JPH0834211B2 - めっき装置 - Google Patents
めっき装置Info
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- JPH0834211B2 JPH0834211B2 JP1113039A JP11303989A JPH0834211B2 JP H0834211 B2 JPH0834211 B2 JP H0834211B2 JP 1113039 A JP1113039 A JP 1113039A JP 11303989 A JP11303989 A JP 11303989A JP H0834211 B2 JPH0834211 B2 JP H0834211B2
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はめっき装置に関し、特に半導体ウエハ等のボ
ンディング電極にめっきを施す等に用途に使用するめっ
き装置に関する。
ンディング電極にめっきを施す等に用途に使用するめっ
き装置に関する。
[従来の技術] かかる用途に使用する従来装置の概略構成を第6図で
説明すると、架台9に支持せしめてめっき液を内封した
循環タンク71が設けてあり、該循環タンク71には三方弁
72を介してポンプ7が接続してある。待機状態では、三
方弁72と管路73、74を経てめっき液が循環せしめらてて
いる。
説明すると、架台9に支持せしめてめっき液を内封した
循環タンク71が設けてあり、該循環タンク71には三方弁
72を介してポンプ7が接続してある。待機状態では、三
方弁72と管路73、74を経てめっき液が循環せしめらてて
いる。
循環タンク71の密閉された上壁中央には、タンク71に
一体にめっきチャンバ4が設けてあり、該チャンバ4は
上方へ開口する筒体で、その筒底壁には周囲にアノード
電極44を設けた噴流ノズル41が形成され、筒側壁には排
出口42が形成されている。
一体にめっきチャンバ4が設けてあり、該チャンバ4は
上方へ開口する筒体で、その筒底壁には周囲にアノード
電極44を設けた噴流ノズル41が形成され、筒側壁には排
出口42が形成されている。
上記めっきチャンバ4の開口縁外周にはウエハWの径
よりもやや大きい径の周壁49が形成されて、ウエハ保持
部となっており、上記開口縁内周部に設けたシール17と
カソード電極18上に外周下面を接してウエハWが載置さ
れる。
よりもやや大きい径の周壁49が形成されて、ウエハ保持
部となっており、上記開口縁内周部に設けたシール17と
カソード電極18上に外周下面を接してウエハWが載置さ
れる。
めっき処理をする場合には、上記ウエハWを、押圧シ
リンダ31によって下方へ移動する押圧板33により圧し、
上記シール17に密着せしめる。この後、上記アノード電
極44とカソード電極18間に電源8より直流電圧を印加
し、三方弁72を切替えて、ポンプ7より吐出するめっき
液を、管路75を経て噴流ノズル41に送って、めっきチャ
ンバ4内へ噴出せしめる。めっき液は上記噴流ノズル41
により正に帯電し、ウエハW下面の被めっき面に至って
めっき層を形成し、その後排出口42より循環タンク71内
へ戻る。
リンダ31によって下方へ移動する押圧板33により圧し、
上記シール17に密着せしめる。この後、上記アノード電
極44とカソード電極18間に電源8より直流電圧を印加
し、三方弁72を切替えて、ポンプ7より吐出するめっき
液を、管路75を経て噴流ノズル41に送って、めっきチャ
ンバ4内へ噴出せしめる。めっき液は上記噴流ノズル41
により正に帯電し、ウエハW下面の被めっき面に至って
めっき層を形成し、その後排出口42より循環タンク71内
へ戻る。
なお、上記ウエハ保持部49へのウエハWの供給および
めっき処理後の取出しは、同じく架台9上に設けたロボ
ットアーム54により行われる。
めっき処理後の取出しは、同じく架台9上に設けたロボ
ットアーム54により行われる。
[発明が解決しようとする課題] ところで、上記従来のめっき装置では、ウエハ保持部
がめっきチャンバと全く一体か、ボルト等により機械的
に結合されているため、異なる径のウエハに対して対応
不可能、ないし速やかな対応ができないという問題点が
あり、また、めっきチャンバ上で処理後のウエハを取出
すため、下方より押し出すような取出し方法は不可能で
あり、シールに張り付いたウエハをロボットアームの爪
等により上方へ引き剥がす等によりウエハが破損すると
いう問題があった。
がめっきチャンバと全く一体か、ボルト等により機械的
に結合されているため、異なる径のウエハに対して対応
不可能、ないし速やかな対応ができないという問題点が
あり、また、めっきチャンバ上で処理後のウエハを取出
すため、下方より押し出すような取出し方法は不可能で
あり、シールに張り付いたウエハをロボットアームの爪
等により上方へ引き剥がす等によりウエハが破損すると
いう問題があった。
本発明はかかる課題を解決するもので、異なる径のウ
エハに即座に対応することができて、生産効率の向上を
実現し、また、ウエハのハンドリングの自由度を増し
て、その破損を生じないハンドリングを可能としためっ
き装置を提供することを目的とする。
エハに即座に対応することができて、生産効率の向上を
実現し、また、ウエハのハンドリングの自由度を増し
て、その破損を生じないハンドリングを可能としためっ
き装置を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明の構成を第1図で説明すると、めっき装置は、
ウエハWを載置し、載置状態で上記ウエハW下面の被め
っき面を露出せしめる開口1aを形成したパレット1と、
めっき液を貯蔵し、露出した上記被めっき面にめっき液
を供給する手段41を内接しためっきチャンバ4と、上記
パレット1を弾性的に支持し、上方へ開口するめっきチ
ャンバ4の開口直上位置と、めっきチャンバ4より離れ
た位置との間で移動するキャリア2と、キャリア2によ
り上記めっきチャンバ4直上位置へ移送されたウエハW
を上方より押圧して、ウエハWの下面外周をパレット開
口1a縁に、パレット1の外周下面をめっきチャンバ4の
開口縁に、それぞれ液密的に圧接せしめる押圧手段3
と、上記めっきチャンバ4から離れた位置に設けられ、
上記キャリア2により移送されてきたパレット1の上記
開口1a内を下方より通過して、上記ウエハWの下面内周
部を押し上げ、当該ウエハWの上記パレット1の上方へ
離脱させるウエハ取出し手段5とを具備している。
ウエハWを載置し、載置状態で上記ウエハW下面の被め
っき面を露出せしめる開口1aを形成したパレット1と、
めっき液を貯蔵し、露出した上記被めっき面にめっき液
を供給する手段41を内接しためっきチャンバ4と、上記
パレット1を弾性的に支持し、上方へ開口するめっきチ
ャンバ4の開口直上位置と、めっきチャンバ4より離れ
た位置との間で移動するキャリア2と、キャリア2によ
り上記めっきチャンバ4直上位置へ移送されたウエハW
を上方より押圧して、ウエハWの下面外周をパレット開
口1a縁に、パレット1の外周下面をめっきチャンバ4の
開口縁に、それぞれ液密的に圧接せしめる押圧手段3
と、上記めっきチャンバ4から離れた位置に設けられ、
上記キャリア2により移送されてきたパレット1の上記
開口1a内を下方より通過して、上記ウエハWの下面内周
部を押し上げ、当該ウエハWの上記パレット1の上方へ
離脱させるウエハ取出し手段5とを具備している。
[作用] 上記構造のめっき装置において、パレット1を介して
キャリア2に載置されたウエハWは、キャリア2によ
り、めっきチャンバ4直上位置へ移動せしめられて、押
圧手段3により下方へ押圧され、ウエハWおよびパレッ
ト1がそれぞれ液密的に圧接せしめられる。この状態
で、めっきチャンバ4内にめっき液を導入すると、パレ
ット開口1aを経て上記チャンバ4内に露出している上記
ウエハWの被めっき面にめっき層が形成される。
キャリア2に載置されたウエハWは、キャリア2によ
り、めっきチャンバ4直上位置へ移動せしめられて、押
圧手段3により下方へ押圧され、ウエハWおよびパレッ
ト1がそれぞれ液密的に圧接せしめられる。この状態
で、めっきチャンバ4内にめっき液を導入すると、パレ
ット開口1aを経て上記チャンバ4内に露出している上記
ウエハWの被めっき面にめっき層が形成される。
めっき処理終了後は、押圧手段3による押圧は解消さ
れ、キャリア2はめっきチャンバ4より離れた位置へ移
動する。この時、押圧状態は解消されても、ウエハWの
下面外周は往々にしてパレット1の開口1aに密着してい
る。ここにおいて、ウエハ取出し手段5は、キャリア2
により移送されてきたパレット1の上記開口1a内を下方
より通過して、上記ウエハWの下面内周部を押し上げ、
当該ウエハWを上記パレット1の上方へ離脱させる。こ
の取り出しは、ウエハWの下面内周部を押し上げるもの
であるから、ウエハの外周縁を引き剥がして取り出すの
に比して、ウエハWの破損を生じることがない。
れ、キャリア2はめっきチャンバ4より離れた位置へ移
動する。この時、押圧状態は解消されても、ウエハWの
下面外周は往々にしてパレット1の開口1aに密着してい
る。ここにおいて、ウエハ取出し手段5は、キャリア2
により移送されてきたパレット1の上記開口1a内を下方
より通過して、上記ウエハWの下面内周部を押し上げ、
当該ウエハWを上記パレット1の上方へ離脱させる。こ
の取り出しは、ウエハWの下面内周部を押し上げるもの
であるから、ウエハの外周縁を引き剥がして取り出すの
に比して、ウエハWの破損を生じることがない。
また、キャリア2に載置されるパレット1を交換する
ことにより、異なった径のウエハに即座に対応すること
ができ、さらに、異なるパレット1を載置したキャリア
2を複数設けて、所望のキャリア2をめっきチャンバ4
上に移動せしめるようになせば、即応性がより向上す
る。
ことにより、異なった径のウエハに即座に対応すること
ができ、さらに、異なるパレット1を載置したキャリア
2を複数設けて、所望のキャリア2をめっきチャンバ4
上に移動せしめるようになせば、即応性がより向上す
る。
[実施例] 第1図において、架台9上に設けたベース91の左半部
には上方へ開口する循環タンク71が設けてあり、該タン
ク71内のめっき液は、三方弁72および管路73、74を経て
ポンプ7により循環せしめられている。上記循環タンク
71の開口はめっきチャンバ4により閉鎖されており、該
チャンバ4は中央が筒状に下方へ突出して、突出端面に
は噴流ノズル41が開口し、筒側壁の上部には排出口42が
形成してある。なお、上記噴流ノズル41開口縁のめっき
チャンバ4内壁にはアノード電極44が設けられ、これは
チャンバ4外の電源8に接続してある。また、上記噴流
ノズル41には上記三方弁72からの管路75が至っている。
には上方へ開口する循環タンク71が設けてあり、該タン
ク71内のめっき液は、三方弁72および管路73、74を経て
ポンプ7により循環せしめられている。上記循環タンク
71の開口はめっきチャンバ4により閉鎖されており、該
チャンバ4は中央が筒状に下方へ突出して、突出端面に
は噴流ノズル41が開口し、筒側壁の上部には排出口42が
形成してある。なお、上記噴流ノズル41開口縁のめっき
チャンバ4内壁にはアノード電極44が設けられ、これは
チャンバ4外の電源8に接続してある。また、上記噴流
ノズル41には上記三方弁72からの管路75が至っている。
上記めっきチャンバ4の開口周縁上面にはシールリン
グ43が配設され、該シールリング43にはウエハWを載置
した詳細を後述するパレット1が圧接して位置するとと
もに、該パレット1はキャリア2上に載置されている
(第2図)。
グ43が配設され、該シールリング43にはウエハWを載置
した詳細を後述するパレット1が圧接して位置するとと
もに、該パレット1はキャリア2上に載置されている
(第2図)。
上記キャリア2は後述する機構によりベース91の右半
部へ移動可能であり、第1図は、実際には一台のキャリ
ア2について、右移動端にある状態も示してある。この
右移動端には詳細を後述するウエハ取出し手段たるウエ
ハ昇降機構5が設けてある。
部へ移動可能であり、第1図は、実際には一台のキャリ
ア2について、右移動端にある状態も示してある。この
右移動端には詳細を後述するウエハ取出し手段たるウエ
ハ昇降機構5が設けてある。
以下、上記パレット1とキャリア2の詳細構造を説明
する。
する。
パレット1は、長方形状の基板11(第3図)を有し、
基板11の中心には一部を直線とした略円形の開口12が形
成され、開口12縁の上面は一定幅で座ぐって(第4図)
板状シール13を面一に配設してある。上記開口12の形状
は、ウエハWに沿い、かつ、これよりもやや小径となっ
ており、ウエハWを載置した状態で、被めっき面たるウ
エハW下面が上記開口12に露出する。
基板11の中心には一部を直線とした略円形の開口12が形
成され、開口12縁の上面は一定幅で座ぐって(第4図)
板状シール13を面一に配設してある。上記開口12の形状
は、ウエハWに沿い、かつ、これよりもやや小径となっ
ており、ウエハWを載置した状態で、被めっき面たるウ
エハW下面が上記開口12に露出する。
上記基板11上には、開口12を挟んで対向位置にクラン
プ機構14が設けてあり、各クランプ機構14は、先端に把
持板141を固定しコイルバネ142により突出付勢されたシ
ャフト143を有し、該シャフト143は、直動軸受け146を
設けたブラケット145により支持されるとともに、シャ
フト後端大径部144がブラケット145に当接して突出端に
位置決めされている。
プ機構14が設けてあり、各クランプ機構14は、先端に把
持板141を固定しコイルバネ142により突出付勢されたシ
ャフト143を有し、該シャフト143は、直動軸受け146を
設けたブラケット145により支持されるとともに、シャ
フト後端大径部144がブラケット145に当接して突出端に
位置決めされている。
上記各クランプ機構14より90度離れた対向位置には上
記開口12を挟んで、ボルト151と座金152よりなる受電接
点15が設けられ、これら受電接点15からは上記シール13
上に径方向へ延びて開口12へ至るカソード電極16が設け
てある。このカソード電極16は、ごく薄い(約50μm)
膜状で、シール表面に接着されている。
記開口12を挟んで、ボルト151と座金152よりなる受電接
点15が設けられ、これら受電接点15からは上記シール13
上に径方向へ延びて開口12へ至るカソード電極16が設け
てある。このカソード電極16は、ごく薄い(約50μm)
膜状で、シール表面に接着されている。
キャリア2は、上記パレット1よりもやや大径の長方
形フレーム21(第2図)を有し、該フレーム21には一対
の対向辺に、それぞれシャフト22が直動軸受けによって
上下動自在に支持されている。上記シャフト22はコイル
バネ23により上端位置に付勢されるとともに、その下端
には板状の爪体24が固定され、各シャフト22の爪体24が
フレーム21内に突出し、上記パレット1の側縁下面の段
付部を受けている。
形フレーム21(第2図)を有し、該フレーム21には一対
の対向辺に、それぞれシャフト22が直動軸受けによって
上下動自在に支持されている。上記シャフト22はコイル
バネ23により上端位置に付勢されるとともに、その下端
には板状の爪体24が固定され、各シャフト22の爪体24が
フレーム21内に突出し、上記パレット1の側縁下面の段
付部を受けている。
上記フレーム21の対向する一辺の下面はブラケット25
(第2図)を介して、ベース91上を左右方向へ延びるロ
ッドレスシリンダ26に連結され、他辺はベース91上に上
記シリンダ26と平行に配設したガイドシャフト27に摺動
自在に連結してある。しかして、キャリア2は上記シリ
ンダ26により、左端のめっきチャンバ4直上位置と、右
端のウエハ昇降機構5の直上位置との間で移動せしめら
れる。
(第2図)を介して、ベース91上を左右方向へ延びるロ
ッドレスシリンダ26に連結され、他辺はベース91上に上
記シリンダ26と平行に配設したガイドシャフト27に摺動
自在に連結してある。しかして、キャリア2は上記シリ
ンダ26により、左端のめっきチャンバ4直上位置と、右
端のウエハ昇降機構5の直上位置との間で移動せしめら
れる。
昇降機構5は、シリンダ51(第1図)より延びて上下
動するピストンロッド52の先端に円形の受け板53を固定
したもので、キャリア2が右端位置に至った状態で、パ
レット開口1aの中心に一致し、上昇途中で上記パレット
1に載置されたウエハWを上方へ押し上げて取出し、下
降途中で上記ウエハWをパレット1上に載置する。な
お、上昇した上記受け台53へのウエハWの供給、これか
らのウエハWの取出しは旋回作動するロボットアーム54
で行なう。また、受け台53上のウエハWの存在は光電ス
イッチ55により確認される。
動するピストンロッド52の先端に円形の受け板53を固定
したもので、キャリア2が右端位置に至った状態で、パ
レット開口1aの中心に一致し、上昇途中で上記パレット
1に載置されたウエハWを上方へ押し上げて取出し、下
降途中で上記ウエハWをパレット1上に載置する。な
お、上昇した上記受け台53へのウエハWの供給、これか
らのウエハWの取出しは旋回作動するロボットアーム54
で行なう。また、受け台53上のウエハWの存在は光電ス
イッチ55により確認される。
上記めっきチャンバ4の直上位置には架台9に固定し
て押圧機構3が設けてあり、押圧機構3は、シリンダ31
より延びて上下動するピストンロッド32先端に、厚肉円
形(第2図)の押圧板33を設けたものであり、上記押圧
板33の上面に沿って設けた支持腕34の両端には、コイル
バネ35により下方へ付勢せしめて上下動自在に棒状の給
電接点36が設けてある。これら給電接点36は、左端位置
に至った上記パレット1の給電接点15に対向して位置
し、それぞれ上記電源8に接続されている。
て押圧機構3が設けてあり、押圧機構3は、シリンダ31
より延びて上下動するピストンロッド32先端に、厚肉円
形(第2図)の押圧板33を設けたものであり、上記押圧
板33の上面に沿って設けた支持腕34の両端には、コイル
バネ35により下方へ付勢せしめて上下動自在に棒状の給
電接点36が設けてある。これら給電接点36は、左端位置
に至った上記パレット1の給電接点15に対向して位置
し、それぞれ上記電源8に接続されている。
なお、上記各シリンダ26、31、51の作動端は、それぞ
れ位置センサ26a、26b、31a、31b、51a、51bにより検知
される。
れ位置センサ26a、26b、31a、31b、51a、51bにより検知
される。
上記構造のめっき装置の作動を以下に説明する。
右端位置にあるキャリア2には爪体24にパレット1が
載置され、パレット上の各クランプ機構14は、シャフト
大径部144が図略の引張り機構により引張られて後退す
る。この状態で、上記パレット1の開口1a内を昇降機構
5の受け台53が上昇して、ロボットアーム54よりウエハ
Wを受け、下降途中で上記ウエハWの下面外周縁をパレ
ット1のシール13上へ載置する。引張り機構は上記シャ
フト大径部144の引張りを解消し、シャフト143がコイル
バネ142のばね力により進出せしめられて、把持板141が
ウエハWを両側より固定する。ウエハWは外周の一部が
直線となっているから、上記固定時に把持板141に馴染
むように回転し、正確に位置決めされる。ロッドレスシ
リンダ26によりキャリア2が左方へ移動せしめられ、め
っきチャンバ4の直上位置へ至る。
載置され、パレット上の各クランプ機構14は、シャフト
大径部144が図略の引張り機構により引張られて後退す
る。この状態で、上記パレット1の開口1a内を昇降機構
5の受け台53が上昇して、ロボットアーム54よりウエハ
Wを受け、下降途中で上記ウエハWの下面外周縁をパレ
ット1のシール13上へ載置する。引張り機構は上記シャ
フト大径部144の引張りを解消し、シャフト143がコイル
バネ142のばね力により進出せしめられて、把持板141が
ウエハWを両側より固定する。ウエハWは外周の一部が
直線となっているから、上記固定時に把持板141に馴染
むように回転し、正確に位置決めされる。ロッドレスシ
リンダ26によりキャリア2が左方へ移動せしめられ、め
っきチャンバ4の直上位置へ至る。
ここで、押圧機構3のロッド31が下降し、下降途中で
給電接点36がパレット1上の受電接点15に当接導通す
る。下降した押圧板33はウエハWの上面に当たり、該ウ
エハWおよびシール13を介してパレット基板11を、爪体
24の支持力に抗して押し下げる。これにより、基板11の
下面はめっきチャンバ4のシールリング43に密着して、
開口1aが上記チャンバ4の開口に一致し、同時に、被め
っき面たるウエハW下面がシール13に密着して、シール
13上のカソード電極16に導通する。
給電接点36がパレット1上の受電接点15に当接導通す
る。下降した押圧板33はウエハWの上面に当たり、該ウ
エハWおよびシール13を介してパレット基板11を、爪体
24の支持力に抗して押し下げる。これにより、基板11の
下面はめっきチャンバ4のシールリング43に密着して、
開口1aが上記チャンバ4の開口に一致し、同時に、被め
っき面たるウエハW下面がシール13に密着して、シール
13上のカソード電極16に導通する。
三方弁72が作動し、ポンプ7より吐出されるめっき液
を管路75を経て噴流ノズル41に供給すると、めっき液は
アノード電極44より正電荷を受けてめっきチャンバ4内
に噴出し、ウエハWの下面に至ってめっき層を形成す
る。
を管路75を経て噴流ノズル41に供給すると、めっき液は
アノード電極44より正電荷を受けてめっきチャンバ4内
に噴出し、ウエハWの下面に至ってめっき層を形成す
る。
めっき処理終了後、押圧板33を上昇せしめると給電接
点36と受電接点15は分離遮断され、また、押圧板33の上
昇に伴って、パレット1は爪板24により上方へ引き上げ
られる。キャリア2は再び右端へ戻し移動せしめられ、
引張り機構により把持板141の間隔を拡げた後、昇降機
構5の受け台53が上昇して、ウエハW下面の内周部を押
し上げ、ウエハWをパレット1上より取り出す。
点36と受電接点15は分離遮断され、また、押圧板33の上
昇に伴って、パレット1は爪板24により上方へ引き上げ
られる。キャリア2は再び右端へ戻し移動せしめられ、
引張り機構により把持板141の間隔を拡げた後、昇降機
構5の受け台53が上昇して、ウエハW下面の内周部を押
し上げ、ウエハWをパレット1上より取り出す。
本実施例によれば、ウエハWの形が変更された場合に
は、パレット1を取り替えることにより即座に対応する
ことができ、各ウエハWに対して専用設備を設ける必要
がないから、設備費が大幅に低減され、また、ウエウハ
Wの変更に対処する段取り時間も大幅に低減できる。
は、パレット1を取り替えることにより即座に対応する
ことができ、各ウエハWに対して専用設備を設ける必要
がないから、設備費が大幅に低減され、また、ウエウハ
Wの変更に対処する段取り時間も大幅に低減できる。
そして、ウエハWの取出しを、めっきチャンバ4より
離れた位置で昇降機構5によりウエハWの内周部を下方
より押し上げて行うから、ウエハ破損を効果的に防止す
ることができる。
離れた位置で昇降機構5によりウエハWの内周部を下方
より押し上げて行うから、ウエハ破損を効果的に防止す
ることができる。
また、定期的な点検を必要とするカソード電極16をパ
レット1に設けたから、電極保守の際に装置全体を停止
せしめる必要がない。
レット1に設けたから、電極保守の際に装置全体を停止
せしめる必要がない。
上記実施例では、キャリア2を一台としたが、キャリ
ア2を複数台設けて順次めっきチャンバ4上へ移動する
ようになし、それぞれに径の異なるウエハW用のパレッ
ト1を予め設けておけば、ウエハW変更時の段取り時間
を短縮することができる。この場合には、パレット1は
必ずしもキャリア2と容易に分離される構造とする必要
はない。
ア2を複数台設けて順次めっきチャンバ4上へ移動する
ようになし、それぞれに径の異なるウエハW用のパレッ
ト1を予め設けておけば、ウエハW変更時の段取り時間
を短縮することができる。この場合には、パレット1は
必ずしもキャリア2と容易に分離される構造とする必要
はない。
めっきチャンバの構造は、第5図に示す如きものでも
良い。図において、めっきチャンバ4内には下方よりめ
っき液の導入管46が挿入され、導入管46の先端には多孔
ノズル45が蒸着してある。上記チャンバ4の液密性は、
導入管46を挿通する貫通穴周縁と導入管46先端間を結ぶ
ベローズ47により確保されており、上記導入間46は、モ
ータ48に連結されて作動するリンク484、485とギア48
1、482、483によりほぼ90度の間で往復自転せしめられ
る。
良い。図において、めっきチャンバ4内には下方よりめ
っき液の導入管46が挿入され、導入管46の先端には多孔
ノズル45が蒸着してある。上記チャンバ4の液密性は、
導入管46を挿通する貫通穴周縁と導入管46先端間を結ぶ
ベローズ47により確保されており、上記導入間46は、モ
ータ48に連結されて作動するリンク484、485とギア48
1、482、483によりほぼ90度の間で往復自転せしめられ
る。
この状態で、上記導入管46内に供給されためっき液
は、導入管46内に設けたアノード電極44の通孔を通って
上方の多孔ノズル45に至り、シャワー状に噴出せしめら
れる。
は、導入管46内に設けたアノード電極44の通孔を通って
上方の多孔ノズル45に至り、シャワー状に噴出せしめら
れる。
[発明の効果] 以上の如く、本発明のめっき装置は、同一設備で異な
る径のウエハに対応できるとともに、その対応も速やか
になすことが可能であり、設備コストの低減と、作業効
率の大幅向上を実現するものである。
る径のウエハに対応できるとともに、その対応も速やか
になすことが可能であり、設備コストの低減と、作業効
率の大幅向上を実現するものである。
また、ウエハの取出しをめっきチャンバ上で行う必要
がないから、ウエハを下方より押上げるような取出し方
法が可能であり、これにより、ウエハの破損を有効に防
止できる。
がないから、ウエハを下方より押上げるような取出し方
法が可能であり、これにより、ウエハの破損を有効に防
止できる。
第1図ないし第4図は本発明の一実施例を示し、第1図
は装置の要部断面全体側面図、第2図は装置要部の破断
斜視図、第3図はパレットの平面図、第4図は第3図の
IV−IV線断面図、第5図はめっきチャンバの他の例を示
す破断斜視図、第6図は従来装置の要部断面全体側面図
である。 1……パレット 1a……開口 2……キャリア 3……押圧機構(押圧手段) 4……めっきチャンバ 41……噴流ノズル(めっき液供給手段) 5……昇降機構(ウエハ取出し手段) 7……ポンプ 8……電源 W……ウエハ
は装置の要部断面全体側面図、第2図は装置要部の破断
斜視図、第3図はパレットの平面図、第4図は第3図の
IV−IV線断面図、第5図はめっきチャンバの他の例を示
す破断斜視図、第6図は従来装置の要部断面全体側面図
である。 1……パレット 1a……開口 2……キャリア 3……押圧機構(押圧手段) 4……めっきチャンバ 41……噴流ノズル(めっき液供給手段) 5……昇降機構(ウエハ取出し手段) 7……ポンプ 8……電源 W……ウエハ
Claims (1)
- 【請求項1】ウエハを載置し、載置状態で上記ウエハ下
面の被めっき面を露出せしめる開口を形成したパレット
と、 めっき液を貯蔵し、露出した上記被めっき面にめっき液
を供給する手段を内設しためっきチャンバと、 上記パレットを弾性的に支持し、上方へ開口する上記め
っきチャンバの開口直上位置と、めっきチャンバより離
れた位置との間で移動するキャリアと、 上記キャリアにより上記めっきチャンバ直上位置へ移送
されたウエハを上方より押圧して、ウエハの下面外周を
パレット開口縁に、パレットの外周下面をめっきチャン
バ開口縁に、それぞれ液密的に圧接せしめる押圧手段
と、 上記めっきチャンバから離れた位置に設けられ、上記キ
ャリアにより移送されてきたパレットの上記開口内を下
方より通過して、上記ウエハの下面内周部を押し上げ、
当該ウエハを上記パレットの上方へ離脱させるウエハ取
出し手段と を具備するめっき装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1113039A JPH0834211B2 (ja) | 1989-05-02 | 1989-05-02 | めっき装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1113039A JPH0834211B2 (ja) | 1989-05-02 | 1989-05-02 | めっき装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02292829A JPH02292829A (ja) | 1990-12-04 |
| JPH0834211B2 true JPH0834211B2 (ja) | 1996-03-29 |
Family
ID=14601932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1113039A Expired - Fee Related JPH0834211B2 (ja) | 1989-05-02 | 1989-05-02 | めっき装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0834211B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002173794A (ja) * | 2000-12-05 | 2002-06-21 | Electroplating Eng Of Japan Co | カップ式めっき装置 |
| CN117448927B (zh) * | 2023-12-26 | 2024-03-15 | 苏州智程半导体科技股份有限公司 | 一种晶圆电镀抗疲劳电环 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63166991A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-11 | Ngk Insulators Ltd | めつき処理装置のワ−ク搬送用パレツト |
| JPH0765210B2 (ja) * | 1986-12-26 | 1995-07-12 | 上村工業株式会社 | めっき処理装置のワーク搬送装置 |
-
1989
- 1989-05-02 JP JP1113039A patent/JPH0834211B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02292829A (ja) | 1990-12-04 |
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