JPH08330380A - 基板搬送装置 - Google Patents

基板搬送装置

Info

Publication number
JPH08330380A
JPH08330380A JP7133591A JP13359195A JPH08330380A JP H08330380 A JPH08330380 A JP H08330380A JP 7133591 A JP7133591 A JP 7133591A JP 13359195 A JP13359195 A JP 13359195A JP H08330380 A JPH08330380 A JP H08330380A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
roller
dust
contact portion
escape groove
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP7133591A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2687931B2 (ja
Inventor
Yoshimoto Koga
義基 古賀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP7133591A priority Critical patent/JP2687931B2/ja
Publication of JPH08330380A publication Critical patent/JPH08330380A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2687931B2 publication Critical patent/JP2687931B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Rollers For Roller Conveyors For Transfer (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板端面及び裏面を支持して搬送する基板搬
送装置において、ローラーと基板の接触によるゴミを基
板に付着しないように防止する。 【構成】 基板1の端面及び裏面を支持する搬送ローラ
ー8に関し、シャフト2に固定されたローラー3の基板
裏面接触部14に逃げ溝15を設け、個々のローラー3
上部にエアーノズル4を、ローラー3下部に排気ユニッ
ト6をそれぞれ設置している。このため、ローラー3と
基板1との接触によるゴミ12を基板1に付着しないよ
うにエアー5の吹付けでゴミ12を逃げ溝15に払拭
し、排気ユニット6により排気することが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、基板搬送装置に関し、
特にローラーに基板端面及び裏面を支持して基板を搬送
する基板搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の基板搬送装置は、特開平
5−279860号公報に記載されるように基板の枚葉
処理及び次工程ユニットへ搬出するために基板を搬送す
ることを目的として用いられている。
【0003】図2は搬送処理を示す構成図である。図2
において、処理ユニット9の外部側面にモーター11が
あり、内部側面に数本設置した搬送ローラー8と図示し
ていないギヤ又はベルトなどにより間接的に連結されて
いる。また1は基板,10は搬送方向を示す。
【0004】図4は従来の基板搬送装置を示す正面図で
ある。図4において搬送ローラー8は、シャフト2にロ
ーラー3をシュパンリング方式にて固定されている。
【0005】次に図2,図4について動作を説明する。
図2に示したモーター11が回転し、それをギヤ又はベ
ルトにより伝達することで搬送ローラー8が回転する。
図4に示したローラー3の基板端面接触部13と基板裏
面接触部14にて基板1を支持し、搬送ローラー8が回
転することで処理ユニット9に搬入する。処理ユニット
9内に基板1を搬送後、例えばUVや乾燥処理を行い処
理終了後、次ユニットに搬送ローラー8にて搬出する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし上述した従来の
基板搬送装置では、図4に示すように基板1の幅方向へ
の滑りによるローラー3端面部と基板1との接触により
ローラー3よりも基板1が固い場合は、ローラー3の基
板端面接触部13が削れてゴミ12を発生し、基板裏面
接触部14に付着する。又、基板1よりもローラー3が
固い場合は、逆に基板端面が削れてゴミ12を発生し、
同様に基板裏面接触部14に付着する。
【0007】この結果、ローラー3の基板裏面接触部1
4に付着したゴミ12が基板1を搬送する際に基板1に
付着してしまうため、基板1を汚染し製品品質が低下す
る。
【0008】本発明の目的は、基板とローラーの接触に
よるゴミを基板に付着させないようにした基板搬送装置
を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る基板搬送装置は、搬送ローラーと、エ
アーノズルと、排気ユニットとを有する基板搬送装置で
あって、搬送ローラーは、基板端面接触部に基板の端面
をあてがい、基板裏面接触部に基板の裏面を支え、回転
することにより基板に送りを与えるものであり、エアー
ノズルは前記搬送ローラーと基板との接触部にエアーを
吹き付けて、該接触部に生ずるゴミを払拭するものであ
り、排気ユニットは前記エアーノズルのエアー吹き付け
により払拭されたゴミを排出するものである。
【0010】また前記搬送ローラーは周方向に逃げ溝を
有し、前記エアーノズルは前記搬送ローラーの逃げ溝内
にゴミを吹き落すことにより、ゴミを払拭するものであ
る。
【0011】また前記搬送ローラーは前記逃げ溝に隣接
して、基板裏面を支える基板端面接触部を有するもので
ある。
【0012】また前記搬送ローラーは基板端面接触部が
平面形状をなすものである。
【0013】また前記搬送ローラーは基板端面接触部が
円弧形状をなすものである。
【0014】
【作用】搬送ローラーと基板との接触部分に発生するゴ
ミをエアーの吹き付けにより払拭し、ゴミの基板への付
着を阻止する。
【0015】
【実施例】以下、本発明の実施例を図により説明する。
【0016】(実施例1)図1は本発明の実施例1を示
す断面図である。
【0017】図において本発明に係る基板搬送装置は、
搬送ローラー8と、エアーノズル4と、排気ユニット6
とを有している。
【0018】各構成の機能を説明すると、搬送ローラー
8は、シャフト2にローラー3を基板1の巾方向間隔に
合わせてシュパンリング方式にて軸支させており、シャ
フト2は両端が装置本体に回転可能に支持され、モータ
等の駆動力を受けてローラー3を回転させ基板1に送り
を与えるようになっている。
【0019】また搬送ローラー8は、ローラー3の側面
にテーパ状の基板端面接触部13が形成され、基板端面
接触部13の内側に平面状の基板裏面接触部14が形成
されており、基板端面接触部13に基板1の端面があて
がわれ、基板裏面接触部14に基板1の裏面を支えて回
転することにより、基板1に送りを与えるようになって
いる。
【0020】また搬送ローラー8は、基板裏面接触部1
4に隣接したローラー3の周面を凹ませて、周方向に逃
げ溝15を設けている。
【0021】エアーノズル4は基板1の端面がローラー
3の接触部13にあてがわれる領域の上方に、その吹出
口を下向きにして配置され、エアー5を吹き付けて基板
1とローラ3との接触により発生するゴミ12を逃げ溝
15内に吹き落し、ゴミ12を払拭するようになってい
る。
【0022】排気ユニット6は、搬送ローラー8の下部
を取り囲んで設置された排気室6aと、排気室6aの底
部に接続された排気管6bとを有し、排気管6bよりポ
ンプ等により排気室6aを排気して、搬送ローラー8の
逃げ溝15内に吹き落されたゴミ12を排出するように
なっている。
【0023】次に図1,図2について動作を説明する。
図2に示したモーター11が回転し、それをギヤ又はベ
ルトにより伝達することで搬送ローラー8が回転する。
【0024】図1に示したローラー3の基板端面接触部
13と逃げ溝15部以外の基板裏面接触部14にて基板
1を支持し、基板1を搬送ローラー8の回転により処理
ユニット9に搬入する。
【0025】処理ユニット9内に基板1を搬送後、例え
ばUVや乾燥処理を行い処理終了後、次ユニットに搬送
ローラー8にて搬出する。
【0026】基板1の搬送後は、搬送ローラー8を回転
した状態でノズル4にてローラー3に数分間エアー5を
吹き付けながら端面部や逃げ溝15等に付着したゴミ1
2を剥がし、排気ユニット6にて排気の流れ方向7へ排
出する。
【0027】したがって本実施例によれば、基板1の搬
送の際に発生したゴミは、搬送ローラーから払拭され、
除去されることとなり、ゴミが基板に付着することを阻
止できる。
【0028】(実施例2)図3は本発明の実施例2を示
す正面図である。図3に示す本実施例は、ローラー3の
基板裏面接触部14の逃げ溝15部を除く基板裏面接触
部14の周面を円弧状にしたものである。従って本実施
例によれば、実施例1と同様の効果を得ることができる
ばかりでなく、基板1とローラ3との接触面積が少なく
なるため、ゴミ12の付着を更に少なくすることができ
るという利点を有する。
【0029】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、基
板とローラーとの接触によるゴミをエアーの吹付けによ
り払拭するため、基板へのゴミの付着を防止することが
できる。
【0030】さらにローラーの基板裏面接触部に逃げ溝
を設け、ゴミを逃げ溝に吹き落して除去することによ
り、基板とローラー端面部との接触によるゴミを捕捉す
ることができ、ゴミの基板への付着を確実に防止するこ
とができる。
【0031】さらにローラーの逃げ溝と基板は非接触で
あり、逃げ溝の部分に一時的に付着したゴミをエアーノ
ズルと排気ユニットを用いたダウンフロー方式にて排出
するため、処理ユニット内のクリーン化が可能となり、
基板のゴミによる汚染の発生率を0%にすることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1を示す正面図である。
【図2】搬送処理を示す構成図である。
【図3】本発明の実施例2を示す正面図である。
【図4】従来の基板搬送装置を示す正面図である。
【符号の説明】
1 基板 2 シャフト 3 ローラー 4 エアーノズル 5 エアー 6 排気ユニット 8 搬送ローラー 13 基板端面接触部 14 基板裏面接触部 15 逃げ溝

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 搬送ローラーと、エアーノズルと、排気
    ユニットとを有する基板搬送装置であって、 搬送ローラーは、基板端面接触部に基板の端面をあてが
    い、基板裏面接触部に基板の裏面を支え、回転すること
    により基板に送りを与えるものであり、 エアーノズルは前記搬送ローラーと基板との接触部にエ
    アーを吹き付けて、該接触部に生ずるゴミを払拭するも
    のであり、 排気ユニットは前記エアーノズルのエアー吹き付けによ
    り払拭されたゴミを排出するものであることを特徴とす
    る基板搬送装置。
  2. 【請求項2】 前記搬送ローラーは周方向に逃げ溝を有
    し、 前記エアーノズルは前記搬送ローラーの逃げ溝内にゴミ
    を吹き落すことにより、ゴミを払拭するものであること
    を特徴とする請求項1に記載の基板搬送装置。
  3. 【請求項3】 前記搬送ローラーは前記逃げ溝に隣接し
    て、基板裏面を支える基板端面接触部を有するものであ
    ることを特徴とする請求項2に記載の基板搬送装置。
  4. 【請求項4】 前記搬送ローラーは基板端面接触部が平
    面形状をなすものであることを特徴とする請求項3に記
    載の基板搬送装置。
  5. 【請求項5】 前記搬送ローラーは基板端面接触部が円
    弧形状をなすものであることを特徴とする請求項3に記
    載の基板搬送装置。
JP7133591A 1995-05-31 1995-05-31 基板搬送装置 Expired - Fee Related JP2687931B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7133591A JP2687931B2 (ja) 1995-05-31 1995-05-31 基板搬送装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7133591A JP2687931B2 (ja) 1995-05-31 1995-05-31 基板搬送装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08330380A true JPH08330380A (ja) 1996-12-13
JP2687931B2 JP2687931B2 (ja) 1997-12-08

Family

ID=15108397

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7133591A Expired - Fee Related JP2687931B2 (ja) 1995-05-31 1995-05-31 基板搬送装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2687931B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003086913A1 (de) * 2002-04-15 2003-10-23 Rena Sondermaschinen Gmbh Transportrollen und transportsystem für flaches transportgut
WO2008093419A1 (ja) * 2007-01-31 2008-08-07 Hirata Corporation 搬送装置及び搬送方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5994840A (ja) * 1982-11-22 1984-05-31 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd ウエハ搬送装置
JPS63230442A (ja) * 1987-03-20 1988-09-26 Tokyo Electron Ltd ウエハ搬送装置
JPS6417440A (en) * 1987-07-13 1989-01-20 Hitachi Ltd Wafer transfer device
JPH02191355A (ja) * 1989-01-19 1990-07-27 Tokyo Electron Ltd ウエハ分岐搬送装置
JPH02132017U (ja) * 1989-04-10 1990-11-02
JPH04154118A (ja) * 1990-10-18 1992-05-27 Toshiba Corp 半導体ウエハの処理装置
JPH05190645A (ja) * 1992-01-09 1993-07-30 Nec Kyushu Ltd 半導体基板搬送機構

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5994840A (ja) * 1982-11-22 1984-05-31 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd ウエハ搬送装置
JPS63230442A (ja) * 1987-03-20 1988-09-26 Tokyo Electron Ltd ウエハ搬送装置
JPS6417440A (en) * 1987-07-13 1989-01-20 Hitachi Ltd Wafer transfer device
JPH02191355A (ja) * 1989-01-19 1990-07-27 Tokyo Electron Ltd ウエハ分岐搬送装置
JPH02132017U (ja) * 1989-04-10 1990-11-02
JPH04154118A (ja) * 1990-10-18 1992-05-27 Toshiba Corp 半導体ウエハの処理装置
JPH05190645A (ja) * 1992-01-09 1993-07-30 Nec Kyushu Ltd 半導体基板搬送機構

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003086913A1 (de) * 2002-04-15 2003-10-23 Rena Sondermaschinen Gmbh Transportrollen und transportsystem für flaches transportgut
DE10391511B4 (de) * 2002-04-15 2007-01-11 Rena Sondermaschinen Gmbh Transportrollen und Transportsystem für flaches Transportgut
CN100364868C (zh) * 2002-04-15 2008-01-30 里纳特种机械有限责任公司 压紧装置和用于扁平输送物品的输送系统
WO2008093419A1 (ja) * 2007-01-31 2008-08-07 Hirata Corporation 搬送装置及び搬送方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2687931B2 (ja) 1997-12-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH05343383A (ja) 裏面洗浄装置
JP4987352B2 (ja) 基板搬送装置
JP3559228B2 (ja) 回転式基板処理装置
US6365531B1 (en) Cleaning and drying method and apparatus for manufacturing semiconductor devices
JPH07283185A (ja) 基板洗浄装置
JP2687931B2 (ja) 基板搬送装置
JPH08321536A (ja) 液処理装置の基板搬送装置
JP3628919B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JPH0714819A (ja) 基板乾燥装置
JP2002096038A (ja) 基板の処理装置
JP3550277B2 (ja) 基板処理装置
JPH0994546A (ja) 基板の液切り装置
JPH10337543A (ja) 洗浄処理装置
JPH1075705A (ja) 延展装置における手粉供給機構
JPH08236498A (ja) エアナイフ乾燥方法
JP4908316B2 (ja) 洗浄装置、フラットパネルディスプレイの製造装置及びフラットパネルディスプレイ
JP2003124285A (ja) ウエット処理装置及び搬送方法
JPH08338686A (ja) 基板乾燥方法及びその装置
JP2001149872A (ja) 小物洗浄装置
JPH11236117A (ja) ローラコンベアシステム
JP2006080187A (ja) ロールブラシ、基板洗浄装置
JPS5994840A (ja) ウエハ搬送装置
JP3331390B2 (ja) 基板の洗浄装置
JPH10199851A (ja) 基板の処理方法
JP2002179245A (ja) 搬送式基板処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070822

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080822

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080822

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090822

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090822

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100822

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110822

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110822

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120822

Year of fee payment: 15

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees