JPH08333406A - 部分メチル化シクロデキストリン - Google Patents
部分メチル化シクロデキストリンInfo
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- JPH08333406A JPH08333406A JP6511196A JP6511196A JPH08333406A JP H08333406 A JPH08333406 A JP H08333406A JP 6511196 A JP6511196 A JP 6511196A JP 6511196 A JP6511196 A JP 6511196A JP H08333406 A JPH08333406 A JP H08333406A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 水溶性の向上したβ−シクロデキストリン誘
導体の提供。 【解決手段】 構成グルコース単位の各水酸基のメチル
化率が、 ２位：５２．８％ ３位：４０．６％ ６位：７７．４％ の部分メチル化−β−シクロデキストリン。
導体の提供。 【解決手段】 構成グルコース単位の各水酸基のメチル
化率が、 ２位：５２．８％ ３位：４０．６％ ６位：７７．４％ の部分メチル化−β−シクロデキストリン。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、水に対する溶解性
が高められた部分メチル化シクロデキストリンに関する
ものである。
が高められた部分メチル化シクロデキストリンに関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】シクロデキストリン（以下「ＣＤ」と略
記する場合あり）のメチル化物としては、ヘキサキス−
（２,６−ジ−Ｏ−メチル）α−ＣＤ、ヘプタキス−
（２,６−ジ−Ｏ−メチル）β−ＣＤ、ヘプタキス（２,
３,６−トリ−Ｏ−メチル）β−ＣＤが、またこれらの
製造方法としてはＣＤをＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド
（以下「ＤＭＦ」という）、ジメチルスルホキシド（以
下「ＤＭＳＯ」という）等の有機溶媒中で酸化バリウム
及び／又は水酸化バリウムの存在下、メチル化剤として
ジメチル硫酸もしくはヨウ化メチルを反応せしめるか、
水溶液中でＣＤに対して１５〜４０倍モル当量のＮａＯ
Ｈの存在下、同９〜３０倍モル当量のジメチル硫酸を反
応せしめる方法が知られている（例えば Chemical Abst
ract ９８、１０８頁（１９８３）；Starch/Staerke ３
２，Nr,５，１６５〜１６９頁（１９８０）等）。
記する場合あり）のメチル化物としては、ヘキサキス−
（２,６−ジ−Ｏ−メチル）α−ＣＤ、ヘプタキス−
（２,６−ジ−Ｏ−メチル）β−ＣＤ、ヘプタキス（２,
３,６−トリ−Ｏ−メチル）β−ＣＤが、またこれらの
製造方法としてはＣＤをＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミド
（以下「ＤＭＦ」という）、ジメチルスルホキシド（以
下「ＤＭＳＯ」という）等の有機溶媒中で酸化バリウム
及び／又は水酸化バリウムの存在下、メチル化剤として
ジメチル硫酸もしくはヨウ化メチルを反応せしめるか、
水溶液中でＣＤに対して１５〜４０倍モル当量のＮａＯ
Ｈの存在下、同９〜３０倍モル当量のジメチル硫酸を反
応せしめる方法が知られている（例えば Chemical Abst
ract ９８、１０８頁（１９８３）；Starch/Staerke ３
２，Nr,５，１６５〜１６９頁（１９８０）等）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ＣＤはグルコース単位
がα−１,４結合で環状に数個つながったオリゴ糖であ
って、各種の有機化合物を包接するホスト分子として、
医薬品、農薬、食品、香料、化粧品または浴剤等の分野
で用いられている。
がα−１,４結合で環状に数個つながったオリゴ糖であ
って、各種の有機化合物を包接するホスト分子として、
医薬品、農薬、食品、香料、化粧品または浴剤等の分野
で用いられている。
【０００４】しかし、ＣＤは水に溶けにくいばかりでな
く、アルコール等の有機溶媒に対する溶解性も悪いた
め、上述の分野での普遍的な応用を妨げていた。就中包
接対象の広いβ−ＣＤ（グルコース単位が７個）の水溶
性は低く、使用濃度が制限される欠点があった。
く、アルコール等の有機溶媒に対する溶解性も悪いた
め、上述の分野での普遍的な応用を妨げていた。就中包
接対象の広いβ−ＣＤ（グルコース単位が７個）の水溶
性は低く、使用濃度が制限される欠点があった。
【０００５】一方、上述の公知メチル化ＣＤは、主にそ
の分子構造研究上の興味より調製されたものであって後
述する如く、水に対して一応の溶解性の改善がなされて
いるが、温度が高くなるにつれその溶解度が低下し、依
然上記欠点が解消したものとはいえない。
の分子構造研究上の興味より調製されたものであって後
述する如く、水に対して一応の溶解性の改善がなされて
いるが、温度が高くなるにつれその溶解度が低下し、依
然上記欠点が解消したものとはいえない。
【０００６】なお、上述のいわゆる完全メチル化ＣＤ、
例えばヘプタキス−（２,３,６−Ｏ−メチル）β−ＣＤ
等を製造する際に部分メチル化ＣＤの生成も知られてい
るが、それらが如何なる理化学的性質を示すものである
かは明瞭でない（例えば、西ドイツ国特許出願公開第３
１１８２１８号公報参照）。
例えばヘプタキス−（２,３,６−Ｏ−メチル）β−ＣＤ
等を製造する際に部分メチル化ＣＤの生成も知られてい
るが、それらが如何なる理化学的性質を示すものである
かは明瞭でない（例えば、西ドイツ国特許出願公開第３
１１８２１８号公報参照）。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者は、β−ＣＤが
同数のグルコース単位よりなる他の鎖状オリゴ糖に比
し、各種溶媒に対する溶解性が劣るのは、その特異な分
子構造にあることに着目し、上記公知メチル化β−ＣＤ
の分子構造の対称性を崩すべく各種の部分メチル化β−
ＣＤについて検討した。
同数のグルコース単位よりなる他の鎖状オリゴ糖に比
し、各種溶媒に対する溶解性が劣るのは、その特異な分
子構造にあることに着目し、上記公知メチル化β−ＣＤ
の分子構造の対称性を崩すべく各種の部分メチル化β−
ＣＤについて検討した。
【０００８】その結果、β−ＣＤを異常に高濃度の水酸
化ナトリウム水溶液中、過剰のジメチル硫酸をメチル化
剤として反応せしめると、ＣＤ構成グルコースの２及び
３位水酸基の完全メチル化を伴うことなくそれらのメチ
ル化率を調整し得ることを見い出した。また、かくして
得られる特定のメチル化率を有する部分メチル化組成物
は、上述の完全メチル化β−ＣＤ等に比し、驚くべく水
溶性が向上することを見い出し本発明を完成した。こう
して得られる組成物は、単位グルコース各位の水酸基の
平均メチル化率が、 ２位：約５３〜６４％ ３位：約３８〜５１％ ６位：約７０〜１００％ の値を示す各種部分メチル化β−シクロデキストリンの
混合物である。
化ナトリウム水溶液中、過剰のジメチル硫酸をメチル化
剤として反応せしめると、ＣＤ構成グルコースの２及び
３位水酸基の完全メチル化を伴うことなくそれらのメチ
ル化率を調整し得ることを見い出した。また、かくして
得られる特定のメチル化率を有する部分メチル化組成物
は、上述の完全メチル化β−ＣＤ等に比し、驚くべく水
溶性が向上することを見い出し本発明を完成した。こう
して得られる組成物は、単位グルコース各位の水酸基の
平均メチル化率が、 ２位：約５３〜６４％ ３位：約３８〜５１％ ６位：約７０〜１００％ の値を示す各種部分メチル化β−シクロデキストリンの
混合物である。
【０００９】部分メチル化β−ＣＤ組成物は下記式
【００１０】
【化１】
【００１１】式中、Ｒは水素原子又はメチル基を表わ
す、で示される部分メチル化β−シクロデキストリンの
各位の平均メチル化率が上記の値を示すものである。
す、で示される部分メチル化β−シクロデキストリンの
各位の平均メチル化率が上記の値を示すものである。
【００１２】該組成物は、シリカゲル薄層グロマトグラ
フィー（展開溶媒：クロロホルム／メタノール＝９／
１）にかけたとき、主成分として、Ｒｆ値が約０.５
５、同０.４２、同０.３０を示す成分の混合物として得
られ、各成分は適当な分離手段により単離できる。なお
Ｒｆ値は一般的な糖誘導体と同様に、操作条件によって
若干の変動を示す。
フィー（展開溶媒：クロロホルム／メタノール＝９／
１）にかけたとき、主成分として、Ｒｆ値が約０.５
５、同０.４２、同０.３０を示す成分の混合物として得
られ、各成分は適当な分離手段により単離できる。なお
Ｒｆ値は一般的な糖誘導体と同様に、操作条件によって
若干の変動を示す。
【００１３】かかる部分メチル化β−ＣＤは混合物それ
自体で各種難水溶性化合物の可溶、包接化剤として有用
であるが、より統一した規格が求められる技術分野への
用途を考慮すると、必要により、それぞれのＲｆ値を示
す個々の成分に分離して用いることが好ましい。
自体で各種難水溶性化合物の可溶、包接化剤として有用
であるが、より統一した規格が求められる技術分野への
用途を考慮すると、必要により、それぞれのＲｆ値を示
す個々の成分に分離して用いることが好ましい。
【００１４】従って、本発明によれば、（Ａ） シリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー［薄層：Merck 社製、Art
５７４４；展開溶媒系：クロロホルム−メタノール
（９：１）］にて、Ｒｆ値が０.３０であり、そして
（Ｂ） 前処理後のガスクロマトグラフィー法により算
定したメチル化率は、構成グルコース単位の各水酸基に
ついて、それぞれ２位が５２．８％、３位が４０．６
％、６位が７７．４％である、ことを特徴とする部分メ
チル化−β−シクロデキストリンが提供される。
ゲル薄層クロマトグラフィー［薄層：Merck 社製、Art
５７４４；展開溶媒系：クロロホルム−メタノール
（９：１）］にて、Ｒｆ値が０.３０であり、そして
（Ｂ） 前処理後のガスクロマトグラフィー法により算
定したメチル化率は、構成グルコース単位の各水酸基に
ついて、それぞれ２位が５２．８％、３位が４０．６
％、６位が７７．４％である、ことを特徴とする部分メ
チル化−β−シクロデキストリンが提供される。
【００１５】前記本発明にいう「前処理後のガスクロマ
トグラフィー法」は、詳細には後述する方法を意味す
る。すなわち、より具体的には次の方法によって算出し
た値を用いたものである。
トグラフィー法」は、詳細には後述する方法を意味す
る。すなわち、より具体的には次の方法によって算出し
た値を用いたものである。
【００１６】メチル化率の算出方法 ［Ａ］ メチル化率測定用のサンプルの調整 １） 加水分解 メチル化β−ＣＤ約１００ｍｇを水４.２５ｍｌに溶か
し、トリフルオロ酢酸０.７５ｍｌを加えて１００℃で
１晩加熱する。反応液を減圧濃縮してトリフルオロ酢酸
を除く。残渣に水少量を加え再び減圧濃縮する。
し、トリフルオロ酢酸０.７５ｍｌを加えて１００℃で
１晩加熱する。反応液を減圧濃縮してトリフルオロ酢酸
を除く。残渣に水少量を加え再び減圧濃縮する。
【００１７】２） 還元 濃縮残渣を水５ｍｌに溶かし、氷水浴で冷却する。水素
化ホウ素ナトリウム０.５６ｇを少しずつ加えた後、０
℃にて４時間撹拌する。反応後３０％酢酸で過剰の水素
化ホウ素ナトリウムを分解する。２０℃で１時間撹拌
後、アンバーライト（Amberlite）ＩＲ−１２０Ｂ（H+f
orm）１５ｍｌに通し、減圧濃縮する。残渣にメタノー
ル少量を加え、再び減圧濃縮する。
化ホウ素ナトリウム０.５６ｇを少しずつ加えた後、０
℃にて４時間撹拌する。反応後３０％酢酸で過剰の水素
化ホウ素ナトリウムを分解する。２０℃で１時間撹拌
後、アンバーライト（Amberlite）ＩＲ−１２０Ｂ（H+f
orm）１５ｍｌに通し、減圧濃縮する。残渣にメタノー
ル少量を加え、再び減圧濃縮する。
【００１８】３） アセチル化 濃縮残渣にピリジン１０ｍｌ、無水酢酸５ｍｌを加え０
℃で一晩撹拌した後減圧にて試薬を留去する。減圧留去
は４０℃以下で行なう。残渣にクロロホルム６０ｍｌを
加え、飽和食塩水で洗浄した後硫酸ナトリウムで乾燥
し、濃縮する。残渣にアセトン１ｍｌを加えてガスクロ
マトグラフィー(ＧＣ)用サンプルとする。
℃で一晩撹拌した後減圧にて試薬を留去する。減圧留去
は４０℃以下で行なう。残渣にクロロホルム６０ｍｌを
加え、飽和食塩水で洗浄した後硫酸ナトリウムで乾燥
し、濃縮する。残渣にアセトン１ｍｌを加えてガスクロ
マトグラフィー(ＧＣ)用サンプルとする。
【００１９】［Ｂ］ ＧＣ分析条件 Column：３％ＥＣＮＳＳ−Ｍ（島津製作所）２ｍ×３ｍ
ｍφ Support：Chromosorb W（ＡＷ−ＤＭＣＳ）１００−１
２０ｍｅｓｈ Column temp：１８０℃ Injection temp：２６０℃ N2 flow rate：２２.５ｍｌ／ｍｉｎ H2 press：０.６ｋｇ／ｃｍ2 ［Ｃ］ メチル化率の算定 第１図に示したようなガスクロマトグラフィーの結果に
基づいて、各位がメチル化されたアセチルグルコースの
それぞれの割合を求め、例えば６位のメチル化率は６−
Ｏ−メチルを含む全てのアセチルグルコースの割合の和
として算出した。
ｍφ Support：Chromosorb W（ＡＷ−ＤＭＣＳ）１００−１
２０ｍｅｓｈ Column temp：１８０℃ Injection temp：２６０℃ N2 flow rate：２２.５ｍｌ／ｍｉｎ H2 press：０.６ｋｇ／ｃｍ2 ［Ｃ］ メチル化率の算定 第１図に示したようなガスクロマトグラフィーの結果に
基づいて、各位がメチル化されたアセチルグルコースの
それぞれの割合を求め、例えば６位のメチル化率は６−
Ｏ−メチルを含む全てのアセチルグルコースの割合の和
として算出した。
【００２０】本発明の部分メチル化−β−シクロデキス
トリンは、以下に示す方法によって得られた生成物から
適当な手段で単離することにより製造できる。
トリンは、以下に示す方法によって得られた生成物から
適当な手段で単離することにより製造できる。
【００２１】即ち、β−ＣＤとジメチル硫酸を１０（重
量／容量：以下単に％で表わすときは同様の意味を表わ
す。）％以上の水酸化ナトリウム水溶液中、ジメチル硫
酸をβ−ＣＤに対して２０倍モル当量以上反応せしめる
ことにより種々の部分メチル化β−ＣＤが得られる。
量／容量：以下単に％で表わすときは同様の意味を表わ
す。）％以上の水酸化ナトリウム水溶液中、ジメチル硫
酸をβ−ＣＤに対して２０倍モル当量以上反応せしめる
ことにより種々の部分メチル化β−ＣＤが得られる。
【００２２】こうして得られる生成物は、一般に（ｉ）
Ｒｆ値が０.５５を示すものであって、平均メチル化率
が：２位５５〜６４％、３位４３〜５１％、６位９９〜
１００％であり、融点（キャピラリー法）：１４２〜１
６１℃、かつ、比旋光度：［α］25 D １５８〜１６２°
（ｃ＝１、水）を示す部分メチル化−β−ＣＤ混合組成
物；（ｉｉ）Ｒｆ値が０.４２、平均メチル化率：２位
５５〜６０％、３位３９〜４５％、６位８６〜８８％、
融点（同上）：１５９〜１７０℃、比旋光度：［α］25
D １５６〜１５９°（ｃ＝１、水）を示す部分メチル化
−β−ＣＤ混合組成物；または、（ｉｉｉ）Ｒｆ値が
０.３０、平均メチル化率：２位５３〜６１％、３位３
８〜４５％、６位７０〜７７％、融点（同上）：１６７
〜１８０、比旋光度：［α］25 D １５５〜１５９°（ｃ
＝１、水）を示す部分メチル化−β−ＣＤ混合組成物、
を主とするものである。
Ｒｆ値が０.５５を示すものであって、平均メチル化率
が：２位５５〜６４％、３位４３〜５１％、６位９９〜
１００％であり、融点（キャピラリー法）：１４２〜１
６１℃、かつ、比旋光度：［α］25 D １５８〜１６２°
（ｃ＝１、水）を示す部分メチル化−β−ＣＤ混合組成
物；（ｉｉ）Ｒｆ値が０.４２、平均メチル化率：２位
５５〜６０％、３位３９〜４５％、６位８６〜８８％、
融点（同上）：１５９〜１７０℃、比旋光度：［α］25
D １５６〜１５９°（ｃ＝１、水）を示す部分メチル化
−β−ＣＤ混合組成物；または、（ｉｉｉ）Ｒｆ値が
０.３０、平均メチル化率：２位５３〜６１％、３位３
８〜４５％、６位７０〜７７％、融点（同上）：１６７
〜１８０、比旋光度：［α］25 D １５５〜１５９°（ｃ
＝１、水）を示す部分メチル化−β−ＣＤ混合組成物、
を主とするものである。
【００２３】上記方法における水酸化ナトリウム水溶液
の濃度は、１０％以上、実質的に本反応が遂行できる濃
度であればその上限は制限されないが、上記主要３組成
分（（ｉ）〜（ｉｉｉ）のうち、（ｉ）の組成分の生成
率を高めるには、３０〜４０％が好適である。
の濃度は、１０％以上、実質的に本反応が遂行できる濃
度であればその上限は制限されないが、上記主要３組成
分（（ｉ）〜（ｉｉｉ）のうち、（ｉ）の組成分の生成
率を高めるには、３０〜４０％が好適である。
【００２４】また、同様の目的を達成するにはジメチル
硫酸をβ−ＣＤに対して、６０〜１３０倍モル当量用い
るのが望ましい。
硫酸をβ−ＣＤに対して、６０〜１３０倍モル当量用い
るのが望ましい。
【００２５】反応温度はβ−ＣＤが実質的に分解しない
温度であれば特に限定されないが、約０〜１０℃におい
て行うのが望ましい。また、反応時間は使用する水酸化
ナトリウム水溶液の濃度及び反応温度によって変動し、
臨界的でないが、約７〜２０時間の範囲に選定するのが
よい。
温度であれば特に限定されないが、約０〜１０℃におい
て行うのが望ましい。また、反応時間は使用する水酸化
ナトリウム水溶液の濃度及び反応温度によって変動し、
臨界的でないが、約７〜２０時間の範囲に選定するのが
よい。
【００２６】なお、反応混合物から目的成分を単離、精
製する方法はクロロホルム、ジクロルメタン、四塩化炭
素等の炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素等の一般に水溶液から脂溶性物質を抽出す
る場合に用いられる有機溶媒による抽出法によるか、シ
リカゲル、アルミナゲル、活性炭等を用いるカラムクロ
マトグラフィー等によって実施することができる。
製する方法はクロロホルム、ジクロルメタン、四塩化炭
素等の炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳
香族炭化水素等の一般に水溶液から脂溶性物質を抽出す
る場合に用いられる有機溶媒による抽出法によるか、シ
リカゲル、アルミナゲル、活性炭等を用いるカラムクロ
マトグラフィー等によって実施することができる。
【００２７】下記表−１に各種反応条件下における各部
分メチル化β−ＣＤの生成割合を示す。
分メチル化β−ＣＤの生成割合を示す。
【００２８】 表−１ NaOH濃度 (CH3)2SO4量 反応温度 生成物組成(％)*(％,w/v) (当量:対β-CD) (℃) 0.55 0.42 0.30 10 20 0〜 5 7.3 20.7 34.9 20 20 -10〜 0 3.1 14.1 34.9 30 20 0〜10 17.5 33.1 31.8 40 20 0〜10 36.5 33.5 22.2 10 30 0〜 5 16.7 23.1 28.1 30 30 0〜10 47.2 36.8 13.5 40 30 0〜10 66.6 26.9 5.5 40 40 0〜10 85.0 13.4 1.4 40 60 0〜10 92.4 7.0 0.6 40 100 0〜10 98.5 1.5 - 10 130 0〜 5 29.6 40.0 22.3 20 130 0〜10 76.2 20.6 3.0 30 130 0〜10 95.5 4.1 0.4 40 130 0〜10 98.7 1.3 - ＊ サンプルは反応液よりＣＨＣｌ3抽出したものをシリカゲルＴＬＣ（展開系 ：ＣＨＣｌ3−ＭｅＯＨ＝９：１）で展開し、硫酸発色した後、各Ｒｆ値のスポ ットをクロマトスキャナーで測定した相対値。
【００２９】
【実施例】以下に、実施例により本発明を更に詳細に説
明する。
明する。
【００３０】参考例１ β−ＣＤ（RINGDEX−Ｂ、メルシャン（株）製）７５.０
ｇ（６.６１×１０-2モル）を、４０％（ｗｔ／ｖ）Ｎ
ａＯＨ水溶液４００.０ｍｌ（４.００モル、β−ＣＤの
６０倍モル当量）に溶解し、反応温度０〜１０℃でジメ
チル硫酸３７５.５ｍｌ（３.９７モル、β−ＣＤの６０
倍モル当量）を徐々に滴下し、更に１５時間撹拌下反応
を続けた。反応後濃アンモニア水１１０ｍｌ（１.６３
モル）を添加し未反応のジメチル硫酸を分解し、更に６
時間撹拌した。反応液を希塩酸にて中和し、ｐＨ約６に
調整した。クロロホルム１ｌを添加し、部分メチル化β
−ＣＤを抽出し、クロロホルム層を水で数回洗浄した。
クロロホルム層を芒硝で乾燥後、クロロホルムを留去し
残留分をエタノール２００ｍｌに溶解し溶媒を留去し
た。更に水２００ｍｌを加え水溶液とした後濃縮乾固
し、部分メチル化β−ＣＤ７１.１ｇを得た。
ｇ（６.６１×１０-2モル）を、４０％（ｗｔ／ｖ）Ｎ
ａＯＨ水溶液４００.０ｍｌ（４.００モル、β−ＣＤの
６０倍モル当量）に溶解し、反応温度０〜１０℃でジメ
チル硫酸３７５.５ｍｌ（３.９７モル、β−ＣＤの６０
倍モル当量）を徐々に滴下し、更に１５時間撹拌下反応
を続けた。反応後濃アンモニア水１１０ｍｌ（１.６３
モル）を添加し未反応のジメチル硫酸を分解し、更に６
時間撹拌した。反応液を希塩酸にて中和し、ｐＨ約６に
調整した。クロロホルム１ｌを添加し、部分メチル化β
−ＣＤを抽出し、クロロホルム層を水で数回洗浄した。
クロロホルム層を芒硝で乾燥後、クロロホルムを留去し
残留分をエタノール２００ｍｌに溶解し溶媒を留去し
た。更に水２００ｍｌを加え水溶液とした後濃縮乾固
し、部分メチル化β−ＣＤ７１.１ｇを得た。
【００３１】得られた部分メチル化β−ＣＤの比旋光度
［α］25 D は＋１６１.３°（ｃ＝１.０、水）、融点１
４４.５〜１５２.０℃、溶解度は第２図に示す溶解度を
示した。
［α］25 D は＋１６１.３°（ｃ＝１.０、水）、融点１
４４.５〜１５２.０℃、溶解度は第２図に示す溶解度を
示した。
【００３２】ガスクロマトグラフィー法によるメチル化
率の分析の結果、構成する全グルコースの単位グルコー
スにおけるそれぞれの位置の水酸基のメチル化率は下記
の割合であった。
率の分析の結果、構成する全グルコースの単位グルコー
スにおけるそれぞれの位置の水酸基のメチル化率は下記
の割合であった。
【００３３】２位 ５６.８％ ３位 ４６.４％ ６位 ９８.９％ 平均 ６７.４％ 実施例 β−ＣＤ（RINGDEX−Ｂ、メルシャン（株）製）８０.０
ｇ（７.０５×１０-2モル）を、４０％（ｗｔ／ｖ）Ｎ
ａＯＨ水溶液２８２.０ｍｌ（２.１２モル、β−ＣＤの
３０倍モル当量）に溶解し、反応温度０〜１０℃でジメ
チル硫酸２００.２ｍｌ（２.１１モル、β−ＣＤの３０
倍モル当量）を徐々に滴下し、更に１５時間撹拌下反応
を続けた。反応後濃アンモニア水６０ｍｌ（０.８９モ
ル）を添加し、未反応のジメチル硫酸を分解し更に６時
間撹拌した。反応液を希塩酸にて中和し、ｐＨ約６に調
整した。クロロホルム８００ｍｌで部分メチル化β−Ｃ
Ｄを抽出し、クロロホルム層を水で数回洗浄した。クロ
ロホルム層を芒硝で乾燥後、クロロホルムを留去し、残
留分をエタノール２００ｍｌに溶解し溶媒を留去した。
更に水２００ｍｌを加え水溶液とした後濃縮乾固し、部
分メチル化β−ＣＤ８０.４ｇを得た。
ｇ（７.０５×１０-2モル）を、４０％（ｗｔ／ｖ）Ｎ
ａＯＨ水溶液２８２.０ｍｌ（２.１２モル、β−ＣＤの
３０倍モル当量）に溶解し、反応温度０〜１０℃でジメ
チル硫酸２００.２ｍｌ（２.１１モル、β−ＣＤの３０
倍モル当量）を徐々に滴下し、更に１５時間撹拌下反応
を続けた。反応後濃アンモニア水６０ｍｌ（０.８９モ
ル）を添加し、未反応のジメチル硫酸を分解し更に６時
間撹拌した。反応液を希塩酸にて中和し、ｐＨ約６に調
整した。クロロホルム８００ｍｌで部分メチル化β−Ｃ
Ｄを抽出し、クロロホルム層を水で数回洗浄した。クロ
ロホルム層を芒硝で乾燥後、クロロホルムを留去し、残
留分をエタノール２００ｍｌに溶解し溶媒を留去した。
更に水２００ｍｌを加え水溶液とした後濃縮乾固し、部
分メチル化β−ＣＤ８０.４ｇを得た。
【００３４】得られた部分メチル化β−ＣＤの比旋光度
［α］25 D は＋１５９.７°（ｃ＝１.０、水）、融点１
４９.４〜１５８.３℃、ガスクロマトグラフィー法によ
るメチル化率の分析の結果、構成する全グルコースの単
位グルコースにおけるそれぞれの位置の水酸基のメチル
化率は下記の割合であった。
［α］25 D は＋１５９.７°（ｃ＝１.０、水）、融点１
４９.４〜１５８.３℃、ガスクロマトグラフィー法によ
るメチル化率の分析の結果、構成する全グルコースの単
位グルコースにおけるそれぞれの位置の水酸基のメチル
化率は下記の割合であった。
【００３５】２位 ５４.１％ ３位 ４３.５％ ６位 ８８.６％ 平均 ６２.１％ 得られた部分メチル化β−ＣＤの混合物４２０ｍｇを取
り、少量のクロロホルム−メタノールに溶解し、シリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー（Merck 社製、Art ５７４
４、２０×２０ｃｍ×１５枚）にスポットしクロロホル
ム−メタノール展開系において精製分離し、構成する主
３成分を得た。得られた３成分の収得量及び物性値は以
下に示す値であった。各成分のメチル化分析はガスクロ
マトグラフィー法によった。
り、少量のクロロホルム−メタノールに溶解し、シリカ
ゲル薄層クロマトグラフィー（Merck 社製、Art ５７４
４、２０×２０ｃｍ×１５枚）にスポットしクロロホル
ム−メタノール展開系において精製分離し、構成する主
３成分を得た。得られた３成分の収得量及び物性値は以
下に示す値であった。各成分のメチル化分析はガスクロ
マトグラフィー法によった。
【００３６】構成成分１ 収得量２２０ｍｇ、Ｒｆ値０.５５（但し、展開溶媒系
クロロホルム−メタノール（９：１））、［α］25 D ：
＋１６０.１°（ｃ＝１.０、水）、融点１５２.５〜１
６０.０℃、溶解度１３３ｇ／１００ｍｌ水（２５
℃）、メチル化率（位置は構成グルコース単位の水酸
基） ２位 ５５.６％ ３位 ４５.７％ ６位 １００％ 平均 ６７.１％ 構成成分２ 収得量９７ｍｇ、Ｒｆ値０.４２（但し、展開溶媒系ク
ロロホルム−メタノール（９：１））、［α］25 D ：＋
１５８.２°（ｃ＝１.０、水）、融点１６１.５〜１６
７.０℃、メチル化率（位置は構成グルコース単位の水
酸基） ２位 ５５.６％ ３位 ４２.７％ ６位 ８７.５％ 平均 ６１.９％ 構成成分３ 収得量２８ｍｇ、Ｒｆ値０.３０（但し、展開溶媒系ク
ロロホルム−メタノール（９：１））、［α］25 D ：＋
１５８.２°（ｃ＝１.０、水）、融点１６７.０〜１７
３.５℃、メチル化率（位置は構成グルコース単位の水
酸基） ２位 ５２.８％ ３位 ４０.６％ ６位 ７７.４％ 平均 ５６.９％ 参考例２ β−ＣＤ（RINGDEX−Ｂ、メルシャン（株）製）２５０.
０ｇ（２.２０×１０-1モル）を、４０％（ｗｔ／ｖ）
ＮａＯＨ水溶液２８６０ｍｌ（２８.６モル、β−ＣＤ
の１３０倍モル当量）に溶解し反応温度０〜１５℃でジ
メチル硫酸２７００ｍｌ（２８.６モル、β−ＣＤの１
３０倍モル当量）を約１０時間かけて滴下し、更に１５
時間撹拌下反応を続けた。反応後濃アンモニア水７９４
ｍｌ（１１.８モル）を添加し、未反応のジメチル硫酸
を分解し更に一夜放置した。反応液を希塩酸にて中和し
ｐＨ約６に調整した。クロロホルム８.７ｌでメチル化
β−ＣＤを抽出した。クロロホルム層を水で洗浄し、芒
硝で乾燥後クロロホルムを留去した。残留分をエタノー
ル１.５ｌに溶解した後溶媒を留去した。更に水２ｌを
加え、水溶液とした後５μｍのミリポアフィルターで濾
過後凍結乾燥し、メチル化β−ＣＤ２６１.４ｇを得
た。
クロロホルム−メタノール（９：１））、［α］25 D ：
＋１６０.１°（ｃ＝１.０、水）、融点１５２.５〜１
６０.０℃、溶解度１３３ｇ／１００ｍｌ水（２５
℃）、メチル化率（位置は構成グルコース単位の水酸
基） ２位 ５５.６％ ３位 ４５.７％ ６位 １００％ 平均 ６７.１％ 構成成分２ 収得量９７ｍｇ、Ｒｆ値０.４２（但し、展開溶媒系ク
ロロホルム−メタノール（９：１））、［α］25 D ：＋
１５８.２°（ｃ＝１.０、水）、融点１６１.５〜１６
７.０℃、メチル化率（位置は構成グルコース単位の水
酸基） ２位 ５５.６％ ３位 ４２.７％ ６位 ８７.５％ 平均 ６１.９％ 構成成分３ 収得量２８ｍｇ、Ｒｆ値０.３０（但し、展開溶媒系ク
ロロホルム−メタノール（９：１））、［α］25 D ：＋
１５８.２°（ｃ＝１.０、水）、融点１６７.０〜１７
３.５℃、メチル化率（位置は構成グルコース単位の水
酸基） ２位 ５２.８％ ３位 ４０.６％ ６位 ７７.４％ 平均 ５６.９％ 参考例２ β−ＣＤ（RINGDEX−Ｂ、メルシャン（株）製）２５０.
０ｇ（２.２０×１０-1モル）を、４０％（ｗｔ／ｖ）
ＮａＯＨ水溶液２８６０ｍｌ（２８.６モル、β−ＣＤ
の１３０倍モル当量）に溶解し反応温度０〜１５℃でジ
メチル硫酸２７００ｍｌ（２８.６モル、β−ＣＤの１
３０倍モル当量）を約１０時間かけて滴下し、更に１５
時間撹拌下反応を続けた。反応後濃アンモニア水７９４
ｍｌ（１１.８モル）を添加し、未反応のジメチル硫酸
を分解し更に一夜放置した。反応液を希塩酸にて中和し
ｐＨ約６に調整した。クロロホルム８.７ｌでメチル化
β−ＣＤを抽出した。クロロホルム層を水で洗浄し、芒
硝で乾燥後クロロホルムを留去した。残留分をエタノー
ル１.５ｌに溶解した後溶媒を留去した。更に水２ｌを
加え、水溶液とした後５μｍのミリポアフィルターで濾
過後凍結乾燥し、メチル化β−ＣＤ２６１.４ｇを得
た。
【００３７】得られたメチル化β−ＣＤの比旋光度
〔α〕25 D は＋１６０.１°（ｃ＝１.０、水）、融点１
４３.０〜１５２.０℃、溶解度は図に示す溶解度を示し
た。
〔α〕25 D は＋１６０.１°（ｃ＝１.０、水）、融点１
４３.０〜１５２.０℃、溶解度は図に示す溶解度を示し
た。
【００３８】ガスクロマトグラフィー法によるメチル化
率の分析の結果構成する全グルコースの単位グルコース
におけるそれぞれの位置の水酸基のメチル化率は下記の
割合であった。
率の分析の結果構成する全グルコースの単位グルコース
におけるそれぞれの位置の水酸基のメチル化率は下記の
割合であった。
【００３９】２位 ６１.４％ ３位 ４９.３％ ６位 １００％ 平均 ７０.２％
【００４０】
【発明の効果】本発明によれば、ＣＤ自体またはその公
知メチル化ＣＤに比し、水に対して数倍の溶解性を示
し、殊に特徴的なのは、公知のメチル化ＣＤが温度の上
昇につれて、その溶解性が低下するのに対し、逆に向上
するという特性を有する部分メチル化ＣＤが提供され
る。
知メチル化ＣＤに比し、水に対して数倍の溶解性を示
し、殊に特徴的なのは、公知のメチル化ＣＤが温度の上
昇につれて、その溶解性が低下するのに対し、逆に向上
するという特性を有する部分メチル化ＣＤが提供され
る。
【図１】薄層クロマトグラフィーによるＲｆ値が０.５
５のメチル化β−ＣＤ組成物に由来するガスクロマトグ
ラフを表す。
５のメチル化β−ＣＤ組成物に由来するガスクロマトグ
ラフを表す。
【図２】薄層クロマトグラフィーによるＲｆ値が０.５
５のメチル化−β−ＣＤ組成物及び原料β−ＣＤ、並び
に公知メチル化ＣＤであるヘプタキス−（２,６−ジ−
Ｏ−メチル）β−ＣＤ及びヘプタキス−（２,３,６−ト
リ−Ｏ−メチル）β−ＣＤの各温度における水に対する
溶解性を示したものである。なお図中、△：β−ＣＤ ：ヘプタキス−（２.６−ジ−Ｏ−メチル）β−ＣＤ ▲：ヘプタキス−（２,３,６−トリ−Ｏ−メチル）β−
ＣＤ ●：本発明の部分メチル化β−ＣＤ組成物（ｉ） を表わす。
５のメチル化−β−ＣＤ組成物及び原料β−ＣＤ、並び
に公知メチル化ＣＤであるヘプタキス−（２,６−ジ−
Ｏ−メチル）β−ＣＤ及びヘプタキス−（２,３,６−ト
リ−Ｏ−メチル）β−ＣＤの各温度における水に対する
溶解性を示したものである。なお図中、△：β−ＣＤ ：ヘプタキス−（２.６−ジ−Ｏ−メチル）β−ＣＤ ▲：ヘプタキス−（２,３,６−トリ−Ｏ−メチル）β−
ＣＤ ●：本発明の部分メチル化β−ＣＤ組成物（ｉ） を表わす。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 充克 神奈川県藤沢市藤沢3341 (72)発明者 八木 佳明 神奈川県藤沢市藤沢5437−38 (72)発明者 石倉 知之 神奈川県茅ヶ崎市小和田１丁目22−32
Claims (1)
- 【請求項１】 （Ａ）シリカゲル薄層クロマトグラフィ
ー［薄層：Merck 社製、Art ５７４４；展開溶媒系：ク
ロロホルム−メタノール（９：１）］にて、 Ｒｆ値が０.３０であり、そして（Ｂ）前処理後のガス
クロマトグラフィー法により算定したメチル化率は、構
成グルコース単位の各水酸基について、それぞれ２位が
５２．８％、 ３位が４０．６％、 ６位が７７．４％である、ことを特徴とする部分メチル
化−β−シクロデキストリン。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6511196A JP2643107B2 (ja) | 1996-02-28 | 1996-02-28 | 部分メチル化シクロデキストリン |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6511196A JP2643107B2 (ja) | 1996-02-28 | 1996-02-28 | 部分メチル化シクロデキストリン |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61185177A Division JPH0717686B2 (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 部分メチル化シクロデキストリン及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08333406A true JPH08333406A (ja) | 1996-12-17 |
| JP2643107B2 JP2643107B2 (ja) | 1997-08-20 |
Family
ID=13277466
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6511196A Expired - Lifetime JP2643107B2 (ja) | 1996-02-28 | 1996-02-28 | 部分メチル化シクロデキストリン |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2643107B2 (ja) |
-
1996
- 1996-02-28 JP JP6511196A patent/JP2643107B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2643107B2 (ja) | 1997-08-20 |
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