JPH083304A - 光学成形品用ポリカーボネート - Google Patents
光学成形品用ポリカーボネートInfo
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- JPH083304A JPH083304A JP6143252A JP14325294A JPH083304A JP H083304 A JPH083304 A JP H083304A JP 6143252 A JP6143252 A JP 6143252A JP 14325294 A JP14325294 A JP 14325294A JP H083304 A JPH083304 A JP H083304A
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Landscapes
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Eyeglasses (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 複屈折が小さく、光学用成形品の原料として
用いて好適なポリカーボネート樹脂を提供する。 【構成】 ＰＢ、ＰＢＰの含有率を０．２重量％以下と
したポリカーボネート
用いて好適なポリカーボネート樹脂を提供する。 【構成】 ＰＢ、ＰＢＰの含有率を０．２重量％以下と
したポリカーボネート
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光学成形品用ポリカーボ
ネートに関する。特に光学的に情報の記録・再生をする
例えば、光ディスク、デジタルオーディオディスク、ビ
デオディスク等の基盤や各種レンズ、プリズム等を成形
するためのポリカーボネートに関する。
ネートに関する。特に光学的に情報の記録・再生をする
例えば、光ディスク、デジタルオーディオディスク、ビ
デオディスク等の基盤や各種レンズ、プリズム等を成形
するためのポリカーボネートに関する。
【０００２】
【従来の技術】昨今の光学的記録再生技術の発達によ
り、ポリカーボネート樹脂もその高い耐熱性、耐衝撃
性、寸法安定性、透明性を有することから、光ディス
ク、デジタルオーディオディスク、ビデオディスク等の
基板や各種の光学用成形品に用いられるようになった。
これらの光学用成形品の製造方法としては、射出成形、
射出圧縮成形、圧縮成形等が用いられており、超精密成
形技術によって、成形品表面に微細なグルーブやピット
が精密に形成されている。
り、ポリカーボネート樹脂もその高い耐熱性、耐衝撃
性、寸法安定性、透明性を有することから、光ディス
ク、デジタルオーディオディスク、ビデオディスク等の
基板や各種の光学用成形品に用いられるようになった。
これらの光学用成形品の製造方法としては、射出成形、
射出圧縮成形、圧縮成形等が用いられており、超精密成
形技術によって、成形品表面に微細なグルーブやピット
が精密に形成されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】かかる成形品の連続成
形を続けていると、複屈折のずれの発生を引き起す問題
が起きる。
形を続けていると、複屈折のずれの発生を引き起す問題
が起きる。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、ポリカー
ボネートの射出成形、射出圧縮成形あるいは圧縮成形等
の超精密溶融成形において、金型やグルーブやピットを
転写するためのスタンパーを汚染せず、また得られる成
形品の複屈折のずれの小さい、光学用成形品を製造すべ
く、鋭意検討した結果、ポリカーボネート中に含まれる
特定の不純物の含有量を特定量以下にすることにより上
記目的が達成されることを見出し、本発明を完成するに
至った。本発明の要旨は、下記式（１）又は（２）で表
わされる化合物の含有率が０．２重量％以下である光学
成形品用ポリカーボネートとするものである。
ボネートの射出成形、射出圧縮成形あるいは圧縮成形等
の超精密溶融成形において、金型やグルーブやピットを
転写するためのスタンパーを汚染せず、また得られる成
形品の複屈折のずれの小さい、光学用成形品を製造すべ
く、鋭意検討した結果、ポリカーボネート中に含まれる
特定の不純物の含有量を特定量以下にすることにより上
記目的が達成されることを見出し、本発明を完成するに
至った。本発明の要旨は、下記式（１）又は（２）で表
わされる化合物の含有率が０．２重量％以下である光学
成形品用ポリカーボネートとするものである。
【０００５】
【化２】
【０００６】本発明のポリカーボネートは、様々な手法
によって得ることが可能であるが、通常は各種方法で得
られた不純物を含有する粉末状ポリカーボネートをアセ
トン等の有機溶媒で抽出処理することによって得られ
る。この不純物を含有する粉末状ポリカーボネートを製
造する方法としては、特に制限はないが、通常はホスゲ
ン法、特にビスフェノールＡ等のビスフェノール類とホ
スゲンを原料とし、塩化メチレンを溶媒とする界面重縮
合法、とりわけ連続界面重縮合法をあげることができ
る。そのほか、エステル交換法やホスゲン法のうちのピ
リジンを溶媒とする所謂ピリジン重合法をあげることも
できる。
によって得ることが可能であるが、通常は各種方法で得
られた不純物を含有する粉末状ポリカーボネートをアセ
トン等の有機溶媒で抽出処理することによって得られ
る。この不純物を含有する粉末状ポリカーボネートを製
造する方法としては、特に制限はないが、通常はホスゲ
ン法、特にビスフェノールＡ等のビスフェノール類とホ
スゲンを原料とし、塩化メチレンを溶媒とする界面重縮
合法、とりわけ連続界面重縮合法をあげることができ
る。そのほか、エステル交換法やホスゲン法のうちのピ
リジンを溶媒とする所謂ピリジン重合法をあげることも
できる。
【０００７】上記の粉末状ポリカーボネートとは、厳密
な意味での粉末状のものに限定するわけではなく、フレ
ーク状等のものをも包含する。つまり、ホスゲン法やエ
ステル交換法で得られた粉末状、粒状、フレーク状等の
ポリカーボネートであって、ペレット化する前のものす
べてを包含する。上記方法によって得られるポリカーボ
ネート溶液から単に溶剤を除去して得られるポリカーボ
ネート中には、通常化合物（１）（「ＰＢ」と表する場
合有り）又は（２）（「ＰＢＰ」と表する場合有り）が
数％程度含有されている。また、該ポリカーボネート溶
液をアルカリ水溶液や純水で洗浄してから溶剤を除去し
たものでも、化合物（１）又は（２）は約０．５〜１．
５重量％含有されている。
な意味での粉末状のものに限定するわけではなく、フレ
ーク状等のものをも包含する。つまり、ホスゲン法やエ
ステル交換法で得られた粉末状、粒状、フレーク状等の
ポリカーボネートであって、ペレット化する前のものす
べてを包含する。上記方法によって得られるポリカーボ
ネート溶液から単に溶剤を除去して得られるポリカーボ
ネート中には、通常化合物（１）（「ＰＢ」と表する場
合有り）又は（２）（「ＰＢＰ」と表する場合有り）が
数％程度含有されている。また、該ポリカーボネート溶
液をアルカリ水溶液や純水で洗浄してから溶剤を除去し
たものでも、化合物（１）又は（２）は約０．５〜１．
５重量％含有されている。
【０００８】これらいずれのものも本発明方法には不適
当である。従って、例えば、従来公知の溶液法によって
得られるポリカーボネートを、その固形化段階あるい
は、精製段階において、ポリカーボネートを溶解しない
が、式（１）又は（２）で表わされる化合物を溶解する
溶剤（以下非溶剤という）で処理するなどの工程を必要
とする。
当である。従って、例えば、従来公知の溶液法によって
得られるポリカーボネートを、その固形化段階あるい
は、精製段階において、ポリカーボネートを溶解しない
が、式（１）又は（２）で表わされる化合物を溶解する
溶剤（以下非溶剤という）で処理するなどの工程を必要
とする。
【０００９】ポリカーボネート中の式（１）又は式
（２）で表わされる化合物（「ＰＢ」「ＰＢＰ」）を減
少させる方法としては一般的に次のような方法がある。 約６〜３２重量％のポリカーボネートを含有する塩
化メチレン溶液に、その約１／２〜２倍容量の脂肪族炭
化水素、脂肪族アルコール、脂肪族ケトン、脂肪族エス
テル、脂肪族エーテル等を添加して生ずるポリマーの沈
没を濾別するものであって、一般式（１）又は（２）で
表わされる化合物は濾液に溶解した状態で分離される。
（２）で表わされる化合物（「ＰＢ」「ＰＢＰ」）を減
少させる方法としては一般的に次のような方法がある。 約６〜３２重量％のポリカーボネートを含有する塩
化メチレン溶液に、その約１／２〜２倍容量の脂肪族炭
化水素、脂肪族アルコール、脂肪族ケトン、脂肪族エス
テル、脂肪族エーテル等を添加して生ずるポリマーの沈
没を濾別するものであって、一般式（１）又は（２）で
表わされる化合物は濾液に溶解した状態で分離される。
【００１０】 個体のポリカーボネートをその約３〜
１２倍容量の芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、塩素化
脂肪族炭化水素、脂肪族ケトン、これらの非溶剤と塩化
メチレンとの混合溶剤等を用いて抽出するものであっ
て、一般式（１）又は（２）で表わされる化合物は非溶
剤に溶解した状態で抽出分離される。
１２倍容量の芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、塩素化
脂肪族炭化水素、脂肪族ケトン、これらの非溶剤と塩化
メチレンとの混合溶剤等を用いて抽出するものであっ
て、一般式（１）又は（２）で表わされる化合物は非溶
剤に溶解した状態で抽出分離される。
【００１１】採用する方法、装置、条件等によって、使
用に適する非溶剤の種類および使用量が変わるがそれは
若干の予備テストによって容易に決めることができる。
最も重要なことは、得られるポリカーボネート中におけ
る化合物（１）又は（２）の含有量が０．２重量％以
下、好ましくは０．０１〜０．２重量％の範囲になるこ
とであって、その他に、作業性、経済性等が考慮され
る。上記化合物（１）又は（２）が上限より多いと射出
成形等による光学成形品の連続成形時の複屈折のずれを
抑制する効果が低下するので好ましくない。
用に適する非溶剤の種類および使用量が変わるがそれは
若干の予備テストによって容易に決めることができる。
最も重要なことは、得られるポリカーボネート中におけ
る化合物（１）又は（２）の含有量が０．２重量％以
下、好ましくは０．０１〜０．２重量％の範囲になるこ
とであって、その他に、作業性、経済性等が考慮され
る。上記化合物（１）又は（２）が上限より多いと射出
成形等による光学成形品の連続成形時の複屈折のずれを
抑制する効果が低下するので好ましくない。
【００１２】
【実施例】以下に実施例を示して本発明を更に説明する
が、本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限
定されるものではない。 実施例１ ビスフェノールＡとホスゲンを塩化メチレン溶液中で重
縮合反応してポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量１
４９００）を得た。得られたポリカーボネート樹脂を分
析したところ不純物として「ＰＢ」が０．３重量％、
「ＰＢＰ」が０．３重量％含有されていた。この不純物
を含有したポリカーボネート１ｋｇ当り、塩化メチレン
５リットルを加えて溶解し、次いでアセトン５リットル
を加え２０℃で２時間撹拌し、次いで減圧濾過し、更に
減圧乾燥して不純物を取り除いた。
が、本発明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限
定されるものではない。 実施例１ ビスフェノールＡとホスゲンを塩化メチレン溶液中で重
縮合反応してポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量１
４９００）を得た。得られたポリカーボネート樹脂を分
析したところ不純物として「ＰＢ」が０．３重量％、
「ＰＢＰ」が０．３重量％含有されていた。この不純物
を含有したポリカーボネート１ｋｇ当り、塩化メチレン
５リットルを加えて溶解し、次いでアセトン５リットル
を加え２０℃で２時間撹拌し、次いで減圧濾過し、更に
減圧乾燥して不純物を取り除いた。
【００１３】得られた精製ポリカーボネートを分析した
ところ「ＰＢ」は０．０６重量％、「ＰＢＰ」は０．０
７重量％に減少していた。この精製ポリカーボネートを
用い、光ディスク基板成形用射出成形装置により、円盤
状基板（直径１３０ｍｍ、板厚１．２ｍｍ）を成形し
た。金型温度は１１０℃、型締め圧を３００ｋｇ／ｃｍ
2 とし、射出後の冷却中もその圧力に保持した。冷却後
金型を常圧にもどし、金型を用いて基板を取り出した。
得られた基板は、トラッキング溝、ピット等のスタンパ
ーからの転写性は良好であった。
ところ「ＰＢ」は０．０６重量％、「ＰＢＰ」は０．０
７重量％に減少していた。この精製ポリカーボネートを
用い、光ディスク基板成形用射出成形装置により、円盤
状基板（直径１３０ｍｍ、板厚１．２ｍｍ）を成形し
た。金型温度は１１０℃、型締め圧を３００ｋｇ／ｃｍ
2 とし、射出後の冷却中もその圧力に保持した。冷却後
金型を常圧にもどし、金型を用いて基板を取り出した。
得られた基板は、トラッキング溝、ピット等のスタンパ
ーからの転写性は良好であった。
【００１４】基板の複屈折を測定したところ１５ｎｍと
大変良好であった（半径３０ｍｍの位置）。複屈折の測
定はＨｅ−Ｎｅレーザー（波長６３３ｎｍ）を光源とし
た直線偏光を基板に入射し、透過光の楕円偏光状態を回
転検光子により解析することにより測定した。なお複屈
折値は、レターデーション（シングルパス）で表わし
た。
大変良好であった（半径３０ｍｍの位置）。複屈折の測
定はＨｅ−Ｎｅレーザー（波長６３３ｎｍ）を光源とし
た直線偏光を基板に入射し、透過光の楕円偏光状態を回
転検光子により解析することにより測定した。なお複屈
折値は、レターデーション（シングルパス）で表わし
た。
【００１５】比較例１ 実施例１で用いた精製前のポリカーボネートをそのまま
用い、実施例１と同様にして円盤状基板を成形した。得
られた基板の複屈折を測定したところ−５０ｎｍ以下で
あり、実用上問題が残った。
用い、実施例１と同様にして円盤状基板を成形した。得
られた基板の複屈折を測定したところ−５０ｎｍ以下で
あり、実用上問題が残った。
【００１６】
【発明の効果】本発明の光学成形品用ポリカーボネート
は「ＰＢ」「ＰＢＰ」の含有量が極めて少ないので得ら
れた成形品の複屈折が小さく、光学的に均質な成形品が
得られる。
は「ＰＢ」「ＰＢＰ」の含有量が極めて少ないので得ら
れた成形品の複屈折が小さく、光学的に均質な成形品が
得られる。
Claims (1)
- 【請求項１】 下記式（１）又は（２）で表わされる化
合物の含有率が０．２重量％以下である、光学成形品用
ポリカーボネート 【化１】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6143252A JPH083304A (ja) | 1994-06-24 | 1994-06-24 | 光学成形品用ポリカーボネート |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6143252A JPH083304A (ja) | 1994-06-24 | 1994-06-24 | 光学成形品用ポリカーボネート |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH083304A true JPH083304A (ja) | 1996-01-09 |
Family
ID=15334430
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6143252A Pending JPH083304A (ja) | 1994-06-24 | 1994-06-24 | 光学成形品用ポリカーボネート |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH083304A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000159879A (ja) * | 1998-11-24 | 2000-06-13 | Mitsubishi Chemicals Corp | 芳香族ポリカーボネート |
| JP2002348456A (ja) * | 2001-05-28 | 2002-12-04 | Ge Plastics Japan Ltd | 光学用ポリカーボネートおよびその用途 |
| EP1304358A3 (en) * | 2001-10-22 | 2003-09-24 | Mitsubishi Chemical Corporation | Polycarbonate composition, write once read many optical disc substrate and write once read many optical disc using the same and process for production of write once read many optical disc |
| JP2006290759A (ja) * | 2005-04-07 | 2006-10-26 | Chisso Corp | カーボネート結合基を有する液晶性化合物、この化合物を含有する液晶組成物およびこの液晶組成物を含有する液晶表示素子 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63278929A (ja) * | 1987-05-12 | 1988-11-16 | Teijin Chem Ltd | 光学用成形品の製造方法 |
| JPH01242621A (ja) * | 1988-03-23 | 1989-09-27 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 精製されたポリカーボネート樹脂の製造法 |
-
1994
- 1994-06-24 JP JP6143252A patent/JPH083304A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63278929A (ja) * | 1987-05-12 | 1988-11-16 | Teijin Chem Ltd | 光学用成形品の製造方法 |
| JPH01242621A (ja) * | 1988-03-23 | 1989-09-27 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 精製されたポリカーボネート樹脂の製造法 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000159879A (ja) * | 1998-11-24 | 2000-06-13 | Mitsubishi Chemicals Corp | 芳香族ポリカーボネート |
| JP2002348456A (ja) * | 2001-05-28 | 2002-12-04 | Ge Plastics Japan Ltd | 光学用ポリカーボネートおよびその用途 |
| WO2002096973A1 (en) * | 2001-05-28 | 2002-12-05 | General Electric Company | Optical polycarbonate and applications thereof |
| US6790927B2 (en) | 2001-05-28 | 2004-09-14 | General Electric Company | Optical polycarbonate and applications thereof |
| EP1304358A3 (en) * | 2001-10-22 | 2003-09-24 | Mitsubishi Chemical Corporation | Polycarbonate composition, write once read many optical disc substrate and write once read many optical disc using the same and process for production of write once read many optical disc |
| JP2006290759A (ja) * | 2005-04-07 | 2006-10-26 | Chisso Corp | カーボネート結合基を有する液晶性化合物、この化合物を含有する液晶組成物およびこの液晶組成物を含有する液晶表示素子 |
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