JPH08332728A - インク噴射型プリンタ用ヘッド - Google Patents
インク噴射型プリンタ用ヘッドInfo
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- JPH08332728A JPH08332728A JP7142227A JP14222795A JPH08332728A JP H08332728 A JPH08332728 A JP H08332728A JP 7142227 A JP7142227 A JP 7142227A JP 14222795 A JP14222795 A JP 14222795A JP H08332728 A JPH08332728 A JP H08332728A
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- ink
- electrodes
- insulating substrate
- insulating film
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- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 印字品質の劣化がなく、高速印字が可能な通
電加熱方式のインク噴射型プリンタ用ヘッドを実現す
る。 【構成】 インク室1内の絶縁基板7上に一対の対向す
る電極3を有し、電極3間に電圧を印加して沸騰気泡を
発生させ、インク室に連通するノズル孔2からインク滴
を噴射する通電加熱方式のインク噴射型プリンタ用ヘッ
ドにおいて、電極3の近傍の絶縁基板7の表面に、この
絶縁基板7よりインクに対する接触角の大きい絶縁膜4
aを積層する。接触角を大きくすると絶縁膜4aとインク
との接着仕事を減らし、インクの移動が容易になって、
高速印字が可能となる。
電加熱方式のインク噴射型プリンタ用ヘッドを実現す
る。 【構成】 インク室1内の絶縁基板7上に一対の対向す
る電極3を有し、電極3間に電圧を印加して沸騰気泡を
発生させ、インク室に連通するノズル孔2からインク滴
を噴射する通電加熱方式のインク噴射型プリンタ用ヘッ
ドにおいて、電極3の近傍の絶縁基板7の表面に、この
絶縁基板7よりインクに対する接触角の大きい絶縁膜4
aを積層する。接触角を大きくすると絶縁膜4aとインク
との接着仕事を減らし、インクの移動が容易になって、
高速印字が可能となる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、インク滴を噴射させて
記録媒体に印字するインク噴射型プリンタ用ヘッド、特
に、インク室内に設けた一対の対向電極間に電圧を印加
して沸騰気泡を発生させ、ノズル孔からインク滴を噴射
する通電加熱方式のインク噴射型プリンタ用ヘッドに関
するものである。
記録媒体に印字するインク噴射型プリンタ用ヘッド、特
に、インク室内に設けた一対の対向電極間に電圧を印加
して沸騰気泡を発生させ、ノズル孔からインク滴を噴射
する通電加熱方式のインク噴射型プリンタ用ヘッドに関
するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、コンピュータの高性能化、小型
化、低価格化に伴い、プリンタもコンピュータと同様な
品質が求められ、従来使われていたドットプリンタから
レーザプリンタ、インク噴射型プリンタへと印字方式が
切り換えられようとしている。
化、低価格化に伴い、プリンタもコンピュータと同様な
品質が求められ、従来使われていたドットプリンタから
レーザプリンタ、インク噴射型プリンタへと印字方式が
切り換えられようとしている。
【0003】インク噴射型プリンタ方式としては、ピエ
ゾ圧電素子の変形によりインクを押し出すタイプ、ヒー
タを加熱してインクを沸騰させインクを吐出するタイ
プ、および導電性を有するインクに通電して自己発熱に
よる沸騰によりインクを吐出するタイプ等がある。
ゾ圧電素子の変形によりインクを押し出すタイプ、ヒー
タを加熱してインクを沸騰させインクを吐出するタイ
プ、および導電性を有するインクに通電して自己発熱に
よる沸騰によりインクを吐出するタイプ等がある。
【0004】以下に、従来の通電加熱方式によるインク
噴射型プリンタ用ヘッドについて図4を参照して説明す
る。図4において、1はインク室、2はインク室1に連
通するノズル孔、3はインク室1の底部を構成する絶縁
基板7の上に配設された一対の対向電極、5はインク室
1の外壁を構成する樹脂シート、6は、絶縁基板7と樹
脂シート5との間に介在し、図4(b)[図4(a)のX−X
断面図]に示したように、電極3の対向部を囲むように
形成された絶縁層、8は配線10を介して電極3と接続さ
れた制御部、9は制御部8の電源である。また、11は記
録媒体としてのプリンタ用紙、12はインク室1に充填さ
れたインク、13はノズル孔2から吐出されたインク滴、
14はインク滴13がプリンタ用紙11に付着して形成された
印字である。さらに、15は一対の電極3間に電圧を印加
して発生させた沸騰気泡を表わしている。
噴射型プリンタ用ヘッドについて図4を参照して説明す
る。図4において、1はインク室、2はインク室1に連
通するノズル孔、3はインク室1の底部を構成する絶縁
基板7の上に配設された一対の対向電極、5はインク室
1の外壁を構成する樹脂シート、6は、絶縁基板7と樹
脂シート5との間に介在し、図4(b)[図4(a)のX−X
断面図]に示したように、電極3の対向部を囲むように
形成された絶縁層、8は配線10を介して電極3と接続さ
れた制御部、9は制御部8の電源である。また、11は記
録媒体としてのプリンタ用紙、12はインク室1に充填さ
れたインク、13はノズル孔2から吐出されたインク滴、
14はインク滴13がプリンタ用紙11に付着して形成された
印字である。さらに、15は一対の電極3間に電圧を印加
して発生させた沸騰気泡を表わしている。
【0005】以上のように構成された従来例について、
以下その動作を説明する。まず、図5は、インク吐出時
に電極3に印加する電圧波形を示したものである。電源
9から制御部8を通じて、ドットを吐出する間隔である
印字周期を周波数5kHzの間隔、また、交互電圧通電の
頻度である電圧変化周期を周波数3MHzの間隔で交互
電圧を電極3間に印加する。印字周期はインク沸騰が発
生するのに必要な最大時間より長く設定され、電圧変化
周期は印字品質である分解能に応じたインクドットの飛
翔頻度に一致するように決定されている。
以下その動作を説明する。まず、図5は、インク吐出時
に電極3に印加する電圧波形を示したものである。電源
9から制御部8を通じて、ドットを吐出する間隔である
印字周期を周波数5kHzの間隔、また、交互電圧通電の
頻度である電圧変化周期を周波数3MHzの間隔で交互
電圧を電極3間に印加する。印字周期はインク沸騰が発
生するのに必要な最大時間より長く設定され、電圧変化
周期は印字品質である分解能に応じたインクドットの飛
翔頻度に一致するように決定されている。
【0006】電圧が電極3間に印加されると、インク12
中に電流が流れ、インクの電解質が振動運動を行い、ジ
ュール熱が発生し、インク12が加熱される。インク12が
加熱されると、インク12中に沸騰が起こり、電極3,3
の間に沸騰気泡15が形成される。さらに、この沸騰気泡
15が膨張するにつれて、インク室1内に充填されたイン
ク12が押し上げられ、ノズル孔2からインク滴13となっ
て吐出され、プリンタ用紙11に向かって飛翔し、このイ
ンク滴13がプリンタ用紙11に付着することによって印字
14となる。
中に電流が流れ、インクの電解質が振動運動を行い、ジ
ュール熱が発生し、インク12が加熱される。インク12が
加熱されると、インク12中に沸騰が起こり、電極3,3
の間に沸騰気泡15が形成される。さらに、この沸騰気泡
15が膨張するにつれて、インク室1内に充填されたイン
ク12が押し上げられ、ノズル孔2からインク滴13となっ
て吐出され、プリンタ用紙11に向かって飛翔し、このイ
ンク滴13がプリンタ用紙11に付着することによって印字
14となる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来構
成のものでは、印字周波数を5kHzより上げて高速印字
を行わせようとすると、顕著な印字品質の劣化が生じ
る。印字周波数5kHzでは、印字信号は200μs毎に与
えられ、印字信号に同期して、図5に示すような25Vの
交互電圧を電極間に40μs間印加する。沸騰気泡の膨張
収縮は約40μs以内で終了する。沸騰気泡の収縮から次
の印字信号の入力まで最低約120μsの間隔がある。高速
印字のため印字周波数を上げて10kHzにすると、次の印
字信号の入力までの時間は短くなり、最低約20μsとな
る。
成のものでは、印字周波数を5kHzより上げて高速印字
を行わせようとすると、顕著な印字品質の劣化が生じ
る。印字周波数5kHzでは、印字信号は200μs毎に与
えられ、印字信号に同期して、図5に示すような25Vの
交互電圧を電極間に40μs間印加する。沸騰気泡の膨張
収縮は約40μs以内で終了する。沸騰気泡の収縮から次
の印字信号の入力まで最低約120μsの間隔がある。高速
印字のため印字周波数を上げて10kHzにすると、次の印
字信号の入力までの時間は短くなり、最低約20μsとな
る。
【0008】沸騰気泡の収縮を高速度カメラを用いて観
察した結果、沸騰気泡は気泡頂部からつぶれていくが、
微細な気泡が残存する。10kHzの高速印字では、沸騰気
泡の未収縮気泡が次の沸騰時に電極間に残存する場合が
あり、このときの沸騰が異常となる様子が明らかになっ
た。即ち、前記従来構成のインク噴射型プリンタ用ヘッ
ドでは、沸騰気泡の未収縮気泡による沸騰異常で、高速
印字が達成困難である。
察した結果、沸騰気泡は気泡頂部からつぶれていくが、
微細な気泡が残存する。10kHzの高速印字では、沸騰気
泡の未収縮気泡が次の沸騰時に電極間に残存する場合が
あり、このときの沸騰が異常となる様子が明らかになっ
た。即ち、前記従来構成のインク噴射型プリンタ用ヘッ
ドでは、沸騰気泡の未収縮気泡による沸騰異常で、高速
印字が達成困難である。
【0009】本発明は、上記従来の問題点を解決するも
ので、印字品質の劣化がなく、高速印字が可能な通電加
熱方式のインク噴射型プリンタ用ヘッドを提供すること
を目的とする。
ので、印字品質の劣化がなく、高速印字が可能な通電加
熱方式のインク噴射型プリンタ用ヘッドを提供すること
を目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、インク室1内の絶縁基板7上に一対の対
向する電極3を有し、前記電極3間に電圧を印加して沸
騰気泡15を発生させ、前記インク室に連通するノズル孔
2からインク滴13を噴射する通電加熱方式のインク噴射
型プリンタ用ヘッドにおいて、 (1) 図1に示したように、前記電極3の近傍の前記絶縁
基板7の表面に、この絶縁基板よりインクに対する接触
角の大きい絶縁膜4aを積層した構成とする。
に、本発明は、インク室1内の絶縁基板7上に一対の対
向する電極3を有し、前記電極3間に電圧を印加して沸
騰気泡15を発生させ、前記インク室に連通するノズル孔
2からインク滴13を噴射する通電加熱方式のインク噴射
型プリンタ用ヘッドにおいて、 (1) 図1に示したように、前記電極3の近傍の前記絶縁
基板7の表面に、この絶縁基板よりインクに対する接触
角の大きい絶縁膜4aを積層した構成とする。
【0011】(2) また、図2に示したように、前記電極
3の近傍の前記絶縁基板7の表面に、電極3の表面との
段差を埋めるように絶縁膜4bを積層した構成とする。
3の近傍の前記絶縁基板7の表面に、電極3の表面との
段差を埋めるように絶縁膜4bを積層した構成とする。
【0012】(3) 前記(2)の構成において、図3に示し
たように、絶縁膜は少なくともその表面層が、絶縁基板
7よりインクに対する接触角の大きい絶縁膜4aからな
る構成とする。
たように、絶縁膜は少なくともその表面層が、絶縁基板
7よりインクに対する接触角の大きい絶縁膜4aからな
る構成とする。
【0013】(4) さらに、前記(1)または(3)の構成にお
いて、絶縁膜4aの表面粗さが、Ra(中心線平均粗さ)で
略0.005μm以下である構成とする。
いて、絶縁膜4aの表面粗さが、Ra(中心線平均粗さ)で
略0.005μm以下である構成とする。
【0014】(5) また、電極近傍の絶縁基板7の表面
が、純水に対する接触角が略60°以上で、かつ表面粗さ
が、Raで略0.005μm以下である構成とするものであ
る。
が、純水に対する接触角が略60°以上で、かつ表面粗さ
が、Raで略0.005μm以下である構成とするものであ
る。
【0015】
【作用】沸騰気泡15の膨張収縮は、気体・液体界面およ
び気体・固体界面の形成と消滅を伴う。ここで、気体は
水蒸気等の蒸気で構成される沸騰気泡15、液体はインク
12、固体は絶縁基板7や電極3や絶縁膜4a,4bであ
る。沸騰気泡15の膨張収縮時にはインク12はかなりの温
度変化と圧力変化を伴うため、この状態変化が起泡力と
なり、インク中の溶存空気の気泡が形成される。空気の
気泡が沸騰気泡15に合成されること、同時に、インク中
の溶存空気が直接沸騰気泡中に拡散することにより、沸
騰気泡15を構成する気体成分には蒸気成分以外に空気成
分が含有される。気泡収縮時には、蒸気成分は液体に戻
るが、僅かな空気成分は残存し、沸騰気泡の未収縮気泡
が電極3間に残る。沸騰気泡の膨張により、インク12は
ノズル孔2から吐出され、沸騰気泡の収縮と同時にノズ
ル孔とインクが形成するメニスカスが圧力差により伸長
する。メニスカスはその後表面張力により静的な状態に
戻るが、この作用によりインクはインク流路(図示せず)
から供給され、元のようにインク室1内にインク12が充
填される。インク供給時のインクの流体移動に伴い、電
極3間に残存する沸騰気泡の未収縮気泡は電極間から移
動し、空気成分がインク中に拡散することで、一定時間
後消滅する。
び気体・固体界面の形成と消滅を伴う。ここで、気体は
水蒸気等の蒸気で構成される沸騰気泡15、液体はインク
12、固体は絶縁基板7や電極3や絶縁膜4a,4bであ
る。沸騰気泡15の膨張収縮時にはインク12はかなりの温
度変化と圧力変化を伴うため、この状態変化が起泡力と
なり、インク中の溶存空気の気泡が形成される。空気の
気泡が沸騰気泡15に合成されること、同時に、インク中
の溶存空気が直接沸騰気泡中に拡散することにより、沸
騰気泡15を構成する気体成分には蒸気成分以外に空気成
分が含有される。気泡収縮時には、蒸気成分は液体に戻
るが、僅かな空気成分は残存し、沸騰気泡の未収縮気泡
が電極3間に残る。沸騰気泡の膨張により、インク12は
ノズル孔2から吐出され、沸騰気泡の収縮と同時にノズ
ル孔とインクが形成するメニスカスが圧力差により伸長
する。メニスカスはその後表面張力により静的な状態に
戻るが、この作用によりインクはインク流路(図示せず)
から供給され、元のようにインク室1内にインク12が充
填される。インク供給時のインクの流体移動に伴い、電
極3間に残存する沸騰気泡の未収縮気泡は電極間から移
動し、空気成分がインク中に拡散することで、一定時間
後消滅する。
【0016】そこで、上記(1)の構成によれば、電極3
近傍の絶縁基板7の表面に、その絶縁基板よりインク12
に対する接触角の大きい絶縁膜4aを積層することによ
り、インクとの接着仕事を減らすことができる。接着仕
事Wは、絶縁基板のインクに対する接触角をθ、インク
の表面張力をγとすると、W=γ(1+cosθ)である。
電極間に残留する沸騰気泡の未収縮気泡をインク供給の
際のインクの流れで電極近傍から移動させる場合、気泡
と基板が形成する気体・固体界面およびインクと基板が
形成する液体・固体界面の移動が必要である。液体・固
体界面を消失させて新たに液体表面と固体表面を形成す
るのに必要な仕事が接着仕事Wである。接着仕事Wを小
さくすることにより、電極近傍の絶縁基板上に形成され
る沸騰気泡の未収縮気泡の移動が容易になり、インク供
給の際のインクの流れにより未収縮気泡が電極間から排
出され易くなる。
近傍の絶縁基板7の表面に、その絶縁基板よりインク12
に対する接触角の大きい絶縁膜4aを積層することによ
り、インクとの接着仕事を減らすことができる。接着仕
事Wは、絶縁基板のインクに対する接触角をθ、インク
の表面張力をγとすると、W=γ(1+cosθ)である。
電極間に残留する沸騰気泡の未収縮気泡をインク供給の
際のインクの流れで電極近傍から移動させる場合、気泡
と基板が形成する気体・固体界面およびインクと基板が
形成する液体・固体界面の移動が必要である。液体・固
体界面を消失させて新たに液体表面と固体表面を形成す
るのに必要な仕事が接着仕事Wである。接着仕事Wを小
さくすることにより、電極近傍の絶縁基板上に形成され
る沸騰気泡の未収縮気泡の移動が容易になり、インク供
給の際のインクの流れにより未収縮気泡が電極間から排
出され易くなる。
【0017】また、上記(2)の構成によれば、電極3と
絶縁基板7が形成する段差がなくなることにより、沸騰
気泡15の未収縮気泡が残留する電極3近傍でのインク12
の流れがよくなり、インク供給の際のインク12の流れに
より未収縮気泡が電極3間から排出され易くなる。
絶縁基板7が形成する段差がなくなることにより、沸騰
気泡15の未収縮気泡が残留する電極3近傍でのインク12
の流れがよくなり、インク供給の際のインク12の流れに
より未収縮気泡が電極3間から排出され易くなる。
【0018】また、上記(3)の構成によれば、(1)の構成
と(2)の構成の両作用により、インク供給の際のインク1
2の流れによる沸騰気泡15の未収縮気泡の電極3からの
排出をさらに促進することができる。
と(2)の構成の両作用により、インク供給の際のインク1
2の流れによる沸騰気泡15の未収縮気泡の電極3からの
排出をさらに促進することができる。
【0019】さらに、上記(4)および(5)の構成によれ
ば、インク12と接する面のインク12に対する接触角を大
きくした場合、構造上の段差や表面粗さ等の凹凸に沸騰
気泡15の未収縮気泡がとらわれ、インク供給の際のイン
ク12の流れにより未収縮気泡が電極3間から排出されに
くくなることを防止する。
ば、インク12と接する面のインク12に対する接触角を大
きくした場合、構造上の段差や表面粗さ等の凹凸に沸騰
気泡15の未収縮気泡がとらわれ、インク供給の際のイン
ク12の流れにより未収縮気泡が電極3間から排出されに
くくなることを防止する。
【0020】
【実施例】以下、具体的実施例について詳細に説明す
る。 (第1の実施例)図1に示す構造を有する。ガラスより
なる絶縁基板7上にスパッタリング成膜法によりTiを
膜厚2μm形成した後、フォトリソグラフィ法により電
極以外の部分をケミカルエッチングにより除去して電極
3のパターンを形成する。電極3の先端寸法は、電極幅
が30μm、電極間隔4μmである。
る。 (第1の実施例)図1に示す構造を有する。ガラスより
なる絶縁基板7上にスパッタリング成膜法によりTiを
膜厚2μm形成した後、フォトリソグラフィ法により電
極以外の部分をケミカルエッチングにより除去して電極
3のパターンを形成する。電極3の先端寸法は、電極幅
が30μm、電極間隔4μmである。
【0021】次に、ネガの感光性ポリイミドをスピンコ
ートを用いて膜厚0.5μm成膜し、電極パターン形成に使
用したマスクと先端形状の同じマスクを用いてフォトリ
ソグラフィ法によりネガの感光性ポリイミドを感光し、
現像することで、電極3上のポリイミドのみを除去す
る。窒素雰囲気中で400℃の熱処理を30分間行い、電極
3近傍の絶縁基板7の表面を全て覆う絶縁膜4aを形成
する。
ートを用いて膜厚0.5μm成膜し、電極パターン形成に使
用したマスクと先端形状の同じマスクを用いてフォトリ
ソグラフィ法によりネガの感光性ポリイミドを感光し、
現像することで、電極3上のポリイミドのみを除去す
る。窒素雰囲気中で400℃の熱処理を30分間行い、電極
3近傍の絶縁基板7の表面を全て覆う絶縁膜4aを形成
する。
【0022】さらに、感光性ポリイミドをスピンコート
を用いて膜厚3μm成膜し、フォトリソグラフィ法によ
り、感光性ポリイミドを感光した後、現像することで電
極3の先端がインク室1に露出する70μm角の窓以外の
部分にポリイミドを残す。窒素雰囲気中で400℃の熱処
理を30分間行い硬化して、図1(b)[図1(a)のA−A断
面図]に示すように絶縁層6を形成する。この電極3、
絶縁膜4a、絶縁層6を形成した絶縁基板7上に、エキ
シマレーザ加工機によりノズル孔2を形成した樹脂シー
ト5を、ノズル孔2が電極3の中心部に位置するように
して接着する。
を用いて膜厚3μm成膜し、フォトリソグラフィ法によ
り、感光性ポリイミドを感光した後、現像することで電
極3の先端がインク室1に露出する70μm角の窓以外の
部分にポリイミドを残す。窒素雰囲気中で400℃の熱処
理を30分間行い硬化して、図1(b)[図1(a)のA−A断
面図]に示すように絶縁層6を形成する。この電極3、
絶縁膜4a、絶縁層6を形成した絶縁基板7上に、エキ
シマレーザ加工機によりノズル孔2を形成した樹脂シー
ト5を、ノズル孔2が電極3の中心部に位置するように
して接着する。
【0023】ここでは、絶縁基板7よりインク12に対す
る接触角の大きい絶縁膜4aとして、パターンの形成が
容易な感光性ポリイミドを使用した。絶縁基板7のガラ
スは、純水に対する接触角θが約10°、ポリイミド膜で
約60°である。
る接触角の大きい絶縁膜4aとして、パターンの形成が
容易な感光性ポリイミドを使用した。絶縁基板7のガラ
スは、純水に対する接触角θが約10°、ポリイミド膜で
約60°である。
【0024】(第2の実施例)構造は第1の実施例と同
様に図1で示される。ここでは、絶縁膜4aとして、撥
水性を有する有機系被膜として一般的に使用されるフッ
素含有アミノシラン化合物を用いた。この絶縁膜の純水
に対する接触角θは約110°である。形成方法は、電極
3近傍の絶縁膜4aを形成する面以外の部分にレジスト
パターンを形成し、撥水性を有する絶縁膜を0.01μm蒸
着する。次に、リフトオフ法によりレジストパターンと
共にその上の絶縁膜を除去し、電極3近傍の絶縁基板7
上のみに撥水性の絶縁膜4aを形成する。
様に図1で示される。ここでは、絶縁膜4aとして、撥
水性を有する有機系被膜として一般的に使用されるフッ
素含有アミノシラン化合物を用いた。この絶縁膜の純水
に対する接触角θは約110°である。形成方法は、電極
3近傍の絶縁膜4aを形成する面以外の部分にレジスト
パターンを形成し、撥水性を有する絶縁膜を0.01μm蒸
着する。次に、リフトオフ法によりレジストパターンと
共にその上の絶縁膜を除去し、電極3近傍の絶縁基板7
上のみに撥水性の絶縁膜4aを形成する。
【0025】(第3の実施例)図2の構造を有する。絶
縁基板7上に電極3を形成した後、ネガの感光性ポリイ
ミドをスピンコートを用いて膜厚1.8μm成膜し、電極パ
ターン形成に使用したマスクと先端形状の同じマスクを
用いてフォトリソグラフィ法によりネガの感光性ポリイ
ミドを感光し、現像することで、電極3上のポリイミド
のみを除去する。窒素雰囲気中で400℃の熱処理を30分
間行い、電極3近傍の絶縁基板7の表面を全て覆う絶縁
膜4bを形成する。以下、第1の実施例と同様に、感光
性ポリイミドを用いた絶縁層6を形成し、さらにノズル
孔2を有する樹脂シート5の貼り付けを行う。
縁基板7上に電極3を形成した後、ネガの感光性ポリイ
ミドをスピンコートを用いて膜厚1.8μm成膜し、電極パ
ターン形成に使用したマスクと先端形状の同じマスクを
用いてフォトリソグラフィ法によりネガの感光性ポリイ
ミドを感光し、現像することで、電極3上のポリイミド
のみを除去する。窒素雰囲気中で400℃の熱処理を30分
間行い、電極3近傍の絶縁基板7の表面を全て覆う絶縁
膜4bを形成する。以下、第1の実施例と同様に、感光
性ポリイミドを用いた絶縁層6を形成し、さらにノズル
孔2を有する樹脂シート5の貼り付けを行う。
【0026】(第4の実施例)図3の構造を有する。こ
こでは、電極3近傍の絶縁基板7の表面に絶縁膜4bを
形成した後、その表面層に絶縁基板7よりインクに対す
る接触角の大きい絶縁膜4aを積層したものである。ま
ず、絶縁基板7上に電極3を形成した後、ネガの感光性
ポリイミドをスピンコートを用いて膜厚1.8μm成膜し、
電極パターン形成に使用したマスクと先端形状の同じマ
スクを用いてフォトリソグラフィ法によりネガの感光性
ポリイミドを感光し、現像することで、電極3上のポリ
イミドのみを除去する。窒素雰囲気中で400℃の熱処理
を30分間行い、電極3近傍の絶縁基板7の表面を全て覆
う絶縁膜4bを形成する。次に、絶縁膜4b以外の部分に
レジストパターンを形成し、蒸着により接着力改善のた
めのSiO2膜を0.05μm成膜し、さらにその上に撥水性
を有する被膜を0.01μm成膜する。そして、リフトオフ
法によりレジストパターンと共にその上のSiO2膜およ
び撥水性の被膜を除去し、絶縁膜4aを形成する。以
下、第1の実施例と同様の工程を採る。
こでは、電極3近傍の絶縁基板7の表面に絶縁膜4bを
形成した後、その表面層に絶縁基板7よりインクに対す
る接触角の大きい絶縁膜4aを積層したものである。ま
ず、絶縁基板7上に電極3を形成した後、ネガの感光性
ポリイミドをスピンコートを用いて膜厚1.8μm成膜し、
電極パターン形成に使用したマスクと先端形状の同じマ
スクを用いてフォトリソグラフィ法によりネガの感光性
ポリイミドを感光し、現像することで、電極3上のポリ
イミドのみを除去する。窒素雰囲気中で400℃の熱処理
を30分間行い、電極3近傍の絶縁基板7の表面を全て覆
う絶縁膜4bを形成する。次に、絶縁膜4b以外の部分に
レジストパターンを形成し、蒸着により接着力改善のた
めのSiO2膜を0.05μm成膜し、さらにその上に撥水性
を有する被膜を0.01μm成膜する。そして、リフトオフ
法によりレジストパターンと共にその上のSiO2膜およ
び撥水性の被膜を除去し、絶縁膜4aを形成する。以
下、第1の実施例と同様の工程を採る。
【0027】(比較例)本発明による上記第1ないし第
4の実施例の優位性を確認するため、図4に示す構成を
比較例とした。即ち、第1の実施例のうち、電極3近傍
の絶縁基板7の表面を覆う絶縁膜4aの形成を行わず、
基板表面を露出したままとしたものである。
4の実施例の優位性を確認するため、図4に示す構成を
比較例とした。即ち、第1の実施例のうち、電極3近傍
の絶縁基板7の表面を覆う絶縁膜4aの形成を行わず、
基板表面を露出したままとしたものである。
【0028】(比較例と実施例との特性比較)第1ない
し第4の実施例および比較例について、電極3間に通電
したときの電流波形の乱れ発生率を測定した。図5に示
す電圧が電極3間に印加されると、電極3間に流れる電
流は図6(a)に示したように変化する。即ち、電圧印加
後から沸騰開始までの状態1では、図6(b)に示したよ
うに、導電性インクに電流が流れ、インクがジュール熱
により発熱することでインクの温度が上昇する。導電性
インクは温度が上昇するに従い、電解質の電離量が促進
され、電気抵抗が減少する。このため、電極3間に一定
電圧を印加すると、インクは加熱され、通電電流は一様
に増加する。電極3間のインクが十分加熱され、電極3
間に気泡核が発生して膨張を開始(沸騰開始)すると、電
極3間の通電電流は図6(a)に示す状態2となる。状態
2では、図6(c)に示したように、電極3間に沸騰気泡1
5が形成され、通電電流は沸騰気泡15によりほとんど流
れなくなる。
し第4の実施例および比較例について、電極3間に通電
したときの電流波形の乱れ発生率を測定した。図5に示
す電圧が電極3間に印加されると、電極3間に流れる電
流は図6(a)に示したように変化する。即ち、電圧印加
後から沸騰開始までの状態1では、図6(b)に示したよ
うに、導電性インクに電流が流れ、インクがジュール熱
により発熱することでインクの温度が上昇する。導電性
インクは温度が上昇するに従い、電解質の電離量が促進
され、電気抵抗が減少する。このため、電極3間に一定
電圧を印加すると、インクは加熱され、通電電流は一様
に増加する。電極3間のインクが十分加熱され、電極3
間に気泡核が発生して膨張を開始(沸騰開始)すると、電
極3間の通電電流は図6(a)に示す状態2となる。状態
2では、図6(c)に示したように、電極3間に沸騰気泡1
5が形成され、通電電流は沸騰気泡15によりほとんど流
れなくなる。
【0029】沸騰開始時間(状態1の時間)の乱れや沸騰
気泡15が電極3間に滞在する(状態2)際の電流値の乱れ
は、沸騰気泡15のばらつきにより生じる。このことを利
用して、電極3間の電流波形の乱れを調べることによ
り、印字の際のインク吐出の駆動力となる沸騰気泡15の
膨張収縮のばらつきを調べることができる。電流波形の
乱れ発生率は、200波形から判断した。電流波形は5千
回沸騰毎に1波形を抽出した。各周波数で5回ずつ波形
乱れ発生率を測定した。
気泡15が電極3間に滞在する(状態2)際の電流値の乱れ
は、沸騰気泡15のばらつきにより生じる。このことを利
用して、電極3間の電流波形の乱れを調べることによ
り、印字の際のインク吐出の駆動力となる沸騰気泡15の
膨張収縮のばらつきを調べることができる。電流波形の
乱れ発生率は、200波形から判断した。電流波形は5千
回沸騰毎に1波形を抽出した。各周波数で5回ずつ波形
乱れ発生率を測定した。
【0030】図7は比較例における印字周波数に対する
電流波形の乱れ発生率を示したものである。また、図8
(a)〜図8(d)は、それぞれ本発明の第1の実施例〜第4
の実施例における印字周波数に対する電流波形の乱れ発
生率を示したものである。
電流波形の乱れ発生率を示したものである。また、図8
(a)〜図8(d)は、それぞれ本発明の第1の実施例〜第4
の実施例における印字周波数に対する電流波形の乱れ発
生率を示したものである。
【0031】第1の実施例〜第4の実施例のものは、比
較例に比べていずれも8kHz以上の印字周波数で電流波
形の乱れ発生率が少なく、従って、高速印字での印字品
質の劣化が小さい。また、電極3近傍の絶縁基板7の表
面を覆う絶縁膜が、インクに対する接触角の大きい絶縁
膜ほど、そして、電極3との段差がないほど、その傾向
は顕著になる。
較例に比べていずれも8kHz以上の印字周波数で電流波
形の乱れ発生率が少なく、従って、高速印字での印字品
質の劣化が小さい。また、電極3近傍の絶縁基板7の表
面を覆う絶縁膜が、インクに対する接触角の大きい絶縁
膜ほど、そして、電極3との段差がないほど、その傾向
は顕著になる。
【0032】(第5の実施例)次に、沸騰気泡15の発生
部における表面粗さに付いて検討してみる。比較例およ
び本発明の実施例1,2におけるTi電極3を形成する
際、ケミカルエッチングとイオンミリングによるドライ
エッチングを併用し、エッチング後のガラス基板7の表
面粗さを、Raで0.002μm、0.005μm、0.01μmの3種類
でヘッドを作成した。純水に対する接触角は、比較例の
ガラス基板自体で約10°、第1の実施例のポリイミドの
絶縁膜で約60°、第2の実施例の撥水性の絶縁膜で約11
0°である。
部における表面粗さに付いて検討してみる。比較例およ
び本発明の実施例1,2におけるTi電極3を形成する
際、ケミカルエッチングとイオンミリングによるドライ
エッチングを併用し、エッチング後のガラス基板7の表
面粗さを、Raで0.002μm、0.005μm、0.01μmの3種類
でヘッドを作成した。純水に対する接触角は、比較例の
ガラス基板自体で約10°、第1の実施例のポリイミドの
絶縁膜で約60°、第2の実施例の撥水性の絶縁膜で約11
0°である。
【0033】図9(a)〜図9(c)は、表面粗さ毎に表わし
たガラス基板自体、ポリイミド絶縁膜および撥水性絶縁
膜の純水に対する接触角と電流波形の乱れ発生率の関係
を示したものである。印字周波数は10kHzである。ポリ
イミド絶縁膜および撥水性絶縁膜を形成したもので、表
面粗さがRaで略0.005μm以下であれば、比較例のガラ
ス基板(接触角10°,Ra0.002μm)に対し電流波形の乱
れ発生率が低く、改善効果が見られる。
たガラス基板自体、ポリイミド絶縁膜および撥水性絶縁
膜の純水に対する接触角と電流波形の乱れ発生率の関係
を示したものである。印字周波数は10kHzである。ポリ
イミド絶縁膜および撥水性絶縁膜を形成したもので、表
面粗さがRaで略0.005μm以下であれば、比較例のガラ
ス基板(接触角10°,Ra0.002μm)に対し電流波形の乱
れ発生率が低く、改善効果が見られる。
【0034】なお、絶縁基板の材質により、電極近傍の
絶縁基板7の表面が、純水に対する接触角略60°以上
で、かつ表面粗さが、Raで略0.005μm以下であれば、
絶縁膜を形成したと同等の作用効果を有することは言う
までもない。
絶縁基板7の表面が、純水に対する接触角略60°以上
で、かつ表面粗さが、Raで略0.005μm以下であれば、
絶縁膜を形成したと同等の作用効果を有することは言う
までもない。
【0035】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
通電加熱方式のインク噴射型プリンタ用ヘッドにおい
て、対向電極近傍のインクが接する基板表面あるいはそ
の上に形成した絶縁膜の純水に対する接触角が略60°以
上で、かつその表面粗さが、Raで略0.005μm以下であ
れば、従来のように沸騰気泡の未収縮気泡が電極間に残
留して次の沸騰時に沸騰異常を引き起こすという問題を
回避することができ、従って、印字品質を低下すること
なく高速印字が可能になるという効果を奏する。
通電加熱方式のインク噴射型プリンタ用ヘッドにおい
て、対向電極近傍のインクが接する基板表面あるいはそ
の上に形成した絶縁膜の純水に対する接触角が略60°以
上で、かつその表面粗さが、Raで略0.005μm以下であ
れば、従来のように沸騰気泡の未収縮気泡が電極間に残
留して次の沸騰時に沸騰異常を引き起こすという問題を
回避することができ、従って、印字品質を低下すること
なく高速印字が可能になるという効果を奏する。
【図1】本発明の第1および第2の実施例のインク噴射
型プリンタ用ヘッドの断面図である。
型プリンタ用ヘッドの断面図である。
【図2】本発明の第3の実施例のインク噴射型プリンタ
用ヘッドの断面図である。
用ヘッドの断面図である。
【図3】本発明の第4の実施例のインク噴射型プリンタ
用ヘッドの断面図である。
用ヘッドの断面図である。
【図4】従来例の断面図である。
【図5】電極間に印加する電圧波形の模式図である。
【図6】本発明の実施例の動作説明図である。
【図7】比較例の印字周波数に対する電流波形の乱れ発
生率を示す特性図である。
生率を示す特性図である。
【図8】本発明の第1の実施例〜第4の実施例の印字周
波数に対する電流波形の乱れ発生率を示す特性図であ
る。
波数に対する電流波形の乱れ発生率を示す特性図であ
る。
【図9】ガラス基板自体(比較例)、ポリイミド絶縁膜、
撥水性絶縁膜の各表面粗さ、純水に対する接触角と電流
波形の乱れ発生率の関係を示す図である。
撥水性絶縁膜の各表面粗さ、純水に対する接触角と電流
波形の乱れ発生率の関係を示す図である。
1…インク室、 2…ノズル孔、 3…電極、 4a,
4b…絶縁膜、 5…樹脂シート、 6…絶縁層、 7
…絶縁基板。
4b…絶縁膜、 5…樹脂シート、 6…絶縁層、 7
…絶縁基板。
Claims (5)
- 【請求項1】 インク室内の絶縁基板上に一対の対向す
る電極を有し、前記電極間に電圧を印加して沸騰気泡を
発生させ、前記インク室に連通するノズル孔からインク
滴を噴射する通電加熱方式のインク噴射型プリンタ用ヘ
ッドにおいて、前記電極の近傍の前記絶縁基板の表面
に、該絶縁基板よりインクに対する接触角の大きい絶縁
膜を積層してなることを特徴とするインク噴射型プリン
タ用ヘッド。 - 【請求項2】 インク室内の絶縁基板上に一対の対向す
る電極を有し、前記電極間に電圧を印加して沸騰気泡を
発生させ、前記インク室に連通するノズル孔からインク
滴を噴射する通電加熱方式のインク噴射型プリンタ用ヘ
ッドにおいて、前記電極の近傍の前記絶縁基板の表面
に、前記電極の表面との段差を埋めるように絶縁膜を積
層してなることを特徴とするインク噴射型プリンタ用ヘ
ッド。 - 【請求項3】 絶縁膜は、少なくともその表面層が絶縁
基板よりインクに対する接触角の大きい絶縁膜からなる
ことを特徴とする請求項2記載のインク噴射型プリンタ
用ヘッド。 - 【請求項4】 絶縁膜の表面粗さが、Raで略0.005μm
以下であることを特徴とする請求項1または3記載のイ
ンク噴射型プリンタ用ヘッド。 - 【請求項5】 インク室内の絶縁基板上に一対の対向す
る電極を有し、前記電極間に電圧を印加して沸騰気泡を
発生させ、前記インク室に連通するノズル孔からインク
滴を噴射する通電加熱方式のインク噴射型プリンタ用ヘ
ッドにおいて、前記電極近傍の絶縁基板の表面が、純水
に対する接触角が略60°以上で、かつ表面粗さがRa
で略0.005μm以下であることを特徴とするインク噴射型
プリンタ用ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7142227A JPH08332728A (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | インク噴射型プリンタ用ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7142227A JPH08332728A (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | インク噴射型プリンタ用ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08332728A true JPH08332728A (ja) | 1996-12-17 |
Family
ID=15310379
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7142227A Pending JPH08332728A (ja) | 1995-06-08 | 1995-06-08 | インク噴射型プリンタ用ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08332728A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10272782A (ja) * | 1997-03-31 | 1998-10-13 | Brother Ind Ltd | インクジェット記録装置 |
-
1995
- 1995-06-08 JP JP7142227A patent/JPH08332728A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10272782A (ja) * | 1997-03-31 | 1998-10-13 | Brother Ind Ltd | インクジェット記録装置 |
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