JPH02292829A - めっき装置 - Google Patents
めっき装置Info
- Publication number
- JPH02292829A JPH02292829A JP11303989A JP11303989A JPH02292829A JP H02292829 A JPH02292829 A JP H02292829A JP 11303989 A JP11303989 A JP 11303989A JP 11303989 A JP11303989 A JP 11303989A JP H02292829 A JPH02292829 A JP H02292829A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- pallet
- plating
- chamber
- opening
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はめっき装置に関し、特に半導体ウェハ等のボン
ディング電極にめっきを施す等の用途に使用するめっき
装置に関する。
ディング電極にめっきを施す等の用途に使用するめっき
装置に関する。
[従来の技術]
かかる用途に使用する従来装置の概略構成を第6図で説
明すると、架台9に支持せしめてめっき液を内封した循
環タンク71が設けてあり、該循環タンク71には三方
弁72を介してポンブ7が接続してある。待機状態では
、三方弁72と管路73、74を経てめっき液が循環せ
しめられている。
明すると、架台9に支持せしめてめっき液を内封した循
環タンク71が設けてあり、該循環タンク71には三方
弁72を介してポンブ7が接続してある。待機状態では
、三方弁72と管路73、74を経てめっき液が循環せ
しめられている。
循環タンク71の密閉された土壁中央には、タンク71
に一体にめっきチャンバ4が設けてあり、該チャンバ4
は上方へ開口する筒体で、その筒底壁には周囲にアノー
ド電極44を設けた噴流ノズル41が形成され、筒側壁
には排出口42が形成されている。
に一体にめっきチャンバ4が設けてあり、該チャンバ4
は上方へ開口する筒体で、その筒底壁には周囲にアノー
ド電極44を設けた噴流ノズル41が形成され、筒側壁
には排出口42が形成されている。
上記めっきチャンバ4の開口縁外周にはウェハWの径よ
りもやや大きい径の周壁49が形成されて、ウェハ保持
部となっており、上記開口縁内周部に設けたシール17
とカソード電極18上に外周下面を接してウェハWが載
置される。
りもやや大きい径の周壁49が形成されて、ウェハ保持
部となっており、上記開口縁内周部に設けたシール17
とカソード電極18上に外周下面を接してウェハWが載
置される。
めっき処理をする場合には、上記ウェハWを、押圧シリ
ンダ31によつ゜ζ下方ノ\移動する押圧板33により
圧し、上記シール17に密着せしめる.この後、上記ア
ノード電極44とカソード電極18間に電源8より直流
電圧を印加し、三方弁72を切替えて、ポンブ7より吐
出するめつき液を、管路75を経て噴流ノズル41に送
って、めっきチャンバ4内へ噴出せしめる。めっき液は
上記噴流ノズル41により正に帯電し、ウェハW下面の
被めっき面に至ってめっき層を形成し、その後排出口4
2より循環タンク71内へ戻る。
ンダ31によつ゜ζ下方ノ\移動する押圧板33により
圧し、上記シール17に密着せしめる.この後、上記ア
ノード電極44とカソード電極18間に電源8より直流
電圧を印加し、三方弁72を切替えて、ポンブ7より吐
出するめつき液を、管路75を経て噴流ノズル41に送
って、めっきチャンバ4内へ噴出せしめる。めっき液は
上記噴流ノズル41により正に帯電し、ウェハW下面の
被めっき面に至ってめっき層を形成し、その後排出口4
2より循環タンク71内へ戻る。
なお、上記ウェハ保持部49へのウェハWの供給および
めっき処理後の取出しは、同じく架台9上に設けたロボ
ットアーム54により行われる。
めっき処理後の取出しは、同じく架台9上に設けたロボ
ットアーム54により行われる。
[発明が解決しようとする課題]
ところで、上記従来のめつき装置では、ウェハ保持部が
めつきチャンバと全く一体か、ボルト等により機械的に
結合されているため、異なる径のウェハに対して対応不
可能、ないし速やかな対応ができないという問題点があ
り、また、めっきチャンバ上で処理後のウェハを取出す
ため、下方より押し出すような取出し方法は不可能であ
り、シールに張り付いたウェハをロボットアームの爪等
により上方へ引き剥がず等によりウェハが破損するとい
う問題があった。
めつきチャンバと全く一体か、ボルト等により機械的に
結合されているため、異なる径のウェハに対して対応不
可能、ないし速やかな対応ができないという問題点があ
り、また、めっきチャンバ上で処理後のウェハを取出す
ため、下方より押し出すような取出し方法は不可能であ
り、シールに張り付いたウェハをロボットアームの爪等
により上方へ引き剥がず等によりウェハが破損するとい
う問題があった。
本発明はかかる課題を解決するもので、異なる径のウェ
ハに即座に対応することができて、生産効率の向上を実
現し、また、ウェハのハンドリングの自由度を増して、
その破損を生じないハンドリングを可能としためつき装
置を提供することを目的とする。
ハに即座に対応することができて、生産効率の向上を実
現し、また、ウェハのハンドリングの自由度を増して、
その破損を生じないハンドリングを可能としためつき装
置を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明の構成を第1図で説明すると、めっき装置は、ウ
ェハWを載置し、載置状態で上記ウェハW下面の被めっ
き面を露出せしめる開口1aを形成したパレット1と、
該パレット1を弾性的に支持し、上方へ開口するめっき
チャンバ4の開口直上位置と、めっきチャンバ4より離
れた位置との間で移動するキャリア2と、キャリア2に
より上記めっきチャンバ4直上位置へ移送されたウェハ
Wを上方より押圧して、ウェハWの下面外周をパレッド
開口1a縁に、パレット1の外周下面をめっきチャンバ
4の開口縁に、それぞれ液密的に圧接せしめる押圧手段
3とを具備している。
ェハWを載置し、載置状態で上記ウェハW下面の被めっ
き面を露出せしめる開口1aを形成したパレット1と、
該パレット1を弾性的に支持し、上方へ開口するめっき
チャンバ4の開口直上位置と、めっきチャンバ4より離
れた位置との間で移動するキャリア2と、キャリア2に
より上記めっきチャンバ4直上位置へ移送されたウェハ
Wを上方より押圧して、ウェハWの下面外周をパレッド
開口1a縁に、パレット1の外周下面をめっきチャンバ
4の開口縁に、それぞれ液密的に圧接せしめる押圧手段
3とを具備している。
[作用コ
上記構造のめっき装置において、パレット1を介してキ
ャリア2に載置されたウェハWは、キャリア2により、
めっきチャンバ4直上位置へ移動せしめられて、抑圧手
段3により下方へ押圧され、ウェハWおよびパレット1
がそれぞれ液密的に圧接せしめられる。この状態で、め
っきチャンバ4内にめっき液を導入すると、パレット開
口1aを経て上記チャンバ4内に露出している上記ウェ
ハWの被めっき面にめっき層が形成される。
ャリア2に載置されたウェハWは、キャリア2により、
めっきチャンバ4直上位置へ移動せしめられて、抑圧手
段3により下方へ押圧され、ウェハWおよびパレット1
がそれぞれ液密的に圧接せしめられる。この状態で、め
っきチャンバ4内にめっき液を導入すると、パレット開
口1aを経て上記チャンバ4内に露出している上記ウェ
ハWの被めっき面にめっき層が形成される。
めっき処理終了後は、押圧手段3による押圧は解消され
、キャリア2はめつきチャンバ4より離れた位置へ移動
する。ウェハWの取出しは、めっきチャンバ4の直上で
ないことにより、例えば下方より押し上げるような取出
しが可能であり、ウェハWの破損が防止される。
、キャリア2はめつきチャンバ4より離れた位置へ移動
する。ウェハWの取出しは、めっきチャンバ4の直上で
ないことにより、例えば下方より押し上げるような取出
しが可能であり、ウェハWの破損が防止される。
また、キャリア2に載置されるパレット1を交換するこ
とにより、異なった径のウェハに即座に対応することが
でき、さらに、異なるパレット1を載置したキャリア2
を複数設けて、所望のキャリア2をめっきチャンバ4上
に移動せしめるようになせば、即応性がより向上する。
とにより、異なった径のウェハに即座に対応することが
でき、さらに、異なるパレット1を載置したキャリア2
を複数設けて、所望のキャリア2をめっきチャンバ4上
に移動せしめるようになせば、即応性がより向上する。
[実施例]
第1図において、架台9上に設けたベース91の左半部
には上方へ開口する循環タンク71か設けてあり、該タ
ンク71内のめつき液は、三方弁72および管路73、
74を経てポンプ7により循環せしめられている。上記
循環タンク71の開口はめっきチャンバ4により閉鎖さ
れており、該チャンバ4は中央が筒状に下方へ突出して
、突出端面には噴流ノズル41が開口し、筒側壁の上部
には排出口42が形成してある。なお、上記噴流ノズル
41開口縁のめっきチャンバ4内壁にはアノード電極4
4が設けられ、これはチャンバ4外の電源8に接続して
ある。また、上記噴流ノズル41には上記三方弁72か
らの管路75が至っている。
には上方へ開口する循環タンク71か設けてあり、該タ
ンク71内のめつき液は、三方弁72および管路73、
74を経てポンプ7により循環せしめられている。上記
循環タンク71の開口はめっきチャンバ4により閉鎖さ
れており、該チャンバ4は中央が筒状に下方へ突出して
、突出端面には噴流ノズル41が開口し、筒側壁の上部
には排出口42が形成してある。なお、上記噴流ノズル
41開口縁のめっきチャンバ4内壁にはアノード電極4
4が設けられ、これはチャンバ4外の電源8に接続して
ある。また、上記噴流ノズル41には上記三方弁72か
らの管路75が至っている。
上記めっきチャンバ4の開口周縁上面にはシルリング4
3が配設され、該シールリング43にはウェハWを載置
した詳細を後述するパレット1が圧接して位置するとと
もに、該パレット1はキャリア2上に載置されている(
第2図)。
3が配設され、該シールリング43にはウェハWを載置
した詳細を後述するパレット1が圧接して位置するとと
もに、該パレット1はキャリア2上に載置されている(
第2図)。
上記キャリア2は後述する機構によりベース91の右半
部へ移動可能であり、第1図は、実際には一台のキャリ
ア2について、右移動端にある状悪も示してある。この
右移動端には詳細を後述するウェハ昇降機構5が設けて
ある。
部へ移動可能であり、第1図は、実際には一台のキャリ
ア2について、右移動端にある状悪も示してある。この
右移動端には詳細を後述するウェハ昇降機構5が設けて
ある。
以下、上記パレット1とキャリア2の詳細構造を説明す
る。
る。
パレット1は、長方形状の基板11(第3図)を有し、
基板11の中心には一部を直線とした略円形の開口12
が形成され、開口12縁の上面は一定幅で座ぐって(第
4図)板状シール13を面一に配設してある。上記開口
12の形状は、ウェハWに沿い、かつ、これよりもやや
小径となっており、ウェハWを載置した状匹で、被めっ
き面たるウェハW下面が上記開口12に露出する。
基板11の中心には一部を直線とした略円形の開口12
が形成され、開口12縁の上面は一定幅で座ぐって(第
4図)板状シール13を面一に配設してある。上記開口
12の形状は、ウェハWに沿い、かつ、これよりもやや
小径となっており、ウェハWを載置した状匹で、被めっ
き面たるウェハW下面が上記開口12に露出する。
上記基板11上には、開口12を挟んで対向位置にクラ
ンプ機構14が設けてあり、各クランプ機構14は、先
端に把持板141を固定しコイルバネ142により突出
付勢されたシャフト143を有し、該シャフト143は
、直動軸受け146を設けたブラケット145により支
持されるとともに、シャフト後端大径部144がブラケ
ット145に当接して突出端に位置決めされている。
ンプ機構14が設けてあり、各クランプ機構14は、先
端に把持板141を固定しコイルバネ142により突出
付勢されたシャフト143を有し、該シャフト143は
、直動軸受け146を設けたブラケット145により支
持されるとともに、シャフト後端大径部144がブラケ
ット145に当接して突出端に位置決めされている。
上記各クランプ機構14より90度離れた対向位置には
上記開口12を挟んで、ボルト151と座金152より
なる受電接点15が設けられ、これら受電接点15から
は上記シール13上を径方向へ延びて開口12へ至るカ
ソード電極16が設けてある。このカソード電極16は
、ごく薄い(約50μm)膜状で、シール表面に接着さ
れている。
上記開口12を挟んで、ボルト151と座金152より
なる受電接点15が設けられ、これら受電接点15から
は上記シール13上を径方向へ延びて開口12へ至るカ
ソード電極16が設けてある。このカソード電極16は
、ごく薄い(約50μm)膜状で、シール表面に接着さ
れている。
キャリア2は、上記パレット1よりもやや大径の長方形
フレーム21(第2図)を有し、該フレーム21には一
対の対向辺に、それぞれシャフト22が直動軸受けによ
って上下動自在に支持されている。上記シャフト22は
コイルバネ23により上端位置に付勢されるとともに、
その下端には板状の爪体24が固定され、各シャフト2
2の爪体24がフレーム21内に突出し、上記パレット
1の側縁下面の段付部を受けている。
フレーム21(第2図)を有し、該フレーム21には一
対の対向辺に、それぞれシャフト22が直動軸受けによ
って上下動自在に支持されている。上記シャフト22は
コイルバネ23により上端位置に付勢されるとともに、
その下端には板状の爪体24が固定され、各シャフト2
2の爪体24がフレーム21内に突出し、上記パレット
1の側縁下面の段付部を受けている。
上記フレーム21の対向する一辺の下面はブラケット2
5(第2図)を介して、ベース91上を左右方向へ延び
るロッドレスシリンダ26に連結され、他辺はベース9
1上に上記シリンダ26と平行に配設したガイドシャフ
ト27に摺動自在に連結してある。しかして、キャリア
2は上記シリンダ26により、左端のめつきチャンバ4
直上位置と、右端のウェハ昇降機構5の直上位置との間
で移動せしめられる。
5(第2図)を介して、ベース91上を左右方向へ延び
るロッドレスシリンダ26に連結され、他辺はベース9
1上に上記シリンダ26と平行に配設したガイドシャフ
ト27に摺動自在に連結してある。しかして、キャリア
2は上記シリンダ26により、左端のめつきチャンバ4
直上位置と、右端のウェハ昇降機構5の直上位置との間
で移動せしめられる。
昇降機構5は、シリンダ51(第1図)より延びて上下
動するピストンロツド52の先端に円形の受け板53を
固定したもので、キャリア2が右端位置に至った状態で
、パレット開口1aの中心に一致し、上昇途中で上記パ
レット1に載置されたウェハWを上方へ押し上げて取出
し、下降途中で上記ウェハWをパレット上上に載置する
。なお、上昇した上記受け台53へのウェハWの供給、
これからのウェハWの取出しは旋回作動するロボットア
ーム54で行なう。また、受け台53上のウェハWの存
在は光電スイッチ55により確認される。
動するピストンロツド52の先端に円形の受け板53を
固定したもので、キャリア2が右端位置に至った状態で
、パレット開口1aの中心に一致し、上昇途中で上記パ
レット1に載置されたウェハWを上方へ押し上げて取出
し、下降途中で上記ウェハWをパレット上上に載置する
。なお、上昇した上記受け台53へのウェハWの供給、
これからのウェハWの取出しは旋回作動するロボットア
ーム54で行なう。また、受け台53上のウェハWの存
在は光電スイッチ55により確認される。
上記めっきチャンバ4の直上位置には架台9に固定して
押圧機構3が設けてあり、押圧機′!f43は、シリン
ダ31より延びて上下動するピストンロッド32先端に
、厚肉円形(第2図〉の押圧板33を設けたものであり
、上記抑圧板33の上面に沿って設けた支持腕34の両
端には、コイルバネ35により下方へ付勢せしめて上下
動自在に棒状の給電接点36が設けてある。これら給電
接点36は、左端位置に至った上記パレット1の給電接
点15に対向して位置し、それぞれ上記電源8に接続さ
れている。
押圧機構3が設けてあり、押圧機′!f43は、シリン
ダ31より延びて上下動するピストンロッド32先端に
、厚肉円形(第2図〉の押圧板33を設けたものであり
、上記抑圧板33の上面に沿って設けた支持腕34の両
端には、コイルバネ35により下方へ付勢せしめて上下
動自在に棒状の給電接点36が設けてある。これら給電
接点36は、左端位置に至った上記パレット1の給電接
点15に対向して位置し、それぞれ上記電源8に接続さ
れている。
なお、上記各シリンダ26、31、51の作動端は、そ
れぞれ位置センサ26a、26b、31a、3lb、5
1a、5lbにより検知される。
れぞれ位置センサ26a、26b、31a、3lb、5
1a、5lbにより検知される。
上記構造のめつき装置の作動を以下に説明する.右端位
置にあるキャリア2には爪体24にパレット1が載置さ
れ、パレット上の各クランプ機構14は、シャフト大径
部144が図略の引張り機構により引張られて後退する
。この状態で、上記パレット1の開口1a内を昇降機構
5の受け台53が上昇して、ロボットアーム54よりウ
ェハWを受け、下降途中で上記ウェハWの下面外周縁を
パレット1のシール13上へ載置する。引張り機構は上
記シャフト大径部144の引張りを解消し、シャフト1
43がコイルバネ142のばね力により進出せしめられ
て、把持板141がウェハWを両側より固定する。ウェ
ハWは外周の一部が直線となっているから、上記固定時
に把持板141に馴染むように回転し、正確に位置決め
される。
置にあるキャリア2には爪体24にパレット1が載置さ
れ、パレット上の各クランプ機構14は、シャフト大径
部144が図略の引張り機構により引張られて後退する
。この状態で、上記パレット1の開口1a内を昇降機構
5の受け台53が上昇して、ロボットアーム54よりウ
ェハWを受け、下降途中で上記ウェハWの下面外周縁を
パレット1のシール13上へ載置する。引張り機構は上
記シャフト大径部144の引張りを解消し、シャフト1
43がコイルバネ142のばね力により進出せしめられ
て、把持板141がウェハWを両側より固定する。ウェ
ハWは外周の一部が直線となっているから、上記固定時
に把持板141に馴染むように回転し、正確に位置決め
される。
ロッドレスシリンダ26によりキャリア2が左方へ移動
せしめられ、めっきチャンバ4の直上位置へ至る。
せしめられ、めっきチャンバ4の直上位置へ至る。
ここで、押圧機構3のロッド31が下降し、下降途中で
給電接点36がパレット1上の受電接点15に当接導通
する。下降した押圧板33はウェハWの上面に当たり、
該ウェハWおよびシール13を介してパレット基板11
を、爪体24の支持力に抗して押し下げる。これにより
、基板11の下面はめつきチャンバ4のシールリング4
3に密着して、開口1aが上記チャンバ4の開口に一致
し、同時に、被めっき面たるウェハW下面がシール13
に密着して、シール13上のカソード電極16に導通す
る。
給電接点36がパレット1上の受電接点15に当接導通
する。下降した押圧板33はウェハWの上面に当たり、
該ウェハWおよびシール13を介してパレット基板11
を、爪体24の支持力に抗して押し下げる。これにより
、基板11の下面はめつきチャンバ4のシールリング4
3に密着して、開口1aが上記チャンバ4の開口に一致
し、同時に、被めっき面たるウェハW下面がシール13
に密着して、シール13上のカソード電極16に導通す
る。
三方弁72が作動し、ボンプ7より吐出されるめっき液
を管路75を経て噴流ノズル41に供給すると、めっき
液はアノード電極44より正電荷を受けてめっきチャン
バ4内に噴出し、ウェハWの下面に至ってめっき層を形
成する。
を管路75を経て噴流ノズル41に供給すると、めっき
液はアノード電極44より正電荷を受けてめっきチャン
バ4内に噴出し、ウェハWの下面に至ってめっき層を形
成する。
めっき処理終了後、押圧板33を上昇せしめると給電接
点36と受電接点15は分離遮断され、また、抑圧板3
3の上昇に伴って、パレット1は爪板24により上方へ
引き上げられる。キャリア2は再び右端へ戻し移動せし
められ、引張り機横により把持板141の間隔を拡げた
後、昇降機構5の受け台53が上昇して、ウェハW下面
の内周部を押し上げ、ウェハWをパレット1上より取り
出す。
点36と受電接点15は分離遮断され、また、抑圧板3
3の上昇に伴って、パレット1は爪板24により上方へ
引き上げられる。キャリア2は再び右端へ戻し移動せし
められ、引張り機横により把持板141の間隔を拡げた
後、昇降機構5の受け台53が上昇して、ウェハW下面
の内周部を押し上げ、ウェハWをパレット1上より取り
出す。
本実施例によれば、ウェハWの形が変更された場合には
、パレット1を取り替えることにより即座に対応するこ
とができ、各ウェハWに対して専用設備を設ける必要が
ないから、設備費が大幅に低減され、また、ウェハWの
変更に対処する段取り時間も大幅に低減できる。
、パレット1を取り替えることにより即座に対応するこ
とができ、各ウェハWに対して専用設備を設ける必要が
ないから、設備費が大幅に低減され、また、ウェハWの
変更に対処する段取り時間も大幅に低減できる。
そして、ウェハWの取出しを、めっきチャンバ4より離
れた位置で昇降機構5により下方より押し上げて行うか
ら、ウェハ破損を効果的に防止することができる。
れた位置で昇降機構5により下方より押し上げて行うか
ら、ウェハ破損を効果的に防止することができる。
また、定期的な点検を必要とするカソード電極16をパ
レット1に設けたから、電極保守の際に装置全体を停止
せしめる必要がない。
レット1に設けたから、電極保守の際に装置全体を停止
せしめる必要がない。
上記実施例では、キャリア2を一台としたが、キャリア
2を複数台設けて順次めっきチャンバ4上へ移動するよ
うになし、それぞれに径の異なるウェハW用のパレット
1を予め設けておけば、ウェハW変更時の段取り時間を
短縮することかてきる。この場合には、パレット1は必
ずしもキャリア2と容易に分離される構造とする必要は
ない。
2を複数台設けて順次めっきチャンバ4上へ移動するよ
うになし、それぞれに径の異なるウェハW用のパレット
1を予め設けておけば、ウェハW変更時の段取り時間を
短縮することかてきる。この場合には、パレット1は必
ずしもキャリア2と容易に分離される構造とする必要は
ない。
めっきチャンバの構造は、第5図に示す如きものでも良
い。図において、めっきチャンバ4内には下方よりめっ
き液の導入管46が挿入され、導入管46の先端には多
孔ノズル45が装着してある。上記チャンバ4の液密性
は、導入管46を挿通する貫通穴周縁と導入管46先端
間を結ぶベローズ47により確保されており、上記導入
管46は、モータ48に連結されて作動するリンク48
4、485とギア481、482,483によりほぼ9
0度の間で往復自転せしめられる。
い。図において、めっきチャンバ4内には下方よりめっ
き液の導入管46が挿入され、導入管46の先端には多
孔ノズル45が装着してある。上記チャンバ4の液密性
は、導入管46を挿通する貫通穴周縁と導入管46先端
間を結ぶベローズ47により確保されており、上記導入
管46は、モータ48に連結されて作動するリンク48
4、485とギア481、482,483によりほぼ9
0度の間で往復自転せしめられる。
この状悪で、上記導入管46内に供給されためっき液は
、導入管46内に設けたアノード電極44の通孔を通っ
て上方の多孔ノズル45に至り、シャワー状に噴出せし
められる。
、導入管46内に設けたアノード電極44の通孔を通っ
て上方の多孔ノズル45に至り、シャワー状に噴出せし
められる。
[発明の効果]
以上の如く、本発明のめつき装置は、同一設備で異なる
径のウェハに対応できるとともに、その対応も速やかに
なすことが可能であり、設備コストの低減と、作業効率
の大幅向上を実現するものである。
径のウェハに対応できるとともに、その対応も速やかに
なすことが可能であり、設備コストの低減と、作業効率
の大幅向上を実現するものである。
また、ウェハの取出しをめっきチャンバ上で行う必要が
ないから、ウェハを下方より押上げるような取出し方法
が可能であり、これにより、ウェハの破損を有効に防止
できる。
ないから、ウェハを下方より押上げるような取出し方法
が可能であり、これにより、ウェハの破損を有効に防止
できる。
第1図ないし第4図は本発明の一実施例を示し、第1図
は装置の要部断面全体側面図、第2図は装置要部の破断
斜視図、第3図はパレットの平面図、第4図は第3図の
IV − IV線断面図、第5図はめつきチャンバの他
の例を示す破断斜視図、第6図は従来装置の要部断面全
体側面図である。 1・・・パレット 1a・・・開口 2・・・キャリア 3・・・押圧機構(押圧手段) 4・・・めっきチャンバ 5・・・昇降機構 7・・・ポンプ 8・・・電源 W・・・ウェハ 第3図 第4図 第5図
は装置の要部断面全体側面図、第2図は装置要部の破断
斜視図、第3図はパレットの平面図、第4図は第3図の
IV − IV線断面図、第5図はめつきチャンバの他
の例を示す破断斜視図、第6図は従来装置の要部断面全
体側面図である。 1・・・パレット 1a・・・開口 2・・・キャリア 3・・・押圧機構(押圧手段) 4・・・めっきチャンバ 5・・・昇降機構 7・・・ポンプ 8・・・電源 W・・・ウェハ 第3図 第4図 第5図
Claims (1)
- ウェハを載置し、載置状態で上記ウェハ下面の被めっき
面を露出せしめる開口を形成したパレットと、該パレッ
トを弾性的に支持し、上方へ開口するめっきチャンバの
開口直上位置と、めっきチャンバより離れた位置との間
で移動するキャリアと、上記キャリアにより上記めっき
チャンバ直上位置へ移送されたウェハを上方より押圧し
て、ウェハの下面外周をパレット開口縁に、パレットの
外周下面をめつきチャンバ開口縁に、それぞれ液密的に
圧接せしめる押圧手段とを具備するめつき装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1113039A JPH0834211B2 (ja) | 1989-05-02 | 1989-05-02 | めっき装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1113039A JPH0834211B2 (ja) | 1989-05-02 | 1989-05-02 | めっき装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02292829A true JPH02292829A (ja) | 1990-12-04 |
| JPH0834211B2 JPH0834211B2 (ja) | 1996-03-29 |
Family
ID=14601932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1113039A Expired - Fee Related JPH0834211B2 (ja) | 1989-05-02 | 1989-05-02 | めっき装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0834211B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002173794A (ja) * | 2000-12-05 | 2002-06-21 | Electroplating Eng Of Japan Co | カップ式めっき装置 |
| CN117448927A (zh) * | 2023-12-26 | 2024-01-26 | 苏州智程半导体科技股份有限公司 | 一种晶圆电镀抗疲劳电环 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63166991A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-11 | Ngk Insulators Ltd | めつき処理装置のワ−ク搬送用パレツト |
| JPS63166990A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-11 | C Uyemura & Co Ltd | めっき処理装置のワーク搬送装置 |
-
1989
- 1989-05-02 JP JP1113039A patent/JPH0834211B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63166991A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-11 | Ngk Insulators Ltd | めつき処理装置のワ−ク搬送用パレツト |
| JPS63166990A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-11 | C Uyemura & Co Ltd | めっき処理装置のワーク搬送装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002173794A (ja) * | 2000-12-05 | 2002-06-21 | Electroplating Eng Of Japan Co | カップ式めっき装置 |
| CN117448927A (zh) * | 2023-12-26 | 2024-01-26 | 苏州智程半导体科技股份有限公司 | 一种晶圆电镀抗疲劳电环 |
| CN117448927B (zh) * | 2023-12-26 | 2024-03-15 | 苏州智程半导体科技股份有限公司 | 一种晶圆电镀抗疲劳电环 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0834211B2 (ja) | 1996-03-29 |
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|---|---|---|---|
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