JPH08334759A - 反射型液晶表示素子 - Google Patents
反射型液晶表示素子Info
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- JPH08334759A JPH08334759A JP7138993A JP13899395A JPH08334759A JP H08334759 A JPH08334759 A JP H08334759A JP 7138993 A JP7138993 A JP 7138993A JP 13899395 A JP13899395 A JP 13899395A JP H08334759 A JPH08334759 A JP H08334759A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 観察側と対向側に配置される2枚の電極付き
基板11、12間に液晶組成物15を有しており、電極
により液晶組成物が応答して、入射する光の反射量を変
調する変調部Aと、この変調部以外の非変調部Bとを有
する反射型液晶表示素子において、前記基板の非変調部
の領域に変調部の表示色に対して補色関係にある有彩白
色系反射層20を設ける。有彩白色系反射層20は例え
ばTiO2白色顔料に有彩色素を分散したレジスト材料
で構成する。 【効果】 光の利用効率が高く、コントラスト比の高い
明るいしかも表示色を補償した白色に近い反射型液晶表
示素子が得られる。
基板11、12間に液晶組成物15を有しており、電極
により液晶組成物が応答して、入射する光の反射量を変
調する変調部Aと、この変調部以外の非変調部Bとを有
する反射型液晶表示素子において、前記基板の非変調部
の領域に変調部の表示色に対して補色関係にある有彩白
色系反射層20を設ける。有彩白色系反射層20は例え
ばTiO2白色顔料に有彩色素を分散したレジスト材料
で構成する。 【効果】 光の利用効率が高く、コントラスト比の高い
明るいしかも表示色を補償した白色に近い反射型液晶表
示素子が得られる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は反射型液晶表示素子に係
わる。
わる。
【0002】
【従来の技術】液晶表示素子(以下LCDと略称)のな
かでも照明用のバックライトを必要としない反射型LC
Dは、OA機器等の表示において消費電力の低減が実現
でき、携帯用に適している。しかし、反射型LCDは、
外光を利用しているため、LCD自体の反射率が高くな
いと実用上問題となる。
かでも照明用のバックライトを必要としない反射型LC
Dは、OA機器等の表示において消費電力の低減が実現
でき、携帯用に適している。しかし、反射型LCDは、
外光を利用しているため、LCD自体の反射率が高くな
いと実用上問題となる。
【0003】この反射型LCDを、LCD自体の反射率
の観点から分類すると、偏光板を2枚用いる表示モー
ド、1枚用いる表示モード、用いない表示モードの3つ
に分類できる。
の観点から分類すると、偏光板を2枚用いる表示モー
ド、1枚用いる表示モード、用いない表示モードの3つ
に分類できる。
【0004】偏光板を2枚用いる表示モードとしては、
例えば図20に示すTN型LCDであり、上下基板1、
2は透明電極3、4をそれぞれ有しており、これら基板
間に液晶組成物層を挟持している。上下基板1、2外面
に偏光板61、62 を貼付し、下基板2側の偏光板62
外面に拡散反射板7を貼付した構造であり、このTN型
LCDの光路Lは、偏光板を4回、基板を4回通過す
る。これらの透過率のうち、偏光板の透過率は少なくと
も1回分は、原理的に50%以下であり、実際は40数
%である。他の偏光板や基板においてもそれ自身の吸収
があるので、反射率は著しく低く、高々40%である。
例えば図20に示すTN型LCDであり、上下基板1、
2は透明電極3、4をそれぞれ有しており、これら基板
間に液晶組成物層を挟持している。上下基板1、2外面
に偏光板61、62 を貼付し、下基板2側の偏光板62
外面に拡散反射板7を貼付した構造であり、このTN型
LCDの光路Lは、偏光板を4回、基板を4回通過す
る。これらの透過率のうち、偏光板の透過率は少なくと
も1回分は、原理的に50%以下であり、実際は40数
%である。他の偏光板や基板においてもそれ自身の吸収
があるので、反射率は著しく低く、高々40%である。
【0005】偏光板を1枚用いる表示モードとしては、
例えば図21に示す偏光板61 のみをもつ偏光板1枚モ
ードECB型LCDであり、前記図20のTN型LCD
と比較して光路的に、偏光板は2回、基板も2回しか通
過しない。なお、以下各図において同符号の部分は同様
部分を示す。前記TN型LCD同様偏光板の透過率は少
なくとも1回分は、原理的に50%以下であり、実際は
40数%である。しかしながら光路的に、偏光板2回
分、基板2回分の光吸収を削減できることから前記TN
型LCDよりは、若干反射率が高いが、45%程度以下
である。
例えば図21に示す偏光板61 のみをもつ偏光板1枚モ
ードECB型LCDであり、前記図20のTN型LCD
と比較して光路的に、偏光板は2回、基板も2回しか通
過しない。なお、以下各図において同符号の部分は同様
部分を示す。前記TN型LCD同様偏光板の透過率は少
なくとも1回分は、原理的に50%以下であり、実際は
40数%である。しかしながら光路的に、偏光板2回
分、基板2回分の光吸収を削減できることから前記TN
型LCDよりは、若干反射率が高いが、45%程度以下
である。
【0006】これらと比較して偏光板を用いない表示モ
ードは、例えば図22に示すゲストホスト液晶の液晶組
成物層51 をもつ高分子ポリマーPC−GH型LCD、
図23に示すゲストホスト液晶組成物層52 をもつGH
−HOMO型LCD、および図24に示す2層のゲスト
ホスト液晶組成物層52 を共通基板8を介して重ねた2
層型GH−HOMO型LCD等がある。いずれの方式も
偏光板を用いないので、前記した偏光板を用いる表示モ
ードのように透過率が少なくとも1回分は、原理的に5
0%以下であり、実際は40数%である偏光板を用いな
い分明るくなり、80%程度の反射率が期待できる。さ
らに、前記偏光板1枚モードECB型LCD同様に反射
板をセル内面に設ければ、基板2回分の光吸収を削減す
ることができる。従って前記偏光板を用いる表示モード
と比較して、反射率が著しく高くなる。
ードは、例えば図22に示すゲストホスト液晶の液晶組
成物層51 をもつ高分子ポリマーPC−GH型LCD、
図23に示すゲストホスト液晶組成物層52 をもつGH
−HOMO型LCD、および図24に示す2層のゲスト
ホスト液晶組成物層52 を共通基板8を介して重ねた2
層型GH−HOMO型LCD等がある。いずれの方式も
偏光板を用いないので、前記した偏光板を用いる表示モ
ードのように透過率が少なくとも1回分は、原理的に5
0%以下であり、実際は40数%である偏光板を用いな
い分明るくなり、80%程度の反射率が期待できる。さ
らに、前記偏光板1枚モードECB型LCD同様に反射
板をセル内面に設ければ、基板2回分の光吸収を削減す
ることができる。従って前記偏光板を用いる表示モード
と比較して、反射率が著しく高くなる。
【0007】また、図25に示す反射型LCDは図10
に示すGH−HOMO型LCDの反射板7と液晶セルの
間に4分の1波長板9を挿入したものであり、液晶セル
を通過した入射光が、4分の1波長板9を透過し、反射
板7で反射され、再び4分の1波長板9を透過すること
によって、位相を2分の1波長ずらされ、再び液晶セル
に入射する機能を得るものである。
に示すGH−HOMO型LCDの反射板7と液晶セルの
間に4分の1波長板9を挿入したものであり、液晶セル
を通過した入射光が、4分の1波長板9を透過し、反射
板7で反射され、再び4分の1波長板9を透過すること
によって、位相を2分の1波長ずらされ、再び液晶セル
に入射する機能を得るものである。
【0008】この構造は図24に示す2層型GH−HO
MO型LCDと同様の光制御が1層の液晶層、1層の液
晶セルで得られるものであり、反射率は80%以上が期
待できる。
MO型LCDと同様の光制御が1層の液晶層、1層の液
晶セルで得られるものであり、反射率は80%以上が期
待できる。
【0009】さて、これら反射型LCDはディスプレー
であり、一般的には電極を用いて液晶層に電圧を印加す
る、若しくは電流を流す、磁界を印加するなどして表示
を行っている。電極を用いるので、必ず絶縁領域(電極
のないところ)が必要となる。特に種々の文字や絵、映
像などのパターンを表示する素子の場合、マトリクス状
に電極を形成する。マトリクス状に電極を形成した場
合、一般的には前記液晶層に電圧を印加する等の目的と
した電極以外に配線も必要となる。マトリクスに電極を
形成しない場合でもパターンがある程度複雑な場合(例
えば、電卓、時計等に応用されている7セグメント表
示)は配線が必要となる。このようにLCDは液晶層に
電圧を印加する等の目的とした電極及び絶縁領域(電極
のないところ)及び場合によっては配線の3つの領域か
ら形成されている。
であり、一般的には電極を用いて液晶層に電圧を印加す
る、若しくは電流を流す、磁界を印加するなどして表示
を行っている。電極を用いるので、必ず絶縁領域(電極
のないところ)が必要となる。特に種々の文字や絵、映
像などのパターンを表示する素子の場合、マトリクス状
に電極を形成する。マトリクス状に電極を形成した場
合、一般的には前記液晶層に電圧を印加する等の目的と
した電極以外に配線も必要となる。マトリクスに電極を
形成しない場合でもパターンがある程度複雑な場合(例
えば、電卓、時計等に応用されている7セグメント表
示)は配線が必要となる。このようにLCDは液晶層に
電圧を印加する等の目的とした電極及び絶縁領域(電極
のないところ)及び場合によっては配線の3つの領域か
ら形成されている。
【0010】本発明では、液晶層に電圧を印加する等の
目的とした電極により液晶が応答し光反射量を変調する
領域を変調部と称し、それ以外の領域を非変調部と称
し、この非変調部のうち、前記絶縁領域をスペース部と
称し、前記配線の設けられた領域を配線部と称する。
目的とした電極により液晶が応答し光反射量を変調する
領域を変調部と称し、それ以外の領域を非変調部と称
し、この非変調部のうち、前記絶縁領域をスペース部と
称し、前記配線の設けられた領域を配線部と称する。
【0011】ちなみに透過型LCDにおいては前記非変
調部に遮光層を設けることが多い。この遮光層はマトリ
クス表示素子の場合、一般的にブラックマトリクス(B
M)と呼ばれる。この遮光層は表示のコントラスト比特
性を向上させる目的で設けられているものである。LC
Dの表示モードを表示制御の観点から分類すると(透過
型、反射型に限らず)、電圧等印加していない状態で明
状態を得るノーマリーホワイトモード(NWモードと称
す)と逆に印加した状態で明状態を得るノーマリーブラ
ックモード(NBモードと称す)に大別できる。NWモ
ードの場合、前記非変調部は変調部の状態に拘らず、大
略、常時明状態となる。よって、前記遮光層を設けない
場合、全体(変調部と非変調部)として、暗状態の輝度
は、前記遮光層を設けた場合より高い。よってコントラ
スト比(明状態の輝度/暗状態の輝度)は遮光層を設け
ることによって向上する。NBモードの場合、前記非変
調部は変調部の状態に拘らず、大略、常時暗状態とな
る。よって、NWモードと比較すれば、全体(変調部と
非変調部)としての暗状態の輝度は暗くなる。しかしな
がら、一般に知られるNBモードの暗状態は十分暗い表
示が得られていない。このため、遮光層を設けることに
よって、非変調部の輝度を確実に零にし、高いコントラ
ストを得ているのである。しかしながら、この遮光層を
設けることは、全体の表示輝度(明るさ)を低下させる
こととなる。これは欠点となるが、透過型LCDの場
合、バックライトを用いているので、このバックライト
の輝度を向上させることにより、表示輝度(明るさ)を
保つことができる。このように、コントラストを得るた
めに遮光層を設けることが多いわけである。
調部に遮光層を設けることが多い。この遮光層はマトリ
クス表示素子の場合、一般的にブラックマトリクス(B
M)と呼ばれる。この遮光層は表示のコントラスト比特
性を向上させる目的で設けられているものである。LC
Dの表示モードを表示制御の観点から分類すると(透過
型、反射型に限らず)、電圧等印加していない状態で明
状態を得るノーマリーホワイトモード(NWモードと称
す)と逆に印加した状態で明状態を得るノーマリーブラ
ックモード(NBモードと称す)に大別できる。NWモ
ードの場合、前記非変調部は変調部の状態に拘らず、大
略、常時明状態となる。よって、前記遮光層を設けない
場合、全体(変調部と非変調部)として、暗状態の輝度
は、前記遮光層を設けた場合より高い。よってコントラ
スト比(明状態の輝度/暗状態の輝度)は遮光層を設け
ることによって向上する。NBモードの場合、前記非変
調部は変調部の状態に拘らず、大略、常時暗状態とな
る。よって、NWモードと比較すれば、全体(変調部と
非変調部)としての暗状態の輝度は暗くなる。しかしな
がら、一般に知られるNBモードの暗状態は十分暗い表
示が得られていない。このため、遮光層を設けることに
よって、非変調部の輝度を確実に零にし、高いコントラ
ストを得ているのである。しかしながら、この遮光層を
設けることは、全体の表示輝度(明るさ)を低下させる
こととなる。これは欠点となるが、透過型LCDの場
合、バックライトを用いているので、このバックライト
の輝度を向上させることにより、表示輝度(明るさ)を
保つことができる。このように、コントラストを得るた
めに遮光層を設けることが多いわけである。
【0012】これに対し、反射型LCDでは、用いる光
が外光であり、ディスプレー側では、入射光量を制御で
きない。したがって、前記遮光層を反射型に適用する
と、表示輝度を著しく低下させてしまうため、一般的に
は用いられていない(駆動素子として光の影響のあるT
FT等は、その影響を防止する目的で、非変調部のうち
必要な部分にだけ遮光層を設けることがある。)。そも
そも、反射型LCDの場合、用いる光は外光であり、デ
ィスプレー側では入射光量を制御できないから、最も重
要視される特性は明るさ(輝度)とされている。これら
のことから、一般的な従来の反射型LCDは非変調部に
遮光層を設けていない。
が外光であり、ディスプレー側では、入射光量を制御で
きない。したがって、前記遮光層を反射型に適用する
と、表示輝度を著しく低下させてしまうため、一般的に
は用いられていない(駆動素子として光の影響のあるT
FT等は、その影響を防止する目的で、非変調部のうち
必要な部分にだけ遮光層を設けることがある。)。そも
そも、反射型LCDの場合、用いる光は外光であり、デ
ィスプレー側では入射光量を制御できないから、最も重
要視される特性は明るさ(輝度)とされている。これら
のことから、一般的な従来の反射型LCDは非変調部に
遮光層を設けていない。
【0013】しかしながら、遮光層がなくても従来の反
射型LCDの表示輝度は十分な明るさは得られていな
い。NWモードの場合、非変調部は大略常時明状態とな
るため、全体の表示輝度はある程度得られるが、反射型
LCDは、いずれも暗状態を得るために偏光板や染料を
用いており、実際には明状態に対してもある程度の光吸
収が避けられない。よって結果的には十分な明るさは得
られない。NBモードの場合は、非変調部は大略常時暗
状態となるため、全体の表示輝度は当然暗い。
射型LCDの表示輝度は十分な明るさは得られていな
い。NWモードの場合、非変調部は大略常時明状態とな
るため、全体の表示輝度はある程度得られるが、反射型
LCDは、いずれも暗状態を得るために偏光板や染料を
用いており、実際には明状態に対してもある程度の光吸
収が避けられない。よって結果的には十分な明るさは得
られない。NBモードの場合は、非変調部は大略常時暗
状態となるため、全体の表示輝度は当然暗い。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来の反
射型液晶表示素子は、種々の表示モードにおいて表示に
利用される光が偏光板や素子の基板を往復により複数回
通過するために吸収され、実際に利用される光は僅かに
なる。非変調部においても反射率が低く特にノーマリー
ブラックモードの場合、その影響は著しく、全体の表示
輝度を著しく低下させていた。
射型液晶表示素子は、種々の表示モードにおいて表示に
利用される光が偏光板や素子の基板を往復により複数回
通過するために吸収され、実際に利用される光は僅かに
なる。非変調部においても反射率が低く特にノーマリー
ブラックモードの場合、その影響は著しく、全体の表示
輝度を著しく低下させていた。
【0015】さらに、表示モード特有の表示色が発生す
る問題があり、例えばSTN表示では黄色味がかった表
示となり、また偏光板を用いないので反射型に有利な前
記したGH型モードにおいても、2色性色素の分光特性
に応じて表示色が発生し、例えばネマティック液晶組成
物に黒色染料を添加してGHモードで動作させた場合、
緑色味を帯びた表示となる。これはカラー表示において
も、表示の色純度を低下させる。
る問題があり、例えばSTN表示では黄色味がかった表
示となり、また偏光板を用いないので反射型に有利な前
記したGH型モードにおいても、2色性色素の分光特性
に応じて表示色が発生し、例えばネマティック液晶組成
物に黒色染料を添加してGHモードで動作させた場合、
緑色味を帯びた表示となる。これはカラー表示において
も、表示の色純度を低下させる。
【0016】本発明はこれら問題点を解決し、表示面全
体の反射率を高く、かつ表示の色付きによる視認の劣化
を防止する反射型液晶表示素子を得ることを目的とす
る。
体の反射率を高く、かつ表示の色付きによる視認の劣化
を防止する反射型液晶表示素子を得ることを目的とす
る。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明は、観察側と対向
側に配置される2枚の電極付き基板間に液晶組成物が挟
持され、前記電極により前記液晶組成物が応答し、入射
する光の反射量を変調する変調部と、この変調部以外の
非変調部とを有する反射型液晶表示素子において、前記
基板の非変調部の少なくとも一領域に、有彩白色系反射
層を設けたことを特徴とする反射型液晶表示素子を得る
ものである。
側に配置される2枚の電極付き基板間に液晶組成物が挟
持され、前記電極により前記液晶組成物が応答し、入射
する光の反射量を変調する変調部と、この変調部以外の
非変調部とを有する反射型液晶表示素子において、前記
基板の非変調部の少なくとも一領域に、有彩白色系反射
層を設けたことを特徴とする反射型液晶表示素子を得る
ものである。
【0018】さらに、観察側と対向側に配置される2枚
の電極付き基板間に液晶組成物が挟持され、前記電極に
より前記液晶組成物が応答し、入射する光の反射量を変
調する変調部と、この変調部以外の非変調部とを有する
反射型液晶表示素子において、前記基板の非変調部の少
なくとも一領域に、前記変調部の表示色と補色の関係に
ある有彩白色系反射層を設けたことを特徴とする反射型
液晶表示素子を得るものである。
の電極付き基板間に液晶組成物が挟持され、前記電極に
より前記液晶組成物が応答し、入射する光の反射量を変
調する変調部と、この変調部以外の非変調部とを有する
反射型液晶表示素子において、前記基板の非変調部の少
なくとも一領域に、前記変調部の表示色と補色の関係に
ある有彩白色系反射層を設けたことを特徴とする反射型
液晶表示素子を得るものである。
【0019】さらに、有彩白色系反射層が白色顔料と有
彩色素とを分散したレジスト材料からなることを特徴と
する反射型液晶表示素子を得るものである。
彩色素とを分散したレジスト材料からなることを特徴と
する反射型液晶表示素子を得るものである。
【0020】さらに、有彩色白色系反射層を観察側の基
板内面に設けたことを特徴とする反射型液晶表示素子を
得るものである。
板内面に設けたことを特徴とする反射型液晶表示素子を
得るものである。
【0021】さらに、2枚の電極付き基板間に液晶組成
物が挟持されてなる反射型液晶表示素子において、一方
の基板がマトリクス状に配列した複数の画素電極と、こ
れら電極間に配置された配線とを有しており、有彩白色
系反射層が前記画素電極および配線以外の基板内面領域
に設けられていることを特徴とする反射型液晶表示素子
を得るものである。
物が挟持されてなる反射型液晶表示素子において、一方
の基板がマトリクス状に配列した複数の画素電極と、こ
れら電極間に配置された配線とを有しており、有彩白色
系反射層が前記画素電極および配線以外の基板内面領域
に設けられていることを特徴とする反射型液晶表示素子
を得るものである。
【0022】さらに、少なくとも一方の基板にカラーフ
ィルターを設けており、前記カラーフィルターの着色層
以外の基板内面に有彩白色系反射層を設けたことを特徴
とする反射型液晶表示素子を得るものである。
ィルターを設けており、前記カラーフィルターの着色層
以外の基板内面に有彩白色系反射層を設けたことを特徴
とする反射型液晶表示素子を得るものである。
【0023】さらに、液晶組成物が2色性色素を添加さ
れていることを特徴とする反射型液晶表示素子を得るも
のである。
れていることを特徴とする反射型液晶表示素子を得るも
のである。
【0024】さらに、液晶組成物が正の誘電異方性を示
すネマティック液晶に黒色色素が添加されたものであり
基板間でホモジニアス配向されており、対向基板側に4
分の1波長板と反射板が設けられてなることを特徴とす
る反射型液晶表示素子を得るものである。
すネマティック液晶に黒色色素が添加されたものであり
基板間でホモジニアス配向されており、対向基板側に4
分の1波長板と反射板が設けられてなることを特徴とす
る反射型液晶表示素子を得るものである。
【0025】さらに、有彩白色系顔料がTiO2 を主成
分とし、これにシアン色素が添加されたものからなるこ
とを特徴とする反射型液晶表示素子を得るものである。
分とし、これにシアン色素が添加されたものからなるこ
とを特徴とする反射型液晶表示素子を得るものである。
【0026】
【作用】以下、本発明の作用について、図面を用いて、
詳細に説明する。なお各図において同符号の部分は同様
の部分を示す。
詳細に説明する。なお各図において同符号の部分は同様
の部分を示す。
【0027】本発明の液晶表示素子は非変調部の一部ま
たは全部の領域に、有彩白色系反射層を設けたことを主
な特徴とする。さらに、有彩白色系反射層の色を変調部
の表示モードの表示色の補色の色に選ぶことが望まし
い。
たは全部の領域に、有彩白色系反射層を設けたことを主
な特徴とする。さらに、有彩白色系反射層の色を変調部
の表示モードの表示色の補色の色に選ぶことが望まし
い。
【0028】本発明において、有彩白色系反射層とは、
白色の高反射率を実質的に損なわない程度に有色色素を
含有した白色反射層を意味する。白色は実質的に無彩色
の反射層であり、色純度が0で、視感反射率が1に近い
拡散性の色であるが、白色反射層に少量の有彩色素を添
加してもこの白色の性質をある程度維持することが可能
である。
白色の高反射率を実質的に損なわない程度に有色色素を
含有した白色反射層を意味する。白色は実質的に無彩色
の反射層であり、色純度が0で、視感反射率が1に近い
拡散性の色であるが、白色反射層に少量の有彩色素を添
加してもこの白色の性質をある程度維持することが可能
である。
【0029】本発明者は白色反射層に関する発明を、特
願平6−251771号において出願している。この発
明は表示面の非変調部の少なくとも一部に実質的に白色
の白色反射層を設けて反射特性の改善をはかったもので
あるが、変調部の表示色に関して述べていない。
願平6−251771号において出願している。この発
明は表示面の非変調部の少なくとも一部に実質的に白色
の白色反射層を設けて反射特性の改善をはかったもので
あるが、変調部の表示色に関して述べていない。
【0030】本発明は変調部の表示色の白色からのずれ
が、観察者の目に与える刺激を緩和する方向に表示面全
体の色調を調節する有彩白色系反射層を非変調部に設け
るものであり、例えば表示色と補色の関係にある有彩白
色系を選ぶと表示面が無彩色に近い色調になり、色付き
を改善することができる。
が、観察者の目に与える刺激を緩和する方向に表示面全
体の色調を調節する有彩白色系反射層を非変調部に設け
るものであり、例えば表示色と補色の関係にある有彩白
色系を選ぶと表示面が無彩色に近い色調になり、色付き
を改善することができる。
【0031】完全な補色関係になくても、変調部の表示
色と非変調部からの反射光が異なる色であれば表示色単
色の表示よりも観察者の目の刺激が緩和されることが期
待される。
色と非変調部からの反射光が異なる色であれば表示色単
色の表示よりも観察者の目の刺激が緩和されることが期
待される。
【0032】補色関係の一例として、黒色の2色性染料
を用いたGH型LCDに応用した場合、黒色の2色性染
料が若干緑色味を帯びていたとすると、表示は明状態、
暗状態ともに若干緑色に色付く。この場合、変調部の液
晶表示モードの表示色の補色である白色系の反射層を緑
の補色であるシアン色を白色に加えた色にすればよい。
この場合、変調部の表示色の色付きの度合いと同じ度合
いでシアン色の色度を調整した色が最も優れる。
を用いたGH型LCDに応用した場合、黒色の2色性染
料が若干緑色味を帯びていたとすると、表示は明状態、
暗状態ともに若干緑色に色付く。この場合、変調部の液
晶表示モードの表示色の補色である白色系の反射層を緑
の補色であるシアン色を白色に加えた色にすればよい。
この場合、変調部の表示色の色付きの度合いと同じ度合
いでシアン色の色度を調整した色が最も優れる。
【0033】補色は赤に対してマゼンタ、緑に対してシ
アン、青に対して黄色であり、表示色に応じて白色系反
射層の色度を決める。
アン、青に対して黄色であり、表示色に応じて白色系反
射層の色度を決める。
【0034】また、とくに2色性染料を液晶層に添加し
たLCDでは明状態と暗状態で同様の色付きを生じるこ
とが多いので、本発明によれば両状態の色付きが改善さ
れる。 また本発明のLCDは、とくに非変調部に高反
射率の白色系反射層を設けるので、反射特性の改善は著
しいものである。
たLCDでは明状態と暗状態で同様の色付きを生じるこ
とが多いので、本発明によれば両状態の色付きが改善さ
れる。 また本発明のLCDは、とくに非変調部に高反
射率の白色系反射層を設けるので、反射特性の改善は著
しいものである。
【0035】図1は本発明の一構成例で、非変調部の一
部または全部の領域に前記有彩白色系反射層を設けた場
合のセル構造を説明したものである。すなわち、観測側
の上基板11は内面に有彩白色系反射層20とストライ
プ状透明電極13を有し、対向基板である下基板12は
面上にMIMスイッチング素子18をもつ画素電極14
を多数配列している。両基板の電極側の面には配向膜1
6、17が形成され、基板間に液晶層15が挟持されて
いる。さらに下基板12の外面に拡散反射板30が貼付
されて、反射型液晶表示素子10が構成される。
部または全部の領域に前記有彩白色系反射層を設けた場
合のセル構造を説明したものである。すなわち、観測側
の上基板11は内面に有彩白色系反射層20とストライ
プ状透明電極13を有し、対向基板である下基板12は
面上にMIMスイッチング素子18をもつ画素電極14
を多数配列している。両基板の電極側の面には配向膜1
6、17が形成され、基板間に液晶層15が挟持されて
いる。さらに下基板12の外面に拡散反射板30が貼付
されて、反射型液晶表示素子10が構成される。
【0036】電極領域は印加電圧により液晶が応答し光
反射量を変調する領域であり変調部Aを構成する。その
他の部分は光反射量を制御できない領域であり非変調部
Bを構成する。この非変調部Bは電極間の間隙であるス
ペース部21と電極13を動作させる配線部22の占め
る領域である。有彩白色系反射層20がこの非変調部B
の上基板内面のストライプ状電極13間に設けられる。
有彩白色系反射層20は、例えばTiO2 やMgOを主
成分とした白色顔料に有彩色素を添加したものであり、
いわゆる完全拡散反射に近い反射特性を示すものが望ま
しい。完全拡散反射とは、入射光Liの入射角度によら
ず、反射光Lrが種々の角度に均等に反射する反射特性
のことを言い、環境(入射光の方位別隔たり)によら
ず、どのような角度においても高輝度を得る反射特性の
ことを言う。つまり、本発明の液晶表示素子の非変調部
の一部または全部の領域に用いる有彩白色系反射層は従
来の反射型LCDの非変調部(遮光層を設けるか、何も
設けない(配線や液晶層がその領域を占める))より、
高い反射率を得ることとなる。
反射量を変調する領域であり変調部Aを構成する。その
他の部分は光反射量を制御できない領域であり非変調部
Bを構成する。この非変調部Bは電極間の間隙であるス
ペース部21と電極13を動作させる配線部22の占め
る領域である。有彩白色系反射層20がこの非変調部B
の上基板内面のストライプ状電極13間に設けられる。
有彩白色系反射層20は、例えばTiO2 やMgOを主
成分とした白色顔料に有彩色素を添加したものであり、
いわゆる完全拡散反射に近い反射特性を示すものが望ま
しい。完全拡散反射とは、入射光Liの入射角度によら
ず、反射光Lrが種々の角度に均等に反射する反射特性
のことを言い、環境(入射光の方位別隔たり)によら
ず、どのような角度においても高輝度を得る反射特性の
ことを言う。つまり、本発明の液晶表示素子の非変調部
の一部または全部の領域に用いる有彩白色系反射層は従
来の反射型LCDの非変調部(遮光層を設けるか、何も
設けない(配線や液晶層がその領域を占める))より、
高い反射率を得ることとなる。
【0037】前述したように反射型LCDに最も要求さ
れる性能は、明るさ、つまり反射率である。従来、透過
型LCDにおいては、コントラスト比特性を高めるため
に、非変調部には遮光層を設けるといったことを行って
いるが、反射型LCDにおいて、この非変調部に対し、
明るさ、つまり反射率特性を高めるような策は取られて
いなかった。このため、変調部と非変調部を合わせた全
体の反射率は低かった。これに対し、本発明では前記非
変調部に反射率の著しく高い有彩白色系反射層を設けて
おり、非変調部では、変調部の状態に拘らず常に高い反
射を得る。よって、全体の反射率は、前記有彩白色系反
射層を設けない場合と比較して著しく向上する。
れる性能は、明るさ、つまり反射率である。従来、透過
型LCDにおいては、コントラスト比特性を高めるため
に、非変調部には遮光層を設けるといったことを行って
いるが、反射型LCDにおいて、この非変調部に対し、
明るさ、つまり反射率特性を高めるような策は取られて
いなかった。このため、変調部と非変調部を合わせた全
体の反射率は低かった。これに対し、本発明では前記非
変調部に反射率の著しく高い有彩白色系反射層を設けて
おり、非変調部では、変調部の状態に拘らず常に高い反
射を得る。よって、全体の反射率は、前記有彩白色系反
射層を設けない場合と比較して著しく向上する。
【0038】有彩白色系反射層は、前述したように従来
の反射型LCDの非変調部より高い反射率を得るように
層厚や配置を構成すれば、前述した効果が得られる。例
えば、図2に示すように、比較的表示パターンの大きい
7セグメント23からなるキャラクター表示に応用する
場合、非変調部Bの観察側基板11の外面に十分な完全
拡散反射特性が得られる層厚で有彩白色系反射層20を
設ければ良い。しかしながら、表示パターンが基板11
の板厚より、微細な高精細パターンであるものにおいて
は、基板厚による視差を防ぐために、図1に示すように
基板内面に有彩白色系反射層20を設けることが望まし
い。
の反射型LCDの非変調部より高い反射率を得るように
層厚や配置を構成すれば、前述した効果が得られる。例
えば、図2に示すように、比較的表示パターンの大きい
7セグメント23からなるキャラクター表示に応用する
場合、非変調部Bの観察側基板11の外面に十分な完全
拡散反射特性が得られる層厚で有彩白色系反射層20を
設ければ良い。しかしながら、表示パターンが基板11
の板厚より、微細な高精細パターンであるものにおいて
は、基板厚による視差を防ぐために、図1に示すように
基板内面に有彩白色系反射層20を設けることが望まし
い。
【0039】前述したように本発明の効果は従来の反射
型LCDの非変調部より高い反射率を得るように有彩白
色系反射層の層厚や配置を構成すれば、層厚に関わりな
く得られるものであるので、層厚は液晶層厚(基板間
隙)におよぶ必要はなく、前記有彩白色系反射層を基板
作成工程にて一方の基板に形成する製造方法とする場
合、液晶層での光吸収を避けるために観察側の基板内面
に設けた方が良い。特に液晶層にて光吸収量の多い染料
添加型反射型LCDにおいては、前記構成とする効果が
大きく、中でも電圧無印加時に暗状態を示すNBモード
では、液晶層での光吸収量が極めて高いので、その効果
は大である。
型LCDの非変調部より高い反射率を得るように有彩白
色系反射層の層厚や配置を構成すれば、層厚に関わりな
く得られるものであるので、層厚は液晶層厚(基板間
隙)におよぶ必要はなく、前記有彩白色系反射層を基板
作成工程にて一方の基板に形成する製造方法とする場
合、液晶層での光吸収を避けるために観察側の基板内面
に設けた方が良い。特に液晶層にて光吸収量の多い染料
添加型反射型LCDにおいては、前記構成とする効果が
大きく、中でも電圧無印加時に暗状態を示すNBモード
では、液晶層での光吸収量が極めて高いので、その効果
は大である。
【0040】また、本発明をマトリクス型LCDに応用
する場合、前記非変調部Bには、必然的に配線が設けら
れることとなる.ここに配線は、変調部に電圧等を印加
するためにセル外部と変調部の電極を接続するために設
けられた導電体である。例えば単純マトリクス構造の電
極構成の場合、図3に示すように、一画素を構成する領
域24内の電極パターンのうち、上下電極13、14の
交差部(変調部A)以外の導電体領域131 、141 の
ことを指す。前述した全体の反射率を最も向上させるに
は、前記有彩白色系反射層は、平面的に見て、表示領域
内の非変調部B全域に設ければ良いこととなる。
する場合、前記非変調部Bには、必然的に配線が設けら
れることとなる.ここに配線は、変調部に電圧等を印加
するためにセル外部と変調部の電極を接続するために設
けられた導電体である。例えば単純マトリクス構造の電
極構成の場合、図3に示すように、一画素を構成する領
域24内の電極パターンのうち、上下電極13、14の
交差部(変調部A)以外の導電体領域131 、141 の
ことを指す。前述した全体の反射率を最も向上させるに
は、前記有彩白色系反射層は、平面的に見て、表示領域
内の非変調部B全域に設ければ良いこととなる。
【0041】しかしながら、図4に示すような、MIM
素子18付きマトリクス基板11を用いる場合、一般的
には配線22には遮光性のある導電物(例えばAl)を
用いる。このように配線に遮光性のある材料を用い、こ
の基板に有彩白色系反射層20を表示領域内の非変調部
B全域に機能するように設けるためには、前記配線の下
層に有彩白色系反射層を設けなければならない。しかし
ながら、前記配線の下層に設けるには、有彩白色系反射
層20の上に配線層22を形成する必要があり、配線の
パターン形成工程において、有彩白色系反射層材料への
耐性が求められる。したがって、マトリクス型LCDに
おいては、実用的に図4に示すように、表示領域内の非
変調部B(画素電極13以外の領域)の内、配線部22
以外の領域すなわちスペース部21にのみ、前記有彩白
色系反射層20を設けた構造とすると、配線のパターン
形成工程での有彩白色系反射層材料への耐性を必要とし
なくなる。
素子18付きマトリクス基板11を用いる場合、一般的
には配線22には遮光性のある導電物(例えばAl)を
用いる。このように配線に遮光性のある材料を用い、こ
の基板に有彩白色系反射層20を表示領域内の非変調部
B全域に機能するように設けるためには、前記配線の下
層に有彩白色系反射層を設けなければならない。しかし
ながら、前記配線の下層に設けるには、有彩白色系反射
層20の上に配線層22を形成する必要があり、配線の
パターン形成工程において、有彩白色系反射層材料への
耐性が求められる。したがって、マトリクス型LCDに
おいては、実用的に図4に示すように、表示領域内の非
変調部B(画素電極13以外の領域)の内、配線部22
以外の領域すなわちスペース部21にのみ、前記有彩白
色系反射層20を設けた構造とすると、配線のパターン
形成工程での有彩白色系反射層材料への耐性を必要とし
なくなる。
【0042】また、本発明に用いる有彩白色系反射層
は、強い拡散反射が得られるものであれば、効果が得ら
れることは言うまでもない。こうした、強い拡散反射が
得られる材料としては、アルミナ(酸化アルミニウ
ム)、前述したTiO2 (酸化チタン)、MgO(酸化
マグネシウム)等が適用できるが、特に材料として白色
顔料を分散したレジスト材料を用いれば、前記有彩白色
系反射層のパターン形成工程において、前記有彩白色系
反射層材料そのものを露光、現像するだけで形成でき
る。したがって、別途レジスト材料を用いて露光、現像
したのちに、エッチングを必要とする材料に比べ、工程
が簡略化できる。この白色顔料に用いる材料としては、
分散性の点でTiO2 が特に優れる。本発明の有彩白色
系反射層に白色顔料を分散したレジスト材料を用いる場
合も、同様にTiO2 が特に優れる。
は、強い拡散反射が得られるものであれば、効果が得ら
れることは言うまでもない。こうした、強い拡散反射が
得られる材料としては、アルミナ(酸化アルミニウ
ム)、前述したTiO2 (酸化チタン)、MgO(酸化
マグネシウム)等が適用できるが、特に材料として白色
顔料を分散したレジスト材料を用いれば、前記有彩白色
系反射層のパターン形成工程において、前記有彩白色系
反射層材料そのものを露光、現像するだけで形成でき
る。したがって、別途レジスト材料を用いて露光、現像
したのちに、エッチングを必要とする材料に比べ、工程
が簡略化できる。この白色顔料に用いる材料としては、
分散性の点でTiO2 が特に優れる。本発明の有彩白色
系反射層に白色顔料を分散したレジスト材料を用いる場
合も、同様にTiO2 が特に優れる。
【0043】また、カラーフィルターを用いてカラー表
示を行う反射型LCDに本発明を適用する場合、変調部
とほぼ同形の着色層を形成し、この着色層以外の領域に
前記有彩白色系反射層を設ければ、前記着色層の層厚に
より生じる表面段差を、前記有彩白色系反射層で解消す
ることが可能となる。また、有彩白色系反射層を白色顔
料と有彩色素を分散したレジスト材料によつて形成する
場合、前記着色層自体をフォトマスクとして裏面露光に
よりパターニングすることも可能となる。また、着色層
以外の領域に有彩白色系反射層を設けることにより、前
述した全体の反射率を向上させる効果の他、非変調部の
色付きを防止できる効果も得られる。
示を行う反射型LCDに本発明を適用する場合、変調部
とほぼ同形の着色層を形成し、この着色層以外の領域に
前記有彩白色系反射層を設ければ、前記着色層の層厚に
より生じる表面段差を、前記有彩白色系反射層で解消す
ることが可能となる。また、有彩白色系反射層を白色顔
料と有彩色素を分散したレジスト材料によつて形成する
場合、前記着色層自体をフォトマスクとして裏面露光に
よりパターニングすることも可能となる。また、着色層
以外の領域に有彩白色系反射層を設けることにより、前
述した全体の反射率を向上させる効果の他、非変調部の
色付きを防止できる効果も得られる。
【0044】本発明の効果は種々の反射型LCDにおい
て得られるが、特に、液晶層に染料が添加されている方
式(液晶材料に染料を添加することから一般的にゲスト
ホスト(GH)型LCDと呼ばれる)に応用すれば、そ
の効果は大きい。液晶層に染料が添加されている方式
は、液晶層での光吸収度合いが、染料が添加されている
分、高いからである。
て得られるが、特に、液晶層に染料が添加されている方
式(液晶材料に染料を添加することから一般的にゲスト
ホスト(GH)型LCDと呼ばれる)に応用すれば、そ
の効果は大きい。液晶層に染料が添加されている方式
は、液晶層での光吸収度合いが、染料が添加されている
分、高いからである。
【0045】前述したように従来の図24、25にも示
したGH型LCDは1層の液晶層(1枚のセル)で、高
いコントラスト比が得られ、且つ液晶層1層で表示を得
る機能をもっているので変調部の反射率も高い。よっ
て、染料として黒色の染料を用い、4分の1波長板とし
て可視光波長全域に対して、各波長の4分の1波長の位
相差が得られる4分の1波長板(例えば異なる2種の材
料からなる延伸フィルムを光軸をずらして積層し、それ
ぞれの位相差の波長依存性をくみあわせて、すべての波
長に対し4分の1波長の位相差が得られるようにすれば
いい。)を用いれば、変調部では極めて高いコントラス
ト比と反射率が得られる。この表示モードの場合、非変
調部は変調部の状態に拘らず、常時、暗状態である。つ
まり、NBモードである。よって、本発明のように非変
調部に有彩白色系反射層を設けると全体の反射率は著し
く向上する。
したGH型LCDは1層の液晶層(1枚のセル)で、高
いコントラスト比が得られ、且つ液晶層1層で表示を得
る機能をもっているので変調部の反射率も高い。よっ
て、染料として黒色の染料を用い、4分の1波長板とし
て可視光波長全域に対して、各波長の4分の1波長の位
相差が得られる4分の1波長板(例えば異なる2種の材
料からなる延伸フィルムを光軸をずらして積層し、それ
ぞれの位相差の波長依存性をくみあわせて、すべての波
長に対し4分の1波長の位相差が得られるようにすれば
いい。)を用いれば、変調部では極めて高いコントラス
ト比と反射率が得られる。この表示モードの場合、非変
調部は変調部の状態に拘らず、常時、暗状態である。つ
まり、NBモードである。よって、本発明のように非変
調部に有彩白色系反射層を設けると全体の反射率は著し
く向上する。
【0046】図4に示す本発明の構成は観察側の基板1
1としてMIM素子付きドットマトリクス基板を用い、
配線部、変調部以外の領域、つまりスペース部21全域
に有彩白色系反射層20を設けているが、この有彩白色
系反射層20付き基板11を図5に示す製法で作成す
る。
1としてMIM素子付きドットマトリクス基板を用い、
配線部、変調部以外の領域、つまりスペース部21全域
に有彩白色系反射層20を設けているが、この有彩白色
系反射層20付き基板11を図5に示す製法で作成す
る。
【0047】工程(I) 観測側基板11の一表面にM
IM素子18および配線22を形成する。
IM素子18および配線22を形成する。
【0048】工程(II) スパッタリング法によりイン
ジウムすず酸化物(ITO)膜13aを基板表面に成膜
する。このITO膜13a上にレジスト膜25aを塗布
により被着する。
ジウムすず酸化物(ITO)膜13aを基板表面に成膜
する。このITO膜13a上にレジスト膜25aを塗布
により被着する。
【0049】工程(III ) レジスト膜25aをマスク
パターン26を介して紫外線UVで露光し、後工程で画
素電極13となるITO膜上のレジスト膜23のみを残
して現像する。
パターン26を介して紫外線UVで露光し、後工程で画
素電極13となるITO膜上のレジスト膜23のみを残
して現像する。
【0050】工程(IV) 次にレジスト膜25をマスク
としてITO膜13aをエッチングして画素電極部分の
みからなる電極パターンを形成する。
としてITO膜13aをエッチングして画素電極部分の
みからなる電極パターンを形成する。
【0051】工程(V) 基板全面に白色顔料に少量の
有彩色素例えば染料を混入したレジスト膜20aを塗布
により被着する。
有彩色素例えば染料を混入したレジスト膜20aを塗布
により被着する。
【0052】工程(VI) 画素電極13上のレジスト膜
25を剥離し、同時に画素電極上に塗布されたレジスト
膜20aを取り除く。この結果、画素電極13上を除く
領域すなわち非変調部Bに有彩白色系反射層20が形成
される。
25を剥離し、同時に画素電極上に塗布されたレジスト
膜20aを取り除く。この結果、画素電極13上を除く
領域すなわち非変調部Bに有彩白色系反射層20が形成
される。
【0053】このように配線22や、画素電極13のパ
ターン形成はフォトリソグラフィーにておこなってお
り、用いているレジストはポジ型(紫外線が照射された
領域のみが現像工程で除去されるタイプのレジスト)で
ある。図5に示す製法の特徴は配線部、変調部のパター
ン形成工程に用いたレジストを剥離せず、この上に、有
彩白色系反射層の材料を塗布し、しかる後、前記配線
部、変調部のパターン形成工程に用いたレジストを剥離
することにより、前記配線部、変調部のパターン形成工
程に用いたレジスト上の有彩白色系反射層のみを前記レ
ジストと同時に剥離することにより、配線部、変調部以
外の領域に前記有彩白色系反射層をパターン形成するこ
とができる。
ターン形成はフォトリソグラフィーにておこなってお
り、用いているレジストはポジ型(紫外線が照射された
領域のみが現像工程で除去されるタイプのレジスト)で
ある。図5に示す製法の特徴は配線部、変調部のパター
ン形成工程に用いたレジストを剥離せず、この上に、有
彩白色系反射層の材料を塗布し、しかる後、前記配線
部、変調部のパターン形成工程に用いたレジストを剥離
することにより、前記配線部、変調部のパターン形成工
程に用いたレジスト上の有彩白色系反射層のみを前記レ
ジストと同時に剥離することにより、配線部、変調部以
外の領域に前記有彩白色系反射層をパターン形成するこ
とができる。
【0054】以上のように他のパターン形成工程に用い
たレジストを剥離せずその上に膜形成を行い、前記レジ
ストを剥離することによりその上に形成した膜のパター
ン形成を行うことを、一般的にはリフトオフ法と呼ばれ
ている。本発明の液晶表示素子において、この方法を用
いて前記有彩白色系反射層を形成すれば有彩白色系反射
層のパターン形成のための現像、露光工程が必要なくな
るため、安い製造コストにて製造できるようになる。ま
た、前記有彩白色系反射層のパターンと変調部、配線部
との合わせ精度も十分に得られる。これは、個々に現
像、露光工程をおこなっていないからである。このリフ
トオフ法は変調部以外の全域に有彩白色系反射層のパタ
ーン形成を行う場合や、カラーフィルターの着色層以外
の領域にパターン形成を行う場合であっても、変調部や
カラーフィルターの着色層がポジ型レジストを用いたフ
ォトリソグラフィー法にて行うものであれば、同様の作
用、効果が得られる。
たレジストを剥離せずその上に膜形成を行い、前記レジ
ストを剥離することによりその上に形成した膜のパター
ン形成を行うことを、一般的にはリフトオフ法と呼ばれ
ている。本発明の液晶表示素子において、この方法を用
いて前記有彩白色系反射層を形成すれば有彩白色系反射
層のパターン形成のための現像、露光工程が必要なくな
るため、安い製造コストにて製造できるようになる。ま
た、前記有彩白色系反射層のパターンと変調部、配線部
との合わせ精度も十分に得られる。これは、個々に現
像、露光工程をおこなっていないからである。このリフ
トオフ法は変調部以外の全域に有彩白色系反射層のパタ
ーン形成を行う場合や、カラーフィルターの着色層以外
の領域にパターン形成を行う場合であっても、変調部や
カラーフィルターの着色層がポジ型レジストを用いたフ
ォトリソグラフィー法にて行うものであれば、同様の作
用、効果が得られる。
【0055】また、図6に示すように、本発明に用いる
有彩白色系反射層20をセル内面に形成し、前記有彩白
色系反射層の層厚を所望の液晶組成物15の層厚とすれ
ば、前記有彩白色系反射層は基板間隙材の機能を得る。
この場合、基板間隙材としていわゆる粒状スペーサーを
基板全域に散布する方式と比較して、工程が簡略化でき
る上、変調部への影響が防止できる。
有彩白色系反射層20をセル内面に形成し、前記有彩白
色系反射層の層厚を所望の液晶組成物15の層厚とすれ
ば、前記有彩白色系反射層は基板間隙材の機能を得る。
この場合、基板間隙材としていわゆる粒状スペーサーを
基板全域に散布する方式と比較して、工程が簡略化でき
る上、変調部への影響が防止できる。
【0056】以上、本発明の作用について、構成の一例
等を用いて説明してきたが、本発明の作用、効果はこれ
らの一例にとらわれることがはなく、本発明の特徴を得
る構成、材料製法であれば、同様の作用、効果が得られ
ることは言うまでもない。例えば用いる基板としてはT
FT素子の付いたドットマトリクス基板でも同様の作
用、効果が得られる。また、有彩白色系反射層は多少色
みがかっていても、変調部の明状態の反射率または従来
技術の非変調部より高い反射率を得るものであれば効果
が得られることは本発明の作用から明白であり、本発明
において従来技術として代表的に説明した種々の型の液
晶表示素子に適用することができるものである。
等を用いて説明してきたが、本発明の作用、効果はこれ
らの一例にとらわれることがはなく、本発明の特徴を得
る構成、材料製法であれば、同様の作用、効果が得られ
ることは言うまでもない。例えば用いる基板としてはT
FT素子の付いたドットマトリクス基板でも同様の作
用、効果が得られる。また、有彩白色系反射層は多少色
みがかっていても、変調部の明状態の反射率または従来
技術の非変調部より高い反射率を得るものであれば効果
が得られることは本発明の作用から明白であり、本発明
において従来技術として代表的に説明した種々の型の液
晶表示素子に適用することができるものである。
【0057】
【実施例】以下、本発明の実施例について、図面を用い
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
【0058】(実施例1)図7乃至図10に本実施例の
液晶表示素子を示す。
液晶表示素子を示す。
【0059】0.7mm厚のガラス基板を2枚用い、一
方の観察側の上基板11に、図7(a)、(b)に示す
ようなMIM素子18をもつ電極13のパターンを作成
した。図7(a)は一画素の電極形状を示しており、一
画素は縦横180μm×180μmの寸法を有していし
る。図7(b)は上基板11の有効表示領域の形状を示
しており、各画素がマトリクス状に配列される。57.
6mm×86.4mm内に画素数480×320が配列
される。
方の観察側の上基板11に、図7(a)、(b)に示す
ようなMIM素子18をもつ電極13のパターンを作成
した。図7(a)は一画素の電極形状を示しており、一
画素は縦横180μm×180μmの寸法を有していし
る。図7(b)は上基板11の有効表示領域の形状を示
しており、各画素がマトリクス状に配列される。57.
6mm×86.4mm内に画素数480×320が配列
される。
【0060】図8に示すように観察側の上基板11はM
IM素子18と配線22および透明電極13が形成さ
れ、透明電極13を除く領域、非変調部Bの位置に有彩
白色系反射層20が形成される。
IM素子18と配線22および透明電極13が形成さ
れ、透明電極13を除く領域、非変調部Bの位置に有彩
白色系反射層20が形成される。
【0061】一方、対向側の下基板12は複数のストラ
イプ状透明電極14が前記画素電極に対応させて平行に
ならべて形成される。これら電極13、14上に配向膜
16、17が被着され、液晶組成物層15が基板間に挟
持される。
イプ状透明電極14が前記画素電極に対応させて平行に
ならべて形成される。これら電極13、14上に配向膜
16、17が被着され、液晶組成物層15が基板間に挟
持される。
【0062】本実施例構造の製造方法は、図7(a)に
示す上基板上に表面を酸化させた第1のTa層181
(表面はTaO2 総膜厚1000オングストローム(以
下Aと略称する))を図示するようなパターンで形成
し、しかる後、第2のTa層22(膜厚1000A)を
図示するように一部が第1のTa膜にかかる配線パター
ンで形成し、しかる後、基板全面にITOを膜厚200
0Aにて成膜し、レジスト材料としてポジ型のレジスト
材料(OFPRー5000、(株)東京応化製)を全面
に塗布し、60℃30分の仮焼成を施した後、画素電極
パターンの形成できるようにマスクを用いて露光し、N
MD3溶液((株)東京応化製)で現像し、図7(a)
の符号13で示すITO膜の上にのみ前記レジストが被
覆した構成とした後、塩酸・硝酸水溶液(混合比塩酸1
0・硝酸1・水10)でエッチングを行った。しかる
後、前記レジストを剥離せずに、図7(b)の基板に示
す有効表示領域111 全面にTiO2 を分散したレジス
ト材料(TiO2 分散液:(株)日本合成ゴム製)にシ
アン色の顔料(ピグメントバイオレット23=C34H8
Cl2 N4 O2 )を0.01wt%添加したものを、膜
厚2000Aとなるように印刷し、100℃で30分仮
焼成した。
示す上基板上に表面を酸化させた第1のTa層181
(表面はTaO2 総膜厚1000オングストローム(以
下Aと略称する))を図示するようなパターンで形成
し、しかる後、第2のTa層22(膜厚1000A)を
図示するように一部が第1のTa膜にかかる配線パター
ンで形成し、しかる後、基板全面にITOを膜厚200
0Aにて成膜し、レジスト材料としてポジ型のレジスト
材料(OFPRー5000、(株)東京応化製)を全面
に塗布し、60℃30分の仮焼成を施した後、画素電極
パターンの形成できるようにマスクを用いて露光し、N
MD3溶液((株)東京応化製)で現像し、図7(a)
の符号13で示すITO膜の上にのみ前記レジストが被
覆した構成とした後、塩酸・硝酸水溶液(混合比塩酸1
0・硝酸1・水10)でエッチングを行った。しかる
後、前記レジストを剥離せずに、図7(b)の基板に示
す有効表示領域111 全面にTiO2 を分散したレジス
ト材料(TiO2 分散液:(株)日本合成ゴム製)にシ
アン色の顔料(ピグメントバイオレット23=C34H8
Cl2 N4 O2 )を0.01wt%添加したものを、膜
厚2000Aとなるように印刷し、100℃で30分仮
焼成した。
【0063】次に、図7(a)のITO膜13の上にの
み被覆したレジストをST10溶液((株)東京応化
製)にて剥離した。この結果、前記TiO2 を分散した
レジスト材料は、有効表示領域111 内で図7(a)の
ITO膜13以外の領域にのみパターン形成できた。し
かる後、前記TiO2 を分散したレジスト材料を完全に
硬化させる目的で基板を180℃にて30分焼成し、基
板裏面から見て、有効表示領域内の画素電極(図7
(a)のITO膜13)およびMIM18、配線部22
以外の領域すなわち非変調部Bの一部に本発明の特徴で
ある薄いシアン色を呈する白色のシアン色反射層20を
形成できた。
み被覆したレジストをST10溶液((株)東京応化
製)にて剥離した。この結果、前記TiO2 を分散した
レジスト材料は、有効表示領域111 内で図7(a)の
ITO膜13以外の領域にのみパターン形成できた。し
かる後、前記TiO2 を分散したレジスト材料を完全に
硬化させる目的で基板を180℃にて30分焼成し、基
板裏面から見て、有効表示領域内の画素電極(図7
(a)のITO膜13)およびMIM18、配線部22
以外の領域すなわち非変調部Bの一部に本発明の特徴で
ある薄いシアン色を呈する白色のシアン色反射層20を
形成できた。
【0064】また、対向させる基板12として図7
(c)、(d)に示すITOストライプパターン電極1
4を形成した基板を作成した。ここで図7(c)は一画
素に該当するパターン形状を示しており、図7(d)
は、有効表示領域121 の形状を示している。
(c)、(d)に示すITOストライプパターン電極1
4を形成した基板を作成した。ここで図7(c)は一画
素に該当するパターン形状を示しており、図7(d)
は、有効表示領域121 の形状を示している。
【0065】こうして得られた2枚の基板に、配向膜1
6、17として配向剤(AL−1051、(株)日本合
成ゴム製)を有効表示領域に印刷、焼成し、前記ITO
ストライプパターンと平行であり、且つ対向する基板間
で向きが180゜逆となる方向にラビングして、しかる
後、観察側基板に粒径5μmの基板間隙材(ミクロパー
ルSP、(株)積水ファインケミカル製)を散布密度1
00/mm2 にて散布し、対向基板の有効表示領域周辺
に5mm幅の開口部を設けた周辺シールパターンをスク
リーン印刷法にて形成した。ここで用いたシール材料は
1液性エポキシ樹脂(XNー21、三井東圧化学(株)
製)である。
6、17として配向剤(AL−1051、(株)日本合
成ゴム製)を有効表示領域に印刷、焼成し、前記ITO
ストライプパターンと平行であり、且つ対向する基板間
で向きが180゜逆となる方向にラビングして、しかる
後、観察側基板に粒径5μmの基板間隙材(ミクロパー
ルSP、(株)積水ファインケミカル製)を散布密度1
00/mm2 にて散布し、対向基板の有効表示領域周辺
に5mm幅の開口部を設けた周辺シールパターンをスク
リーン印刷法にて形成した。ここで用いたシール材料は
1液性エポキシ樹脂(XNー21、三井東圧化学(株)
製)である。
【0066】次に、前記2枚の基板11、12を電極1
3、14面が対向するようにして重ね合わせて、基板間
隙が前記基板間隙材の粒径と等しくなるよう加圧しなが
ら180℃で2時間焼成し、本実施例の液晶表示素子に
用いる空セルを得た。しかる後、前記空セルに液晶材料
として正の誘電異方性を示すネマティック液晶材料ZL
I−2293((株)メルクジャパン製)151 に黒色
の染料LA103/4((株)三菱化成製)152 を
2.0wt%添加したものを減圧注入法にて注入し液晶
組成物層15とし、前記周辺シールパターンの開口部を
紫外線硬化樹脂UV−1000((株)ソニーケミカル
製)にて封止し、本実施例の液晶表示素子に用いる液晶
セルを得た。しかる後、図8に示すように、4分の1波
長板31、反射板30を張り合わせ本実施例の液晶表示
素子を得た。ここで用いた反射板30は、Al蒸着タイ
プの拡散反射板であるMタイプ拡散反射板((株)日東
電工製)であり、4分の1波長板31は積層タイプの全
波長域4分の1波長板((株)日東電工製)であり、そ
れぞれ糊付きのものを用いた。
3、14面が対向するようにして重ね合わせて、基板間
隙が前記基板間隙材の粒径と等しくなるよう加圧しなが
ら180℃で2時間焼成し、本実施例の液晶表示素子に
用いる空セルを得た。しかる後、前記空セルに液晶材料
として正の誘電異方性を示すネマティック液晶材料ZL
I−2293((株)メルクジャパン製)151 に黒色
の染料LA103/4((株)三菱化成製)152 を
2.0wt%添加したものを減圧注入法にて注入し液晶
組成物層15とし、前記周辺シールパターンの開口部を
紫外線硬化樹脂UV−1000((株)ソニーケミカル
製)にて封止し、本実施例の液晶表示素子に用いる液晶
セルを得た。しかる後、図8に示すように、4分の1波
長板31、反射板30を張り合わせ本実施例の液晶表示
素子を得た。ここで用いた反射板30は、Al蒸着タイ
プの拡散反射板であるMタイプ拡散反射板((株)日東
電工製)であり、4分の1波長板31は積層タイプの全
波長域4分の1波長板((株)日東電工製)であり、そ
れぞれ糊付きのものを用いた。
【0067】本実施例の液晶表示素子は構造として、観
察側基板11のスペース部にシアン色反射層20を有
し、その材料はTiO2 からなる白色顔料を主とし、シ
アン色顔料を添加混入したレジスト材料を用い、その製
造方法としては画素ITO電極のパターン形成工程に用
いたレジストパターンを利用したリフトオフ法によるも
のである。また、液晶表示モードとしては染料を添加し
た液晶組成物を用いたGH型のものであり、且つ4分の
1波長板を加えた図9に示した構成の表示モードであ
る。すなわち、電圧無印加状態では図9(a)に示すよ
うに非偏光の入射光Liは液晶組成物層15を通過して
直線偏光となり、4分の1波長板31で円偏光となって
反射板30に至り円偏光のまま反射され、再び4分の1
波長板31を通過するがこのときの直線偏光の方向が入
射時にたいして90°回転するため、液晶組成物層15
に遮られ反射光Lrは遮断される。一方、電圧印加時は
図9(b)に示すように入射光Liの非偏光光は、その
まま反射して反射光Lrが液晶組成物層15を通過す
る。
察側基板11のスペース部にシアン色反射層20を有
し、その材料はTiO2 からなる白色顔料を主とし、シ
アン色顔料を添加混入したレジスト材料を用い、その製
造方法としては画素ITO電極のパターン形成工程に用
いたレジストパターンを利用したリフトオフ法によるも
のである。また、液晶表示モードとしては染料を添加し
た液晶組成物を用いたGH型のものであり、且つ4分の
1波長板を加えた図9に示した構成の表示モードであ
る。すなわち、電圧無印加状態では図9(a)に示すよ
うに非偏光の入射光Liは液晶組成物層15を通過して
直線偏光となり、4分の1波長板31で円偏光となって
反射板30に至り円偏光のまま反射され、再び4分の1
波長板31を通過するがこのときの直線偏光の方向が入
射時にたいして90°回転するため、液晶組成物層15
に遮られ反射光Lrは遮断される。一方、電圧印加時は
図9(b)に示すように入射光Liの非偏光光は、その
まま反射して反射光Lrが液晶組成物層15を通過す
る。
【0068】さて、以上により得られた本実施例の液晶
表示素子の反射率およびコントラスト比を図10に示す
測定装置で測定した。測定はサンプルの中央から法線方
向の位置に距離30cmで輝度計40を配置し、ほぼ同
じ高さに前記法線方向と30゜の角度をなす方向に図示
するように赤緑青3波長に発光する高演色形蛍光灯4
1、42を2灯、配置して、サンプル43部分の照度が
580ルクスとなるようにして、標準拡散板(MgO
板)の輝度を測定し、この輝度を反射率100%とし、
サンプルの反射率およびコントラストを測定した。
表示素子の反射率およびコントラスト比を図10に示す
測定装置で測定した。測定はサンプルの中央から法線方
向の位置に距離30cmで輝度計40を配置し、ほぼ同
じ高さに前記法線方向と30゜の角度をなす方向に図示
するように赤緑青3波長に発光する高演色形蛍光灯4
1、42を2灯、配置して、サンプル43部分の照度が
580ルクスとなるようにして、標準拡散板(MgO
板)の輝度を測定し、この輝度を反射率100%とし、
サンプルの反射率およびコントラストを測定した。
【0069】結果を下表に示す(以下、他の実施例と比
較例の結果を併せて記載)。
較例の結果を併せて記載)。
【0070】なお、極めて感度の高い人間の目で見て感
じることができるわずかな色付きを補正する目的で有彩
としており、有彩顔料添加(0.01wt%)によるY
値(白としての反射率)の変化は%オーダーより小さい
ので数値的に無彩色の場合と同等の値となる。
じることができるわずかな色付きを補正する目的で有彩
としており、有彩顔料添加(0.01wt%)によるY
値(白としての反射率)の変化は%オーダーより小さい
ので数値的に無彩色の場合と同等の値となる。
【0071】
【表1】
【0072】ところで、コントラスト比とは、明状態の
部分(白い部分)に対して、暗状態の部分(黒い部分)
が、いかに際立って見えるかを示すパラメータである。
本発明のように、非変調部を全体の明るさに寄与させる
ように構成される反射型LCDにおいて、このコントラ
スト比のパラメータを考えてみる。実際に見た目に感じ
られるコントラスト比は、次のようになる。明状態の部
分の場合の実際に見た目に感じられる明るさは、非変調
部と変調部の反射率の和によって決まる。これは非変調
部の明るさが暗状態の変調部の明るさと比較すれば明る
いため、結果的には非変調部と変調部の明るさの差は、
相対的に見て小さい。これは非変調部と変調部の反射率
は混色され、一体化して目に認識されるからである。こ
れに対して暗状態とした場合のように暗状態の部分の実
際に見た目に感じられる暗さは、逆に変調部の暗さのみ
が認識される。これは、非変調部に対しては変調部は暗
くなっているためであり、前記した明状態の部分の場合
のように結果的には非変調部と変調部の明るさの差が小
さくないので、一体化して目に認識できないからであ
る。したがって、見た目の暗さ、黒さは変調部の暗さ、
黒さに大きく依存することになにる。さらに実際に見た
目には非変調部が明るいほど、暗さ、黒さが際立って見
えるので、暗状態の部分の実際に見た目に感じられる暗
さは、非変調部の明るさが明るいほど、暗く見えること
になる。
部分(白い部分)に対して、暗状態の部分(黒い部分)
が、いかに際立って見えるかを示すパラメータである。
本発明のように、非変調部を全体の明るさに寄与させる
ように構成される反射型LCDにおいて、このコントラ
スト比のパラメータを考えてみる。実際に見た目に感じ
られるコントラスト比は、次のようになる。明状態の部
分の場合の実際に見た目に感じられる明るさは、非変調
部と変調部の反射率の和によって決まる。これは非変調
部の明るさが暗状態の変調部の明るさと比較すれば明る
いため、結果的には非変調部と変調部の明るさの差は、
相対的に見て小さい。これは非変調部と変調部の反射率
は混色され、一体化して目に認識されるからである。こ
れに対して暗状態とした場合のように暗状態の部分の実
際に見た目に感じられる暗さは、逆に変調部の暗さのみ
が認識される。これは、非変調部に対しては変調部は暗
くなっているためであり、前記した明状態の部分の場合
のように結果的には非変調部と変調部の明るさの差が小
さくないので、一体化して目に認識できないからであ
る。したがって、見た目の暗さ、黒さは変調部の暗さ、
黒さに大きく依存することになにる。さらに実際に見た
目には非変調部が明るいほど、暗さ、黒さが際立って見
えるので、暗状態の部分の実際に見た目に感じられる暗
さは、非変調部の明るさが明るいほど、暗く見えること
になる。
【0073】こうしたことから、前記非変調部を全体の
明るさに寄与させるように構成される反射型LCDにお
ける実際に見た目に感じられるコントラスト比CRLを
(a)式のように定義し、評価に用いることにした。
明るさに寄与させるように構成される反射型LCDにお
ける実際に見た目に感じられるコントラスト比CRLを
(a)式のように定義し、評価に用いることにした。
【0074】
【数1】
【0075】暗状態では輝度計の測定径を画素の変調部
未満として行った。
未満として行った。
【0076】液晶層への印加電圧が4VとなるようMI
M素子を用いて全面(全画素)に電圧を印加した反射率
は80%と極めて高い値であり、また、液晶層への印加
電圧が0Vと4VとなるようMIM素子を用いて全面
(全画素)に電圧を印加してコントラスト比を測定した
ところ、表に示すように13:1と極めて高い値であっ
た。
M素子を用いて全面(全画素)に電圧を印加した反射率
は80%と極めて高い値であり、また、液晶層への印加
電圧が0Vと4VとなるようMIM素子を用いて全面
(全画素)に電圧を印加してコントラスト比を測定した
ところ、表に示すように13:1と極めて高い値であっ
た。
【0077】さらに、本実施例の液晶表示素子の明表示
の色味を色彩輝度計で測定した。まず、変調部のみを測
定したところ、色度がx=0.295、y=0.365
となり、若干緑色を呈している。これは、液晶層中の2
色性染料である黒色染料の分光特性によるものである。
続いて、シアン色反射層を含めた表示領域の色味を測定
したところ、x=0.310、y=0.313となり、
無彩色であった。すなわち、変調部のみの表示の緑色に
対して、非変調部の反射層のシアン色が補色の関係にあ
るために、これらが相補い、表示領域全体からの反射光
が白色に近い分光特性をもったものである。
の色味を色彩輝度計で測定した。まず、変調部のみを測
定したところ、色度がx=0.295、y=0.365
となり、若干緑色を呈している。これは、液晶層中の2
色性染料である黒色染料の分光特性によるものである。
続いて、シアン色反射層を含めた表示領域の色味を測定
したところ、x=0.310、y=0.313となり、
無彩色であった。すなわち、変調部のみの表示の緑色に
対して、非変調部の反射層のシアン色が補色の関係にあ
るために、これらが相補い、表示領域全体からの反射光
が白色に近い分光特性をもったものである。
【0078】(比較例1)実施例1において有彩白色系
反射層の無い構造の液晶表示素子を作成した。構造上は
有彩白色系反射層を設けないこと以外同一とし、材料、
製法も実施例1同様にして作成した。実施例1同様にし
て反射率及びコントラスト比を測定したところ、反射率
は60%と実施例1と比較して著しく低い値であった。
また、コントラスト比も9:1であり、実施例1の本発
明の液晶表示素子は有彩白色系反射層を設けても十分な
値を得ていることがわかった。
反射層の無い構造の液晶表示素子を作成した。構造上は
有彩白色系反射層を設けないこと以外同一とし、材料、
製法も実施例1同様にして作成した。実施例1同様にし
て反射率及びコントラスト比を測定したところ、反射率
は60%と実施例1と比較して著しく低い値であった。
また、コントラスト比も9:1であり、実施例1の本発
明の液晶表示素子は有彩白色系反射層を設けても十分な
値を得ていることがわかった。
【0079】さらに、実施例1と同様にこの液晶表示素
子の明表示の色味を色彩輝度計で測定した。その全体の
色味はx=0.295、y=0.365と実施例1の変
調部のみの反射特性と変わらず、若干緑色に色付いてい
るのが観察された。
子の明表示の色味を色彩輝度計で測定した。その全体の
色味はx=0.295、y=0.365と実施例1の変
調部のみの反射特性と変わらず、若干緑色に色付いてい
るのが観察された。
【0080】(実施例2)図11および図12に本実施
例のカラーフィルターを有するMIMスイッチング素子
をもつアクティブマトリクス液晶表示素子を示す。
例のカラーフィルターを有するMIMスイッチング素子
をもつアクティブマトリクス液晶表示素子を示す。
【0081】0.7mm厚のガラス基板11、12を2
枚用い、一方の下基板12に図11(a)、(b)に示
すようなMIM素子18付き基板を作成した。図11
(a)は一画素の電極形状を示し、180μm×180
μmの一画素領域にイエロー用の電極14Y 、マゼンタ
用の電極14M 、シアン用の電極14C が配置される。
図11(b)は有効表示領域122 の形状を示してい
る。画素数は480(×3)×320である。この基板
12は観察側基板の対向基板として用いる。本実施例で
は、いずれのパターンもリフトオフ法は用いず、各々レ
ジストを剥離しておこなった。
枚用い、一方の下基板12に図11(a)、(b)に示
すようなMIM素子18付き基板を作成した。図11
(a)は一画素の電極形状を示し、180μm×180
μmの一画素領域にイエロー用の電極14Y 、マゼンタ
用の電極14M 、シアン用の電極14C が配置される。
図11(b)は有効表示領域122 の形状を示してい
る。画素数は480(×3)×320である。この基板
12は観察側基板の対向基板として用いる。本実施例で
は、いずれのパターンもリフトオフ法は用いず、各々レ
ジストを剥離しておこなった。
【0082】しかる後、観察側基板11として、図11
(c)、(d)に示すカラーフィルター付き基板を作成
した。図11(c)、(d)に示すようなイエロー27
Y 、マゼンタ27M 、シアン27C の3着色層からなる
カラーフィルター27付き基板を用い、この基板全面に
ITO膜を膜厚2000Aにて成膜した。カラーフィル
ターの膜厚はいずれも18000Aである。しかる後、
レジスト材料としてポジ型のレジスト材料(OFPR−
5000、(株)東京応化製)を全面に塗布し、60
℃、30分の仮焼成を施した後、図11(c)に図示す
る形状のITO膜13にパターン形成できるようにマス
クを用いて露光し、NMD3溶液((株)東京応化製)
で現像し、図11(c)のITO膜13の上にのみ前記
レジストが被覆した構成とした後、塩酸・硝酸水溶液
(混合比塩酸10・硝酸1・水10)でエッチングを行
った。しかる後、前記レジストを図11(d)に示す有
効表示領域全面にTiO2 を分散したレジスト材料(T
iO2 分散液、(株)日本合成ゴム製)にシアン色の顔
料(ピグメントバイオレット23=C34H8 Cl2 N4
O2 )を0.01wt%添加したものを、膜厚2000
0Aと成るように印刷し、100℃で30分仮焼成した
後、前記図11(c)のITO膜13aの上にのみ被覆
したレジストをST10溶液((株)東京応化製)にて
剥離した。この結果、前記TiO2 を分散したレジスト
材料は、有効表示領域内で図11(c)のITO膜13
以外の領域にのみパターン形成できた。しかる後、前記
TiO2 を分散したレジスト材料を完全に硬化させる目
的で基板を180℃にて30分焼成し、基板裏面から見
て、有効表示領域内のカラーフィルターの着色部以外の
領域に本本実施例の特徴であるシアン色がかった有彩白
色系反射層20を形成できた。
(c)、(d)に示すカラーフィルター付き基板を作成
した。図11(c)、(d)に示すようなイエロー27
Y 、マゼンタ27M 、シアン27C の3着色層からなる
カラーフィルター27付き基板を用い、この基板全面に
ITO膜を膜厚2000Aにて成膜した。カラーフィル
ターの膜厚はいずれも18000Aである。しかる後、
レジスト材料としてポジ型のレジスト材料(OFPR−
5000、(株)東京応化製)を全面に塗布し、60
℃、30分の仮焼成を施した後、図11(c)に図示す
る形状のITO膜13にパターン形成できるようにマス
クを用いて露光し、NMD3溶液((株)東京応化製)
で現像し、図11(c)のITO膜13の上にのみ前記
レジストが被覆した構成とした後、塩酸・硝酸水溶液
(混合比塩酸10・硝酸1・水10)でエッチングを行
った。しかる後、前記レジストを図11(d)に示す有
効表示領域全面にTiO2 を分散したレジスト材料(T
iO2 分散液、(株)日本合成ゴム製)にシアン色の顔
料(ピグメントバイオレット23=C34H8 Cl2 N4
O2 )を0.01wt%添加したものを、膜厚2000
0Aと成るように印刷し、100℃で30分仮焼成した
後、前記図11(c)のITO膜13aの上にのみ被覆
したレジストをST10溶液((株)東京応化製)にて
剥離した。この結果、前記TiO2 を分散したレジスト
材料は、有効表示領域内で図11(c)のITO膜13
以外の領域にのみパターン形成できた。しかる後、前記
TiO2 を分散したレジスト材料を完全に硬化させる目
的で基板を180℃にて30分焼成し、基板裏面から見
て、有効表示領域内のカラーフィルターの着色部以外の
領域に本本実施例の特徴であるシアン色がかった有彩白
色系反射層20を形成できた。
【0083】この基板の有効表示領域では、有彩白色系
反射層の膜厚もカラーフィルターの着色部の膜厚(カラ
ーフィルターの膜厚+ITOの膜厚)もともに2000
0Aであり、表面の段差は生じていない。このように、
本実施例では、有彩白色系反射層はカラーフィルターの
着色部とそれ以外の領域間の段差を解消する構成となっ
ている。
反射層の膜厚もカラーフィルターの着色部の膜厚(カラ
ーフィルターの膜厚+ITOの膜厚)もともに2000
0Aであり、表面の段差は生じていない。このように、
本実施例では、有彩白色系反射層はカラーフィルターの
着色部とそれ以外の領域間の段差を解消する構成となっ
ている。
【0084】こうして得られた2枚の基板を図12のよ
うに実施例1同様の材料、製法にてセル化し、実施例1
同様の、材料、製法にて4分の1波長板31、反射板3
0を貼付し、液晶表示素子を得た。
うに実施例1同様の材料、製法にてセル化し、実施例1
同様の、材料、製法にて4分の1波長板31、反射板3
0を貼付し、液晶表示素子を得た。
【0085】こうして得られた本実施例の液晶表示素子
の反射率およびコントラスト比を実施例1同様の方法に
て測定したところ、反射率は、カラーフィルターでの吸
収があるにも拘らず50%と極めて高い値であり、ま
た、コントラスト比を測定したところ、12:1と極め
て高い値であった。
の反射率およびコントラスト比を実施例1同様の方法に
て測定したところ、反射率は、カラーフィルターでの吸
収があるにも拘らず50%と極めて高い値であり、ま
た、コントラスト比を測定したところ、12:1と極め
て高い値であった。
【0086】さらに、本実施例の液晶表示素子の明表示
の色味を色彩輝度計で測定した。まず、変調部のみを測
定したところ、色度がx=0.295、y=0.365
となり、若干緑色を呈している。これは、液晶層中の2
色性染料である黒色染料の分光特性によるものである。
続いて、シアン色反射層を含めた表示領域の色味を測定
したところ、x=0.3101、y=0.3101とな
り、ほぼ完全な無彩色であった。
の色味を色彩輝度計で測定した。まず、変調部のみを測
定したところ、色度がx=0.295、y=0.365
となり、若干緑色を呈している。これは、液晶層中の2
色性染料である黒色染料の分光特性によるものである。
続いて、シアン色反射層を含めた表示領域の色味を測定
したところ、x=0.3101、y=0.3101とな
り、ほぼ完全な無彩色であった。
【0087】(比較例2)実施例2において有彩白色系
反射層の無い構造の液晶表示素子を作成した。構造上は
有彩白色系反射層を設けないこと以外同一とし、材料、
製法も実施例2と同様にして作製した。実施例1同様に
して反射率及びコントラスト比を測定したところ、反射
率は25%と実施例2と比較して著しく低い値であっ
た。また、コントラスト比も6:1であり、実施例2の
本発明の液晶表示素子は有彩白色系反射層を設けても十
分な値を得ていることがわかった。
反射層の無い構造の液晶表示素子を作成した。構造上は
有彩白色系反射層を設けないこと以外同一とし、材料、
製法も実施例2と同様にして作製した。実施例1同様に
して反射率及びコントラスト比を測定したところ、反射
率は25%と実施例2と比較して著しく低い値であっ
た。また、コントラスト比も6:1であり、実施例2の
本発明の液晶表示素子は有彩白色系反射層を設けても十
分な値を得ていることがわかった。
【0088】さらに、実施例2と同様にこの液晶表示素
子の明表示の色味を色彩輝度計で測定した。その全体の
色味はx=0.295、y=0.365と実施例2の変
調部のみの反射特性同様に、若干緑色に色付いているの
が観察された。
子の明表示の色味を色彩輝度計で測定した。その全体の
色味はx=0.295、y=0.365と実施例2の変
調部のみの反射特性同様に、若干緑色に色付いているの
が観察された。
【0089】(実施例3)図13に本実施例の液晶表示
素子を示す。
素子を示す。
【0090】0.7mm厚のガラス基板を2枚用い、一
方の基板11に図13(a)、(b)に示すようなTF
T18付き基板を作成した。図13(a)は一画素の電
極形状を示し、図13(b)は有効表示領域の形状を示
す。一画素は180μm×180μm、画素数は480
×320である。この基板11は観察側基板として用い
る。まず、図7(a)に示すと同様に基板11上にTF
Tスイッチング素子18を形成し、しかる後、基板全面
にITO膜を膜厚2000Aにて成膜し、レジスト材料
としてポジ型のレジスト材料:OFPR−5000
((株)東京応化製)を全面に塗布し、60℃30分の
仮焼成を施した後、図示する正方形形状にパターン形成
できるようにマスクを用いて露光し、NMD3溶液
((株)東京応化製)で現像し、電極として残すITO
膜13の上にのみ前記レジストが被覆した構成とした
後、塩酸・硝酸水溶液(混合比塩酸10・硝酸1・水1
0)でエッチングを行った。しかる後、前記レジストを
剥離せずに、図13(b)に示す基板11の有効表示領
域113 全面にTiO2 を分散したレジスト材料(Ti
O2 分散液:(株)日本合成ゴム製)に実施例1と同様
にシアン色の顔料(ピグメントバイオレット23=C34
H8 Cl2 N4 O2 )を0.01wt%添加したものを
膜厚2000Aと成るように印刷し、100℃で30分
仮焼成した後、前記図13(a)のITO膜13の上に
のみ被覆したレジストをST10溶液((株)東京応化
製)にて剥離した。この結果、前記TiO2 を分散した
レジスト材料は、有効表示領域113 内で図13(a)
のITO膜13以外の領域にのみパターン形成できた。
しかる後、前記TiO2 を分散したレジスト材料を完全
に硬化させる目的で基板を180℃にて30分焼成し、
基板裏面から見て、有効表示領域内の画素電極(図13
(a)のITO膜13)および配線部(ゲート線、信号
線)22、TFT素子18以外のスペース領域に本実施
例の特徴である明度の高いシアン色の白色系反射層20
を形成できた。
方の基板11に図13(a)、(b)に示すようなTF
T18付き基板を作成した。図13(a)は一画素の電
極形状を示し、図13(b)は有効表示領域の形状を示
す。一画素は180μm×180μm、画素数は480
×320である。この基板11は観察側基板として用い
る。まず、図7(a)に示すと同様に基板11上にTF
Tスイッチング素子18を形成し、しかる後、基板全面
にITO膜を膜厚2000Aにて成膜し、レジスト材料
としてポジ型のレジスト材料:OFPR−5000
((株)東京応化製)を全面に塗布し、60℃30分の
仮焼成を施した後、図示する正方形形状にパターン形成
できるようにマスクを用いて露光し、NMD3溶液
((株)東京応化製)で現像し、電極として残すITO
膜13の上にのみ前記レジストが被覆した構成とした
後、塩酸・硝酸水溶液(混合比塩酸10・硝酸1・水1
0)でエッチングを行った。しかる後、前記レジストを
剥離せずに、図13(b)に示す基板11の有効表示領
域113 全面にTiO2 を分散したレジスト材料(Ti
O2 分散液:(株)日本合成ゴム製)に実施例1と同様
にシアン色の顔料(ピグメントバイオレット23=C34
H8 Cl2 N4 O2 )を0.01wt%添加したものを
膜厚2000Aと成るように印刷し、100℃で30分
仮焼成した後、前記図13(a)のITO膜13の上に
のみ被覆したレジストをST10溶液((株)東京応化
製)にて剥離した。この結果、前記TiO2 を分散した
レジスト材料は、有効表示領域113 内で図13(a)
のITO膜13以外の領域にのみパターン形成できた。
しかる後、前記TiO2 を分散したレジスト材料を完全
に硬化させる目的で基板を180℃にて30分焼成し、
基板裏面から見て、有効表示領域内の画素電極(図13
(a)のITO膜13)および配線部(ゲート線、信号
線)22、TFT素子18以外のスペース領域に本実施
例の特徴である明度の高いシアン色の白色系反射層20
を形成できた。
【0091】さらに、対向基板としてITOベタ電極を
有する基板(図示せず)を用い、配向膜としてALー1
051((株)日本合成ゴム製)を有効表示領域に印
刷、焼成し、対向する基板間で向きが180゜逆となる
方向にラビングして、しかる後、観察側基板に基板間隙
材として粒径8μmのミクロパールSP((株)積水フ
ァインケミカル製)を散布密度100/mm2 にて散布
し、対向基板の有効表示領域周辺に5mm幅の開口部を
設けた周辺シールパターンをスクリーン印刷法にて形成
した。ここで用いたシール材料は1液性エポキシ樹脂で
あるXNー21(三井東圧化学(株)製)である。
有する基板(図示せず)を用い、配向膜としてALー1
051((株)日本合成ゴム製)を有効表示領域に印
刷、焼成し、対向する基板間で向きが180゜逆となる
方向にラビングして、しかる後、観察側基板に基板間隙
材として粒径8μmのミクロパールSP((株)積水フ
ァインケミカル製)を散布密度100/mm2 にて散布
し、対向基板の有効表示領域周辺に5mm幅の開口部を
設けた周辺シールパターンをスクリーン印刷法にて形成
した。ここで用いたシール材料は1液性エポキシ樹脂で
あるXNー21(三井東圧化学(株)製)である。
【0092】しかる後、前記2枚の基板を電極面が対向
するようにして重ね合わせて、基板間隙が前記基板間隙
材の粒径と等しくなるよう加圧しながら180℃で2時
間焼成し、本発明の液晶表示素子に用いる空セルを得
た。しかる後、前記空セルに液晶材料として正の誘電異
方性を示すネマティック液晶材料(ZLIー2293、
(株)メルクジャパン製)に、カイラル材(S101
1、(株)メルクジャパン製)を2wt%と、黒色の染
料(LA103/4、(株)三菱化成製)を2.0wt
%添加したものを減圧注入法にて注入し、前記周辺シー
ルパターンの開口部を紫外線硬化樹脂UV−1000
((株)ソニーケミカル製)にて封止し、本実施例の液
晶表示素子に用いる液晶セルを得た。本実施例にて作成
した液晶表示素子は、PC−GH型LCDであり、用い
た液晶材料のヘリカルピッチは1.4μmに設定(前記
カイラル材の添加量で制御)してある。ヘリカルピッチ
が液晶層厚(設定8μm)より、十分に短いため、螺旋
軸は法線方向からずれ、電圧を印加していない状態では
実用的に染料分子の方位がランダムとなり、十分な光吸
収効果(暗状態を得る効果)が得られる。
するようにして重ね合わせて、基板間隙が前記基板間隙
材の粒径と等しくなるよう加圧しながら180℃で2時
間焼成し、本発明の液晶表示素子に用いる空セルを得
た。しかる後、前記空セルに液晶材料として正の誘電異
方性を示すネマティック液晶材料(ZLIー2293、
(株)メルクジャパン製)に、カイラル材(S101
1、(株)メルクジャパン製)を2wt%と、黒色の染
料(LA103/4、(株)三菱化成製)を2.0wt
%添加したものを減圧注入法にて注入し、前記周辺シー
ルパターンの開口部を紫外線硬化樹脂UV−1000
((株)ソニーケミカル製)にて封止し、本実施例の液
晶表示素子に用いる液晶セルを得た。本実施例にて作成
した液晶表示素子は、PC−GH型LCDであり、用い
た液晶材料のヘリカルピッチは1.4μmに設定(前記
カイラル材の添加量で制御)してある。ヘリカルピッチ
が液晶層厚(設定8μm)より、十分に短いため、螺旋
軸は法線方向からずれ、電圧を印加していない状態では
実用的に染料分子の方位がランダムとなり、十分な光吸
収効果(暗状態を得る効果)が得られる。
【0093】こうして得られた液晶セルの対向基板外面
に実施例1同様、Mタイプ拡散反射板((株)日東電工
製)を貼り、本実施例の液晶表示素子を得た。
に実施例1同様、Mタイプ拡散反射板((株)日東電工
製)を貼り、本実施例の液晶表示素子を得た。
【0094】この液晶表示素子の反射率及びコントラス
ト比を実施例1同様の方法にて測定したところ、液晶層
への印加電圧が14VとなるようTFT素子を用いて全
面(全画素)に電圧を印加して反射率は80%と極めて
高い値であり、また、液晶層への印加電圧が0Vと14
VとなるようTFT素子を用いて全面(全画素)に電圧
を印加してコントラスト比を測定したところ、15:1
と極めて高い値であった。ここで、コントラスト比が実
施例1より、さらに高くなったのはスイッチング素子と
してTFT素子を用いていることによるもので、本発明
の作用とともに効果を高める。
ト比を実施例1同様の方法にて測定したところ、液晶層
への印加電圧が14VとなるようTFT素子を用いて全
面(全画素)に電圧を印加して反射率は80%と極めて
高い値であり、また、液晶層への印加電圧が0Vと14
VとなるようTFT素子を用いて全面(全画素)に電圧
を印加してコントラスト比を測定したところ、15:1
と極めて高い値であった。ここで、コントラスト比が実
施例1より、さらに高くなったのはスイッチング素子と
してTFT素子を用いていることによるもので、本発明
の作用とともに効果を高める。
【0095】さらに、本実施例の液晶表示素子の明表示
の色味を色彩輝度計で測定した。まず、変調部のみを測
定したところ、色度がx=0.295、y=0.365
となり、若干緑色を呈している。これは、液晶層中の2
色性染料である黒色染料の分光特性によるものである。
続いて、シアン色反射層を含めた表示領域の色味を測定
したところ、x=0.3101、y=0.3101とな
り、ほぼ完全な無彩色であった。
の色味を色彩輝度計で測定した。まず、変調部のみを測
定したところ、色度がx=0.295、y=0.365
となり、若干緑色を呈している。これは、液晶層中の2
色性染料である黒色染料の分光特性によるものである。
続いて、シアン色反射層を含めた表示領域の色味を測定
したところ、x=0.3101、y=0.3101とな
り、ほぼ完全な無彩色であった。
【0096】(実施例4)実施例3において、有彩白色
系反射層を形成する白色顔料に用いる顔料として、Mg
Oを用いる以外、実施例3と同じ材料、製法、構成にて
本発明の液晶表示素子を作成した。
系反射層を形成する白色顔料に用いる顔料として、Mg
Oを用いる以外、実施例3と同じ材料、製法、構成にて
本発明の液晶表示素子を作成した。
【0097】実施例3同様、駆動電圧14Vにて、反射
率およびコントラスト比を実施例1同様の方法にて測定
したところ、反射率は78%と極めて高い値であり、コ
ントラスト比を測定したところ、15:1と極めて高い
値であった。
率およびコントラスト比を実施例1同様の方法にて測定
したところ、反射率は78%と極めて高い値であり、コ
ントラスト比を測定したところ、15:1と極めて高い
値であった。
【0098】さらに、本実施例の液晶表示素子の明表示
の色味を色彩輝度計で測定した。まず、変調部のみを測
定したところ、色度がx=0.295、y=0.365
となり、若干緑色を呈している。これは、液晶層中の2
色性色素である黒色染料の分光特性によるものである。
続いて、シアン色反射層を含めた表示領域の色味を測定
したところ、x=0.3101、y=0.3101とな
り、ほぼ完全な無彩色であった。
の色味を色彩輝度計で測定した。まず、変調部のみを測
定したところ、色度がx=0.295、y=0.365
となり、若干緑色を呈している。これは、液晶層中の2
色性色素である黒色染料の分光特性によるものである。
続いて、シアン色反射層を含めた表示領域の色味を測定
したところ、x=0.3101、y=0.3101とな
り、ほぼ完全な無彩色であった。
【0099】(実施例5)図14乃至図15に本実施例
の数字等のキャラクター表示用液晶表示素子を示す。
の数字等のキャラクター表示用液晶表示素子を示す。
【0100】2枚の0.7mm厚のガラス基板11、1
2を用い、図14(a)にセグメント電極パターン14
を形成した対向基板12、図14(b)にITO膜の電
極パターン13を形成した観察側基板11を示す。これ
ら基板の電極面に、図15に示すように配向膜16、1
7として、AL−1051((株)日本合成ゴム製)を
有効表示領域に印刷、焼成し、図14(a)、(b)に
図示する矢印方向r1、r2 (互いに対向する基板間で
向きが180゜逆となる方向)にラビングして、しかる
後、観察側基板11に基板間隙材として粒径2.5μm
の間隙剤(ミクロパールSP、(株)積水ファインケミ
カル製)を散布密度100/mm2 にて散布し、対向基
板12の有効表示領域周辺に5mm幅の開口部を設けた
周辺シールパターンをスクリーン印刷法にて形成した。
ここで用いたシール材料28は1液性エポキシ樹脂(X
N−21、三井東圧化学(株)製)である。
2を用い、図14(a)にセグメント電極パターン14
を形成した対向基板12、図14(b)にITO膜の電
極パターン13を形成した観察側基板11を示す。これ
ら基板の電極面に、図15に示すように配向膜16、1
7として、AL−1051((株)日本合成ゴム製)を
有効表示領域に印刷、焼成し、図14(a)、(b)に
図示する矢印方向r1、r2 (互いに対向する基板間で
向きが180゜逆となる方向)にラビングして、しかる
後、観察側基板11に基板間隙材として粒径2.5μm
の間隙剤(ミクロパールSP、(株)積水ファインケミ
カル製)を散布密度100/mm2 にて散布し、対向基
板12の有効表示領域周辺に5mm幅の開口部を設けた
周辺シールパターンをスクリーン印刷法にて形成した。
ここで用いたシール材料28は1液性エポキシ樹脂(X
N−21、三井東圧化学(株)製)である。
【0101】しかる後、図14(c)のように、前記2
枚の基板11、12を電極面が対向するようにして重ね
合わせて、基板間隙が前記基板間隙材の粒径と等しくな
るよう加圧しながら180℃で2時間焼成し、本実施例
の液晶表示素子に用いる空セルを得た。次に、前記空セ
ルに液晶材料として正の誘電異方性を示すネマティック
液晶材料(ZLI−2293、(株)メルクジャパン
製)を液晶組成物15として減圧注入法にて注入し、前
記周辺シールパターンの開口部を紫外線硬化樹脂(UV
−1000、(株)ソニーケミカル製)にて封止し、本
実施例の液晶表示素子に用いる液晶セルを得た。
枚の基板11、12を電極面が対向するようにして重ね
合わせて、基板間隙が前記基板間隙材の粒径と等しくな
るよう加圧しながら180℃で2時間焼成し、本実施例
の液晶表示素子に用いる空セルを得た。次に、前記空セ
ルに液晶材料として正の誘電異方性を示すネマティック
液晶材料(ZLI−2293、(株)メルクジャパン
製)を液晶組成物15として減圧注入法にて注入し、前
記周辺シールパターンの開口部を紫外線硬化樹脂(UV
−1000、(株)ソニーケミカル製)にて封止し、本
実施例の液晶表示素子に用いる液晶セルを得た。
【0102】しかる後、図15に示す構造となるよう偏
光板32としてLLC298−18SF((株)サンリ
ッツ製)を、観察側基板11外面に前記ラビング方向と
45゜の角度をなす方向に吸収軸が来るように張り付
け、反射板30としてMタイプ拡散反射板((株)日東
電工製)を対向基板12外面に張り付け、しかる後、前
記偏光板32表面に、TiO2 を分散したレジスト材料
(TiO2 分散液:(株)日本合成ゴム製)に、青色の
顔料(ピグメントブルー17:1=C32H14N8O6 C
uBa)を0.01wt%添加したものを図14(c)
の符号20で示すパターンでセグメント電極が見える開
口窓を形成して膜厚2000Aとなるように印刷し、7
0℃で120分焼成し、平面的にみて非変調部である領
域で、断面的に見て前記偏光板表面に水色の白色系反射
層20を形成し、本実施例の液晶表示素子を得た。
光板32としてLLC298−18SF((株)サンリ
ッツ製)を、観察側基板11外面に前記ラビング方向と
45゜の角度をなす方向に吸収軸が来るように張り付
け、反射板30としてMタイプ拡散反射板((株)日東
電工製)を対向基板12外面に張り付け、しかる後、前
記偏光板32表面に、TiO2 を分散したレジスト材料
(TiO2 分散液:(株)日本合成ゴム製)に、青色の
顔料(ピグメントブルー17:1=C32H14N8O6 C
uBa)を0.01wt%添加したものを図14(c)
の符号20で示すパターンでセグメント電極が見える開
口窓を形成して膜厚2000Aとなるように印刷し、7
0℃で120分焼成し、平面的にみて非変調部である領
域で、断面的に見て前記偏光板表面に水色の白色系反射
層20を形成し、本実施例の液晶表示素子を得た。
【0103】本実施例は画素単位の表示パターンではな
いため、変調部と非変調部を一つの表示単位とみなして
観察することはできないので、変調部と非変調部を合わ
せたコントラスト比は議論の価値がない。よって、本実
施例では、実施例1と同様の方法にて反射率のみを測定
した。電圧を印加しない状態では、反射率50%と偏光
板を用いているにも拘らず極めて高い値であった。ま
た、5Vの電圧を印加して変調部を暗状態としたとこ
ろ、極めて視認性の良い表示であった。
いため、変調部と非変調部を一つの表示単位とみなして
観察することはできないので、変調部と非変調部を合わ
せたコントラスト比は議論の価値がない。よって、本実
施例では、実施例1と同様の方法にて反射率のみを測定
した。電圧を印加しない状態では、反射率50%と偏光
板を用いているにも拘らず極めて高い値であった。ま
た、5Vの電圧を印加して変調部を暗状態としたとこ
ろ、極めて視認性の良い表示であった。
【0104】さらにこのようにして得られた液晶表示素
子の明表示のみを色彩輝度計で測定した。まず、セグメ
ント電極領域である変調部のみを測定したところ、色度
x=0.350、y=0.350と若干黄色味に色づい
ていた。これは、同表示素子の表示モードがECBモー
ドの複屈折効果に因るものである。しかる後、前記水色
の反射層を含めた全体の色味を測定したところ、x=
0.3101、y=0.3101となり、ほぼ完全な無
彩色の色味であった。これは、変調部の黄色味と非変調
部の水色がほぼ補色の関係にあり、相補的に働くためで
ある。
子の明表示のみを色彩輝度計で測定した。まず、セグメ
ント電極領域である変調部のみを測定したところ、色度
x=0.350、y=0.350と若干黄色味に色づい
ていた。これは、同表示素子の表示モードがECBモー
ドの複屈折効果に因るものである。しかる後、前記水色
の反射層を含めた全体の色味を測定したところ、x=
0.3101、y=0.3101となり、ほぼ完全な無
彩色の色味であった。これは、変調部の黄色味と非変調
部の水色がほぼ補色の関係にあり、相補的に働くためで
ある。
【0105】(実施例6)図16に本実施例の液晶表示
素子を示す。実施例1に用いた2枚の電極付き基板1
1、12を用いた。観察側基板11の電極13周囲には
シアン色反射層20を有している。次に電極13、14
面に配向膜(AL−1051、(株)日本合成ゴム製)
16、17を有効表示領域に印刷、焼成し、2枚の基板
11、12を電極面が対向するよう重ね合わせたときラ
ビング方向が90゜の角度をなすようにラビングして、
しかる後、観察側基板に基板間隙材として粒径4.5μ
mのミクロパールSP((株)積水ファインケミカル
製)を散布密度100/mm2 にて散布し、対向基板の
有効表示領域周辺に5mm幅の開口部を設けた周辺シー
ルパターンをスクリーン印刷法にて形成した。ここで用
いたシール材料は1液性エポキシ樹脂XN−21(三井
東圧化学(株)製)である。
素子を示す。実施例1に用いた2枚の電極付き基板1
1、12を用いた。観察側基板11の電極13周囲には
シアン色反射層20を有している。次に電極13、14
面に配向膜(AL−1051、(株)日本合成ゴム製)
16、17を有効表示領域に印刷、焼成し、2枚の基板
11、12を電極面が対向するよう重ね合わせたときラ
ビング方向が90゜の角度をなすようにラビングして、
しかる後、観察側基板に基板間隙材として粒径4.5μ
mのミクロパールSP((株)積水ファインケミカル
製)を散布密度100/mm2 にて散布し、対向基板の
有効表示領域周辺に5mm幅の開口部を設けた周辺シー
ルパターンをスクリーン印刷法にて形成した。ここで用
いたシール材料は1液性エポキシ樹脂XN−21(三井
東圧化学(株)製)である。
【0106】しかる後、前記2枚の基板を電極面が対向
するようにして重ね合わせて、基板間隙が前記基板間隙
材の粒径と等しくなるよう加圧しながら180℃で2時
間焼成し、本発明の液晶表示素子に用いる空セルを得
た。しかる後、前記空セルに液晶材料として正の誘電異
方性を示すネマティック液晶材料ZLI−2293
((株)メルクジャパン製)を液晶組成物層15として
減圧注入法にて注入し、前記周辺シールパターンの開口
部を紫外線硬化樹脂(UV−1000、(株)ソニーケ
ミカル製)にて封止し、本実施例の液晶表示素子に用い
る液晶セルを得た。
するようにして重ね合わせて、基板間隙が前記基板間隙
材の粒径と等しくなるよう加圧しながら180℃で2時
間焼成し、本発明の液晶表示素子に用いる空セルを得
た。しかる後、前記空セルに液晶材料として正の誘電異
方性を示すネマティック液晶材料ZLI−2293
((株)メルクジャパン製)を液晶組成物層15として
減圧注入法にて注入し、前記周辺シールパターンの開口
部を紫外線硬化樹脂(UV−1000、(株)ソニーケ
ミカル製)にて封止し、本実施例の液晶表示素子に用い
る液晶セルを得た。
【0107】しかる後、偏光板(LLC298−18S
F、(株)サンリッツ製)32、33を2枚の基板外面
に、吸収軸が前記ラビング方向と平行となるように張り
付け、反射板30としてMタイプ拡散反射板((株)日
東電工製)を対向基板の偏光板外側に張り付け、本実施
例の液晶表示素子を得た。
F、(株)サンリッツ製)32、33を2枚の基板外面
に、吸収軸が前記ラビング方向と平行となるように張り
付け、反射板30としてMタイプ拡散反射板((株)日
東電工製)を対向基板の偏光板外側に張り付け、本実施
例の液晶表示素子を得た。
【0108】実施例1同様、駆動電圧4Vにて、反射率
およびコントラスト比を実施例1同様の方法にて測定し
たところ、偏光板を2枚も用いているにも拘らず反射率
は40%と極めて高い値であり、コントラスト比を測定
したところ、22:1と極めて高い値であった。
およびコントラスト比を実施例1同様の方法にて測定し
たところ、偏光板を2枚も用いているにも拘らず反射率
は40%と極めて高い値であり、コントラスト比を測定
したところ、22:1と極めて高い値であった。
【0109】さらにこのようにして得られた液晶表示素
子の明表示のみを色彩輝度計で測定した。まず、セグメ
ント電極領域である変調部のみを測定したところ、色度
x=0.297、y=0.363と若干緑色味に色づい
ていた。これは、同表示素子の表示モードがTNモード
の透過率を最も高くするように光学設計をしたためであ
り、前述の条件での製作によりこのような色付きが生じ
たことによる。しかる後、前記シアン色の反射層を含め
た全体の色味を測定したところ、x=0.3102、y
=0.3100しなり、ほぼ完全な無彩色の色味であっ
た。
子の明表示のみを色彩輝度計で測定した。まず、セグメ
ント電極領域である変調部のみを測定したところ、色度
x=0.297、y=0.363と若干緑色味に色づい
ていた。これは、同表示素子の表示モードがTNモード
の透過率を最も高くするように光学設計をしたためであ
り、前述の条件での製作によりこのような色付きが生じ
たことによる。しかる後、前記シアン色の反射層を含め
た全体の色味を測定したところ、x=0.3102、y
=0.3100しなり、ほぼ完全な無彩色の色味であっ
た。
【0110】(実施例7)図17に示すように、0.7
mm厚のガラス基板11、12を2枚用い、一方の基板
12に図7(a)、(b)に示すようなMIM素子付き
基板を作成した。この基板12は図7(a)の基板と異
なり観察側基板の対向基板として用いる。すなわち、本
実施例は図7に示す実施例1の構成で、セルの逆の面を
観察側とするものである。
mm厚のガラス基板11、12を2枚用い、一方の基板
12に図7(a)、(b)に示すようなMIM素子付き
基板を作成した。この基板12は図7(a)の基板と異
なり観察側基板の対向基板として用いる。すなわち、本
実施例は図7に示す実施例1の構成で、セルの逆の面を
観察側とするものである。
【0111】観察側基板11として、図7(c)、
(d)に示すITOストライプパターン電極基板基板を
作成した。本実施例では、いずれのパターンもリフトオ
フ法は用いず、各々レジストを剥離しておこなった。
(d)に示すITOストライプパターン電極基板基板を
作成した。本実施例では、いずれのパターンもリフトオ
フ法は用いず、各々レジストを剥離しておこなった。
【0112】しかる後、前記図7(c)、(d)に示す
ITOストライプパターン電極基板表面に図7(d)に
示す有効表示領域全面にTiO2 を分散したレジスト材
料(TiO2 分散液:(株)日本合成ゴム製)にシアン
色の顔料(ピグメントバイオレット23=C34H8 Cl
2 N4 O2 )を0.01wt%添加したものを、膜厚2
000Aとなるように印刷し、60℃30分の仮焼成を
施した後、対向基板12の画素電極14(図7(a)の
ITO膜13)以外の領域が対向する図7(c)の観察
基板の該当領域にパターン形成できるよう(すなわち非
変調部Bにのみパターン形成できるよう)マスクを用い
て露光し、NMD3溶液((株)東京応化製)で現像
し、観察側基板の非変調部全域に本発明のシアン色反射
層20を形成した。
ITOストライプパターン電極基板表面に図7(d)に
示す有効表示領域全面にTiO2 を分散したレジスト材
料(TiO2 分散液:(株)日本合成ゴム製)にシアン
色の顔料(ピグメントバイオレット23=C34H8 Cl
2 N4 O2 )を0.01wt%添加したものを、膜厚2
000Aとなるように印刷し、60℃30分の仮焼成を
施した後、対向基板12の画素電極14(図7(a)の
ITO膜13)以外の領域が対向する図7(c)の観察
基板の該当領域にパターン形成できるよう(すなわち非
変調部Bにのみパターン形成できるよう)マスクを用い
て露光し、NMD3溶液((株)東京応化製)で現像
し、観察側基板の非変調部全域に本発明のシアン色反射
層20を形成した。
【0113】こうして得られた2枚の基板を用い、実施
例1と同様の材料、製法にて液晶セルを作成し、図17
に示すような構成となるように実施例1と同様の材料
(4分の1波長板31、反射板30)を対向基板12外
面に貼付し、本実施例の液晶表示素子を得た。
例1と同様の材料、製法にて液晶セルを作成し、図17
に示すような構成となるように実施例1と同様の材料
(4分の1波長板31、反射板30)を対向基板12外
面に貼付し、本実施例の液晶表示素子を得た。
【0114】本実施例は実施例1と比較してシアン色反
射層20のパターン形成にリフトオフ法を用いず、フォ
トリソグラフィー法を用いている。製造プロセスは増加
するが、シアン色反射層を非変調部全域に容易に設ける
ことができ、さらなる反射率の向上が期待できるもので
ある。
射層20のパターン形成にリフトオフ法を用いず、フォ
トリソグラフィー法を用いている。製造プロセスは増加
するが、シアン色反射層を非変調部全域に容易に設ける
ことができ、さらなる反射率の向上が期待できるもので
ある。
【0115】実施例1同様、駆動電圧4Vにて、反射率
及びコントラスト比を実施例1同様の方法にて測定した
ところ、反射率は85%と実施例1以上に極めて高い値
であり、コントラスト比を測定したところ、14:1と
極めて高い値であった。
及びコントラスト比を実施例1同様の方法にて測定した
ところ、反射率は85%と実施例1以上に極めて高い値
であり、コントラスト比を測定したところ、14:1と
極めて高い値であった。
【0116】さらにこのようにして得られた液晶表示素
子の明表示のみを色彩輝度計で測定した。まず、変調部
のみを測定したところ、色度x=0.295、y=0.
365と若干緑色味に色づいていた。これは、同表示素
子の液晶層中の2色性の黒色染料の分光特性によるもの
である。さらに、前記シアン色の反射層を含めた全体の
色味を測定したところ、x=0.3101、y=0.3
101しなり、ほぼ完全な無彩色の色味であった。
子の明表示のみを色彩輝度計で測定した。まず、変調部
のみを測定したところ、色度x=0.295、y=0.
365と若干緑色味に色づいていた。これは、同表示素
子の液晶層中の2色性の黒色染料の分光特性によるもの
である。さらに、前記シアン色の反射層を含めた全体の
色味を測定したところ、x=0.3101、y=0.3
101しなり、ほぼ完全な無彩色の色味であった。
【0117】(実施例8)図18において、(a)は対
向基板12、(b)は観測側基板11、図19はセル断
面を示す。
向基板12、(b)は観測側基板11、図19はセル断
面を示す。
【0118】対向基板12はMIM素子18を有するI
TO画素電極14をマトリクス配列したもので、上下に
配列された画素電極14間には行方向に延長された配線
22があり、全面を配向膜17で被覆されている。
TO画素電極14をマトリクス配列したもので、上下に
配列された画素電極14間には行方向に延長された配線
22があり、全面を配向膜17で被覆されている。
【0119】観察側基板11はITOででき列方向に延
長された複数のストライプ電極13を有し、各ストライ
プ電極13を隔てる間隙に有彩白色系反射層20が形成
される。この有彩白色系反射層20は基板間隙材を兼ね
ており、液晶組成物15の層厚をきめる厚さを有してい
る。さらに、この上に基板全面にわたり配向膜16が被
着される。
長された複数のストライプ電極13を有し、各ストライ
プ電極13を隔てる間隙に有彩白色系反射層20が形成
される。この有彩白色系反射層20は基板間隙材を兼ね
ており、液晶組成物15の層厚をきめる厚さを有してい
る。さらに、この上に基板全面にわたり配向膜16が被
着される。
【0120】有彩白色系反射層20の形成は、ストライ
プ電極13を形成した基板11の上に、TiO2 を分散
したレジスト材料(TiO2 分散液:(株)日本合成ゴ
ム製)にシアン色の顔料(ピグメントバイオレット23
=C34H8 Cl2 N4 O2 )を0.01wt%添加した
ものを、膜厚5μmとなるように印刷し、60℃30分
の仮焼成を施した後、図18(b)に示す、部分的に切
れた棒状パターン形状となるようマスクを用いて露光
し、NMD3溶液((株)東京応化製)で現像し、15
0℃120分の焼成を行い、観察側基板の非変調部の一
部に基板間隙材の機能を有する本実施例のシアン色の白
色系反射層20を形成した。
プ電極13を形成した基板11の上に、TiO2 を分散
したレジスト材料(TiO2 分散液:(株)日本合成ゴ
ム製)にシアン色の顔料(ピグメントバイオレット23
=C34H8 Cl2 N4 O2 )を0.01wt%添加した
ものを、膜厚5μmとなるように印刷し、60℃30分
の仮焼成を施した後、図18(b)に示す、部分的に切
れた棒状パターン形状となるようマスクを用いて露光
し、NMD3溶液((株)東京応化製)で現像し、15
0℃120分の焼成を行い、観察側基板の非変調部の一
部に基板間隙材の機能を有する本実施例のシアン色の白
色系反射層20を形成した。
【0121】こうして得られた2枚の基板を用い、実施
例1と同様の材料、製法にて液晶セルを作成し、図19
に示すような構成となるように実施例1と同様の材料
(4分の1波長板31、反射板30)を対向基板外面に
張り付け、本実施例の液晶表示素子を得た。
例1と同様の材料、製法にて液晶セルを作成し、図19
に示すような構成となるように実施例1と同様の材料
(4分の1波長板31、反射板30)を対向基板外面に
張り付け、本実施例の液晶表示素子を得た。
【0122】実施例1同様、駆動電圧4Vにて、反射率
及びコントラスト比を実施例1同様の方法にて測定した
ところ、反射率は45%と高い値であり、コントラスト
比を測定したところ、10:1と極めて高い値であっ
た。
及びコントラスト比を実施例1同様の方法にて測定した
ところ、反射率は45%と高い値であり、コントラスト
比を測定したところ、10:1と極めて高い値であっ
た。
【0123】また、液晶層厚を干渉膜厚計で測定したと
ころ、セル全面のばらつきは±0.05μmと殆ど均一
なセル厚となっていることがわかった。
ころ、セル全面のばらつきは±0.05μmと殆ど均一
なセル厚となっていることがわかった。
【0124】さらにこの液晶表示素子の明表示のみを色
彩輝度計で測定した。まず、変調部のみを測定したとこ
ろ、色度x=0.295、y=0.365と若干緑色味
に色づいていた。これは、同表示素子の液晶層中の2色
性の黒色染料の分光特性によるものである。さらに、前
記シアン色の反射層を含めた全体の色味を測定したとこ
ろ、x=0.3101、y=0.3101しなり、ほぼ
完全な無彩色の色味であった。
彩輝度計で測定した。まず、変調部のみを測定したとこ
ろ、色度x=0.295、y=0.365と若干緑色味
に色づいていた。これは、同表示素子の液晶層中の2色
性の黒色染料の分光特性によるものである。さらに、前
記シアン色の反射層を含めた全体の色味を測定したとこ
ろ、x=0.3101、y=0.3101しなり、ほぼ
完全な無彩色の色味であった。
【0125】
【発明の効果】本発明の液晶表示素子は暗状態において
非変調部が有彩白色系反射層になっていることにより、
変調部の暗さ、黒さは際立って見え、さらに明状態にお
いても非変調部が有彩白色系反射層となっていることに
より、明るさが向上し、しかも、表示面全体を無彩色ま
たはそれに近い色調にすることができ、実際に見た目に
感じられるコントラスト比が顕著に高く明るい、かつ観
察者の目の刺激を緩和する反射型液晶表示素子が得られ
る。
非変調部が有彩白色系反射層になっていることにより、
変調部の暗さ、黒さは際立って見え、さらに明状態にお
いても非変調部が有彩白色系反射層となっていることに
より、明るさが向上し、しかも、表示面全体を無彩色ま
たはそれに近い色調にすることができ、実際に見た目に
感じられるコントラスト比が顕著に高く明るい、かつ観
察者の目の刺激を緩和する反射型液晶表示素子が得られ
る。
【図1】本発明の液晶表示素子の一構成例を説明する断
面図
面図
【図2】本発明の液晶表示素子の他の構成例を説明する
平面図
平面図
【図3】本発明の液晶表示素子の変調部と非変調部の一
例を説明する平面図
例を説明する平面図
【図4】本発明の液晶表示素子の他の構成例を説明する
平面図
平面図
【図5】本発明の液晶表示素子の製造方法を説明する工
程図
程図
【図6】本発明の液晶表示素子の他の構成例を説明する
断面図
断面図
【図7】本発明の実施例1の基板の電極構造を説明する
もので、(a)、(b)は観察側基板、(c)、(d)
は対向基板の平面図
もので、(a)、(b)は観察側基板、(c)、(d)
は対向基板の平面図
【図8】本発明の実施例1の素子を説明する断面図
【図9】(a)、(b)は本発明の実施例の液晶表示素
子の表示原理を説明する略図
子の表示原理を説明する略図
【図10】液晶表示素子の反射率の測定系を説明する線
図
図
【図11】(a)、(b)、(c)、(d)は本発明の
実施例2に用いた基板の電極構造およびカラーフィルタ
ーの平面構造を説明する平面図
実施例2に用いた基板の電極構造およびカラーフィルタ
ーの平面構造を説明する平面図
【図12】本発明の実施例2の素子を説明する断面図
【図13】(a)、(b)は本発明の実施例3に用いた
基板を説明する平面図
基板を説明する平面図
【図14】(a)、(b)、(c)は本発明の実施例5
に用いた基板の電極を説明する平面図
に用いた基板の電極を説明する平面図
【図15】本発明の実施例5の素子を説明する断面図
【図16】本発明の実施例6の素子を説明する断面図
【図17】本発明の実施例7の素子を説明する断面図
【図18】(a)、(b)は本発明の実施例8の基板の
電極を説明する平面図
電極を説明する平面図
【図19】本発明の実施例8の素子を説明する断面図
【図20】従来技術の偏光板2枚反射型TN−LCDを
説明する断面図
説明する断面図
【図21】従来技術の偏光板1枚反射型ECB−LCD
を説明する断面図
を説明する断面図
【図22】従来技術の反射型GH−PC−LCDを説明
する断面図
する断面図
【図23】従来技術の反射型GH−HOMO−LCDを
説明する断面図
説明する断面図
【図24】従来技術の2層型反射型GH−HOMO−L
CDを説明する断面図
CDを説明する断面図
【図25】従来技術の4分の1波長板を用いた反射型G
H−HOMO−LCDを説明する断面図
H−HOMO−LCDを説明する断面図
11…上基板 12…下基板 13…透明電極 14…画素電極 15…液晶組成物 18…MIMスイッチング素子 20…有彩白色系反射層 30…反射板 A…変調部 B…非変調部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 二ノ宮 利博 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内
Claims (9)
- 【請求項1】 観察側と対向側に配置される2枚の電極
付き基板間に液晶組成物が挟持され、前記電極により前
記液晶組成物が応答し、入射する光の反射量を変調する
変調部と、この変調部以外の非変調部とを有する反射型
液晶表示素子において、前記基板の非変調部の少なくと
も一領域に、有彩白色系反射層を設けたことを特徴とす
る反射型液晶表示素子。 - 【請求項2】 観察側と対向側に配置される2枚の電極
付き基板間に液晶組成物が挟持され、前記電極により前
記液晶組成物が応答し、入射する光の反射量を変調する
変調部と、この変調部以外の非変調部とを有する反射型
液晶表示素子において、前記基板の非変調部の少なくと
も一領域に、前記変調部の表示色と補色の関係にある有
彩白色系反射層を設けたことを特徴とする反射型液晶表
示素子。 - 【請求項3】 有彩白色系反射層が白色顔料と有彩色素
とを分散したレジスト材料からなることを特徴とする請
求項1または2に記載の反射型液晶表示素子。 - 【請求項4】有彩色白色系反射層を観察側の基板内面に
設けたことを特徴とする請求項1または2に記載の反射
型液晶表示素子。 - 【請求項5】 2枚の電極付き基板間に液晶組成物が挟
持されてなる反射型液晶表示素子において、一方の基板
がマトリクス状に配列した複数の画素電極と、これら電
極間に配置された配線とを有しており、有彩白色系反射
層が前記画素電極および配線以外の基板内面領域に設け
られていることを特徴とする反射型液晶表示素子。 - 【請求項6】 少なくとも一方の基板にカラーフィルタ
ーを設けており、前記カラーフィルターの着色層以外の
基板内面に有彩白色系反射層を設けたことを特徴とする
請求項1または2に記載の液晶表示素子。 - 【請求項7】 液晶組成物が2色性色素を添加されてい
ることを特徴とする請求項1、2または5に記載の反射
型液晶表示素子。 - 【請求項8】 液晶組成物が正の誘電異方性を示すネマ
ティック液晶に黒色色素が添加されたものであり基板間
でホモジニアス配向されており、対向基板側に4分の1
波長板と反射板が設けられてなることを特徴とする請求
項7に記載の反射型液晶表示素子。 - 【請求項9】 有彩白色系顔料がTiO2 を主成分と
し、これにシアン色素が添加されたものからなることを
特徴とする請求項8に記載の反射型液晶表示素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7138993A JPH08334759A (ja) | 1995-06-06 | 1995-06-06 | 反射型液晶表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7138993A JPH08334759A (ja) | 1995-06-06 | 1995-06-06 | 反射型液晶表示素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08334759A true JPH08334759A (ja) | 1996-12-17 |
Family
ID=15234982
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7138993A Pending JPH08334759A (ja) | 1995-06-06 | 1995-06-06 | 反射型液晶表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08334759A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003005222A (ja) * | 2001-06-19 | 2003-01-08 | Minolta Co Ltd | 液晶表示素子 |
| US7158197B2 (en) | 1995-07-17 | 2007-01-02 | Seiko Epson Corporation | Reflective type color liquid crystal device and an electronic apparatus using this |
| WO2014178157A1 (ja) * | 2013-04-30 | 2014-11-06 | 凸版印刷株式会社 | 液晶表示装置及び表示装置用基板 |
-
1995
- 1995-06-06 JP JP7138993A patent/JPH08334759A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7158197B2 (en) | 1995-07-17 | 2007-01-02 | Seiko Epson Corporation | Reflective type color liquid crystal device and an electronic apparatus using this |
| US7209197B2 (en) | 1995-07-17 | 2007-04-24 | Seiko Epson Corporation | Reflective color LCD with color filters having particular transmissivity |
| US7289174B1 (en) | 1995-07-17 | 2007-10-30 | Seiko Epson Corporation | Reflective type color liquid crystal device and an electronic apparatus using this |
| JP2003005222A (ja) * | 2001-06-19 | 2003-01-08 | Minolta Co Ltd | 液晶表示素子 |
| WO2014178157A1 (ja) * | 2013-04-30 | 2014-11-06 | 凸版印刷株式会社 | 液晶表示装置及び表示装置用基板 |
| JPWO2014178157A1 (ja) * | 2013-04-30 | 2017-02-23 | 凸版印刷株式会社 | 液晶表示装置及び表示装置用基板 |
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