JPH08333672A - 光学部品の製造方法 - Google Patents
光学部品の製造方法Info
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- JPH08333672A JPH08333672A JP13917095A JP13917095A JPH08333672A JP H08333672 A JPH08333672 A JP H08333672A JP 13917095 A JP13917095 A JP 13917095A JP 13917095 A JP13917095 A JP 13917095A JP H08333672 A JPH08333672 A JP H08333672A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】樹脂材料からなる基体上に、実用に供し得る耐
擦傷性及び所望の反射防止機能を有する膜を、密着性良
好に備えた光学部品を、生産性良く製造することができ
る光学部品の製造方法を提供する。 【構成】（１）樹脂基体Ｓ上に、蒸着とイオン照射を併
用してシリコン酸化物膜を形成し、その外側に、シリコ
ン酸化物膜、チタン酸化物膜、ジルコニウム酸化物膜、
アルミニウム酸化物膜、タンタル酸化物膜からなる群よ
り選ばれた１又は複数の膜を、反射防止効果が得られる
ように形成する。（２）（１）の方法において、シリコ
ン酸化物膜に代えてシリコン窒化物膜を形成する。
（３）基体Ｓ上に、蒸着とイオン照射を併用してシリコ
ン酸化物膜を形成し、その外側に、蒸着とイオン照射を
併用したシリコン窒化物膜と（１）の方法に示す群より
選ばれた１又は複数の膜とを、反射防止効果が得られる
ように形成する。
擦傷性及び所望の反射防止機能を有する膜を、密着性良
好に備えた光学部品を、生産性良く製造することができ
る光学部品の製造方法を提供する。 【構成】（１）樹脂基体Ｓ上に、蒸着とイオン照射を併
用してシリコン酸化物膜を形成し、その外側に、シリコ
ン酸化物膜、チタン酸化物膜、ジルコニウム酸化物膜、
アルミニウム酸化物膜、タンタル酸化物膜からなる群よ
り選ばれた１又は複数の膜を、反射防止効果が得られる
ように形成する。（２）（１）の方法において、シリコ
ン酸化物膜に代えてシリコン窒化物膜を形成する。
（３）基体Ｓ上に、蒸着とイオン照射を併用してシリコ
ン酸化物膜を形成し、その外側に、蒸着とイオン照射を
併用したシリコン窒化物膜と（１）の方法に示す群より
選ばれた１又は複数の膜とを、反射防止効果が得られる
ように形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、樹脂材料からなるレン
ズ等の光学部品に関する。
ズ等の光学部品に関する。
【０００２】
【従来の技術】レンズ等の光学部品の材質には、ガラス
よりも安価で、軽量で、耐衝撃性や易加工性に優れるプ
ラスチックが幅広く用いられる。しかし、プラスチック
からなる光学部品はガラスに比べて硬度が低いため耐擦
傷性が劣る。そこで、プラスチックからなる光学部品
に、例えばシリコン樹脂や多官能アクリレート樹脂等の
高硬度の樹脂をコーティングすることが試みられてい
る。シリコン樹脂コーティングについては、コロイド状
の２酸化ケイ素等の樹脂材料を含む液体を光学部品に塗
布し、熱硬化させる。また、多官能アクリレート樹脂コ
ーティングについては、ポリオールアクリレート等のア
クリレート樹脂材料を含む液体を光学部品に塗布し、紫
外線等により硬化させる。
よりも安価で、軽量で、耐衝撃性や易加工性に優れるプ
ラスチックが幅広く用いられる。しかし、プラスチック
からなる光学部品はガラスに比べて硬度が低いため耐擦
傷性が劣る。そこで、プラスチックからなる光学部品
に、例えばシリコン樹脂や多官能アクリレート樹脂等の
高硬度の樹脂をコーティングすることが試みられてい
る。シリコン樹脂コーティングについては、コロイド状
の２酸化ケイ素等の樹脂材料を含む液体を光学部品に塗
布し、熱硬化させる。また、多官能アクリレート樹脂コ
ーティングについては、ポリオールアクリレート等のア
クリレート樹脂材料を含む液体を光学部品に塗布し、紫
外線等により硬化させる。
【０００３】また、プラスチックからなる光学部品は、
例えばレンズでは、レンズ表面で入射光が反射してゴー
ストやチラツキが生じるのを防止し、また、レンズを通
した視界の明るさを保つために、その表面を反射防止膜
で被覆する場合が多い。この反射防止膜の材質及び膜厚
は、普通は該膜で被覆された光学部品の使用する波長の
光に対する反射が最も少なくなるように定める。反射防
止膜は、その屈折率と膜厚の積を、該膜で被覆しようと
する光学部品基体の屈折率、空気の屈折率及び所定の光
の波長によって決まる一定の値としたとき、その光の反
射を最も少なくすることができる。また、この様に反射
防止膜を単層コーティングするに際して、屈折率が異な
る複数の物質の混合物からなる膜をコーティングする場
合もある。その他、屈折率や膜厚が異なる複数の膜を積
層して複数層コーティングし、全体として反射防止効果
を発揮させる方法も行われている。複数の膜を積層した
反射防止膜で被覆した光学部品では、単層の反射防止膜
で被覆した光学部品に比べてより広い波長領域の光の反
射を抑制することができる。
例えばレンズでは、レンズ表面で入射光が反射してゴー
ストやチラツキが生じるのを防止し、また、レンズを通
した視界の明るさを保つために、その表面を反射防止膜
で被覆する場合が多い。この反射防止膜の材質及び膜厚
は、普通は該膜で被覆された光学部品の使用する波長の
光に対する反射が最も少なくなるように定める。反射防
止膜は、その屈折率と膜厚の積を、該膜で被覆しようと
する光学部品基体の屈折率、空気の屈折率及び所定の光
の波長によって決まる一定の値としたとき、その光の反
射を最も少なくすることができる。また、この様に反射
防止膜を単層コーティングするに際して、屈折率が異な
る複数の物質の混合物からなる膜をコーティングする場
合もある。その他、屈折率や膜厚が異なる複数の膜を積
層して複数層コーティングし、全体として反射防止効果
を発揮させる方法も行われている。複数の膜を積層した
反射防止膜で被覆した光学部品では、単層の反射防止膜
で被覆した光学部品に比べてより広い波長領域の光の反
射を抑制することができる。
【０００４】反射防止膜の材質は、前記のような屈折率
を有する他、使用する光の波長領域で光を吸収せず、透
明であることが求められる。このような材質として、シ
リコン酸化物、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物、ア
ルミニウム酸化物、タンタル酸化物等が用いられる。こ
れらの反射防止膜は、通常、真空蒸着法により光学部品
基体上に形成される。
を有する他、使用する光の波長領域で光を吸収せず、透
明であることが求められる。このような材質として、シ
リコン酸化物、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物、ア
ルミニウム酸化物、タンタル酸化物等が用いられる。こ
れらの反射防止膜は、通常、真空蒸着法により光学部品
基体上に形成される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、高硬度
樹脂膜で被覆したプラスチックからなる光学部品も、ガ
ラスからなる光学部品に比べると耐擦傷性が低い。ま
た、光学部品基体上に前記高硬度樹脂膜が形成されてお
り、さらにその上に膜形成されて全体として反射防止膜
となる場合は、高硬度樹脂膜とその上に形成された膜と
の密着性が悪いこともある。この点、シリコン樹脂から
なる高硬度膜は、前記反射防止膜との密着性は比較的良
いが、シリコン樹脂は熱硬化させるのに数時間かかるた
め生産性が悪い。またシリコン樹脂からなる高硬度膜
は、光学部品基体の材質がアクリル樹脂である場合は、
該基体との密着性に劣る。
樹脂膜で被覆したプラスチックからなる光学部品も、ガ
ラスからなる光学部品に比べると耐擦傷性が低い。ま
た、光学部品基体上に前記高硬度樹脂膜が形成されてお
り、さらにその上に膜形成されて全体として反射防止膜
となる場合は、高硬度樹脂膜とその上に形成された膜と
の密着性が悪いこともある。この点、シリコン樹脂から
なる高硬度膜は、前記反射防止膜との密着性は比較的良
いが、シリコン樹脂は熱硬化させるのに数時間かかるた
め生産性が悪い。またシリコン樹脂からなる高硬度膜
は、光学部品基体の材質がアクリル樹脂である場合は、
該基体との密着性に劣る。
【０００６】このように、樹脂材料からなる光学部品で
あって、反射防止機能と高い耐擦傷性を兼ね備え、実用
に供し得るものは未だ開発されていないのが現状であ
る。そこで本発明は、樹脂材料からなる基体上に、実用
に供し得る耐擦傷性及び所望の反射防止機能を有する膜
を密着性良好に備えた光学部品を、生産性良く製造する
ことができる光学部品の製造方法を提供することを課題
とする。
あって、反射防止機能と高い耐擦傷性を兼ね備え、実用
に供し得るものは未だ開発されていないのが現状であ
る。そこで本発明は、樹脂材料からなる基体上に、実用
に供し得る耐擦傷性及び所望の反射防止機能を有する膜
を密着性良好に備えた光学部品を、生産性良く製造する
ことができる光学部品の製造方法を提供することを課題
とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に本発明は、次のの光学部品の製造方法を提供す
る。 樹脂からなる光学部品基体上に、蒸着とイオン照射
を併用してシリコン酸化物膜を形成し、その外側に、シ
リコン酸化物膜、チタン酸化物膜、ジルコニウム酸化物
膜、アルミニウム酸化物膜及びタンタル酸化物膜からな
る群より選ばれた１又は複数の膜を形成する、さらに言
うと、該１又は複数の膜を前記当初形成のシリコン酸化
物膜と共に所定の波長の光に対して反射防止効果が得ら
れるように形成することを特徴とする光学部品の製造方
法。 樹脂からなる光学部品基体上に、蒸着とイオン照射
を併用してシリコン窒化物膜を形成し、その外側にシリ
コン酸化物膜、チタン酸化物膜、ジルコニウム酸化物
膜、アルミニウム酸化物膜及びタンタル酸化物膜からな
る群より選ばれた１又は複数の膜を形成する、さらに言
うと、該１又は複数の膜を前記シリコン窒化物膜と共に
所定の波長の光に対して反射防止効果が得られるように
形成することを特徴とする光学部品の製造方法。 樹脂からなる光学部品基体上に、蒸着とイオン照射
を併用してシリコン酸化物膜を形成し、その外側に、シ
リコン窒化物膜と、シリコン酸化物膜、チタン酸化物
膜、ジルコニウム酸化物膜、アルミニウム酸化物膜及び
タンタル酸化物膜からなる群から選ばれた１又は複数の
膜とを形成し、さらに言うと、該シリコン窒化物膜と該
１又は複数の膜とを前記当初形成のシリコン酸化物膜と
共に所定の波長の光に対して反射防止効果が得られるよ
うに形成し、該シリコン窒化物膜の形成は蒸着とイオン
照射とを併用して行うことを特徴とする光学部品の製造
方法。
に本発明は、次のの光学部品の製造方法を提供す
る。 樹脂からなる光学部品基体上に、蒸着とイオン照射
を併用してシリコン酸化物膜を形成し、その外側に、シ
リコン酸化物膜、チタン酸化物膜、ジルコニウム酸化物
膜、アルミニウム酸化物膜及びタンタル酸化物膜からな
る群より選ばれた１又は複数の膜を形成する、さらに言
うと、該１又は複数の膜を前記当初形成のシリコン酸化
物膜と共に所定の波長の光に対して反射防止効果が得ら
れるように形成することを特徴とする光学部品の製造方
法。 樹脂からなる光学部品基体上に、蒸着とイオン照射
を併用してシリコン窒化物膜を形成し、その外側にシリ
コン酸化物膜、チタン酸化物膜、ジルコニウム酸化物
膜、アルミニウム酸化物膜及びタンタル酸化物膜からな
る群より選ばれた１又は複数の膜を形成する、さらに言
うと、該１又は複数の膜を前記シリコン窒化物膜と共に
所定の波長の光に対して反射防止効果が得られるように
形成することを特徴とする光学部品の製造方法。 樹脂からなる光学部品基体上に、蒸着とイオン照射
を併用してシリコン酸化物膜を形成し、その外側に、シ
リコン窒化物膜と、シリコン酸化物膜、チタン酸化物
膜、ジルコニウム酸化物膜、アルミニウム酸化物膜及び
タンタル酸化物膜からなる群から選ばれた１又は複数の
膜とを形成し、さらに言うと、該シリコン窒化物膜と該
１又は複数の膜とを前記当初形成のシリコン酸化物膜と
共に所定の波長の光に対して反射防止効果が得られるよ
うに形成し、該シリコン窒化物膜の形成は蒸着とイオン
照射とを併用して行うことを特徴とする光学部品の製造
方法。
【０００８】本明細書において、「光学部品」とは、望
遠鏡等の光学機器、眼鏡、拡大鏡等におけるレンズ等の
光を透過させる部品を指す。本発明の前記、及び
の各方法における蒸着は、電子ビーム、抵抗、レーザ、
高周波等により蒸発物質を加熱して蒸発させる真空蒸着
及びイオンビーム、マグネトロン、高周波等の手段によ
りターゲットをスパッタするスパッタ蒸着等であること
が考えられる。
遠鏡等の光学機器、眼鏡、拡大鏡等におけるレンズ等の
光を透過させる部品を指す。本発明の前記、及び
の各方法における蒸着は、電子ビーム、抵抗、レーザ、
高周波等により蒸発物質を加熱して蒸発させる真空蒸着
及びイオンビーム、マグネトロン、高周波等の手段によ
りターゲットをスパッタするスパッタ蒸着等であること
が考えられる。
【０００９】本発明の前記、及びの各方法におい
て、イオン照射時の加速エネルギは５０ｅＶ以上４０ｋ
ｅＶ以下とすることが考えられる。これは、５０ｅＶよ
り小さいとイオン照射による効果が十分に得られないか
らであり、４０ｋｅＶより大きいと基体に熱的損傷を与
えるため好ましくないからである。なお、基体へのイオ
ン入射角度は特に制限はなく、基体を回転させながらイ
オン注入を行ってもよい。イオン源の方式も特に制限は
なく、例えばカウフマン型、バケット型等のものが考え
られる。
て、イオン照射時の加速エネルギは５０ｅＶ以上４０ｋ
ｅＶ以下とすることが考えられる。これは、５０ｅＶよ
り小さいとイオン照射による効果が十分に得られないか
らであり、４０ｋｅＶより大きいと基体に熱的損傷を与
えるため好ましくないからである。なお、基体へのイオ
ン入射角度は特に制限はなく、基体を回転させながらイ
オン注入を行ってもよい。イオン源の方式も特に制限は
なく、例えばカウフマン型、バケット型等のものが考え
られる。
【００１０】本発明の前記、及びの各方法におい
て、蒸着とイオン照射を併用して膜形成を行う場合、蒸
着と同時、交互又は該蒸着後にイオンを照射することが
考えられる。本発明の及びの各方法において、基体
上に蒸着とイオン照射を併用してシリコン酸化物膜を形
成する際の、蒸発物質と照射イオンの組み合わせとして
は、シリコン（Ｓｉ）単体と酸素（Ｏ）イオン、シリコ
ン単体と酸素イオン及び不活性ガスイオン（ヘリウム
（Ｈｅ）イオン、ネオン（Ｎｅ）イオン、アルゴン（Ａ
ｒ）イオン、クリプトン（Ｋｒ）イオン、キセノン（Ｘ
ｅ）イオン）、シリコン酸化物と不活性ガスイオン、シ
リコン酸化物と不活性ガスイオン及び酸素イオン等の組
み合わせを挙げることができる。
て、蒸着とイオン照射を併用して膜形成を行う場合、蒸
着と同時、交互又は該蒸着後にイオンを照射することが
考えられる。本発明の及びの各方法において、基体
上に蒸着とイオン照射を併用してシリコン酸化物膜を形
成する際の、蒸発物質と照射イオンの組み合わせとして
は、シリコン（Ｓｉ）単体と酸素（Ｏ）イオン、シリコ
ン単体と酸素イオン及び不活性ガスイオン（ヘリウム
（Ｈｅ）イオン、ネオン（Ｎｅ）イオン、アルゴン（Ａ
ｒ）イオン、クリプトン（Ｋｒ）イオン、キセノン（Ｘ
ｅ）イオン）、シリコン酸化物と不活性ガスイオン、シ
リコン酸化物と不活性ガスイオン及び酸素イオン等の組
み合わせを挙げることができる。
【００１１】本発明の及びの各方法において、基体
上に蒸着とイオン照射を併用してシリコン窒化物膜を形
成する際の、蒸発物質と照射イオンの組み合わせとして
は、シリコン単体と窒素（Ｎ）イオン、シリコン単体と
窒素イオン及び不活性ガスイオン等の組み合わせを挙げ
ることができる。本発明の、及びの各方法におい
て、反射防止効果を得るために、シリコン酸化物膜、チ
タン酸化物膜、ジルコニウム酸化物膜、アルミニウム酸
化物膜及びタンタル酸化物膜からなる群より選ばれた１
又は複数の膜を形成するにあたっては、前記真空蒸着
法、前記スパッタ蒸着法等の蒸着法で行うことが考えら
れる。このとき蒸発物質としては、それぞれシリコン酸
化物、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物、アルミニウ
ム酸化物、タンタル酸化物等を用いることができる。
上に蒸着とイオン照射を併用してシリコン窒化物膜を形
成する際の、蒸発物質と照射イオンの組み合わせとして
は、シリコン単体と窒素（Ｎ）イオン、シリコン単体と
窒素イオン及び不活性ガスイオン等の組み合わせを挙げ
ることができる。本発明の、及びの各方法におい
て、反射防止効果を得るために、シリコン酸化物膜、チ
タン酸化物膜、ジルコニウム酸化物膜、アルミニウム酸
化物膜及びタンタル酸化物膜からなる群より選ばれた１
又は複数の膜を形成するにあたっては、前記真空蒸着
法、前記スパッタ蒸着法等の蒸着法で行うことが考えら
れる。このとき蒸発物質としては、それぞれシリコン酸
化物、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物、アルミニウ
ム酸化物、タンタル酸化物等を用いることができる。
【００１２】また、本発明の、及びの各方法にお
いて、前記光学部品基体からみて最も外側の膜を、蒸着
とイオン照射とを併用して形成することが考えられる。
このとき、蒸発物質と照射イオンの組み合わせとして
は、該膜の酸素元素を除く構成元素の単体と酸素イオ
ン、該元素単体と酸素イオン及び不活性ガスイオン、該
膜の構成物質である酸化物と不活性ガスイオン、該酸化
物と不活性ガスイオン及び酸素イオン等の組み合わせを
挙げることができる。
いて、前記光学部品基体からみて最も外側の膜を、蒸着
とイオン照射とを併用して形成することが考えられる。
このとき、蒸発物質と照射イオンの組み合わせとして
は、該膜の酸素元素を除く構成元素の単体と酸素イオ
ン、該元素単体と酸素イオン及び不活性ガスイオン、該
膜の構成物質である酸化物と不活性ガスイオン、該酸化
物と不活性ガスイオン及び酸素イオン等の組み合わせを
挙げることができる。
【００１３】本発明のの方法において、前記蒸着とイ
オン照射併用によるシリコン酸化物膜形成後におけるシ
リコン酸化物膜、チタン酸化物膜、ジルコニウム酸化物
膜、アルミニウム酸化物膜及びタンタル酸化物膜からな
る群より選ばれた１又は複数の膜を、前記蒸着とイオン
照射併用による当初形成のシリコン酸化物膜と共に所定
の波長の光に対して所望の反射防止効果が得られるよう
に形成するにあたっては、また、本発明の及びの各
方法において、シリコン窒化物膜と、シリコン酸化物
膜、チタン酸化物膜、ジルコニウム酸化物膜、アルミニ
ウム酸化物膜及びタンタル酸化物膜からなる群より選ば
れた１又は複数の膜とを、基体上の膜全体として所定の
波長の光に対して所望の反射防止効果が得られるように
形成するにあたっては、次のようにして膜の種類、膜厚
及び複数の膜を形成する場合にはその積層順序を定め
る。
オン照射併用によるシリコン酸化物膜形成後におけるシ
リコン酸化物膜、チタン酸化物膜、ジルコニウム酸化物
膜、アルミニウム酸化物膜及びタンタル酸化物膜からな
る群より選ばれた１又は複数の膜を、前記蒸着とイオン
照射併用による当初形成のシリコン酸化物膜と共に所定
の波長の光に対して所望の反射防止効果が得られるよう
に形成するにあたっては、また、本発明の及びの各
方法において、シリコン窒化物膜と、シリコン酸化物
膜、チタン酸化物膜、ジルコニウム酸化物膜、アルミニ
ウム酸化物膜及びタンタル酸化物膜からなる群より選ば
れた１又は複数の膜とを、基体上の膜全体として所定の
波長の光に対して所望の反射防止効果が得られるように
形成するにあたっては、次のようにして膜の種類、膜厚
及び複数の膜を形成する場合にはその積層順序を定め
る。
【００１４】すなわち、膜構成物質の屈折率と膜厚の積
の膜形成順序に従う配列が、所定の光の波長に対して所
望の反射防止効果が得られるような配列となるように膜
形成する。また、蒸着とイオン照射を併用してシリコン
酸化物膜を形成し、その外側に、蒸着のみによりシリコ
ン酸化物膜を形成する場合は、該両膜は合わせて単一の
シリコン酸化物膜とみなす。
の膜形成順序に従う配列が、所定の光の波長に対して所
望の反射防止効果が得られるような配列となるように膜
形成する。また、蒸着とイオン照射を併用してシリコン
酸化物膜を形成し、その外側に、蒸着のみによりシリコ
ン酸化物膜を形成する場合は、該両膜は合わせて単一の
シリコン酸化物膜とみなす。
【００１５】
【作用】本発明のの光学部品の製造方法によると、光
学部品基体上に蒸着とイオン照射を併用してシリコン酸
化物膜を形成することにより、該シリコン酸化物膜は、
照射イオンの作用で緻密で高硬度なものとなり、耐擦傷
性を有する、光学部品基体の保護膜として機能する。ま
た、照射イオンの作用で、基体表面が清浄化されるとと
もに、基体とシリコン酸化物膜との間に該両者の構成原
子からなる混合層が形成されるため、該膜は基体に対す
る密着性が良好なものとなる。さらに、該シリコン酸化
物膜上に形成されて、該シリコン酸化物膜と共に反射防
止機能を発揮する各膜は、互いの密着性が優れるととも
に、前記シリコン酸化物膜との密着性に優れている。こ
れらにより、密着性良好な膜を被覆して、耐擦傷性及び
反射防止機能を有する光学部品を得ることができる。
学部品基体上に蒸着とイオン照射を併用してシリコン酸
化物膜を形成することにより、該シリコン酸化物膜は、
照射イオンの作用で緻密で高硬度なものとなり、耐擦傷
性を有する、光学部品基体の保護膜として機能する。ま
た、照射イオンの作用で、基体表面が清浄化されるとと
もに、基体とシリコン酸化物膜との間に該両者の構成原
子からなる混合層が形成されるため、該膜は基体に対す
る密着性が良好なものとなる。さらに、該シリコン酸化
物膜上に形成されて、該シリコン酸化物膜と共に反射防
止機能を発揮する各膜は、互いの密着性が優れるととも
に、前記シリコン酸化物膜との密着性に優れている。こ
れらにより、密着性良好な膜を被覆して、耐擦傷性及び
反射防止機能を有する光学部品を得ることができる。
【００１６】本発明のの光学部品の製造方法による
と、光学部品基体上に蒸着とイオン照射を併用して高硬
度なシリコン窒化物からなる膜を形成することにより、
該シリコン窒化物膜は照射イオンの作用で緻密で一層高
硬度となり、耐擦傷性を有する、光学部品基体の保護膜
として機能する。また、照射イオンの作用で、基体表面
が清浄化されるとともに、基体とシリコン窒化物膜との
間に該両者の構成原子からなる混合層が形成されるた
め、該膜は基体に対する密着性が良好なものとなる。さ
らに、該シリコン窒化物膜上に形成されて、該シリコン
窒化物膜と共に反射防止機能を発揮する各膜は、互いの
密着性が優れるとともに、前記シリコン窒化物膜との密
着性に優れている。これらにより、密着性良好な膜を被
覆して、耐擦傷性及び反射防止機能を有する光学部品を
得ることができる。
と、光学部品基体上に蒸着とイオン照射を併用して高硬
度なシリコン窒化物からなる膜を形成することにより、
該シリコン窒化物膜は照射イオンの作用で緻密で一層高
硬度となり、耐擦傷性を有する、光学部品基体の保護膜
として機能する。また、照射イオンの作用で、基体表面
が清浄化されるとともに、基体とシリコン窒化物膜との
間に該両者の構成原子からなる混合層が形成されるた
め、該膜は基体に対する密着性が良好なものとなる。さ
らに、該シリコン窒化物膜上に形成されて、該シリコン
窒化物膜と共に反射防止機能を発揮する各膜は、互いの
密着性が優れるとともに、前記シリコン窒化物膜との密
着性に優れている。これらにより、密着性良好な膜を被
覆して、耐擦傷性及び反射防止機能を有する光学部品を
得ることができる。
【００１７】本発明のの光学部品の製造方法による
と、本発明のの方法において、耐擦傷性を有するシリ
コン酸化物膜上に積層形成されて、該シリコン酸化物膜
と共に反射防止機能を発揮する２以上の膜中に、蒸着と
イオン照射を併用して形成された高硬度なシリコン窒化
物膜が含まれるため、耐擦傷性が一層優れた光学部品が
得られる。
と、本発明のの方法において、耐擦傷性を有するシリ
コン酸化物膜上に積層形成されて、該シリコン酸化物膜
と共に反射防止機能を発揮する２以上の膜中に、蒸着と
イオン照射を併用して形成された高硬度なシリコン窒化
物膜が含まれるため、耐擦傷性が一層優れた光学部品が
得られる。
【００１８】本発明の、及びの光学部品の製造方
法において、前記光学部品基体からみて最も外側の膜
を、蒸着とイオン照射とを併用して形成するときには、
該膜が照射イオンの作用で緻密で高硬度になり、該膜は
その内側の膜を保護することができるとともに、一層優
れた耐擦傷性を有する光学部品が得られる。
法において、前記光学部品基体からみて最も外側の膜
を、蒸着とイオン照射とを併用して形成するときには、
該膜が照射イオンの作用で緻密で高硬度になり、該膜は
その内側の膜を保護することができるとともに、一層優
れた耐擦傷性を有する光学部品が得られる。
【００１９】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図１は本発明の光学部品の製造方法の実施に用い
る成膜装置例の概略構成を示す図である。この装置は、
真空容器１１、１２・・・１ｎを有し、これらはゲート
弁Ｇ１・・・Ｇ（ｎ−１）を介してこの順に連設されて
いる。容器１１と外部との間にはゲート弁Ｇ０が、容器
１ｎと外部との間にはゲート弁Ｇｎが設けられている。
真空容器１１、１２・・・１ｎにはそれぞれ排気装置２
１、２２・・・２ｎが付設されて内部を所定の真空度に
することができる。容器１１内には被成膜光学部品基体
Ｓを支持するホルダ３１、並びにこれに対向する位置
に、蒸発源４１及びイオン源５１が設置されている。ま
た基体ホルダ３１付近には、膜厚モニタ６１、及びイオ
ン電流測定器７１が配置されている。容器１２・・・１
ｎ内には基体ホルダが配置される位置に対向する位置
に、蒸発源４２・・・４ｎが設置されている。また基体
ホルダが配置される位置の付近には、膜厚モニタ６２・
・・６ｎが配置されている。なお、基体Ｓはホルダ３１
ごと図示しない搬送手段にて容器間に移動させられ、所
定の成膜位置に配置される。
する。図１は本発明の光学部品の製造方法の実施に用い
る成膜装置例の概略構成を示す図である。この装置は、
真空容器１１、１２・・・１ｎを有し、これらはゲート
弁Ｇ１・・・Ｇ（ｎ−１）を介してこの順に連設されて
いる。容器１１と外部との間にはゲート弁Ｇ０が、容器
１ｎと外部との間にはゲート弁Ｇｎが設けられている。
真空容器１１、１２・・・１ｎにはそれぞれ排気装置２
１、２２・・・２ｎが付設されて内部を所定の真空度に
することができる。容器１１内には被成膜光学部品基体
Ｓを支持するホルダ３１、並びにこれに対向する位置
に、蒸発源４１及びイオン源５１が設置されている。ま
た基体ホルダ３１付近には、膜厚モニタ６１、及びイオ
ン電流測定器７１が配置されている。容器１２・・・１
ｎ内には基体ホルダが配置される位置に対向する位置
に、蒸発源４２・・・４ｎが設置されている。また基体
ホルダが配置される位置の付近には、膜厚モニタ６２・
・・６ｎが配置されている。なお、基体Ｓはホルダ３１
ごと図示しない搬送手段にて容器間に移動させられ、所
定の成膜位置に配置される。
【００２０】真空容器の数ｎは、基体Ｓ上に形成する膜
材質の種類の数に応じて定め、各容器内に設置する蒸発
源は特定の物質を蒸発させるものとし、１の容器内では
特定の１種類の膜を形成するようにする。但し、本発明
の及びの各方法において反射防止膜にシリコン酸化
物膜が含まれる場合、蒸着とイオン照射を併用したシリ
コン酸化物膜形成と、蒸着のみによるシリコン酸化物膜
形成を異なる容器内で行うように真空容器の数ｎを設定
してもよい。また、形成する膜の種類が少ない場合は、
１又は少ない数の複数の容器内のそれぞれに複数の蒸発
源を設置するなどして該容器内で成膜を行うことも可能
である。
材質の種類の数に応じて定め、各容器内に設置する蒸発
源は特定の物質を蒸発させるものとし、１の容器内では
特定の１種類の膜を形成するようにする。但し、本発明
の及びの各方法において反射防止膜にシリコン酸化
物膜が含まれる場合、蒸着とイオン照射を併用したシリ
コン酸化物膜形成と、蒸着のみによるシリコン酸化物膜
形成を異なる容器内で行うように真空容器の数ｎを設定
してもよい。また、形成する膜の種類が少ない場合は、
１又は少ない数の複数の容器内のそれぞれに複数の蒸発
源を設置するなどして該容器内で成膜を行うことも可能
である。
【００２１】また、ここでは各真空容器に別々の排気装
置を接続しているが、各容器又は複数の容器ごと等に共
通の排気装置を用いることも考えられる。また、ゲート
弁Ｇ１・・・Ｇ（ｎ−１）は必ずしも設置する必要はな
く、場合によっては真空容器１１・・・１ｎの全て、又
は複数個ごと等に同一圧力とすることも考えられる。こ
の装置を用いて本発明のの光学部品の製造方法を実施
するにあたっては、当初全てのゲート弁を閉じておき、
ゲート弁Ｇ０を開けて光学部品基体Ｓを容器１１内に搬
入し、ホルダ３１に支持させた後、ゲート弁Ｇ０を閉じ
て容器１１内を所定の真空度にする。次いで、基体Ｓに
向けて蒸発源４１からシリコン単体又はシリコン酸化物
からなる蒸発物質４１ａを蒸着させ、これと同時、交互
又は該蒸着後に、イオン源５１から該蒸着面に向けて、
蒸発物質４１ａとともに作用してシリコン酸化物膜を形
成できるイオンを照射する。このようにして、基体Ｓ上
にシリコン酸化物膜を形成する。
置を接続しているが、各容器又は複数の容器ごと等に共
通の排気装置を用いることも考えられる。また、ゲート
弁Ｇ１・・・Ｇ（ｎ−１）は必ずしも設置する必要はな
く、場合によっては真空容器１１・・・１ｎの全て、又
は複数個ごと等に同一圧力とすることも考えられる。こ
の装置を用いて本発明のの光学部品の製造方法を実施
するにあたっては、当初全てのゲート弁を閉じておき、
ゲート弁Ｇ０を開けて光学部品基体Ｓを容器１１内に搬
入し、ホルダ３１に支持させた後、ゲート弁Ｇ０を閉じ
て容器１１内を所定の真空度にする。次いで、基体Ｓに
向けて蒸発源４１からシリコン単体又はシリコン酸化物
からなる蒸発物質４１ａを蒸着させ、これと同時、交互
又は該蒸着後に、イオン源５１から該蒸着面に向けて、
蒸発物質４１ａとともに作用してシリコン酸化物膜を形
成できるイオンを照射する。このようにして、基体Ｓ上
にシリコン酸化物膜を形成する。
【００２２】次いで、次に形成しようとする膜に応じて
容器１２・・・１ｎのうちのいずれか特定の容器内に、
基体Ｓを外気に曝すことなく搬入し、該容器内を所定の
真空度とした後、蒸発源から基体Ｓに対して蒸発物質を
蒸着させる。蒸発源４２・・・４ｎに収める蒸発物質
は、形成しようとする膜の構成物質である酸化物とす
る。但し、シリコン酸化物膜の形成は容器１１内で行う
こともでき、このときは、イオン源５１からのイオン照
射を行わず、蒸発源４１からのシリコン酸化物４１ａの
蒸着のみにより膜形成する。このようにして、前記形成
されたシリコン酸化物膜上にシリコン酸化物膜、チタン
酸化物膜、ジルコニウム酸化物膜、アルミニウム酸化物
膜及びタンタル酸化物膜からなる群より選ばれた１又は
複数の膜を、当初形成したシリコン酸化物膜と共に所定
の波長の光に対して所望の反射防止効果が得られるよう
に形成する。
容器１２・・・１ｎのうちのいずれか特定の容器内に、
基体Ｓを外気に曝すことなく搬入し、該容器内を所定の
真空度とした後、蒸発源から基体Ｓに対して蒸発物質を
蒸着させる。蒸発源４２・・・４ｎに収める蒸発物質
は、形成しようとする膜の構成物質である酸化物とす
る。但し、シリコン酸化物膜の形成は容器１１内で行う
こともでき、このときは、イオン源５１からのイオン照
射を行わず、蒸発源４１からのシリコン酸化物４１ａの
蒸着のみにより膜形成する。このようにして、前記形成
されたシリコン酸化物膜上にシリコン酸化物膜、チタン
酸化物膜、ジルコニウム酸化物膜、アルミニウム酸化物
膜及びタンタル酸化物膜からなる群より選ばれた１又は
複数の膜を、当初形成したシリコン酸化物膜と共に所定
の波長の光に対して所望の反射防止効果が得られるよう
に形成する。
【００２３】なお、チタン酸化物膜、ジルコニウム酸化
物膜、アルミニウム酸化物膜、タンタル酸化物膜のいず
れかの膜を、蒸着とイオン照射を併用して形成するとき
には、該当する容器内にイオン源を設置し、前記の基体
Ｓ上への当初のシリコン酸化物膜の形成と同様にして、
チタン、ジルコニウム、アルミニウム、タンタルのいず
れかの単体又は各膜の構成物質である酸化物からなる蒸
発物質の蒸着と、該蒸発物質とともに作用して目的の膜
を形成できるイオンの照射を組み合わせて、成膜を行
う。
物膜、アルミニウム酸化物膜、タンタル酸化物膜のいず
れかの膜を、蒸着とイオン照射を併用して形成するとき
には、該当する容器内にイオン源を設置し、前記の基体
Ｓ上への当初のシリコン酸化物膜の形成と同様にして、
チタン、ジルコニウム、アルミニウム、タンタルのいず
れかの単体又は各膜の構成物質である酸化物からなる蒸
発物質の蒸着と、該蒸発物質とともに作用して目的の膜
を形成できるイオンの照射を組み合わせて、成膜を行
う。
【００２４】なお、容器１１又は容器１ｎから外部へ基
体Ｓを搬出するにあたっては、該容器を大気圧又はその
近傍圧に戻した後、ゲート弁Ｇ０又はゲート弁Ｇｎを開
けるようにする。全体として反射防止膜となる各膜形成
時の膜材質の種類及び膜厚は、膜構成物質の屈折率ｎと
膜厚ｄの積ｎｄの、膜形成順序に従う配列が、所定の光
の波長に対して所定の割合の値の配列になるような膜厚
とする。例えば、屈折率１．５のポリカーボネートから
なる基体Ｓ上に、屈折率ｎ＝１．４６の２酸化シリコン
（ＳｉＯ 2）と屈折率ｎ＝２．０の２酸化ジルコニウム
（ＺｒＯ 2）を用いて波長λ＝５２０ｎｍの光に対して
反射防止機能を発揮する膜を形成するにあたっては、こ
れらの材質及び膜厚を適宜組み合わせて、基体Ｓの側か
らｎｄ＝０．２５λ、０．１３λ、０．０６λ、０．２
５λ、０．２５λとなるように膜を積層形成することに
より、良好な反射防止効果が得られる。
体Ｓを搬出するにあたっては、該容器を大気圧又はその
近傍圧に戻した後、ゲート弁Ｇ０又はゲート弁Ｇｎを開
けるようにする。全体として反射防止膜となる各膜形成
時の膜材質の種類及び膜厚は、膜構成物質の屈折率ｎと
膜厚ｄの積ｎｄの、膜形成順序に従う配列が、所定の光
の波長に対して所定の割合の値の配列になるような膜厚
とする。例えば、屈折率１．５のポリカーボネートから
なる基体Ｓ上に、屈折率ｎ＝１．４６の２酸化シリコン
（ＳｉＯ 2）と屈折率ｎ＝２．０の２酸化ジルコニウム
（ＺｒＯ 2）を用いて波長λ＝５２０ｎｍの光に対して
反射防止機能を発揮する膜を形成するにあたっては、こ
れらの材質及び膜厚を適宜組み合わせて、基体Ｓの側か
らｎｄ＝０．２５λ、０．１３λ、０．０６λ、０．２
５λ、０．２５λとなるように膜を積層形成することに
より、良好な反射防止効果が得られる。
【００２５】前記各膜形成時の照射イオンの加速エネル
ギは、５０ｅＶ以上４０ｋｅＶ以下とする。また、この
装置を用いて本発明のの光学部品の製造方法を実施す
るにあたっては、前記本発明のの方法において、容器
１内での蒸着とイオン照射を併用したシリコン酸化物膜
の形成に代えて、蒸着とイオン照射を併用してシリコン
窒化物膜を形成する。このとき、蒸発物質４１ａと照射
イオンの組み合わせとして、シリコン単体と窒素イオ
ン、又はシリコン単体と窒素イオン及び不活性ガスイオ
ンの組み合わせを採用する。次いで、真空容器１２・・
・１ｎのいずれかの中でシリコン酸化物膜、チタン酸化
物膜、ジルコニウム酸化物膜、アルミニウム酸化物膜及
びタンタル酸化物膜からなる群より選ばれた１又は複数
の膜を蒸着法により形成する。このとき、先に形成した
シリコン窒化物膜と共に反射防止効果が得られるように
する。シリコン酸化物膜を形成する場合は、容器１２・
・・１ｎのいずれかの中で蒸着法により行う。
ギは、５０ｅＶ以上４０ｋｅＶ以下とする。また、この
装置を用いて本発明のの光学部品の製造方法を実施す
るにあたっては、前記本発明のの方法において、容器
１内での蒸着とイオン照射を併用したシリコン酸化物膜
の形成に代えて、蒸着とイオン照射を併用してシリコン
窒化物膜を形成する。このとき、蒸発物質４１ａと照射
イオンの組み合わせとして、シリコン単体と窒素イオ
ン、又はシリコン単体と窒素イオン及び不活性ガスイオ
ンの組み合わせを採用する。次いで、真空容器１２・・
・１ｎのいずれかの中でシリコン酸化物膜、チタン酸化
物膜、ジルコニウム酸化物膜、アルミニウム酸化物膜及
びタンタル酸化物膜からなる群より選ばれた１又は複数
の膜を蒸着法により形成する。このとき、先に形成した
シリコン窒化物膜と共に反射防止効果が得られるように
する。シリコン酸化物膜を形成する場合は、容器１２・
・・１ｎのいずれかの中で蒸着法により行う。
【００２６】また、この装置を用いて本発明のの光学
部品の製造方法を実施するにあたっては、まず、前記本
発明のの方法と同様にして、容器１１内で蒸着とイオ
ン照射を併用してシリコン酸化物膜を形成する。次い
で、その膜上にシリコン窒化膜と、シリコン酸化物膜、
チタン酸化物膜、ジルコニウム酸化物膜、アルミニウム
酸化物膜及びタンタル酸化物膜からなる群より選ばれた
１又は複数の膜とを、適宜組み合わせて基体Ｓ上の膜全
体として反射防止効果が得られるように形成する。この
際、シリコン窒化物膜の形成は、容器１２・・・１ｎの
いずれかにイオン源を設置し、該容器内で蒸着とイオン
照射を併用して行い、他の膜の形成は、他の容器のいず
れかの中で、蒸着法により行う。
部品の製造方法を実施するにあたっては、まず、前記本
発明のの方法と同様にして、容器１１内で蒸着とイオ
ン照射を併用してシリコン酸化物膜を形成する。次い
で、その膜上にシリコン窒化膜と、シリコン酸化物膜、
チタン酸化物膜、ジルコニウム酸化物膜、アルミニウム
酸化物膜及びタンタル酸化物膜からなる群より選ばれた
１又は複数の膜とを、適宜組み合わせて基体Ｓ上の膜全
体として反射防止効果が得られるように形成する。この
際、シリコン窒化物膜の形成は、容器１２・・・１ｎの
いずれかにイオン源を設置し、該容器内で蒸着とイオン
照射を併用して行い、他の膜の形成は、他の容器のいず
れかの中で、蒸着法により行う。
【００２７】次に、図１に示す装置を用いた本発明方法
実施の具体例について説明する。 実験例１ 図１の装置においてｎ＝３とし、真空容器１１、１２、
１３が連設された装置とした。ポリカーボネートからな
る光学部品基体Ｓを容器１１内に搬入し、ホルダ３１支
持させ、当初真空容器１内を２×１０-6Ｔｏｒｒ以下の
真空度とした。その後、２酸化シリコン（ＳｉＯ2 ）４
１ａを電子ビーム蒸発源４１を用いて蒸気化し、基体Ｓ
上に成膜した。それと同時にイオン源５１に容器１内が
５×１０ -5Ｔｏｒｒになるまでアルゴンガスを導入し、
イオン化させ、アルゴンイオンを基体Ｓに対し１ｋｅＶ
の加速エネルギで照射した。このようにして、耐擦傷性
を有する２酸化シリコン膜を膜厚１０００ｎｍ形成し
た。
実施の具体例について説明する。 実験例１ 図１の装置においてｎ＝３とし、真空容器１１、１２、
１３が連設された装置とした。ポリカーボネートからな
る光学部品基体Ｓを容器１１内に搬入し、ホルダ３１支
持させ、当初真空容器１内を２×１０-6Ｔｏｒｒ以下の
真空度とした。その後、２酸化シリコン（ＳｉＯ2 ）４
１ａを電子ビーム蒸発源４１を用いて蒸気化し、基体Ｓ
上に成膜した。それと同時にイオン源５１に容器１内が
５×１０ -5Ｔｏｒｒになるまでアルゴンガスを導入し、
イオン化させ、アルゴンイオンを基体Ｓに対し１ｋｅＶ
の加速エネルギで照射した。このようにして、耐擦傷性
を有する２酸化シリコン膜を膜厚１０００ｎｍ形成し
た。
【００２８】次いで、基体Ｓを容器１２内に搬入し、容
器１２内を２×１０-6Ｔｏｒｒ以下の真空度とした。そ
の後、２酸化シリコン４２ａを電子ビーム蒸発源４２を
用いて蒸気化し、前記形成した耐擦傷性を有する２酸化
シリコン膜上に成膜した。次いで、基体Ｓを容器１３内
に搬入し、容器１３内を２×１０-6Ｔｏｒｒ以下の真空
度とした。その後、２酸化ジルコニウム４３ａを電子ビ
ーム蒸発源４３を用いて蒸気化し、前記２酸化シリコン
膜上に成膜した。
器１２内を２×１０-6Ｔｏｒｒ以下の真空度とした。そ
の後、２酸化シリコン４２ａを電子ビーム蒸発源４２を
用いて蒸気化し、前記形成した耐擦傷性を有する２酸化
シリコン膜上に成膜した。次いで、基体Ｓを容器１３内
に搬入し、容器１３内を２×１０-6Ｔｏｒｒ以下の真空
度とした。その後、２酸化ジルコニウム４３ａを電子ビ
ーム蒸発源４３を用いて蒸気化し、前記２酸化シリコン
膜上に成膜した。
【００２９】さらに、容器１２内での２酸化シリコン膜
の形成、容器１３内での２酸化ジルコニウム膜の形成及
び容器１２内での２酸化シリコン膜の形成を順に行っ
た。各膜の膜厚は、基体Ｓに近い内側から、波長λ＝５
２０ｎｍの光に対して、容器１１内で形成した２酸化シ
リコン膜及び容器１２内で形成した２酸化シリコン膜か
らなる２酸化シリコン膜（ｎｄ＝０．２５λ）、２酸化
ジルコニウム膜（ｎｄ＝０．１３λ）、２酸化シリコン
膜（ｎｄ＝０．０６λ）、２酸化ジルコニウム膜（ｎｄ
＝０．２５λ）、２酸化シリコン膜（ｎｄ＝０．２５
λ）となるようにし、全体として反射防止効果を有する
膜とした。 実験例２ 実験例１において、基体Ｓからみて最も外側の２酸化シ
リコン膜の形成を真空容器１１内で行い、蒸発源４１か
ら、２酸化シリコン４１ａを蒸発させて成膜すると同時
に、イオン源５１からアルゴンイオンを加速エネルギ
０．５ｋｅＶで照射して、ｎｄ＝０．２５λとなる膜厚
ｄの２酸化シリコン膜を形成した。その他の条件は実験
例１と同様とした。 実験例３ 図１の装置においてｎ＝２とし、真空容器１１、１２が
連設された装置とした。ポリカーボネートからなる光学
部品基体Ｓを容器１１内に搬入し、ホルダ３１に支持さ
せ、真空容器１内を２×１０-6Ｔｏｒｒ以下の真空度と
した。その後、シリコン単体（Ｓｉ）４１ａを電子ビー
ム蒸発源４１を用いて蒸気化し、基体Ｓ上に成膜した。
それと同時にイオン源５１から窒素イオンを基体Ｓに対
して０．５ｋｅＶの加速エネルギで照射した。
の形成、容器１３内での２酸化ジルコニウム膜の形成及
び容器１２内での２酸化シリコン膜の形成を順に行っ
た。各膜の膜厚は、基体Ｓに近い内側から、波長λ＝５
２０ｎｍの光に対して、容器１１内で形成した２酸化シ
リコン膜及び容器１２内で形成した２酸化シリコン膜か
らなる２酸化シリコン膜（ｎｄ＝０．２５λ）、２酸化
ジルコニウム膜（ｎｄ＝０．１３λ）、２酸化シリコン
膜（ｎｄ＝０．０６λ）、２酸化ジルコニウム膜（ｎｄ
＝０．２５λ）、２酸化シリコン膜（ｎｄ＝０．２５
λ）となるようにし、全体として反射防止効果を有する
膜とした。 実験例２ 実験例１において、基体Ｓからみて最も外側の２酸化シ
リコン膜の形成を真空容器１１内で行い、蒸発源４１か
ら、２酸化シリコン４１ａを蒸発させて成膜すると同時
に、イオン源５１からアルゴンイオンを加速エネルギ
０．５ｋｅＶで照射して、ｎｄ＝０．２５λとなる膜厚
ｄの２酸化シリコン膜を形成した。その他の条件は実験
例１と同様とした。 実験例３ 図１の装置においてｎ＝２とし、真空容器１１、１２が
連設された装置とした。ポリカーボネートからなる光学
部品基体Ｓを容器１１内に搬入し、ホルダ３１に支持さ
せ、真空容器１内を２×１０-6Ｔｏｒｒ以下の真空度と
した。その後、シリコン単体（Ｓｉ）４１ａを電子ビー
ム蒸発源４１を用いて蒸気化し、基体Ｓ上に成膜した。
それと同時にイオン源５１から窒素イオンを基体Ｓに対
して０．５ｋｅＶの加速エネルギで照射した。
【００３０】次いで、基体Ｓを容器１２内に搬入し、真
空容器１２内を２×１０-6Ｔｏｒｒ以下の真空度とした
後、２酸化シリコン４２ａを電子ビーム蒸発源４２を用
いて蒸気化し、基体Ｓ上に成膜した。このようにして、
容器１１内での窒化シリコン膜の形成と容器１２内での
２酸化シリコン膜の形成とを交互に繰り返し、波長λ＝
５２０ｎｍの光に対して、基体Ｓに近い内側から窒化シ
リコン膜（ｎｄ＝０．２５λ）、２酸化シリコン膜（ｎ
ｄ＝０．１３λ）、窒化シリコン膜（ｎｄ＝０．０６
λ）、２酸化シリコン膜（ｎｄ＝０．２５λ）、窒化シ
リコン膜（ｎｄ＝０．２５λ）となるように順次膜形成
して、全体として反射防止効果を有する膜とした。 実験例４ 図１の装置においてｎ＝３とし、容器１１、１２、１３
が連設された装置とした。また、容器１３内にイオン源
５３を設けた。
空容器１２内を２×１０-6Ｔｏｒｒ以下の真空度とした
後、２酸化シリコン４２ａを電子ビーム蒸発源４２を用
いて蒸気化し、基体Ｓ上に成膜した。このようにして、
容器１１内での窒化シリコン膜の形成と容器１２内での
２酸化シリコン膜の形成とを交互に繰り返し、波長λ＝
５２０ｎｍの光に対して、基体Ｓに近い内側から窒化シ
リコン膜（ｎｄ＝０．２５λ）、２酸化シリコン膜（ｎ
ｄ＝０．１３λ）、窒化シリコン膜（ｎｄ＝０．０６
λ）、２酸化シリコン膜（ｎｄ＝０．２５λ）、窒化シ
リコン膜（ｎｄ＝０．２５λ）となるように順次膜形成
して、全体として反射防止効果を有する膜とした。 実験例４ 図１の装置においてｎ＝３とし、容器１１、１２、１３
が連設された装置とした。また、容器１３内にイオン源
５３を設けた。
【００３１】先ず、実験例１における耐擦傷性を有する
２酸化シリコン膜の形成と同様にして、容器１１内で２
酸化シリコン４１ａを蒸着すると同時にアルゴンイオン
を照射して、膜厚１０００ｎｍの２酸化シリコン膜を形
成した。次いで、実験例３と同様にして（但し、容器１
２内で２酸化シリコン膜を形成し、容器１３内で窒化シ
リコン膜を形成する。）、２酸化シリコン４２ａの蒸着
による２酸化シリコン膜の形成と、シリコン単体４３ａ
の蒸着と窒素イオンの照射とを同時に行うことによる窒
化シリコンの形成を交互に繰り返し、波長λ＝５２０ｎ
ｍの光に対して、基体Ｓに近い最も内側から、容器１１
内で形成した２酸化シリコン膜及び容器１２内で形成し
た２酸化シリコン膜からなる２酸化シリコン膜（ｎｄ＝
０．２５λ）、窒化シリコン膜（ｎｄ＝０．１３λ）、
２酸化シリコン膜（ｎｄ＝０．０６λ）、窒化シリコン
膜（ｎｄ＝０．２５λ）、２酸化シリコン膜（ｎｄ＝
０．２５λ）となるように順次膜形成して、全体として
反射防止効果を有する膜とした。 実験例５ 実験例４において、基体Ｓからみて最も外側の２酸化シ
リコン膜の形成を真空容器１１内で行い、蒸発源４１か
ら、２酸化シリコン４１ａを蒸発させて成膜すると同時
に、イオン源５１からアルゴンイオンを加速エネルギ
０．５ｋｅＶで照射して形成した。その他の条件は実験
例４と同様とした。 比較例 実験例１において、容器１１内での蒸着とイオン照射を
併用した２酸化シリコン膜形成を行わず、その他の条件
は実験例１と同様として、容器１２内での蒸着法による
２酸化シリコン膜形成と容器１３内での蒸着法による２
酸化ジルコニウム膜形成とを交互に行い、基体Ｓに近い
内側から、波長λ＝５２０ｎｍの光に対して、２酸化シ
リコン膜（ｎｄ＝０．２５λ）、２酸化ジルコニウム膜
（ｎｄ＝０．１３λ）、２酸化シリコン膜（ｎｄ＝０．
０６λ）、２酸化ジルコニウム膜（ｎｄ＝０．２５
λ）、２酸化シリコン膜（ｎｄ＝０．２５λ）となるよ
うにし、全体として反射防止効果を有する膜とした。
２酸化シリコン膜の形成と同様にして、容器１１内で２
酸化シリコン４１ａを蒸着すると同時にアルゴンイオン
を照射して、膜厚１０００ｎｍの２酸化シリコン膜を形
成した。次いで、実験例３と同様にして（但し、容器１
２内で２酸化シリコン膜を形成し、容器１３内で窒化シ
リコン膜を形成する。）、２酸化シリコン４２ａの蒸着
による２酸化シリコン膜の形成と、シリコン単体４３ａ
の蒸着と窒素イオンの照射とを同時に行うことによる窒
化シリコンの形成を交互に繰り返し、波長λ＝５２０ｎ
ｍの光に対して、基体Ｓに近い最も内側から、容器１１
内で形成した２酸化シリコン膜及び容器１２内で形成し
た２酸化シリコン膜からなる２酸化シリコン膜（ｎｄ＝
０．２５λ）、窒化シリコン膜（ｎｄ＝０．１３λ）、
２酸化シリコン膜（ｎｄ＝０．０６λ）、窒化シリコン
膜（ｎｄ＝０．２５λ）、２酸化シリコン膜（ｎｄ＝
０．２５λ）となるように順次膜形成して、全体として
反射防止効果を有する膜とした。 実験例５ 実験例４において、基体Ｓからみて最も外側の２酸化シ
リコン膜の形成を真空容器１１内で行い、蒸発源４１か
ら、２酸化シリコン４１ａを蒸発させて成膜すると同時
に、イオン源５１からアルゴンイオンを加速エネルギ
０．５ｋｅＶで照射して形成した。その他の条件は実験
例４と同様とした。 比較例 実験例１において、容器１１内での蒸着とイオン照射を
併用した２酸化シリコン膜形成を行わず、その他の条件
は実験例１と同様として、容器１２内での蒸着法による
２酸化シリコン膜形成と容器１３内での蒸着法による２
酸化ジルコニウム膜形成とを交互に行い、基体Ｓに近い
内側から、波長λ＝５２０ｎｍの光に対して、２酸化シ
リコン膜（ｎｄ＝０．２５λ）、２酸化ジルコニウム膜
（ｎｄ＝０．１３λ）、２酸化シリコン膜（ｎｄ＝０．
０６λ）、２酸化ジルコニウム膜（ｎｄ＝０．２５
λ）、２酸化シリコン膜（ｎｄ＝０．２５λ）となるよ
うにし、全体として反射防止効果を有する膜とした。
【００３２】次に、実験例１から５及び比較例により得
られた光学部品の表面硬度をモース硬度計により測定し
た結果を次表に示す。 実験例１から５による光学部品はいずれも、イオン照射
を含む工程により形成されているため、比較例による光
学部品より高硬度であった。また、膜の密着性も比較例
による光学部品より優れていた。
られた光学部品の表面硬度をモース硬度計により測定し
た結果を次表に示す。 実験例１から５による光学部品はいずれも、イオン照射
を含む工程により形成されているため、比較例による光
学部品より高硬度であった。また、膜の密着性も比較例
による光学部品より優れていた。
【００３３】
【発明の効果】本発明によると、樹脂材料からなる基体
上に、実用に供し得る耐擦傷性及び所望の反射防止機能
を有する膜を密着性良好に備えた光学部品を、生産性良
く製造することができる光学部品の製造方法を提供する
ことができる。さらに説明すると、本発明によると、蒸
着（及びイオン照射）により全ての膜を形成できるた
め、保護膜を樹脂材料の硬化により形成する方法に比べ
ると、生産性良く、耐擦傷性及び所望の反射防止機能を
有する膜を密着性良好に形成することができる。
上に、実用に供し得る耐擦傷性及び所望の反射防止機能
を有する膜を密着性良好に備えた光学部品を、生産性良
く製造することができる光学部品の製造方法を提供する
ことができる。さらに説明すると、本発明によると、蒸
着（及びイオン照射）により全ての膜を形成できるた
め、保護膜を樹脂材料の硬化により形成する方法に比べ
ると、生産性良く、耐擦傷性及び所望の反射防止機能を
有する膜を密着性良好に形成することができる。
【００３４】また、本発明方法によると、比較的低温下
で密着性良好な膜を形成することができる。
で密着性良好な膜を形成することができる。
【図１】本発明方法の実施に用いる成膜装置例の概略構
成を示す図である。
成を示す図である。
１１・・・１ｎ 真空容器 ２１・・・２ｎ 排気装置 ３１ 基体ホルダ ４１・・・４ｎ 蒸発源 ４１ａ・・・４ｎａ 蒸発物質 ５１・・・５ｎ イオン源 ６１・・・６ｎ 膜厚モニタ ７１・・・７ｎ イオン電流測定器 Ｇ０・・・Ｇｎ ゲート弁 Ｓ 光学部品基体
Claims (4)
- 【請求項１】 樹脂からなる光学部品基体上に、蒸着と
イオン照射を併用してシリコン酸化物膜を形成し、その
外側に、シリコン酸化物膜、チタン酸化物膜、ジルコニ
ウム酸化物膜、アルミニウム酸化物膜及びタンタル酸化
物膜からなる群より選ばれた１又は複数の膜を形成する
ことを特徴とする光学部品の製造方法。 - 【請求項２】 樹脂からなる光学部品基体上に、蒸着と
イオン照射を併用してシリコン窒化物膜を形成し、その
外側にシリコン酸化物膜、チタン酸化物膜、ジルコニウ
ム酸化物膜、アルミニウム酸化物膜及びタンタル酸化物
膜からなる群より選ばれた１又は複数の膜を形成するこ
とを特徴とする光学部品の製造方法。 - 【請求項３】 樹脂からなる光学部品基体上に、蒸着と
イオン照射を併用してシリコン酸化物膜を形成し、その
外側に、シリコン窒化物膜と、シリコン酸化物膜、チタ
ン酸化物膜、ジルコニウム酸化物膜、アルミニウム酸化
物膜及びタンタル酸化物膜からなる群から選ばれた１又
は複数の膜とを形成し、該シリコン窒化物膜の形成は蒸
着とイオン照射とを併用して行うことを特徴とする光学
部品の製造方法。 - 【請求項４】 前記光学部品基体からみて最も外側の膜
を、蒸着とイオン照射とを併用して形成する請求項１、
２又は３記載の光学部品の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13917095A JPH08333672A (ja) | 1995-06-06 | 1995-06-06 | 光学部品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13917095A JPH08333672A (ja) | 1995-06-06 | 1995-06-06 | 光学部品の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08333672A true JPH08333672A (ja) | 1996-12-17 |
Family
ID=15239214
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13917095A Withdrawn JPH08333672A (ja) | 1995-06-06 | 1995-06-06 | 光学部品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08333672A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001188115A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Fujitsu Ltd | 回折格子マスク |
| JP2014141473A (ja) * | 2012-12-28 | 2014-08-07 | Tosoh Corp | 第５族金属オキソ−アルコキソ錯体、その製造方法及び第５族金属酸化物膜の作製方法 |
| JP2015124159A (ja) * | 2013-12-25 | 2015-07-06 | 東ソー株式会社 | タンタルオキソ−アルコキソ錯体、その製造方法及びタンタル酸化物膜の作製方法 |
-
1995
- 1995-06-06 JP JP13917095A patent/JPH08333672A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001188115A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Fujitsu Ltd | 回折格子マスク |
| JP2014141473A (ja) * | 2012-12-28 | 2014-08-07 | Tosoh Corp | 第５族金属オキソ−アルコキソ錯体、その製造方法及び第５族金属酸化物膜の作製方法 |
| JP2015124159A (ja) * | 2013-12-25 | 2015-07-06 | 東ソー株式会社 | タンタルオキソ−アルコキソ錯体、その製造方法及びタンタル酸化物膜の作製方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020806 |