスクのパターン像を前記感光性基板上に転写する投
影光学系を配置したことを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7133789A JPH08330212A (ja) | 1995-05-31 | 1995-05-31 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7133789A JPH08330212A (ja) | 1995-05-31 | 1995-05-31 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08330212A true JPH08330212A (ja) | 1996-12-13 |
Family
ID=15113055
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7133789A Pending JPH08330212A (ja) | 1995-05-31 | 1995-05-31 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08330212A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09289159A (ja) * | 1996-04-22 | 1997-11-04 | Nikon Corp | 露光装置 |
| JP2002040327A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-06 | Nikon Corp | 波面分割型のオプティカルインテグレータおよび該オプティカルインテグレータを備えた照明光学装置 |
| WO2004006308A1 (ja) * | 2002-07-03 | 2004-01-15 | Hitachi, Ltd. | 照明方法並びに露光方法及びその装置 |
| JP2004246144A (ja) * | 2003-02-14 | 2004-09-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光方法、露光装置及び照明装置 |
| WO2004109777A1 (ja) * | 2003-06-03 | 2004-12-16 | Nikon Corporation | 露光方法及び装置、デバイス製造方法、並びにデバイス |
| WO2013179977A1 (ja) * | 2012-05-29 | 2013-12-05 | 株式会社ニコン | 照明装置、処理装置、及びデバイス製造方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05275315A (ja) * | 1991-08-29 | 1993-10-22 | Mitsubishi Electric Corp | 投影露光装置 |
| JPH05304076A (ja) * | 1992-02-26 | 1993-11-16 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
| JPH0645221A (ja) * | 1992-05-26 | 1994-02-18 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
| JPH0794398A (ja) * | 1993-09-24 | 1995-04-07 | Mitsubishi Electric Corp | 投影露光装置及び投影露光方法 |
-
1995
- 1995-05-31 JP JP7133789A patent/JPH08330212A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05275315A (ja) * | 1991-08-29 | 1993-10-22 | Mitsubishi Electric Corp | 投影露光装置 |
| JPH05304076A (ja) * | 1992-02-26 | 1993-11-16 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
| JPH0645221A (ja) * | 1992-05-26 | 1994-02-18 | Nikon Corp | 投影露光装置 |
| JPH0794398A (ja) * | 1993-09-24 | 1995-04-07 | Mitsubishi Electric Corp | 投影露光装置及び投影露光方法 |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09289159A (ja) * | 1996-04-22 | 1997-11-04 | Nikon Corp | 露光装置 |
| JP2002040327A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-06 | Nikon Corp | 波面分割型のオプティカルインテグレータおよび該オプティカルインテグレータを備えた照明光学装置 |
| WO2004006308A1 (ja) * | 2002-07-03 | 2004-01-15 | Hitachi, Ltd. | 照明方法並びに露光方法及びその装置 |
| KR100703110B1 (ko) * | 2002-07-03 | 2007-04-05 | 히다치 비아 메카닉스 가부시키가이샤 | 조명 방법, 노광 장치 및 변조기 |
| CN100355022C (zh) * | 2002-07-03 | 2007-12-12 | 日立比亚机械股份有限公司 | 照明方法和曝光方法及其装置 |
| JP2004246144A (ja) * | 2003-02-14 | 2004-09-02 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光方法、露光装置及び照明装置 |
| WO2004109777A1 (ja) * | 2003-06-03 | 2004-12-16 | Nikon Corporation | 露光方法及び装置、デバイス製造方法、並びにデバイス |
| WO2013179977A1 (ja) * | 2012-05-29 | 2013-12-05 | 株式会社ニコン | 照明装置、処理装置、及びデバイス製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3264224B2 (ja) | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 | |
| US6894764B2 (en) | Illumination optical system, exposure apparatus having the same, and device fabricating method | |
| JP2946950B2 (ja) | 照明装置及びそれを用いた露光装置 | |
| US5926257A (en) | Illumination optical system and exposure apparatus having the same | |
| JP3634782B2 (ja) | 照明装置、それを用いた露光装置及びデバイス製造方法 | |
| JP3232473B2 (ja) | 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 | |
| CN100521089C (zh) | 光学积分器、照明光学装置、曝光装置、方法及元件制法 | |
| JP3428055B2 (ja) | 照明光学装置、露光装置、半導体製造方法および露光方法 | |
| US20030197838A1 (en) | Ilumination optical system and method, and exposure apparatus | |
| KR100823405B1 (ko) | 노광장치 및 디바이스 제조 방법 | |
| US6897944B2 (en) | Illumination optical system, exposure method and apparatus using the same | |
| JP3491212B2 (ja) | 露光装置、照明光学装置、照明光学系の設計方法及び露光方法 | |
| JP3559694B2 (ja) | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 | |
| JP4659223B2 (ja) | 照明装置及びこれに用いる投影露光装置並びにデバイスの製造方法 | |
| WO1999036832A1 (en) | Illuminating device and exposure apparatus | |
| JP3517573B2 (ja) | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 | |
| JPH0950958A (ja) | 照明光学装置及びそれを備えた投影露光装置 | |
| JPH1070070A (ja) | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 | |
| JP3415571B2 (ja) | 走査露光装置、露光方法及び半導体製造方法 | |
| JP3618944B2 (ja) | 照明光学系及びそれを用いた露光装置 | |
| JP2008262997A (ja) | 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 | |
| WO2003041134A1 (en) | Illumination optical device, exposure device, and exposure method | |
| JP2739712B2 (ja) | 照明光学系，焼付装置及び回路製造方法 | |
| JP2003037060A (ja) | 照明光学装置、露光装置、露光方法及び半導体製造方法 | |
| JPH07135148A (ja) | 照明装置及び該照明装置を備える露光装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040316 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040427 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050125 |