JPH05304076A - 投影露光装置 - Google Patents

投影露光装置

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JPH05304076A
JPH05304076A JP5028372A JP2837293A JPH05304076A JP H05304076 A JPH05304076 A JP H05304076A JP 5028372 A JP5028372 A JP 5028372A JP 2837293 A JP2837293 A JP 2837293A JP H05304076 A JPH05304076 A JP H05304076A
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light
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 縦方向パターンと横方向パターンとでその転
写像の線幅をほぼ等しくする。 【構成】 照明光学系中のレチクルRのパターン面に
対するフーリエ変換面、もしくはその近傍に複数の光源
像Liを形成するフライアイレンズ7の射出面近傍に、
フーリエ変換面を通過する照明光を照明光学系の光軸A
Xを中心とした輪帯状領域に制限するとともに、この輪
帯状領域内で縦方向パターン14aの解像度に寄与する
光源像と横方向パターン14bの解像度に寄与する光源
像とを同数にするように、複数の光源像を部分的に遮
光、又は減光する輪帯絞り30を配置する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路や液晶
デバイス等の微細パターンの形成に使用される投影露光
装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体素子等の回路パターン形成には、
一般にフォトリソグラフ技術と呼ばれる工程が必要であ
る。この工程には通常、レチクル(マスク)パターンを
半導体ウエハ等の基板上に転写する方法が採用される。
基板上には感光性のフォトレジストが塗布されており、
照射光像、すなわちレチクルパターンの透明部分のパタ
ーン形状に応じて、フォトレジストに回路パターンが転
写される。投影露光装置(例えばステッパー)では、レ
チクル上に描画された転写すべき回路パターンの像が、
投影光学系を介して基板(ウエハ)上に投影、結像され
る。
【0003】また、レチクルを照明するための照明光学
系中にはオプチカルインテグレータ(フライアイ型イン
テグレータ、ロット型インテグレータ、光ファイバー
等)が使用されており、レチクル上に照射される照明光
の強度分布がほぼ均一化される。フライアイ型インテグ
レータ(フライアイレンズ)は、数十個の同一形状の単
レンズエレメントを照明光学系の光軸と垂直な面内に並
べたレンズ群である。フライアイレンズを用いて強度分
布の均一化を行う場合、レチクル側焦点面(射出面側)
とレチクル面(パターン面)とはほぼフーリエ変換の関
係で結ばれており、さらにレチクル側焦点面と光源側焦
点面(入射面側)ともフーリエ変換の関係で結ばれてい
る。従って、レチクルのパターン面とフライアイレンズ
の光源側焦点面(正確にはフライアイレンズの個々のレ
ンズエレメントの光源側焦点面)とは、結像関係(共役
関係)で結ばれている。このため、レチクル上では、フ
ライアイレンズの各レンズエレメント(2次光源像)か
らの照明光がコンデンサーレンズ等を介することによっ
てそれぞれ加算(重畳)されることで平均化され、レチ
クル上の照度均一性を良好にすることが可能となってい
る。
【0004】ところで、フライアイレンズのレチクル側
焦点面(射出面)は、レチクルのパターン面に対して光
学的なフーリエ変換面となっており、この射出面内での
レンズエレメントの各位置はレチクルのパターン面に対
する各エレメントからの照明光束の入射角度(正確には
その正弦)に対応している。従って、射出面近傍に開口
絞りを設けることで、レチクルパターンに対する照明光
束の入射角度範囲を制限することができる。従来装置で
は、開口絞り(σ絞り)の形状が光軸を中心とする円形
の透過部となっていた。尚、上記円形開口の半径により
決定される照明光束のレチクルパターンへの入射角度範
囲と、投影光学系のレチクル側開口数との比を、一般に
コヒーレンスファクター(σ値)と呼ぶ。
【0005】さて、最近では解像度や焦点深度を改善す
るため、輪帯照明法や変形光源法が注目されるようにな
っている。輪帯照明法は、例えば特開昭61−9166
2号公報に開示されているように、照明光学系中のレチ
クルパターンに対する光学的なフーリエ変換面(例え
ば、フライアイレンズの射出面)、もしくはその近傍に
輪帯状の光透過部を有する絞り(輪帯絞り)を配置し
て、照明光学系の光軸近傍の照明光束を遮光するもので
ある。変形光源法は、例えば1991年秋期応用物理学
会学術講演会で発表されたように、フーリエ変換面、も
くしはその近傍に照明光学系の光軸から偏心した少なく
とも1つの光透過部を有する絞り(変形光源絞り)を配
置して、レチクルパターンに対して照明光束を傾けて照
射するものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の輪帯
絞りは照明光学系の光軸を中心とした半径r1 の円形透
過部の中に、半径r2(<r1)の円形遮光部を設けただけ
のものである。また、変形光源絞りはガラス基板に十字
状遮光部を形成したものに過ぎない。一方、フライアイ
レンズは1つのエレメントの形状が正方形、または長方
形のレンズを複数個並べたものである。また、投影露光
装置では一般にフライアイレンズの射出面(レチクルパ
ターンの光学的なフーリエ変換面)に水銀ランプ等の光
源の像を形成する、いわゆるケーラー照明を採用してい
る。従って、フライアイレンズの射出面内で2次光源と
して作用するのは、各エレメントの中心部のみに形成さ
れた離散的な光源像であり、射出面の全面が均一に発光
しているわけではない。
【0007】このような離散的な2次光源に前述の如き
輪帯絞りを設けると、複数個の2次光源像(各レンズエ
レメントに相当)のうちのいくつかは、絞りの透過部と
遮光部との境界部に重なってしまう。このことは、フラ
イアイレンズに対する絞りの取付(設定)精度によっ
て、上記境界部付近の2次光源像が絞りで遮光された
り、逆に透過したりすることを意味する。すわなち照明
光量のバラツキ等の不安定要因となり得る。特に輪帯絞
りを設ける場合、有効なレンズエレメント(輪帯絞りを
通過可能な2次光源)の数が減少し、レチクル上での照
度均一化効果が低下するといった問題がある。
【0008】さらに、投影露光装置では輪帯照明法のみ
でなく、レチクルパターン(微細度、周期性等)によっ
ては従来の照明法、すなわちフライアイレンズの射出面
に円形透過部を設定する方法(以下、通常照明法と称
す)も必要となる。従って、輪帯照明法と通常照明法と
を切り換えて使用する場合、少なくとも2種類の絞りを
フライアイレンズの射出面に対して交換可能に配置する
必要があり、特に輪帯絞りの取り付け精度(及び耐久
性)を極めて厳しくしなければならなくなる。
【0009】また、照明光束によるレチクル上の照明範
囲(照明視野)の形状は、ウエハ上に形成すべき半導体
チップの形状に一致するように、長方形であることが一
般的である。従って、フライアイレンズの各エレメント
の形状も長方形(矩形状)であることが多い。複数の長
方形のエレメントが並んだフライアイレンズに対して前
述の如き輪帯絞りを適用すると、フライアイレンズの各
エレメントの短辺側の軸方向(短手方向)と長辺側の軸
方向(長手方向)とで、有効な(絞りによって遮光され
ない)2次光源(光源像)の数が異なることになる。こ
の結果、露光すべきレチクルパターンの縦方向と横方向
(エレメントの長手方向と短手方向に対応)とで、その
転写像の線幅(光量分布)が異なってしまうことにな
る。
【0010】本発明は以上の問題を鑑みてなされたもの
であり、照明光学系中での取り付け(設定)精度が緩く
て良く、しかも転写像の縦方向と横方向とで線幅差が生
じない絞りを備えたより高性能な投影露光装置を提供す
ることを目的としている。
【0011】
【課題を解決するための手段】かかる問題点を解決する
ため本発明においては、照明光学系中のマスク(R)の
パターン面に対するフーリエ変換面、もしくはその近傍
面に複数の光源像を形成するフライアイ型インテグレー
タ(7)と、フーリエ変換面を通過する照明光を照明光
学系の光軸(AX)を中心とした輪帯領域に制限すると
ともに、輪帯領域内で第1パターン(14a)の解像度
に寄与する光源像と第2パターン(14b)の解像度に
寄与する光源像とを同数にするように、複数の光源像を
部分的に遮光、又は減光する絞り部材(30)を設ける
ようにした。さらに絞り部材は、フライアイ型インテグ
レータを構成する複数の光学エレメントの配列に倣って
その光透過部(又は遮光部)の形状を定めることとし
た。
【0012】
【作用】本発明では、互いに直交する方向に延びた第1
パターンと第2パターンの各々の解像度に寄与する光源
像を同数としたため、第1パターンと第2パターンとで
その転写像の線幅(光量分布)をほぼ一致させることが
できる。また、フライアイ型インテグレータの射出側焦
点面内で2次光源として作用するのが、各光学エレメン
トの中心部に形成された離散的な光源像であることに着
目し、フライアイレンズの射出面近傍に配置される絞り
部材(σ絞り、輪帯絞り、変形光源絞り)の形状を、フ
ライアイレンズを構成する複数個の光学エレメントの配
列、すなわちフライアイレンズの射出面に形成される離
散的な光源像(各エレメントの射出面に形成される2次
光源)の配置に応じて定めることとした。このため、各
光源像が遮光部材の遮光部と光透過部との境界付近に重
ならないように絞り部材の形状を定めることが可能とな
る。
【0013】
【実施例】図1は本発明の実施例による投影露光装置の
概略的な構成を示し、水銀灯等の光源1より放射される
照明光束3は楕円鏡2で反射、焦光され、折り曲げミラ
ー5を介してインプットレンズ系4、6によりほぼ平行
光束となってフライアイレンズ7に入射する。ここで、
フライアイレンズ7を構成する複数のレンズエレメント
7aの各入射側面はレチクルRのパターン面とほぼ共役
(結像関係)となっている。また、各レンズエレメント
7aの射出側面には光源1の像(2次光源)が形成され
るとともに、フライアイレンズ7の射出側面はレチクル
Rのパターン面に対して光学的にフーリエ変換の関係と
なっている。本実施例ではフライアイレンズ7の射出面
近傍に絞り部材8を設けるものとする。また、絞り部材
8の具体的な形状については後述する。尚、フライアイ
レンズ7は各レンズエレメント7aの射出面から光軸A
X方向に所定距離だけ離れた面内に光源1の像を形成す
るものでも良い。ところで、絞り部材8は絞り部材9と
ともに保持部材(例えばターレット板、スライダ等)1
0に一体に固定されており、駆動系10aによって交換
可能に照明光路中に配置される。また、保持部材10に
固定すべき絞りの数(種類)は任意で良く、これら複数
個の絞りは、例えばターレット状に配置されるものとす
る。
【0014】さて、絞り8(光透過部8a、8b)を透
過した光束13は、コンデンサーレンズ群11、及びミ
ラー12を介してレチクルRのパターン14を照明す
る。パターン14を透過、回折した光は投影光学系15
により集光結像され、ウエハ16上にパターン14の像
を形成する。ウエハ16は、モータ18により2次元移
動可能なステージ17に載置されている。
【0015】ところで、図1においてレチクルパターン
14とフライアイレンズ7の射出面とは光学的にフーリ
エ変換の関係であり、すなわち絞り8もレチクルパター
ン14とほぼフーリエ変換の関係となっている。従っ
て、絞り8の面内での光透過部8a、8bの各位置は、
照明光束13のレチクルパターン14への入射角θに対
応していることになる。
【0016】主制御系20は、レチクルの種類やそのパ
ターンの微細度(線幅、ピッチ)、周期性等に基づい
て、レチクルパターン14に最も見合った(最適な)絞
りを、駆動系10aを介して照明光路中に配置(設定)
する他、装置全体を統括制御する。図示していないが、
主制御系20はバーコードリーダによりレチクルR上の
バーコードパターンを読み、その情報に基づいて最適な
絞りの設定を行うようになっている。尚、バーコードパ
ターンにはそのレチクルパターンに最適な絞りを記入し
ておけば良い。あるいは主制御系20は、レチクル名と
それに対応する照明条件とを記憶(予め入力)してお
き、バーコードパターンに記されたレチクル名と上記記
憶内容とを照合して、レチクルパターンに最適な照明条
件を決定し、当該条件に最も見合った絞りを選択(設
定)するようにしても良い。
【0017】さて、図1の装置に好適な絞り部材の具体
的な構成を説明する前に、図6を参照して従来装置に適
用される絞り部材について説明する。図6は、フライア
イレンズ7の射出側面をレチクル側(照明光学系の光軸
方向)から見た図である。図6に示すようにフライアイ
レンズ7は、複数の長方形のレンズエレメント7aが紙
面内横方向(X方向)に8個ずつ、縦方向(Y方向)に
6個ずつ並び(但し、ここでは4隅にレンズエレメント
を配置していない)、計44個のレンズエレメントの集
合体として構成されている。このとき、光源1の像Li
(図中の黒丸)は各エレメント7aの中心部に形成され
ている。さらに図6では、上記構成のフライアイレンズ
7に対して通常(従来通り)の円形状の絞り(円形開口
を有するσ絞り)25を取り付けてある。図示していな
いが、円形絞り25の円外は遮光部となっている。
【0018】ところで、図6中の領域(破線)A内の1
0個のレンズエレメント(光源像Li)は、特にレチク
ルR上でY方向に延びて形成された微細パターン(以
下、縦方向パターンと称す)の解像に有効である。一
方、領域(2点鎖線)B内の14個のレンズエレメント
(光源像)は、レチクルR上でX方向に延びて形成され
た微細パターン(以下、横方向パターンと称す)の解像
に有効である。また、領域A内の光源像Liは横方向パ
ターンの解像には無効(解像に寄与しない)であり、逆
に領域B内の光源像Liは縦方向パターンの解像には無
効である。この関係を図7、図8を参照して説明する。
【0019】図7(A)において、絞り25内の2つの
部分領域(斜線部)DV (領域Aに対応し、正確には領
域DV 内の光源像)は、図7(B)に示す微細なレチク
ルパターン(縦方向パターン)14aに対して有効であ
る。また、図8(A)中の2つの部分領域(斜線部)D
H (領域Bに対応)は、図8(B)に示す微細なレチク
ルパターン(横方向パターン)14bに対して有効であ
る。さらに、図9(B)に示すような縦横両方の微細な
レチクルパターン14cを含む場合には、図7(A)中
の領域DV と図8(A)中の領域DH の両者に含まれる
4つの部分領域(斜線部)DVH(内の光源像)が特に有
効である。
【0020】しかしながら、図6に示した従来の円形絞
り25にあっては、領域Aに含まれる光源像(2次光
源)Liの数は10個となり、領域Bに含まれる光源像
の数は14個となってしまう。この結果、縦方向パター
ンの形成(解像)に寄与する光源像の数(領域A内の1
0個と、フライアイレンズ7の中心を挟んで領域Aと反
対側(紙面内左側)の領域内の10個との計20個)
と、横方向パターンの形成に寄与する光源像の数(領域
B内の14個と、その反対側(紙面内上側)の14個と
の計28個)とが異なることになる。このため、例えば
図9(B)に示したレチクルパターン14cの転写像に
おいて縦方向パターンと横方向パターンの各像光量(す
なわち線幅)が異なってしまうことになる。
【0021】次に、図2を参照して本発明の実施例によ
る絞り部材の具体的な構成について説明する。図2
(A)、(B)に示すフライアイレンズ7の構成(配
列)は、図6に示したものと同一である。まず図2
(A)では、照明光学系においてσ絞り(開口絞り)と
して用いられる絞りについて説明する。尚、この絞りは
図1中に示した絞り9と同一のものである。図2(A)
に示す絞り9は、図6中の絞り25に対して、横方向パ
ターンの形成に寄与する領域B内の光源像Liを4つだ
け遮光するものとした。さらに絞り9(光透過部9a)
の形状は、フライアイレンズ7の各エレメントの形状に
倣うようにした。換言すれば、絞り9における遮光部
(斜線部)と光透過部9aとの境界部(エッジ部)がエ
レメント間の境界線にほぼ沿うようにした。この結果、
光透過部9aの周辺部、すなわち領域A(点線)内の光
源像の数と領域(2点鎖線)B内の光源像の数が共に1
0個となり、縦方向パターンと横方向パターンとで線幅
差が生じることがなくなる。
【0022】尚、図2(A)において横方向パターンの
形成に寄与する光源像は領域B内のものだけでなく、フ
ライアイレンズ7の中心に関して領域Bと対称な(紙面
内上側)領域B’内の光源像も同様に寄与するので、領
域B’内の光源像も4つだけ遮光し、その数を10個と
している。また、領域BとB’とで遮光すべき光源像の
数は同数とし、その位置もフライアイレンズ7の中心に
対して対称とすることが望ましい。このことは領域Aに
ついても全く同様であり、図2(A)では絞り9の形状
が紙面内で上下対称、及び左右対称となるように定めら
れている。また、絞り9は金属板をエッチング等でくり
抜いて開口部を形成したものでも、透明基板(石英等の
ガラス基板)にクロム等により遮光層を形成したもので
も良い。尚、σ絞りとしては図2(A)中の絞り9の
他、図11(A)、(B)に示すような絞り37、38
を用いても良く、これらを保持部材10に一体に固定す
ることで、照明光学系のσ値を簡単に変更することがで
きる。尚、絞り37、38の形成条件は絞り9と全く同
様である。
【0023】次に、図2(B)を参照して輪帯絞りにつ
いて説明する。図2(B)において、絞り30はフライ
アイレンズ7の中心(照明光学系の光軸)付近に矩形状
の遮光部30aを有し、縦4列、横4列の計16個のレ
ンズエレメント(光源像Li)を遮光するものとした。
さらに遮光部30aを、フライアイレンズ7のレンズエ
レメント間の境界に倣った形状に定めた。このとき、縦
方向パターンの形成に有効な領域A内の光源像の数と、
横方向パターンの形成に有効な領域B内の光源像の数が
共に10個ずつ(全体では20個ずつ)となっている。
従って、縦方向パターンと横方向パターンとで線幅差が
生じることはない。これに対して、図10(A)に示す
ような従来の輪帯絞り26では、円形遮光部26aによ
って領域A内の光源像の数は8個、領域B内の光源像の
数は10個となっており、縦方向パターンと横方向パタ
ーンとで線幅差が生じることになる。ところで、輪帯照
明法による解像度や焦点深度の向上効果は、フライアイ
レンズ7の射出面(レチクルパターンの光学的なフーリ
エ変換面)内での光軸近傍の照明光束を遮光することに
より得られるものである。従って、図2(B)に示した
絞り30を用いても、解像度や焦点深度の向上効果は通
常の輪帯絞りと全く同様に得ることができる。
【0024】また、図10(B)に示すような従来の輪
帯絞り27では、その径(輪帯状の光透過部の内径、外
径)によっては、円形遮光部27aと光透過部との境界
に、いくつかのレンズエレメントによる光源像が重なっ
てしまうことがある。従って、フライアイレンズ7に対
する輪帯絞り27の取り付け(設定)精度に応じて、輪
帯絞り27のわずかなずれによりレチクル面での照度等
が大きく変動し、露光量制御が難しくなる等の問題が生
じる。この問題は図6に示した円形絞り25でも全く同
様に生じるが、円形絞り25ではその透過部内のレンズ
エレメント(光源像)の数が多く、平均化効果によりあ
る程度緩和される。これに対して図10(B)の輪帯絞
り27では、円形遮光部27aによってかなりの数のレ
ンズエレメントが隠される(遮光される)ため、取り付
け精度の影響がより顕著になる。
【0025】以上の通り、図2(A)、(B)に示した
σ絞りや輪帯絞りでは、各レンズエレメントの形状に倣
って遮光部の形状を定め、遮光部と光透過部との境界線
上にはどの部分にもレンズエレメントによる光源像が重
ならないようにした。従って、フライアイレンズ7に対
する絞りの取り付け精度が悪くても、レチクル面での照
度が変動することがなく、複数の絞りを交換する場合に
もその時間を短縮することが可能となる。尚、遮光部
(または光透過部)の大きさ、すなわち遮光すべき光源
像の数は、σ値や輪帯比(内径と外径の比)等に応じて
一義的に定められる。
【0026】以上の実施例では、横8列、縦6列の長方
形レンズエレメントから成るフライアイレンズを用いて
いたが、フライアイレンズの形状や配列、各エレメント
の形状等は、これ以外のいかなるものであっても良い。
また、絞り(遮光部や光透過部)の形状についても図2
以外のいかなる形状であっても良く、要はフライアイレ
ンズの各エレメントの配列、形状(エレメント間の境
界)に倣った形状であれば良い。さらに図1では示して
いないが、絞りをフライアイレンズ7の射出面近傍以
外、例えばその共役面(レチクルパターンの光学的なフ
ーリエ変換面)近傍に配置しても良い。また、フライア
イレンズ7の入射側面近傍に配置しても構わない。
【0027】ところで、図2(B)に示した輪帯絞り3
0では遮光部30aによって光軸近傍の照明光束を遮光
するため、絞りとしては照明波長に対して透明な基板
(石英等のガラス基板)にクロム等で遮光部30aを形
成したものが使用される。または図3に示すように、金
属板にエッチング等で4つの光透過部(開口部)をくり
抜いて形成した絞り32を用いても良い。絞り32で
は、光軸近傍の照明光束を遮光するための遮光部32a
が、ここでは4本の支持部32bによって絞り本体(遮
光部32c)と連結、固定されている。このとき、支持
部32bも光源像Liと重ならない(遮光しない)よう
に、フライアイレンズ7のレンズエレメントの配列(形
状)に倣って形成する。さらに輪帯開口の外径を規定す
る遮光部32cも、輪帯開口の内径を規定する遮光部3
2a(図2(B)中の絞り30の遮光部30aに相当)
と同様に、各レンズエレメントの形状に倣ってその形状
を定め、開口部との境界線上に光源像が重ならないよう
にした。また、絞り32でも縦方向パターンと横方向パ
ターンの形成に寄与する光源像の数が共に10個(全体
で20個)となっている。尚、遮光部32a、32cの
大きさが互いに異なる複数枚の絞りを用意し、適宜絞り
を交換して遮光する光源像Liの数を変えることによ
り、輪帯照明法における内径、外径、及び輪帯比に相当
する値を変化させることができる。
【0028】また、図2(B)、図3では1枚の絞りに
よって輪帯照明を実現していたが、図4に示すように2
枚の絞り33、34を極近接して配置し、各絞りの遮光
部の重ね合わせで輪帯照明を実現しても良い。このと
き、絞り33、34の形成条件は絞り30、32等と全
く同様であり、遮光部と光透過部との境界線上に光源像
が重ならないように各エレメントの形状に倣って遮光部
を形成している。絞り33は輪帯照明の外径を、絞り3
4は内径を規定するものであり、ともに各レンズエレメ
ントの形状に倣って形成されている。外径絞り33は内
部に大きな開口部を有し、内径絞り34は光軸近傍の照
明光束を遮光するための遮光部34aを有している。
尚、絞り33、34をフライアイレンズ7の射出面近傍
とその共役面近傍とに分けて配置しても良い。また、絞
りの枚数は3枚以上であっても良い。さらに絞り33と
34とを独立に複数の絞りと交換可能に構成することに
よって、輪帯照明の内径、外径、輪帯比を容易に変更す
ることが可能となる。
【0029】さらに絞りの交換機構としては、複数の絞
りをターレット板に固定し、ターレット板を回転させて
絞りを交換する方式、あるいは図5に示すようなスライ
ダーによる交換方式を始めとしていかなる方式を採用し
ても良い。図5では2組のスライダー35、36を極近
接して配置したもので、スライダー35上の3つの絞り
35A〜35Cはσ絞り、または輪帯照明用の外径絞り
である。一方、スライダー36上の絞り36Aはフライ
アイレンズ7の全てのレンズエレメントによる光源像が
その光透過部を透過可能なものであり、残り2つの36
B、36Cは輪帯照明用の内径絞りである。例えば、絞
り36Aと絞り35A〜35Cの各々とを組み合わせる
と、照明光学系のσ値を変更でき、絞り35Aと絞り3
6B、36Cの各々との組み合わせ、または絞り35B
と絞り36Cとの組み合わせによって、輪帯照明の内
径、外径(及び輪帯比)を簡単に変更することができ
る。また、1つのスライダーに固定する絞りの数はいく
つでも構わないが、特にその数を2つ、または3つに制
限し、絞りの数が不足する場合にはスライダーの数を増
やし、これらのスライダーを極近接させてフライアイレ
ンズ7の射出面に配置する、またはその共役面近傍に分
けて配置することで、ターレット板を用いる場合に比べ
て交換機構を小さくすることができる。尚、スライダー
に固定する絞りは、図2、図3に示した各絞りであって
も構わない。
【0030】以上の実施例では、本発明を輪帯絞りやσ
絞りに適用した場合について述べたが、例えば図9
(C)に示した4つの領域DVHのみを照明光束が透過す
るような絞りに対しても本発明を適用して同様の効果を
得ることができる。この種の絞りは輪帯照明に比べてよ
り高解像度、大焦点深度の露光が期待できる(傾斜照明
法に有効な)絞りであって、その一例を図12に示す。
図12に示すように絞り39でも、遮光部と光透過部と
の境界線上に光源像Liが重ならないように、各エレメ
ントの形状、配列に倣って遮光部が形成されている。図
12の変形光源絞り39でも、縦方向パターンと横方向
パターンの形成に寄与する光源像の数が共に10個(全
体で20個)となっている。また、図13(A)に示す
絞り40も図12のものと同様であるが、各光透過部が
その全域にわたって各エレメントの形状に倣って形成さ
れている例を示している。尚、照明光学系の光軸(フラ
イアイレンズ7の中心)と4つの光透過部の各中心位置
(光量分布の重心位置)との距離は、レチクルパターン
の微細度(線幅、ピッチ等)に応じて定められるもので
ある。従って、傾斜照明法では上記距離が互いに異なる
複数の絞り(39、40等)を用意しておき、レチクル
パターンの微細度に応じた最適な絞りを光路中に配置す
ることが望ましい。また、絞り39、40はレチクルパ
ターンが2次元の周期性パターンである場合に対して特
に有効であり、1次元の周期性パターンに対しては、図
13(B)に示すようにその周期方向に対応した2つの
光透過部8a、8bを有する絞り8を用いるようにして
も良い。尚、この絞り8は図1中のものと同一のもので
ある。
【0031】ところで、絞り39、40の代わりに、図
14に示すような2枚の遮光羽根を組み合わせて絞りと
して用いるようにしても良い。図14では、回転体4
1、42の各々に、互いに遮光幅が異なる複数枚(図で
は2枚)の遮光羽根WG1 、WG2 とWG3 、WG4
が設けられており、これらの遮光羽根の組み合わせによ
ってレンズエレメントによる光源像の数を変更すること
ができ、照明光学系の光軸に対する4つの透過領域(光
量分布)の各重心位置を変化させることが可能となる。
尚、上記構成ではフライアイレンズ7の外側の光源像を
遮光できないので、外径を規定するための絞り(例えば
図2(A)、図11に示した絞り9、37、38等)を
フライアイレンズ7の射出面近傍に配置することが望ま
しい。また、図2(B)、図3、図4に示した各絞り
と、照明光学系の光軸を中心とした十字状(またはH
状)の遮光部を有する絞りとを組み合わせても、絞り3
9、40(または絞り8)と全く同様の遮光を行うこと
ができる。さらに、4つ(または2つ)のフライアイレ
ンズの各射出面近傍に、そのσ値を変更できるように、
複数個のσ絞り(9、37、38)を交換可能に配置す
るように構成しても良い。
【0032】尚、図15に示すような輪帯絞り31を使
用しても良い。絞り31は十字状の遮光部31aによっ
て計12個のレンズエレメント(光源像Li)を遮光
し、かつ遮光部31aの形状をフライアイレンズ7のレ
ンズエレメント間の境界に倣って定めた。但し、絞り3
1では縦方向パターンと横方向パターンの形成に寄与す
る光源像の数が異なっている。このため、レチクルパタ
ーンによっては縦方向パターンと横方向パターンとで線
幅差が生じ得るが、図2(B)の輪帯絞り30に比べて
光量損失や照度均一性の低下を低減できるといった利点
が得られる。また、絞り部材によって有効な(絞りによ
って遮光されない)レンズエレメント(光源像Li)の
数が極端に減少する場合には、フライアイレンズの配列
自体を光透過部に合わせたものにする。例えばフライア
イレンズ7を構成するレンズエレメントの配列、すなわ
ち偶配列、または奇配列を最適化して、縦方向パターン
と横方向パターンの各々に有効な光源像(2次光源像)
の数を等しくすると良い。レンズエレメントの配列の最
適化にあたっては、縦方向と横方向とで偶奇性(偶配列
か奇配列)が異なっていても良い。
【0033】以上の説明において、各絞りの遮光部(3
0a〜32a、34a等)を減光部としても良い。ま
た、本発明の絞り部材を液晶表示素子やエレクトロクロ
ミック素子等を用いた可変絞りとしても構わない。さら
に、図1の装置では1組のフライアイレンズのみを配置
していたが、例えば特開昭63−66553号公報に開
示されているように2組のフライアイレンズを直列配置
しても良い。この場合、本発明による絞り部材は1段目
(光源側)のフライアイレンズ、又は2段目(レチクル
側)のフライアイレンズの入射側面、あるいは射出側面
のいずれに配置しても良い。尚、2段目のフライアイレ
ンズの射出側面近傍に絞り部材を配置するときは、各レ
ンズエレメントの射出面に形成される複数(1段目のフ
ライアイレンズのレンズエレメントの本数に対応)の3
次光源を、先の実施例と全く同様にエレメント単位で遮
光(又は減光)することになる。尚、図1に示した投影
露光装置の露光用光源1は水銀ランプ以外、例えばエキ
シマレーザ、金属蒸気レーザやYAGレーザ等の高調
波、X線等を用いても構わない。また、図1では変形光
源絞り8とσ絞り9とを交換する例を示したが、保持部
材10にはいかなる絞りを配置しても良い。
【0034】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、フライア
イ型インテグレータを構成する各光学エレメントの配列
に応じた変形絞り形状を採用するため、絞りの取り付け
精度が緩くて済み、さらに複数個の絞りを交換して使用
する場合には、交換に伴う取り付け位置の再現精度が緩
くても良いといった効果が得られる。また、従来特に輪
帯状絞りで問題となっていた微細縦線と微細横線との線
幅差の発生も本発明では防止することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例による投影露光装置の概略的な
構成を示す図。
【図2】図1に示した装置に好適な絞りの構成を示す
図。
【図3】図2に示した絞りの変形例を示す図。
【図4】図2に示した絞りの変形例を示す図。
【図5】図1に示した装置での絞り交換機構の一例を示
す図。
【図6】従来装置で用いられるσ絞りの構成を示す図。
【図7】本発明の原理を説明する図。
【図8】本発明の原理を説明する図。
【図9】本発明の原理を説明する図。
【図10】従来装置で用いられる輪帯絞りの構成を示す
図。
【図11】図1に示した装置に好適なσ絞りの変形例を
示す図。
【図12】図1に示した装置に好適な傾斜照明用の絞り
の構成を示す図。
【図13】図1に示した装置に好適な傾斜照明用の絞り
の構成を示す図。
【図14】図12に示した絞りの変形例を示す図。
【図15】図2に示した輪帯絞りの変形例を示す図。
【符号の説明】
7 フライアイレンズ 8、9、30〜34、37〜40 絞り

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源からの照明光をほぼ均一な強度分布
    に成形して、互いに直交する方向に延びた第1パターン
    と第2パターンとを有するマスクに照射する照明光学系
    と、前記マスクのパターンの像を感光基板に結像投影す
    る投影光学系とを備えた投影露光装置において、 前記照明光学系中の前記マスクのパターン面に対するフ
    ーリエ変換面、もしくはその近傍面に複数の光源像を形
    成するフライアイ型インテグレータと;前記フーリエ変
    換面を通過する前記照明光を前記照明光学系の光軸を中
    心とした輪帯領域に制限するとともに、該輪帯領域内で
    前記第1パターンの解像度に寄与する光源像と前記第2
    パターンの解像度に寄与する光源像とを同数にするよう
    に、前記複数の光源像を部分的に遮光、又は減光する絞
    り部材とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
  2. 【請求項2】 光源からの照明光をほぼ均一な強度分布
    に成形して、互いに直交する方向に配列された第1の周
    期性パターンと第2の周期性パターンとを有するマスク
    に照射する照明光学系と、前記マスクのパターンの像を
    感光基板に結像投影する投影光学系とを備えた投影露光
    装置において、 前記照明光学系中の前記マスクのパターン面に対するフ
    ーリエ変換面、もしくはその近傍面に複数の光源像を形
    成するフライアイ型インテグレータと;前記フーリエ変
    換面を通過する前記照明光を前記照明光学系の光軸から
    偏心した複数の局所領域に制限するとともに、該局所領
    域内で前記第1の周期性パターンの解像度に寄与する光
    源像と前記第2の周期性パターンの解像度に寄与する光
    源像とを同数にするように、前記複数の光源像を部分的
    に遮光、又は減光する絞り部材とを備えたことを特徴と
    する投影露光装置。
  3. 【請求項3】 光源からの照明光をほぼ均一な強度分布
    に成形して、互いに直交する方向に延びた第1パターン
    と第2パターンとを有するマスクに照射する照明光学系
    と、前記マスクのパターンの像を感光基板に結像投影す
    る投影光学系とを備えた投影露光装置において、 前記照明光学系中の前記マスクのパターン面に対するフ
    ーリエ変換面、もしくはその近傍面に複数の光源像を形
    成するフライアイ型インテグレータと;前記フーリエ変
    換面を通過する前記照明光を前記照明光学系の光軸を中
    心とした部分領域に制限するとともに、該部分領域の周
    辺部に分布する前記第1パターンの解像度に寄与する光
    源像と前記第2パターンの解像度に寄与する光源像とを
    同数にするように、前記複数の光源像を部分的に遮光、
    又は減光する絞り部材とを備えたことを特徴とする投影
    露光装置。
  4. 【請求項4】 前記絞り部材は、前記フライアイ型イン
    テグレータを構成する複数の光学エレメントの配列に倣
    ってその形状が定められた光透過部を有することを特徴
    とする請求項1、2、3に記載の投影露光装置。
  5. 【請求項5】 前記絞り部材は、前記フライアイ型イン
    テグレータの入射側面近傍、又は射出側焦点面、もしく
    はその共役面に配置されることを特徴とする請求項4に
    記載の投影露光装置。
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