JPH08333322A - 含フッ素フタロニトリル誘導体の製造方法 - Google Patents
含フッ素フタロニトリル誘導体の製造方法Info
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- JPH08333322A JPH08333322A JP14359395A JP14359395A JPH08333322A JP H08333322 A JPH08333322 A JP H08333322A JP 14359395 A JP14359395 A JP 14359395A JP 14359395 A JP14359395 A JP 14359395A JP H08333322 A JPH08333322 A JP H08333322A
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- XQZYPMVTSDWCCE-UHFFFAOYSA-N phthalonitrile Chemical class N#CC1=CC=CC=C1C#N XQZYPMVTSDWCCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 title description 13
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 title description 13
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 30
- OFLRJMBSWDXSPG-UHFFFAOYSA-N 3,4,5,6-tetrafluorobenzene-1,2-dicarbonitrile Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(C#N)C(C#N)=C1F OFLRJMBSWDXSPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 29
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 29
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims abstract description 23
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 9
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 8
- 238000010534 nucleophilic substitution reaction Methods 0.000 claims description 5
- 229910001515 alkali metal fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 24
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 11
- -1 2,3,5,6- tetrafluoro-1,4-phenylene Chemical group 0.000 abstract description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 abstract 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 32
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M potassium fluoride Chemical compound [F-].[K+] NROKBHXJSPEDAR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 20
- ZSDAMBJDFDRLSS-UHFFFAOYSA-N 2,3,5,6-tetrafluorobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=C(F)C(F)=C(O)C(F)=C1F ZSDAMBJDFDRLSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 13
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 10
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 10
- 235000003270 potassium fluoride Nutrition 0.000 description 10
- 239000011698 potassium fluoride Substances 0.000 description 10
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 9
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 9
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 9
- SOZFIIXUNAKEJP-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrafluorobenzene Chemical compound FC1=CC=C(F)C(F)=C1F SOZFIIXUNAKEJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- SYBYTAAJFKOIEJ-UHFFFAOYSA-N 3-Methylbutan-2-one Chemical compound CC(C)C(C)=O SYBYTAAJFKOIEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- GQORFYKKWRBKGD-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(3,4-dicyano-2,5,6-trifluorophenoxy)-2,3,5,6-tetrafluorophenoxy]-3,5,6-trifluorobenzene-1,2-dicarbonitrile Chemical compound FC=1C(F)=C(OC=2C(=C(C#N)C(C#N)=C(F)C=2F)F)C(F)=C(F)C=1OC1=C(F)C(F)=C(C#N)C(C#N)=C1F GQORFYKKWRBKGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 5
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid Chemical compound CC(C)CC(O)=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 5
- XGVLHDCPSWHAKN-UHFFFAOYSA-N 2,3,5,6-tetrafluorobenzene-1,4-dithiol Chemical compound FC1=C(F)C(S)=C(F)C(F)=C1S XGVLHDCPSWHAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- MOFZHBRFFAIMKM-UHFFFAOYSA-N 2,3,5,6-tetrafluoro-4-(2,3,5,6-tetrafluoro-4-hydroxyphenyl)phenol Chemical group FC1=C(F)C(O)=C(F)C(F)=C1C1=C(F)C(F)=C(O)C(F)=C1F MOFZHBRFFAIMKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BMXRSRJBJWJONO-UHFFFAOYSA-N 2,3,5,6-tetrafluoro-4-(2,3,5,6-tetrafluoro-4-sulfanylphenyl)benzenethiol Chemical group FC1=C(S)C(F)=C(F)C(C=2C(=C(F)C(S)=C(F)C=2F)F)=C1F BMXRSRJBJWJONO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 3
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 3
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- HJWRZEHVVAUABA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(3,4-dicyano-2,5,6-trifluorophenyl)sulfanyl-2,3,5,6-tetrafluorophenyl]-2,3,5,6-tetrafluorophenyl]sulfanyl-3,5,6-trifluorobenzene-1,2-dicarbonitrile Chemical group C(#N)C1=C(C(=C(C(=C1F)F)SC2=C(C(=C(C(=C2F)F)C3=C(C(=C(C(=C3F)F)SC4=C(C(=C(C(=C4F)F)C#N)C#N)F)F)F)F)F)F)C#N HJWRZEHVVAUABA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008359 benzonitriles Chemical class 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M sodium fluoride Chemical compound [F-].[Na+] PUZPDOWCWNUUKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWCHHUZAAGRHDB-UHFFFAOYSA-N 1,2,4,5-tetrafluoro-3-(2,3,5,6-tetrafluorophenyl)benzene Chemical group FC1=CC(F)=C(F)C(C=2C(=C(F)C=C(F)C=2F)F)=C1F QWCHHUZAAGRHDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAPTYURANIHAPE-UHFFFAOYSA-N 3-fluorobenzene-1,2-dicarbonitrile Chemical class FC1=CC=CC(C#N)=C1C#N SAPTYURANIHAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTKXFTGMJFKHOO-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(3,4-dicyano-2,5,6-trifluorophenyl)sulfanyl-2,3,5,6-tetrafluorophenyl]sulfanyl-3,5,6-trifluorobenzene-1,2-dicarbonitrile Chemical compound C(#N)C1=C(C(=C(C(=C1F)F)SC2=C(C(=C(C(=C2F)F)SC3=C(C(=C(C(=C3F)F)C#N)C#N)F)F)F)F)C#N UTKXFTGMJFKHOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBWRXGYLFFBYNL-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(3,4-dicyano-2,5,6-trifluorophenoxy)-2,3,5,6-tetrafluorophenyl]-2,3,5,6-tetrafluorophenoxy]-3,5,6-trifluorobenzene-1,2-dicarbonitrile Chemical group FC1=C(F)C(C#N)=C(C#N)C(F)=C1OC1=C(F)C(F)=C(C=2C(=C(F)C(OC=3C(=C(C#N)C(C#N)=C(F)C=3F)F)=C(F)C=2F)F)C(F)=C1F SBWRXGYLFFBYNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical class [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910001618 alkaline earth metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 235000013024 sodium fluoride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011775 sodium fluoride Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000003799 water insoluble solvent Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 ３，４，５，６−テトラフルオロフタロニト
リルと下記一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｘ及びＹはそれぞれ酸素原子又は硫黄原子を表
し、Ｒは 【化２】 を表す。）で表される求核置換体を、水に難溶性の有機
溶媒中塩基性物質の存在下で反応させて得られた反応生
成液に水を添加後有機層を分離することを特徴とする下
記一般式（II） 【化３】 （式中、Ｘ、Ｙ及びＲは前記定義どおりである。）で表
される含フッ素フタロニトリル誘導体の製造方法であ
る。、 【効果】 本発明によれば、含フッ素フタロニトリル誘
導体を高収率、高純度かつ効率よく製造することができ
る。
リルと下記一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｘ及びＹはそれぞれ酸素原子又は硫黄原子を表
し、Ｒは 【化２】 を表す。）で表される求核置換体を、水に難溶性の有機
溶媒中塩基性物質の存在下で反応させて得られた反応生
成液に水を添加後有機層を分離することを特徴とする下
記一般式（II） 【化３】 （式中、Ｘ、Ｙ及びＲは前記定義どおりである。）で表
される含フッ素フタロニトリル誘導体の製造方法であ
る。、 【効果】 本発明によれば、含フッ素フタロニトリル誘
導体を高収率、高純度かつ効率よく製造することができ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学材料、配線基板材
料、感光材料及び液晶材料等の中間原料として有用な含
フッ素フタロニトリル誘導体の製造方法に関する。詳し
くは、下記一般式（II）
料、感光材料及び液晶材料等の中間原料として有用な含
フッ素フタロニトリル誘導体の製造方法に関する。詳し
くは、下記一般式（II）
【０００２】
【化４】
【０００３】（式中、Ｘ及びＹはそれぞれ酸素原子又は
硫黄原子を表し、Ｒは
硫黄原子を表し、Ｒは
【０００４】
【化５】
【０００５】を表す。）で表される含フッ素フタロニト
リル誘導体の製造方法である。
リル誘導体の製造方法である。
【０００６】
【従来の技術】従来、前記一般式（II）で表される含フ
ッ素フタロニトリル誘導体の中で、例えば、１，４−ビ
ス（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフェ
ノキシ）テトラフルオロベンゼンの製造方法として以下
の方法が知られている。
ッ素フタロニトリル誘導体の中で、例えば、１，４−ビ
ス（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフェ
ノキシ）テトラフルオロベンゼンの製造方法として以下
の方法が知られている。
【０００７】まず、特開平５−１１４８号には、３，
４，５，６−テトラフルオロフタロニトリルと２，３，
５，６−テトラフルオロハイドロキノンを、ジメチルホ
ルムアルデヒド中トリエチルアミンの存在下で反応する
方法、及び３，４，５，６−テトラフルオロフタロニト
リルと２，３，５，６−テトラフルオロハイドロキノン
の二ナトリウム塩をジメチルホルムアルデヒド中反応す
る方法が記載されているが、目的物の収率が４１〜５４
％とかなり低く工業的に実施した場合に問題がある。
４，５，６−テトラフルオロフタロニトリルと２，３，
５，６−テトラフルオロハイドロキノンを、ジメチルホ
ルムアルデヒド中トリエチルアミンの存在下で反応する
方法、及び３，４，５，６−テトラフルオロフタロニト
リルと２，３，５，６−テトラフルオロハイドロキノン
の二ナトリウム塩をジメチルホルムアルデヒド中反応す
る方法が記載されているが、目的物の収率が４１〜５４
％とかなり低く工業的に実施した場合に問題がある。
【０００８】また、特開平６−１６６１５号には、３，
４，５，６−テトラフルオロフタロニトリルと２，３，
５，６−テトラフルオロハイドロキノン等の求核置換体
を、有機溶媒中塩基性物質の存在下で反応させて含フッ
素フタロニトリル誘導体を製造する方法において、反応
終了後の反応生成液から目的物を精製分離する方法とし
て、（Ａ）塩基性物質としてアルカリ金属のフッ化物又
はアルカリ土類金属のフッ化物を用いた場合、反応溶液
を濾過して塩基性物質とその塩を濾過した後、濾液を蒸
発乾固し、さらに未反応の３，４，５，６−テトラフル
オロフタロニトリルを蒸留により分離することにより含
フッ素フタロニトリル誘導体を得る方法、及び（Ｂ）塩
基性物質として第三級アミンを用いた場合、反応溶液か
ら反応溶媒を蒸留分離した後、反応生成物を酢酸エチル
等の溶媒に溶解させ、水でその溶液の洗浄を行った後、
溶媒と未反応の３，４，５，６−テトラフルオロフタロ
ニトリルを蒸留により分離することにより含フッ素フタ
ロニトリル誘導体を得る方法が記載されている。
４，５，６−テトラフルオロフタロニトリルと２，３，
５，６−テトラフルオロハイドロキノン等の求核置換体
を、有機溶媒中塩基性物質の存在下で反応させて含フッ
素フタロニトリル誘導体を製造する方法において、反応
終了後の反応生成液から目的物を精製分離する方法とし
て、（Ａ）塩基性物質としてアルカリ金属のフッ化物又
はアルカリ土類金属のフッ化物を用いた場合、反応溶液
を濾過して塩基性物質とその塩を濾過した後、濾液を蒸
発乾固し、さらに未反応の３，４，５，６−テトラフル
オロフタロニトリルを蒸留により分離することにより含
フッ素フタロニトリル誘導体を得る方法、及び（Ｂ）塩
基性物質として第三級アミンを用いた場合、反応溶液か
ら反応溶媒を蒸留分離した後、反応生成物を酢酸エチル
等の溶媒に溶解させ、水でその溶液の洗浄を行った後、
溶媒と未反応の３，４，５，６−テトラフルオロフタロ
ニトリルを蒸留により分離することにより含フッ素フタ
ロニトリル誘導体を得る方法が記載されている。
【０００９】しかし、上記（Ａ）の方法で実施例で用い
られているアセトニトリルを溶媒とした場合、溶媒に塩
基性物質とその塩が一部溶解しており、濾液中に少量の
塩基性物質とその塩が残存する。そこから得られる含フ
ッ素フタロニトリル誘導体を各種の用途に用いる場合、
目的によってはフッ酸が発生し腐食の原因となる。従っ
て、腐食防止のためさらに塩基性物質とその塩を除去し
ようとした場合、含フッ素フタロニトリル誘導体を酢酸
エチル等の水に難溶性の溶媒に溶解した後、水洗すると
いった工程が必要となり、含フッ素フタロニトリル誘導
体を精製分離することが非常に煩雑であるという問題を
有している。
られているアセトニトリルを溶媒とした場合、溶媒に塩
基性物質とその塩が一部溶解しており、濾液中に少量の
塩基性物質とその塩が残存する。そこから得られる含フ
ッ素フタロニトリル誘導体を各種の用途に用いる場合、
目的によってはフッ酸が発生し腐食の原因となる。従っ
て、腐食防止のためさらに塩基性物質とその塩を除去し
ようとした場合、含フッ素フタロニトリル誘導体を酢酸
エチル等の水に難溶性の溶媒に溶解した後、水洗すると
いった工程が必要となり、含フッ素フタロニトリル誘導
体を精製分離することが非常に煩雑であるという問題を
有している。
【００１０】また、上記（Ｂ）の方法では、反応終了後
の反応生成液から反応溶媒を蒸留分離する工程があり、
含フッ素フタロニトリル誘導体を精製分離することが非
常に煩雑であるという問題を有している。
の反応生成液から反応溶媒を蒸留分離する工程があり、
含フッ素フタロニトリル誘導体を精製分離することが非
常に煩雑であるという問題を有している。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、３，４，
５，６−テトラフルオロフタロニトリルと前記一般式
（Ｉ）で表される求核置換体を、有機溶媒中塩基性物質
の存在下で反応させて前記前記一般式（II）で表される
含フッ素フタロニトリル誘導体を製造する方法におい
て、反応生成液から目的物を精製分離することが煩雑で
ある等の従来技術が有していた問題を解決すべくなされ
たものであり、工業的で簡便な含フッ素フタロニトリル
誘導体の製造方法を提供するものである。
５，６−テトラフルオロフタロニトリルと前記一般式
（Ｉ）で表される求核置換体を、有機溶媒中塩基性物質
の存在下で反応させて前記前記一般式（II）で表される
含フッ素フタロニトリル誘導体を製造する方法におい
て、反応生成液から目的物を精製分離することが煩雑で
ある等の従来技術が有していた問題を解決すべくなされ
たものであり、工業的で簡便な含フッ素フタロニトリル
誘導体の製造方法を提供するものである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、３，４，５，
６−テトラフルオロフタロニトリルと下記一般式（Ｉ）
６−テトラフルオロフタロニトリルと下記一般式（Ｉ）
【００１３】
【化６】
【００１４】（式中、Ｘ及びＹはそれぞれ酸素原子又は
硫黄原子を表し、Ｒは
硫黄原子を表し、Ｒは
【００１５】
【化７】
【００１６】を表す。）で表される求核置換体を、水に
難溶性の有機溶媒中塩基性物質の存在下で反応させて得
られた反応生成液に水を添加後有機層を分離することを
特徴とする下記一般式（II）
難溶性の有機溶媒中塩基性物質の存在下で反応させて得
られた反応生成液に水を添加後有機層を分離することを
特徴とする下記一般式（II）
【００１７】
【化８】
【００１８】（式中、Ｘ、Ｙ及びＲは前記定義どおりで
ある。）で表される含フッ素フタロニトリル誘導体の製
造方法である。
ある。）で表される含フッ素フタロニトリル誘導体の製
造方法である。
【００１９】本発明によれば、３，４，５，６−テトラ
フルオロフタロニトリルと求核置換体を、有機溶媒中塩
基性物質の存在下で反応させて含フッ素フタロニトリル
誘導体を製造する方法において、反応溶媒として水に難
溶性の有機溶媒を用い、反応終了後の反応生成液に水を
添加後、有機層を分液することにより、水層から容易に
水に可溶性の塩基性物質の除去を行うことができ、含フ
ッ素フタロニトリル誘導体を高収率、高純度で製造する
ことができる。
フルオロフタロニトリルと求核置換体を、有機溶媒中塩
基性物質の存在下で反応させて含フッ素フタロニトリル
誘導体を製造する方法において、反応溶媒として水に難
溶性の有機溶媒を用い、反応終了後の反応生成液に水を
添加後、有機層を分液することにより、水層から容易に
水に可溶性の塩基性物質の除去を行うことができ、含フ
ッ素フタロニトリル誘導体を高収率、高純度で製造する
ことができる。
【００２０】本発明の含フッ素フタロニトリル誘導体の
製造方法について更に詳しく説明すると、まず、３，
４，５，６−テトラフルオロフタロニトリルと求核置換
体を、水に難溶性の有機溶媒中塩基性物質の存在下で反
応させて含フッ素フタロニトリル誘導体を得る。
製造方法について更に詳しく説明すると、まず、３，
４，５，６−テトラフルオロフタロニトリルと求核置換
体を、水に難溶性の有機溶媒中塩基性物質の存在下で反
応させて含フッ素フタロニトリル誘導体を得る。
【００２１】求核置換体と３，４，５，６−テトラフル
オロフタロニトリルの反応は、下記反応式（Ａ）
オロフタロニトリルの反応は、下記反応式（Ａ）
【００２２】
【化９】
【００２３】（反応式中、Ｘ、Ｙ及びＲは前記定義どお
りである。）に従って進行し、目的の含フッ素フタロニ
トリル誘導体が得られる。しかし、更に下記反応式
（Ｂ）
りである。）に従って進行し、目的の含フッ素フタロニ
トリル誘導体が得られる。しかし、更に下記反応式
（Ｂ）
【００２４】
【化１０】
【００２５】（反応式中、Ｘ、Ｙ及びＲは前記定義どお
りである。）に従って逐次的に反応が進むと、一般式
（III ）に示す副生成物が生ずる。
りである。）に従って逐次的に反応が進むと、一般式
（III ）に示す副生成物が生ずる。
【００２６】このため、本発明において用いられる３，
４，５，６−テトラフルオロフタロニトリルは、求核置
換体１モル部に対して、８〜５０モル部の範囲で用いる
ことが好ましく、特に１５〜３０モル部の範囲で用いる
のが好ましい。３，４，５，６−テトラフルオロフタロ
ニトリルの使用量が少ない場合には、おもに前記副生成
物の生成割合が増加し、含フッ素フタロニトリル誘導体
の収率及び純度が低下する。一方、使用量が多い場合に
は、未反応の３，４，５，６−テトラフルオロフタロニ
トリルの精製方法が煩雑になり、また、生産効率が低下
するので好ましくない。
４，５，６−テトラフルオロフタロニトリルは、求核置
換体１モル部に対して、８〜５０モル部の範囲で用いる
ことが好ましく、特に１５〜３０モル部の範囲で用いる
のが好ましい。３，４，５，６−テトラフルオロフタロ
ニトリルの使用量が少ない場合には、おもに前記副生成
物の生成割合が増加し、含フッ素フタロニトリル誘導体
の収率及び純度が低下する。一方、使用量が多い場合に
は、未反応の３，４，５，６−テトラフルオロフタロニ
トリルの精製方法が煩雑になり、また、生産効率が低下
するので好ましくない。
【００２７】反応形態としては、塩基性物質を含んだ
３，４，５，６−テトラフルオロフタロニトリル溶液中
に、前記求核置換体の溶液を滴下する方法で行うことが
好ましい。その方法により、３，４，５，６−テトラフ
ルオロフタロニトリルが常に過剰の状態を保つことがで
き、一般式（III ）に示す副生成物を抑制できる。
３，４，５，６−テトラフルオロフタロニトリル溶液中
に、前記求核置換体の溶液を滴下する方法で行うことが
好ましい。その方法により、３，４，５，６−テトラフ
ルオロフタロニトリルが常に過剰の状態を保つことがで
き、一般式（III ）に示す副生成物を抑制できる。
【００２８】本発明で用いられる求核置換体としては、
テトラフルオロハイドロキノン、テトラフルオロ−ｐ−
ベンゼンジチオール、４，４’−ジヒドロキシ−２，
２’，３，３’，５，５’，６，６’−オクタフルオロ
ビフェニル、４，４’−ジメルカプト−２，２’，３，
３’，５，５’，６，６’−オクタフルオロビフェニル
等が挙げられる。
テトラフルオロハイドロキノン、テトラフルオロ−ｐ−
ベンゼンジチオール、４，４’−ジヒドロキシ−２，
２’，３，３’，５，５’，６，６’−オクタフルオロ
ビフェニル、４，４’−ジメルカプト−２，２’，３，
３’，５，５’，６，６’−オクタフルオロビフェニル
等が挙げられる。
【００２９】本発明で得られる含フッ素フタロニトリル
誘導体としては、１，４−ビス（３，４−ジシアノ−
２、５、６−トリフルオロフェノキシ）テトラフルオロ
ベンゼン、１，４−ビス（３，４−ジシアノ−２，５，
６−トリフルオロフェニルチオ）テトラフルオロベンゼ
ン、４，４’−ビス（３，４−ジシアノ２，５，６−ト
リフルオロフェノキシ）オクタフルオロビフェニル、
４，４’−ビス（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリ
フルオロフェニルチオ）オクタフルオロビフェニル等が
挙げられる。
誘導体としては、１，４−ビス（３，４−ジシアノ−
２、５、６−トリフルオロフェノキシ）テトラフルオロ
ベンゼン、１，４−ビス（３，４−ジシアノ−２，５，
６−トリフルオロフェニルチオ）テトラフルオロベンゼ
ン、４，４’−ビス（３，４−ジシアノ２，５，６−ト
リフルオロフェノキシ）オクタフルオロビフェニル、
４，４’−ビス（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリ
フルオロフェニルチオ）オクタフルオロビフェニル等が
挙げられる。
【００３０】本発明で用いられる水に難溶性の有機溶媒
は、３，４，５，６−テトラフルオロフタロニトリル、
求核置換体及び含フッ素フタロニトリル誘導体に対して
不活性であり、かつ水に難溶性であれば特に限定される
ものではないが、２０℃で該有機溶媒に対する水の溶解
度が１５重量％以下のものが好ましく、特に１０重量％
以下のものが好ましい。また、反応終了後の有機溶媒の
留去を容易にするために、有機溶媒の沸点は常圧で２５
０℃以下であることが好ましく、特に１５０℃以下であ
ることが好ましい。
は、３，４，５，６−テトラフルオロフタロニトリル、
求核置換体及び含フッ素フタロニトリル誘導体に対して
不活性であり、かつ水に難溶性であれば特に限定される
ものではないが、２０℃で該有機溶媒に対する水の溶解
度が１５重量％以下のものが好ましく、特に１０重量％
以下のものが好ましい。また、反応終了後の有機溶媒の
留去を容易にするために、有機溶媒の沸点は常圧で２５
０℃以下であることが好ましく、特に１５０℃以下であ
ることが好ましい。
【００３１】具体的には、脂肪酸エステル類、ケトン類
及びベンゾニトリル類からなる群から選ばれた少なくと
も一種を用いるのが好ましく、特に脂肪酸エステル及び
ケトン類からなる群から選ばれた少なくとも一種を用い
るのが好ましい。例えば、脂肪酸エステルとしては酢酸
エチル、酢酸イソプロピル等、ケトン類としてはメチル
イソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン等、ベン
ゾニトリル類としてはベンゾニトリル等が挙げられる。
これらの有機溶媒を用いることにより、塩基性物質とそ
の塩を水洗工程のみで容易に除去することが可能とな
る。
及びベンゾニトリル類からなる群から選ばれた少なくと
も一種を用いるのが好ましく、特に脂肪酸エステル及び
ケトン類からなる群から選ばれた少なくとも一種を用い
るのが好ましい。例えば、脂肪酸エステルとしては酢酸
エチル、酢酸イソプロピル等、ケトン類としてはメチル
イソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン等、ベン
ゾニトリル類としてはベンゾニトリル等が挙げられる。
これらの有機溶媒を用いることにより、塩基性物質とそ
の塩を水洗工程のみで容易に除去することが可能とな
る。
【００３２】反応液中での３，４，５，６−テトラフル
オロフタロニトリルと求核置換体を合わせた濃度は、５
〜４５重量％であることが好ましく、特に１０〜３５重
量％が好ましい。これより低濃度では生産効率が低下
し、高濃度では出発原料が溶解せず反応速度が低下す
る。
オロフタロニトリルと求核置換体を合わせた濃度は、５
〜４５重量％であることが好ましく、特に１０〜３５重
量％が好ましい。これより低濃度では生産効率が低下
し、高濃度では出発原料が溶解せず反応速度が低下す
る。
【００３３】本発明で用いられる塩基性物質としては、
水に可溶であり、しかも反応を阻害しないものであれば
特に制限されるものではなく、例えば、フッ化ナトリウ
ム、フッ化カリウム等のアルカリ金属のフッ化物、又は
トリメチルアミン、トリエチルアミン等の三級アミン等
が挙げられる。これらの中では、アルカリ金属のフッ化
物を用いることが好ましく、特にフッ化カリウムを用い
ることが好ましい。塩基性物質の使用量は、前記求核置
換体に対して２倍モル以上、好ましくは２〜３倍モルが
よい。
水に可溶であり、しかも反応を阻害しないものであれば
特に制限されるものではなく、例えば、フッ化ナトリウ
ム、フッ化カリウム等のアルカリ金属のフッ化物、又は
トリメチルアミン、トリエチルアミン等の三級アミン等
が挙げられる。これらの中では、アルカリ金属のフッ化
物を用いることが好ましく、特にフッ化カリウムを用い
ることが好ましい。塩基性物質の使用量は、前記求核置
換体に対して２倍モル以上、好ましくは２〜３倍モルが
よい。
【００３４】反応温度は、−５〜１５０℃の範囲で行う
のが好ましく、特に４０〜１００℃の範囲で行うのが好
ましい。反応温度が低温度である場合には生産効率が低
下し、高温度である場合には反応の制御が困難になり好
ましくない。
のが好ましく、特に４０〜１００℃の範囲で行うのが好
ましい。反応温度が低温度である場合には生産効率が低
下し、高温度である場合には反応の制御が困難になり好
ましくない。
【００３５】反応時間は、使用する水に難溶性の有機溶
媒、反応温度等により異なるが、通常１〜２６時間の範
囲で行うのが好ましい。
媒、反応温度等により異なるが、通常１〜２６時間の範
囲で行うのが好ましい。
【００３６】次に、反応終了後、反応生成液に水を添加
し有機層と水層に分液することで反応に使用した塩基性
物質を水層から除去する。このときの洗浄回数は、反応
に使用する有機溶媒の種類と量、洗浄する水の量、蒸発
乾固後に含フッ素フタロニトリル誘導体中で許容される
塩基性物質とその塩の量などにより決まるが、通常は含
フッ素フタロニトリル誘導体が含有する有機物中に残存
する塩基性物質とその塩がフッ素イオン濃度として１０
０ｐｐｍ以下、特に３０ｐｐｍ以下になるように操作す
るのが好ましい。
し有機層と水層に分液することで反応に使用した塩基性
物質を水層から除去する。このときの洗浄回数は、反応
に使用する有機溶媒の種類と量、洗浄する水の量、蒸発
乾固後に含フッ素フタロニトリル誘導体中で許容される
塩基性物質とその塩の量などにより決まるが、通常は含
フッ素フタロニトリル誘導体が含有する有機物中に残存
する塩基性物質とその塩がフッ素イオン濃度として１０
０ｐｐｍ以下、特に３０ｐｐｍ以下になるように操作す
るのが好ましい。
【００３７】その後、有機層から反応溶媒を留去し、さ
らに、３，４，５，６−テトラフルオロフタロニトリル
を蒸留により留去することで、含フッ素フタロニトリル
誘導体を得ることができる。また、得られた含フッ素フ
タロニトリル誘導体は、例えばカラムクロマトグラフィ
ー、再結晶等公知の手段により容易に高純度に精製する
ことができる。
らに、３，４，５，６−テトラフルオロフタロニトリル
を蒸留により留去することで、含フッ素フタロニトリル
誘導体を得ることができる。また、得られた含フッ素フ
タロニトリル誘導体は、例えばカラムクロマトグラフィ
ー、再結晶等公知の手段により容易に高純度に精製する
ことができる。
【００３８】
【実施例】本発明を実施例によりさらに具体的に説明す
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
るが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
【００３９】［実施例１］撹拌装置、冷却還流管、温度
計、滴下装置を備えた３００ｍｌ四つ口フラスコに３，
４，５，６−テトラフルオロフタロニトリル４４．０ｇ
（０．２２モル）（テトラフルオロハイドロキノンに対
し２０倍モル使用）、フッ化カリウム１．４ｇ（０．０
２４モル）、酢酸エチル１３０ｇを加え還流温度まで加
熱した。その後滴下装置より、テトラフルオロハイドロ
キノン２．０ｇ（０．０１１モル）を酢酸エチル２０ｇ
に溶解させた溶液を１時間で滴下した。その後さらに還
流温度で８時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却
し、水１００ｍｌで有機層を洗浄した。その後、有機層
を蒸発乾固し、さらに未反応の３，４，５，６−テトラ
フルオロフタロニトリルを蒸留により除去することで、
１，４−ビス（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフ
ルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンの粗製品
５．９ｇを得た（対テトラフルオロハイドロキノン粗収
率９９モル％）。また、得られた化合物の純度は、液体
クロマトグラフィーにより測定した結果９５％であっ
た。得られた化合物をカラムクロマトにより精製し、純
度９９％の１，４−ビス（３，４−ジシアノ−２，５，
６−トリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン
を得た。精製した化合物の物性値は下記の通りである。
計、滴下装置を備えた３００ｍｌ四つ口フラスコに３，
４，５，６−テトラフルオロフタロニトリル４４．０ｇ
（０．２２モル）（テトラフルオロハイドロキノンに対
し２０倍モル使用）、フッ化カリウム１．４ｇ（０．０
２４モル）、酢酸エチル１３０ｇを加え還流温度まで加
熱した。その後滴下装置より、テトラフルオロハイドロ
キノン２．０ｇ（０．０１１モル）を酢酸エチル２０ｇ
に溶解させた溶液を１時間で滴下した。その後さらに還
流温度で８時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却
し、水１００ｍｌで有機層を洗浄した。その後、有機層
を蒸発乾固し、さらに未反応の３，４，５，６−テトラ
フルオロフタロニトリルを蒸留により除去することで、
１，４−ビス（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフ
ルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンの粗製品
５．９ｇを得た（対テトラフルオロハイドロキノン粗収
率９９モル％）。また、得られた化合物の純度は、液体
クロマトグラフィーにより測定した結果９５％であっ
た。得られた化合物をカラムクロマトにより精製し、純
度９９％の１，４−ビス（３，４−ジシアノ−２，５，
６−トリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン
を得た。精製した化合物の物性値は下記の通りである。
【００４０】 元素分析値（Ｃ22Ｆ10Ｎ4 Ｏ2 ） Ｃ Ｎ Ｆ 計算値（％） ４８．７３ １０．３３ ３５．０４ 実測値（％） ４８．２３ １０．４０ ３５．８２ ＭＳスペクトル（ＥＩ）：ｍ／ｅ ５４２，３６１，１８１ ［実施例２］実施例１と同様の装置を用い、３，４，
５，６−テトラフルオロフタロニトリル３３．０ｇ
（０．１７モル）（テトラフルオロハイドロキノンに対
し１５倍モル使用）、フッ化カリウム１．４ｇ（０．０
２４モル）、酢酸イソプロピル１００ｇを加え還流温度
まで加熱した。その後滴下装置より、テトラフルオロハ
イドロキノン２．０ｇ（０．０１１モル）を酢酸イソプ
ロピル２０ｇに溶解させた溶液を１時間で滴下した。そ
の後さらに還流温度で８時間反応させた。反応終了後、
室温まで冷却し、水５０ｍｌで有機層を２回洗浄した。
その後、有機層を蒸発乾固し、さらに未反応の３，４，
５，６−テトラフルオロフタロニトリルを蒸留により除
去することで、１，４−ビス（３，４−ジシアノ−２，
５，６−トリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベン
ゼンの粗製品５．６ｇを得た（対テトラフルオロハイド
ロキノン粗収率９４モル％）。得られた化合物の純度
は、液体クロマトグラフィーにより測定した結果９３％
であった。得られた化合物をカラムクロマトにより精製
し、純度９９％の１，４−ビス（３，４−ジシアノ−
２，５，６−トリフルオロフェノキシ）テトラフルオロ
ベンゼンを得た。
５，６−テトラフルオロフタロニトリル３３．０ｇ
（０．１７モル）（テトラフルオロハイドロキノンに対
し１５倍モル使用）、フッ化カリウム１．４ｇ（０．０
２４モル）、酢酸イソプロピル１００ｇを加え還流温度
まで加熱した。その後滴下装置より、テトラフルオロハ
イドロキノン２．０ｇ（０．０１１モル）を酢酸イソプ
ロピル２０ｇに溶解させた溶液を１時間で滴下した。そ
の後さらに還流温度で８時間反応させた。反応終了後、
室温まで冷却し、水５０ｍｌで有機層を２回洗浄した。
その後、有機層を蒸発乾固し、さらに未反応の３，４，
５，６−テトラフルオロフタロニトリルを蒸留により除
去することで、１，４−ビス（３，４−ジシアノ−２，
５，６−トリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベン
ゼンの粗製品５．６ｇを得た（対テトラフルオロハイド
ロキノン粗収率９４モル％）。得られた化合物の純度
は、液体クロマトグラフィーにより測定した結果９３％
であった。得られた化合物をカラムクロマトにより精製
し、純度９９％の１，４−ビス（３，４−ジシアノ−
２，５，６−トリフルオロフェノキシ）テトラフルオロ
ベンゼンを得た。
【００４１】［実施例３］実施例１と同様の装置を用
い、３，４，５，６−テトラフルオロフタロニトリル４
４．０ｇ（０．２２モル）（テトラフルオロハイドロキ
ノンに対し２０倍モル使用）、フッ化カリウム１．４ｇ
（０．０２４モル）、メチルイソプロピルケトン１００
ｇを加え還流温度まで加熱した。その後滴下装置より、
テトラフルオロハイドロキノン２．０ｇ（０．０１１モ
ル）をメチルイソプロピルケトン２０ｇに溶解させた溶
液を１時間で滴下した。その後さらに還流温度で６時間
反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、水３０ｍｌ
で有機層を３回洗浄した。その後、有機層を蒸発乾固
し、さらに未反応の３，４，５，６−テトラフルオロフ
タロニトリルを蒸留により除去することで、１，４−ビ
ス（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフェ
ノキシ）テトラフルオロベンゼンの粗製品５．８ｇを得
た（対テトラフルオロハイドロキノン粗収率９７モル
％）。また、得られた化合物の純度は、液体クロマトグ
ラフィーにより測定した結果９５％であった。得られた
化合物をカラムクロマトにより精製し、純度９９％の
１，４−ビス（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフ
ルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンを得た。
い、３，４，５，６−テトラフルオロフタロニトリル４
４．０ｇ（０．２２モル）（テトラフルオロハイドロキ
ノンに対し２０倍モル使用）、フッ化カリウム１．４ｇ
（０．０２４モル）、メチルイソプロピルケトン１００
ｇを加え還流温度まで加熱した。その後滴下装置より、
テトラフルオロハイドロキノン２．０ｇ（０．０１１モ
ル）をメチルイソプロピルケトン２０ｇに溶解させた溶
液を１時間で滴下した。その後さらに還流温度で６時間
反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、水３０ｍｌ
で有機層を３回洗浄した。その後、有機層を蒸発乾固
し、さらに未反応の３，４，５，６−テトラフルオロフ
タロニトリルを蒸留により除去することで、１，４−ビ
ス（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフェ
ノキシ）テトラフルオロベンゼンの粗製品５．８ｇを得
た（対テトラフルオロハイドロキノン粗収率９７モル
％）。また、得られた化合物の純度は、液体クロマトグ
ラフィーにより測定した結果９５％であった。得られた
化合物をカラムクロマトにより精製し、純度９９％の
１，４−ビス（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフ
ルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンを得た。
【００４２】［実施例４］実施例１と同様の装置を用
い、３，４，５，６−テトラフルオロフタロニトリル４
４．０ｇ（０．２２モル）（テトラフルオロハイドロキ
ノンに対し２０倍モル使用）、フッ化カリウム１．４ｇ
（０．０２４モル）、メチルイソブチルケトン１００ｇ
を加え１００℃まで加熱した。その後滴下装置より、テ
トラフルオロハイドロキノン２．０ｇ（０．０１１モ
ル）をメチルイソプロピルケトン２０ｇに溶解させた溶
液を１時間で滴下した。その後さらに１００℃で６時間
反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、水５０ｍｌ
で有機層を２回洗浄した。その後、有機層を蒸発乾固
し、さらに未反応の３，４，５，６−テトラフルオロフ
タロニトリルを蒸留により除去することで、１，４−ビ
ス（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフェ
ノキシ）テトラフルオロベンゼンの粗製品５．７ｇを得
た（対テトラフルオロハイドロキノン粗収率９６モル
％）。また、得られた化合物の純度は、液体クロマトグ
ラフィーにより測定した結果９５％であった。得られた
化合物をカラムクロマトにより精製し、純度９９％の
１，４−ビス（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフ
ルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンを得た。
い、３，４，５，６−テトラフルオロフタロニトリル４
４．０ｇ（０．２２モル）（テトラフルオロハイドロキ
ノンに対し２０倍モル使用）、フッ化カリウム１．４ｇ
（０．０２４モル）、メチルイソブチルケトン１００ｇ
を加え１００℃まで加熱した。その後滴下装置より、テ
トラフルオロハイドロキノン２．０ｇ（０．０１１モ
ル）をメチルイソプロピルケトン２０ｇに溶解させた溶
液を１時間で滴下した。その後さらに１００℃で６時間
反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、水５０ｍｌ
で有機層を２回洗浄した。その後、有機層を蒸発乾固
し、さらに未反応の３，４，５，６−テトラフルオロフ
タロニトリルを蒸留により除去することで、１，４−ビ
ス（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフェ
ノキシ）テトラフルオロベンゼンの粗製品５．７ｇを得
た（対テトラフルオロハイドロキノン粗収率９６モル
％）。また、得られた化合物の純度は、液体クロマトグ
ラフィーにより測定した結果９５％であった。得られた
化合物をカラムクロマトにより精製し、純度９９％の
１，４−ビス（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフ
ルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンを得た。
【００４３】［実施例５］実施例１と同様の装置を用
い、３，４，５，６−テトラフルオロフタロニトリル４
４．０ｇ（０．２２モル）（テトラフルオロハイドロキ
ノンに対し２０倍モル使用）、フッ化カリウム１．４ｇ
（０．０２４モル）、ベンゾニトリル１５０ｇを加え８
０℃まで加熱した。その後滴下装置より、テトラフルオ
ロハイドロキノン２．０ｇ（０．０１１モル）をベンゾ
ニトリル３０ｇに溶解させた溶液を１時間で滴下した。
その後さらに８０℃で８時間反応させた。反応終了後、
室温まで冷却し、水５０ｍｌで有機層を２回洗浄した。
その後、有機層を蒸発乾固し、さらに未反応の３，４，
５，６−テトラフルオロフタロニトリルを蒸留により除
去することで、１，４−ビス（３，４−ジシアノ−２，
５，６−トリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベン
ゼンの粗製品５．７ｇを得た（対テトラフルオロハイド
ロキノン粗収率９６モル％）。また、得られた化合物の
純度は、液体クロマトグラフィーにより測定した結果９
４％であった。得られた化合物をカラムクロマトにより
精製し、純度９９％の１，４−ビス（３，４−ジシアノ
−２，５，６−トリフルオロフェノキシ）テトラフルオ
ロベンゼンを得た。
い、３，４，５，６−テトラフルオロフタロニトリル４
４．０ｇ（０．２２モル）（テトラフルオロハイドロキ
ノンに対し２０倍モル使用）、フッ化カリウム１．４ｇ
（０．０２４モル）、ベンゾニトリル１５０ｇを加え８
０℃まで加熱した。その後滴下装置より、テトラフルオ
ロハイドロキノン２．０ｇ（０．０１１モル）をベンゾ
ニトリル３０ｇに溶解させた溶液を１時間で滴下した。
その後さらに８０℃で８時間反応させた。反応終了後、
室温まで冷却し、水５０ｍｌで有機層を２回洗浄した。
その後、有機層を蒸発乾固し、さらに未反応の３，４，
５，６−テトラフルオロフタロニトリルを蒸留により除
去することで、１，４−ビス（３，４−ジシアノ−２，
５，６−トリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベン
ゼンの粗製品５．７ｇを得た（対テトラフルオロハイド
ロキノン粗収率９６モル％）。また、得られた化合物の
純度は、液体クロマトグラフィーにより測定した結果９
４％であった。得られた化合物をカラムクロマトにより
精製し、純度９９％の１，４−ビス（３，４−ジシアノ
−２，５，６−トリフルオロフェノキシ）テトラフルオ
ロベンゼンを得た。
【００４４】［実施例６］実施例１と同様の装置を用
い、３，４，５，６−テトラフルオロフタロニトリル３
７．４ｇ（０．１９モル）（テトラフルオロ−ｐ−ベン
ゼンジチオールに対し２０倍モル使用）、フッ化カリウ
ム１．２ｇ（０．０２１モル）、酢酸エチル１２０ｇを
加え還流温度まで加熱した。その後滴下装置より、テト
ラフルオロ−ｐ−ベンゼンジチオール２．０ｇ（０．０
０９モル）を酢酸エチル２０ｇに溶解させた溶液を１時
間で滴下した。その後さらに還流温度で８時間反応させ
た。反応終了後、室温まで冷却し、水５０ｍｌで有機層
を２回洗浄した。その後、有機層を蒸発乾固し、さらに
未反応の３，４，５，６−テトラフルオロフタロニトリ
ルを蒸留により除去することで、１，４−ビス（３，４
−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフェノキシ）テ
トラフルオロベンゼンの粗製品５．０ｇを得た（対テト
ラフルオロ−ｐ−ベンゼンジチオール粗収率９３モル
％）。また、得られた化合物の純度は、液体クロマトグ
ラフィーにより測定した結果９５％であった。得られた
化合物をカラムクロマトにより精製し、純度９９％の
１，４−ビス（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフ
ルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンを得た。精
製した化合物の物性値は下記の通りである。
い、３，４，５，６−テトラフルオロフタロニトリル３
７．４ｇ（０．１９モル）（テトラフルオロ−ｐ−ベン
ゼンジチオールに対し２０倍モル使用）、フッ化カリウ
ム１．２ｇ（０．０２１モル）、酢酸エチル１２０ｇを
加え還流温度まで加熱した。その後滴下装置より、テト
ラフルオロ−ｐ−ベンゼンジチオール２．０ｇ（０．０
０９モル）を酢酸エチル２０ｇに溶解させた溶液を１時
間で滴下した。その後さらに還流温度で８時間反応させ
た。反応終了後、室温まで冷却し、水５０ｍｌで有機層
を２回洗浄した。その後、有機層を蒸発乾固し、さらに
未反応の３，４，５，６−テトラフルオロフタロニトリ
ルを蒸留により除去することで、１，４−ビス（３，４
−ジシアノ−２，５，６−トリフルオロフェノキシ）テ
トラフルオロベンゼンの粗製品５．０ｇを得た（対テト
ラフルオロ−ｐ−ベンゼンジチオール粗収率９３モル
％）。また、得られた化合物の純度は、液体クロマトグ
ラフィーにより測定した結果９５％であった。得られた
化合物をカラムクロマトにより精製し、純度９９％の
１，４−ビス（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフ
ルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼンを得た。精
製した化合物の物性値は下記の通りである。
【００４５】 元素分析値（Ｃ22Ｆ10Ｎ4 Ｓ2 ） Ｃ Ｎ Ｆ Ｓ 計算値（％） ４６．００ ９．７５ ３３．０８ １１．１６ 実測値（％） ４５．８５ １０．０８ ３２．９５ １０．７１ ＭＳスペクトル（ＥＩ）：ｍ／ｅ ５７４，３９３ ［実施例７］実施例１と同様の装置を用い、３，４，
５，６−テトラフルオロフタロニトリル２４．２ｇ
（０．１２モル）（４，４’−ジヒドロキシ−２，
２’，３，３’，５，５’，６，６’−オクタフルオロ
ビフェニールに対し２０倍モル使用）、フッ化カリウム
０．７７ｇ（０．０１３モル）、メチルイソブチルケト
ン１００ｇを加え還流温度まで加熱した。その後滴下装
置より、４，４’−ジヒドロキシ−２，２’，３，
３’，５，５’，６，６’−オクタフルオロビフェニル
２．０ｇ（０．００６モル）をメチルイソブチルケトン
２０ｇに溶解させた溶液を１時間で滴下した。その後さ
らに還流温度で６時間反応させた。反応終了後、室温ま
で冷却し、水５０ｍｌで有機層を２回洗浄した。その
後、有機層を蒸発乾固し、さらに未反応の３，４，５，
６−テトラフルオロフタロニトリルを蒸留により除去す
ることで、４，４’−ジヒドロキシ−２，２’，３，
３’，５，５’，６，６’−オクタフルオロビフェニル
の粗製品４．１ｇを得た（対４，４’−ジヒドロキシ−
２，２’，３，３’，５，５’，６，６’−オクタフル
オロビフェニル粗収率９８モル％）。また、得られた化
合物の純度は、液体クロマトグラフィーにより測定した
結果９４％であった。得られた化合物をカラムクロマト
により精製し、純度９９％の４，４’−ジヒドロキシ−
２，２’，３，３’，５，５’，６，６’−オクタフル
オロビフェニルを得た。精製した化合物の物性値は下記
の通りである。
５，６−テトラフルオロフタロニトリル２４．２ｇ
（０．１２モル）（４，４’−ジヒドロキシ−２，
２’，３，３’，５，５’，６，６’−オクタフルオロ
ビフェニールに対し２０倍モル使用）、フッ化カリウム
０．７７ｇ（０．０１３モル）、メチルイソブチルケト
ン１００ｇを加え還流温度まで加熱した。その後滴下装
置より、４，４’−ジヒドロキシ−２，２’，３，
３’，５，５’，６，６’−オクタフルオロビフェニル
２．０ｇ（０．００６モル）をメチルイソブチルケトン
２０ｇに溶解させた溶液を１時間で滴下した。その後さ
らに還流温度で６時間反応させた。反応終了後、室温ま
で冷却し、水５０ｍｌで有機層を２回洗浄した。その
後、有機層を蒸発乾固し、さらに未反応の３，４，５，
６−テトラフルオロフタロニトリルを蒸留により除去す
ることで、４，４’−ジヒドロキシ−２，２’，３，
３’，５，５’，６，６’−オクタフルオロビフェニル
の粗製品４．１ｇを得た（対４，４’−ジヒドロキシ−
２，２’，３，３’，５，５’，６，６’−オクタフル
オロビフェニル粗収率９８モル％）。また、得られた化
合物の純度は、液体クロマトグラフィーにより測定した
結果９４％であった。得られた化合物をカラムクロマト
により精製し、純度９９％の４，４’−ジヒドロキシ−
２，２’，３，３’，５，５’，６，６’−オクタフル
オロビフェニルを得た。精製した化合物の物性値は下記
の通りである。
【００４６】 ［実施例８］実施例１と同様の装置を用い、３，４，
５，６−テトラフルオロフタロニトリル２２．１ｇ
（０．１１モル）（４，４’−ジメルカプト−２，
２’，３，３’，５，５’，６，６’−オクタフルオロ
ビフェニルに対し２０倍モル使用）、フッ化カリウム
０．７７ｇ（０．０１３モル）、酢酸イソプロピル１２
０ｇを加え還流温度まで加熱した。その後滴下装置よ
り、４，４’−ジメルカプト−２，２’，３，３’，
５，５’，６，６’−オクタフルオロビフェニル２．０
ｇ（０．００６モル）を酢酸イソプロピル２０ｇに溶解
させた溶液を１時間で滴下した。その後さらに還流温度
で８時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、水
５０ｍｌで有機層を２回洗浄した。その後、有機層を蒸
発乾固し、さらに未反応の３，４，５，６−テトラフル
オロフタロニトリルを蒸留により除去することで、４，
４’−ビス（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフル
オロフェニルチオ）オクタフルオロビフェニルの粗製品
３．８ｇを得た（対４，４’−ジメルカプト−２，
２’，３，３’，５，５’，６，６’−オクタフルオロ
ビフェニル粗収率９５モル％）。また、得られた化合物
の純度は、液体クロマトグラフィーにより測定した結果
９４％であった。得られた化合物をカラムクロマトによ
り精製し、純度９９％の４，４’−ビス（３，４−ジシ
アノ−２，５，６−トリフルオロフェニルチオ）オクタ
フルオロビフェニルを得た。精製した化合物の物性値は
下記の通りである。
５，６−テトラフルオロフタロニトリル２２．１ｇ
（０．１１モル）（４，４’−ジメルカプト−２，
２’，３，３’，５，５’，６，６’−オクタフルオロ
ビフェニルに対し２０倍モル使用）、フッ化カリウム
０．７７ｇ（０．０１３モル）、酢酸イソプロピル１２
０ｇを加え還流温度まで加熱した。その後滴下装置よ
り、４，４’−ジメルカプト−２，２’，３，３’，
５，５’，６，６’−オクタフルオロビフェニル２．０
ｇ（０．００６モル）を酢酸イソプロピル２０ｇに溶解
させた溶液を１時間で滴下した。その後さらに還流温度
で８時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、水
５０ｍｌで有機層を２回洗浄した。その後、有機層を蒸
発乾固し、さらに未反応の３，４，５，６−テトラフル
オロフタロニトリルを蒸留により除去することで、４，
４’−ビス（３，４−ジシアノ−２，５，６−トリフル
オロフェニルチオ）オクタフルオロビフェニルの粗製品
３．８ｇを得た（対４，４’−ジメルカプト−２，
２’，３，３’，５，５’，６，６’−オクタフルオロ
ビフェニル粗収率９５モル％）。また、得られた化合物
の純度は、液体クロマトグラフィーにより測定した結果
９４％であった。得られた化合物をカラムクロマトによ
り精製し、純度９９％の４，４’−ビス（３，４−ジシ
アノ−２，５，６−トリフルオロフェニルチオ）オクタ
フルオロビフェニルを得た。精製した化合物の物性値は
下記の通りである。
【００４７】 元素分析値（Ｃ28Ｆ10Ｎ4 Ｏ2 ） Ｃ Ｎ Ｆ Ｓ 計算値（％） ４６．５５ ７．７６ ３６．８２ ８．８８ 実測値（％） ４７．００ ８．０５ ３６．４８ ８．９７ ＭＳスペクトル（ＥＩ）：ｍ／ｅ ７２２，５４１
【００４８】
【発明の効果】本発明の含フッ素フタロニトリル誘導体
の製造方法によれば、求核置換体（Ｉ）と３，４，５，
６−テトラフルオロフタロニトリルを反応する際、水に
可溶の塩基性物質と水に難溶性の有機溶媒を組み合わせ
て使用することによって、反応終了後、そのまま水洗浄
を行うことが可能になり、反応生成液から容易にフッ化
水素酸の塩を除去することができる。本発明により得ら
れた含フッ素フタロニトリル誘導体の収率は９４％以上
と高く、また純度も粗製品で９３〜９５％であり、引き
続きカラムクロマトグラフィーにより精製することによ
り９９％以上の高純度の含フッ素フタロニトリル誘導体
を得ることができる。
の製造方法によれば、求核置換体（Ｉ）と３，４，５，
６−テトラフルオロフタロニトリルを反応する際、水に
可溶の塩基性物質と水に難溶性の有機溶媒を組み合わせ
て使用することによって、反応終了後、そのまま水洗浄
を行うことが可能になり、反応生成液から容易にフッ化
水素酸の塩を除去することができる。本発明により得ら
れた含フッ素フタロニトリル誘導体の収率は９４％以上
と高く、また純度も粗製品で９３〜９５％であり、引き
続きカラムクロマトグラフィーにより精製することによ
り９９％以上の高純度の含フッ素フタロニトリル誘導体
を得ることができる。
【００４９】得られた含フッ素フタロニトリル誘導体
は、光学材料、配線基板材料、感光材料及び液晶材料等
の中間原料として有用であり、特に光学材料、配線基板
材料として用いられる含フッ素ポリイミドの中間体とし
て有用である。
は、光学材料、配線基板材料、感光材料及び液晶材料等
の中間原料として有用であり、特に光学材料、配線基板
材料として用いられる含フッ素ポリイミドの中間体とし
て有用である。
Claims (2)
- 【請求項１】 ３，４，５，６−テトラフルオロフタロ
ニトリルと下記一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｘ及びＹはそれぞれ酸素原子又は硫黄原子を表
し、Ｒは 【化２】 を表す。）で表される求核置換体を、水に難溶性の有機
溶媒中塩基性物質の存在下で反応させて得られた反応生
成液に水を添加後有機層を分離することを特徴とする下
記一般式（II） 【化３】 （式中、Ｘ、Ｙ及びＲは前記定義どおりである。）で表
される含フッ素フタロニトリル誘導体の製造方法。 - 【請求項２】 塩基性物質がアルカリ金属のフッ化物で
ある請求項１記載の含フッ素フタロニトリル誘導体の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14359395A JP4115543B2 (ja) | 1995-06-09 | 1995-06-09 | 含フッ素フタロニトリル誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14359395A JP4115543B2 (ja) | 1995-06-09 | 1995-06-09 | 含フッ素フタロニトリル誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08333322A true JPH08333322A (ja) | 1996-12-17 |
| JP4115543B2 JP4115543B2 (ja) | 2008-07-09 |
Family
ID=15342337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14359395A Expired - Fee Related JP4115543B2 (ja) | 1995-06-09 | 1995-06-09 | 含フッ素フタロニトリル誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4115543B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001040175A1 (en) * | 1999-12-02 | 2001-06-07 | Tokuyama Corporation | Process for production of sulfur compounds |
| US6891071B2 (en) | 2002-10-04 | 2005-05-10 | Corning Incorporated | Halogenated styrene compounds and very low-loss polymers made therefrom |
| US6916959B2 (en) | 2001-05-11 | 2005-07-12 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Halogen-containing aromatic compound |
| JP2006199599A (ja) * | 2005-01-18 | 2006-08-03 | Nippon Shokubai Co Ltd | ビス含フッ素フタロニトリル化合物の製造方法 |
| US7700647B2 (en) | 2003-06-17 | 2010-04-20 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Fluorinated bis (phthalic anhydride) and method for producing the same |
| RU2767683C2 (ru) * | 2020-09-09 | 2022-03-18 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Московский государственный университет имени М.В.Ломоносова» (МГУ) | Защитное покрытие на основе фторсодержащих фталонитрильных олигомеров для полимерных композиционных материалов |
-
1995
- 1995-06-09 JP JP14359395A patent/JP4115543B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001040175A1 (en) * | 1999-12-02 | 2001-06-07 | Tokuyama Corporation | Process for production of sulfur compounds |
| US6916959B2 (en) | 2001-05-11 | 2005-07-12 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Halogen-containing aromatic compound |
| US7217827B2 (en) | 2001-05-11 | 2007-05-15 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Halogen-containing aromatic compound |
| US6891071B2 (en) | 2002-10-04 | 2005-05-10 | Corning Incorporated | Halogenated styrene compounds and very low-loss polymers made therefrom |
| US7144965B2 (en) | 2002-10-04 | 2006-12-05 | Corning, Incorporated | Halogenated styrene compounds and very low-loss polymers made therefrom |
| US7700647B2 (en) | 2003-06-17 | 2010-04-20 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Fluorinated bis (phthalic anhydride) and method for producing the same |
| JP2006199599A (ja) * | 2005-01-18 | 2006-08-03 | Nippon Shokubai Co Ltd | ビス含フッ素フタロニトリル化合物の製造方法 |
| RU2767683C2 (ru) * | 2020-09-09 | 2022-03-18 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования «Московский государственный университет имени М.В.Ломоносова» (МГУ) | Защитное покрытие на основе фторсодержащих фталонитрильных олигомеров для полимерных композиционных материалов |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4115543B2 (ja) | 2008-07-09 |
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